JP2002056980A - Organic el layer coating fluid, organic el element and manufacturing method of the same - Google Patents
Organic el layer coating fluid, organic el element and manufacturing method of the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、モノクロおよびフ
ルカラー表示可能な有機EL素子(画素)および有機E
Lディスプレイを製造するための有機EL層形成用塗
液、それを用いた有機EL素子および有機ELディスプ
レイならびにその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic EL device (pixel) capable of monochrome and full-color display and an organic EL device.
The present invention relates to a coating liquid for forming an organic EL layer for manufacturing an L display, an organic EL element and an organic EL display using the same, and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、高度情報化に伴い、薄型、低消費
電力、軽量の表示素子への要望が高まる中、低電圧駆
動、高輝度な有機ELディスプレイが注目を集めてい
る。特に、近年の研究開発によって、有機(高分子)系
材料を用いた有機EL素子の発光効率の向上は著しく、
有機ELディスプレイへの実用化が始まっている。2. Description of the Related Art In recent years, demands for thin, low-power-consumption, lightweight display elements have been increasing with the advancement of information, and low-voltage driven, high-brightness organic EL displays have attracted attention. In particular, recent research and development has significantly improved the luminous efficiency of organic EL devices using organic (polymer) materials.
Practical application to organic EL displays has begun.
【0003】有機ELディスプレイを製造するにあたっ
て、高分子材料は塗布によりウエットプロセスで成膜を
行うことが可能であることから低コスト化が見込まれ、
カラー化に向けての発光層のパターニング方法が重要な
研究目的の一つになっており、インクジェット法(特開
平10−12377号およびICPA’99、p16
0)、印刷法(特開平3−269995号および特開平
11−273859号)による発光層のパターン化が報
告されている。[0003] In manufacturing an organic EL display, a polymer material can be formed into a film by a wet process by coating, so that cost reduction is expected.
One of the important research objectives is a patterning method of a light emitting layer for colorization, and an ink jet method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-12377 and ICPA'99, p16
0), and patterning of the light emitting layer by a printing method (JP-A-3-269995 and JP-A-11-273859).
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、インク
ジェット法、印刷法で作製した有機ELディスプレイで
は、表面が平滑な膜を形成することが困難なため、発光
ムラが生じたり、発光効率や寿命がスピンコート法によ
り形成された膜に比べ低下するといった問題が生じてい
た。However, in an organic EL display manufactured by an ink-jet method or a printing method, it is difficult to form a film having a smooth surface. There has been a problem that the film is lower than a film formed by the coating method.
【0005】特開平11−40358号公報および特開
平11−54270号公報には、インクジェット法で有
機EL素子を製造する際に用いる組成物(塗液)が開示
され、その塗液にレベリング剤を添加してもよいと記載
されている。しかしながら、これらの公報には、具体的
にレベリング剤を添加した塗液の実施例の記載はなく、
そのレベリング剤の例示もない。JP-A-11-40358 and JP-A-11-54270 disclose a composition (coating liquid) used for producing an organic EL device by an ink-jet method, and a leveling agent is added to the coating liquid. It is described that it may be added. However, these publications do not specifically describe examples of a coating liquid to which a leveling agent is added,
There is no example of the leveling agent.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題を鑑
み成されたものであり、インクジェット法、印刷法で膜
を形成した際に生じる膜の平坦性に起因する発光ムラ、
発光効率の低下を解消するために鋭意研究を行った結
果、特定量のレベリング剤、特にシリコン系化合物もし
くはフッ素系化合物からなるレベリング剤を含有させる
ことにより、意外にも上記の課題が解消できることを見
出し、本発明を完成するに到った。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has been made in consideration of the above-mentioned problems.
As a result of intensive studies to eliminate the decrease in luminous efficiency, it was found that the above problem can be unexpectedly solved by including a specific amount of a leveling agent, particularly a leveling agent composed of a silicon-based compound or a fluorine-based compound. Heading, the present invention has been completed.
【0007】本発明のように、塗液中に特定量のレベリ
ング剤、特にシリコン系化合物もしくはフッ素系化合物
からなるレベリング剤を含有されていることを特徴とす
る有機EL層形成用塗液を用いて、インクジェット法ま
たは印刷法により、有機EL素子中の少なくとも1層の
有機層を形成することにより、レベリング剤の含有に起
因する発光特性、寿命の低下を引き起こすことがなく、
平坦な表面を有する膜を形成することが可能となり、そ
の結果、膜の平坦性に起因する発光ムラが生じたり、発
光効率や寿命がスピンコート法により形成された膜に比
べ低下するといった問題を解決することが可能となる。[0007] As in the present invention, a coating liquid for forming an organic EL layer, characterized in that the coating liquid contains a specific amount of a leveling agent, especially a leveling agent comprising a silicon compound or a fluorine compound. By forming at least one organic layer in the organic EL element by an ink-jet method or a printing method, the light-emitting characteristics due to the content of the leveling agent and the life are not reduced.
This makes it possible to form a film having a flat surface. As a result, uneven light emission due to the flatness of the film occurs, and the luminous efficiency and life are reduced compared to a film formed by the spin coating method. It is possible to solve.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について図面を参照して説明する。有機EL素子(画
素)としては、図1に示すように、少なくとも基板1上
に、第1電極2、有機EL媒体3および第2電極4から
なる。ここで、有機EL媒体3と第2電極4の側壁には
隔壁5が設けられていることが好ましい。また、コント
ラストの観点から、基板1の外側には偏向板7が設けら
れていることが好ましく、さらに信頼性の観点からは、
第2電極4上には、封止膜または封止基板6が設けられ
ているのが好ましい。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the organic EL element (pixel) includes at least a first electrode 2, an organic EL medium 3, and a second electrode 4 on a substrate 1. Here, it is preferable that partition walls 5 are provided on the side walls of the organic EL medium 3 and the second electrode 4. Further, from the viewpoint of contrast, it is preferable that the deflection plate 7 is provided outside the substrate 1, and further from the viewpoint of reliability,
It is preferable that a sealing film or a sealing substrate 6 is provided on the second electrode 4.
【0009】基板としては、石英基板、ガラス基板など
の無機材料基板、およびポリエチレンテレフタレート基
板、ポリエーテルサルフォン基板、ポリイミド基板など
の樹脂基板が使用可能であるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。As the substrate, an inorganic material substrate such as a quartz substrate and a glass substrate, and a resin substrate such as a polyethylene terephthalate substrate, a polyether sulfone substrate, and a polyimide substrate can be used, but the present invention is not limited to these. Not something.
【0010】有機EL媒体は、少なくとも1層の有機発
光層を有する構造で、有機発光層の単層構造、あるいは
電荷輸送層(電子輸送層および正孔輸送層)と有機発光
層との多層構造であってもよい。ここで、電荷輸送層と
有機発光層はそれぞれ多層構造であってもよい。また、
必要に応じて発光層と電極の間にバッファー層を設けて
もよい。本発明における有機層とは、有機EL媒体を構
成する有機発光層および電荷輸送層を意味する。[0010] The organic EL medium has a structure having at least one organic light emitting layer, a single layer structure of the organic light emitting layer, or a multilayer structure of a charge transport layer (electron transport layer and hole transport layer) and an organic light emitting layer. It may be. Here, each of the charge transport layer and the organic light emitting layer may have a multilayer structure. Also,
If necessary, a buffer layer may be provided between the light emitting layer and the electrode. The organic layer in the present invention means an organic light emitting layer and a charge transport layer that constitute an organic EL medium.
【0011】有機EL媒体は、少なくとも1層が、本発
明による有機EL層形成用塗液を用いて、インクジェッ
ト法または印刷法により形成されるのが好ましいが、多
層構造の場合には他の層は、本発明の方法で形成しても
よいし、例えば、真空蒸着法などのドライプロセスやデ
ィップコート法、スピンコート法などのドライプロセス
のような従来の方法で形成してもよい。It is preferable that at least one layer of the organic EL medium is formed by an ink-jet method or a printing method using the coating liquid for forming an organic EL layer according to the present invention. May be formed by the method of the present invention, or may be formed by a conventional method such as a dry process such as a vacuum deposition method or a dry process such as a dip coating method or a spin coating method.
【0012】次に、本発明の有機EL層形成用塗液につ
いて説明する。本発明の有機EL層形成用塗液は、発光
層形成用塗液と電荷輸送層用塗液に大別できる。Next, the coating liquid for forming an organic EL layer of the present invention will be described. The coating liquid for forming an organic EL layer of the present invention can be broadly classified into a coating liquid for forming a light emitting layer and a coating liquid for forming a charge transport layer.
【0013】発光層形成用塗液は、有機EL素子形成に
用いられる公知の低分子発光材料、高分子発光材料、高
分子発光材料の前駆体、あるいは低分子発光材料と高分
子材料とを両方含んだ材料などの発光材料と、レベリン
グ剤とを溶媒に溶解もしくは分散させたものである。以
下にそれぞれの材料を例示するが、これらは本発明を限
定するものではない。The coating liquid for forming a light emitting layer may be a known low molecular light emitting material, a high molecular light emitting material, a precursor of a high molecular light emitting material, or both a low molecular light emitting material and a high molecular material used for forming an organic EL device. A light-emitting material such as a contained material and a leveling agent are dissolved or dispersed in a solvent. Hereinafter, the respective materials will be exemplified, but these do not limit the present invention.
【0014】公知の低分子発光材料としては、例えば、
トリフェニルブタジエン、クマリン、ナイルレッド、オ
キサジアゾール誘導体、キレート錯体などが挙げられ
る。公知の高分子発光材料としては、例えば、ポリ(2
−デシルオキシ−1,4−フェニレン)[DO−PP
P]、ポリ[2,5−ビス{2−(N,N,N−トリエ
チルアンモニウム)エトキシ}−1,4−フェニレン−
アルト−1,4−フェニレン]ジブロマイド[PPP−
NEt3 +]、ポリ[2−(2’−エチルヘキシルオキ
シ)−5−メトキシ−1,4−フェニレンビニレン]
[MEH−PPV]、ポリ[5−メトキシ(2−プロパ
ノキシサルフォニド)−1,4−フェニレンビニレン]
[MPS−PPV]、ポリ[2,5−ビス(ヘキシルオ
キシ−1,4−フェニレン)(1−シアノビニレン)]
[CN−PPV]、ポリ[2−(2’−エチルヘキシル
オキシ)−5−メトキシ−1,4−フェニレン−(1−
シアノビニレン)][MEH−CN−PPV]、ポリ
(ジオクチルフルオレン)(PDF)などが挙げられ
る。Known low molecular light emitting materials include, for example,
Examples include triphenylbutadiene, coumarin, Nile red, oxadiazole derivatives, chelate complexes and the like. Known polymer light emitting materials include, for example, poly (2
-Decyloxy-1,4-phenylene) [DO-PP
P], poly [2,5-bis {2- (N, N, N-triethylammonium) ethoxy} -1,4-phenylene-
Alto-1,4-phenylene] dibromide [PPP-
NEt 3 +], poly [2- (2'-ethylhexyl oxy) -5-methoxy-1,4-phenylene vinylene]
[MEH-PPV], poly [5-methoxy (2-propanoxysulfonide) -1,4-phenylenevinylene]
[MPS-PPV], poly [2,5-bis (hexyloxy-1,4-phenylene) (1-cyanovinylene)]
[CN-PPV], poly [2- (2′-ethylhexyloxy) -5-methoxy-1,4-phenylene- (1-
Cyanovinylene)] [MEH-CN-PPV], poly (dioctylfluorene) (PDF) and the like.
