JP2002047337A

JP2002047337A - 封止用樹脂組成物および半導体封止装置

Info

Publication number: JP2002047337A
Application number: JP2000236360A
Authority: JP
Inventors: Yuko Takahashi; 優子高橋; Osamu Matsuda; 理松田
Original assignee: Toshiba Chemical Corp
Current assignee: Kyocera Chemical Corp
Priority date: 2000-08-04
Filing date: 2000-08-04
Publication date: 2002-02-12

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明の熱硬化性樹脂組成物を電子部品の封
止に使用することにより、熱硬化性、保存安定性に優
れ、かつ充填性や作業性がよい半導体等の電子部品を成
形することができ、作業性、性能の両面で改善をはかる
ことができる。【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）ノボラック型
フェノール樹脂、（Ｃ）２−メチルイミダゾールのコハ
ク酸塩および（Ｄ）無機質充填剤を必須成分とし、樹脂
組成物に対して、前記（Ｃ）２−メチルイミダゾールの
コハク酸塩を０．０１〜５．０重量％、また前記（Ｄ）
無機質充填剤を２５〜９５重量％の割合で含有してなる
封止用樹脂組成物であり、また、該組成物によって半導
体チップが封止された半導体封止装置である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体等の電子部
品のための封止用樹脂組成物および半導体封止装置に関
する。更に詳しくは、２−メチルイミダゾールのコハク
酸塩を硬化触媒として、熱硬化性に優れ、保存安定性に
も優れた封止用のエポキシ樹脂組成物とそれにより半導
体チップを封止した半導体封止装置である。

【０００２】

【従来の技術】半導体および電子部品は、それを外部環
境から保護するためにセラミックパッケージまたは樹脂
パッケージなどで封止されているが、この封止材料につ
いてはコスト、生産性等の面から無機質充填剤を含有さ
せた合成樹脂組成物によるものが普及している。

【０００３】この合成樹脂組成物は、エポキシ樹脂等の
熱硬化性樹脂とシリカ等の無機質充填剤とから構成され
ているが、これらの組成物は熱硬化性に優れ、かつ保存
安定性にも優れており、しかも低コストのものが望まし
い。

【０００４】しかしながら、主剤にエポキシ樹脂を用
い、硬化剤としてフェノール樹脂やアミン系又は酸無水
物系硬化剤等を用いた樹脂組成物は、熱硬化性に優れて
いる反面、保存安定性が悪く、低温での保管が必要であ
ったり、また液状の樹脂組成物では、主剤と硬化剤とを
分ける必要があった。また、２−メチルイミダゾール触
媒でも、保存安定性が劣っていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を解消するためになされたもので、熱硬化性に優れ、か
つ保存安定性にも優れ、充填性や作業性が良く、成形に
適した熱硬化性封止用樹脂組成物および半導体封止装置
を提供しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、２−メチルイ
ミダゾールのコハク酸塩を硬化触媒とした後述する組成
の樹脂組成物を使用することによって、上記目的が達成
されることを見いだし、本発明を完成したものである。

【０００７】即ち、本発明は、（Ａ）エポキシ樹脂、
（Ｂ）ノボラック型フェノール樹脂、（Ｃ）２−メチル
イミダゾールのコハク酸塩および（Ｄ）無機質充填剤を
必須成分とし、樹脂組成物に対して、前記（Ｃ）２−メ
チルイミダゾールのコハク酸塩を０．０１〜５．０重量
％、また前記（Ｄ）無機質充填剤を２５〜９５重量％の
割合で含有してなることを特徴とする封止用樹脂組成物
である。また、この封止用樹脂組成物の硬化物によっ
て、半導体チップを封止してなることを特徴とする半導
体封止装置である。

【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。

【０００９】本発明の樹脂組成物は、２−メチルイミダ
ゾールのコハク酸塩と無機充填剤をエポキシ樹脂および
ノボラックフェノール樹脂に配合したものである。

【００１０】本発明に用いる（Ａ）エポキシ樹脂として
は、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエ
ステル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂、各種ノボラック型エポキシ樹
脂、脂環型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポ
キシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられ、こ
れらのエポキシ樹脂は、単独もしくは２種以上混合して
用いることができる。

