JP2702821B2 - CRT with low reflection film - Google Patents

CRT with low reflection film

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JP2702821B2
JP2702821B2 JP3106988A JP10698891A JP2702821B2 JP 2702821 B2 JP2702821 B2 JP 2702821B2 JP 3106988 A JP3106988 A JP 3106988A JP 10698891 A JP10698891 A JP 10698891A JP 2702821 B2 JP2702821 B2 JP 2702821B2
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    • C03C2217/475Inorganic materials

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、フェース・プレート
部に低反射膜を形成した低反射膜付陰極線管に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cathode ray tube having a low reflection film having a low reflection film formed on a face plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、カラーテレビジョン受像機の画質
に対する要求が非常に強まってきており、このため、陰
極線管のコントラスト性能についても大幅な改善が望ま
れている。
2. Description of the Related Art Recently, the demand for the image quality of a color television receiver has been greatly increased, and therefore, a significant improvement in the contrast performance of a cathode ray tube is desired.

【0003】つぎに、このコントラスト性能について図
8により説明する。図8は陰極線管の蛍光面部分の拡大
概略断面図であり、同図において、フェース・プレート
2の内面には蛍光面の外光反射率を低下させてコントラ
スト性能を向上させるための黒色光吸収膜6及びBGR
(青・緑・赤)3色蛍光体層4及びメタルバック膜5が
形成されている。
Next, the contrast performance will be described with reference to FIG. FIG. 8 is an enlarged schematic cross-sectional view of a fluorescent screen portion of the cathode ray tube. In FIG. 8, an inner surface of the face plate 2 has black light absorption for reducing the external light reflectance of the fluorescent screen and improving the contrast performance. Membrane 6 and BGR
A (blue / green / red) three-color phosphor layer 4 and a metal back film 5 are formed.

【0004】いま、上記構成の陰極線管において、蛍光
面の発光輝度をF0、フェース・プレート2を透過して
出てくる光の出力輝度をF1 、フェース・プレート2の
光透過率をTp 、BGR3色蛍光体層4及び黒色光吸収
膜6及びメタルバック膜5のすべてが統括された蛍光膜
反射率をRp、黒色光吸収膜6の開口率をTb 、蛍光面
に入ってくる入射光の強さをE0 、フェース・プレート
2の外表面で反射された表面反射外光の強さをE1 、フ
ェース・プレート2の内表面と蛍光膜で反射されたフェ
ース・プレート2の外部へ出てくる蛍光面反射外光の強
さをE2 とすると、コントラスト指標Ct は下記の数式
1で表わすことができる。
In the cathode ray tube having the above structure, the light emission luminance of the phosphor screen is F 0 , the output luminance of light passing through the face plate 2 is F 1 , and the light transmittance of the face plate 2 is Tp. , The reflectance of the fluorescent film in which all of the BGR three-color phosphor layer 4, the black light absorbing film 6, and the metal back film 5 are integrated is Rp, the aperture ratio of the black light absorbing film 6 is Tb, and the incident light entering the fluorescent screen. Is E 0 , the intensity of the external light reflected on the outer surface of the face plate 2 is E 1 , and the intensity of the external light reflected on the inner surface of the face plate 2 and the outside of the face plate 2 is reflected by the fluorescent film. Assuming that the intensity of the reflected external light from the phosphor screen is E 2 , the contrast index Ct can be expressed by the following equation 1.

【0005】[0005]

【数1】 (Equation 1)

【0006】上記数式1では、フェース・プレート2の
材質はガラスであるために、空気及び真空との界面での
表面反射を4%と見積った。数式1のから明らかなこ
とは、よりE1 は一定であるため、コントラスト性
能、すなわち、コントラスト指標Ct を向上させるため
には、F1 、すなわち、出力輝度を大きくするか、
2 、すなわち、蛍光面反射外光の強さを小さくすれば
よい。このE2 を小さくするためには、数式1のより
フェース・プレート2の光透過率Tp を低くすることが
有効であることがわかる。このため、陰極線管のコント
ラスト性能を向上させる方法として、フェース・プレー
ト2の光透過率Tp を下げることがよくおこなわれる。
この場合には、欠点として、陰極線管の出力輝度F1
同時に低下することが数式1のより明らかである。
In Equation 1, since the material of the face plate 2 is glass, the surface reflection at the interface with air and vacuum is estimated to be 4%. It is clear from Eq. 1 that E 1 is more constant, and therefore, in order to improve the contrast performance, that is, the contrast index Ct, F 1 , that is, the output luminance must be increased,
E 2 , that is, the intensity of the light reflected off the phosphor screen may be reduced. The E to 2 to small, it can be seen that it is effective to reduce the higher light transmittance Tp of the face plate 2 of Equation 1. For this reason, as a method of improving the contrast performance of the cathode ray tube, the light transmittance Tp of the face plate 2 is often reduced.
In this case, as disadvantages, it is more apparent in Equation 1 drops simultaneously output luminance F 1 of the cathode ray tube.

【0007】図10はフェース・プレート2及び蛍光面
の光学特性を説明するための図である。図中、BGRは
BGR3色蛍光体層4からの発光の相対発光強度スペク
トル分布を示すものである。また、図中の曲線(II),(II
I),(IV),(V) はフェース・プレート2のガラス肉厚が1
3mmの場合のフェース・プレート2の分光透過率分布を
示すもので、(II)は可視光領域の分光透過率が約85%
のクリアー・タイプ、(III) は可視光領域の分光透過率
が約69%のグレー・タイプ、(IV)は可視光領域の分光
透過率が約50%のティント・タイプ、(V) は可視光領
域の分光透過率が約38%のダーク・ティント・タイプ
の分光透過率を示す。
FIG. 10 is a view for explaining the optical characteristics of the face plate 2 and the phosphor screen. In the figure, BGR indicates the relative emission intensity spectrum distribution of the light emitted from the BGR three-color phosphor layer 4. The curves (II) and (II)
(I), (IV) and (V) indicate that the glass thickness of the face plate 2 is 1
The spectral transmittance distribution of the face plate 2 in the case of 3 mm is shown. (II) shows that the spectral transmittance in the visible light region is about 85%.
(III) is a gray type with a spectral transmittance of about 69% in the visible light region, (IV) is a tint type with a spectral transmittance of about 50% in the visible light region, and (V) is a visible type. It shows a dark tint type spectral transmittance of about 38% in the optical region.

【0008】ところで、フェース・プレート2の分光透
過率は低いほど陰極線管の蛍光面の輝度性能としては不
利になることは、BGRの蛍光面の相対発光強度スペク
トル分布との関係より明らかであるが、陰極線管の蛍光
面に入射する外光が有効に除去できるので、コントラス
ト上は有利であり、最近のカラーテレビジョン受像機の
画質重視の傾向とともに、輝度性能重視の従来のクリア
ー・タイプ及びグレー・タイプよりもコントラスト性能
重視のティント・タイプ及びダーク・ティント・タイプ
のフェース・プレート2が多く使用されるようになって
きている。
The lower the spectral transmittance of the face plate 2 is, the more disadvantageous the luminance performance of the fluorescent screen of the cathode ray tube is, which is apparent from the relationship with the relative emission intensity spectrum distribution of the fluorescent screen of the BGR. Since the external light incident on the fluorescent screen of the cathode ray tube can be effectively removed, it is advantageous in terms of contrast, and in addition to the recent tendency to emphasize the image quality of color television receivers, the conventional clear type and gray, which emphasize luminance performance. A tint type and a dark tint type face plate 2 which emphasize contrast performance more than the type are increasingly used.

