JP2002062403A - Light absorbing antireflection body - Google Patents
Light absorbing antireflection bodyInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば陰極線管の
ような画像表示装置の表示面上に形成される光吸収性反
射防止体に関するもので、特にフラットパネルガラスを
使用した陰極線管等に使用して好適な光吸収性反射防止
体に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light-absorbing anti-reflective member formed on a display surface of an image display device such as a cathode ray tube, and more particularly to a cathode ray tube using flat panel glass. And a light-absorbing anti-reflective body.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、例えばコンピュータディスプレイ
として利用される陰極線管(CDT;Computer Display
Terminal)においては、その表示面(フェースパネ
ル)の外表面形状のフラット化に伴って、防爆特性面の
理由によりセンター部とコーナー部のパネル肉厚差が大
きいものが主流になりつつある。2. Description of the Related Art In recent years, for example, a cathode ray tube (CDT) used as a computer display has been used.
With the flattening of the outer surface shape of the display surface (face panel), those having a large panel thickness difference between the center part and the corner part due to explosion-proof characteristics are becoming mainstream.
【0003】ところで、陰極線管は、一般に、蛍光面の
発光輝度を上げるか、パネルと蛍光面との界面での反射
率を低くするか、あるいはパネルガラスの光吸収によっ
て透過率を低くすることによって、良好なコントラスト
を得ている。ただし、上述したようなフラット化された
陰極線管では、パネルの中心部と周辺部との肉厚差の分
だけ透過率に差が生じてしまうので、パネル中心部と周
辺部における輝度ユニフォミティが悪化してしまう可能
性がある。したがって、フラット化された陰極線管にお
いて良好なコントラスト性能を得るためには、ガラス透
過率を高く(ロークリア化)し、かつ、パネルガラス表
面に形成される膜等に光吸収性を付与することにより、
総合透過率を等価とすることが不可欠であり、これによ
って良好なコントラストを得られるようになる。By the way, the cathode ray tube generally raises the light emission luminance of the fluorescent screen, lowers the reflectance at the interface between the panel and the fluorescent screen, or lowers the transmittance by the light absorption of the panel glass. , Good contrast is obtained. However, in the flattened cathode ray tube as described above, a difference in transmittance occurs due to a difference in thickness between the center portion and the peripheral portion of the panel, and thus the luminance uniformity in the central portion and the peripheral portion of the panel deteriorates. Could be done. Therefore, in order to obtain good contrast performance in a flattened cathode ray tube, it is necessary to increase the glass transmittance (to make it low-clear) and to impart light absorbing properties to a film formed on the surface of the panel glass. ,
It is essential to make the total transmittance equivalent, so that good contrast can be obtained.
【0004】パネルガラス表面に形成される膜等として
は、従来、多層構造で、光吸収性・反射防止・導電性の
各機能を併せ持つ光吸収性反射防止体が知られている
(例えば、特表平6−510382号公報、特開平9−
156964号公報参照)。これらの光吸収性反射防止
体では、コントラスト性能以外の特性として、光の干渉
効果を利用した反射防止機能や、導電性によって陰極線
管の内部から発生する電磁波を遮蔽する機能等を発揮す
るようになっている。As a film or the like formed on the surface of a panel glass, a light-absorbing anti-reflective body having a multi-layer structure and having functions of light-absorbing, anti-reflective and conductive properties is known (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-157556). JP-A-6-510382, JP-A-9-
No. 156964). These light-absorbing anti-reflective bodies exhibit properties other than contrast performance, such as an anti-reflection function utilizing the interference effect of light and a function of shielding electromagnetic waves generated from inside the cathode ray tube by conductivity. Has become.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光吸収性反射防止体では、いずれも、コントラスト性能
・反射防止性能・導電性能を、それぞれ個別に独立して
コントロールすることができない。例えば、パネルガラ
ス透過率を高くし、光吸収性反射防止体自体の透過率を
低くした場合には、等価なコントラストが得られるが、
そのためには光吸収性反射防止体における光吸収層を厚
くする必要があるので、ガラス側から入射する光(陰極
線管の蛍光面からの発光)がガラスと光吸収性反射防止
体との界面で大きく反射してしまう。したがって、この
場合には、陰極線管での表示像が2重に見えてしまうお
それがある。However, none of the conventional light-absorbing anti-reflection bodies can independently control contrast performance, anti-reflection performance, and conductive performance individually. For example, when the transmittance of the panel glass is increased and the transmittance of the light-absorbing antireflection body itself is decreased, an equivalent contrast is obtained.
For this purpose, the light absorbing layer in the light absorbing antireflective body needs to be thickened, so that light incident from the glass side (emission from the fluorescent screen of the cathode ray tube) is generated at the interface between the glass and the light absorbing antireflective body. It will be greatly reflected. Therefore, in this case, there is a possibility that the display image on the cathode ray tube may be seen twice.
【0006】これに対して、例えば特開平11−120
943号公報には、2層構造の薄膜構造体において、各
層の膜厚によって光の透過率と反射特性とをそれぞれ別
々に設定可能にすること、すなわち2層構造のうちのル
テニウム微粒子を含んだ光吸収層の膜厚で透過率の値を
可変させるとともに、その光吸収層に導電性を持たせ、
さらにはその光吸収層と最外層のシリカ膜との各界面で
の反射光の位相を光学膜厚によって制御することで、低
反射特性を得るようにすることが開示されている。この
ように、少ない層数で膜厚を形成することは、生産性の
観点からも有利であると考えられる。ところが、反射防
止条件から定まる膜厚の制約としては約±2%の精度が
必要であるのに対し、透過率調整のために求められる膜
厚の精度は±5〜8%程度でよい。つまり、透過率に対
する膜厚均一性の製造余裕度が反射防止機能の反射防止
条件によって制限されるデメリットがある。On the other hand, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-120
No. 943 discloses that in a thin film structure having a two-layer structure, light transmittance and reflection characteristics can be separately set depending on the thickness of each layer, that is, ruthenium fine particles of the two-layer structure are included. The value of the transmittance is varied by the thickness of the light absorbing layer, and the light absorbing layer is made conductive,
Further, it discloses that the phase of reflected light at each interface between the light absorbing layer and the outermost silica film is controlled by the optical film thickness so as to obtain low reflection characteristics. It is considered that forming a film with a small number of layers is advantageous from the viewpoint of productivity. However, as a constraint on the film thickness determined from the antireflection conditions, an accuracy of about ± 2% is required, whereas the accuracy of the film thickness required for adjusting the transmittance may be about ± 5 to 8%. That is, there is a demerit that the manufacturing margin of the film thickness uniformity with respect to the transmittance is limited by the antireflection condition of the antireflection function.