【００１１】本発明に用いる（Ｂ）ノボラック型フェノ
ール樹脂としては、フェノール、アルキルフェノール等
のフェノール類とホルムアルデヒド、パラホルムアルデ
ヒド等のアルデヒド類とを反応させて得られるノボラッ
ク型フェノール樹脂およびこれらの変性樹脂、例えばエ
ポキシ化もしくはブチル化ノボラック型フェノール樹脂
等が挙げられ、これらの樹脂は、単独もしくは２種以上
混合して用いる。ノボラック型フェノール樹脂の配合割
合は、前述したエポキシ樹脂のエポキシ基（ａ）とノボ
ラック型フェノール樹脂のフェノール性水酸基（ｂ）と
の当量比［（ａ）／（ｂ）］が０．１〜１０の範囲内で
あることが望ましい。当量比が０．１未満もしくは１０
を超えると、耐熱性、耐湿性、成形作業性および硬化物
の電気特性が悪くなり、いずれの場合も好ましくない。
従って上記の範囲内に限定するのが良い。

【００１２】本発明に用いる（Ｃ）２−メチルイミダゾ
ールのコハク酸塩は、次の構造式に示されるものであ
る。

【００１３】

【化１】（但し、式中、Ｒ¹、Ｒ²は、水素原子又はアルキル基
を表し、Ｒ¹とＲ²が同じであってよい）具体的に銘柄
としては、Ｌ００２３（東京化成工業社製、商品名）な
どが挙げられる。

【００１４】２−メチルイミダゾールのコハク酸塩の配
合割合は、全体の樹脂組成物に対して０．０１〜５．０
重量％含有することが望ましい。この割合が０．０１重
量％未満では、触媒作用が十分でなく、また、５．０重
量％を超えると、保存安定性が劣化するので、いずれも
好ましくない本発明に用いる（Ｄ）無機質充填剤としては、クレー、
マイカ、タルク、石英粉末、シリカ、軽石粉末、炭酸カ
ルシウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、ガラスビーズ、ア
ルミナ粉末等が挙げられ、これらは単独又は２種以上混
合して使用することができる。無機質充填剤の配合割合
は、全体の樹脂組成物に対して２５〜９５重量％の割合
で含有することが望ましい。その割合が２５重量％未満
では、耐熱性、耐湿性、半田耐熱性、機械的特性および
成形性が悪くなり、また、９５重量％を超えるとカサバ
リが大きくなり、成形性に劣り実用に適さない。

【００１５】本発明の封止用樹脂組成物は、エポキシ樹
脂、ノボラック型フェノール樹脂、２−メチルイミダゾ
ールのコハク酸塩および無機質充填剤を必須成分とする
が、本発明の目的に反しない限度において、また必要に
応じて、粘度調整用の溶剤、カップリング剤その他の添
加剤を適宜、添加配合することができる。その溶剤とし
ては、非極性あるいは極性有機溶剤、非極性あるいは極
性無機溶剤等が挙げられ、これらは単独又は２種以上混
合して使用することができる。

【００１６】本発明の封止用樹脂組成物を成形材料とし
て調製する場合の一般的な方法としては、エポキシ樹
脂、ノボラック型フェノール樹脂、２−メチルイミダゾ
ールのコハク酸塩、無機質充填剤、その他成分を配合
し、ミキサー等によって十分均一に混合した後、さらに
熱ロールによる溶融混合処理又はニーダ等による混合処
理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕し
て成形材料とすることができる。こうして得られた成形
材料は、半導体装置をはじめとする電子部品あるいは電
気部品の封止、被覆、絶縁等に適用すれば、優れた特性
と信頼性を付与させることができる。

【００１７】本発明の半導体封止装置は、上記のように
して得られた封止用樹脂を用いて、半導体チップを封止
することにより容易に製造することができる。封止の最
も一般的な方法としては、低圧トランスファー成形法が
あるが、射出成形、圧縮成形、注型等による封止も可能
である。封止用樹脂組成物を封止の際に加熱して硬化さ
せ、最終的にはこの組成物の硬化物によって封止された
半導体封止装置が得られる。加熱による硬化は、１５０
℃以上に加熱して硬化させることが望ましい。封止を行
う半導体装置としては、例えば集積回路、大規模集積回
路、トランジスタ、サイリスタ、ダイオード等で特に限
定されるものではない。

【００１８】

【作用】本発明の熱硬化性封止用樹脂組成物および半導
体封止装置は、樹脂成分として２−メチルイミダゾール
のコハク酸塩を用いたことによって、目的とする特性が
得られるものである。即ち、熱硬化性に優れるととも
に、保存安定性に優れ、充填性や作業性が良い、半導体
等の電子部品を成形することができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】次に本発明を実施例によって具体
的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定
されるものではない。