【0009】また、最近の陰極線管の大型化及び輝度性
能やフォーカス性能の改善にともない、陰極線管の蛍光
面に印加する電圧、すなわち、電子ビームの加速電圧が
高くなってきており、カラーテレビジョン受像機のフェ
ース部分のチャージアップ現象が大きな問題となってき
ている。すなわち、このチャージアップ現象により、フ
ェース部分に空気中の細かいゴミが付着して汚れ等が目
立ちやすくなり、結果として、陰極線管の輝度性能を劣
化させる原因になっている。また、チャージアップした
フェース部分に観視者が近づいた時に、放電現象が起こ
り、観視者に不快感を与える不都合もある。
Further, with the recent enlargement of the cathode ray tube and the improvement of the luminance performance and the focus performance, the voltage applied to the phosphor screen of the cathode ray tube, that is, the acceleration voltage of the electron beam has been increased, and the color television has been increased. The charge-up phenomenon of the face portion of the receiver has become a serious problem. That is, due to the charge-up phenomenon, fine dust in the air adheres to the face portion, and contaminants and the like become conspicuous, and as a result, the luminance performance of the cathode ray tube is deteriorated. Further, when the viewer approaches the charged face portion, a discharge phenomenon occurs, which may cause inconvenience to the viewer.

【0010】このようなカラーテレビジョン受像機のフ
ェース部分の帯電防止と映像のコントラスト性能をより
一層向上させる目的で、図11で示すように、陰極線管
のフェース・プレート2の外表面に帯電防止光選択吸収
膜3を設けた帯電防止光選択吸収膜付陰極線管1が使用
されるようになってきた。この帯電防止選択吸収膜3は
シリカ(SiO2 )系の膜で構成されており、帯電防止
機能と光選択吸収機能との両方の機能を有している。こ
のような帯電防止光選択吸収膜3を形成するためには、
一般に、官能基として−OH基や−OR基を有するシリ
コン(Si)アルコキシドのアルコール溶液をベース塗
料として、このベース塗料に導電性フィラーとして酸化
スズ(SnO2 )や酸化インジウム(In2 3 )の微
粒子を分散混合し、かつ有機系もしくは無機系の染料又
は顔料を分散混合させた塗液を陰極線管のフェース・プ
レート2の外表面に塗布・成膜することにより行われ
る。成膜後、強い膜強度を得るために、100〜200
℃の温度で膜の焼き付け処理をおこなう。
For the purpose of preventing the face portion of such a color television receiver from being charged and further improving the contrast performance of an image, as shown in FIG. The cathode ray tube 1 with the antistatic light selective absorption film provided with the light selective absorption film 3 has come to be used. The antistatic selective absorption film 3 is made of a silica (SiO 2 ) film and has both an antistatic function and a light selective absorption function. In order to form such an antistatic light selective absorption film 3,
Generally, an alcohol solution of silicon (Si) alkoxide having a —OH group or —OR group as a functional group is used as a base paint, and tin oxide (SnO 2 ) or indium oxide (In 2 O 3 ) is used as a conductive filler in the base paint. Are dispersed and mixed, and a coating liquid in which an organic or inorganic dye or pigment is dispersed and mixed is applied and formed on the outer surface of the face plate 2 of the cathode ray tube. After film formation, 100-200
The film is baked at a temperature of ° C.

【0011】図9は、フェース・プレート2の外表面に
形成された帯電防止光選択吸収膜3の拡大断面概念図で
あり、多孔質シリカ膜7の中に、有機系もしくは無機系
の染料又は顔料粒子8と導電性フィラー粒子9とが分散
した構造になっている。
FIG. 9 is an enlarged schematic sectional view of the antistatic light selective absorption film 3 formed on the outer surface of the face plate 2, wherein an organic or inorganic dye or It has a structure in which pigment particles 8 and conductive filler particles 9 are dispersed.

【0012】図12は陰極線管のフェース・プレート部
の表面電位の変化を示すグラフであり、図中、L,L1
は帯電防止機能を有していない陰極線管の電源ON時
(L)及び電源OFF時(L1 )の表面電位の変化曲線
であるのに対し、曲線M,M1は帯電防止機能を具備し
た陰極線管の電源ON時()及び電源OFF時
1 )の表面電位の変化曲線であり、帯電防止機能を
具備している陰極線管は、そのフェース・プレート2の
外表面に導電性の膜が形成されており、この導電性の膜
がアースと接合されているので、表面チャージが定常的
にアースの方へ逃げ、大幅にチャージ・アップが小さく
なっていることがわかる。
[0012] Figure 12 is a graph showing a change in surface potential of the face plate of the cathode ray tube, in the figure, L, L 1
Whereas a change curve of the surface potential at the time of power ON of the cathode ray tube not having the antistatic function (L) and when the power OFF (L 1), the curve M, M 1 is equipped with an antistatic function is the change curve of the surface potential at the time of the cathode ray tube of power oN (M) and when the power OFF (M 1), a cathode ray tube which comprises an antistatic function, electrically conductive outer surface of the face plate 2 It can be seen that since the conductive film is bonded to the ground, the surface charge steadily escapes toward the ground, and the charge-up is greatly reduced.

【0013】また、帯電防止光選択吸収膜3によるコン
トラスト性能向上の原理を図7の陰極線管の蛍光面部分
拡大概念断面図により説明する。同図において、帯電
防止光選択吸収膜3がフェース・プレート2の外表面に
付加されている以外は、図8の断面図と全く同じであ
る。また、フェース・プレート2のガラス材料と帯電防
止光選択吸収膜3の光学的な屈折率はほぼ同じに選んで
いるので、これらの界面での光反射はほぼ無視できる。
この場合のコントラスト指標C'tは前述と同様に次の数
式2で表すことができる。
The principle of the improvement of the contrast performance by the antistatic light selective absorption film 3 is shown in FIG.
This will be described with reference to an enlarged conceptual sectional view of FIG. The drawing is exactly the same as the sectional view of FIG. 8 except that an antistatic light selective absorption film 3 is added to the outer surface of the face plate 2. In addition, since the glass material of the face plate 2 and the optical refraction index of the antistatic light selective absorption film 3 are selected to be substantially the same, light reflection at the interface between them is almost negligible.
In this case, the contrast index C't can be expressed by the following equation 2 as described above.

【0014】[0014]

【数2】 (Equation 2)

【0015】上記数式2でE1 は一定であり、Tpも一
定の場合、コントラスト指標C'tを更に向上させるため
には、上記数式2の及びより帯電防止光選択吸収膜
3の光透過率Tcを小さくすることが有効である。帯電
防止光選択吸収膜3の場合、この膜の可視光領域での分
光透過率分布とBGR3色蛍光体層4からの発光の相対
発光強度スペクトル分布との最適化をおこなうことによ
り、数式2ので示す出力輝度F'1の低下を極力抑えて
コントラスト指標C'tを向上させることが可能である。
In the case where E 1 is constant and Tp is also constant in the above equation (2), in order to further improve the contrast index C′t, the light transmittance of the above-mentioned equation (2) and the more antistatic light selective absorption film 3 are required. It is effective to reduce Tc. In the case of the antistatic light selective absorption film 3, by optimizing the spectral transmittance distribution in the visible light region of this film and the relative emission intensity spectrum distribution of light emitted from the BGR three-color phosphor layer 4, It is possible to improve the contrast index C′t while minimizing the decrease in the output luminance F ′ 1 shown in FIG.

【0016】図10における曲線(I)は、上記のよう
な目的で陰極線管のフェース・プレート2の外表面に設
けられた帯電防止光選択吸収膜3の分光透過率分布の一
例を示す。図中、GRの相対発光強度スペクトル分布の
主スペクトル波長535nm〜625nmのうち、この
主スペクトル波長に近い部分に、この帯電防止光選択吸
収膜3の吸収ピーク(A)があると、陰極線管の蛍光面
の輝度性能上不利となるため、この吸収帯の半値幅等も
考慮して通常570nm〜610nmの範囲に吸収帯の
吸収ピーク(A)は置かれる。
A curve (I) in FIG. 10 shows an example of a spectral transmittance distribution of the antistatic light selective absorption film 3 provided on the outer surface of the face plate 2 of the cathode ray tube for the above purpose. In the figure, if the absorption peak (A) of the antistatic light selective absorption film 3 is located at a portion near the main spectral wavelength in the main spectral wavelengths of 535 nm to 625 nm of the relative emission intensity spectrum distribution of GR, Since the luminance performance of the phosphor screen is disadvantageous, the absorption peak (A) of the absorption band is usually set in the range of 570 nm to 610 nm in consideration of the half width of the absorption band.

