JP2002060373A

JP2002060373A - ジベンゾイルメタン誘導体及び紫外線吸収剤

Info

Publication number: JP2002060373A
Application number: JP2000287735A
Authority: JP
Inventors: Yoshikazu Kamezono; 芳和亀園
Original assignee: Yoshitomi Fine Chemicals Ltd
Current assignee: Yoshitomi Fine Chemicals Ltd
Priority date: 2000-08-17
Filing date: 2000-08-17
Publication date: 2002-02-26

Abstract

(57)【要約】【課題】ＵＶ−Ｂ域およびＵＶ−Ａ域の全紫外線
域において優れた吸収能を有する新規ジベンゾイルメタ
ン誘導体を提供することである。【解決手段】下記一般式で表されるジベンゾイルメタン
誘導体。【化１】〔式中、Ａ及びＢは同一または互いに異なって、【化２】（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ同一または互いに異な
る水素または炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖アルキ
ル基）または【化３】（式中、Ｃは水素または−ＯＲ^３であり、Ｒ^３はそれぞ
れ水素または炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖アルキ
ル基）である〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規なジベンゾイル
メタン誘導体、及びこれからなる紫外線吸収剤、並びに
これを配合してなる化粧品としての用途に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】地表に到達する紫外線の波長範囲は２９
０〜４００ｎｍであり、生物への作用の違いより２９０
〜３２０ｎｍをＵＶ−Ｂ、３２０〜４００ｎｍをＵＶ−
Ａと分類されている。このうち、ＵＶ−Ｂは、人の皮膚
に対し急性の紅斑作用（サンバーン）や皮膚の結合組織
を変性させ、早期老化、皮膚癌、光線角化症などの皮膚
障害の発生に関係しているといわれている。一方、ＵＶ
−ＡはＵＶ−Ｂより作用は緩慢であるものの、その皮膚
透過量は多く、即時黒化のみならず持続的な色素沈着と
真皮組織変性を伴う光加齢変化を誘発するばかりでなく
ＵＶ−Ｂによる紅斑作用を増強することが知られてい
る。このようにＵＶ−Ｂ及びＵＶ−Ａは、いずれも皮膚
にとって好ましいものではなく、これを防御する紫外線
吸収剤が数多く開発されている。例えば、化粧品原料基
準第二版注解，薬事日報社（１９８７）及び第二版追補
注解，薬事日報社（１９８７）や化粧品汎用原料集第二
版，薬事日報社（１９８９）に記載されている紫外線吸
収剤の主なものを化学構造別に分類すると、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のパラアミノ
安息香酸系、ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシ
ル等のケイ皮酸系、２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン等のベンゾフェノン系、サリチル酸ホモメン
チル等のサリチル酸系、その他として２−（２−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールや４−
ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
等がある。このうち、パラアミノ安息香酸系、ケイ皮酸
系、サリチル酸系の紫外線吸収剤は、ＵＶ−Ｂ域に吸収
波長をもち、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジ
ベンゾイルメタンはＵＶ−Ａ域に吸収波長をもつ。ベン
ゾフェノン系紫外線吸収剤及び２−（２−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールはＵＶ−Ｂ域
のみならず、ＵＶ−Ａ域にも吸収波長もつがその吸収能
は相対的に低い。

【０００３】このように、主な紫外線吸収剤は、その吸
収波長がＵＶ−Ｂ域もしくはＵＶ−Ａ域のいずれか一方
に限られるか、又はＵＶ−Ｂ域及びＵＶ−Ａ域の両方の
紫外線を吸収したとしても吸収能が低い等の問題があっ
た。

【本発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、Ｕ
Ｖ−Ｂ域からＵＶ−Ａ域に至る全紫外線域において優れ
た吸収能を有する新規ジベンゾイルメタン誘導体、及び
これからなる紫外線吸収剤、並びにこれを配合してなる
化粧品を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は、下記一般式
で示されるジベンゾイルメタン誘導体がＵＶ−Ｂ域およ
びＵＶ−Ａ域を含む全紫外線領域で優れた吸収能を有す
ることを見出し、本発明を完成した。

【０００５】すなわち、本発明は、下記一般式で表され
るジベンゾイルメタン誘導体

【化４】〔式中、Ａ及びＢは同一または互いに異なって、

【化５】（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ同一または互いに異な
る水素または炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖アルキ
ル基）または

