JP2002058981A - スプレードライヤ装置及びこれを用いた造粒方法 - Google Patents
スプレードライヤ装置及びこれを用いた造粒方法Info
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- JP2002058981A JP2002058981A JP2000252715A JP2000252715A JP2002058981A JP 2002058981 A JP2002058981 A JP 2002058981A JP 2000252715 A JP2000252715 A JP 2000252715A JP 2000252715 A JP2000252715 A JP 2000252715A JP 2002058981 A JP2002058981 A JP 2002058981A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ロータリディスクの直径や回転速度を大きく
したり，チャンバ容積を大きくしたりすることなく、ス
ラリの処理能力を高めることができスプレードライヤ装
置を提供する。 【解決手段】 チャンバ２内にロータリディスクを回転
自在に配置するとともに、該ロータリディスクにスラリ
Ｓを供給するスラリ供給管１２を挿入配置し、該スラリ
供給管１２から供給されたスラリＳを上記ロータリディ
スクの遠心力でもってチャンバ２内に噴霧するようにし
たスプレードライヤ装置において、第１〜第３ロータリ
ディスク１５〜１７を所定間隔をあけて複数段配置す
る。
したり，チャンバ容積を大きくしたりすることなく、ス
ラリの処理能力を高めることができスプレードライヤ装
置を提供する。 【解決手段】 チャンバ２内にロータリディスクを回転
自在に配置するとともに、該ロータリディスクにスラリ
Ｓを供給するスラリ供給管１２を挿入配置し、該スラリ
供給管１２から供給されたスラリＳを上記ロータリディ
スクの遠心力でもってチャンバ２内に噴霧するようにし
たスプレードライヤ装置において、第１〜第３ロータリ
ディスク１５〜１７を所定間隔をあけて複数段配置す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、粉体を溶媒液中に
分散してなるスラリを噴霧乾燥する際に用いられるスプ
レードライヤ装置に関する。
分散してなるスラリを噴霧乾燥する際に用いられるスプ
レードライヤ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、スラリを噴霧乾燥させることに
より造粒物を得る場合、スプレードライヤ装置が広く利
用されている。このスプレードライヤ装置は、スラリか
ら乾燥した造粒物が直接大量に得られること、また造粒
物の流動性が高いこと等の特長を有している。
より造粒物を得る場合、スプレードライヤ装置が広く利
用されている。このスプレードライヤ装置は、スラリか
ら乾燥した造粒物が直接大量に得られること、また造粒
物の流動性が高いこと等の特長を有している。
【０００３】このようなスプレードライヤ装置として、
例えば、図４に示すように、チャンバ５０内に単板のロ
ータリディスク５１を配置するとともに、該ロータリデ
ィスク５１にスラリを供給するノズル５２を挿入配置し
た構造のものがある（特開平５−４００１号公報参
照）。
例えば、図４に示すように、チャンバ５０内に単板のロ
ータリディスク５１を配置するとともに、該ロータリデ
ィスク５１にスラリを供給するノズル５２を挿入配置し
た構造のものがある（特開平５−４００１号公報参
照）。
【０００４】また上記ロータリディスク５１の中心部に
は回転シャフト５３が固定されており、該回転シャフト
５３によりロータリディスク５１を回転駆動するように
なっている。なお、５５はスラリタンクであり、５６は
蒸発したチャンバ５０内の水分を排気するブロアであ
る。
は回転シャフト５３が固定されており、該回転シャフト
５３によりロータリディスク５１を回転駆動するように
なっている。なお、５５はスラリタンクであり、５６は
蒸発したチャンバ５０内の水分を排気するブロアであ
る。
【０００５】そして上記チャンバ５０内に熱風発生器に
より熱風を吹き込むとともに、ロータリディスク５１を
高速回転駆動し、このロータリディスク５１にノズル５
２によりスラリＳを供給する。するとロータリディスク
５１の遠心力によりスラリＳがチャンバ５０内に噴霧さ
れ、該チャンバ５０内を旋回しつつ乾燥され、粉体とな
ってチャンバ５０の底部５０ａに落下し、サイクロン５
４を経て回収される。このようにして得られた造粒物