【0017】この範囲の波長の光は、人間の目の視感度
の比較的高い領域と一致するので、外光(通常は白色
光)成分のうち、この領域の光が吸収、除去されると、
コントラスト性能上、好ましい。すなわち、帯電防止光
選択吸収膜付陰極線管1の帯電防止光選択吸収膜3の光
学特性としては、人間の目の視感度として割合に高く、
また、蛍光面からの発光にできるだけ影響の少ない57
0〜610nmの範囲に吸収帯のピーク(A)を置いて
蛍光面の輝度性能を維持しつつ、外光を有効に吸収して
コントラスト性能の向上をはかるようにしたものであ
る。
Since the light having the wavelength in this range coincides with the region where the visibility of the human eye is relatively high, the light in this region out of the external light (usually white light) component is absorbed and removed. ,
It is preferable in terms of contrast performance. That is, the optical characteristics of the antistatic light selective absorption film 3 of the cathode ray tube 1 with the antistatic light selective absorption film are relatively high as the visibility of human eyes,
In addition, the light emission from the phosphor screen has as little influence as possible.
The absorption band peak (A) is set in the range of 0 to 610 nm to maintain the luminance performance of the phosphor screen while effectively absorbing external light to improve the contrast performance.

【0018】このような光学特性を有する有機系もしく
は無機系の染料又は顔料の選定が非常に重要であり、曲
線(I)の場合、580nmに吸収帯の吸収ピーク
(A)をもたせた例を示す。このような帯電防止光選択
吸収膜付陰極線管1では、ベース塗料に混合する有機系
や無機系の染料や顔料の光学的な光吸収特性が比較的ブ
ロードであるため、蛍光面の発光のうち、たとえば、緑
色(G)発光の場合、主スペクトル波長の長波長側のテ
ール部、赤色(R)発光の場合、主スペクトル波長の短
波長側のサブピーク部がこの光選択吸収膜により吸収さ
れて発光色調の改善も同時におこなうことが可能であ
る。
It is very important to select an organic or inorganic dye or pigment having such optical characteristics. In the case of the curve (I), an example in which an absorption peak (A) of an absorption band is provided at 580 nm. Show. In such a cathode ray tube 1 with an antistatic light selective absorption film, the organic and inorganic dyes and pigments mixed in the base coating material have relatively broad optical light absorption characteristics, so that the light emission of the fluorescent screen For example, in the case of green (G) light emission, the tail portion on the long wavelength side of the main spectral wavelength, and in the case of red (R) light emission, the sub-peak portion on the short wavelength side of the main spectral wavelength is absorbed by this light selective absorption film. The emission color tone can be improved at the same time.

【0019】図6はいろいろな種類の陰極線管のフェー
ス・プレート2外表面に強さ100の外光(E0 )が入
射したときに、フェース・プレート2の外表面で反射さ
れる表面反射外光の強さ(E1 )とフェース・プレート
2の内表面と蛍光膜で反射され、フェース・プレート2
の外部へ出てくる蛍光面反射外光の強さ(E2 )と全反
射外光中に占める表面反射外光の割合「〔E1 /(E1
+E2 )〕×100」を表す。
FIG. 6 shows the surface reflection outside the face plate 2 when an external light (E 0 ) having an intensity of 100 is incident on the outside surface of the face plate 2 of various kinds of cathode ray tubes. The light intensity (E 1 ) is reflected by the inner surface of the face plate 2 and the fluorescent film, and the face plate 2
The intensity (E 2 ) of the external light reflected from the phosphor screen and the ratio of the external light reflected from the surface to the total external light “[E 1 / (E 1
+ E 2 )] × 100 ”.

【0020】表面反射外光の強さは(E1 )について
は、(k)〜(n)はすべてガラス材料からなるフェー
ス・プレート2外表面での反射であり、(o)及び
(p)はガラス材料とほぼ光学的な屈折率が同じの帯電
防止光選択吸収膜3外表面での反射であるため、その強
さはすべて約4.0となる。蛍光面反射外光の強さ(E
2 )については、フェース・プレート2及びその外表面
に形成された帯電防止光選択吸収膜3の光透過率に依存
し、これらの光透過率が低くなると、急激に小さくな
る。なお、これらの測定及び評価をおこなう際の外光と
しては、図13で示すような相対発光強度スペクトル分
布を有する白熱灯を使用した。
As for the intensity of the external light reflected from the surface, (E 1 ), (k) to (n) are reflections on the outer surface of the face plate 2 made of a glass material, and (o) and (p) Is the reflection on the outer surface of the antistatic light selective absorption film 3 having substantially the same optical refractive index as that of the glass material, and the intensity thereof is about 4.0 in all cases. Intensity of reflected light outside the phosphor screen (E
2 ) depends on the light transmittance of the face plate 2 and the antistatic light selective absorption film 3 formed on the outer surface thereof, and when these light transmittances decrease, the light transmittance sharply decreases. In addition, an incandescent lamp having a relative light emission intensity spectrum distribution as shown in FIG. 13 was used as external light when performing these measurements and evaluations.

【0021】これら(k)〜(n)の各数値を見て明ら
かなことは、(k)及び(l)のように、フェース・プ
レート2の光透過率が比較的高い場合は、E1 に比べて
2 が非常に高く「すなわち、〔E1 /(E1
2 )〕×100の値が小さい」、E1 の影響は無視で
きるが、(m)及び(n)のように、フェース・プレー
ト2の光透過率が低くなってくると、E1 とE2 が非常
に近づいてきて、E1 の影響が無視できなくなってく
る。(o)及び(p)のように、もともと光透過率が低
いフェース・プレート2の外表面上に光吸収膜を形成す
る場合には、この傾向が更に顕著となる。
It is clear from the respective numerical values (k) to (n) that when the light transmittance of the face plate 2 is relatively high as in (k) and (l), E 1 "that is, E 2 is very high compared to [E 1 / (E 1 +
E 2)] × smaller value of 100 ", the influence of E 1 is negligible, as in (m) and (n), the light transmittance of the face plate 2 becomes low, and E 1 E 2 is getting very close, impact of E 1 can not be ignored. As shown in (o) and (p), when a light absorbing film is formed on the outer surface of the face plate 2 which originally has a low light transmittance, this tendency becomes more remarkable.

【0022】これは現象的には、陰極線管のコントラス
ト性能を向上させるために、フェース・プレート2の光
透過率を下げれば下げるほど、また、さらに、このフェ
ース・プレート2の外表面上に光吸収膜を設けて光透過
率を下げれば下げるほど、フェース・プレート2の表面
外光反射が目立ちはじめ、たとえば、陰極線管のフェー
ス部に映り込む観視者の顔などが、くっきりと見えて観
視者にとって非常に目障りとなり、長時間映像を見続け
ると、目の疲労の原因にもなる。この表面外光反射が目
立つ問題は、特に、フェース・プレート2の光透過率が
50%以下になると、非常に顕著となり、このようなフ
ェース・プレート2の外表面に帯電防止光選択吸収膜3
等の光吸収膜を形成すると、問題は一層深刻になる。
In terms of phenomena, in order to improve the contrast performance of the cathode ray tube, the lower the light transmittance of the face plate 2 is, the more the light transmittance on the outer surface of the face plate 2 becomes. As the light transmittance is lowered by providing an absorbing film, the reflection of light outside the surface of the face plate 2 becomes more conspicuous, and, for example, the face of a viewer reflected on the face portion of the cathode ray tube becomes clearly visible. It is very annoying to the viewer, and keeping watching the image for a long time may cause eyestrain. This problem of out-of-surface light reflection is particularly noticeable when the light transmittance of the face plate 2 is 50% or less, and the antistatic light selective absorption film 3 is formed on the outer surface of the face plate 2.
And the like, the problem becomes more serious.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、従
来の陰極線管では、コントラスト性能を向上させようと
して、フェース・プレート2の光透過率を下げれば下げ
るほど、また、更に、フェース・プレート2の外表面上
に光吸収膜を設けて光透過率を下げれば下げるほど、フ
ェース・プレート2の表面外光反射が目立つようにな
り、この映り込みのために観視者が映像を見づらくなっ
たり、観視者に目の疲労を生じる等の不都合があった。
As described above, in the conventional cathode ray tube, as the light transmittance of the face plate 2 is reduced in order to improve the contrast performance, the face plate is further reduced. As the light transmittance is lowered by providing a light absorbing film on the outer surface of the face plate 2, the reflection of light outside the surface of the face plate 2 becomes more conspicuous, and the reflection makes the viewer harder to see the image. In addition, there are inconveniences such as eye strain on the viewer.

