JP2002066888A - 研磨方法 - Google Patents
研磨方法Info
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- JP2002066888A JP2002066888A JP2000262073A JP2000262073A JP2002066888A JP 2002066888 A JP2002066888 A JP 2002066888A JP 2000262073 A JP2000262073 A JP 2000262073A JP 2000262073 A JP2000262073 A JP 2000262073A JP 2002066888 A JP2002066888 A JP 2002066888A
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- JP
- Japan
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- polishing
- polishing tool
- tool
- error
- workpiece
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- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レンズ等光学素子の光学有効範囲の外周部で
形状精度が悪化するのを防ぐ。 【解決手段】 小径の研磨工具２をレンズ１に対してＸ
軸方向に揺動させながら、研磨軌跡Ａに沿ってＹ軸方向
に走査する。レンズ１の外周部では揺動する研磨工具２
が完全に光学有効範囲Ｂを抜けきれずに研磨除去形状が
高くなるため、予め研磨軌跡Ａに基づいてレンズ１の外
周部の研磨除去形状の誤差を予測し、これを補正するた
めに、研磨工具２の滞留時間や研磨荷重、あるいは揺動
速度に重み付けを行なう。
形状精度が悪化するのを防ぐ。 【解決手段】 小径の研磨工具２をレンズ１に対してＸ
軸方向に揺動させながら、研磨軌跡Ａに沿ってＹ軸方向
に走査する。レンズ１の外周部では揺動する研磨工具２
が完全に光学有効範囲Ｂを抜けきれずに研磨除去形状が
高くなるため、予め研磨軌跡Ａに基づいてレンズ１の外
周部の研磨除去形状の誤差を予測し、これを補正するた
めに、研磨工具２の滞留時間や研磨荷重、あるいは揺動
速度に重み付けを行なう。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ、ミラー等
の光学素子の表面に沿って小径の研磨工具を揺動させな
がら走査させることによって研磨を行なう研磨方法に関
するものである。
の光学素子の表面に沿って小径の研磨工具を揺動させな
がら走査させることによって研磨を行なう研磨方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、レンズ、ミラー等の光学素子を研
磨加工するために、被加工物の大きさに比べて充分小さ
な研磨工具を用いて、これを揺動させながら被加工物の
被研磨面に沿って走査させることで全面を研磨する方法
が知られている。このような研磨方法においては、光学
素子の被研磨面の外周部を走査する研磨工具が、光学素
子の光学有効範囲の外へ完全に抜けきれないと、研磨工
具による研磨の除去量が不充分となり、完全に抜けきれ
た部分に比べて研磨除去形状が高くなる研磨特性悪化現
象が現れる。
磨加工するために、被加工物の大きさに比べて充分小さ
な研磨工具を用いて、これを揺動させながら被加工物の
被研磨面に沿って走査させることで全面を研磨する方法
が知られている。このような研磨方法においては、光学
素子の被研磨面の外周部を走査する研磨工具が、光学素
子の光学有効範囲の外へ完全に抜けきれないと、研磨工
具による研磨の除去量が不充分となり、完全に抜けきれ
た部分に比べて研磨除去形状が高くなる研磨特性悪化現
象が現れる。
【０００３】そこで、光学素子の光学有効範囲全面で研
磨除去形状を設計形状にするため、光学有効範囲の外へ
研磨工具が完全に抜けきることができるよう、被加工物
の外周縁に被研磨面と同じ高さのダミーブランクを取り
付けて研磨を行なう方法が採用されている。
磨除去形状を設計形状にするため、光学有効範囲の外へ
研磨工具が完全に抜けきることができるよう、被加工物
の外周縁に被研磨面と同じ高さのダミーブランクを取り
付けて研磨を行なう方法が採用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、以下のような未解決の課題があった。
の技術によれば、以下のような未解決の課題があった。
【０００５】１．光学素子等の被加工物との間に段差や
隙間の無いようにダミーブランクを取り付けるのが難し
い。段差や隙間が生じると、研磨工具が被加工物とダミ
ーブランクをまたいだときに、研磨除去量の変動を生じ
て、形状精度を悪化させるおそれがある。
隙間の無いようにダミーブランクを取り付けるのが難し
い。段差や隙間が生じると、研磨工具が被加工物とダミ
ーブランクをまたいだときに、研磨除去量の変動を生じ
て、形状精度を悪化させるおそれがある。
【０００６】２．研磨前に、ダミーブランクを被加工
物、あるいは被加工物保持治具に接着等により固定する
必要がある。このように被加工物を固定する時に、被加
工物に変形を与えるおそれがあり、変形が生じると研磨
後の形状精度を悪化させる。
物、あるいは被加工物保持治具に接着等により固定する
必要がある。このように被加工物を固定する時に、被加
工物に変形を与えるおそれがあり、変形が生じると研磨
後の形状精度を悪化させる。
