JP2002040149A - 散乱線吸収グリッドおよびその製造方法 - Google Patents
散乱線吸収グリッドおよびその製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 115
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 62
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 49
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 43
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 35
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 35
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 claims description 21
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 claims 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 3
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 229920006257 Heat-shrinkable film Polymers 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 散乱線吸収グリッドの製造方法において、作
業効率を高め、かつコストを低減する。 【解決手段】 放射線透過材料からなる基板２０に、使
用時に想定される放射線源の位置２００に向かって収束
する傾きを持たせて多数の深溝１０を形成し、この深溝
１０に放射線吸収粉体を充填する。
業効率を高め、かつコストを低減する。 【解決手段】 放射線透過材料からなる基板２０に、使
用時に想定される放射線源の位置２００に向かって収束
する傾きを持たせて多数の深溝１０を形成し、この深溝
１０に放射線吸収粉体を充填する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射線撮影装置に
使用される散乱線吸収グリッドおよびその製造方法に関
し、詳しくは、グリッドを構成する材料が放射線の放射
方向に傾いて並んだ散乱線吸収グリッドおよびその製造
方法に関するものである。
使用される散乱線吸収グリッドおよびその製造方法に関
し、詳しくは、グリッドを構成する材料が放射線の放射
方向に傾いて並んだ散乱線吸収グリッドおよびその製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】放射線撮影装置によって撮影を行なうと
きに被写体と放射線検出器との間に配置され、被写体に
よって散乱された散乱線を吸収してＳ／Ｎの高い放射線
を得るための散乱線吸収グリッドが知られている。
きに被写体と放射線検出器との間に配置され、被写体に
よって散乱された散乱線を吸収してＳ／Ｎの高い放射線
を得るための散乱線吸収グリッドが知られている。
【０００３】この散乱線吸収グリッドは、放射線を吸収
するグリッドを構成する材料である細長い薄板からなる
板材を多数、間隔をおいて並べて全体として平板状に形
成されたものであり、被写体によって散乱されて斜めに
進む散乱放射線を吸収し、放射線源から被写体を通して
直線的に放射線検出器に入射する放射線のみを効果的に
透過させることにより、検出された被写体の画像に混入
する散乱放射線によるノイズを低減させるものである。
するグリッドを構成する材料である細長い薄板からなる
板材を多数、間隔をおいて並べて全体として平板状に形
成されたものであり、被写体によって散乱されて斜めに
進む散乱放射線を吸収し、放射線源から被写体を通して
直線的に放射線検出器に入射する放射線のみを効果的に