【0024】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたものであって、陰極線管のコントラスト性
能を向上させるために、フェース・プレートの光透過率
を下げたり、更に、その外表面に光吸収膜を設けても外
光による映り込み等の少ない低反射膜付陰極線管を安価
に提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and in order to improve the contrast performance of a cathode ray tube, the light transmittance of a face plate is reduced, and the outer surface of the face plate is further reduced. It is an object of the present invention to provide a low-reflection film-coated cathode ray tube which is less affected by external light even if a light absorbing film is provided.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項1の発明では、50%以下の光透過率を有す
る陰極線管のフェース・プレート部に、シリコン(S
i)のアルコキシドをベースとした2層以上4層以下の
高屈折率層及び低屈折率層の交互積層組合わせによる多
層光学干渉膜からなる低反射膜を形成した低反射膜付陰
極線管であって、上記屈折率層は、官能基として−O
H基,−OR基を有するシリコン(Si)のアルコ
ドのアルコール溶液もしくはこのアルコール溶液に平均
粒径が1000Å以下の超微粒子弗化マグネシウム(M
gF2 )を分散混合してなる低屈折率ベース塗料による
塗膜で形成し、屈折率層は、官能基として−OH基,
−OR基を有するシリコン(Si)のアルコキシドのア
ルコール溶液に対し、平均粒径が1000Å以下の超微
粒子酸化タンタル(Ta2 5 )、超微粒子酸化チタン
(TiO 2 )、超微粒子酸化ジルコニウム(ZrO2
もしくは超微粒子硫化亜鉛(ZnS)のうちのいずれか
1つ又はこれらの混合物を分散混合してなる高屈折率ベ
ース塗料の塗膜により形成したものであることを特徴と
している。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, silicon (S) is added to the face plate of a cathode ray tube having a light transmittance of 50% or less.
a cathode ray tube with a low-reflection film having a low-reflection film comprising a multilayer optical interference film formed by alternately laminating two or more and four or less high-refractive-index layers and low-refractive-index layers based on the alkoxide of i). The low refractive index layer has a functional group of -O
H group, alkoxy key sheet <br/> de alcoholic solution or ultra-fine particles of magnesium fluoride average particle size below 1000Å to the alcohol solution of silicon (Si) having a -OR group (M
gF 2) is formed by coating with a low refractive index base paint by dispersing mixing, the high refractive index layer, -OH group as a functional group,
Ultrafine tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) and ultrafine titanium oxide having an average particle size of 1000 ° or less with respect to an alcohol solution of silicon (Si) alkoxide having an —OR group
(TiO 2 ), ultrafine zirconium oxide (ZrO 2 )
Alternatively, it is characterized by being formed by a coating film of a high-refractive-index base paint obtained by dispersing and mixing any one of ultrafine zinc sulfide (ZnS) or a mixture thereof.

【0026】請求項2の発明では、請求項1の発明にお
ける高屈折率層及び低屈折率層となる塗膜の交互積層に
際し、ある層の塗膜を形成後、その膜面上に次の塗膜を
形成するに先立って下地の塗膜にキュアリングを施した
ことを特徴としている。
According to the second aspect of the present invention, when alternately laminating the coating films to be the high refractive index layer and the low refractive index layer according to the first aspect of the present invention, after forming a coating film of a certain layer, the following film is formed on the film surface. It is characterized in that the underlying coating film is cured before forming the coating film.

【0027】請求項3の発明では、請求項1〜2の発明
において、スピンコート法により各塗膜の形成をおこな
ったことを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, in each of the first and second aspects, each coating film is formed by a spin coating method.

【0028】請求項4の発明では、請求項1〜3のいず
れかに記載の発明において、各塗膜を形成するため、ベ
ース塗料に有機系もしくは無機系の染料又は顔料を分散
混合したことを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects of the present invention, an organic or inorganic dye or pigment is dispersed and mixed in the base paint for forming each coating film. Features.

【0029】また、請求項5の発明では、請求項1〜4
のいずれかに記載の発明において、各ベース塗料に導電
性フィラーとして酸化スズ(SnO2 )又は酸化インジ
ウム(In2 3 )等の導電性微粒子を分散混合したこ
とを特徴としている。
According to the fifth aspect of the present invention, the first to fourth aspects are provided.
The invention according to any one of the above, wherein conductive fine particles such as tin oxide (SnO 2 ) or indium oxide (In 2 O 3 ) are dispersed and mixed as conductive fillers in each base paint.

【0030】さらに、請求項6の発明では、請求項5の
発明において、高屈折率ベース塗料にのみ導電性フィラ
ーを分散混合したことを特徴としている。
Further, the invention of claim 6 is characterized in that, in the invention of claim 5, a conductive filler is dispersed and mixed only in the high refractive index base paint.

【0031】[0031]

【作用】上記のように構成した請求項1記載の発明によ
れば、50%以下の光透過率を有するフェース・プレー
トを使用してもフェース・プレート外表面に設けたシリ
コン(Si)のアルコキシドをベースとした2層以上4
層以下の高屈折率層及び低屈折率の組み合わせによる
多層光学干渉膜からなる低反射膜により、フェース・プ
レートの外表面での外光反射が低減され、外光による映
り込み等の影響を効率的にかつ安価な方法で少なくする
ことができる。
According to the present invention, the alkoxide of silicon (Si) provided on the outer surface of the face plate even when a face plate having a light transmittance of 50% or less is used. 2 or more layers based on 4
The low-reflection film consisting of a multilayer optical interference film composed of a combination of a high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer of the number of layers or less reduces the reflection of external light on the outer surface of the face plate, and reduces the effects of reflection from external light. It can be reduced efficiently and inexpensively.

【0032】請求項2記載の発明によれば、キュアリン
グにより、ある層の塗膜をある程度硬化させてから次の
を形成するため塗液を塗布できるので、下地の層
らの溶出現象が起こらないという作用がある。
According to the second aspect of the present invention, after the coating of a certain layer is cured to some extent by curing ,
Since the coating liquid for forming the layer can be applied , there is an effect that the dissolution phenomenon from the underlying layer does not occur.

【0033】請求項3記載の発明によれば、スピンコー
ト法により各塗膜の形成をおこなうので、一定膜厚の塗
膜が形成できるという作用がある。
According to the third aspect of the present invention, since each coating film is formed by the spin coating method, there is an effect that a coating film having a constant film thickness can be formed.

【0034】請求項4記載の発明によれば、ベース塗料
に有機系もしくは無機系の染料または顔料を分散混合す
ることにより、高低屈折率層が着色され、コントラスト
向上に加え、これらの染料や顔料の光学的な光吸収特性
が比較的ブロードであるため、蛍光面の発光のうち、た
とえば、緑色(G)発光の場合、主スペクトル波長の長
波長側のテール部、赤色(R)発光の場合、主スペクト
ル波長の短波長側のサブピーク部がこの光選択吸収膜に
より吸収されて発光色調の改善も同時におこなえる。
According to the fourth aspect of the present invention, by dispersing and mixing a dye or pigment of an organic or inorganic base paint, high and low refractive index layer is colored, contrast
In addition to the improvement, since the optical absorption characteristics of these dyes and pigments are relatively broad, of the phosphor screen emission, for example, green (G) emission, the tail on the long wavelength side of the main spectral wavelength In the case of red (R) light emission, the sub-peak portion on the short wavelength side of the main spectral wavelength is absorbed by the light selective absorption film, and the emission color tone can be improved at the same time.