は、嵩密度が高く、しかも粒子径分布もシャープなもの
となる。
より熱風を吹き込むとともに、ロータリディスク５１を
高速回転駆動し、このロータリディスク５１にノズル５
２によりスラリＳを供給する。するとロータリディスク
５１の遠心力によりスラリＳがチャンバ５０内に噴霧さ
れ、該チャンバ５０内を旋回しつつ乾燥され、粉体とな
ってチャンバ５０の底部５０ａに落下し、サイクロン５
４を経て回収される。このようにして得られた造粒物
は、嵩密度が高く、しかも粒子径分布もシャープなもの
となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
スプレードライヤ装置において、スラリの処理能力をさ
らに高めるには、ロータリディスクの直径を大きくした
り、回転速度を高くしたりすることが考えられる。とこ
ろが、ロータリディスクの直径や回転速度を大きくする
と、チャンバ内での液滴の飛翔が延びることから、チャ
ンバ内壁にスラリが付着し易くなり、製品歩留りを悪化
させるという問題が生じる。このようなスラリの付着を
防止するには、チャンバを大型化して容積を大きくする
しかなく、設備の導入コストが増大するため、現状では
困難である。
スプレードライヤ装置において、スラリの処理能力をさ
らに高めるには、ロータリディスクの直径を大きくした
り、回転速度を高くしたりすることが考えられる。とこ
ろが、ロータリディスクの直径や回転速度を大きくする
と、チャンバ内での液滴の飛翔が延びることから、チャ
ンバ内壁にスラリが付着し易くなり、製品歩留りを悪化
させるという問題が生じる。このようなスラリの付着を
防止するには、チャンバを大型化して容積を大きくする
しかなく、設備の導入コストが増大するため、現状では
困難である。
【０００７】本発明は、上記従来の実情に鑑みてなされ
たもので、ロータリディスクの直径や回転速度を大きく
することなく、処理能力をさらに高めることができ、も
って大量生産に対応できるスプレードライヤ装置及びこ
れを用いた造粒方法を提供することを目的としている。
たもので、ロータリディスクの直径や回転速度を大きく
することなく、処理能力をさらに高めることができ、も
って大量生産に対応できるスプレードライヤ装置及びこ
れを用いた造粒方法を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、チャ
ンバ内にロータリディスクを回転自在に配置するととも
に、該ロータリディスクにスラリを供給するスラリ供給
管を挿入配置し、該スラリ供給管から供給されたスラリ
を上記ロータリディスクの遠心力でもってチャンバ内に
噴霧するようにしたスプレードライヤ装置において、上
記ロータリディスクが所定間隔をあけて複数段をなすよ
うに配置されていることを特徴としている。
ンバ内にロータリディスクを回転自在に配置するととも
に、該ロータリディスクにスラリを供給するスラリ供給
管を挿入配置し、該スラリ供給管から供給されたスラリ
を上記ロータリディスクの遠心力でもってチャンバ内に
噴霧するようにしたスプレードライヤ装置において、上
記ロータリディスクが所定間隔をあけて複数段をなすよ
うに配置されていることを特徴としている。
【０００９】請求項２の発明は、請求項１において、上
記各段のロータリディスクが、周方向に配設された柱に
より相互に支持固定されていることを特徴としている。
記各段のロータリディスクが、周方向に配設された柱に
より相互に支持固定されていることを特徴としている。
【００１０】請求項３の発明は、請求項１において、上
記各段のロータリディスクが、外周部に配設された環状
プレートにより相互に支持固定されていることを特徴と
している。
記各段のロータリディスクが、外周部に配設された環状
プレートにより相互に支持固定されていることを特徴と
している。
【００１１】請求項４の発明は、請求項３において、上
記各環状プレートに、スラリを噴出する噴霧孔が設けら
れていることを特徴としている。
記各環状プレートに、スラリを噴出する噴霧孔が設けら
れていることを特徴としている。
【００１２】請求項５の発明は、請求項１ないし４の何
れかにおいて、上記各段のロータリディスクにスラリ供
給管がそれぞれ独立して配置されていることを特徴とし
ている。
れかにおいて、上記各段のロータリディスクにスラリ供
給管がそれぞれ独立して配置されていることを特徴とし
ている。
【００１３】請求項６の発明は、請求項１ないし５の何
れかにおいて、上記各段のロータリディスクがドーナツ
状のものからなり、該各ロータリディスクの内円側の周
縁に供給したスラリが外部に溢れ出るのを防止する堰が
設けられていることを特徴としている。