透過させることにより、検出された被写体の画像に混入
する散乱放射線によるノイズを低減させるものである。
【０００４】この平板状に形成されたグリッドを構成す
る板材は、放射線源から発せられた、被写体を透過して
直線的に放射線検出器に入射する放射線の進行を妨げな
いように、この放射線源に向けて整列させ、すなわち放
射線の放射方向に沿って並ぶように、ブロックの中央か
ら両端部に向かうほど傾斜角度が大きくなるように配列
させるのが、より高いＳ／Ｎを得るために好ましい。
る板材は、放射線源から発せられた、被写体を透過して
直線的に放射線検出器に入射する放射線の進行を妨げな
いように、この放射線源に向けて整列させ、すなわち放
射線の放射方向に沿って並ぶように、ブロックの中央か
ら両端部に向かうほど傾斜角度が大きくなるように配列
させるのが、より高いＳ／Ｎを得るために好ましい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この効
率の良い散乱線吸収グリッドを製造するには、グリッド
用板材の傾斜角度を少しずつ変化させて配列させるため
に、例えば形状が異なる複数種類のスペーサを板材の間
に介在させて配することが必要となり、さらにこれらの
形状が少しずつ異なる多数のスペーサとグリッド用板材
とを予め決められた順番に交互に配列する製造工程が必
要となる。従って、この散乱線吸収グリッドの製造工程
は、作業効率（生産性）が悪いものとなり、この型のグ
リッドのコストを高くしている。
率の良い散乱線吸収グリッドを製造するには、グリッド
用板材の傾斜角度を少しずつ変化させて配列させるため
に、例えば形状が異なる複数種類のスペーサを板材の間
に介在させて配することが必要となり、さらにこれらの
形状が少しずつ異なる多数のスペーサとグリッド用板材
とを予め決められた順番に交互に配列する製造工程が必
要となる。従って、この散乱線吸収グリッドの製造工程
は、作業効率（生産性）が悪いものとなり、この型のグ
リッドのコストを高くしている。
【０００６】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、製造工程が単純化された作業効率の良い、すなわ
ち生産性の高い散乱線吸収グリッドの製造方法、および
この製造方法によってコストが低減された散乱線吸収グ
リッドを提供することを目的とするものである。
あり、製造工程が単純化された作業効率の良い、すなわ
ち生産性の高い散乱線吸収グリッドの製造方法、および
この製造方法によってコストが低減された散乱線吸収グ
リッドを提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の第１散乱線吸収
グリッドの製造方法は、放射線透過材料からなる基板
に、使用時に放射線源に向かって略収束する傾きを持た
せて多数の深溝を形成し、この深溝に放射線吸収体を充
填することを特徴とするものである。
グリッドの製造方法は、放射線透過材料からなる基板
に、使用時に放射線源に向かって略収束する傾きを持た
せて多数の深溝を形成し、この深溝に放射線吸収体を充
填することを特徴とするものである。
【０００８】放射線吸収体は融解した状態で深溝に充填
することができ、充填後、放射線吸収体を固化させても
よい。
することができ、充填後、放射線吸収体を固化させても
よい。
【０００９】本発明の第２の散乱線吸収グリッドの製造
方法は、放射線透過材料からなる基板に、使用時に放射
線源に向かって略収束する傾きを持たせて多数の深溝を
形成し、この深溝に放射線吸収粉体を充填することを特
徴とするものである。
方法は、放射線透過材料からなる基板に、使用時に放射
線源に向かって略収束する傾きを持たせて多数の深溝を
形成し、この深溝に放射線吸収粉体を充填することを特
徴とするものである。
【００１０】粉体は、融解した状態で深溝に充填した
り、流体と共に深溝に充填したりすることができる。
り、流体と共に深溝に充填したりすることができる。
【００１１】流体は、水および／または有機溶剤からな
るものとすることができ、深溝に充填後、この流体を乾