【0015】また、公知の高分子発光材料の前駆体とし
ては、例えば、ポリ(p−フェニレン)前駆体[Pre
−PPP]、ポリ(p−フェニレンビニレン)前駆体
[Pre−PPV]、ポリ(p−ナフタレンビニレン)
前駆体[Pre−PNV]などが挙げられる。公知の高
分子材料としては、例えば、ポリカーボネート(P
C)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリカ
ルバゾール(PVCz)などが挙げられる。Examples of known polymer light emitting material precursors include, for example, poly (p-phenylene) precursor [Pre
-PPP], poly (p-phenylenevinylene) precursor [Pre-PPV], poly (p-naphthalenevinylene)
Precursor [Pre-PNV] and the like. Known polymer materials include, for example, polycarbonate (P
C), polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbazole (PVCz) and the like.
【0016】レベリング剤としては、シリコン系化合
物、フッ素系化合物、非イオン系界面活性剤、イオン系
界面活性剤、チタネートカップリング剤などを用いるこ
とができ、中でもシリコン系化合物、フッ素系化合物が
好ましい。シリコン系化合物としては、ジメチルシリコ
ーン、メチルシリコーン、フェニルシリコーン、メチル
フェニルシリコーン、アルキル変性シリコーン、アルコ
キシ変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなど
が挙げられ、中でもジメチルシリコーン、メチルフェニ
ルシリコーンが好ましい。フッ素系化合物としては、ポ
リテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライ
ド、フルオロアルキルメタクリレート、パーフルオロポ
リエーテル、パーフルオロアルキルエチレンオキシドな
どが挙げられ、中でもポリテトラフルオロエチレンが好
ましい。レベリング剤としては、より具体的には、信越
シリコーン(株)製のジメチルシロキサン化合物(商品
名:KF96L−1、KF96L−5、KF96L−1
0、KF96L−100)を好適に用いることができ
る。As the leveling agent, a silicon compound, a fluorine compound, a nonionic surfactant, an ionic surfactant, a titanate coupling agent and the like can be used. Among them, a silicon compound and a fluorine compound are preferable. . Examples of the silicon compound include dimethyl silicone, methyl silicone, phenyl silicone, methyl phenyl silicone, alkyl-modified silicone, alkoxy-modified silicone, and polyether-modified silicone. Among them, dimethyl silicone and methyl phenyl silicone are preferable. Examples of the fluorine-based compound include polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, fluoroalkyl methacrylate, perfluoropolyether, and perfluoroalkylethylene oxide. Among them, polytetrafluoroethylene is preferable. As the leveling agent, more specifically, a dimethylsiloxane compound (trade name: KF96L-1, KF96L-5, KF96L-1) manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.
0, KF96L-100) can be suitably used.
【0017】レベリング剤(L)の添加量は、 Lの粘度(cp)×発光材料に対するLの添加量(wt
%)<200 で表される関係式を満たすのが好ましい。通常、レベリ
ング剤の添加量は、発光材料に対して、0.0001〜
30wt%であり、好ましくは0.001〜10wt%
であり、より好ましくは0.1〜5wt%である。The amount of the leveling agent (L) added is: viscosity of L (cp) × the amount of L added to the luminescent material (wt.
%) <200. Usually, the amount of the leveling agent added is 0.0001 to
30 wt%, preferably 0.001 to 10 wt%
And more preferably 0.1 to 5 wt%.
【0018】上述したような発光材料を溶解もしくは分
散させるために用いる溶媒としては、有機層を形成する
際(転写時)の温度における蒸気圧が500Pa以下で
ある溶媒を少なくとも1種類含む溶媒を用いるのが好ま
しい。さらに好ましくは、膜の表面性の観点、有機EL
素子として適した膜厚を実現するためには、蒸気圧が2
50Pa以下である溶媒が特に好ましい。また、異なる
2種類以上の溶媒の混合溶媒を用いる場合には、蒸気圧
が500Pa以下である溶媒を50wt%以上含有され
ていることが好ましい。多層積層膜からなる有機EL媒
体を形成する場合には、接する膜間での材料の混合を防
ぐために、後に形成する層に使用する溶媒は、先に形成
してある層を溶解させないものが好ましい。As a solvent used for dissolving or dispersing the luminescent material as described above, a solvent containing at least one solvent having a vapor pressure of 500 Pa or less at a temperature at the time of forming an organic layer (at the time of transfer) is used. Is preferred. More preferably, from the viewpoint of film surface properties, organic EL
In order to achieve a film thickness suitable for a device, the vapor pressure must be 2
Solvents having a pressure of 50 Pa or less are particularly preferred. When a mixed solvent of two or more different solvents is used, it is preferable to contain 50 wt% or more of a solvent having a vapor pressure of 500 Pa or less. In the case of forming an organic EL medium including a multilayer laminated film, a solvent used for a layer to be formed later is preferably a solvent that does not dissolve a layer formed earlier, in order to prevent mixing of materials between adjacent films. .
【0019】有機層を形成する際の温度における蒸気圧
が500Pa以下である溶媒としては、例えば、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、トリエチレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール
モノエチルエーテル、グリセリン、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキ
サノン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、
オクタン、ノナン、デカン、キシレン、ジエチルベンゼ
ン、トリメチルベンゼン、ニトロベンゼンなどが挙げら
れ、これらの溶媒は2種以上を組み合わせた混合溶媒と
して用いることもできる。Examples of the solvent having a vapor pressure of 500 Pa or less at the temperature for forming the organic layer include, for example, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monomethyl. Ether, triethylene glycol monoethyl ether, glycerin, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexanone, methanol, ethanol, 1-propanol,
Examples thereof include octane, nonane, decane, xylene, diethylbenzene, trimethylbenzene, and nitrobenzene. These solvents can also be used as a mixed solvent of two or more kinds.
【0020】また、発光層形成用塗液には、必要に応じ
て、粘度調整用の添加剤;N,N−ビス−(3−メチル
フェニル)−N,N’−ビス(フェニル)ベンジジン
[TPD]、N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−
N,N’−ジフェニル−ベンジジン[NPD]などの有
機EL用または有機光導電体用の公知の正孔輸送材料;
3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニレン−5−t
−ブチルフェニル−1,2,4−トリアゾール[TA
Z]、トリス(8−ヒドロキシナト)アルミニウム「A
lq3」などの電子輸送材料;アクセプター、ドナーな
どのドーパントなどを添加してもよい。The coating liquid for forming a light emitting layer may contain, if necessary, an additive for adjusting viscosity; N, N-bis- (3-methylphenyl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine [ TPD], N, N'-di (naphthalen-1-yl)-
A known hole transport material for organic EL or organic photoconductor such as N, N'-diphenyl-benzidine [NPD];
3- (4-biphenylyl) -4-phenylene-5-t
-Butylphenyl-1,2,4-triazole [TA
Z], tris (8-hydroxynato) aluminum “A
An electron transporting material such as "lq 3 "; a dopant such as an acceptor or a donor may be added.
【0021】本発明の有機EL層形成用塗液のもう一方
の電荷輸送層形成用塗液は、公知の低分子電荷輸送材
料、高分子電荷輸送材料、高分子電荷輸送材料の前駆
体、あるいは低分子電荷輸送材料と高分子材料とを両方
含んだ材料と、レベリング剤とを溶媒に溶解もしくは分
散させたものである。以下にそれぞれの材料を例示する
が、これらは本発明を限定するものではない。The other coating liquid for forming a charge transport layer of the coating liquid for forming an organic EL layer of the present invention may be a known low molecular charge transport material, polymer charge transport material, precursor of a polymer charge transport material, or A material containing both a low molecular charge transport material and a high molecular material and a leveling agent are dissolved or dispersed in a solvent. Hereinafter, the respective materials will be exemplified, but these do not limit the present invention.
【0022】公知の低分子電荷輸送材料としては、例え
ば、TPD、NPD、オキサジアゾール誘導体などが挙
げられる。公知の高分子電荷輸送材料としては、例え
ば、ポリアニリン(PANI)、3,4−ポリエチレン
ジオキシチオフェン(PEDOT)、ポリカルバゾール
(PVCz)、ポリ(トリフェニルアミン誘導体)(P
oly−TPD)、ポリ(オキサジアゾール誘導体)
(Poly−OXZ)などが挙げられる。また、公知の
高分子電荷輸送材料の前駆体としては、例えば、Pre
−PPV、Pre−PNVなどが挙げられる。公知の高
分子材料としては、例えば、PC、PMMA、PVCz
などが挙げられる。Known low-molecular charge transport materials include, for example, TPD, NPD and oxadiazole derivatives. Known polymer charge transport materials include, for example, polyaniline (PANI), 3,4-polyethylenedioxythiophene (PEDOT), polycarbazole (PVCz), poly (triphenylamine derivative) (P
poly-TPD), poly (oxadiazole derivative)
(Poly-OXZ). Known precursors of the polymer charge transport material include, for example, Pre
-PPV, Pre-PNV and the like. Known polymer materials include, for example, PC, PMMA, PVCz
And the like.
【0023】レベリング剤の添加は、発光材料を含まな
い電荷輸送層においても有効であり、このような場合の
レベリング剤としては、発光層形成用塗液において例示
したような化合物が挙げられ、具体的には旭化成工業
(株)製のレベリング剤(商品名:S−145)を好適
に用いることができる。その添加量は、発光層と同様
に、 Lの粘度(cp)×電荷輸送材料に対するLの添加量
(wt%)<200 で表される関係式を満たすのが好ましい。通常、レベリ
ング剤の添加量は、電荷輸送材料に対して、0.000
1〜30wt%であり、好ましくは0.001〜10w
t%であり、より好ましくは0.1〜5wt%である。The addition of a leveling agent is also effective in a charge transport layer containing no luminescent material. In such a case, examples of the leveling agent include compounds as exemplified in the coating solution for forming a luminescent layer. Specifically, a leveling agent (trade name: S-145) manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. can be suitably used. Like the light emitting layer, the amount of addition preferably satisfies the relational expression represented by L viscosity (cp) × the amount of L added to the charge transporting material (wt%) <200. Usually, the amount of the leveling agent added is 0.000 to the charge transporting material.
1 to 30 wt%, preferably 0.001 to 10 w
t%, more preferably 0.1 to 5 wt%.
【0024】上述したような電荷輸送材料を溶解もしく
は分散させるために用いる溶媒としては、有機層を形成
する際(転写時)の温度における蒸気圧が500Pa以
下である溶媒を少なくとも1種類含む溶媒を用いるのが
好ましい。さらに好ましくは、膜の表面性の観点、有機
EL素子として適した膜厚を実現するためには、蒸気圧
が250Pa以下である溶媒が特に好ましい。また、異
なる2種類以上の溶媒の混合溶媒を用いる場合には、蒸
気圧が500Pa以下である溶媒を50wt%以上含有
されていることが好ましい。有機層を形成する際の温度
における蒸気圧が500Pa以下である溶媒としては、
発光層形成用塗液において例示したような溶媒が挙げら
れる。多層積層膜からなる有機EL媒体を形成する場合
には、接する膜間での材料の混合を防ぐために、後に形
成する層に使用する溶媒は、先に形成してある層を溶解
させないものが好ましい。As a solvent used for dissolving or dispersing the above-described charge transporting material, a solvent containing at least one solvent having a vapor pressure of 500 Pa or less at a temperature at the time of forming an organic layer (at the time of transfer) is used. It is preferably used. More preferably, a solvent having a vapor pressure of 250 Pa or less is particularly preferable in order to realize a film thickness suitable for an organic EL element from the viewpoint of the surface properties of the film. When a mixed solvent of two or more different solvents is used, it is preferable to contain 50 wt% or more of a solvent having a vapor pressure of 500 Pa or less. As the solvent having a vapor pressure of 500 Pa or less at the temperature at which the organic layer is formed,
Examples of the solvent include those exemplified in the light emitting layer forming coating liquid. In the case of forming an organic EL medium including a multilayer laminated film, a solvent used for a layer to be formed later is preferably a solvent that does not dissolve a layer formed earlier, in order to prevent mixing of materials between adjacent films. .
【0025】また、電荷輸送層形成用塗液には、必要に
応じて、発光層形成用塗液において例示したような粘度
調整用の添加剤、アクセプター、ドナーなどのドーパン
トなどを添加してもよい。The coating liquid for forming a charge transporting layer may be added, if necessary, with additives such as viscosity adjusting additives and acceptors and donors as exemplified in the coating liquid for forming a light emitting layer. Good.