れかにおいて、上記各段のロータリディスクがドーナツ
状のものからなり、該各ロータリディスクの内円側の周
縁に供給したスラリが外部に溢れ出るのを防止する堰が
設けられていることを特徴としている。
【００１４】請求項７の発明は、請求項１ないし６の何
れかに記載のスプレードライヤ装置を用いてスラリを噴
霧することにより造粒を行なうことを特徴とする造粒方
法である。
れかに記載のスプレードライヤ装置を用いてスラリを噴
霧することにより造粒を行なうことを特徴とする造粒方
法である。
【００１５】
【発明の作用効果】請求項１の発明にかかるスプレード
ライヤ装置によれば、ロータリディスクを所定の間隔を
あけて複数段をなすように配置したので、各段のロータ
リディスクからスラリを噴霧することにより、大量の液
滴を噴霧処理することができ、ロータリディスクの直径
や回転速度を大きくしたり，チャンバの容積を大きくし
たりすることなく、処理能力を向上できる。これにより
製品歩留りを向上できるとともに、嵩密度が高く，しか
も粒子径分布が安定した造粒物の大量生産が可能とな
る。
ライヤ装置によれば、ロータリディスクを所定の間隔を
あけて複数段をなすように配置したので、各段のロータ
リディスクからスラリを噴霧することにより、大量の液
滴を噴霧処理することができ、ロータリディスクの直径
や回転速度を大きくしたり，チャンバの容積を大きくし
たりすることなく、処理能力を向上できる。これにより
製品歩留りを向上できるとともに、嵩密度が高く，しか
も粒子径分布が安定した造粒物の大量生産が可能とな
る。
【００１６】またスラリの処理量に応じてロータリディ
スクの段数を設定するだけでよく、運転条件を容易に設
定することができる。
スクの段数を設定するだけでよく、運転条件を容易に設
定することができる。
【００１７】請求項２の発明では、各段のロータリディ
スクを柱により相互に支持固定したので、各ロータリデ
ィスクの外周の略全域から多量のスラリを噴霧すること
となり、大きな液滴が得られる。
スクを柱により相互に支持固定したので、各ロータリデ
ィスクの外周の略全域から多量のスラリを噴霧すること
となり、大きな液滴が得られる。
【００１８】請求項３の発明では、各段のロータリディ
スクを環状プレートにより相互に支持固定したので、ス
ラリの噴霧量を規制することができる。
スクを環状プレートにより相互に支持固定したので、ス
ラリの噴霧量を規制することができる。
【００１９】請求項４の発明では、環状プレートに噴霧
孔を設けたので、この噴霧孔の大きさを液滴に応じて設
定することにより、噴霧液滴の大きさに対する自由度を
向上できる。
孔を設けたので、この噴霧孔の大きさを液滴に応じて設
定することにより、噴霧液滴の大きさに対する自由度を
向上できる。
【００２０】請求項５の発明では、各段のロータリディ
スクにそれぞれ独立してスラリ供給管を配置したので、
各段のロータリディスクからスラリを均等に噴霧するこ
とができ、より均一な液滴を得ることができる。
スクにそれぞれ独立してスラリ供給管を配置したので、
各段のロータリディスクからスラリを均等に噴霧するこ
とができ、より均一な液滴を得ることができる。
【００２１】請求項６の発明では、各段のロータリディ
スクの内周縁に堰を形成したので、ロータリディスクに
供給したスラリが外部に溢れて下段のロータリディスク
に入り込むのを防止でき、各段から噴霧される液滴をさ
らに均一にすることができる。
スクの内周縁に堰を形成したので、ロータリディスクに
供給したスラリが外部に溢れて下段のロータリディスク
に入り込むのを防止でき、各段から噴霧される液滴をさ
らに均一にすることができる。
【００２２】請求項７の発明では、各段のロータリディ
スクからスラリを噴霧することにより造粒物を製造する
ようにしたので、嵩密度が高く、粒径分布の安定した造
粒物を大量に生産することができる。
スクからスラリを噴霧することにより造粒物を製造する
ようにしたので、嵩密度が高く、粒径分布の安定した造
粒物を大量に生産することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。
図面に基づいて説明する。
【００２４】図１ないし図３は、請求項１，３，４，
５，６の発明の一実施形態によるスプレードライヤ装置
を説明するための図であり、図１はスプレードライヤ装
置の全体構成図、図２，図３は多段ロータリディスクの
斜視図，概略図である。
５，６の発明の一実施形態によるスプレードライヤ装置
を説明するための図であり、図１はスプレードライヤ装
置の全体構成図、図２，図３は多段ロータリディスクの
斜視図，概略図である。