【0035】請求項5記載の発明によれば、ベース塗料
に導電性フィラーとして酸化スズもしくは酸化インジウ
ム等の導電性微粒子を分散混合することにより、帯電防
止機能が付与されるとともに、屈折率を上げることがで
き、とくに、請求項6記載の発明のように、高屈折率ベ
ース塗料にのみ分散混合することにより、高屈折率層の
屈折率を上げ、相対的に、低屈折率層の屈折率を下げる
ことが可能となり、結果的に、全体として、低反射膜の
光学特性が大幅に改善される。
According to the fifth aspect of the present invention, by dispersing and mixing conductive fine particles such as tin oxide or indium oxide as a conductive filler in the base paint, an antistatic function is provided and the refractive index is increased. In particular, as in the invention according to claim 6, the refractive index of the high refractive index layer is increased by dispersing and mixing only in the high refractive index base paint, and the refractive index of the low refractive index layer is relatively increased. Can be reduced, and as a result, as a whole, the optical characteristics of the low reflection film are greatly improved.

【0036】[0036]

【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図2はこの発明による低反射膜付陰極線管のフェ
ース・プレート部の拡大断面概念図である。フェース・
プレート2 外表面には、一定膜層(d'1)の高屈折率層
10と同じく一定膜厚(d'2)の低屈折率層11の2層
の組み合わせからなる低反射膜12が形成されている。
従来、このような低反射膜12は高屈折率層10として
は、たとえば、酸化チタン(TiO2 )のような高屈折
材料を真空蒸着法等により一定膜厚に形成していた。ま
た、低屈折率層11としても、同様に弗化マグネシウム
(MgF2 )のような低屈折材料を真空蒸着法等により
一定膜厚に形成していた。このような真空蒸着法等によ
る低反射膜は光学的な性能としては、かなり良いものが
得られる。しかしながら、真空蒸着法などの処理コスト
が非常に高く、ディスプレイ・モニタ管等の特殊な用途
には既に一部導入されているが、民生用カラーテレビジ
ョン受像機のような用途への導入は、コスト的に非常に
困難なものがある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 is an enlarged conceptual sectional view of a face plate portion of a cathode ray tube with a low reflection film according to the present invention. Face ・
On the outer surface of the plate 2, a low-reflection film 12 composed of a combination of two layers of a low-refractive-index layer 11 having the same thickness (d' 2 ) as the high-refractive-index layer 10 of the constant film layer (d' 1 ) is formed. Have been.
Conventionally, such a low-reflection film 12 is formed as a high-refractive-index layer 10 by using a high-refractive material such as titanium oxide (TiO 2 ) to a constant thickness by a vacuum deposition method or the like. Similarly, as the low refractive index layer 11, a low refractive material such as magnesium fluoride (MgF 2 ) is formed in a constant thickness by a vacuum deposition method or the like. Such a low-reflection film formed by a vacuum deposition method or the like can provide a very good optical performance. However, the processing cost is very high, such as a vacuum deposition method, although for special applications such as a display monitor tube has been introduced already part, introduction into applications such as people live color television receiver Some are very difficult in terms of cost.

【0037】この点、この発明の場合、高低各屈折率層
ともシリコン(Si)のアルコキシドをベースとした塗
液をフェース・プレートに塗布成膜して形成するので、
コスト的に非常に安価に大量生産をおこなうことが可能
である。
In this regard, in the case of the present invention, since each of the high and low refractive index layers is formed by applying a coating liquid based on silicon (Si) alkoxide to the face plate, it is formed.
Mass production can be performed at a very low cost.

【0038】以下、図2で示す高屈折率層と低屈折率層
の2層の組み合わせからなる低反射膜12について具体
的に説明する。まず、フェース・プレート2の外表面を
十分クリーニングした後、従来の帯電防止光選択吸収膜
の形成に使用したシリコン(Si)のアルコキシドのア
ルコール溶液に帯電防止用の導電性フィラー及び着色用
の染料又は顔料を分散混合させた塗液に対し、更に塗膜
の高屈折率化をはかるために、平均粒径が400Åの超
微粒子酸化チタン(TiO2 )を一定量混合して高屈折
率塗液とし、従来と同様にスピンコート法により一定膜
厚(d'1) でフェース・プレート2外表面に塗布成膜し
て高屈折率層10とした。
Hereinafter, the low-reflection film 12 composed of a combination of a high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer shown in FIG. 2 will be specifically described. First, after the outer surface of the face plate 2 is sufficiently cleaned, a conductive filler for antistatic and a dye for coloring are added to an alcohol solution of silicon (Si) alkoxide used for forming the conventional antistatic light selective absorption film. Alternatively, in order to further increase the refractive index of the coating film, a predetermined amount of ultrafine titanium oxide (TiO 2 ) having an average particle diameter of 400 ° is mixed with the coating liquid in which the pigment is dispersed and mixed, and a high refractive index coating liquid is mixed. A high-refractive-index layer 10 was formed by applying a film having a constant thickness (d ′ 1 ) on the outer surface of the face plate 2 by spin coating in the same manner as in the prior art.

【0039】この高屈折率層10は図2のフェース・プ
レート部の拡大断面概念図で示すように、多孔質シリカ
膜7の中に有機系もしくは無機系の染料又は顔料粒子8
と導電性フィラー粒子9に加え、超微粒子酸化チタン
(TiO2 )13が分散している。超微粒子酸化チタン
(TiO2 )13を加えない状態では、この膜の屈折率
は1.50〜1.54で、ほぼ下地のフェース・プレー
ト2のガラス材料の屈折率と同じであるが、酸化チタン
(TiO2)は屈折率が約2.35の高屈折率材料であ
るので、この膜に一定量の超微粒子酸化チタン(TiO
2 )13を加えることにより、膜の屈折率を約1.8ま
で上げることができ、高屈折率層10が形成される。こ
のような目的に使用できる高屈折率材料としては、他に
超微粒子の酸化タンタル(Ta2 5 )、酸化ジルコニ
ウム(ZrO2 )、硫化亜鉛(ZnS)等があり、これ
らの混合物でもよい。また、これらの超微粒子の平均粒
径としては、1000Å以下、好ましくは、300Å以
下にすることが屈折率を効果的に上げる点及び形成され
た膜の均一性の点より好ましい。
The high-refractive-index layer 10 includes organic or inorganic dye or pigment particles 8 in a porous silica film 7 as shown in an enlarged schematic sectional view of the face plate portion in FIG.
And ultrafine titanium oxide (TiO 2 ) 13 are dispersed in addition to the conductive filler particles 9 and the conductive filler particles 9. When ultrafine titanium oxide (TiO 2 ) 13 is not added, the refractive index of this film is 1.50 to 1.54, which is almost the same as the refractive index of the glass material of the underlying face plate 2. Since titanium (TiO 2 ) is a high refractive index material having a refractive index of about 2.35, a certain amount of ultrafine titanium oxide (TiO 2 )
2 ) By adding 13, the refractive index of the film can be increased to about 1.8, and the high refractive index layer 10 is formed. Other high refractive index materials that can be used for such purposes include ultrafine tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), zinc sulfide (ZnS), and the like, and mixtures thereof. The average particle size of these ultrafine particles is preferably 1000 ° or less, more preferably 300 ° or less, from the viewpoint of effectively increasing the refractive index and the uniformity of the formed film.

【0040】このようにして、塗布・成膜された高屈折
率層10は加熱炉によりキュアリングがおこなわれる。
これは塗膜をある程度硬化させて高屈折率層10上に低
屈折率層11を形成するために低屈折率塗液を塗布して
も下地の高屈折率層10からの溶出現象が起こらないよ
うにするためである。この場合のキュアリングの条件と
しては、80℃の温度で20分間保持した。このキュア
リングとしては、加熱のみではなく、紫外線や化学薬品
等を使用することも可能である。
The high refractive index layer 10 thus coated and formed is cured by a heating furnace.
This is because even if a low-refractive-index coating solution is applied to cure the coating film to some extent and form the low-refractive-index layer 11 on the high-refractive-index layer 10, the elution phenomenon from the underlying high-refractive-index layer 10 does not occur. That's why. In this case, the curing was performed at a temperature of 80 ° C. for 20 minutes. As this curing, it is possible to use not only heating but also ultraviolet rays and chemicals.