【0026】有機EL媒体3を挟持する第1電極2と第
2電極4の材質は、有機ELディスプレイの構成により
選定される。すなわち、有機ELディスプレイにおい
て、基板1が透明基板で、かつ第1電極が透明電極であ
る場合には、有機EL媒体3からの発光が基板1側から
放出されるので、発光効率を高めるために、第2電極4
を反射電極とするか、もしくは第2電極4の有機EL媒
体と隣接しない面に反射膜(図示しない)を設けるのが
好ましい。逆に、第2電極4が透明電極である場合に
は、有機EL媒体3からの発光が第2電極4側から放出
されるので、第1電極2を反射電極とするか、もしくは
第1電極2と基板1との間に反射膜(図示しない)を設
けるのが好ましい。The material of the first electrode 2 and the second electrode 4 sandwiching the organic EL medium 3 is selected according to the configuration of the organic EL display. That is, in the organic EL display, when the substrate 1 is a transparent substrate and the first electrode is a transparent electrode, light emission from the organic EL medium 3 is emitted from the substrate 1 side. , Second electrode 4
Is preferably used as a reflective electrode, or a reflective film (not shown) is provided on a surface of the second electrode 4 not adjacent to the organic EL medium. Conversely, when the second electrode 4 is a transparent electrode, light emission from the organic EL medium 3 is emitted from the second electrode 4 side. It is preferable to provide a reflection film (not shown) between the substrate 2 and the substrate 1.
【0027】透明電極の材質としては、例えば、Cu
I、ITO(インジウム錫酸化物)、SnO2、ZnO
などが挙げられ、反射電極の材質としては、例えば、ア
ルミニウムおよびカルシウムなどの金属、マグネシウム
−銀およびリチウム−アルミニウムなどの合金、マグネ
シウム/銀、マグネシウム/銀のような金属同士の積層
膜、ならびにフッ化リチウム/アルミニウムのような絶
縁体と金属との積層膜などが挙げられるが、特にこれら
に限定されない。As a material of the transparent electrode, for example, Cu
I, ITO (indium tin oxide), SnO 2 , ZnO
Examples of the material of the reflective electrode include metals such as aluminum and calcium, alloys such as magnesium-silver and lithium-aluminum, laminated films of metals such as magnesium / silver and magnesium / silver, and fluorine. Examples thereof include a stacked film of an insulator and a metal such as lithium / aluminum, but are not particularly limited thereto.
【0028】上記の電極材料を用いて基板上もしくは有
機EL媒体上に、第1電極もしくは第2電極を形成す
る。その方法は特に限定されず、スパッタ、EB蒸着、
抵抗加熱蒸着などのドライプロセスが挙げられる。ま
た、上記の電極材料を樹脂中に分散して、印刷法、イン
クジェット法などのウエットプロセスで第1電極もしく
は第2電極を形成することもできる。A first electrode or a second electrode is formed on a substrate or an organic EL medium using the above electrode material. The method is not particularly limited, and sputtering, EB deposition,
A dry process such as resistance heating evaporation is given. Alternatively, the first electrode or the second electrode can be formed by dispersing the above electrode material in a resin and performing a wet process such as a printing method or an inkjet method.
【0029】次に、有機EL素子(画素)の配置につい
て説明する。本発明の有機ELディスプレイは、例え
ば、図2(a)に示されるようにディスプレイの各部分
が異なる発光色をもつエリアから構成されていてもよ
い。また、画素の配置は、図2(b)に示されるような
赤色(R)発光画素8、緑色(G)発光画素9および青
色(B)発光画素10がマトリックス状に配置されたス
トライプ配列が挙げられる。さらに、画素の配置は、図
2(c)、2(d)および2(e)にそれぞれ示される
ようなモザイク配列、デルタ配列およびスクウェア配列
であってもよい。R発光画素8、G発光画素9およびB
発光画素10それぞれの占有面積の割合は、図2(e)
に示されるように、必ずしも1:1:1である必要はな
く、各画素の占有面積は、同一であっても、各画素によ
って異なっていてもよい。Next, the arrangement of the organic EL elements (pixels) will be described. In the organic EL display of the present invention, for example, as shown in FIG. 2 (a), each part of the display may be composed of areas having different emission colors. The pixels are arranged in a stripe array in which red (R) light emitting pixels 8, green (G) light emitting pixels 9, and blue (B) light emitting pixels 10 are arranged in a matrix as shown in FIG. No. Further, the arrangement of the pixels may be a mosaic arrangement, a delta arrangement, and a square arrangement as shown in FIGS. 2 (c), 2 (d) and 2 (e), respectively. R light emitting pixel 8, G light emitting pixel 9 and B
The ratio of the occupied area of each of the light emitting pixels 10 is shown in FIG.
As shown in (1), it is not always necessary to use 1: 1: 1, and the occupied area of each pixel may be the same or different for each pixel.
【0030】異なる発光色をもつ画素間には、発光層の
混じり合いを防止するために隔壁を設けるのが好まし
い。隔壁は、単層構造でも多層構造でもよく、各画素間
に配置されていてもよく、異なる発光色間に配置されて
いてもよい。隔壁の材質は、発光材料、電荷輸送材料や
高分子材料を溶解もしくは分散した溶媒、すなわち発光
層形成用塗液または電荷輸送層形成用塗液の溶媒に不溶
もしくは難溶であるものが好ましい。ディスプレイとし
ての表示品位を向上させる意味で、ブラックマトリック
ス用の材料(例えば、クロムおよび樹脂ブラックなど)
を用いるのが特に好ましい。It is preferable to provide partitions between pixels having different emission colors in order to prevent mixing of the emission layers. The partition wall may have a single-layer structure or a multilayer structure, may be arranged between pixels, or may be arranged between different emission colors. The material of the partition walls is preferably a solvent in which a luminescent material, a charge transporting material or a polymer material is dissolved or dispersed, that is, a material which is insoluble or hardly soluble in a solvent of the luminescent layer forming coating liquid or the charge transporting layer forming coating liquid. Materials for black matrix (for example, chromium and resin black) in order to improve display quality as a display
It is particularly preferred to use
【0031】また、隔壁としては、発光層の混じり合い
を効果的に防止するために、有機EL層形成用塗液の表
面張力よりも小さい臨界表面張力(γc[dyne/c
m])をもつものが好ましい。具体的には、臨界表面張
力の小さい材料を用いて隔壁を形成してもよく、また隔
壁を形成した後、プラズマ処理、UV処理、ガス処理な
どを行うことにより、隔壁の臨界表面張力を小さくして
もよい。The barrier ribs have a critical surface tension (γc [dyne / c) smaller than the surface tension of the coating liquid for forming the organic EL layer in order to effectively prevent mixing of the light emitting layers.
m]) are preferred. Specifically, the partition wall may be formed using a material having a small critical surface tension.After the partition wall is formed, plasma treatment, UV treatment, gas treatment, or the like is performed to reduce the critical surface tension of the partition wall. May be.
【0032】隔壁を形成するための好ましい材料として
は、例えば、ポリ6フッ化プロピレン(γc=16dy
ne/cm)、ポリ4フッ化エチレン(γc=18dy
ne/cm)、ポリ3フッ化エチレン(γc=22dy
ne/cm)、ポジ型レジスト中にKBM7103(商
品名、信越化学工業(株)製、γc=20dyne/c
m)を混合したものなどが挙げられるが、特にこれらに
限定されない。As a preferable material for forming the partition walls, for example, polyhexafluoropropylene (γc = 16 dy)
ne / cm), polytetrafluoroethylene (γc = 18 dy)
ne / cm), polytetrafluoroethylene (γc = 22 dy)
ne / cm), KBM7103 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., γc = 20 dyne / c) in a positive resist
m), but are not particularly limited thereto.
【0033】次に、各画素に対応した第1電極間と第2
電極間の接続方法について説明する。本発明の有機EL
ディスプレイは、例えば、図3(a)に示されるように
第1電極2もしくは第2電極4がそれぞれの画素に独立
の電極としてもよい。また、図3(b)に示されるよう
に有機EL媒体を挟持する第1電極2と第2電極4が共
通の基板1上で互いに直交するストライプ状の電極にな
るように構成されているか、あるいは図3(c)に示さ
れるように第1電極2もしくは第2電極4が薄膜トラン
ジスタ(TFT)11を介して共通の電極に接続されて
いてもよい。図中、12はソースバスライン、13はゲ
ートバスラインをそれぞれ示す。Next, between the first electrode corresponding to each pixel and the second
A connection method between the electrodes will be described. Organic EL of the present invention
In the display, for example, as shown in FIG. 3A, the first electrode 2 or the second electrode 4 may be an independent electrode for each pixel. Also, as shown in FIG. 3B, whether the first electrode 2 and the second electrode 4 sandwiching the organic EL medium are configured to be striped electrodes orthogonal to each other on the common substrate 1. Alternatively, as shown in FIG. 3C, the first electrode 2 or the second electrode 4 may be connected to a common electrode via a thin film transistor (TFT) 11. In the figure, 12 indicates a source bus line, and 13 indicates a gate bus line.
【0034】本発明の有機ELディスプレイは、複数の
画素が隔壁5を介してマトリックス状に配置されてお
り、これらの画素に複数の発光色をもたせることによ
り、フルカラー表示が可能となる。複数の発光色として
は、赤色、緑色および青色の組合せが好ましい。In the organic EL display of the present invention, a plurality of pixels are arranged in a matrix with the partition walls 5 interposed therebetween, and by giving these pixels a plurality of luminescent colors, full-color display is possible. As the plurality of emission colors, a combination of red, green, and blue is preferable.
【0035】次に、本発明による有機EL媒体(有機
層)の形成方法について詳しく説明する。本発明の有機
EL素子の製造方法は、本発明の有機EL層形成用塗液
を用いて、有機EL素子の有機層をインクジェット法ま
たは印刷法で形成する。具体的には、インクジェット法
または印刷法により、発光層用形成用塗液を第1電極上
もしくは電荷輸送層上に形成し、電荷輸送層用形成用塗
液を第1電極上、電荷輸送層上もしくは発光層上に形成
する。Next, a method for forming an organic EL medium (organic layer) according to the present invention will be described in detail. In the method for producing an organic EL device of the present invention, the organic layer of the organic EL device is formed by an inkjet method or a printing method using the coating liquid for forming an organic EL layer of the present invention. Specifically, a coating liquid for forming a light emitting layer is formed on the first electrode or the charge transport layer by an ink jet method or a printing method, and the coating liquid for forming a charge transport layer is formed on the first electrode or the charge transport layer. Over the light-emitting layer.
【0036】インクジェット法は、コンティニアスタイ
プ、オンデマンドタイプのいずれでもよいが、液の吐出
方式は、有機発光材料もしくは有機発光材料の前駆体を
溶解もしくは分散した塗液が熱によって変質するのを防
ぐために、ピエゾ方式が好ましい。本発明のインクジェ
ットには、ディスペンサーおよび超音波スプレイも含ま
れる。The ink-jet method may be either a continuous type or an on-demand type. The liquid discharge method is such that a coating liquid in which an organic luminescent material or a precursor of the organic luminescent material is dissolved or dispersed is deteriorated by heat. To prevent this, the piezo method is preferred. The inkjet of the present invention also includes a dispenser and an ultrasonic spray.
