JP2002058696A - 光線合一化装置 - Google Patents
光線合一化装置Info
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Abstract
有効な第一面2および第一面2に平行で、第二光線(照
準光線)10が第一光線4の出口5となる位置で当たる
光学的に有効な第二面3を持つ屈折率nの光学的透過性
オプティカルフラットプレート1が、カップリング光線
4、10または光路に向けて配置されており、第一光線
4がプレート1の第一面2に、第二光線10がプレート
1の第二面10に、それぞれプレート1の屈折率nに相
当するブルースター角と同じか殆ど同じ角度αで衝突す
るように配置され、第一光線4および第二光線10は直
線偏光で、第一光線4の偏光面が装置(オプティカルフ
ラットプレート1)の入射面に平行で、第二光線10の
偏光面が装置の入射面に垂直としてある。
Description
いられる、偏光特性を利用した光線合一化装置に関する
ものである。
たは非可視分光域の光源として使用されるレーザは照射
幅が広いので、処置対象部分を照準レーザまたはマーキ
ングレーザで光学的にマーキングする必要がある。その
場合、照準レーザの波長は通常可視分光域にある。作用
レーザ光線は、例えば眼内部の疾患部分への照射に用い
られる。作用レーザ光線と照準レーザ光線は、通常ダイ
クロイック光学素子によって合一化され、および/また
は作用光線からは、特に計測に用いられる光線成分が分
離される。
線分離器または部分反射型オプティカルフラットプレー
トが用いられるが、後者の場合、例えば45度の角度で
当該光路内に配置する。これらの素子の光学的有効面に
は、作用光線の波長域で反射が起きないように誘電コー
ティングが施されている。それに対し、マーキングレー
ザは、当誘電層では高反射率を示し、平面上でカップリ
ングする。光線合一化光学系により発生する作用光線反
射成分は、作用光線の出力調整および出力監視に利用で
きる。
2 C1に、生体組織の照射治療用装置との関係で記述
されている。この装置ではオプティカルフラットプレー
ト形態の光学素子によって照準光線および作用/治療光
線が合一化される。当素子は光線の合一化および作用光
線から少なくとも部分的に光線の分離が行なわれる二つ
の光学有効面を有している。分離された部分光線は受光
器に送り込まれ、そこで信号化されて然るべき後続処置
への調整または監視目的に利用される。
びカップリング時の損量抑制のために、当該光学素子の
光学面を修整しなければならないという点が挙げられ
る。これは、作用光線の波長では表面反射率を抑制し、
同時にマーキング光線の波長では反射率を高めるという
誘電層を設けることによって実現できる。
特性が変化するという欠点を持っている。そのため、周
辺温度または空中湿度の変化によって、層の反射率、散
乱損量の割合および波長特性が明白に変化するという事
態が起こり得る。その結果、現技術水準によるカップリ
ング素子適用の場合では、出力損失、誤測定、監視ミス
が起こる可能性があって、医療機器での適用例では、最
終的に人体への危害の危険性もある。
には、環境条件に対する敏感性を最小限に抑えるため
に、入射光と光学表面とが垂直になるようにしなければ
ならない。しかしこの措置を取った場合、カップリング
素子によって、例えば非点収差などの光学的結像欠陥が
発生するという別な面での欠点が出てくる。しかも依然
として、カップリング素子には製造費を吊り上げるコス
ト高な誘電コーティングが必要である。
明では、従来技術の欠点を一掃させ、偏光特性を利用し
た簡易な構造の光学的カップリング素子によりカップリ
ング損量を最小限に抑えつつ、作用光線/マーキング光
線または照準光線の合一化および光線成分の分離を達成
させる光線合一化装置を創出することを課題としてい
る。
れば、請求項1に記載の手段によって解消される。その
他の請求項には、本発明の詳細事項およびその他の実施
態様が記載されている。第一の光線と第二の光線とが同