【0041】つぎに、キュアリングが終わった高屈折率
層10上にシリコン(Si)のアルコキシドのアルコー
ル溶液に帯電防止用の導電性フィラー及び着色用の染料
又は顔料を分散混合させた塗液に対し、さらに塗膜の低
屈折率化をはかるために、平均粒径が300Åの超微粒
子弗化マグネシウム(MgF2 )を一定量混合して低屈
折率塗液とし、高屈折率層10形成時と同様にスピンコ
ート法により一定膜厚(d'2)で高屈折率層10上に塗
布成膜して低屈折率層11とした。
Next, a coating liquid obtained by dispersing and mixing a conductive filler for antistatic and a coloring dye or pigment in an alcohol solution of alkoxide of silicon (Si) on the high refractive index layer 10 after curing is completed. On the other hand, in order to further lower the refractive index of the coating film, a fixed amount of ultrafine magnesium fluoride (MgF 2 ) having an average particle diameter of 300 ° is mixed to form a low refractive index coating solution, and the high refractive index layer 10 is formed. In the same manner as described above, a low-refractive-index layer 11 was formed by applying a film on the high-refractive-index layer 10 with a constant film thickness (d ′ 2 ) by spin coating.

【0042】この低屈折率層11は図2のフェース・プ
レート部の拡大断面概念図で示すように、多孔質シリカ
膜7の中に有機系もしくは無機系の染料又は顔料粒子8
と導電性フィラー粒子9に加え、超微粒子弗化マグネシ
ウム(MgF2 )14が分散している。超微粒子弗化マ
グネシウム(MgF2 )14を加えない状態では、この
膜の屈折率は1.50〜1.54であるが、弗化マグネ
シウム(MgF2 )自体は屈折率が約1.38の低屈折
率材料であるので、この膜に一定量の超微粒子弗化マグ
ネシウム(MgF2 )を加えることにより膜の屈折率を
約1.42まで下げることができ、低屈折率層11が形
成される。
The low refractive index layer 11 has organic or inorganic dye or pigment particles 8 in the porous silica film 7 as shown in the enlarged schematic sectional view of the face plate portion in FIG.
And ultra-fine magnesium fluoride (MgF 2 ) 14 are dispersed in addition to the conductive filler particles 9 and the conductive filler particles 9. In a state without addition of ultrafine particles of magnesium fluoride (MgF 2) 14, but this refractive index of the film is from 1.50 to 1.54, magnesium fluoride (MgF 2) itself is a refractive index of about 1.38 Since it is a low refractive index material, the refractive index of the film can be reduced to about 1.42 by adding a certain amount of ultrafine magnesium fluoride (MgF 2 ) to this film, and the low refractive index layer 11 is formed. You.

【0043】このような目的に使用する超微粒子弗化マ
グネウシム(MgF2 )の平均粒径としては1000Å
以下、好ましくは300Å以下にすることが屈折率を効
果的に下げる点及び形成された膜の均一性の点より望ま
しい。
The average particle size of the ultra-fine magnesium fluoride (MgF 2 ) used for such a purpose is 1000Å.
Below, preferably 300 ° or less is desirable from the viewpoint of effectively lowering the refractive index and the uniformity of the formed film.

【0044】このようにしてフェース・プレート2上に
各々一定膜厚で形成された高屈折率層10と低屈折率層
11からなる低反射膜12は、加熱炉により、たえと
ば、175℃の温度で30分間保持して膜の焼き付け処
理をおこなうことにより得られる。この焼き付け処理は
膜の光学特性の安定化及び膜強度向上のためにおこなわ
れる。
The low-reflection film 12 composed of the high-refractive-index layer 10 and the low-refractive-index layer 11 formed on the face plate 2 in a constant thickness in this manner is heated to, for example, 175 ° C. by a heating furnace. At a temperature of 30 minutes for baking the film. This baking process is performed for stabilizing the optical characteristics of the film and improving the film strength.

【0045】多層光学干渉膜からなる低反射膜の膜構成
としては、ほぼ1/4波長の光学的厚さを有する低屈折
率層をL、ほぼ1/4波長の光学的厚さを有する高屈折
率層をHとし、ガラス基板を(S)とする2層の場合
は、(S)−H−L及び(S)−2H−Lが基本である
ことはよく知られている。3〜4層構造のときは、組み
合わせは少し複雑にはなるが、基本的には詳記HとLの
組み合わせとなる。
As the film configuration of the low reflection film composed of the multilayer optical interference film, a low refractive index layer having an optical thickness of approximately 1 / wavelength is L, and a high refractive index layer having an optical thickness of approximately 4 wavelength is used. It is well known that (S) -HL and (S) -2HL are basic in the case of two layers in which the refractive index layer is H and the glass substrate is (S). In the case of a three- to four-layer structure, the combination is slightly complicated, but basically a combination of the detailed description H and L.

【0046】上記図2で示した膜構成は(S)−H−L
の場合にあたり、各々の膜厚d'1及びd'2の最適化がお
こなわれる。図1の(イ)は陰極線管のフェース・プレ
ートそのままあるいはその外表面に従来の帯電防止光選
択吸収膜を形成した場合の表面分光反射率を示し、可視
光領域で約4%の値を示す。図1の(ロ)は、本実施例
1の場合の帯電防止光選択吸収型の低反射膜(2層)の
表面分光反射率を示し、可視光領域平均で1.2%にま
で低下する。
The film configuration shown in FIG. 2 is (S) -HL
In the case of ( 1 ), the respective film thicknesses d ′ 1 and d ′ 2 are optimized. FIG. 1A shows the surface spectral reflectance when the conventional antistatic light selective absorption film is formed on the face plate of the cathode ray tube as it is or on the outer surface thereof, and shows a value of about 4% in the visible light region. . FIG. 1B shows the surface spectral reflectance of the anti-static light selective absorption type low reflection film (two layers) in the case of the first embodiment, which is reduced to 1.2% in the visible light region average. .

【0047】図6の(m')〜(p')は陰極線管のフェー
ス・プレート2外表面に本実施例1による低反射膜を設
けた場合の反射光の強さ(E1 、E2 )及び表面反射の
割合「〔E1 /(E1 +E2 )〕×100」を従来と同
様に示すものであり、同条件の従来の場合(m)〜
(p)と比較して表面反射外光の割合は従来の場合の
40%にまで低下しており、大幅な改善がなされている
ことがわかる。
(M ') to (p') of FIG. 6 show the intensity of the reflected light (E 1 , E 2 ) when the low reflection film according to the first embodiment is provided on the outer surface of the face plate 2 of the cathode ray tube. ) And the ratio of surface reflection “[E 1 / (E 1 + E 2 )] × 100” are shown in the same manner as in the prior art, and the (m) 〜
Compared with (p), the ratio of external light reflected from the surface is reduced to about 40% of that in the conventional case, and it can be seen that significant improvement has been made.

【0048】実施例2 図3は高屈折率層10と低屈折率層11との4層の組み
合わせにより形成した低反射膜12の膜構成を示す本発
明による低反射膜付陰極線管のフェース・プレート部の
拡大断面概念図である。フェース・プレート2の外表面
には、一定膜厚(d"1),( d"3)の高屈折率層10と同
じく一定膜厚(d"2),( d"4)の低屈折率層11の4層
の組み合わせからなる低反射膜12が形成されている。
これらの塗膜形成は実施例1で述べられたものと同様な
材料及びプロセスによりおこなわれる。
Embodiment 2 FIG. 3 shows a face structure of a cathode ray tube with a low reflection film according to the present invention, showing a film configuration of a low reflection film 12 formed by combining four layers of a high refractive index layer 10 and a low refractive index layer 11. It is an expanded sectional conceptual diagram of a plate part. The outer surface of the face plate 2, a constant thickness (d "1), (d " also constant thickness between the high refractive index layer 10 of 3) (d "2), (d" low index 4) A low reflection film 12 composed of a combination of four layers 11 is formed.
These coatings are formed using the same materials and processes as those described in Example 1.