【０００７】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、被加工物である光学
素子の光学有効範囲から研磨工具が抜けきることができ
ない場合でも、ダミーブランク等を用いることなく、光
学素子の光学有効範囲等全面を所望の形状精度に研磨す
ることのできる研磨方法を提供することを目的とするも
のである。
課題に鑑みてなされたものであり、被加工物である光学
素子の光学有効範囲から研磨工具が抜けきることができ
ない場合でも、ダミーブランク等を用いることなく、光
学素子の光学有効範囲等全面を所望の形状精度に研磨す
ることのできる研磨方法を提供することを目的とするも
のである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の研磨方法は、被加工物に対して相対移動を
行なう研磨工具を、所定の研磨軌跡に沿って走査するこ
とで前記被加工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前
記被研磨面の外周部における前記研磨工具の前記研磨軌
跡に基づいて研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補
正するように前記研磨工具の滞留時間に重み付けするこ
とを特徴とする。
め、本発明の研磨方法は、被加工物に対して相対移動を
行なう研磨工具を、所定の研磨軌跡に沿って走査するこ
とで前記被加工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前
記被研磨面の外周部における前記研磨工具の前記研磨軌
跡に基づいて研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補
正するように前記研磨工具の滞留時間に重み付けするこ
とを特徴とする。
【０００９】被加工物に対して相対移動を行なう研磨工
具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被加
工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面の
外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づいて
研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するように
前記研磨工具の研磨荷重に重み付けすることを特徴とす
る研磨方法でもよい。
具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被加
工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面の
外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づいて
研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するように
前記研磨工具の研磨荷重に重み付けすることを特徴とす
る研磨方法でもよい。
【００１０】被加工物に対して相対移動を行なう研磨工
具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被加
工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面の
外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づいて
研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するように
前記研磨工具の前記相対移動の速度に重み付けすること
を特徴とする研磨方法でもよい。
具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被加
工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面の
外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づいて
研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するように
前記研磨工具の前記相対移動の速度に重み付けすること
を特徴とする研磨方法でもよい。
【００１１】被加工物に対して相対移動を行なう研磨工
具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被加
工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面の
外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づいて
研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するように
前記研磨工具の前記相対移動の速度および研磨荷重に重
み付けすることを特徴とする研磨方法でもよい。
具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被加
工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面の
外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づいて