【0037】次に、インクジェット法による有機層の形
成について説明する。図4に示すように、有機層は、イ
ンクジェットプリンティング方式により有機EL層形成
用塗液を吐出することにより形成することができる。一
画素を形成する際には、1液のみの吐出でよく、多液を
同一の場所もしくは異なる場所に吐出させてもよい。有
機LEディスプレイの製造に関しては、液を吐出するノ
ズルは、各発光色毎に異なるノズルを用いることが好ま
しい。また、製造速度を考慮してノズルは、同一の発光
色で複数用いるのが好ましい。Next, formation of the organic layer by the ink jet method will be described. As shown in FIG. 4, the organic layer can be formed by discharging a coating liquid for forming an organic EL layer by an inkjet printing method. When one pixel is formed, only one liquid may be discharged, or multiple liquids may be discharged to the same place or different places. Regarding the manufacture of the organic LE display, it is preferable to use a different nozzle for each emission color as the nozzle for discharging the liquid. Further, it is preferable to use a plurality of nozzles with the same emission color in consideration of the production speed.
【0038】次に、印刷法による有機層の形成について
説明する。印刷法は、転写基板に有機EL層形成用塗液
をつけ、この塗液を基板に転写する方法であり、凸版印
刷、凹版印刷、平版印刷、オフセット印刷法などの従来
の方法が挙げられるが、本発明の方法では特に限定され
ない。しかし、膜厚1μm以下の薄膜を均一に形成する
ためには、凸版印刷、凹版印刷、平版印刷が好ましい。
さらに膜厚1000Å以下の薄膜を均一に形成するため
には、凸版印刷が好ましい。Next, formation of an organic layer by a printing method will be described. The printing method is a method in which a coating liquid for forming an organic EL layer is applied to a transfer substrate, and the coating liquid is transferred to the substrate. Examples thereof include conventional methods such as letterpress printing, intaglio printing, lithographic printing, and offset printing. The method of the present invention is not particularly limited. However, in order to uniformly form a thin film having a thickness of 1 μm or less, letterpress printing, intaglio printing, and lithographic printing are preferable.
In order to uniformly form a thin film having a thickness of 1000 ° or less, letterpress printing is preferable.
【0039】用いられる印刷装置の構造としては、図5
に示されるように、転写基板16を固定するロール部1
7に固定されている転写基板16に、塗液投入口14か
ら投入され、ブレード15を介して塗液18を直接塗布
し、ステージ19上に設置された基板1上の第1電極2
に転写してもよいが、基板1に形成される膜の膜厚を均
一にするためには、図6に示されるように、まず塗液1
8を、塗液を一時保持するロール部20に塗布し、その
ロール部20を別のロール部(転写基板を固定するロー
ル部)17に固定されている転写基板16に転写し、そ
の転写したものを基板1上の第1電極2に転写するのが
好ましい。また、図7に示されるように、まず塗液18
を、塗液を一時保持するロール部20に塗布し、そのロ
ール部20を別のロール部(転写基板を固定するロール
部)17に転写し、さらに転写された塗液18を別のロ
ール部21に固定されている転写基板16に転写し、そ
の転写した塗液18をもう一度ロール部21に転写し、
その後、基板1上の第1電極2に転写することもでき
る。The structure of the printing apparatus used is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, the roll unit 1 for fixing the transfer substrate 16
7 is applied from a coating liquid inlet 14 to a transfer substrate 16 fixed to the coating substrate 7, the coating liquid 18 is directly applied via a blade 15, and the first electrode 2 on the substrate 1 set on the stage 19.
However, in order to make the thickness of the film formed on the substrate 1 uniform, first, as shown in FIG.
8 is applied to a roll section 20 for temporarily holding a coating liquid, and the roll section 20 is transferred to a transfer substrate 16 fixed to another roll section (a roll section for fixing a transfer substrate) 17 and the transfer is performed. It is preferable to transfer the material to the first electrode 2 on the substrate 1. Also, as shown in FIG.
Is applied to a roll section 20 for temporarily holding the coating liquid, the roll section 20 is transferred to another roll section (a roll section for fixing a transfer substrate) 17, and the transferred coating liquid 18 is further transferred to another roll section. The coating liquid 18 is transferred to the transfer substrate 16 fixed to 21, and the transferred coating liquid 18 is transferred to the roll unit 21 again.
Thereafter, it can be transferred to the first electrode 2 on the substrate 1.
【0040】ロール部に固定する転写基板について説明
する。転写基板の材質は、用いる基板の材質により選定
するのが好ましい。基板が樹脂基板の場合には、転写基
板の材質は金属材料、樹脂材料のいずれであってもよい
が、基板が無機材料基板の場合には、転写基板の材質は
基板へのダメージを考慮して、樹脂材料が好ましい。金
属材料としては、銅版などが挙げられ、樹脂材料として
は、APR(製品名、旭化成(株)製)、富士トレリー
フ(製品名、富士フィルム(株)製)が挙げられるが、
本発明はこれらにより限定されない。また、転写パター
ンとしては、単純に凹凸のパターンが形成されていても
よいし、塗液に対して濡れ性の良い部分と悪い部分でパ
ターンが形成されていてもよい(平版でもよい)。The transfer substrate fixed to the roll will be described. The material of the transfer substrate is preferably selected according to the material of the substrate to be used. When the substrate is a resin substrate, the material of the transfer substrate may be either a metal material or a resin material.However, when the substrate is an inorganic material substrate, the material of the transfer substrate is determined in consideration of damage to the substrate. Therefore, a resin material is preferable. Examples of the metal material include a copper plate, and examples of the resin material include APR (product name, manufactured by Asahi Kasei Corporation) and Fuji Trelief (product name, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.).
The present invention is not limited by these. Further, as the transfer pattern, an uneven pattern may be simply formed, or a pattern may be formed in a portion having good wettability with respect to the coating liquid and a portion having poor wettability with the coating liquid (a planographic plate may be used).
【0041】インクジェット法または印刷法により有機
層を形成するときの環境は特に限定されないが、形成さ
れた膜の吸湿、有機材料の変質を考慮して、不活性ガス
中が好ましい。The environment in which the organic layer is formed by the ink jet method or the printing method is not particularly limited, but is preferably in an inert gas in consideration of moisture absorption of the formed film and deterioration of the organic material.
【0042】インクジェット法または印刷法により有機
層を形成した後、残留する溶媒を除去するために、加熱
乾燥を行うのが好ましい。乾燥を行う環境は特に限定さ
れないが、形成された膜の吸湿、有機材料の変質を考慮
して、不活性ガス中が好ましく、また減圧下が好まし
い。After the organic layer is formed by an ink jet method or a printing method, it is preferable to carry out heat drying in order to remove the remaining solvent. The environment in which the drying is performed is not particularly limited, but is preferably in an inert gas and preferably under reduced pressure in consideration of moisture absorption of the formed film and deterioration of the organic material.
【0043】[0043]
【実施例】本発明を実施例および比較例によりさらに具
体的に説明するが、これらの実施例により本発明が限定
されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited by these examples.
【0044】<印刷装置による成膜テスト> (比較例1)発光材料としてのポリ(ジオクチルフルオ
レン)(PDF)1gをトリメチルベンゼン(有機層を
形成する際の温度(28℃)における蒸気圧:247P
a)100mlに溶解して、青色発光層形成用塗液(表
面張力:27.8mN/m)を調製し、得られた塗液の
粘度を測定した。次に、インクジェット装置(ノズル
径:50μm)および凸版印刷装置(アニロックロール
として300線/inch)を用いて、調製した塗液を
ガラス基板に転写し、フィルムを作製した。なお、印刷
に際して、転写基板としてAPR(ショアA硬度55)
を用い、印圧を0.1mmとした。<Film Forming Test by Printing Apparatus> (Comparative Example 1) 1 g of poly (dioctylfluorene) (PDF) as a light emitting material was vaporized with trimethylbenzene (vapor pressure at a temperature (28 ° C. when an organic layer was formed (28 ° C.): 247 P)).
a) Dissolved in 100 ml to prepare a blue light emitting layer forming coating liquid (surface tension: 27.8 mN / m), and the viscosity of the obtained coating liquid was measured. Next, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate using an ink jet device (nozzle diameter: 50 μm) and a letterpress printing device (300 lines / inch as anilox roll) to produce a film. In printing, APR (Shore A hardness 55) is used as a transfer substrate.
And the printing pressure was 0.1 mm.
【0045】作製したフィルムについて、表面性を評価
した。すなわち、5mm間隔でフィルムの膜厚を20点
測定し、その分布と平均値を求めた。得られた結果を、
塗液の粘度と共に表1に示す。The surface properties of the produced films were evaluated. That is, the film thickness was measured at 20 points at 5 mm intervals, and the distribution and average value were determined. The obtained result is
The results are shown in Table 1 together with the viscosity of the coating liquid.
【0046】(実施例1)レベリング剤として、発光材
料のPDF1gに対して0.01wt%に相当する量、
すなわち0.0001gのKF96L−1(信越シリコ
ーン(株)製、表面張力:16.9mN/m、沸点:1
53℃)を、青色発光層形成用塗液に添加する以外は比
較例1と同様にして、青色発光層形成用塗液を調製し
た。レベリング剤の添加前における塗液の粘度を測定し
た。比較例1と同様にして、調製した塗液をガラス基板
に転写し、フィルムを作製し、得られたフィルムについ
て、表面性を評価した。得られた結果を、レベリング剤
の商品名、添加量および粘度、ならびにレベリング剤の
添加前における塗液の粘度と共に表1に示す。(Example 1) As a leveling agent, an amount corresponding to 0.01 wt% with respect to 1 g of PDF of the luminescent material,
That is, 0.0001 g of KF96L-1 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., surface tension: 16.9 mN / m, boiling point: 1)
(53 ° C.) was added to the blue light-emitting layer forming coating liquid, and a blue light-emitting layer forming coating liquid was prepared in the same manner as in Comparative Example 1. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 1, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0047】(実施例2)レベリング剤として、発光材
料のPDF1gに対して0.1wt%に相当する量、す
なわち0.001gのKF96L−1を青色発光層形成
用塗液に添加すること、およびトリメチルベンゼンの代
わりに混合比7:3のトリメチルベンゼン−キシレン混
合溶媒(有機層を形成する際の温度(28℃)における
蒸気圧:トリメチルベンゼン247Pa、キシレン88
0Pa)を用いる以外は比較例1と同様にして、青色発
光層形成用塗液を調製した。レベリング剤の添加前にお
ける塗液の粘度を測定した。比較例1と同様にして、調
製した塗液をガラス基板に転写し、フィルムを作製し、
得られたフィルムについて、表面性を評価した。得られ
た結果を、レベリング剤の商品名、添加量および粘度、
ならびにレベリング剤の添加前における塗液の粘度と共
に表1に示す。(Example 2) As a leveling agent, KF96L-1 was added to the blue luminescent layer forming coating solution in an amount corresponding to 0.1 wt% relative to 1 g of PDF of the luminescent material, that is, 0.001 g. Instead of trimethylbenzene, a mixed solvent of trimethylbenzene-xylene having a mixture ratio of 7: 3 (vapor pressure at a temperature (28 ° C.) at which an organic layer is formed: trimethylbenzene 247 Pa, xylene 88
A blue light emitting layer forming coating liquid was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that 0 Pa) was used. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 1, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film,
The surface properties of the obtained film were evaluated. The obtained results, the trade name of the leveling agent, the amount added and the viscosity,
Table 1 shows the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0048】(実施例3〜5)レベリング剤として、発
光材料のPDF1gに対してそれぞれ1wt%、10w
t%および20wt%に相当する量、すなわち0.01
g、0.1gおよび0.2gのKF96L−1を、青色
発光層形成用塗液に添加する以外は比較例1と同様にし
て、青色発光層形成用塗液を調製した。レベリング剤の
添加前における塗液の粘度を測定した。比較例1と同様
にして、調製した塗液をガラス基板に転写し、フィルム
を作製し、得られたフィルムについて、表面性を評価し
た。得られた結果を、レベリング剤の商品名、添加量お
よび粘度、ならびにレベリング剤の添加前における塗液
の粘度と共に表1に示す。(Examples 3 to 5) As leveling agents, 1 wt% and 10 watts were respectively used for 1 g of PDF of a light emitting material.