【化６】（式中、Ｃは水素または−ＯＲ^３であり、Ｒ^３はそれぞ
れ水素または炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖アルキ
ル基）〕、及びこれからなる紫外線吸収剤、並びにこれ
を配合してなる化粧品としての用途に関するものであ
る。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のジベンゾイルメタン誘導体は、下記一般式で表
される。

【化７】〔式中、Ａ及びＢは同一または互いに異なって、

【化８】（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ同一または互いに異な
る水素または炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖アルキ
ル基）または

【化９】（式中、Ｃは水素または−ＯＲ^３であり、Ｒ^３はそれぞ
れ水素または炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖アルキ
ル基）〕式中におけるＡとＢは互いに同一または異なってもよい
が、製造の容易さから同一であるものが望ましい。式中
におけるＲ^１とＲ^２は互いに同一または異なってもよい
が、原料の入手の容易さから同一であるものが望まし
い。

【０００７】式中におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３がアルキル
基である場合、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖アル
キル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、イソヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシ
ル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられるが、
これらのアルキル基に限定するものではない。

【０００８】一般式によって表される化合物の具体例と
しては、４，４’−ビス（４−アミノベンゾイルオキ
シ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ジメチ
ルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，
４’−ビス（４−ジエチルアミノベンゾイルオキシ）ジ
ベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ジプロピルア
ミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’
−ビス（４−ジイソプロピルアミノベンゾイルオキシ）
ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ジ−ｎ−ブ
チルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、
４，４’−ビス（４−ジイソブチルアミノベンゾイルオ
キシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ジ−
ｓｅｃ−ブチルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイル
メタン、４，４’−ビス（４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルア
ミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’
−ビス（４−ジペンチルアミノベンゾイルオキシ）ジベ
ンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ジイソペンチル
アミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，
４’−ビス（４−ジネオペンチルアミノベンゾイルオキ
シ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ジヘキ
シルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、
４，４’−ビス（４−ジヘプチルアミノベンゾイルオキ
シ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ジオク
チルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、
４，４’−ビス［４−ジ−（２−エチルヘキシル）アミ
ノベンゾイルオキシ］ジベンゾイルメタン、４，４’−
ビス（４−ジノニルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾ
イルメタン、４，４’−ビス（４−ジデシルアミノベン
ゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス
（４−ジウンデシルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾ
イルメタン、４，４’−ビス（４−ジドデシルアミノベ
ンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス
（４−ジトリデシルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾ
イルメタン、４，４’−ビス（４−ジテトラデシルアミ
ノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−
ビス（４−ジペンタデシルアミノベンゾイルオキシ）ジ
ベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ジヘキサデシ
ルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，
４’−ビス（４−ジイソヘキサデシルアミノベンゾイル
オキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ジ
ヘプタデシルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメ
タン、４，４’−ビス（４−ジオクタデシルアミノベン
ゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス
（４−ジノナデシルアミノベンゾイルオキシ）ジベンゾ
イルメタン、４，４’−ビス（４−ジエイコシルアミノ
ベンゾイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビ
ス（シンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，
４’−ビス（４−メトキシシンナモイルオキシ）ジベン
ゾイルメタン、４，４’−ビス（４−エトキシシンナモ
イルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４
−プロポキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタ
ン、４，４’−ビス（４−イソプロポキシシンナモイル
オキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ｎ
−ブトキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタン、
４，４’−ビス（４−ジイソブトキシシンナモイルオキ
シ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ｓｅｃ
−ブトキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタン、
４，４’−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブトキシシンナモイル
オキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ペ
ンチルオキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタ
ン、４，４’−ビス（４−イソペンチルオキシシンナモ
イルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４
−ネオペンチルオキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイ
ルメタン、４，４’−ビス（４−ヘキシルオキシシンナ
モイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス
（４−ヘプチルオキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイ
ルメタン、４，４’−ビス（４−オクチルオキシシンナ
モイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス
［４−（２−エチルヘキシルオキシ）シンナモイルオキ
シ］ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ノニル
オキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，
４’−ビス（４−デシルオキシシンナモイルオキシ）ジ
ベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ウンデシルオ
キシシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，
４’−ビス（４−ドデシルオキシシンナモイルオキシ）
ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−トリデシル
オキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，
４’−ビス（４−テトラデシルオキシシンナモイルオキ
シ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ペンタ
デシルオキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタ
ン、４，４’−ビス（４−ヘキサデシルオキシシンナモ
イルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４
−イソヘキサデシルオキシシンナモイルオキシ）ジベン
ゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ヘプタデシルオキ
シシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，４’
−ビス（４−オクタデシルオキシシンナモイルオキシ）
ジベンゾイルメタン、４，４’−ビス（４−ノナデシル
オキシシンナモイルオキシ）ジベンゾイルメタン、４，
４’−ビス（４−エイコシルオキシシンナモイルオキ
シ）ジベンゾイルメタン等が挙げられるが、これらの化
合物に限定するものではない。