研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するように
前記研磨工具の前記相対移動の速度および研磨荷重に重
み付けすることを特徴とする研磨方法でもよい。
【００１２】
【作用】被加工物の外周部を研磨するときの研磨工具の
研磨軌跡から、例えば光学素子の光学有効範囲を研磨工
具が抜けきれずに発生する研磨除去形状の誤差を予測
し、これを補正するように研磨工具の滞留時間に重み付
けする。すなわち、予測された誤差を補うように研磨工
具の走査速度を遅くして、光学有効範囲の外周縁の研磨
除去形状を中央部と同様に設計形状にする。
研磨軌跡から、例えば光学素子の光学有効範囲を研磨工
具が抜けきれずに発生する研磨除去形状の誤差を予測
し、これを補正するように研磨工具の滞留時間に重み付
けする。すなわち、予測された誤差を補うように研磨工
具の走査速度を遅くして、光学有効範囲の外周縁の研磨
除去形状を中央部と同様に設計形状にする。
【００１３】あるいは、予測された誤差を補うように、
研磨工具の研磨荷重や、研磨工具の被研磨面に対する揺
動速度等の相対移動の速度に重み付けしてもよい。
研磨工具の研磨荷重や、研磨工具の被研磨面に対する揺
動速度等の相対移動の速度に重み付けしてもよい。
【００１４】被加工物の外周縁にダミーブランクを必要
とせず、従ってダミーブランクによる研磨クセ（研磨除
去量の変動）やダミーブランクの固定に伴なう形状精度
の劣化等を生じることなく、被研磨面の外周部の研磨除
去形状が高くなるのを効果的に防ぐことができる。
とせず、従ってダミーブランクによる研磨クセ（研磨除
去量の変動）やダミーブランクの固定に伴なう形状精度
の劣化等を生じることなく、被研磨面の外周部の研磨除
去形状が高くなるのを効果的に防ぐことができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００１６】図１は、一実施の形態における被加工物で
あるレンズ（光学素子）１の被研磨面を研磨工具が走査
する研磨軌跡Ａを示す。図２に示すように走査方向（Ｙ
軸方向）と直角すなわちＸ軸方向に定速で揺動による相
対移動を行なう研磨工具２は、図１の破線で示す光学有
効範囲Ｂを完全に抜けきるのが難しい。例えば、レンズ
１が、レンズ径φ１００ｍｍ、光学有効範囲８０φｍｍ
のガラスレンズであり、研磨工具２として、研磨面がφ
１０ｍｍで、ポリウレタンシートやピッチ（アスファル
トピッチ）といった一般的にガラスの研磨に用いられる
研磨材料を研磨面に貼った研磨工具を用いて、走査方向
に直角なＸ軸方向に、±３ｍｍの幅で揺動をする研磨工
具の場合は、研磨工具が持つ固有の単位時間当たりのＸ
軸方向の研磨除去形状が図２の曲線ｄで示す研磨特性と
なり、また、揺動のみを行ない走査させないと仮定した
場合のＹ軸方向においては同図の曲線ｅで示す研磨除去
形状となる。
あるレンズ（光学素子）１の被研磨面を研磨工具が走査
する研磨軌跡Ａを示す。図２に示すように走査方向（Ｙ
軸方向）と直角すなわちＸ軸方向に定速で揺動による相
対移動を行なう研磨工具２は、図１の破線で示す光学有
効範囲Ｂを完全に抜けきるのが難しい。例えば、レンズ
１が、レンズ径φ１００ｍｍ、光学有効範囲８０φｍｍ
のガラスレンズであり、研磨工具２として、研磨面がφ
１０ｍｍで、ポリウレタンシートやピッチ（アスファル
トピッチ）といった一般的にガラスの研磨に用いられる
研磨材料を研磨面に貼った研磨工具を用いて、走査方向
に直角なＸ軸方向に、±３ｍｍの幅で揺動をする研磨工
具の場合は、研磨工具が持つ固有の単位時間当たりのＸ
軸方向の研磨除去形状が図２の曲線ｄで示す研磨特性と
なり、また、揺動のみを行ない走査させないと仮定した
場合のＹ軸方向においては同図の曲線ｅで示す研磨除去
形状となる。
【００１７】このため、研磨工具２の外縁では、研磨工
具２が被研磨面に滞留する時間や、通過する面積の違い
から研磨除去量が少なくなり、研磨後の断面がＶ字型も
しくはＵ字型の断面形状となる。すなわち、研磨工具２
が光学有効範囲Ｂを抜けきることができない現象が生じ
る。
具２が被研磨面に滞留する時間や、通過する面積の違い
から研磨除去量が少なくなり、研磨後の断面がＶ字型も
しくはＵ字型の断面形状となる。すなわち、研磨工具２
が光学有効範囲Ｂを抜けきることができない現象が生じ
る。
【００１８】さらに詳しく説明すると、図３に示すよう
に、被加工物であるレンズ１の外周部、すなわち研磨工
具２が揺動中にレンズ１の被研磨面の光学有効範囲から
完全に抜けきらない部分ｆでは、研磨工具２が完全に抜
けきった部分で達成される目標形状よりも高くなる研磨
除去形状の誤差ｇが生じる。すなわち、加工形状の外周
部分に取り残し（目標形状よりも高い誤差）が生じる。
に、被加工物であるレンズ１の外周部、すなわち研磨工
具２が揺動中にレンズ１の被研磨面の光学有効範囲から
完全に抜けきらない部分ｆでは、研磨工具２が完全に抜
けきった部分で達成される目標形状よりも高くなる研磨
除去形状の誤差ｇが生じる。すなわち、加工形状の外周
部分に取り残し（目標形状よりも高い誤差）が生じる。
【００１９】このような研磨特性の誤差ｇを研磨工具の
研磨軌跡に基づいて予測し、研磨工具が抜けきることの
できない部分ｆ、例えば幅３ｍｍの光学有効範囲の外周
部において、図４に示すように、研磨除去形状の誤差ｇ
が残らないようにするための補正分を滞留時間ΔＴとし
て、通常の研磨工具の滞留時間分布Ｔ0 に加える重み付
けをする。
研磨軌跡に基づいて予測し、研磨工具が抜けきることの
できない部分ｆ、例えば幅３ｍｍの光学有効範囲の外周
部において、図４に示すように、研磨除去形状の誤差ｇ
が残らないようにするための補正分を滞留時間ΔＴとし