t% and an amount corresponding to 20 wt%, ie, 0.01
g, 0.1 g, and 0.2 g of KF96L-1 were added to the blue light emitting layer forming coating liquid in the same manner as in Comparative Example 1 to prepare a blue light emitting layer forming coating liquid. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 1, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0049】(実施例6〜10)レベリング剤として、
発光材料のPDF1gに対してそれぞれ0.01wt
%、0.1wt%、1wt%、10wt%および20w
t%に相当する量、すなわち0.0001g、0.00
1g、0.01g、0.1gおよび0.2gのKF96
L−5(信越シリコーン(株)製、表面張力:19.7
mN/m、沸点:200℃以上)を、青色発光層形成用
塗液に添加する以外は比較例1と同様にして、青色発光
層形成用塗液を調製した。レベリング剤の添加前におけ
る塗液の粘度を測定した。比較例1と同様にして、調製
した塗液をガラス基板に転写し、フィルムを作製し、得
られたフィルムについて、表面性を評価した。得られた
結果を、レベリング剤の商品名、添加量および粘度、な
らびにレベリング剤の添加前における塗液の粘度と共に
表1に示す。Examples 6 to 10 As leveling agents,
0.01wt each for 1g of PDF of light emitting material
%, 0.1 wt%, 1 wt%, 10 wt% and 20 w
%, ie 0.0001 g, 0.00%
1 g, 0.01 g, 0.1 g and 0.2 g of KF96
L-5 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., surface tension: 19.7)
mN / m, boiling point: 200 ° C. or more) was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the coating liquid for forming a blue light emitting layer was added. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 1, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0050】(比較例2)レベリング剤として、発光材
料のPDF1gに対して40wt%に相当する量、すな
わち0.4gのKF96L−5(信越シリコーン(株)
製、表面張力:19.7mN/m、沸点:200℃以
上)を、青色発光層形成用塗液に添加する以外は比較例
1と同様にして、青色発光層形成用塗液を調製した。レ
ベリング剤の添加前における塗液の粘度を測定した。比
較例1と同様にして、調製した塗液をガラス基板に転写
し、フィルムを作製し、得られたフィルムについて、表
面性を評価した。得られた結果を、レベリング剤の商品
名、添加量および粘度、ならびにレベリング剤の添加前
における塗液の粘度と共に表1に示す。Comparative Example 2 KF96L-5 (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was used as a leveling agent in an amount corresponding to 40 wt% with respect to 1 g of PDF of the luminescent material, ie, 0.4 g.
In the same manner as in Comparative Example 1, except that the following components were added to the coating solution for forming a blue light-emitting layer: surface tension: 19.7 mN / m, boiling point: 200 ° C. or higher. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 1, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0051】(実施例11〜14)レベリング剤とし
て、発光材料のPDF1gに対してそれぞれ0.01w
t%、0.1wt%、1wt%および10wt%に相当
する量、すなわち0.0001g、0.001g、0.
01gおよび0.1gのKF96L−10(信越シリコ
ーン(株)製、表面張力:20.1mN/m、沸点:2
00℃以上)を、青色発光層形成用塗液に添加する以外
は比較例1と同様にして、青色発光層形成用塗液を調製
した。レベリング剤の添加前における塗液の粘度を測定
した。比較例1と同様にして、調製した塗液をガラス基
板に転写し、フィルムを作製し、得られたフィルムにつ
いて、表面性を評価した。得られた結果を、レベリング
剤の商品名、添加量および粘度、ならびにレベリング剤
の添加前における塗液の粘度と共に表1に示す。(Examples 11 to 14) As a leveling agent, 0.01 w each was added to 1 g of PDF of a light emitting material.
%, 0.1 wt%, 1 wt% and 10 wt%, ie 0.0001 g, 0.001 g, 0.
01 g and 0.1 g of KF96L-10 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., surface tension: 20.1 mN / m, boiling point: 2)
(00 ° C. or higher) was added to the blue light-emitting layer forming coating liquid in the same manner as in Comparative Example 1 to prepare a blue light-emitting layer forming coating liquid. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 1, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0052】(比較例3)レベリング剤として、発光材
料のPDF1gに対して20wt%に相当する量、すな
わち0.2gのKF96L−10(信越シリコーン
(株)製、表面張力:20.1mN/m、沸点:200
℃以上)を、青色発光層形成用塗液に添加する以外は比
較例1と同様にして、青色発光層形成用塗液を調製し
た。レベリング剤の添加前における塗液の粘度を測定し
た。比較例1と同様にして、調製した塗液をガラス基板
に転写し、フィルムを作製し、得られたフィルムについ
て、表面性を評価した。得られた結果を、レベリング剤
の商品名、添加量および粘度、ならびにレベリング剤の
添加前における塗液の粘度と共に表1に示す。(Comparative Example 3) As a leveling agent, an amount corresponding to 20 wt% with respect to 1 g of PDF of the luminescent material, that is, 0.2 g of KF96L-10 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., surface tension: 20.1 mN / m) , Boiling point: 200
(° C. or more) was added to the coating solution for forming a blue light emitting layer in the same manner as in Comparative Example 1 except that the coating solution for forming a blue light emitting layer was prepared. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 1, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0053】(実施例15〜18)レベリング剤とし
て、発光材料のPDF1gに対してそれぞれ0.001
wt%、0.01wt%、0.1wt%および1wt%
に相当する量、すなわち0.00001g、0.000
1g、0.001gおよび0.01gのKF96L−1
00(信越シリコーン(株)製、表面張力:20.9m
N/m、沸点:200℃以上)を、青色発光層形成用塗
液に添加する以外は比較例1と同様にして、青色発光層
形成用塗液を調製した。レベリング剤の添加前における
塗液の粘度を測定した。比較例1と同様にして、調製し
た塗液をガラス基板に転写し、フィルムを作製し、得ら
れたフィルムについて、表面性を評価した。得られた結
果を、レベリング剤の商品名、添加量および粘度、なら
びにレベリング剤の添加前における塗液の粘度と共に表
1に示す。(Examples 15 and 18) As a leveling agent, 0.001 to 1 g of PDF of a luminescent material was used.
wt%, 0.01 wt%, 0.1 wt% and 1 wt%
Ie, 0.00001 g, 0.000
1 g, 0.001 g and 0.01 g of KF96L-1
00 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., surface tension: 20.9 m)
N / m, boiling point: 200 ° C. or higher) was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the coating liquid for forming a blue light emitting layer was added. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 1, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0054】(比較例4)レベリング剤として、発光材
料のPDF1gに対して2wt%に相当する量、すなわ
ち0.02gのKF96L−100(信越シリコーン
(株)製、表面張力:20.9mN/m、沸点:200
℃以上)を、青色発光層形成用塗液に添加する以外は比
較例1と同様にして、青色発光層形成用塗液を調製し
た。レベリング剤の添加前における塗液の粘度を測定し
た。比較例1と同様にして、調製した塗液をガラス基板
に転写し、フィルムを作製し、得られたフィルムについ
て、表面性を評価した。得られた結果を、レベリング剤
の商品名、添加量および粘度、ならびにレベリング剤の
添加前における塗液の粘度と共に表1に示す。(Comparative Example 4) As a leveling agent, an amount corresponding to 2 wt% with respect to 1 g of PDF of the luminescent material, that is, 0.02 g of KF96L-100 (Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., surface tension: 20.9 mN / m) , Boiling point: 200
(° C. or more) was added to the coating solution for forming a blue light emitting layer in the same manner as in Comparative Example 1 except that the coating solution for forming a blue light emitting layer was prepared. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 1, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0055】比較例5 正孔輸送材料としての3,4−ポリエチレンジオキシチ
オフェン(PEDOT)/ポリスチレンサルフォネート
(PSS)1gを、混合比6:4の純水−エチレングリ
コール混合溶液(有機層を形成する際の温度における蒸
気圧:7Pa、表面張力:53.3mN/m)100m
lに溶解して、正孔輸送層形成用塗液を調製し、得られ
た塗液の粘度を測定した。次に、市販のインクジェット
プリンターを改造したものおよび凸版印刷装置(アニロ
ックロールとして300線/inch)を用いて、調製
した塗液をガラス基板に転写し、フィルムを作製した。
なお、印刷に際して、転写基板としてAPR(ショアA
硬度55)を用い、印圧を0.1mmとした。Comparative Example 5 1 g of 3,4-polyethylenedioxythiophene (PEDOT) / polystyrenesulfonate (PSS) as a hole transport material was mixed with a pure water-ethylene glycol mixed solution (organic layer) at a mixing ratio of 6: 4. Vapor pressure at the temperature at the time of formation of the powder: 7 Pa, surface tension: 53.3 mN / m) 100 m
1 to prepare a coating liquid for forming a hole transport layer, and the viscosity of the obtained coating liquid was measured. Next, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate using a modified version of a commercially available inkjet printer and a letterpress printing device (300 lines / inch as anilox roll) to produce a film.
In printing, APR (Shore A) is used as a transfer substrate.
The printing pressure was 0.1 mm using a hardness of 55).
【0056】作製したフィルムについて、表面性を評価
した。すなわち、5mm間隔でフィルムの膜厚を20点
測定し、その分布と平均値を求めた。得られた結果を、
塗液の粘度と共に表1に示す。The surface properties of the produced films were evaluated. That is, the film thickness was measured at 20 points at 5 mm intervals, and the distribution and average value were determined. The obtained result is
The results are shown in Table 1 together with the viscosity of the coating liquid.
【0057】(実施例19)レベリング剤として、正孔
輸送材料のPEDOT/PSS1gに対して0.01w
t%に相当する量、すなわち0.0001gのS−14
5(旭化成工業(株)製、表面張力:16.5mN/
m)を正孔輸送層形成用塗液に添加すること、純水−エ
チレングリコール混合溶液の代わりに混合比6:4のメ
タノール−エチレングリコール混合溶媒(有機層を形成
する際の温度における:メタノール12300Pa、エ
チレングリコール7Pa)を用いる以外は比較例5と同
様にして、正孔輸送層形成用塗液を調製した。レベリン
グ剤の添加前における塗液の粘度を測定した。比較例5
と同様にして、調製した塗液をガラス基板に転写し、フ
ィルムを作製し、得られたフィルムについて、表面性を
評価した。得られた結果を、レベリング剤の商品名、添
加量および粘度、ならびにレベリング剤の添加前におけ
る塗液の粘度と共に表1に示す。(Example 19) As a leveling agent, 0.01 w per 1 g of PEDOT / PSS of a hole transport material was used.
%, ie 0.0001 g of S-14
5 (manufactured by Asahi Kasei Corporation, surface tension: 16.5 mN /
m) to the coating solution for forming a hole transport layer, a methanol-ethylene glycol mixed solvent having a mixing ratio of 6: 4 instead of the pure water-ethylene glycol mixed solution (at a temperature at the time of forming an organic layer: methanol A coating liquid for forming a hole transport layer was prepared in the same manner as in Comparative Example 5 except that 12300 Pa and ethylene glycol 7 Pa) were used. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. Comparative Example 5
In the same manner as described above, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0058】(実施例20〜23)レベリング剤とし
て、正孔輸送材料のPEDOT/PSS1gに対してそ
れぞれ0.1wt%、1wt%、10wt%および20
wt%に相当する量、すなわち0.001g、0.01
g、0.1gおよび0.2gのS−145を、正孔輸送
層形成用塗液に添加する以外は比較例5と同様にして、
正孔輸送層形成用塗液を調製した。レベリング剤の添加
前における塗液の粘度を測定した。比較例5と同様にし
て、調製した塗液をガラス基板に転写し、フィルムを作
製し、得られたフィルムについて、表面性を評価した。
得られた結果を、レベリング剤の商品名、添加量および
粘度、ならびにレベリング剤の添加前における塗液の粘
度と共に表1に示す。Examples 20 to 23 As leveling agents, 0.1% by weight, 1% by weight, 10% by weight and 20% by weight with respect to 1 g of PEDOT / PSS of a hole transporting material, respectively.
wt.%, ie 0.001 g, 0.01
g, 0.1 g and 0.2 g of S-145 in the same manner as in Comparative Example 5 except that
A coating liquid for forming a hole transport layer was prepared. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 5, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties.