燥させてもよい。また、流体は、この流体を固化させる
ためのバインダを含むものとしたり、粉体より低融点の
物質を融解した流体からなるものとすることができ、深
溝に充填後、これらの材料あるいは流体を固化させても
よい。
るものとすることができ、深溝に充填後、この流体を乾
燥させてもよい。また、流体は、この流体を固化させる
ためのバインダを含むものとしたり、粉体より低融点の
物質を融解した流体からなるものとすることができ、深
溝に充填後、これらの材料あるいは流体を固化させても
よい。
【００１２】また、前記充填後、固化後、あるいは乾燥
後に深溝を密封することが好ましい。
後に深溝を密封することが好ましい。
【００１３】本発明の第１の散乱線吸収グリッドは、使
用時に放射線源に向かって略収束する傾きを有する多数
の深溝が形成された放射線透過材料からなる基板と、前
記深溝に充填された放射線吸収体とからなることを特徴
とするものである。
用時に放射線源に向かって略収束する傾きを有する多数
の深溝が形成された放射線透過材料からなる基板と、前
記深溝に充填された放射線吸収体とからなることを特徴
とするものである。
【００１４】本発明の第２の散乱線吸収グリッドは、使
用時に放射線源に向かって略収束する傾きを有する多数
の深溝が形成された放射線透過材料からなる基板と、前
記深溝に充填された放射線吸収粉体とからなることを特
徴とするものである。
用時に放射線源に向かって略収束する傾きを有する多数
の深溝が形成された放射線透過材料からなる基板と、前
記深溝に充填された放射線吸収粉体とからなることを特
徴とするものである。
【００１５】前記放射線吸収体および放射線吸収粉体
は、深溝内に密封されていることが好ましい。
は、深溝内に密封されていることが好ましい。
【００１６】なお、前記基板は、放射線透過材料からな
る深溝を形成できる材料によって形成されたものであれ
ばよく、例えば樹脂（発泡樹脂も含む）や木等が適切で
ある。
る深溝を形成できる材料によって形成されたものであれ
ばよく、例えば樹脂（発泡樹脂も含む）や木等が適切で
ある。
【００１７】また、前記深溝とは、１方向に長く伸びた
非常に幅が狭く深い溝（例えば、幅が０．１ｍｍ程度、
深さが２〜１５ｍｍ、長さが４５０ｍｍ程度の溝）であ
り、溝の端は貫通していても、貫通されていなくても
（行き止まりとなっていても）かまわない。
非常に幅が狭く深い溝（例えば、幅が０．１ｍｍ程度、
深さが２〜１５ｍｍ、長さが４５０ｍｍ程度の溝）であ
り、溝の端は貫通していても、貫通されていなくても
（行き止まりとなっていても）かまわない。
【００１８】また、各深溝は必ずしもその幅方向に平行
に並ぶように形成する必要はなく、放射線の放射方向に
沿って傾いていれば、各深溝が交差するように形成され
ていてもよい。
に並ぶように形成する必要はなく、放射線の放射方向に
沿って傾いていれば、各深溝が交差するように形成され
ていてもよい。
【００１９】なお、深溝の傾きは、厳密には深溝が平面
状に延びたものでは放射線の放射方向に完全に沿うこと
はできないが（放射線源を頂点とする円錐状でなければ
放射線の放射方向に一致しない）、グリッドの外へ行く
ほど傾きを大きくすれば、深溝が平面状でも、傾いてい
ないものに比べれば放射方向に沿うことができる。
状に延びたものでは放射線の放射方向に完全に沿うこと
はできないが（放射線源を頂点とする円錐状でなければ
放射線の放射方向に一致しない）、グリッドの外へ行く
ほど傾きを大きくすれば、深溝が平面状でも、傾いてい
ないものに比べれば放射方向に沿うことができる。
【００２０】また、前記放射線吸収体は、放射線を吸収
する重金属を主成分とする材料であることが好ましく、
例えば鉛、タングステン、タンタル、ビスマス、タリウ
ム等が適切である。また、その形態は流体状、塊状、線
状、粒状等どのような形態であってもかまわない。
する重金属を主成分とする材料であることが好ましく、
例えば鉛、タングステン、タンタル、ビスマス、タリウ
ム等が適切である。また、その形態は流体状、塊状、線
状、粒状等どのような形態であってもかまわない。