【００２５】図において、１はロータリアトマイザー型
スプレードライヤ装置を示しており、これは、略密閉状
の噴霧乾燥用空間を有するチャンバ２と、セラミック粉
末を水からなる溶媒液中に分散させてなるスラリＳが充
填されたスラリタンク３と、上記チャンバ２内に熱風を
供給する熱風発生器６と、該チャンバ２内に配設された
多段ロータリディスク機構４とを備えている。
スプレードライヤ装置を示しており、これは、略密閉状
の噴霧乾燥用空間を有するチャンバ２と、セラミック粉
末を水からなる溶媒液中に分散させてなるスラリＳが充
填されたスラリタンク３と、上記チャンバ２内に熱風を
供給する熱風発生器６と、該チャンバ２内に配設された
多段ロータリディスク機構４とを備えている。
【００２６】上記チャンバ２の上壁２ａには熱風吹き込
みダクト５が接続されており、該熱風吹き込みダクト５
の上流端に上記熱風発生器６が接続されている。この熱
風発生器６に使用される熱源としては、スラリＳの処理
量に応じて電気を用いたり、あるいはガス，灯油，重油
等を用いたりしている。また熱風の温度としては、単位
時間当たりに噴霧するスラリＳの含水分を蒸発させるの
に必要な熱量に設定されており、例えばスラリＳの溶媒
が水の場合には２００〜３００℃に設定されている。
みダクト５が接続されており、該熱風吹き込みダクト５
の上流端に上記熱風発生器６が接続されている。この熱
風発生器６に使用される熱源としては、スラリＳの処理
量に応じて電気を用いたり、あるいはガス，灯油，重油
等を用いたりしている。また熱風の温度としては、単位
時間当たりに噴霧するスラリＳの含水分を蒸発させるの
に必要な熱量に設定されており、例えばスラリＳの溶媒
が水の場合には２００〜３００℃に設定されている。
【００２７】上記チャンバ２の底部２ｂには取り出し管
７が接続されており、該取り出し管７の下流側には造粒
したセラミック粉末と蒸発した水分とを分離するサイク
ロン８が接続されている。このサイクロン８には蒸発し
た水分を外部に排出する排気ブロア９が介設された排気
管１０と、造粒したセラミック粉末を回収する回収管１
１とが接続されている。この排気温度は１００℃以上に
保持されている。
７が接続されており、該取り出し管７の下流側には造粒
したセラミック粉末と蒸発した水分とを分離するサイク
ロン８が接続されている。このサイクロン８には蒸発し
た水分を外部に排出する排気ブロア９が介設された排気
管１０と、造粒したセラミック粉末を回収する回収管１
１とが接続されている。この排気温度は１００℃以上に
保持されている。
【００２８】上記スラリタンク３の底壁にはスラリパイ
プ１２が接続されており、該スラリパイプ１２はチャン
バ２内に挿入されている。
プ１２が接続されており、該スラリパイプ１２はチャン
バ２内に挿入されている。
【００２９】上記多段ロータリディスク機構４は、円板
状の第１ロータリディスク１５の中心部に垂直上方に伸
びる回転シャフト１８を固定するとともに、該第１ロー
タリディスク１５の上方にドーナツ状の第２，第３ロー
タリディスク１６，１７を所定間隔をあけて配置して構
成されている。この第３ロータリディスク１７の上方に
は蓋としてのリングプレート１９が配設されている。
状の第１ロータリディスク１５の中心部に垂直上方に伸
びる回転シャフト１８を固定するとともに、該第１ロー
タリディスク１５の上方にドーナツ状の第２，第３ロー
タリディスク１６，１７を所定間隔をあけて配置して構
成されている。この第３ロータリディスク１７の上方に
は蓋としてのリングプレート１９が配設されている。
【００３０】上記多段ロータリディスク機構４はチャン
バ２内の上壁２ａ中央部に近接するように配設されてい
る。上記回転シャフト１８の上端部は上壁２ａの内側に
配設固定された支持部材２０により回転自在に支持され
ており、該支持部材２０内に内蔵された不図示の駆動モ
ータにより回転駆動される。
バ２内の上壁２ａ中央部に近接するように配設されてい
る。上記回転シャフト１８の上端部は上壁２ａの内側に
配設固定された支持部材２０により回転自在に支持され
ており、該支持部材２０内に内蔵された不図示の駆動モ
ータにより回転駆動される。
【００３１】上記第２，第３ロータリディスク１５，１
６の内周縁には堰２１，２２が形成されており、この堰
２１，２２によりスラリが下段のロータリディスク１
５，１６に溢れ落ちるのを防止している。
６の内周縁には堰２１，２２が形成されており、この堰
２１，２２によりスラリが下段のロータリディスク１
５，１６に溢れ落ちるのを防止している。
【００３２】上記各段のロータリディスク１５〜１７及
びリングプレート１９の外周は環状プレート２３により