【００２０】実施例１〜２（Ａ）エポキシ樹脂として、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂のＥＯＣＮ−４４００（日本化薬社製、商品
名）を、（Ｂ）ノボラック型フェノール樹脂として、Ｂ
ＲＧ−５５８（昭和高分子社製、商品名）を、（Ｃ）硬
化触媒として２−メチルイミダゾールのコハク酸塩を、
そして（Ｄ）無機質充填剤として、平均粒径が２５μｍ
の溶融シリカを、それぞれ表１に示す割合で配合し、ロ
ールミルにて混練してこれを冷却粉砕して、実施例１〜
２のエポキシ樹脂組成物を製造した。

【００２１】比較例１〜２エポキシ樹脂として、クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂のＥＯＣＮ−４４００（前出）を、ノボラック型フ
ェノール樹脂として、ＢＲＧ−５５８（前出）を、硬化
触媒として、有機燐系触媒のトリフェニルホスフィン
（ＴＰＰ）を、無機質充填剤として、実施例で用いたと
同じ平均粒径２５μｍの溶融シリカを、それぞれ表１に
示す割合で配合し、ロールミルにて混練してこれを冷却
粉砕して比較例１〜２のエポキシ樹脂組成物を製造し
た。

【００２２】比較例３〜４エポキシ樹脂として、クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂のＥＯＣＮ−４４００（前出）を、ノボラック型フ
ェノール樹脂として、ＢＲＧ−５５８（前出）を、硬化
触媒として、２−エチル−４−メチルイミダゾールを、
無機質充填剤として、実施例で用いたと同じ平均粒径２
５μｍの溶融シリカを、それぞれ表１に示す割合で配合
し、ロールミルにて混練してこれを冷却粉砕して比較例
３〜４のエポキシ樹脂組成物を製造した。

【００２３】前記実施例１〜２および比較例１〜４で得
たエポキシ樹脂組成物の硬化性および保存安定性をみる
ために、高化式フロー粘度およびゲルタイムを測定し
た。

【００２４】その結果を表１〜２に示したが、実施例１
〜２の樹脂組成物は、比較例１〜４の樹脂組成物より熱
硬化製および保存安定性に優れ、かつ、フィラーを高充
填化しても樹脂組成物粘度が低く、成形性および作業性
に優れていた。

【００２５】

【表１】＊１：島津フローテスターＣＦＴ−５００型により、１
７５℃、荷重１０ｋｇにおける粘度を測定した。

【００２６】＊２：１７５℃の熱板上でのゲル化時間を
測定した。

【００２７】＊３：粘度倍増までの２５℃での保管日数
を調べた。

【００２８】

【発明の効果】以上の説明および表１から明らかなよう
に、本発明の封止用樹脂組成物は熱硬化性かつ保存安定
性に優れ、充填性や作業性が良いため、この樹脂組成物
を電子部品の封止に使用することにより、半導体封止装
置の生産性、性能の両面で改善をはかることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4J002 CC03X CC07X CD00W CD01W CD02W CD05W CD06W CD12W DE107 DE147 DE237 DG047 DJ017 DJ037 DJ047 DJ057 DL007 EU116 FD017 FD14X GJ02 4J036 AD07 AD08 AD09 AE07 AF01 AF06 AG00 AJ08 DC40 FA03 FA04 FA05 FB07 JA07 4M109 AA01 BA01 CA21 EA02 EB03 EB04 EB12 EC14

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）ノボラック
型フェノール樹脂、（Ｃ）２−メチルイミダゾールのコ
ハク酸塩および（Ｄ）無機質充填剤を必須成分とし、樹
脂組成物に対して、前記（Ｃ）２−メチルイミダゾール
のコハク酸塩を０．０１〜５．０重量％、また前記
（Ｄ）無機質充填剤を２５〜９５重量％の割合で含有し
てなることを特徴とする封止用樹脂組成物。
【請求項２】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）ノボラック
型フェノール樹脂、（Ｃ）２−メチルイミダゾールのコ
ハク酸塩および（Ｄ）無機質充填剤を必須成分とし、樹
脂組成物に対して、前記（Ｃ）２−メチルイミダゾール
のコハク酸塩を０．０１〜５．０重量％、また前記
（Ｄ）無機質充填剤を２５〜９５重量％の割合で含有し
た封止用樹脂組成物の硬化物によって、半導体チップが
封止されてなることを特徴とする半導体封止装置。