【００２１】また、前記放射線吸収粉体は、放射線を吸
収する重金属を主成分とする粉体であることが好まし
く、例えば鉛、タングステン、タンタル、ビスマス、タ
リウム等の粉体が適切である。
収する重金属を主成分とする粉体であることが好まし
く、例えば鉛、タングステン、タンタル、ビスマス、タ
リウム等の粉体が適切である。
【００２２】また、前記流体とは、前記深溝に充填する
ことができる程度の流動性を持つものであれば比重、粘
性、圧縮性等はどのような物性を持つものであってもよ
い。
ことができる程度の流動性を持つものであれば比重、粘
性、圧縮性等はどのような物性を持つものであってもよ
い。
【００２３】また、前記バインダとしては、流体中に粉
体と共に略均一に分散され、流体の流動性を妨げない材
料が適切である。
体と共に略均一に分散され、流体の流動性を妨げない材
料が適切である。
【００２４】また、前記深溝を密封するとは、放射線吸
収粉体あるいは放射線吸収粉体が深溝から外部に散逸し
ないように密封すればよく、例えば各深溝の開口部を覆
うように基板の表面に平板やフィルム等を密着させて密
封してもよいし、各深溝の開口部に密封用の部材を挿入
してもよい。
収粉体あるいは放射線吸収粉体が深溝から外部に散逸し
ないように密封すればよく、例えば各深溝の開口部を覆
うように基板の表面に平板やフィルム等を密着させて密
封してもよいし、各深溝の開口部に密封用の部材を挿入
してもよい。
【００２５】また、粉体より低融点の物質しては、例え
ば粉体をタングステンとする場合には、亜鉛、錫、鉛、
アルミニウム等が粉体より低融点の物質に該当し、粉体
を鉛とする場合には、水、アルコール等が粉体より低融
点の物質に該当する。
ば粉体をタングステンとする場合には、亜鉛、錫、鉛、
アルミニウム等が粉体より低融点の物質に該当し、粉体
を鉛とする場合には、水、アルコール等が粉体より低融
点の物質に該当する。
【００２６】また、放射線吸収体を融点以上で融解した
状態とは、放射線吸収体のみが融解している状態に限ら
ず、例えば放射線吸収体と、この放射線吸収体より融点
が低い材料とが混ざった状態あるいは合金化された状態
や、放射線吸収体と、この放射線吸収体より融点が高い
材料とが、この融点が高い材料の融点以上の温度におい
て混ざった状態あるいは合金化された状態等をも意味す
る。なお、このように混ざった状態あるいは合金化され
た状態においても、これらの材料は放射線を吸収する特
性を有する。
状態とは、放射線吸収体のみが融解している状態に限ら
ず、例えば放射線吸収体と、この放射線吸収体より融点
が低い材料とが混ざった状態あるいは合金化された状態
や、放射線吸収体と、この放射線吸収体より融点が高い
材料とが、この融点が高い材料の融点以上の温度におい
て混ざった状態あるいは合金化された状態等をも意味す
る。なお、このように混ざった状態あるいは合金化され
た状態においても、これらの材料は放射線を吸収する特
性を有する。
【００２７】また、放射線吸収粉体を融点以上で融解し
た状態とは、放射線吸収粉体のみが融解している状態に
限らず、例えば放射線吸収粉体と、この粉体より融点が
低い材料とが混ざった状態あるいは合金化された状態
や、放射線吸収粉体と、この粉体より融点が高い材料と
が、この融点が高い材料の融点以上の温度において混ざ
った状態あるいは合金化された状態等をも意味する。な
お、このように混ざった状態あるいは合金化された状態
においても、これらの材料は放射線を吸収する特性を有
する。
た状態とは、放射線吸収粉体のみが融解している状態に
限らず、例えば放射線吸収粉体と、この粉体より融点が
低い材料とが混ざった状態あるいは合金化された状態
や、放射線吸収粉体と、この粉体より融点が高い材料と
が、この融点が高い材料の融点以上の温度において混ざ
った状態あるいは合金化された状態等をも意味する。な
お、このように混ざった状態あるいは合金化された状態
においても、これらの材料は放射線を吸収する特性を有
する。
【００２８】
【発明の効果】本発明の第１の散乱線吸収グリッドの製
造方法によれば、基板に多数の深溝を形成し、この深溝