The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0059】(比較例6)レベリング剤として、正孔輸
送材料のPEDOT/PSS1gに対して30wt%に
相当する量、すなわち0.3gのS−145を、正孔輸
送層形成用塗液に添加する以外は比較例5と同様にし
て、正孔輸送層形成用塗液を調製した。レベリング剤の
添加前における塗液の粘度を測定した。比較例5と同様
にして、調製した塗液をガラス基板に転写し、フィルム
を作製し、得られたフィルムについて、表面性を評価し
た。得られた結果を、レベリング剤の商品名、添加量お
よび粘度、ならびにレベリング剤の添加前における塗液
の粘度と共に表1に示す。(Comparative Example 6) As a leveling agent, an amount equivalent to 30% by weight based on 1 g of PEDOT / PSS of the hole transport material, that is, 0.3 g of S-145 was added to the coating liquid for forming a hole transport layer. A coating solution for forming a hole transport layer was prepared in the same manner as in Comparative Example 5 except that the coating was performed. The viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent was measured. In the same manner as in Comparative Example 5, the prepared coating liquid was transferred to a glass substrate to prepare a film, and the obtained film was evaluated for surface properties. The obtained results are shown in Table 1 together with the brand name, amount and viscosity of the leveling agent, and the viscosity of the coating liquid before the addition of the leveling agent.
【0060】[0060]
【表1】 [Table 1]
【0061】表1の結果から、シリコン系化合物または
フッ素系化合物からなるレベリング剤を塗液に含有させ
ることにより、膜の表面を平坦にできることがわかる。From the results shown in Table 1, it can be seen that the surface of the film can be made flat by adding a leveling agent comprising a silicon compound or a fluorine compound to the coating solution.
【0062】(比較例7)膜厚150nmのITO付き
ガラス基板をフォトリソグラフィ法により、第1電極と
してピッチ4mmで幅2mmのITOからなるパターン
電極を形成した。次に、この基板を、従来のウエットプ
ロセス(イソプロピルアルコール、アセトンおよび純
水)により洗浄し、さらに従来のドライプロセス(UV
オゾン処理およびプラズマ処理)により洗浄した。IT
O付きガラス基板上に、PEDOT/PSS水溶液を用
いて、スピンコート法により膜厚50nmの正孔輸送層
を形成し、窒素雰囲気下、200℃で5分間加熱乾燥し
た。Comparative Example 7 A pattern electrode made of ITO having a pitch of 4 mm and a width of 2 mm was formed as a first electrode on a glass substrate with ITO having a thickness of 150 nm by photolithography. Next, the substrate is cleaned by a conventional wet process (isopropyl alcohol, acetone and pure water), and further cleaned by a conventional dry process (UV
(Ozone treatment and plasma treatment). IT
Using a PEDOT / PSS aqueous solution, a hole transport layer having a thickness of 50 nm was formed on a glass substrate with O by a spin coating method, and dried by heating at 200 ° C. for 5 minutes in a nitrogen atmosphere.
【0063】発光材料としてのPDF1gをトリメチル
ベンゼン100mlに溶解して、青色発光層形成用塗液
を調製した。次いで、正孔輸送層を形成したITO付き
ガラス基板上に調製した塗液を用いて、スピンコート法
により膜厚50nmの青色発光層を形成し、窒素雰囲気
下、160℃で2時間加熱乾燥した。次に、この基板に
先程のITOとは直交する向きに2mm×100mm幅
の穴の空いたシャドウマスクを固定し、真空蒸着装置に
入れ、1×10-6Torrの真空下でCaを50nm、
Agを300nm真空蒸着し、第2電極(対抗電極)と
した。A coating solution for forming a blue light emitting layer was prepared by dissolving 1 g of PDF as a light emitting material in 100 ml of trimethylbenzene. Next, a 50 nm-thick blue light-emitting layer was formed by spin coating using a coating solution prepared on the glass substrate with ITO on which the hole transport layer was formed, and dried by heating at 160 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere. . Next, a shadow mask having a hole with a width of 2 mm × 100 mm was fixed to the substrate in a direction perpendicular to the ITO, and the substrate was put into a vacuum evaporation apparatus, and Ca was dried to 50 nm under a vacuum of 1 × 10 −6 Torr.
Ag was vacuum-deposited with a thickness of 300 nm to form a second electrode (counter electrode).
【0064】作製した素子について、電気的特性(10
Vでの輝度、cd/m2)および半減寿命(初期100
cd/m2)を評価した。得られた結果を表2に示す。With respect to the fabricated device, the electrical characteristics (10
Luminance in V, cd / m 2 ) and half-life (initial 100
cd / m 2 ) was evaluated. Table 2 shows the obtained results.
【0065】(比較例8)膜厚150nmのITO付き
ガラス基板をフォトリソグラフィ法により、第1電極と
してピッチ4mmで幅2mmのITOからなるパターン
電極を形成した。次に、この基板を、従来のウエットプ
ロセス(イソプロピルアルコール、アセトンおよび純
水)により洗浄し、さらに従来のドライプロセス(UV
オゾン処理およびプラズマ処理)により洗浄した。IT
O付きガラス基板上に、PEDOT/PSS水溶液を用
いて、スピンコート法により膜厚50nmの正孔輸送層
を形成し、窒素雰囲気下、200℃で5分間加熱乾燥し
た。Comparative Example 8 A pattern electrode made of ITO having a pitch of 4 mm and a width of 2 mm was formed as a first electrode on a glass substrate with ITO having a thickness of 150 nm by photolithography. Next, the substrate is cleaned by a conventional wet process (isopropyl alcohol, acetone and pure water), and further cleaned by a conventional dry process (UV
(Ozone treatment and plasma treatment). IT
Using a PEDOT / PSS aqueous solution, a hole transport layer having a thickness of 50 nm was formed on a glass substrate with O by a spin coating method, and dried by heating at 200 ° C. for 5 minutes in a nitrogen atmosphere.
【0066】発光材料としてのPDF1gをトリメチル
ベンゼン100mlに溶解して、青色発光層形成用塗液
を調製した。次いで、インクジェット装置(ノズル径:
20μm)および凸版印刷装置(アニロックロール:3
00線/inch)を用いて、正孔輸送層を形成したI
TO付きガラス基板上に調製した塗液を転写して、膜厚
50nmの青色発光層を形成し、窒素雰囲気下、160
℃で2時間加熱乾燥した。次に、この基板に先程のIT
Oとは直交する向きに2mm×100mm幅の穴の空い
たシャドウマスクを固定し、真空蒸着装置に入れ、1×
10-6Torrの真空下でCaを50nm、Agを30
0nm真空蒸着し、第2電極(対抗電極)とした。1 g of PDF as a light emitting material was dissolved in 100 ml of trimethylbenzene to prepare a coating liquid for forming a blue light emitting layer. Next, an inkjet device (nozzle diameter:
20 μm) and letterpress printing device (aniloc roll: 3)
00 line / inch) to form a hole transport layer.
The prepared coating solution was transferred onto a glass substrate with TO to form a blue light-emitting layer having a thickness of 50 nm,
The mixture was dried by heating at 2 ° C. for 2 hours. Next, the IT
Fix a shadow mask with a hole of 2 mm x 100 mm width in a direction orthogonal to O, put it in a vacuum evaporation apparatus,
Under a vacuum of 10 -6 Torr, Ca is 50 nm and Ag is 30 nm.
Vacuum evaporation was performed to a thickness of 0 nm to form a second electrode (counter electrode).
【0067】作製した素子について、電気的特性(10
Vでの輝度、cd/m2)および半減寿命(初期100
cd/m2)を評価した。得られた結果を表2に示す。The electrical characteristics (10
Luminance in V, cd / m 2 ) and half-life (initial 100
cd / m 2 ) was evaluated. Table 2 shows the obtained results.
【0068】(実施例24〜33)青色発光層形成用塗
液として実施例1〜10で調製した塗液をそれぞれ用い
る以外は比較例8と同様にして、素子を作製した。比較
例8と同様にして、作製した素子について、電気的特性
および半減寿命を評価した。得られた結果を表2に示
す。(Examples 24 to 33) Devices were produced in the same manner as in Comparative Example 8 except that the coating solutions prepared in Examples 1 to 10 were used as the coating solution for forming a blue light emitting layer. In the same manner as in Comparative Example 8, the manufactured device was evaluated for electrical characteristics and half-life. Table 2 shows the obtained results.
【0069】(比較例9)青色発光層形成用塗液として
比較例2で調製した塗液を用いる以外は比較例8と同様
にして、素子を作製した。比較例8と同様にして、作製
した素子について、電気的特性および半減寿命を評価し
た。得られた結果を表2に示す。Comparative Example 9 A device was prepared in the same manner as in Comparative Example 8 except that the coating liquid prepared in Comparative Example 2 was used as the coating liquid for forming a blue light emitting layer. In the same manner as in Comparative Example 8, the manufactured device was evaluated for electrical characteristics and half-life. Table 2 shows the obtained results.
【0070】(実施例34〜37)青色発光層形成用塗
液として実施例11〜14で調製した塗液をそれぞれ用
いる以外は比較例8と同様にして、素子を作製した。比
較例8と同様にして、作製した素子について、電気的特
性および半減寿命を評価した。得られた結果を表2に示
す。(Examples 34 to 37) Devices were produced in the same manner as in Comparative Example 8, except that the coating solutions prepared in Examples 11 to 14 were used as the coating solution for forming a blue light emitting layer. In the same manner as in Comparative Example 8, the manufactured device was evaluated for electrical characteristics and half-life. Table 2 shows the obtained results.
【0071】(比較例10)青色発光層形成用塗液とし
て比較例3で調製した塗液を用いる以外は比較例8と同
様にして、素子を作製した。比較例8と同様にして、作
製した素子について、電気的特性および半減寿命を評価
した。得られた結果を表2に示す。(Comparative Example 10) An element was produced in the same manner as in Comparative Example 8, except that the coating liquid prepared in Comparative Example 3 was used as a coating liquid for forming a blue light emitting layer. In the same manner as in Comparative Example 8, the manufactured device was evaluated for electrical characteristics and half-life. Table 2 shows the obtained results.
【0072】(実施例38〜41)青色発光層形成用塗
液として実施例15〜18で調製した塗液をそれぞれ用
いる以外は比較例8と同様にして、素子を作製した。比
較例8と同様にして、作製した素子について、電気的特
性および半減寿命を評価した。得られた結果を表2に示
す。(Examples 38 to 41) Devices were prepared in the same manner as in Comparative Example 8 except that the coating solutions prepared in Examples 15 to 18 were used as the coating solution for forming a blue light emitting layer. In the same manner as in Comparative Example 8, the manufactured device was evaluated for electrical characteristics and half-life. Table 2 shows the obtained results.
【0073】(比較例11)青色発光層形成用塗液とし
て比較例4で調製した塗液を用いる以外は比較例8と同
様にして、素子を作製した。比較例8と同様にして、作
製した素子について、電気的特性および半減寿命を評価
した。得られた結果を表2に示す。Comparative Example 11 A device was prepared in the same manner as in Comparative Example 8 except that the coating liquid prepared in Comparative Example 4 was used as the coating liquid for forming a blue light emitting layer. In the same manner as in Comparative Example 8, the manufactured device was evaluated for electrical characteristics and half-life. Table 2 shows the obtained results.