【０００９】上記一般式（化１）で表される本発明のジ
ベンゾイルメタン誘導体は、４，４’−ジヒドロキシジ
ベンゾイルメタンとｐ−アミノ安息香酸、各種ｐ−アル
キルアミノ安息香酸類、ケイ皮酸、各種ｐ−アルキルオ
キシケイ皮酸類から選ばれるものとをエステル化するこ
とにより製造することができる。本発明のジベンゾイル
メタン誘導体はＵＶ−Ｂ域およびＵＶ−Ａ域を含む全紫
外線域において優れた吸収能を有することから、紫外線
吸収剤として様々な化粧品に用いることができる。こ
れらの化粧品は、本発明のジベンゾイルメタン誘導体を
必須成分として配合する以外は、通常の化粧品と同様の
方法で製造することができる。

【００１０】本発明の紫外線吸収効果を持つ化粧品は、
必須成分に加え、必要に応じて以下の水性成分、粉末成
分、油成分などを添加することができる。例えば、ワセ
リン、固体パラフィン、液状パラフィン、スクワラン、
クリスタルオイル、セレシン、オゾケライト、モンラン
ロウ等の炭化水素類、シリコン油類、オリーブ油、地ロ
ウ、カルナウバロウ、ラノリン等の植物性もしくは動物
性の油脂類やロウ類、ステアリン酸、パルミチン酸、オ
レイン酸等の高級脂肪酸類、ホホバ油、カルナバワック
ス、合成ゲイロウ、ミツロウ等のエステル類、オリーブ
油、水添ヤシ油、ヒマシ油、牛脂等のトリグリセライド
類、エタノール、イソプロピルアルコールなどの低級ア
ルコール類、セチルアルコール、オレイルアルコール、
ベヘニルアルコール、パルミチルアルコール等の高級ア
ルコール類、グリコール、グリセリン、１，３−ブタン
ジオール、ソルビトール等の多価アルコール類、ステア
リン酸モノグリセライド、ポリオキシエチレン硬化ヒマ
シ油等の非イオン性界面活性剤、ラウリル硫酸ナトリウ
ム、スルホコハク酸エステル等のアニオン性界面活性
剤、アルキルアミン塩酸などのカチオン性界面活性剤、
アルキルベタイン等の両性界面活性剤、パラベン類やグ
ルコン酸クロルヘキシジン等の防腐剤、ビタミンＥ、ブ
チルヒドロキシトルエン等の酸化防止剤、グアーガム、
アラビアゴム、カルボキシビニルポリマー等の増粘剤、
ポリエチレングリコール等の保湿剤、アルカリ、リン酸
塩、クエン酸塩、酢酸塩等のｐＨ調整剤、酸化チタン、
ベンガラ、タルク、粘土鉱物、シリカゲル等の粉体類、
更に、香料、色素、薬効成分、乳化安定剤、キレート
剤、水溶性高分子、油溶性高分子等を挙げることができ
る。

【００１１】更に、紫外線吸収効果の増強のために、ベ
ンゾフェノン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸系紫
外線吸収剤、ケイ皮酸系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫
外線吸収剤、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾールや４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’
−メトキシジベンゾイルメタン等のその他の紫外線吸収
剤を添加することもできる。また、本発明には、植物抽
出物や薬剤も適宜配合することができる。例えば、トウ
ガラシ、ヨウテイ、アロエ、クコ、ヨモギ、カラシ、イ
ネ、マンケイシ、マンネンロウ、コッサイホ、エニシ
ダ、リンドウ、タンジン、ヘチマ、キキョウ、マツ、ク
ジン、ベニバナ、メギ、ビンロウジ、ユーカリ、カゴソ
ウ、モクロウ、ゴジツ、サイコ、チャ、シンイ、ワサ
ビ、ジョテイジ、オランダセンニチ、クチナシ、ウスバ
サイシン、ニンニク、ハッカ、ヨクイニン、キリンケ
ツ、ヤシ、ゴボウ、カンゾウ、ホップ、キク、ラッキョ
ウ、ニラ、ネギ、タマネギ、セネガ、アマチャヅル、マ
ンネンタケ、ジオウ、グリチルリチン酸モノアンモニウ
ム、グリチルレチン酸、グリチルリチン、ゴマ、センキ
ョウ、カシュウ等が挙げられる。