【0007】そこで、本発明は、各層の膜厚を必要以上
に精度良くしなくとも、透過率調整と反射防止条件とを
それぞれ個別に独立してコントロールすることを可能と
した、光吸収性反射防止体を提供することを目的とす
る。Accordingly, the present invention provides a light-absorbing reflection control device capable of individually controlling the transmittance adjustment and the antireflection conditions independently of each other without making the thickness of each layer unnecessarily high. It is intended to provide a preventive body.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために案出された光吸収性反射防止体で、画像表示
装置の表示面を構成する基材上に形成された光吸収膜
と、その光吸収膜上に多層構造で形成され、かつ、その
少なくとも一つの層が導電性薄膜であり、光干渉によっ
て入射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜と
をからなる光吸収性反射防止体において、前記光吸収膜
が、高屈折率微粉末を含有するとともに、その高屈折率
微粉末の含有率の調整によって当該光吸収膜の屈折率が
前記基材の屈折率と略同等にされたものであることを特
徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a light-absorbing anti-reflective body devised to achieve the above object, and comprises a light-absorbing film formed on a substrate constituting a display surface of an image display device. And an anti-reflection multilayer film formed of a multilayer structure on the light absorption film, and at least one of the layers is a conductive thin film, and attenuates reflected light with respect to incident light by light interference. In the antireflection body, the light absorbing film contains a high refractive index fine powder, and the refractive index of the light absorbing film is substantially equal to the refractive index of the base material by adjusting the content of the high refractive index fine powder. It is characterized by having been made.
【0009】上記構成の光吸収性反射防止体では、最外
層である反射防止多層膜とその外方の空気層との間の界
面反射、その反射防止多層膜を構成する各層の間での界
面反射、その反射防止多層膜と光吸収膜との間の界面反
射のそれぞれの光干渉相互作用により反射防止条件が整
い低反射特性を得ているが、光吸収膜と基板の界面での
反射損失は、これらの間の屈折率が高屈折率微粉末の含
有率調整によって略同等となるため、殆ど無視し得るよ
うになる。したがって、光吸収性反射防止体を形成する
際に、その透過率、反射率等を個別に独立してコントロ
ールすることが可能になる。In the light-absorbing anti-reflection body having the above-mentioned structure, the interface reflection between the outermost anti-reflection multilayer film and the air layer outside thereof, and the interface between the layers constituting the anti-reflection multilayer film. The anti-reflection conditions are set and low reflection characteristics are obtained by the light interference interaction of reflection and the interface reflection between the anti-reflection multilayer film and the light absorption film, but the reflection loss at the interface between the light absorption film and the substrate is obtained. Can be almost neglected because the refractive index between them becomes substantially equal by adjusting the content of the high refractive index fine powder. Therefore, when forming the light-absorbing anti-reflection body, it is possible to independently control the transmittance, the reflectance, and the like thereof.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明に係る
光吸収性反射防止体について説明する。図1は本発明に
係る光吸収性反射防止体の一例の概略構成を示す断面図
であり、図2はその光吸収性反射防止体が用いられる画
像表示装置の一例である陰極線管(CRT;Cathode Ra
y Tube)を示す概略斜視図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A light-absorbing antireflection body according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a schematic configuration of an example of a light-absorbing antireflection body according to the present invention, and FIG. 2 is a cathode ray tube (CRT; an example of an image display device using the light-absorbing antireflection body). Cathode Ra
y Tube).
【0011】ここで、先ず、本発明に係る光吸収性反射
防止体の説明に先立ち、その光吸収性反射防止体が用い
られる陰極線管について簡単に説明する。図2に示すよ
うに、陰極線管は、漏斗状に形成された受像管バルブ
(ファンネル)21を備えるとともに、その受像管バル
ブ21の開口部に、内面に蛍光面が設けられたパネルガ
ラス22が装着されている。また、受像管バルブ21の
後端部には、電子ビームを出射する電子銃23が封入さ
れている。さらに、受像管バルブ21のネック部には、
電子銃23からの電子ビームを偏向する偏向ヨーク24
が取り付けられている。そして、電子銃23から出射さ
れた電子ビームが、偏向ヨーク24による偏向を経た後
に、パネルガラス22の蛍光面を照射するように構成さ
れている。Here, first, before describing the light-absorbing anti-reflection body according to the present invention, a cathode ray tube using the light-absorbing anti-reflection body will be briefly described. As shown in FIG. 2, the cathode ray tube includes a picture tube valve (funnel) 21 formed in a funnel shape, and a panel glass 22 provided with a fluorescent screen on an inner surface at an opening of the picture tube valve 21. It is installed. An electron gun 23 for emitting an electron beam is sealed at the rear end of the picture tube valve 21. Further, at the neck portion of the picture tube valve 21,
Deflection yoke 24 for deflecting an electron beam from electron gun 23
Is attached. The electron beam emitted from the electron gun 23 irradiates the phosphor screen of the panel glass 22 after being deflected by the deflection yoke 24.