じ経路を辿り、同一光路長を持つようにするためには、
好ましくは照準光線もしくはマーキング光線であるべき
第二光線が、オプティカルフラットプレートの第二面か
ら第一光線が外へ出る位置で、第一光線とコリニア結合
するのが好ましい。
への第一光線の入射時に、その反射によって第一分光線
が生成されて、またオプティカルフラットプレートへの
第二光線の衝突時には、その反射によって第二分光線が
生成されるという条件下で、これらの分光線用に、制御
信号生成のための加工ユニットと連結している光検出器
が、それぞれ配置されているのが望ましい。これらの分
岐部分光線によって、作用光線および/または照準光線
の制御、調整に利用可能な対応の制御信号を生成するこ
とができる。
に、偏光、吸収フィルタやホログラフィックフィルタま
たは誘電フィルタを設置するのも有利である。本装置の
主な長所は、オプティカルフラットプレートの光学有効
面に、反射抑制誘電層を設ける必要がないことである。
それにより、一つには、コーティング加工工程に要する
コストと時間がカットでき、また一つには、誘電層との
関係で発生する問題がすべて解消される。これは、周辺
環境条件が変化しても表面特性に変化が起きないことを
意味している。
ラス素材の屈折率、入射角のほかでは、ごく僅かレーザ
の拡散性に依存するだけであり、環境条件の変化にも影
響を受けないことが実証されている。本発明に記載の上
記装置の場合、湿度/温度依存性を最小限に抑えること
に成功している。
より詳しく説明する。本発明に記載の装置の構造原理
を、図1を基に説明する。この装置は、使用波長に対し
て光学的透過性である屈折率nの材質、例えばガラス、
合成樹脂または結晶から成っている光学的に有効な第一
面2と、それに平行で光学的に有効な第二面3とを持つ
オプティカルフラットプレート1を有している。
ていない光源から作用光線として送り込まれてきた第一
光線4が、プレート1の屈折率nに相当するブルースタ
ー角と同じか殆ど同じ角度の入射角αで第一面2に当た
る。界面にブルースター角で入射した光線は、界面で屈
折した分光線と、同一界面で反射した分光線8とに分か
れ、その両分光線が90度の角度を構成する。
プティカルフラットプレート1)の入射面と平面平行な
位置になるこの作用光線4は、オプティカルフラットプ
レート1の面2における屈折により位置移動し、点5か
らオプティカルフラットプレート1の外へ出るが、その
際、入射点6で入射する第一光線4に対して平行な位置
関係で照射対象物の方向へ(矢印7)進行する。このよ
うに偏光する第一光線4の場合、界面からオプティカル
フラットプレート1に入射する分光線成分が同界面で反
射する分光線8に比較して非常に多いので、入射する第
一光線4の大部分はオプティカルフラットプレート1を
透過する。
成分8は受光器9に誘導される。第一光線または作用光
線4は直線偏光で、その偏光面は装置の入射面に平行な
位置にあるので、オプティカルフラットプレート1の透
過時の反射損量は極めて僅かである。作用光線4の屈折
成分がオプティカルフラットプレート1の第二面3から
外へ出て行く位置5で、照準光線またはマーキング光線
となり得る第二光線10をこの光線4にカップリングさ
せるのが好ましい。
ルフラットプレート1で屈折し、プレートを透過して屈
折成分12として第一面の点11からオプティカルフラ
ットプレート1を離れるが、それは同じように、そこか
ら光検出器13に送り込むことが可能である。
における反射率が高くなるように、第二光線10の偏光
面が装置の入射面に垂直になるのが好ましい。オプティ
カルフラットプレート1での反射成分は約20%〜30
%である。残りはプレート1を透過する。
フラットプレート1の側面ポジションは、光学的光線移
動に基づき光線が、プレート1の中央位置(出口5)か
ら外へ出るように選定されている。その場合対称の関係
が成立する条件であることから、前面2および後面3で
の残余光線の反射が互いに妨害し合うことはなく、それ
ぞれの評価可能性が確保される。
面反射光の距離は、光学軸15に対するオプティカルフ