【００１２】紫外線吸収化粧品の剤型には、特に限定さ
れないが、例えば、乳液状、クリーム状、スティック状
等の任意の剤型とすることができ、アイカラー、チーク
カラー、ファンデーション等のメークアップ化粧品に配
合してもよい。また、サンオイル、サンタンローショ
ン、サンスクリーン、日焼け止めリップクリーム、サン
ジェリー、日焼け止めクリーム、日焼け止めローショ
ン、ファンデーションローション、メイクアップベー
ス、ヘアトニックなどに使用することができる。本発明
のジベンゾイルメタン誘導体を紫外線吸収剤として化粧
品に配合する場合、好ましい配合量は０．０１〜１０重
量％であり、０．１〜５重量％であることが更に好まし
い。以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００１３】

【実施例】実施例１４，４’−ビス（４−ジメチルアミノベンゾイルオキ
シ）ジベンゾイルメタンの合成

【化１０】（ａ）４−ジメチルアミノ安息香酸クロライドの合成４−ジメチルアミノ安息香酸８．３ｇ、塩化チオニル
８．９ｇ、ジメチルホルムアミド１滴をトルエン３０ｍ
ｌに加え、８０℃で２時間反応を行った。反応終了後、
溶媒及び過剰の塩化チオニルを留去すると黄色粉末の４
−ジメチルアミノ安息香酸クロライド９．２ｇを得た。（ｂ）４，４’−ビス（４−ジメチルアミノベンゾイル
オキシ）ジベンゾイルメタンの合成４，４’−ジヒドロキシジベンゾイルメタン２．６ｇ及
び上記（ａ）で得られた４−ジメチルアミノ安息香酸ク
ロライド５．５ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解
し、ピリジン５ｍｌを加え、５０℃で４時間反応を行っ
た。反応終了後、溶媒を留去し、ジクロロメタン５００
ｍｌに溶解させ、希塩酸及び水で洗浄後、メタノール５
００ｍｌを加えて晶出させて、４．３ｇの黄色粉末を得
た。融点：２４７〜２５１℃ 元素分析（Ｃ_３３Ｈ_３０Ｎ_２Ｏ_６）として：ＣＨＮその他（Ｏ）計算値（％）７１．９９５．４９５．０９１７．４３実測値（％）７１．４４５．５４４．９６１８．０６

【００１４】実施例２４，４’−ビス（４−ジエチルアミノベンゾイルオキ
シ）ジベンゾイルメタンの合成

【化１１】（ａ）４−ジエチルアミノ安息香酸クロライドの合成実施例１の（ａ）と同様な方法により、４−ジエチルア
ミノ安息香酸９．７ｇから抹茶色粉末の４−ジエチルア
ミノ安息香酸クロライド１０．５ｇを得た。（ｂ）４，４’−ビス（４−ジエチルアミノベンゾイル
オキシ）ジベンゾイルメタンの合成４，４’−ジヒドロキシジベンゾイルメタン２．６ｇ及
び上記（ａ）で得られた４−ジエチルアミノ安息香酸ク
ロライド６．４ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解
し、ピリジン５ｍｌを加え、５０℃で４時間反応を行っ
た。反応終了後、溶媒を留去し、ジクロロメタン３０ｍ
ｌに溶解させ、希塩酸及び水で洗浄後、メタノール３０
０ｍｌを加えて晶出させて、４．０ｇの微黄色粉末を得
た。融点：１８８〜１９１℃ 元素分析（Ｃ_３７Ｈ_３８Ｎ_２Ｏ_６）として：ＣＨＮその他（Ｏ）計算値（％）７３．２５６．３１４．６２１５．８２実測値（％）７２．９１６．２９４．５０１６．３０