閉塞されており、この各プレート２３により第１〜第３
ロータリディスク１５〜１７及びリングプレート１９は
相互に接続固定されている。上記各環状プレート２３に
は噴霧孔２４が周方向に所定間隔をあけて形成されてい
る。
びリングプレート１９の外周は環状プレート２３により
閉塞されており、この各プレート２３により第１〜第３
ロータリディスク１５〜１７及びリングプレート１９は
相互に接続固定されている。上記各環状プレート２３に
は噴霧孔２４が周方向に所定間隔をあけて形成されてい
る。
【００３３】上記多段ロータリディスク機構４内には３
本のスラリ供給管１２ａ，１２ｂ，１２ｃが回転シャフ
ト１８に沿って挿入配置されており、この各スラリ供給
管１２ａ〜１２ｃは上記スラリパイプ１２を介してスラ
リタンク３に連通接続されている。この各スラリ供給管
１２ａ〜１２ｃはそれぞれ第１〜第３ロータリディスク
１５〜１７に独立して配置されており、これにより各段
のロータリディスク１５〜１７には各スラリ供給管１２
ａ〜１２ｃから自重による自然流下によってスラリＳが
供給されるようになっている。
本のスラリ供給管１２ａ，１２ｂ，１２ｃが回転シャフ
ト１８に沿って挿入配置されており、この各スラリ供給
管１２ａ〜１２ｃは上記スラリパイプ１２を介してスラ
リタンク３に連通接続されている。この各スラリ供給管
１２ａ〜１２ｃはそれぞれ第１〜第３ロータリディスク
１５〜１７に独立して配置されており、これにより各段
のロータリディスク１５〜１７には各スラリ供給管１２
ａ〜１２ｃから自重による自然流下によってスラリＳが
供給されるようになっている。
【００３４】次に上記スプレードライヤ装置によりスラ
リの噴霧乾燥方法について説明する。
リの噴霧乾燥方法について説明する。
【００３５】熱風発生器６から所定温度に加熱された空
気をチャンバ２内に吹き込むとともに、多段ロータリデ
ィスク機構４を所定の回転速度でもって回転駆動する。
この状態でスラリタンク３からスラリＳを各スラリ供給
管１２ａ〜１２ｃを介して各段の第１〜第３ロータリデ
ィスク１５〜１７に自然流下によって供給する。すると
スラリＳは各ロータリディスク１５〜１７の遠心力によ
って噴霧孔２４からチャンバ２内に噴霧され、該チャン
バ２内を熱風とともに旋回しつつ水分が蒸発し、セラミ
ック粉末がチャンバ２の底部２ｂに落下する。この底部
２ｂに落下したセラミック粉末はサイクロン８を介して
回収管１１から回収され、蒸発した水分は排気管１０を
介してブロア９により外部に排出される。このようにし
て嵩密度が高く、粒径分布が安定したセラミック粉末が
得られる。
気をチャンバ２内に吹き込むとともに、多段ロータリデ
ィスク機構４を所定の回転速度でもって回転駆動する。
この状態でスラリタンク３からスラリＳを各スラリ供給
管１２ａ〜１２ｃを介して各段の第１〜第３ロータリデ
ィスク１５〜１７に自然流下によって供給する。すると
スラリＳは各ロータリディスク１５〜１７の遠心力によ
って噴霧孔２４からチャンバ２内に噴霧され、該チャン
バ２内を熱風とともに旋回しつつ水分が蒸発し、セラミ
ック粉末がチャンバ２の底部２ｂに落下する。この底部
２ｂに落下したセラミック粉末はサイクロン８を介して
回収管１１から回収され、蒸発した水分は排気管１０を
介してブロア９により外部に排出される。このようにし
て嵩密度が高く、粒径分布が安定したセラミック粉末が
得られる。
【００３６】本実施形態のスプレードライヤ装置１によ
れば、第１，第２，第３ロータリディスク１５，１６，
１７を所定間隔をあけて配置してなる多段ロータリディ
スク機構４を構成したので、各段のロータリディスク１
５〜１７からスラリＳを噴霧することにより、大量の液
滴を噴霧処理することができ、ロータリディスクの直径
や回転速度を大きくしたり，チャンバ容積を大きくした
りすることなく、処理能力を向上できる。これにより製
品歩留りを向上できるとともに、嵩密度が高く，しかも
粒子径分布が安定したセラミック粉末の大量生産に対応
できる。この場合、スラリの処理量に応じて熱源を設定
することとなる。例えば、処理量が比較的少ない場合に
は電気を用い、これにより処理量が大きい場合には発熱
量の高いガス，灯油等を用いることとなる。
れば、第１，第２，第３ロータリディスク１５，１６，
１７を所定間隔をあけて配置してなる多段ロータリディ
スク機構４を構成したので、各段のロータリディスク１
５〜１７からスラリＳを噴霧することにより、大量の液
滴を噴霧処理することができ、ロータリディスクの直径
や回転速度を大きくしたり，チャンバ容積を大きくした
りすることなく、処理能力を向上できる。これにより製