【0049】図1の(ハ)は本実施例2の場合の帯電防
止光選択吸収型の低反射膜(4層)の表面分光反射率を
示し、可視光領域平均で0.5%にまで低下する。可視
光領域全体で大きく表面分光反射率を低下させるという
点で、4層品は2層品よりも非常に優れているといえ
る。図6の(m”)〜(p”)は陰極線管のフェース・
プレート2外表面に、本実施例2による低反射膜を設け
た場合の反射光の強さ(E1 ,E2 )及び表面反射の割
合「〔E1 /(E1 +E2 )〕×100」を従来と同様
に示すものであり、同条件の従来の場合(m)〜
(p)と比較して表面反射外光の割合は従来の場合の
17%にまで低下しており、前述の実施例1に比べても
大幅な改善がおこなわれている。
FIG. 1C shows the surface spectral reflectance of the antistatic light selective absorption type low-reflection film (four layers) in the case of the second embodiment, which is up to 0.5% in the visible light region average. descend. It can be said that the four-layer product is much superior to the two-layer product in that the surface spectral reflectance is greatly reduced in the entire visible light region. (M ") to (p") of FIG.
The intensity (E 1 , E 2 ) of reflected light and the ratio of surface reflection “[E 1 / (E 1 + E 2 )] × 100” when the low reflection film according to the second embodiment is provided on the outer surface of the plate 2. "the is indicative a conventional manner in the case of the conventional same conditions (m) ~
Compared with (p), the ratio of surface reflected extraneous light is reduced to about 17% of the conventional case, which is a great improvement as compared with the first embodiment.

【0050】実施例3 図4は実施例1の場合と同様に高屈折率層10と低屈折
率層11との2層の組み合わせにより形成した改良され
た低反射率12の膜構成を示す本発明による低反射膜付
陰極線管のフェース・プレート部の拡大断面概念図であ
る。フェース・プレート2の外表面には、一定膜厚(d
1)の高屈折率層10と同じく一定膜厚(d2 )の低屈折
率層11が形成されている。この場合、実施例1と異な
り、導電性フィラー粒子9は高屈折率層10にのみ、有
機系もしくは無機系の染料又は顔料粒子8は低屈折率層
11にのみ分散混合されている。
Embodiment 3 FIG. 4 shows an improved low reflectivity 12 film configuration formed by combining two layers of a high refractive index layer 10 and a low refractive index layer 11 as in the case of the first embodiment. FIG. 4 is an enlarged conceptual sectional view of a face plate portion of a cathode ray tube with a low reflection film according to the present invention. The outer surface of the face plate 2 has a constant thickness (d
A low refractive index layer 11 having a constant thickness (d 2 ) is formed in the same manner as the high refractive index layer 10 of 1 ). In this case, unlike the first embodiment, the conductive filler particles 9 are dispersed and mixed only in the high refractive index layer 10, and the organic or inorganic dye or pigment particles 8 are dispersed and mixed only in the low refractive index layer 11.

【0051】このような膜構造にした場合、導電性フィ
ラー粒子9は元来、非常に高い屈折率を有しているの
で、高屈折率層10については導電性フィラー粒子9の
濃度が上がり、この膜の屈折率そのものも、実施例1の
場合の約1.8に対して約1.95まで上げることがで
きる。同様に、低屈折率層11についても屈折率の高い
導電性フィラー粒子9が存在しないので、膜の屈折率そ
のものも実施例1の場合の約1.42に対して約1.4
0まで下げることができる。このため、低反射膜の光学
特性は大幅に改善される。図1の(ニ)は本実施例3の
場合の帯電防止光選択吸収型の低反射膜(2層)の表面
分光反射率を示し、可視光領域平均で0.8%にまで低
下する。ちなみに、実施例1の2層品の場合は表面分光
反射率は可視光領域平均で約1.2%であった。
With such a film structure, the conductive filler particles 9 originally have a very high refractive index, so that the concentration of the conductive filler particles 9 in the high refractive index layer 10 increases. The refractive index of the film itself can be increased to about 1.95 from about 1.8 in the first embodiment. Similarly, since the conductive filler particles 9 having a high refractive index do not exist in the low refractive index layer 11, the refractive index of the film itself is about 1.4 compared to about 1.42 in the first embodiment.
Can be reduced to zero. Therefore, the optical characteristics of the low reflection film are greatly improved. FIG. 1D shows the surface spectral reflectance of the antistatic light selective absorption type low reflection film (two layers) in the case of the third embodiment, which is reduced to 0.8% in the visible light region average. Incidentally, in the case of the two-layer product of Example 1, the surface spectral reflectance was about 1.2% in the visible light region average.

【0052】図6の(m"')〜(p"')は陰極線管のフ
ェース・プレート2外表面に本実施例3による低反射膜
を設けた場合の反射光の強さ(E1 ,E2 )及び表面反
射の割合「〔E1 /(E1 +E2 )〕×100」を従来
と同様に示すものであり、実施例1の2層品の場合
(m')〜(p')に比較して表面反射外光の割合は実施例
1の場合の約70%にまで低下しており、より一層の改
善がなされている。
(M "') to (p"') of FIG.
Low reflection film according to the third embodiment on the outer surface of the base plate 2
The intensity of the reflected light (E1 , ETwo ) And surface anti
The rate of shooting "[E1 / (E1 + ETwo )] × 100 ”
In the case of the two-layer product of Example 1,of
As compared with (m ′) to (p ′), the ratio of external light reflected from the surface isExample
In case of 1It has been reduced to about 70%,
Good is being done.

【0053】この実施例のような場合は低屈折率層11
については、超微粒子弗化マグネシウム(MgF2 )1
4を入れなくても、ある程度の低屈折率(約1.45)
が実現できるので、低屈折率ベース塗料としては、シリ
コン(Si)のアルコキシドのアルコール溶液を使用す
ることも可能である。
In the case of this embodiment, the low refractive index layer 11 is used.
About ultrafine magnesium fluoride (MgF 2 ) 1
Even if 4 is not added, a certain low refractive index (about 1.45)
Therefore, it is also possible to use an alcohol solution of an alkoxide of silicon (Si) as the low refractive index base paint.

【0054】実施例4 図5は実施例2の場合と同様に高屈折率層10と低屈折
率層11との4層の組み合わせにより形成した改良され
た低反射膜12の膜構成を示す本発明による低反射膜付
陰極線管のフェース・プレート部の拡大断面概念図であ
る。この場合も実施例3で示したのと同じ方法により実
施例2の場合よりも高屈折率層10の屈折率はより高
く、低屈折率層11の屈折率はより低く設定できるの
で、低反射膜12の光学特性が大幅に改善される。
Embodiment 4 FIG. 5 is a diagram showing a film configuration of an improved low reflection film 12 formed by combining four layers of a high refractive index layer 10 and a low refractive index layer 11 similarly to the case of the second embodiment. FIG. 4 is an enlarged conceptual sectional view of a face plate portion of a cathode ray tube with a low reflection film according to the present invention. In this case, the refractive index of the high-refractive-index layer 10 can be set higher and the refractive index of the low-refractive-index layer 11 can be set lower than in the case of the second embodiment by the same method as that described in the third embodiment. The optical properties of the film 12 are greatly improved.

【0055】図1の(ホ)は実施例4の場合の帯電防止
光選択吸収型の低反射膜(4層)の表面分光反射率を示
し、可視光領域平均で0.25%にまで低下させること
ができる。
FIG. 1E shows the surface spectral reflectance of the anti-static light selective absorption type low reflection film (four layers) in the case of Example 4, which is reduced to 0.25% in the visible light region average. Can be done.

【0056】なお、上記実施例1〜4では、帯電防止選
択吸収型の低反射膜を主体として述べたが、本発明はこ
れに限定されることなく、50%以下の光透過率を有す
るフェース・プレート2外表面に単に帯電防止機能だけ
しか持たない膜、また、単に光選択吸収機能だけしか持
たない膜、あるいは更に、これら両方の機能を持たず、
単に低反射機能だけしか持たない膜を形成する場合にも
同様に適用できる。
In the first to fourth embodiments, the antistatic selective absorption type low reflection film is mainly described. However, the present invention is not limited to this, and the face having a light transmittance of 50% or less is not limited to this. A film having only an antistatic function on the outer surface of the plate 2, a film having only a light selective absorption function, or a film having neither of these functions;
The same applies to the case of forming a film having only a low reflection function.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、50%以下の光透過率を有するフェース・プレート
を使用してもフェース・プレートの外表面に設けられた
シリコン(Si)のアルコキシドをベースとして、この
中に超微粒子の高屈折材料又は低屈折材料を分散して形
成した2層以上4層以下の高屈折率層及び低屈折率層の
組み合わせによる多層光学干渉膜からなる低反射膜によ
りフェース・プレート外表面での外光反射が低減され、
外光による映り込み等の影響が少なく、高品質の低反射
膜付陰極線管を安価な方法で大量に得ることができると
いう効果がある。
As described above, according to the present invention, even when a face plate having a light transmittance of 50% or less is used, the alkoxide of silicon (Si) provided on the outer surface of the face plate is used. And a low-reflection layer composed of a combination of at least two and no more than four high-refractive-index layers and a low-refractive-index layer formed by dispersing ultrafine high-refractive material or low-refractive material therein. The film reduces external light reflection on the outer surface of the face plate,
There is an effect that a large amount of a high quality cathode ray tube with a low reflection film can be obtained by an inexpensive method with little influence of reflection from outside light.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】陰極線管のフェース・プレート部及び低反射膜
の分光反射率を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing spectral reflectances of a face plate portion and a low reflection film of a cathode ray tube.