【００１５】実施例３４，４’−ビス（４−ジ−ｎ−ブチルアミノベンゾイル
オキシ）ジベンゾイルメタンの合成

【化１２】（ａ）４−ジ−ｎ−ブチルアミノ安息香酸クロライドの
合成実施例１の（ａ）と同様な方法により、４−ジ−ｎ−ブ
チルアミノ安息香酸１２．５ｇから赤褐色固体の４−ジ
−ｎ−ブチルアミノ安息香酸クロライド１３．３ｇを得
た。（ｂ）４，４’−ビス（４−ジ−ｎ−ブチルアミノベン
ゾイルオキシ）ジベンゾイルメタンの合成４，４’−ジヒドロキシジベンゾイルメタン２．６ｇ及
び上記（ａ）で得られた４−ジ−ｎ−ブチルアミノ安息
香酸クロライド８．０ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌ
に溶解し、ピリジン５ｍｌを加え、５０℃で４時間反応
を行った。反応終了後、溶媒を留去し、トルエン１００
ｍｌに溶解させ、希塩酸及び水で洗浄後、溶媒を留去
し、エタノール３００ｍｌで再結して、３．５ｇの微黄
色粉末を得た。融点：１０３〜１０５℃ 元素分析（Ｃ_４５Ｈ_５４Ｎ_２Ｏ_６）として：ＣＨＮその他（Ｏ）計算値（％）７５．１８７．５７３．９０１３．３５実測値（％）７５．０３７．６９３．８３１３．４５

【００１６】実施例４４，４’−ビス（シンナモイルオキシ）ジベンゾイルメ
タンの合成

【化１３】（ａ）ケイ皮酸クロライドの合成実施例１の（ａ）と同様な方法により、ケイ皮酸７．４
ｇから微黄色液体のケイ皮酸クロライド８．３ｇを得
た。（ｂ）４，４’−ビス（シンナモイルオキシ）ジベンゾ
イルメタンの合成４，４’−ジヒドロキシジベンゾイルメタン２．６ｇ及
び上記（ａ）で得られたケイ皮酸クロライド５．０ｇを
テトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解し、ピリジン５ｍｌ
を加え、５０℃で４時間反応を行った。反応終了後、溶
媒を留去し、トルエン４００ｍｌに溶解させ、希塩酸及
び水で洗浄後、冷却することにより晶出させて、３．１
ｇの白色粉末を得た。融点：１９２〜１９４．５℃ 元素分析（Ｃ_３３Ｈ_２４Ｏ_６）として：ＣＨＮその他（Ｏ）計算値（％）７６．７３４．６８０．００１８．５９実測値（％）７６．２０４．７００．００１９．１０

【００１７】実施例５４，４’−ビス（４−メトキシシンナモイルオキシ）ジ
ベンゾイルメタンの合成

【化１４】（ａ）４−メトキシケイ皮酸クロライドの合成実施例１の（ａ）と同様な方法により、４−メトキシケ
イ皮酸８．９ｇからベージュ色ロウ状固体の４−メトキ
シケイ皮酸クロライド９．８ｇを得た。（ｂ）４，４’−ビス（４−メトキシシンナモイルオキ
シ）ジベンゾイルメタンの合成４，４’−ジヒドロキシジベンゾイルメタン２．６ｇ及
び上記（ａ）で得られた４−メトキシケイ皮酸クロライ
ド５．９ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解し、ピ
リジン５ｍｌを加え、５０℃で４時間反応を行った。反
応終了後、ジクロロメタン３Ｌに溶解させ、希塩酸及び
水で洗浄後、溶媒を留去し、エタノール５００ｍｌで晶
出させて５．１ｇの微黄色粉末を得た。融点：１９２．５〜１９５℃ 元素分析（Ｃ_３５Ｈ_２８Ｏ_８）として：ＣＨＮその他（Ｏ）計算値（％）７２．９１４．８９０．００２２．２０実測値（％）７２．９２４．９９０．００２２．０９

【００１８】実施例６４，４’−ビス（４−ｎ−ブトキシシンナモイルオキ
シ）ジベンゾイルメタンの合成

【化１５】（ａ）４−ｎ−ブトキシケイ皮酸クロライドの合成実施例１の（ａ）と同様な方法により、４−ｎ−ブトキ
シケイ皮酸６．６ｇから黄色液体の４−ｎ−ブトキシケ
イ皮酸クロライド７．１ｇを得た。（ｂ）４，４’−ビス（４−ｎ−ブトキシシンナモイル
オキシ）ジベンゾイルメタンの合成４，４’−ジヒドロキシジベンゾイルメタン２．６ｇ及
び上記（ａ）で得られた４−ｎ−ブトキシケイ皮酸クロ
ライド７．１ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解
し、ピリジン５ｍｌを加え、５０℃で４時間反応を行っ
た。反応終了後、ジクロロメタン６００ｍｌに溶解さ
せ、希塩酸及び水で洗浄後、溶媒を留去し、トルエン５
００ｍｌで再結して５．２ｇの白色粉末を得た。融点：２００〜２０２℃ 元素分析（Ｃ_４１Ｈ_４０Ｏ_８）として：ＣＨＮその他（Ｏ）計算値（％）７４．５３６．１００．００１９．３７実測値（％）７４．５３６．０２０．００１９．４５