【0012】このような構成の陰極線管において、パネ
ルガラス22は、その外表面形状がフラットに形成され
ている。そして、パネルガラス22の外表面には、コン
トラストの増強を目的として、反射防止膜25が形成さ
れている。この反射防止膜25として、本実施形態で説
明する光吸収性反射防止体が用いられる。In the cathode ray tube having such a configuration, the outer surface of the panel glass 22 is formed flat. An antireflection film 25 is formed on the outer surface of the panel glass 22 for the purpose of enhancing contrast. As the antireflection film 25, the light absorbing antireflection member described in the present embodiment is used.
【0013】続いて、この光吸収性反射防止体の概略構
成について説明する。図1に示すように、光吸収性反射
防止体10は、陰極線管のパネルガラス22の外表面上
に形成されるものであり、そのパネルガラス22上に配
された光吸収膜11と、さらにその光吸収膜11上に配
された多層構造の反射防止多層膜12と、からなるもの
である。Next, the schematic structure of the light-absorbing anti-reflection body will be described. As shown in FIG. 1, the light-absorbing anti-reflection body 10 is formed on the outer surface of a panel glass 22 of a cathode ray tube, and a light-absorbing film 11 disposed on the panel glass 22 and And an antireflection multilayer film 12 having a multilayer structure disposed on the light absorption film 11.
【0014】このうち、光吸収膜11は、例えば10n
m以上の物理膜厚を有した光吸収性乾燥ゲル膜からなる
もので、詳細を後述するように、光学屈折率調整のため
の無色高屈折率材料である高屈折率微粉末を含有したも
のである。さらに、光吸収膜11では、着色顔料成分と
して、有機系または無機系の顔料微粒子をも含んでい
る。The light absorbing film 11 is, for example, 10 n
m, comprising a light-absorbing dry gel film having a physical thickness of at least m, and containing a high-refractive-index fine powder that is a colorless high-refractive-index material for adjusting an optical refractive index, as described in detail below. It is. Further, the light absorbing film 11 also contains organic or inorganic pigment fine particles as a coloring pigment component.
【0015】一方、反射防止多層膜12は、光干渉によ
って入射光に対する反射光を減衰させるもので、多層構
造のうちの少なくとも一つの層が、表面抵抗が1000
Ω/□以下の導電性薄膜によって形成されたものであ
る。具体的には、最も単純な2層構造を例に挙げると、
反射防止多層膜12は、光吸収膜11上に第2層目の導
電層として物理膜厚12nmで形成されたTiN(窒化
チタン)膜12aと、その上に第3層目である最外(最
表面)層として物理膜厚70〜110nm(例えば、8
5nm)で屈折率が1.52以下(例えば、1.52)
のSiO2(酸化シリコン)膜12bとから構成され
る。On the other hand, the anti-reflection multilayer film 12 attenuates reflected light with respect to incident light by light interference, and at least one layer of the multilayer structure has a surface resistance of 1000.
It is formed by a conductive thin film of Ω / □ or less. Specifically, taking the simplest two-layer structure as an example,
The antireflection multilayer film 12 includes a TiN (titanium nitride) film 12 a formed as a second conductive layer with a physical thickness of 12 nm on the light absorbing film 11, and a third outermost layer thereon ( A physical film thickness of 70 to 110 nm (for example, 8
5 nm) and a refractive index of 1.52 or less (for example, 1.52)
(SiO 2) film 12b.
【0016】なお、導電性薄膜としては、TiN膜12
aの他にも、例えば、透明なITO(錫ドープ酸化イン
ジウム)、SnO2(酸化錫)、ZnOx(酸化亜
鉛)、あるいはNbN(窒化ニオブ)等の窒化遷移金属
膜、さらにはAg(銀)膜、Ni−Fe(ニッケル・鉄
合金)のような金属薄膜を用いることが考えられる。Incidentally, the TiN film 12 is used as the conductive thin film.
In addition to a, for example, a transparent transition metal film such as ITO (tin-doped indium oxide), SnO2 (tin oxide), ZnOx (zinc oxide), or NbN (niobium nitride), or an Ag (silver) film It is conceivable to use a metal thin film such as Ni-Fe (nickel-iron alloy).
【0017】また、反射防止多層膜12は、上述したT
iN膜12aとSiO2膜12bからなる2層構造では
なく、3層以上の多層構造、例えばITO/SiO2/
TiO2/SiO2からなるものであってもよい。この
ような多層構造にすれば、より広帯域に亘って低反射な
特性を得ることが可能となる。The anti-reflection multilayer film 12 is made of the above-mentioned T
Instead of a two-layer structure composed of the iN film 12a and the SiO2 film 12b, a multilayer structure of three or more layers, for example, ITO / SiO2 /
It may be composed of TiO2 / SiO2. With such a multilayer structure, it is possible to obtain low-reflection characteristics over a wider band.
【0018】次いで、以上のような構成の光吸収性反射
防止体10をパネルガラス22の外表面に形成する場合
の形成方法について説明する。Next, a description will be given of a method of forming the light absorbing anti-reflection member 10 having the above-described structure on the outer surface of the panel glass 22.
【0019】光吸収性反射防止体10の形成にあたって
は、先ず、パネルガラス22の外表面上に、光吸収膜1
1を形成する。In forming the light-absorbing anti-reflection body 10, first, the light-absorbing film 1 is formed on the outer surface of the panel glass 22.
Form one.
【0020】光吸収膜11を形成する原料としては、シ
リカ膜ゾルゲル液を用いる。すなわち、シリコンアルコ
キシド[Si(OC2H5)4]にアルコールを添加し
て混合溶液とし、加水分解に必要な水、触媒としての酸
またはアルカリを添加して、これを出発原料とする。そ
して、この溶液中に、着色成分としてカーボンブラック
やアルカリブルーレーキなどの無機・有機の顔料成分を
配合するとともに、光学屈折率調整用に無色高屈折率材
料として酸化錫微粒子を配合し、さらには溶液中固形分
の分散材を微量添加したものを、ベース塗料とする。As a raw material for forming the light absorbing film 11, a silica film sol-gel solution is used. That is, an alcohol is added to silicon alkoxide [Si (OC2H5) 4] to form a mixed solution, and water required for hydrolysis and an acid or alkali as a catalyst are added, and this is used as a starting material. And, in this solution, an inorganic or organic pigment component such as carbon black or alkali blue lake is blended as a coloring component, and tin oxide fine particles are blended as a colorless high refractive index material for adjusting the optical refractive index. A base paint is obtained by adding a very small amount of a solid dispersion material in a solution.