て、通常の研磨工具の滞留時間分布Ｔ0 に加える重み付
けをする。
【００２０】このように重み付けを行なった滞留時間分
布Ｔで研磨することにより、研磨工具が完全に通過した
場合にできる研磨後の加工形状に近い形状精度を得るこ
とができる。
布Ｔで研磨することにより、研磨工具が完全に通過した
場合にできる研磨後の加工形状に近い形状精度を得るこ
とができる。
【００２１】被加工物の外周部における研磨工具の滞留
時間に研磨除去形状の誤差を補正するための重み付けを
する替わりに、研磨条件を変化させてもよい。すなわ
ち、被加工物の外周部において研磨工具の研磨荷重また
は揺動速度すなわちレンズに対する相対移動の速度、あ
るいはその双方に重み付けを行なってもよい。
時間に研磨除去形状の誤差を補正するための重み付けを
する替わりに、研磨条件を変化させてもよい。すなわ
ち、被加工物の外周部において研磨工具の研磨荷重また
は揺動速度すなわちレンズに対する相対移動の速度、あ
るいはその双方に重み付けを行なってもよい。
【００２２】図５は、研磨荷重によって重み付けを行な
う場合を示すもので、レンズの外周部ｆにおける取り残
しによる誤差を予測し、これを補正するための研磨荷重
の補正分ΔＫを、通常領域における研磨荷重Ｋ0 に加算
した研磨荷重分布Ｋで研磨する。例えば、前述と同様
に、レンズ径φ１００ｍｍ、光学有効範囲がφ８０ｍｍ
のガラスレンズを、研磨面がφ１０ｍｍのポリウレタン
である研磨工具をＸ軸方向に±３ｍｍの幅で揺動させな
がらＹ軸方向に走査して研磨する場合に、レンズの外周
部ｆにおいて、研磨工具が完全に通過する通常領域での
研磨荷重設定値Ｋ 0 ＝１００ｋＰａに、誤差形状が残ら
ないようにする補正分の研磨荷重ΔＫを加えた最大荷重
が５０％増しの１５０ｋＰａである研磨荷重分布Ｋで研
磨する。これによって、研磨工具が完全に通過した場合
の研磨後の加工形状に近い形状精度を得ることができ
る。
う場合を示すもので、レンズの外周部ｆにおける取り残
しによる誤差を予測し、これを補正するための研磨荷重
の補正分ΔＫを、通常領域における研磨荷重Ｋ0 に加算
した研磨荷重分布Ｋで研磨する。例えば、前述と同様
に、レンズ径φ１００ｍｍ、光学有効範囲がφ８０ｍｍ
のガラスレンズを、研磨面がφ１０ｍｍのポリウレタン
である研磨工具をＸ軸方向に±３ｍｍの幅で揺動させな
がらＹ軸方向に走査して研磨する場合に、レンズの外周
部ｆにおいて、研磨工具が完全に通過する通常領域での
研磨荷重設定値Ｋ 0 ＝１００ｋＰａに、誤差形状が残ら
ないようにする補正分の研磨荷重ΔＫを加えた最大荷重
が５０％増しの１５０ｋＰａである研磨荷重分布Ｋで研
磨する。これによって、研磨工具が完全に通過した場合
の研磨後の加工形状に近い形状精度を得ることができ
る。
【００２３】図６は、前述と同様に、レンズ径がφ１０
０ｍｍ、光学有効範囲がφ８０ｍｍのガラスレンズを、
研磨面がφ１０ｍｍのポリウレタンである研磨工具によ
って走査方向に直角なＸ軸方向に、±３ｍｍの揺動をし
ながら研磨を行なう場合に、外周部ｆにおける研磨除去
形状の誤差ｇを補正するために、研磨工具の揺動速度に
重み付けする場合を示す。すなわち、通常領域での研磨
工具の揺動速度設定値Ｓ0 ＝５０ｍｍ／ｓｅｃに補正分
の揺動速度ΔＳを加えた最大揺動速度が５０％増しの７
５ｍｍ／ｓｅｃである揺動速度分布Ｓで研磨する。これ
によって、研磨工具が完全に通過した場合の研磨後の加
工形状に近い形状精度を得ることができる。
０ｍｍ、光学有効範囲がφ８０ｍｍのガラスレンズを、
研磨面がφ１０ｍｍのポリウレタンである研磨工具によ
って走査方向に直角なＸ軸方向に、±３ｍｍの揺動をし
ながら研磨を行なう場合に、外周部ｆにおける研磨除去
形状の誤差ｇを補正するために、研磨工具の揺動速度に
重み付けする場合を示す。すなわち、通常領域での研磨
工具の揺動速度設定値Ｓ0 ＝５０ｍｍ／ｓｅｃに補正分
の揺動速度ΔＳを加えた最大揺動速度が５０％増しの７
５ｍｍ／ｓｅｃである揺動速度分布Ｓで研磨する。これ
によって、研磨工具が完全に通過した場合の研磨後の加
工形状に近い形状精度を得ることができる。
【００２４】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００２５】レンズ等の光学素子の外周部にダミーブラ
ンクを取り付けることなく、研磨工具が光学素子の光学
有効範囲から完全に通過しきれなくても、光学有効範囲
の外縁部分に誤差形状が発生するのを回避できる。これ
によって、光学素子の光学有効範囲等全面にわたって所
定の形状精度を出すことができる。
ンクを取り付けることなく、研磨工具が光学素子の光学
有効範囲から完全に通過しきれなくても、光学有効範囲
の外縁部分に誤差形状が発生するのを回避できる。これ
によって、光学素子の光学有効範囲等全面にわたって所
定の形状精度を出すことができる。
【図１】一実施の形態による研磨工具の走査パターンを
示す図である。
示す図である。
【図２】研磨工具の研磨除去形状を示す図である。
【図３】研磨工具とレンズの外周部での位置関係を示す
もので、（ａ）はレンズと研磨工具の位置関係を示す
図、（ｂ）はその結果得られる加工形状の誤差を示すグ
ラフである。
もので、（ａ）はレンズと研磨工具の位置関係を示す
図、（ｂ）はその結果得られる加工形状の誤差を示すグ
ラフである。
【図４】研磨除去形状の誤差を補正する滞留時間分布を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図５】研磨除去形状の誤差を補正する研磨荷重分布を
示すグラフである。
示すグラフである。
【図６】研磨除去形状の誤差を補正する揺動速度分布を