品歩留りを向上できるとともに、嵩密度が高く，しかも
粒子径分布が安定したセラミック粉末の大量生産に対応
できる。この場合、スラリの処理量に応じて熱源を設定
することとなる。例えば、処理量が比較的少ない場合に
は電気を用い、これにより処理量が大きい場合には発熱
量の高いガス，灯油等を用いることとなる。
【００３７】また本実施形態の多段ロータリディスク機
構４は、スラリＳの処理量に応じてロータリディスクの
段数を容易に設定することが可能であり、運転条件を容
易に設定することができる。
構４は、スラリＳの処理量に応じてロータリディスクの
段数を容易に設定することが可能であり、運転条件を容
易に設定することができる。
【００３８】また本実施形態では、各段のロータリディ
スク１５〜１７にそれぞれ独立してスラリ供給管１２ａ
〜１２ｃを配置したので、各段のロータリディスク１５
〜１７からスラリＳを均等に噴霧することができ、より
均一な液滴を得ることができる。ここで、上記各スラリ
供給管１２ａ〜１２ｃを独立して開閉制御することも可
能であり、このようにした場合には処理量に応じたスラ
リを供給することが可能となり、所望の処理能力を得る
ことができる。
スク１５〜１７にそれぞれ独立してスラリ供給管１２ａ
〜１２ｃを配置したので、各段のロータリディスク１５
〜１７からスラリＳを均等に噴霧することができ、より
均一な液滴を得ることができる。ここで、上記各スラリ
供給管１２ａ〜１２ｃを独立して開閉制御することも可
能であり、このようにした場合には処理量に応じたスラ
リを供給することが可能となり、所望の処理能力を得る
ことができる。
【００３９】さらに第２，第３ロータリディスク１６，
１７の内周縁に堰２１，２２を形成したので、各ロータ
リディスク１６，１７に供給したスラリが下段のロータ
リディスク１６，１５に溢れたりするのを防止でき、各
段から噴霧される液滴を均一にすることができる。
１７の内周縁に堰２１，２２を形成したので、各ロータ
リディスク１６，１７に供給したスラリが下段のロータ
リディスク１６，１５に溢れたりするのを防止でき、各
段から噴霧される液滴を均一にすることができる。
【００４０】本実施形態では、各段のロータリディスク
１５〜１７の外周を環状プレート２３により覆うととも
に、該プレート２３に噴霧孔２４を形成したので、この
噴霧孔２４の大きさを液滴に応じて設定することがで
き、噴霧液滴の大きさに対する自由度を向上できる。
１５〜１７の外周を環状プレート２３により覆うととも
に、該プレート２３に噴霧孔２４を形成したので、この
噴霧孔２４の大きさを液滴に応じて設定することがで
き、噴霧液滴の大きさに対する自由度を向上できる。
【００４１】なお、上記実施形態では、多段ロータリデ
ィスク機構４を３段のロータリディスク１５〜１７によ
り構成した場合を説明したが、本発明は２段，あるいは
４段以上としてもよく、処理量等に応じて設定すればよ
い。
ィスク機構４を３段のロータリディスク１５〜１７によ
り構成した場合を説明したが、本発明は２段，あるいは
４段以上としてもよく、処理量等に応じて設定すればよ
い。
【００４２】また、上記実施形態では、チャンバ２内に
熱風発生器６から熱風を吹き込んでスラリＳを乾燥させ
る場合を例に説明したが、本発明のスプレードライヤ装
置は、真空乾燥によりスラリを乾燥させる場合にも勿論
適用できる。この真空乾燥は、高温雰囲気により変質す
るおそれがある、例えば、医薬品，食品等のスラリや，
あるいはアセトン，シクロヘキサン等の有機溶媒を用い
る場合に有効であり、この真空乾燥を行なう場合にも本
実施形態の多段ロータリディスク機構を採用することに
より上記実施形態と同様の効果が得られる。
熱風発生器６から熱風を吹き込んでスラリＳを乾燥させ
る場合を例に説明したが、本発明のスプレードライヤ装
置は、真空乾燥によりスラリを乾燥させる場合にも勿論
適用できる。この真空乾燥は、高温雰囲気により変質す
るおそれがある、例えば、医薬品，食品等のスラリや，
あるいはアセトン，シクロヘキサン等の有機溶媒を用い
る場合に有効であり、この真空乾燥を行なう場合にも本
実施形態の多段ロータリディスク機構を採用することに
より上記実施形態と同様の効果が得られる。
【００４３】また上記実施形態では、各段のロータリデ
ィスクに自然流下によりスラリを供給するようにした場
合を説明したが、本発明のスプレードライヤ装置は、例
えば定量ポンプでスラリを供給してロータリディスク間
の噴霧量を均一化し、均一な液滴を得るものにも適用で
き、この場合にも上記実施形態と略同様の効果が得られ
る。
ィスクに自然流下によりスラリを供給するようにした場