【0021】出発原料に添加されるアルコールは、金属
アルコキシドが溶解し得る材料であればよく、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、n−ブタノ
ール、オクタノール、ジアセトンアルコール等を用いて
もよい。加水分解を促し沈殿の生成や液相分離を防止す
る働きの触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、アン
モニアの中から1つあるいは2つ以上の組み合わせを用
いる。着色成分としては、陰極線管の特性に応じて顔料
等の着色剤を選択するが、その粒系には膜厚の制限から
500nmを超えることは困難であり、好ましくは10
〜100nmの粒径のものが望まれる。無色高屈折率材
料としては、酸化錫の他に、酸化チタン、酸化ジルコニ
ウム、酸化アルミニウム、窒化シリコン等の誘電材料が
考えられるが、その粒径は分散性等を考慮して10〜5
0nmの超微粒子が望まれる。ただし、無色高屈折率材
料は、例えば酸化錫微粒子のように、バルクでの屈折率
が1.6以上の高屈折率微粉末であるものとする。塗料
溶液中の分散材としては、アニオン、カチオン、ノニオ
ン性の界面活性剤、またはエポキシ樹脂、ポリビニルピ
ロリドン等を1種類、若しくは2種類以上用いればよ
い。The alcohol added to the starting material may be any material in which the metal alkoxide can be dissolved, and may be methanol, ethanol, n-propyl alcohol, n-butanol, octanol, diacetone alcohol or the like. As a catalyst that promotes hydrolysis to prevent the formation of precipitates and the separation of liquid phase, one or a combination of two or more of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, and ammonia is used. As the coloring component, a coloring agent such as a pigment is selected according to the characteristics of the cathode ray tube. However, it is difficult for the particle system to exceed 500 nm due to the limitation of the film thickness.
A particle size of 100100 nm is desired. Dielectric materials such as titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, and silicon nitride can be considered as the colorless high refractive index material in addition to tin oxide.
Ultrafine particles of 0 nm are desired. However, the colorless high-refractive-index material is a high-refractive-index fine powder having a bulk refractive index of 1.6 or more, such as tin oxide fine particles. As the dispersant in the coating solution, one or more of an anion, a cation, a nonionic surfactant, an epoxy resin, polyvinylpyrrolidone, and the like may be used.
【0022】つまり、光吸収膜11は、出発原料として
官能基である−OH基(アルコール基)および−OR基
(アルコキシル基)を有するシリコンアルコキシドのア
ルコール溶液を用い、これに無機・有機の顔料成分およ
び酸化錫微粒子等の無色高屈折率材料を配合し、さらに
は分散材も微量添加したものをベース塗料とし、そのベ
ース塗料を陰極線管のパネルガラス22の外表面に塗布
し、これを所定の温度t(例えば、t<160℃)で焼
成することによって形成する。That is, the light absorbing film 11 is made of an alcohol solution of a silicon alkoxide having a functional group of -OH group (alcohol group) and -OR group (alkoxyl group) as a starting material. A base paint is prepared by blending a component and a colorless high-refractive index material such as tin oxide fine particles, and further adding a small amount of a dispersant, and applying the base paint to the outer surface of the panel glass 22 of the cathode ray tube, At a temperature t (for example, t <160 ° C.).
【0023】ベース塗料の塗膜である光吸収膜11の形
成方法としては、例えばウェットコーティング法を採用
する。このウェットコーティング法では、スピンコート
法が均一な膜厚を得るためには最も適している。このス
ピンコート法の他にも、ロールコート法、バーコート
法、ディップコート法、スプレー法、エレストルージョ
ン法等を用いることができる。ただし、本発明は、これ
らの形成方法に限定されるものではない。As a method for forming the light absorbing film 11, which is a coating film of the base paint, for example, a wet coating method is employed. In this wet coating method, the spin coating method is most suitable for obtaining a uniform film thickness. In addition to the spin coating method, a roll coating method, a bar coating method, a dip coating method, a spray method, an estrusion method and the like can be used. However, the present invention is not limited to these forming methods.
【0024】光吸収膜11の形成後は、続いて、その光
吸収膜11上に第2層目のTiN膜12aを成膜し、さ
らに第3層目のSiO2膜12bを成膜する。これによ
って、パネルガラス22の外表面上に、反射防止多層膜
12がTiN膜12aとSiO2膜12bとの2層構造
からなる光吸収性反射防止体10が形成されることにな
る。After the formation of the light absorbing film 11, a second TiN film 12a is formed on the light absorbing film 11, and a third SiO 2 film 12b is formed thereon. As a result, on the outer surface of the panel glass 22, the light-absorbing antireflection body 10 in which the antireflection multilayer film 12 has a two-layer structure of the TiN film 12a and the SiO2 film 12b is formed.
【0025】第2層目以降の反射防止多層膜12の形成
方法としては、例えばDCアクティブスパッタリング法
を採用する。このDCアクティブスパッタリング法は、
大面積に亘って均一な膜厚分布を得るのに最良である。
そして、単純な膜構成を採用することにより、製造生産
性を高くすることが可能である。As a method for forming the second and subsequent layers of the antireflection multilayer film 12, for example, DC active sputtering is employed. This DC active sputtering method,
This is best for obtaining a uniform film thickness distribution over a large area.
Then, by adopting a simple film configuration, it is possible to increase manufacturing productivity.