に放射線吸収体を充填するだけの工程により放射線の放
射方向に沿ってグリッド要素を持った散乱線吸収グリッ
ドが製造できるので、複数種類の異なる形状を持つスペ
ーサを用意して、これらのスペーサを決められた場所に
決められた順番で配列する従来の複雑な工程に比して、
部品点数が大幅に削減され材料コストが安価となる上に
作業効率を向上させることができ、大幅にコスト低減さ
れた散乱線吸収グリッドを製造することができる。
造方法によれば、基板に多数の深溝を形成し、この深溝
に放射線吸収体を充填するだけの工程により放射線の放
射方向に沿ってグリッド要素を持った散乱線吸収グリッ
ドが製造できるので、複数種類の異なる形状を持つスペ
ーサを用意して、これらのスペーサを決められた場所に
決められた順番で配列する従来の複雑な工程に比して、
部品点数が大幅に削減され材料コストが安価となる上に
作業効率を向上させることができ、大幅にコスト低減さ
れた散乱線吸収グリッドを製造することができる。
【００２９】また、前記放射線吸収体を融点以上で融解
した材料を深溝に充填するようにすれば、より容易に深
溝に材料を充填することができるので、作業効率をさら
に向上させることができ、製造コストをより低減させる
ことができる。
した材料を深溝に充填するようにすれば、より容易に深
溝に材料を充填することができるので、作業効率をさら
に向上させることができ、製造コストをより低減させる
ことができる。
【００３０】また、前記充填後、前記材料を固化させる
ようにすれば、この材料が溝の中で移動したり、溝外へ
散逸するのを防止することができるので、製品として安
定したグリッドを作ることができる。
ようにすれば、この材料が溝の中で移動したり、溝外へ
散逸するのを防止することができるので、製品として安
定したグリッドを作ることができる。
【００３１】本発明の第２の散乱線吸収グリッドの製造
方法によれば、基板に多数の深溝を形成し、この深溝に
放射線吸収粉体を充填するだけの工程により放射線の放
射方向に沿ってグリッド要素を持った散乱線吸収グリッ
ドが製造できるので、複数種類の異なる形状を持つスペ
ーサを用意して、これらのスペーサを決められた場所に
決められた順番で配列する従来の複雑な工程に比して、
部品点数が大幅に削減され材料コストが安価となる上に
作業効率を向上させることができ、大幅にコスト低減さ
れた散乱線吸収グリッドを製造することができる。
方法によれば、基板に多数の深溝を形成し、この深溝に
放射線吸収粉体を充填するだけの工程により放射線の放
射方向に沿ってグリッド要素を持った散乱線吸収グリッ
ドが製造できるので、複数種類の異なる形状を持つスペ
ーサを用意して、これらのスペーサを決められた場所に
決められた順番で配列する従来の複雑な工程に比して、
部品点数が大幅に削減され材料コストが安価となる上に
作業効率を向上させることができ、大幅にコスト低減さ
れた散乱線吸収グリッドを製造することができる。
【００３２】また、前記粉体を融点以上で融解した材料
を、または流体、例えば水および／または有機溶剤から
なる流体、と共に前記粉体を深溝に充填するようにすれ
ば、より容易に深溝に材料を充填することができるの
で、作業効率をさらに向上させることができ、製造コス
トをより低減させることができる。
を、または流体、例えば水および／または有機溶剤から
なる流体、と共に前記粉体を深溝に充填するようにすれ
ば、より容易に深溝に材料を充填することができるの
で、作業効率をさらに向上させることができ、製造コス
トをより低減させることができる。
【００３３】また、前記流体を、この流体を固化させる
ためのバインダを含むものとすれば、深溝に充填後、こ
の流体をより容易に固化させることができる。
ためのバインダを含むものとすれば、深溝に充填後、こ
の流体をより容易に固化させることができる。
【００３４】また、前記流体を、粉体より低融点の物質
を融解した材料からなるものとすれば、より容易に深溝
に材料を充填することができるので、作業効率をさらに
向上させることができる。
を融解した材料からなるものとすれば、より容易に深溝