合を説明したが、本発明のスプレードライヤ装置は、例
えば定量ポンプでスラリを供給してロータリディスク間
の噴霧量を均一化し、均一な液滴を得るものにも適用で
き、この場合にも上記実施形態と略同様の効果が得られ
る。
【００４４】図４は、請求項１，２の発明の一実施形態
によるスプレードライヤ装置を説明するための図であ
る。図中、図２と同一符号は同一又は相当部分を示す。
によるスプレードライヤ装置を説明するための図であ
る。図中、図２と同一符号は同一又は相当部分を示す。
【００４５】本実施形態のスプレードライヤ装置は、円
板状の第１ロータリディスク１５の上方にドーナツ状の
第２、第３ロータリディスク１６，１７を所定の間隔を
あけて配設して構成されており、基本的な構造は上記実
施形態と同様である。
板状の第１ロータリディスク１５の上方にドーナツ状の
第２、第３ロータリディスク１６，１７を所定の間隔を
あけて配設して構成されており、基本的な構造は上記実
施形態と同様である。
【００４６】そして、上記第１〜第３ロータリディスク
１５，１６，１７及びリングプレート１９は、周方向に
配設された各柱３０により相互に支持固定されており、
これの中心部には１本のスラリ供結管３１が挿入配置さ
れている。これにより各段のロータリディスク１５，１
６，１７の外周の略全域からスラリを噴霧するように構
成されている。
１５，１６，１７及びリングプレート１９は、周方向に
配設された各柱３０により相互に支持固定されており、
これの中心部には１本のスラリ供結管３１が挿入配置さ
れている。これにより各段のロータリディスク１５，１
６，１７の外周の略全域からスラリを噴霧するように構
成されている。
【００４７】本実施形態では、各ロータリディスク１５
〜１７を柱３０で相互に支持固定したので、これらの外
周の略全域から多量のスラリを噴霧でき、大きな液滴を
得ることができる。
〜１７を柱３０で相互に支持固定したので、これらの外
周の略全域から多量のスラリを噴霧でき、大きな液滴を
得ることができる。
【図１】請求項１，３，４，５，６の発明の一実施形態
によるスプレードライヤ装置を説明するための全体構成
図である。
によるスプレードライヤ装置を説明するための全体構成
図である。
【図２】上記スプレードライヤ装置の多段ロータリディ
スク機構の一部断面斜視図である。
スク機構の一部断面斜視図である。
【図３】上記多段ロータリディスク機構の断面図であ
る。
る。
【図４】請求項１，２の発明の一実施形態によるスプレ
ードライヤ装置を説明するための多段ロータリディスク
機構の一部断面斜視図である。
ードライヤ装置を説明するための多段ロータリディスク
機構の一部断面斜視図である。
【図５】従来の一般的なスプレードライヤ装置を示す図
である。
である。
１ スプレードライヤ装置 ２ チャンバ １２ａ〜１２ｃ スラリ供給管 １５〜１７ ロータリディスク ２１，２２ 堰 ２３ 環状プレート ２４ 噴霧孔 ３０ 柱 Ｓ スラリ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D076 AA02 AA14 AA24 BA25 CB05 CD22 DA14 DA28 FA04 FA20 FA22 JA03 4G004 EA02 EA07
Claims (7)
- 【請求項１】 チャンバ内にロータリディスクを回転自
在に配置するとともに、該ロータリディスクにスラリを
供給するスラリ供給管を挿入配置し、該スラリ供給管か
ら供給されたスラリを上記ロータリディスクの遠心力で
もってチャンバ内に噴霧するようにしたスプレードライ
ヤ装置において、上記ロータリディスクが所定間隔をあ
けて複数段をなすように配置されていることを特徴とす
るスプレードライヤ装置。 - 【請求項２】 請求項１において、上記各段のロータリ
ディスクが、周方向に配設された柱により相互に支持固
定されていることを特徴とするスプレードライヤ装置。 - 【請求項３】 請求項１において、上記各段のロータリ
ディスクが、外周部に配設された環状プレートにより相
互に支持固定されていることを特徴とするスプレードラ
イヤ装置。 - 【請求項４】 請求項３において、上記各環状プレート
に、スラリを噴出する噴霧孔が設けられていることを特
徴とするスプレードライヤ装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし４の何れかにおいて、上
記各段のロータリディスクにスラリ供給管がそれぞれ独
立して配置されていることを特徴とするスプレードライ
ヤ装置。 - 【請求項６】 請求項１ないし５の何れかにおいて、上
記各段のロータリディスクがドーナツ状のものからな