示すグラフである。
示すグラフである。
１ レンズ ２ 研磨工具
Claims (4)
- 【請求項１】 被加工物に対して相対移動を行なう研磨
工具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被
加工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面
の外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づい
て研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するよう
に前記研磨工具の滞留時間に重み付けすることを特徴と
する研磨方法。 - 【請求項２】 被加工物に対して相対移動を行なう研磨
工具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被
加工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面
の外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づい
て研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するよう
に前記研磨工具の研磨荷重に重み付けすることを特徴と
する研磨方法。 - 【請求項３】 被加工物に対して相対移動を行なう研磨
工具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被
加工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面
の外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づい
て研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するよう
に前記研磨工具の前記相対移動の速度に重み付けするこ
とを特徴とする研磨方法。 - 【請求項４】 被加工物に対して相対移動を行なう研磨
工具を、所定の研磨軌跡に沿って走査することで前記被
加工物の被研磨面を研磨する工程を有し、前記被研磨面
の外周部における前記研磨工具の前記研磨軌跡に基づい
て研磨除去形状の誤差を予測し、該誤差を補正するよう
に前記研磨工具の前記相対移動の速度および研磨荷重に
重み付けすることを特徴とする研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000262073A JP2002066888A (ja) | 2000-08-31 | 2000-08-31 | 研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000262073A JP2002066888A (ja) | 2000-08-31 | 2000-08-31 | 研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002066888A true JP2002066888A (ja) | 2002-03-05 |
Family
ID=18749808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000262073A Pending JP2002066888A (ja) | 2000-08-31 | 2000-08-31 | 研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002066888A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008264960A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Olympus Corp | 研磨方法、研磨装置 |
| CN105479295A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-04-13 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 可均化误差的抛光路径的生成方法 |
| CN109676469A (zh) * | 2019-01-30 | 2019-04-26 | 成都精密光学工程研究中心 | 一种光学元件抛光工具及抛光方法 |
-
2000
- 2000-08-31 JP JP2000262073A patent/JP2002066888A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008264960A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Olympus Corp | 研磨方法、研磨装置 |
| CN105479295A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-04-13 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 可均化误差的抛光路径的生成方法 |
| CN109676469A (zh) * | 2019-01-30 | 2019-04-26 | 成都精密光学工程研究中心 | 一种光学元件抛光工具及抛光方法 |
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