【0074】(比較例12)膜厚150nmのITO付
きガラス基板をフォトリソグラフィ法により、第1電極
としてピッチ4mmで幅2mmのITOからなるパター
ン電極を形成した。次に、この基板を、従来のウエット
プロセス(イソプロピルアルコール、アセトンおよび純
水)により洗浄し、さらに従来のドライプロセス(UV
オゾン処理およびプラズマ処理)により洗浄した。PE
DOT/PSS1gを混合比6:4のメタノール−エチ
レングリコール混合溶媒100mlに溶解して、正孔輸
送層形成用塗液を調製した。次いで、インクジェット装
置(ノズル径:20μm)および凸版印刷装置(アニロ
ックロール:300線/inch)を用いて、ITO付
きガラス基板上に調製した塗液を転写して、膜厚50n
mの正孔輸送層を形成した。(Comparative Example 12) A pattern electrode made of ITO having a pitch of 4 mm and a width of 2 mm was formed as a first electrode on a glass substrate with ITO having a thickness of 150 nm by photolithography. Next, the substrate is cleaned by a conventional wet process (isopropyl alcohol, acetone and pure water), and further cleaned by a conventional dry process (UV
(Ozone treatment and plasma treatment). PE
1 g of DOT / PSS was dissolved in 100 ml of a mixed solvent of methanol and ethylene glycol at a mixing ratio of 6: 4 to prepare a coating liquid for forming a hole transport layer. Next, the prepared coating liquid was transferred onto a glass substrate with ITO using an ink jet device (nozzle diameter: 20 μm) and a letterpress printing device (anilo roll: 300 lines / inch) to obtain a film thickness of 50 n.
m of the hole transport layer was formed.
【0075】発光材料としてのPDF1gをトリメチル
ベンゼン100mlに溶解して、青色発光層形成用塗液
を調製した。次いで、スピンコート法により、正孔輸送
層を形成したITO付きガラス基板上に膜厚50nmの
青色発光層を形成した。次に、この基板に先程のITO
とは直交する向きに2mm×100mm幅の穴の空いた
シャドウマスクを固定し、真空蒸着装置に入れ、1×1
0-6Torrの真空下でCaを50nm、Agを300
nm真空蒸着し、第2電極(対向電極)とした。比較例
8と同様にして、作製した素子について、電気的特性お
よび半減寿命を評価した。得られた結果を表2に示す。A coating solution for forming a blue light emitting layer was prepared by dissolving 1 g of PDF as a light emitting material in 100 ml of trimethylbenzene. Next, a 50-nm-thick blue light-emitting layer was formed on the glass substrate with ITO on which the hole transport layer was formed by spin coating. Next, the ITO
A shadow mask with a hole of 2 mm x 100 mm width was fixed in the direction orthogonal to
Ca is 50 nm and Ag is 300 under a vacuum of 0 -6 Torr.
The second electrode (counter electrode) was formed by vacuum evaporation. In the same manner as in Comparative Example 8, the manufactured device was evaluated for electrical characteristics and half-life. Table 2 shows the obtained results.
【0076】(実施例42〜46)青色発光層形成用塗
液として実施例19〜23で調製した塗液をそれぞれ用
いる以外は比較例8と同様にして、素子を作製した。比
較例8と同様にして、作製した素子について、電気的特
性および半減寿命を評価した。得られた結果を表2に示
す。(Examples 42 to 46) Devices were produced in the same manner as in Comparative Example 8 except that the coating solutions prepared in Examples 19 to 23 were used as the coating solution for forming a blue light emitting layer. In the same manner as in Comparative Example 8, the manufactured device was evaluated for electrical characteristics and half-life. Table 2 shows the obtained results.
【0077】(比較例13)青色発光層形成用塗液とし
て比較例6で調製した塗液を用いる以外は比較例8と同
様にして、素子を作製した。比較例8と同様にして、作
製した素子について、電気的特性および半減寿命を評価
した。得られた結果を表2に示す。(Comparative Example 13) An element was produced in the same manner as in Comparative Example 8, except that the coating liquid prepared in Comparative Example 6 was used as the coating liquid for forming a blue light emitting layer. In the same manner as in Comparative Example 8, the manufactured device was evaluated for electrical characteristics and half-life. Table 2 shows the obtained results.
【0078】[0078]
【表2】 [Table 2]
【0079】表2の結果から、シリコン系化合物または
フッ素系化合物からなるレベリング剤を塗液に含有させ
ることにより、インクジェット法や印刷法で形成された
膜が、スピンコート法により形成された膜に比べて発光
効率や寿命が低下するといった問題を解決することがで
きることがわかる。また、レベリング剤の粘度と発光効
率や寿命の低下を引き起こさない添加量との間に次のよ
うな一定の関係があることがわかる。 Lの粘度(cp)×発光材料または電荷輸送材料に対する
Lの添加量(wt%)<200 すなわち、粘度の低いレベリング剤ほど、多量添加が可
能で、上記の関係式を満たすことにより、発光効率や寿
命の低下を防止することができる。From the results shown in Table 2, it was found that the film formed by the ink-jet method or the printing method was replaced with the film formed by the spin-coating method by adding a leveling agent comprising a silicon compound or a fluorine compound to the coating liquid. It can be seen that problems such as a decrease in luminous efficiency and life can be solved. Further, it can be seen that the following constant relationship exists between the viscosity of the leveling agent and the amount of addition that does not cause a decrease in luminous efficiency or life. L viscosity (cp) × the amount of L added to the light emitting material or the charge transporting material (wt%) <200 That is, the lower the viscosity of the leveling agent, the more the leveling agent can be added. And a reduction in the service life can be prevented.
【0080】(実施例47)膜厚130nmのITO付
きガラス基板をフォトリソグラフィ法により、第1電極
としてピッチ120μmで幅100μmのITO透明ス
トライプ電極を形成した。次に、この基板を、従来のウ
エットプロセス(イソプロピルアルコール、アセトンお
よび純水)により洗浄し、さらに従来のドライプロセス
(UVオゾン処理およびプラズマ処理)により洗浄し
た。Example 47 An ITO transparent stripe electrode having a pitch of 120 μm and a width of 100 μm was formed as a first electrode on a glass substrate with ITO having a thickness of 130 nm by photolithography. Next, the substrate was washed by a conventional wet process (isopropyl alcohol, acetone and pure water), and further washed by a conventional dry process (UV ozone treatment and plasma treatment).
【0081】次に、この基板上に、臨界表面張力10d
yne/cmの表面張力調整剤(旭硝子(株)製、商品
名:サイトップCTL)を含有するネガ型感光性樹脂
を、スピンコート法により膜厚4μmになるようにコー
トした。次にマスク露光し、レジスト膜の残渣を洗い流
し、ITOと平行する方向にはピッチ300μm、IT
Oと直交する方向にはピッチ120μmで、幅40μm
の隔壁を得た。Next, a critical surface tension of 10 d
A negative photosensitive resin containing yne / cm of a surface tension adjusting agent (trade name: CYTOP CTL, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was coated to a film thickness of 4 μm by spin coating. Next, mask exposure is performed, and the residue of the resist film is washed away.
A pitch of 120 μm and a width of 40 μm in a direction orthogonal to O
Was obtained.
【0082】次に、インクジェット装置(ノズル径:2
0μm)を用いて、表面張力40dyne/cmのPE
DOT/PSS水溶液の正孔輸送層形成用塗液を各画素
に吐出させ、続いて真空下、90℃で30分間加熱乾燥
し、膜厚75nmの正孔輸送層を形成した。Next, an ink jet apparatus (nozzle diameter: 2)
0 μm) and PE having a surface tension of 40 dyne / cm
A coating liquid for forming a hole transport layer of a DOT / PSS aqueous solution was discharged to each pixel, and subsequently heated and dried at 90 ° C. for 30 minutes under vacuum to form a hole transport layer having a thickness of 75 nm.
【0083】さらに、インクジェット装置を用いて、赤
色発光材料としてのポリ[2,5−ビス(ヘキシルオキ
シ−1,4−フェニレン)(1−シアノビニレン)]前
駆体(Pre−CN−PPV)とこの発光材料に対して
0.1wt%に相当する量のレベリング剤 KF96L
−1とを混合比4:6のメタノール−ジエチレングリコ
ール混合溶媒(有機層を形成する際の温度における:メ
タノール12300Pa、ジエチレングリコール2P
a)に溶解した赤色発光層形成用塗液、緑色発光材料と
してのポリ(p−フェニレンビニレン)前駆体(Pre
−PPV)とこの発光材料に対して0.1wt%に相当
する量のレベリング剤 KF96L−1とを混合比6:
4のメタノール−エチレングリコール混合溶媒に溶解し
た緑色発光層形成用塗液、および青色発光材料としての
ポリ(ジオクチルフルオレン)(PDF)とこの発光材
料に対して0.1wt%に相当する量のレベリング剤
KF96L−1とをトリメチルベンゼンに溶解した青色
発光層形成用塗液をパターニング塗布した。使用した各
塗液の表面張力は、30dyne/cmであった。Further, a poly [2,5-bis (hexyloxy-1,4-phenylene) (1-cyanovinylene)] precursor (Pre-CN-PPV) as a red light-emitting material and an Leveling agent KF96L in an amount equivalent to 0.1 wt% based on the light emitting material
-1 and a mixed solvent of methanol and diethylene glycol having a mixing ratio of 4: 6 (at the temperature at which an organic layer is formed: methanol 12300 Pa, diethylene glycol 2P
a) a coating solution for forming a red light-emitting layer dissolved in a), a poly (p-phenylenevinylene) precursor (Pre
-PPV) and a leveling agent KF96L-1 in an amount corresponding to 0.1 wt% with respect to the light emitting material, at a mixing ratio of 6:
4, a coating liquid for forming a green light-emitting layer dissolved in a mixed solvent of methanol and ethylene glycol, poly (dioctylfluorene) (PDF) as a blue light-emitting material, and an amount of 0.1 wt% based on the light-emitting material. Agent
A coating solution for forming a blue light-emitting layer in which KF96L-1 was dissolved in trimethylbenzene was applied by patterning. The surface tension of each coating solution used was 30 dyne / cm.
【0084】塗膜形成後、これらを加熱乾燥して、膜厚
110nmの発光層を得た。PDFを含む塗膜について
は、100℃で1時間加熱乾燥した。また、Pre−C
N−PPVおよびPre−PPV含む塗膜については、
Ar雰囲気下、150℃で6時間加熱処理し、乾燥と同
時にそれぞれCN−PPVおよびPPVに変換した。隔
壁の臨界表面張力と各発光層形成用塗液の表面張力との
関係からも明らかなように、各発光層形成用塗液が隔壁
に対してヌレ性が悪かったために、異なる発光色をもつ
発光画素間での発光層の混じり合いを効果的に防止する
ことができた。After forming the coating films, these were dried by heating to obtain a light emitting layer having a thickness of 110 nm. The coating film containing PDF was heated and dried at 100 ° C. for 1 hour. Also, Pre-C
For coating films containing N-PPV and Pre-PPV,
It was heat-treated at 150 ° C. for 6 hours in an Ar atmosphere, and was converted into CN-PPV and PPV simultaneously with drying. As is clear from the relationship between the critical surface tension of the partition walls and the surface tension of each light-emitting layer forming coating liquid, each light-emitting layer forming coating liquid has a different luminescent color due to poor wettability with respect to the partition walls. Mixing of the light emitting layers between the light emitting pixels could be effectively prevented.
【0085】次に、厚さ0.2μm、幅270μm、ピ
ッチ300nmのシャドウマスクを用い、AlとLiを
共蒸着して、第2電極としてのAlLi合金電極を形成
した。最後に得られた素子を、エポキシ樹脂を用いて封
止して、有機ELディスプレイを作製した。Next, Al and Li were co-evaporated using a shadow mask having a thickness of 0.2 μm, a width of 270 μm, and a pitch of 300 nm to form an AlLi alloy electrode as a second electrode. Finally, the obtained device was sealed with an epoxy resin to produce an organic EL display.