ラットプレート1の角度、オプティカルフラットプレー
ト1の屈折率nおよび厚さに依存する。しかし、プレー
ト1の屈折率nが、ブルースター角を、従ってまた、光
線4に平行に延びる光学軸15に対する角度を決定する
ので、プレートから離れる光線(反射成分8と屈折成分
12)間の距離はプレートの厚さdだけで調整できる。
1における反射率が作用光線入射角の関数として表され
ている。それより、反射率はブルースター角の条件下で
際立って低い最小値をとることがはっきりとわかる。装
置の作業ポイントにおいては、表面反射防止加工という
追加措置を取らなくても、透過成分を除いた作用光線の
残余反射率はそれぞれの光学面につき0.05%という
値が達成される。
直になるように設定する。この場合ブルースター条件が
満たされていないので、第一光線4の反射率に比べると
オプティカルフラットプレート1の屈折率nに依存して
約600〜1000倍の反射率が達成される。これは、
作用光線4を殆ど損量なく透過させ得るオプティカルフ
ラットプレート1形態の光学部材によって、第二光線1
0を効率よくカップリングさせ得るということを意味し
ている。作用光線出力の測定および監視のために受光器
9が、残余反射光線の届く範囲内に設置されている。
用光線出力の測定に誤差が生じるということのないよう
に、計算機または評価ユニット17と連結した受光器の
前に単一または複数のフィルタ16を設置する。透過し
たマーキング光線の出力はフィルタ16によってブロッ
クされるが、一方作用光線4の反射成分8.1は殆ど損
量なく受光器9に達する。
の波長をも透過させて、反面作用光線4の残余分をブロ
ックするという場合もある。このような反射比率の極端
な分化は、ブルースター法則の利用のもとで、厳密な意
味での直線偏光(第一光線4)および照準偏光(第二光
線10)を適用した場合にのみ達成できる。
ットプレートにおける反射率
Claims (5)
- 【請求項1】 − 第一光線4がプレート1の第一面2
に、第二光線10がプレート1の第二面10に、それぞ
れプレート1の屈折率nに相当するブルースター角と同
じか殆ど同じ角度αで当たるように、オプティカルフラ
ットプレート1がカップリング光線4、10または光路
に向けて配置されていること、および− 第一光線4お
よび第二光線10が直線偏光で、第一光線4の偏光面が
装置の入射面に平行で、第二光線10の偏光面が装置の
入射面に垂直であることを特徴とする、 第一光線(作用光線)が当たる光学的に有効な第一面お
よび第一面に平行で、第二光線(照準光線)が第一光線
の出口となる位置で当たる、光学的に有効な第二面を持
つ屈折率nの光学的透過性オプティカルフラットプレー
トを有している、偏光特性の利用された光線合一化装
置。 - 【請求項2】 第二光線10が、オプティカルフラット
プレート1の第二面2において第一光線4の出口5とな
る位置で第一光線4とコリニア結合していることを特徴
とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 第一光線4のオプティカルフラットプレ
ート1への入射時に、その反射によって第一部分光線8
が生成されること、第二光線10のオプティカルフラッ
トプレート1へ当たる時に、その反射によって第二部分
光線8.1が生成されることおよびこれらの部分光線用
に、制御信号生成のための加工ユニット17と連結して
いる光検出器9、13がそれぞれ配置されていることを
特徴とする請求項1および2に記載の装置。 - 【請求項4】 部分光線8、8.1の光路内で光検出器
9、13の前に偏光、吸収フィルタやホログラフィック
フィルタまたは誘電フィルタが設置されていることを特
徴とする請求項3に記載の装置。 - 【請求項5】 第一光線4と第二光線10が直線偏光
で、それらの光線の偏光面が互いに垂直な位置関係であ
ることを特徴とする上記請求項の少なくとも一つに記載
の装置。
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