【0026】スパッタリングは、いずれも0.1〜1P
aの圧力制御された雰囲気において成膜を行う。なお、
スパッタリング以外にも、ゾルゲル法によるウェットコ
ート法を用いても、反射防止多層膜12の形成が可能で
ある。ただし、表面抵抗が1000Ω/□以下の導電層
(例えば、TiN膜12a)を得るには、スパッタリン
グ法が好ましい。また、真空蒸着法による膜形成も可能
であるが、本発明は、これらの成膜法に限定されるもの
ではない。Each of the sputterings is performed at 0.1 to 1 P
The film is formed in the pressure-controlled atmosphere a. In addition,
The anti-reflection multilayer film 12 can be formed by using a sol-gel wet coating method other than the sputtering method. However, in order to obtain a conductive layer having a surface resistance of 1000Ω / □ or less (for example, the TiN film 12a), a sputtering method is preferable. Further, a film can be formed by a vacuum evaporation method, but the present invention is not limited to these film formation methods.
【0027】ところで、本実施形態の光吸収性反射防止
体10は、上述した手順でパネルガラス22の外表面上
に形成する際に、ベース塗料中における無色高屈折率材
料の配合率、すなわち光吸収膜11内における無色高屈
折率材料の含有率を調整することによって、その光吸収
膜11の屈折率を以下に述べるようにした点に大きな特
徴がある。When the light-absorbing antireflection body 10 of the present embodiment is formed on the outer surface of the panel glass 22 by the above-described procedure, the compounding ratio of the colorless high-refractive-index material in the base paint, that is, A significant feature is that the refractive index of the light absorbing film 11 is adjusted as described below by adjusting the content of the colorless high refractive index material in the absorbing film 11.
【0028】ここで、光吸収膜11内における無色高屈
折率材料の含有率と光吸収膜11の屈折率との関係につ
いて詳しく説明する。図3は光吸収膜を形成する際のベ
ース塗料配合例の一具体例を示す説明図であり、図4お
よび図5は形成された光吸収膜の特性の一例を示す説明
図である。Here, the relationship between the content of the colorless high refractive index material in the light absorbing film 11 and the refractive index of the light absorbing film 11 will be described in detail. FIG. 3 is an explanatory diagram showing a specific example of a base coating composition when forming a light absorbing film, and FIGS. 4 and 5 are explanatory diagrams showing an example of characteristics of the formed light absorbing film.
【0029】例えば図3に示すようにベース塗料の主溶
媒成分を選定し、顔料、溶媒比率を一定とした場合にお
いて、無色高屈折率材料として酸化錫微粒子を用い、そ
の配合率の条件を可変させて光吸収膜11を形成した場
合について考える。酸化錫微粒子の配合率の可変条件と
しては、固形分の分散材であるシリカ固形分に対する酸
化錫の重量比率が、それぞれ20%(条件1)、30%
(条件2)、60%(条件3)である場合を例に挙げ
る。For example, as shown in FIG. 3, when the main solvent component of the base paint is selected and the pigment and the solvent ratio are fixed, tin oxide fine particles are used as a colorless high-refractive index material, and the condition of the mixing ratio is variable. The case where the light absorption film 11 is formed by the above is considered. As the variable conditions of the mixing ratio of the tin oxide fine particles, the weight ratio of tin oxide to silica solid content as a solid dispersion material is 20% (condition 1) and 30%, respectively.
(Condition 2) and 60% (Condition 3) will be exemplified.
【0030】このような条件1〜3のベース塗料を作製
し、それぞれを屈折率1.52のガラス基板(5mm
厚)からなるパネルガラス22上に約400nmの膜厚
でスピン塗布したときの反射率および透過率を測定した
結果を、図4および図5に示す。これらの結果より、酸
化錫の配合比率を大きくすれば、光吸収膜11の透過率
が下がるので、その屈折率が上がることが分かる。一
方、これとは逆に酸化錫の配合比率を小さくすれば、光
吸収膜11の透過率が上がるので、その屈折率が下がる
ことが分かる。A base paint under the above conditions 1 to 3 was prepared, and each of the base paints was a glass substrate having a refractive index of 1.52 (5 mm).
4 and 5 show the results of measuring the reflectance and the transmittance when spin-coated at a thickness of about 400 nm on the panel glass 22 of (thickness). From these results, it can be seen that when the mixing ratio of tin oxide is increased, the transmittance of the light absorbing film 11 is reduced, and the refractive index is increased. On the other hand, when the mixing ratio of tin oxide is reduced, on the other hand, the transmittance of the light absorbing film 11 is increased, so that the refractive index is reduced.
【0031】また、パネルガラス22における屈折率と
光吸収膜11における屈折率とを比較すると、酸化錫の
配合比率が大きくなり光吸収膜11の透過率が下がるこ
とによって、これらの間の屈折率差が大きくなると、相
対的にパネルガラス22および光吸収膜11における反
射率が高くなることが分かる。これは、パネルガラス2
2と光吸収膜11との屈折率差が大きくなると、これら
の界面での反射損失が大きくなるからである(図1中矢
印A参照)。When the refractive index of the panel glass 22 and the refractive index of the light absorbing film 11 are compared, the compounding ratio of tin oxide is increased and the transmittance of the light absorbing film 11 is reduced. It can be seen that the larger the difference, the higher the reflectivity of the panel glass 22 and the light absorbing film 11 becomes. This is panel glass 2
This is because, when the refractive index difference between the light absorbing film 2 and the light absorbing film 11 increases, the reflection loss at the interface between them increases (see arrow A in FIG. 1).