【００１９】実施例７４，４’−ビス（４−ｎ−ヘキシルオキシシンナモイル
オキシ）ジベンゾイルメタンの合成

【化１６】（ａ）４−ｎ−ヘキシルオキシケイ皮酸クロライドの合
成実施例１の（ａ）と同様な方法により、４−ｎ−ヘキシ
ルオキシケイ皮酸７．５ｇから黄色液体の４−ｎ−ヘキ
シルオキシケイ皮酸クロライド８．０ｇを得た。（ｂ）４，４’−ビス（４−ｎ−ヘキシルオキシシンナ
モイルオキシ）ジベンゾイルメタンの合成４，４’−ジヒドロキシジベンゾイルメタン２．６ｇ及
び上記（ａ）で得られた４−ｎ−ヘキシルオキシケイ皮
酸クロライド８．０ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに
溶解し、ピリジン５ｍｌを加え、５０℃で４時間反応を
行った。反応終了後、ジクロロメタン２００ｍｌに溶解
させ、希塩酸及び水で洗浄後、溶媒を留去し、トルエン
１００ｍｌで再結して４．８ｇの白色粉末を得た。融点：１８８〜１９１℃ 元素分析（Ｃ_４５Ｈ_４８Ｏ_８）として：ＣＨＮその他（Ｏ）計算値（％）７５．４０６．７５０．００１７．８５実測値（％）７５．４２６．６１０．００１７．９７

【００２０】実施例８４，４’−ビス（４−ｎ−オクチルオキシシンナモイル
オキシ）ジベンゾイルメタンの合成

【化１７】（ａ）４−ｎ−オクチルオキシケイ皮酸クロライドの合
成実施例１の（ａ）と同様な方法により、４−オクチルオ
キシケイ皮酸８．３ｇから微黄色液体の４−オクチルオ
キシケイ皮酸クロライド８．８ｇを得た。（ｂ）４，４’−ビス（４−ｎ−オクチルオキシシンナ
モイルオキシ）ジベンゾイルメタンの合成４，４’−ジヒドロキシジベンゾイルメタン２．６ｇ及
び上記（ａ）で得られた４−ｎ−オクチルオキシケイ皮
酸クロライド８．８ｇをテトラヒドロフラン５０ｍｌに
溶解し、ピリジン５ｍｌを加え、５０℃で４時間反応を
行った。反応終了後、クロロホルム３００ｍｌに溶解さ
せ、希塩酸及び水で洗浄後、溶媒を留去し、トルエン１
００ｍｌで再結して、５．４ｇの微黄色粉末を得た。融点：１６５〜１６８℃ 元素分析（Ｃ_４９Ｈ_５６Ｏ_８）として：ＣＨＮその他（Ｏ）計算値（％）７６．１４７．３００．００１６．５６実測値（％）７６．１２７．１６０．００１６．７２

【００２１】実施例９４，４’−ビス［４−（２−エチルヘキシルオキシ）シ
ンナモイルオキシ］ジベンゾイルメタンの合成

【化１８】（ａ）４−（２−エチルヘキシルオキシ）ケイ皮酸クロ
ライドの合成実施例１の（ａ）と同様な方法により、４−（２−エチ
ルヘキシルオキシ）ケイ皮酸８．３ｇから褐色液体の４
−（２−エチルヘキシルオキシ）ケイ皮酸クロライド
８．８ｇを得た。（ｂ）４，４’−ビス［４−（２−エチルヘキシルオ
キシ）シンナモイルオキシ］ジベンゾイルメタンの合成４，４’−ジヒドロキシジベンゾイルメタン２．６ｇ及
び上記（ａ）で得られた４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）ケイ皮酸クロライド８．８ｇをテトラヒドロフラン
５０ｍｌに溶解し、ピリジン５ｍｌを加え、５０℃で４
時間反応を行った。反応終了後、ジクロロメタン５００
ｍｌに溶解させ、希塩酸及び水で洗浄後、溶媒を留去
し、エタノール１Ｌで再結して、６．５ｇの白色粉末を
得た。融点：１０４〜１０７℃ 元素分析（Ｃ_４９Ｈ_５６Ｏ_８）として：ＣＨＮその他（Ｏ）計算値（％）７６．１４７．３００．００１６．５６実測値（％）７６．２２７．１７０．００１６．６１