【0086】以上のようにして得られた有機EL素子に
30Vのパルス電圧を印加して、発光状態を観察したと
ころ、すべての画素から発光が得られ、第1電極と第2
電極間、第1電極間および第2電極間でのショートは発
生せず、発光層の混じり合いによる混色は観測されなか
った。また、発光層および電荷輸送層の膜厚の不均一に
よる画素内での発光の不均一は観測されなかった。When a pulse voltage of 30 V was applied to the organic EL device obtained as described above and the light emission state was observed, light emission was obtained from all the pixels, and the first electrode and the second electrode
No short circuit occurred between the electrodes, between the first electrodes, and between the second electrodes, and no color mixing due to mixing of the light emitting layers was observed. Further, non-uniform light emission in the pixel due to non-uniform thickness of the light emitting layer and the charge transport layer was not observed.
【0087】(実施例48)膜厚130nmのITO付
きガラス基板をフォトリソグラフィ法により、第1電極
としてピッチ120μmで幅100μmのITO透明ス
トライプ電極を形成した。次に、この基板を、従来のウ
エットプロセス(イソプロピルアルコール、アセトンお
よび純水)により洗浄し、さらに従来のドライプロセス
(UVオゾン処理およびプラズマ処理)により洗浄し
た。Example 48 An ITO transparent stripe electrode having a pitch of 120 μm and a width of 100 μm was formed as a first electrode on a glass substrate with ITO having a thickness of 130 nm by photolithography. Next, the substrate was washed by a conventional wet process (isopropyl alcohol, acetone and pure water), and further washed by a conventional dry process (UV ozone treatment and plasma treatment).
【0088】次に、この基板上に、臨界表面張力10d
yne/cmの表面張力調整剤(旭硝子(株)製、商品
名:サイトップCTL)を含有するネガ型感光性樹脂
を、スピンコート法により膜厚4μmになるようにコー
トした。次にマスク露光し、レジスト膜の残渣を洗い流
し、ITOと平行する方向にはピッチ300μm、IT
Oと直交する方向にはピッチ120μmで、幅40μm
の隔壁を得た。Next, a critical surface tension of 10 d
A negative photosensitive resin containing yne / cm of a surface tension adjusting agent (trade name: CYTOP CTL, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was coated to a film thickness of 4 μm by spin coating. Next, mask exposure is performed, and the residue of the resist film is washed away.
A pitch of 120 μm and a width of 40 μm in a direction orthogonal to O
Was obtained.
【0089】次に、凸版印刷装置(アニロックロール:
300線/inch)を用いて、表面張力40dyne
/cmのPEDOT/PSS水溶液の正孔輸送層形成用
塗液を転写し、続いて真空下、90℃で30分間加熱乾
燥し、膜厚75nmの正孔輸送層を形成した。Next, a letterpress printing device (anilo roll:
Surface tension of 40 dyne using 300 lines / inch)
/ Cm 2 of a PEDOT / PSS aqueous solution was transferred, and then dried by heating at 90 ° C for 30 minutes under vacuum to form a hole transport layer having a thickness of 75 nm.
【0090】さらに、凸版印刷装置を用いて、赤色発光
材料としてのPre−CN−PPVとこの発光材料に対
して0.1wt%に相当する量のレベリング剤 KF9
6L−1とを混合比6:4のメタノール−ジエチレング
リコール混合溶媒に溶解した赤色発光層形成用塗液、緑
色発光材料としてのPre−PPVとこの発光材料に対
して0.1wt%に相当する量のレベリング剤 KF9
6L−1とを混合比6:4のメタノール−エチレングリ
コール混合溶媒に溶解した緑色発光層形成用塗液、およ
び青色発光材料としてのPDFとこの発光材料に対して
0.1wt%に相当する量のレベリング剤 KF96L
−1とをトリメチルベンゼンに溶解した青色発光層形成
用塗液をパターニング塗布した。使用した各塗液の表面
張力は、30dyne/cmであった。Further, using a relief printing apparatus, Pre-CN-PPV as a red light-emitting material and a leveling agent KF9 in an amount corresponding to 0.1 wt% based on the light-emitting material.
6L-1 in a mixed solvent of methanol and diethylene glycol at a mixing ratio of 6: 4, a red light-emitting layer forming coating solution, Pre-PPV as a green light-emitting material, and an amount corresponding to 0.1 wt% based on the light-emitting material. Leveling agent KF9
6L-1 in a mixed solvent of methanol and ethylene glycol at a mixing ratio of 6: 4, a green light emitting layer forming coating solution, PDF as a blue light emitting material, and an amount corresponding to 0.1 wt% based on the light emitting material. Leveling agent KF96L
-1 was dissolved in trimethylbenzene, and a blue light emitting layer forming coating solution was applied by patterning. The surface tension of each coating solution used was 30 dyne / cm.
【0091】塗膜形成後、これらを加熱乾燥して、膜厚
110nmの発光層を得た。PDFを含む塗膜について
は、100℃で1時間加熱乾燥した。また、Pre−C
N−PPVおよびPre−PPV含む塗膜については、
Ar雰囲気下、150℃で6時間加熱処理し、乾燥と同
時にそれぞれCN−PPVおよびPPVに変換した。隔
壁の臨界表面張力と各発光層形成用塗液の表面張力との
関係からも明らかなように、各発光層形成用塗液が隔壁
に対してヌレ性が悪かったために、異なる発光色をもつ
発光画素間での発光層の混じり合いを効果的に防止する
ことができた。After forming the coating films, these were heated and dried to obtain a light emitting layer having a thickness of 110 nm. The coating film containing PDF was heated and dried at 100 ° C. for 1 hour. Also, Pre-C
For coating films containing N-PPV and Pre-PPV,
It was heat-treated at 150 ° C. for 6 hours in an Ar atmosphere, and was converted into CN-PPV and PPV at the same time as drying. As is clear from the relationship between the critical surface tension of the partition walls and the surface tension of each light-emitting layer forming coating liquid, each light-emitting layer forming coating liquid has a different luminescent color due to poor wettability with respect to the partition walls. Mixing of the light emitting layers between the light emitting pixels could be effectively prevented.
【0092】次に、厚さ0.2μm、幅270μm、ピ
ッチ300nmのシャドウマスクを用い、AlとLiを
共蒸着して、第2電極としてのAlLi合金電極を形成
した。最後に得られた素子を、エポキシ樹脂を用いて封
止して、有機ELディスプレイを作製した。Next, Al and Li were co-evaporated using a shadow mask having a thickness of 0.2 μm, a width of 270 μm, and a pitch of 300 nm to form an AlLi alloy electrode as a second electrode. Finally, the obtained device was sealed with an epoxy resin to produce an organic EL display.
【0093】以上のようにして得られた有機EL素子に
30Vのパルス電圧を印加して、発光状態を観察したと
ころ、すべての画素から発光が得られ、第1電極と第2
電極間、第1電極間および第2電極間でのショートは発
生せず、発光層の混じり合いによる混色は観測されなか
った。また、発光層および電荷輸送層の膜厚の不均一に
よる画素内での発光の不均一は観測されなかった。When a pulse voltage of 30 V was applied to the organic EL device obtained as described above and the light emission state was observed, light emission was obtained from all the pixels, and the first electrode and the second electrode
No short circuit occurred between the electrodes, between the first electrodes, and between the second electrodes, and no color mixing due to mixing of the light emitting layers was observed. Further, non-uniform light emission in the pixel due to non-uniform thickness of the light emitting layer and the charge transport layer was not observed.
【0094】[0094]
【発明の効果】本発明によれば、平坦性の優れた有機膜
をインクジェット法または印刷法で成膜することが可能
となり、発光効率の優れたカラー表示可能な有機EL素
子、有機ELディスプレイを安価に製造することが可能
となる。According to the present invention, it is possible to form an organic film having excellent flatness by an ink-jet method or a printing method. It can be manufactured at low cost.
【図1】本発明の有機EL素子の概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view of an organic EL device of the present invention.
【図2】本発明の有機ELディスプレイの発光層の配置
の概略部分平面図である。FIG. 2 is a schematic partial plan view of an arrangement of a light emitting layer of the organic EL display of the present invention.
【図3】本発明の有機ELディスプレイの電極の配置の
概略部分平面図である。FIG. 3 is a schematic partial plan view of an arrangement of electrodes of the organic EL display of the present invention.
【図4】本発明の有機ELディスプレイにおけるインク
ジェット方式による発光層の形成工程の概略図である。FIG. 4 is a schematic view of a step of forming a light-emitting layer by an inkjet method in the organic EL display of the present invention.
【図5】本発明の有機ELディスプレイの印刷装置の概
略部分断面図である。FIG. 5 is a schematic partial sectional view of a printing apparatus for an organic EL display of the present invention.
【図6】本発明の有機ELディスプレイの印刷装置の概
略部分断面図である。FIG. 6 is a schematic partial sectional view of a printing apparatus for an organic EL display of the present invention.
【図7】本発明の有機ELディスプレイの印刷装置の概
略部分断面図である。FIG. 7 is a schematic partial sectional view of a printing apparatus for an organic EL display according to the present invention.
1 基板 2 第1電極 3 有機EL媒体(有機層) 4 第2電極 5 隔壁 6 封止膜または封止基板 7 偏向板 8 赤色(R)発光画素 9 緑色(G)発光画素 10 青色(B)発光画素 11 薄膜トランジスタ(TFT) 12 ソースバスライン 13 ゲートバスライン 14 塗液投入口 15 ブレード 16 転写基板 17 転写基板を固定するロール部 18 塗液 19 X−Yステージ 20 塗液を一時保持するロール部(アニロックスロー
ル) 21 ロール部 22 インクジェットプリンタヘッドDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 1st electrode 3 Organic EL medium (organic layer) 4 2nd electrode 5 Partition 6 Sealing film or substrate 7 Deflection plate 8 Red (R) light emitting pixel 9 Green (G) light emitting pixel 10 Blue (B) Light-emitting pixel 11 Thin-film transistor (TFT) 12 Source bus line 13 Gate bus line 14 Coating liquid inlet 15 Blade 16 Transfer substrate 17 Roll part for fixing transfer substrate 18 Coating liquid 19 XY stage 20 Roll part for temporarily holding coating liquid (Anilox roll) 21 roll part 22 inkjet printer head
Claims (5)
用される有機EL層形成用塗液であって、前記塗液がレ
ベリング剤と発光材料または電荷輸送材料とを含有し、
前記レベリング剤(L)の添加量が、 Lの粘度(cp)×発光材料または電荷輸送材料に対する
Lの添加量(wt%)<200 で表される関係式を満たすことを特徴とする有機EL層
形成用塗液。1. An organic EL layer forming coating liquid used for forming an organic layer of an organic EL element, wherein the coating liquid contains a leveling agent and a luminescent material or a charge transport material.
The organic EL device according to claim 1, wherein the amount of the leveling agent (L) satisfies a relational expression represented by: L viscosity (cp) × the amount of L added to the light emitting material or the charge transporting material (wt%) <200. Coating liquid for forming a layer.
圧が500Pa以下である溶媒を含有する請求項1に記
載の有機EL層形成用塗液。2. The coating liquid for forming an organic EL layer according to claim 1, which contains a solvent having a vapor pressure of 500 Pa or less at a temperature at which the organic layer is formed.
成用塗液を用いて、有機EL素子の有機層をインクジェ
ット法または印刷法で形成することを特徴とする有機E
L素子の製造方法。3. An organic EL device, wherein an organic layer of an organic EL element is formed by an inkjet method or a printing method using the coating liquid for forming an organic EL layer according to claim 1 or 2.
Manufacturing method of L element.
が、請求項1または2に記載の有機EL層形成用塗液を
用いて形成され、かつシリコン系化合物もしくはフッ素
系化合物からなるレベリング剤を含有することを特徴と
する有機EL素子。4. A leveling agent, wherein at least one of the organic layers of the organic EL device is formed using the coating liquid for forming an organic EL layer according to claim 1 or 2, and is made of a silicon compound or a fluorine compound. An organic EL device comprising:
さい臨界表面張力をもつ隔壁を有する請求項4に記載の
有機EL素子。5. The organic EL device according to claim 4, comprising a partition having a critical surface tension smaller than the surface tension of the coating liquid for forming an organic EL layer.
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