【図2】2層式低反射膜の拡大断面概念図である。FIG. 2 is an enlarged conceptual sectional view of a two-layer low reflection film.

【図3】4層式低反射膜の拡大断面概念図である。FIG. 3 is an enlarged conceptual sectional view of a four-layer low-reflection film.

【図4】改良された2層式低反射膜の拡大断面概念図で
ある。
FIG. 4 is an enlarged conceptual sectional view of an improved two-layer low-reflection film.

【図5】改良された4層式低反射膜の拡大断面概念図で
ある。
FIG. 5 is an enlarged conceptual sectional view of an improved four-layer low-reflection film.

【図6】陰極線管のフェース・プレート外表面の反射の
程度を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the degree of reflection on the outer surface of the face plate of the cathode ray tube.

【図7】光選択吸収膜付陰極線管の蛍光面部分の拡大概
略断面図である。
FIG. 7 is an enlarged schematic sectional view of a fluorescent screen portion of a cathode ray tube with a light selective absorption film.

【図8】陰極線管の蛍光面部分の拡大概略断面図であ
る。
FIG. 8 is an enlarged schematic sectional view of a fluorescent screen portion of a cathode ray tube.

【図9】帯電防止光選択吸収膜の拡大断面概念図であ
る。
FIG. 9 is an enlarged conceptual sectional view of an antistatic light selective absorption film.

【図10】陰極線管のフェース部等の分光透過率分布を
示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a spectral transmittance distribution of a face portion and the like of a cathode ray tube.

【図11】帯電防止光選択吸収膜付陰極線管の構造を示
す図である。
FIG. 11 is a view showing the structure of a cathode ray tube with an antistatic light selective absorption film.

【図12】陰極線管のフェース・プレート部の表面電位
の変化を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a change in surface potential of a face plate portion of a cathode ray tube.

【図13】表面反射測定及び評価用の白熱灯の発光スペ
クトル分布を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing an emission spectrum distribution of an incandescent lamp for surface reflection measurement and evaluation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 帯電防止光選択吸収膜付陰極線管 2 フェース・プレート 3 帯電防止光選択吸収膜 4 BGR3色蛍光体層 5 メタルバック膜 6 黒色光吸収膜 7 多孔質シリカ膜 8 有機系もしくは無機系の染料又は顔料粒子 9 導電性フィラー粒子 10 高屈折率層 11 低屈折率層 12 低反射膜 13 超微粒子酸化チタン(TiO2 ) 14 超微粒子弗化マグネシウム(MgF2 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cathode ray tube with antistatic light selective absorption film 2 Face plate 3 Antistatic light selective absorption film 4 BGR three color phosphor layer 5 Metal back film 6 Black light absorption film 7 Porous silica film 8 Organic or inorganic dye or Pigment particles 9 Conductive filler particles 10 High refractive index layer 11 Low refractive index layer 12 Low reflection film 13 Ultrafine titanium oxide (TiO 2 ) 14 Ultrafine magnesium fluoride (MgF 2 )

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 50%以下の光透過率を有する陰極線管
のフェース・プレート部に、シリコン(Si)のアルコ
キシドをベースとした2層以上4層以下の高屈折率層及
び低屈折率層の交互積層組合わせによる多層光学干渉膜
からなる低反射膜を形成した低反射膜付陰極線管であっ
て、上記低屈折率層は、官能基として−OH基,−OR
基を有するシリコン(Si)のアルコキシドのアルコー
ル溶液もしくはこのアルコール溶液に平均粒径が100
0Å以下の超微粒子弗化マグネシウム(MgF2 )を分
散混合してなる低屈折率ベース塗料による塗膜で形成
し、高屈折率層は、官能基として−OH基,−OR基を
有するシリコン(Si)のアルコキシドのアルコール溶
液に対し、平均粒径が1000Å以下の超微粒子酸化タ
ンタル(Ta25 )、超微粒子酸化チタン(Ti
2 )、超微粒子酸化ジルコニウム(ZrO2 )もしく
は超微粒子硫化亜鉛(ZnS)のうちのいずれか1つ又
はこれらの混合物を分散混合してなる高屈折率ベース塗
料の塗膜により形成したものであることを特徴とする低
反射膜付陰極線管。
1. A high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer of two to four layers based on silicon (Si) alkoxide are provided on a face plate portion of a cathode ray tube having a light transmittance of 50% or less. What is claimed is: 1. A cathode ray tube provided with a low-reflection film having a low-reflection film formed of a multilayer optical interference film formed by an alternate lamination combination, wherein the low-refractive-index layer has a functional group of -OH group, -OR
Alcohol solution of silicon (Si) alkoxide having a group or an alcohol solution having an average particle size of 100
A high-refractive-index layer is formed by coating a low-refractive-index base paint obtained by dispersing and mixing ultrafine magnesium fluoride (MgF 2 ) having a particle size of 0 ° or less. Ultrafine tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) and ultrafine titanium oxide (Ti) having an average particle size of 1000 ° or less with respect to an alcohol solution of an alkoxide of Si)
O 2 ), one of ultrafine zirconium oxide (ZrO 2 ) or ultrafine zinc sulfide (ZnS), or a mixture of these, dispersed and mixed, and formed by a coating film of a high refractive index base paint. A cathode ray tube provided with a low reflection film.
【請求項2】 高屈折率層及び低屈折率層となる塗膜の
交互積層に際し、ある層の塗膜を形成後、その膜面上に
次の塗膜を形成するに先立って下地の塗膜にキュアリン
グを施した請求項1記載の低反射膜付陰極線管。
2. When alternately laminating coating films to be a high-refractive index layer and a low-refractive index layer, after forming a coating film of a certain layer, a base coat is formed before forming a next coating film on the film surface. The cathode ray tube with a low reflection film according to claim 1, wherein the film is cured.
【請求項3】 スピンコート法により各塗膜の形成をお
こなった請求項1〜2のいずれかに記載の低反射膜付陰
極線管。
3. The cathode ray tube with a low reflection film according to claim 1, wherein each coating film is formed by a spin coating method.
【請求項4】 各塗膜を形成するためのベース塗料に、
有機系もしくは無機系の染料又は顔料を分散混合した請
求項1〜3のいずれかに記載の低反射膜付陰極線管。
4. A base paint for forming each coating film,
The cathode ray tube with a low reflection film according to any one of claims 1 to 3, wherein an organic or inorganic dye or pigment is dispersed and mixed.
【請求項5】 各ベース塗料に導電性フィラーとして酸
化スズ(SnO2 )又は酸化インジウム(In2 3
等の導電性微粒子を分散混合した請求項1〜4のいずれ
かに記載の低反射膜付陰極線管。
5. A base paint containing tin oxide (SnO 2 ) or indium oxide (In 2 O 3 ) as a conductive filler.
The cathode ray tube with a low reflection film according to any one of claims 1 to 4, wherein conductive fine particles such as the above are dispersed and mixed.
【請求項6】 高屈折率ベース塗料にのみ導電性フィラ
ーを分散混合した請求項5記載の低反射膜付陰極線管。
6. The cathode ray tube with a low reflection film according to claim 5, wherein a conductive filler is dispersed and mixed only in the high refractive index base paint.
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