【００２２】紫外線吸収能の測定上記実施例１から９までの化合物について紫外線吸収ス
ペクトルを測定し、最大吸収波長（λｍａｘ）、最大モ
ル吸光係数（εｍａｘ）及びεが２８０ｎｍ以上で１
０，０００以上である波長域（有効吸収波長域）を求め
た。その結果を表１に示す。また下記比較例化合物につ
いて同様に行った紫外線吸収能の測定結果を同表に併記
する。比較例１：４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシ−
ジベンゾイルメタン比較例２：パラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤である
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル比較例３：ケイ皮酸系紫外線吸収剤であるｐ−メトキ
シケイ皮酸２−エチルヘキシル比較例４：ベンゾフェノン系紫外線吸収剤である２−
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン比較例５：２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール

【００２３】

【表１】

【００２４】実施例１０，１１以下に示すＡ成分を８０℃で加熱攪拌する。その後、Ａ
成分にＢ成分を攪拌しながら徐々に加え、乳化する。こ
れを攪拌しながら、冷却してクリームを得る。実施例１０実施例１１（Ａ成分）実施例３の化合物３．０重量部実施例９の化合物 − ３．０重量部ステアリン酸４．０重量部４．０重量部ステアリルアルコール４．０重量部４．０重量部モノステアリン酸グリセリン８．０重量部８．０重量部ビタミンＥアセテート０．５重量部０．５重量部エチルパラベン０．３重量部０．３重量部香料０．４重量部０．４重量部（Ｂ成分）１，３−ブタンジオール１０．０重量部１０．０重量部プロピレングリコール８．０重量部８．０重量部グリセリン２．０重量部２．０重量部水酸化カリウム０．４重量部０．４重量部精製水５９．４重量部５９．４重量部実施例１２，１３以下に示すＡ成分を８０℃で加熱攪拌する。その後、Ａ
成分にＢ成分及びＣ成分を攪拌しながら徐々に加え、冷
却してローションを得る。実施例１２実施例１３（Ａ成分）実施例３の化合物２．０重量部実施例９の化合物 − ２．０重量部ミリスチン酸ミリスチル３．０重量部３．０重量部ジペラルゴン酸プロピレン５．０重量部５．０重量部グリコールポリオキシエチレンステアリル３．０重量部３．０重量部エーテル（２０Ｅ．Ｏ．）エチルパラベン０．３重量部０．３重量部香料０．４重量部０．４重量部（Ｂ成分）カーボポール１３４２０．２重量部０．２重量部プロピレングリコール８．０重量部８．０重量部グリセリン３．０重量部３．０重量部精製水７４．９重量部７４．９重量部（Ｃ成分）ポリオキシエチレンヤシ油アルキルアミン（１５Ｅ．Ｏ）０．２重量部０．２重量部

【００２５】

【発明の効果】本発明のジベンゾイルメタン誘導体は、
ＵＶ−Ｂ域およびＵＶ−Ａ域で優れた吸収能を有するこ
とから、例えば化粧品用紫外線吸収剤として有用であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｄ１０４ＺＦターム(参考） 4C083 AB032 AC072 AC122 AC182 AC242 AC352 AC391 AC392 AC422 AC482 AC532 AC551 AC552 AD092 AD662 BB46 CC05 4H006 AA01 AA03 AB12 AB92 BJ50 BP30 BR30 BT36 BU46

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式で表されるジベンゾイルメタ
ン誘導体。【化１】〔式中、Ａ及びＢは同一または互いに異なって、【化２】（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ同一または互いに異な
る水素または炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖アルキ
ル基）または【化３】（式中、Ｃは水素または−ＯＲ^３であり、Ｒ^３はそれぞ
れ水素または炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖アルキ
ル基）である〕
【請求項２】請求項１記載のジベンゾイルメタン誘導体
からなる紫外線吸収剤。
【請求項３】請求項１記載のジベンゾイルメタン誘導体
を配合してなる化粧品。