り、該各ロータリディスクの内円側の周縁に供給したス
ラリが外部に溢れ出るのを防止する堰が設けられている
ことを特徴とするスプレードライヤ装置。 - 【請求項７】 請求項１ないし６の何れかに記載のスプ
レードライヤ装置を用いてスラリを噴霧することにより
造粒を行なうことを特徴とする造粒方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000252715A JP2002058981A (ja) | 2000-08-23 | 2000-08-23 | スプレードライヤ装置及びこれを用いた造粒方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000252715A JP2002058981A (ja) | 2000-08-23 | 2000-08-23 | スプレードライヤ装置及びこれを用いた造粒方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002058981A true JP2002058981A (ja) | 2002-02-26 |
Family
ID=18741915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000252715A Pending JP2002058981A (ja) | 2000-08-23 | 2000-08-23 | スプレードライヤ装置及びこれを用いた造粒方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002058981A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007521136A (ja) * | 2003-12-22 | 2007-08-02 | フィンレイ，ウォーレン，エイチ | 大気噴出凍結乾燥法による粉末形成 |
| KR101015386B1 (ko) * | 2010-07-05 | 2011-02-22 | 오대환 | 분무 건조기 |
| CN102423661A (zh) * | 2010-08-11 | 2012-04-25 | 中外炉工业株式会社 | 粉体制造装置 |
| CN113083156A (zh) * | 2021-04-20 | 2021-07-09 | 安徽理工大学环境友好材料与职业健康研究院(芜湖) | 一种可回收原料的圆盘造粒机 |
| CN114225579A (zh) * | 2021-12-18 | 2022-03-25 | 德州职业技术学院（德州市技师学院） | 一种智能控制的电气自动化除尘装置 |
| CN114749100A (zh) * | 2022-04-27 | 2022-07-15 | 史丹利农业集团股份有限公司 | 高塔复合肥螺旋造粒喷头及造粒机 |
| CN115400438A (zh) * | 2022-10-09 | 2022-11-29 | 湖南金代科技发展有限公司 | 一种酶制剂生产用喷雾干燥结构及其使用方法 |
-
2000
- 2000-08-23 JP JP2000252715A patent/JP2002058981A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US8322046B2 (en) | 2003-12-22 | 2012-12-04 | Zhaolin Wang | Powder formation by atmospheric spray-freeze drying |
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| CN114225579B (zh) * | 2021-12-18 | 2023-07-21 | 德州职业技术学院（德州市技师学院） | 一种智能控制的电气自动化除尘装置 |
| CN114749100A (zh) * | 2022-04-27 | 2022-07-15 | 史丹利农业集团股份有限公司 | 高塔复合肥螺旋造粒喷头及造粒机 |
| CN115400438A (zh) * | 2022-10-09 | 2022-11-29 | 湖南金代科技发展有限公司 | 一种酶制剂生产用喷雾干燥结构及其使用方法 |
| CN115400438B (zh) * | 2022-10-09 | 2024-01-26 | 湖南金代科技发展有限公司 | 一种酶制剂生产用喷雾干燥结构及其使用方法 |
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