【0032】したがって、本実施形態の光吸収性反射防
止体10では、酸化錫の配合比率を20%と定めること
によって、光吸収膜11における屈折率をパネルガラス
22における屈折率と略同等になるようにし、これによ
りパネルガラス22と光吸収膜11との界面での反射損
失を小さくしている。具体的には、酸化錫のバルクでの
屈折率が1.6程度であることから、その酸化錫の配合
比率(シリカ固形分に対する重量比率)を20%とする
ことによって、光吸収膜11における屈折率は、1.4
5〜1.55程度となり、パネルガラス22の屈折率で
ある1.52と略同等になる。Therefore, in the light-absorbing anti-reflection body 10 of the present embodiment, the refractive index of the light-absorbing film 11 becomes substantially equal to the refractive index of the panel glass 22 by setting the mixing ratio of tin oxide to 20%. As a result, the reflection loss at the interface between the panel glass 22 and the light absorbing film 11 is reduced. Specifically, since the refractive index of the bulk of tin oxide is about 1.6, the mixing ratio (weight ratio with respect to silica solid content) of the tin oxide is set to 20%, so that the light absorbing film 11 has Refractive index is 1.4
It is about 5 to 1.55, which is substantially equal to 1.52 which is the refractive index of the panel glass 22.
【0033】つまり、本実施形態の光吸収性反射防止体
10では、図1に示すように、空気層と最外層のSiO
2膜12bとの界面反射(図中矢印B参照)と、そのS
iO2膜12bと第2層目のTiN膜12aとの界面反
射(図中矢印C参照)、さらにはそのTiN膜12aと
光吸収膜11との界面反射(図中矢印D参照)のそれぞ
れの光干渉相互作用により反射防止条件が整い低反射特
性を得ているが、光吸収膜11とパネルガラス22の界
面での反射損失は上述した屈折率調整により無視し得る
ため、結果として透過率および反射率のコントロールを
個別に独立して行うことが可能になる。That is, in the light-absorbing anti-reflection body 10 of this embodiment, as shown in FIG.
Reflection at the interface with the second film 12b (see arrow B in the figure) and its S
The respective lights of the interfacial reflection between the iO2 film 12b and the second-layer TiN film 12a (see arrow C in the figure) and the interfacial reflection between the TiN film 12a and the light absorbing film 11 (see arrow D in the figure) Although antireflection conditions are set by interference interaction and low reflection characteristics are obtained, reflection loss at the interface between the light absorbing film 11 and the panel glass 22 can be ignored by the above-described refractive index adjustment. The rate can be controlled individually and independently.
【0034】透過率のコントロールは、主に、光吸収膜
11の膜厚によって行う。透過率のコントロールのみを
目的とした場合の光吸収膜11の膜厚精度は、その許容
値として約±5〜8%程度であり、このときの透過率は
±2%に収めることができる。顔料分散系塗料の塗布に
際しては、一般に精度の高い塗布方法として、スピンコ
ート法、ロールコート法等があるが、要求膜厚精度を実
現できる方法であれば、本発明は、これらの成膜方法に
はよらない。The transmittance is controlled mainly by the thickness of the light absorbing film 11. The film thickness accuracy of the light absorbing film 11 when only the transmittance is controlled is about ± 5 to 8% as an allowable value, and the transmittance at this time can be kept within ± 2%. In applying a pigment-dispersed paint, generally, high-precision coating methods include a spin coating method and a roll coating method. However, as long as the required film thickness accuracy can be achieved, the present invention employs these film forming methods. It does not depend.
【0035】一方で、反射率のコントロールは、主に、
反射防止多層膜12の膜厚によって行う。光干渉を利用
した反射防止多層膜12は、積み重ねる膜の屈折率およ
び膜厚によって厳密な管理が要求される。光の波の重ね
合う位相条件を整えるためには、光の波長レベルでの位
相調整が必要となり、その精度は膜厚にして約±2%が
要求される。このような要求精度で陰極線管のような大
面積に均一な膜厚分布を形成する製造プロセスとして
は、スパッタリング法が適しており、中でもリアクティ
ブマグネトロン方式による高速成膜技術により、高品質
で安価な生産が実現できる。On the other hand, the control of the reflectance is mainly
This is performed depending on the thickness of the antireflection multilayer film 12. The antireflection multilayer film 12 utilizing optical interference requires strict management depending on the refractive index and the film thickness of the films to be stacked. In order to adjust the phase condition in which the light waves overlap, it is necessary to adjust the phase at the wavelength level of the light, and its accuracy is required to be about ± 2% in terms of film thickness. As a manufacturing process for forming a uniform film thickness distribution over a large area such as a cathode ray tube with the required accuracy, a sputtering method is suitable. Production can be realized.
【0036】以上のように、本実施形態の光吸収性反射
防止体10は、パネルガラス22上に形成された光吸収
膜11と、その光吸収膜11上に多層構造で形成され、
かつ、少なくとも一つの層が導電性薄膜(TiN膜12
a)である反射防止多層膜12とから構成されている。
そのため、この光吸収性反射防止体10を例えばフラッ
ト化された陰極線管に用いれば、陰極線管のフェースパ
ネル外表面形状のフラット化に伴うパネル肉厚の影響を
排除しつつ、低反射で光吸収により良好なコントラスト
性能を付与でき、さらには導電性を有することで漏洩電
磁界のシールド効果をもった表面処理膜が実現できる。
つまり、ロークリアガラスを用いたフラット陰極線管に
適した表面処理を実現できる。As described above, the light-absorbing anti-reflection body 10 of the present embodiment is formed of the light-absorbing film 11 formed on the panel glass 22 and the multilayer structure on the light-absorbing film 11.
Further, at least one layer is made of a conductive thin film (TiN film 12).
a) The anti-reflection multilayer film 12 of FIG.
Therefore, if the light-absorbing anti-reflection body 10 is used for, for example, a flattened cathode ray tube, the influence of panel thickness accompanying the flattening of the outer surface shape of the face panel of the cathode ray tube is eliminated, and light absorption with low reflection is achieved. Thus, it is possible to provide a surface treatment film having a shielding effect of a leakage electromagnetic field by providing conductivity.
That is, surface treatment suitable for a flat cathode ray tube using low-clear glass can be realized.