に材料を充填することができるので、作業効率をさらに
向上させることができる。
【００３５】また、前記充填後、前記材料あるいは流体
を固化あるいは乾燥させるようにすれば、粉体が溝の中
で移動したり、溝外へ散逸するのを防止することができ
るので、製品として安定したグリッドを作ることができ
る。
を固化あるいは乾燥させるようにすれば、粉体が溝の中
で移動したり、溝外へ散逸するのを防止することができ
るので、製品として安定したグリッドを作ることができ
る。
【００３６】また、前記放射線吸収体あるいは放射線吸
収粉体の充填後、深溝を密封するようにすれば、基板を
傾けたり逆さにしたような場合等においても、深溝内の
粉体を確実に保持することができるので、より安定した
取り扱い易い散乱線吸収グリッドを製造することができ
る。
収粉体の充填後、深溝を密封するようにすれば、基板を
傾けたり逆さにしたような場合等においても、深溝内の
粉体を確実に保持することができるので、より安定した
取り扱い易い散乱線吸収グリッドを製造することができ
る。
【００３７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の散乱線吸収グリッ
ドの具体的な実施の形態について、図面を用いて説明す
る。
ドの具体的な実施の形態について、図面を用いて説明す
る。
【００３８】図１は、本発明の実施の形態による散乱線
吸収グリッドの概略構成を示す図である。図１に示すよ
うに、散乱線吸収グリッド９は、使用時に想定される放
射線源の位置９に向かって収束する傾きを有する多数の
深溝１が形成された放射線透過材料からなる基板２と、
この深溝１に充填された放射線吸収粉体３とからなる。
吸収グリッドの概略構成を示す図である。図１に示すよ
うに、散乱線吸収グリッド９は、使用時に想定される放
射線源の位置９に向かって収束する傾きを有する多数の
深溝１が形成された放射線透過材料からなる基板２と、
この深溝１に充填された放射線吸収粉体３とからなる。
【００３９】粉体３は、重金属を主成分とし、例えば
鉛、タングステン等からなる。
鉛、タングステン等からなる。
【００４０】基板２に形成されている深溝１は、幅が
０．１ｍｍ程度、深さが１０ｍｍ程度、長さが４５０ｍ
ｍ程度の細長い溝である。なお、深溝１は、想定される
放射線撮影時の放射線源の位置９に向かうように、中心
部Ｃから両端部Ｅ１およびＥ２に向かうほどその傾斜角
度が大きくなっており、互いに隣り合う深溝１の間隔は
０．２ｍｍから１．０ｍｍ程度である。また、基板２
は、木、発泡樹脂等の放射線透過材料からなる。
０．１ｍｍ程度、深さが１０ｍｍ程度、長さが４５０ｍ
ｍ程度の細長い溝である。なお、深溝１は、想定される
放射線撮影時の放射線源の位置９に向かうように、中心
部Ｃから両端部Ｅ１およびＥ２に向かうほどその傾斜角
度が大きくなっており、互いに隣り合う深溝１の間隔は
０．２ｍｍから１．０ｍｍ程度である。また、基板２
は、木、発泡樹脂等の放射線透過材料からなる。
【００４１】なお、図２に示すように、粉体３が深溝１
内に密封されるように基板２の深溝１の開口部を有する
面２Ａ、２Ｂおよび２Ｃに、放射線透過材料からなる封
止板４Ａ、４Ｂおよび４Ｃまたは封止フィルム等を密着
させて配設してもよい。
内に密封されるように基板２の深溝１の開口部を有する
面２Ａ、２Ｂおよび２Ｃに、放射線透過材料からなる封
止板４Ａ、４Ｂおよび４Ｃまたは封止フィルム等を密着
させて配設してもよい。
【００４２】また、図３に示すように、熱収縮フィルム
５によって基板２の全面を密着して覆い、粉体を深溝内
に密封するようにしてもよい。
５によって基板２の全面を密着して覆い、粉体を深溝内
に密封するようにしてもよい。
【００４３】また、図４に示すように、基板２の各深溝
１の開口部に沿って、部分的に上記封止板６またはフィ
ルム状の材料を密着させ配設し、粉体を深溝内に密封す
るようにしてもよい。
１の開口部に沿って、部分的に上記封止板６またはフィ
ルム状の材料を密着させ配設し、粉体を深溝内に密封す
るようにしてもよい。
【００４４】また、図５に示すように、基板の面２Ａの