【0037】その上、本実施形態の光吸収性反射防止体
10では、酸化錫微粒子等の無色高屈折率材料の含有率
の調整によって、光吸収膜11の屈折率をパネルガラス
22の屈折率と略同等にしている。したがって、光吸収
膜11とパネルガラス22の界面での反射損失は、これ
らの間の屈折率が略同等であることから殆ど無視し得る
ようになる。つまり、無色高屈折率材料の重量比により
光吸収膜11の屈折率を容易に調整できるため、光吸収
性反射防止体10における特性の管理が非常に簡素化で
きるようになる。しかも、既存の製造ラインと容易に組
み合わせることができ、上述した特性管理のために特別
なコスト(塗料塗布プロセスでの新規追加装置等)を要
してしまうこともない。In addition, in the light-absorbing anti-reflection body 10 of the present embodiment, the refractive index of the light-absorbing film 11 is adjusted to the refractive index of the panel glass 22 by adjusting the content of a colorless high-refractive-index material such as tin oxide fine particles. And almost the same. Therefore, the reflection loss at the interface between the light absorbing film 11 and the panel glass 22 can be almost neglected since the refractive indexes between them are substantially equal. That is, since the refractive index of the light absorbing film 11 can be easily adjusted by the weight ratio of the colorless high refractive index material, the management of the characteristics of the light absorbing antireflection body 10 can be greatly simplified. In addition, it can be easily combined with an existing production line, and does not require a special cost (such as a new additional device in a paint application process) for the above-described characteristic management.
【0038】また、本実施形態の光吸収性反射防止体1
0は、光吸収膜11とパネルガラス22の界面での反射
損失を殆ど無視し得ることから、ロークリアガラスを用
いることにより蛍光面側からの発光が膜界面でも反射し
再び蛍光面側を映し出すことによる2重像の問題も、光
吸収膜11で光強度を減衰させることにより防止できる
ようになる。Further, the light-absorbing antireflection body 1 of the present embodiment
0 means that the reflection loss at the interface between the light absorbing film 11 and the panel glass 22 can be almost neglected, so that light emission from the phosphor screen side is reflected at the film interface and the phosphor screen side is projected again by using low-clear glass. The problem of the double image due to the light absorption can be prevented by attenuating the light intensity by the light absorbing film 11.
【0039】さらに、本実施形態の光吸収性反射防止体
10は、光吸収膜11とパネルガラス22の界面での反
射損失を殆ど無視し得ることから、光吸収性反射防止体
10を形成する際の透過率および反射率を、光吸収膜1
1の膜厚および反射防止多層膜12の膜厚によって、そ
れぞれ個別に独立してコントロールすることが可能にな
る。すなわち、光吸収膜11を形成する際に、スパッタ
リング法に比較して膜厚均一性が劣るスピン法を用いて
も、光干渉による成膜ムラを防ぐことができ、その結
果、従来よりも光吸収性反射防止体10を形成する際の
製造余裕度を稼ぐことができる。Further, the light absorbing anti-reflection body 10 of the present embodiment forms the light absorbing anti-reflection body 10 because the reflection loss at the interface between the light absorbing film 11 and the panel glass 22 can be almost ignored. The transmittance and reflectivity of the light absorbing film 1
1 and the thickness of the antireflection multilayer film 12 can be controlled individually and independently. That is, even when the light absorption film 11 is formed by using the spin method, which is inferior in film thickness uniformity as compared with the sputtering method, film formation unevenness due to light interference can be prevented. Manufacturing margin when forming the absorptive anti-reflection body 10 can be increased.
【0040】また、本実施形態の光吸収性反射防止体1
0は、光吸収膜11の基となるベース塗料に酸化錫微粒
子等の無色高屈折率材料のみならず、有機系または無機
系の顔料微粒子をも配合されているので、例えば陰極線
管のフェースパネルの反射防止膜として用いた場合に、
RGB輝度を考慮した選択吸収フィルタを実現できる。
すなわち、顔料選択の自由度が高いため、陰極線管スク
リーンの体色が好みにより変えられる。また、陰極線管
の透過率分布をコントロールする自由度が大きいため、
特に発光効率の低い赤色の電子ビームを抑えることが可
能であり、フォーカス性能の向上が図れるようになる。Further, the light-absorbing antireflection body 1 of the present embodiment
Reference numeral 0 denotes a face panel of a cathode ray tube, because not only a colorless high-refractive index material such as tin oxide fine particles but also organic or inorganic pigment fine particles are blended in a base paint on which the light absorbing film 11 is based. When used as an anti-reflection film for
A selective absorption filter considering RGB luminance can be realized.
That is, since the degree of freedom in selecting a pigment is high, the body color of the cathode ray tube screen can be changed as desired. Also, since the degree of freedom to control the transmittance distribution of the cathode ray tube is large,
In particular, it is possible to suppress the red electron beam having low luminous efficiency, and it is possible to improve the focus performance.
【0041】なお、本実施形態では、本発明を陰極線管
のフラットパネルガラスに適用した場合について説明し
たが、本発明は陰極線管への適用に限られるものではな
く、例えばLCD(Liquid Crystal Display)や、陰極線
管と同じ自発光ディスプレイであるFED(Field Emiss
ion Display)などの表示装置のフラットガラスパネルに
も同様に適用することが可能である。In this embodiment, the case where the present invention is applied to a flat panel glass of a cathode ray tube has been described. However, the present invention is not limited to the application to a cathode ray tube, and for example, an LCD (Liquid Crystal Display). FED (Field Emiss), which is the same self-luminous display as the cathode ray tube
The present invention can be similarly applied to a flat glass panel of a display device such as an ion display.
【0042】[0042]
【発明の効果】以上に説明したように、本発明に係る光
吸収性反射防止体によれば、光吸収膜と基板の屈折率が
高屈折率微粉末の含有率調整によって略同等となるた
め、これらの間の界面での反射損失が殆ど無視し得るよ
うになる。そのため、例えばフラット化された表示面を
有する画像表示装置に用いる場合であっても、表示像が
2重に見えるといったことがなく、良好なコントラスト
性能を付与でき、しかも漏洩電磁界のシールド効果をも
った表面処理膜を実現できる。さらには、高屈折率微粉
末の含有率調整により光吸収膜の屈折率を容易に調整で
きるため、各層の膜厚を必要以上に精度良くしなくと
も、透過率調整と反射防止条件とをそれぞれ個別に独立
してコントロールすることが可能となり、光吸収性反射
防止体における特性の管理が非常に簡素化できるように
なる。As described above, according to the light-absorptive antireflection body of the present invention, the refractive indices of the light-absorbing film and the substrate become substantially equal by adjusting the content of the high-refractive-index fine powder. The reflection loss at the interface between them becomes almost negligible. Therefore, for example, even when used in an image display device having a flat display surface, a display image does not appear double, good contrast performance can be provided, and a shielding effect of a leakage electromagnetic field can be reduced. It is possible to realize a surface treatment film having a certain thickness. Furthermore, since the refractive index of the light absorbing film can be easily adjusted by adjusting the content of the high refractive index fine powder, the transmittance adjustment and the antireflection conditions can be individually adjusted without making the thickness of each layer more than necessary. It becomes possible to control individually and independently, and the management of the characteristics in the light-absorbing antireflection body can be greatly simplified.
【図1】本発明に係る光吸収性反射防止体の一例の概略
構成を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an example of a light-absorbing antireflection body according to the present invention.
【図2】光吸収性反射防止体が用いられる画像表示装置
の一例である陰極線管の全体像を示す概略斜視図であ
る。FIG. 2 is a schematic perspective view showing an entire image of a cathode ray tube which is an example of an image display device using a light absorbing anti-reflection body.
【図3】光吸収性反射防止体における光吸収膜を形成す
る際のベース塗料配合例の一具体例を示す説明図であ
る。FIG. 3 is an explanatory view showing one specific example of a base coating composition when forming a light absorbing film in a light absorbing anti-reflection body.
【図4】形成された光吸収膜の特性の一例を示す説明図
であり、裏側入射光に対する透過率の分布状態を示す説
明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating an example of characteristics of a formed light absorbing film, and is an explanatory diagram illustrating a distribution state of transmittance with respect to back side incident light.
【図5】形成された光吸収膜の特性の一例を示す説明図
であり、表面側入射光に対する反射率の分布状態を示す
説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating an example of characteristics of a formed light absorbing film, and is an explanatory diagram illustrating a distribution state of a reflectance with respect to front side incident light.
10…光吸収性反射防止膜、11…光吸収膜、12…反
射防止多層膜、12a…TiN膜、12b…SiO2
膜、22…パネルガラス、25…反射防止膜DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Light absorption antireflection film, 11 ... Light absorption film, 12 ... Antireflection multilayer film, 12a ... TiN film, 12b ... SiO2
Film, 22: panel glass, 25: anti-reflection film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 9/20 G02B 1/10 A H05K 9/00 Z Fターム(参考) 2K009 AA05 AA06 AA07 BB02 CC02 CC03 CC14 CC42 DD02 DD04 EE03 4K029 AA08 AA09 BA46 BA60 BB02 BC03 BC07 BD01 CA05 DC05 DC34 DC39 FA01 5C028 AA10 5E321 AA21 GG11 GH01 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01J 9/20 G02B 1/10 A H05K 9/00 Z F term (Reference) 2K009 AA05 AA06 AA07 BB02 CC02 CC03 CC14 CC42 DD02 DD04 EE03 4K029 AA08 AA09 BA46 BA60 BB02 BC03 BC07 BD01 CA05 DC05 DC34 DC39 FA01 5C028 AA10 5E321 AA21 GG11 GH01
Claims (5)
に形成された光吸収膜と、該光吸収膜上に多層構造で形
成され、かつ、その少なくとも一つの層が導電性薄膜で
あり、光干渉によって入射光に対する反射光を減衰させ
る反射防止多層膜とからなる光吸収性反射防止体におい
て、 前記光吸収膜は、高屈折率微粉末を含有するとともに、
該高屈折率微粉末の含有率の調整によって当該光吸収膜
の屈折率が前記基材の屈折率と略同等にされたものであ
ることを特徴とする光吸収性反射防止体。1. A light-absorbing film formed on a base material constituting a display surface of an image display device, and a multilayer structure formed on the light-absorbing film, and at least one of the layers is a conductive thin film. In a light-absorbing anti-reflective body comprising an anti-reflection multilayer film that attenuates reflected light with respect to incident light by light interference, the light-absorbing film contains a high-refractive-index fine powder,
A light-absorbing antireflective body, wherein the refractive index of the light-absorbing film is made substantially equal to the refractive index of the substrate by adjusting the content of the high-refractive-index fine powder.
55であることを特徴とする請求項1記載の光吸収性反
射防止体。2. The light-absorbing film having a refractive index of 1.45 to 1.45.
The light-absorbing anti-reflective body according to claim 1, wherein the number is 55.
および−OR基を有するシリコンアルコキシドのアルコ
ール溶液に、バルクでの屈折率が1.6以上の高屈折率
微粉末を配合したものであるベース塗料を基にして形成
されたことを特徴とする請求項1記載の光吸収性反射防
止体。3. The light-absorbing film is prepared by mixing a high-refractive-index fine powder having a bulk refractive index of 1.6 or more with an alcohol solution of silicon alkoxide having a functional group of —OH group and —OR group. The light-absorbing anti-reflective body according to claim 1, wherein the light-absorbing anti-reflective body is formed based on a base paint.
に、前記ベース塗料におけるシリカ固形分に対する酸化
錫の重量比率を略20%としたことを特徴とする請求項
3記載の光吸収性反射防止体。4. The light absorption according to claim 3, wherein when the high-refractive-index fine powder is tin oxide, the weight ratio of tin oxide to silica solids in the base paint is approximately 20%. Anti-reflective body.
顔料微粒子を配合したことを特徴とする請求項3記載の
光吸収性反射防止体。5. The light-absorbing anti-reflective body according to claim 3, wherein organic or inorganic pigment fine particles are blended in the base paint.
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