各深溝１の開口部に、この開口部と略等しい幅と長さを
有する封止栓７を挿入することにより粉体を深溝内に密
封するようにしてもよい。
各深溝１の開口部に、この開口部と略等しい幅と長さを
有する封止栓７を挿入することにより粉体を深溝内に密
封するようにしてもよい。
【００４５】また、図６に示すように、基板２の深溝１
は、基板２の側面２Ｂおよび２Ｃを貫通させずに、基板
２の上面２Ａのみに開口部を持つように形成されていて
もよい。
は、基板２の側面２Ｂおよび２Ｃを貫通させずに、基板
２の上面２Ａのみに開口部を持つように形成されていて
もよい。
【００４６】このように構成された散乱線吸収グリッド
は、従来の散乱線吸収グリッドに比べて部品点数が大幅
に削減されているので、コストが低減される。また、前
記粉体を深溝内に密封すれば、放射線撮影を行なう時、
および保管するときにより取り扱い易くなる。
は、従来の散乱線吸収グリッドに比べて部品点数が大幅
に削減されているので、コストが低減される。また、前
記粉体を深溝内に密封すれば、放射線撮影を行なう時、
および保管するときにより取り扱い易くなる。
【００４７】なお、上記深溝に充填される材料として放
射線吸収粉体の代わりに、流体状、塊状、線状、粒状等
の形態を有する放射線吸収体を用いてもよい。
射線吸収粉体の代わりに、流体状、塊状、線状、粒状等
の形態を有する放射線吸収体を用いてもよい。
【００４８】次に本発明の散乱線吸収グリッドの製造工
程の第１の実施の形態について図７から図１１を用いて
説明する。
程の第１の実施の形態について図７から図１１を用いて
説明する。
【００４９】第１の工程としては、放射線透過材料から
なる基板に、使用時に放射線源に向かって収束する傾き
を持たせて多数の深溝を形成する。具体的な加工方式と
しては、図７に示すように、Ｘ―θステージ９０上に、
図８に示すような、木、または発泡樹脂等からなる基板
２０を固定し、Ｘ―θステージ９０のＸ軸およびθ軸を
制御することにより、加工する全ての深溝が使用時に想
定される放射線源の位置２００に向かうように基板２０
を位置決めする。そして、ディスクカッタ９１をＸ軸方
向と直交するＹ軸方向に移動させることによって、上記
位置決めされた基板２０に深溝１０を加工し、図９に示
すような深溝加工済基板２０´を得る。
なる基板に、使用時に放射線源に向かって収束する傾き
を持たせて多数の深溝を形成する。具体的な加工方式と
しては、図７に示すように、Ｘ―θステージ９０上に、
図８に示すような、木、または発泡樹脂等からなる基板
２０を固定し、Ｘ―θステージ９０のＸ軸およびθ軸を
制御することにより、加工する全ての深溝が使用時に想
定される放射線源の位置２００に向かうように基板２０
を位置決めする。そして、ディスクカッタ９１をＸ軸方
向と直交するＹ軸方向に移動させることによって、上記
位置決めされた基板２０に深溝１０を加工し、図９に示
すような深溝加工済基板２０´を得る。
【００５０】なお、上記深溝１０は、その加工方向であ
るＹ軸方向の基板の側面２１Ｂおよび２１Ｃは貫通させ
ずに残して、基板２０の上面２１Ａのみに深溝１０の開
口部が形成されるように加工する。
るＹ軸方向の基板の側面２１Ｂおよび２１Ｃは貫通させ
ずに残して、基板２０の上面２１Ａのみに深溝１０の開
口部が形成されるように加工する。
【００５１】第２の工程としては、図１０に示すよう
に、ディスクカッタによって加工された深溝１０に放射
線吸収粉体３０を粉体のまま充填する。充填後、加工済
基板の上面２１Ａ上に残された放射線吸収粉体３０は除
去される。
に、ディスクカッタによって加工された深溝１０に放射
線吸収粉体３０を粉体のまま充填する。充填後、加工済
基板の上面２１Ａ上に残された放射線吸収粉体３０は除
去される。
【００５２】第３の工程としては、深溝１０に放射線吸
収粉体３０が充填された後、深溝１０を密封する。ここ
では図１１に示すように、深溝加工済基板２０´の上面
２１Ａに、この上面２１Ａと略同じ形状を持つ放射線透
過材料からなる封止板４０または封止フィルム等を接着
することにより深溝１０を密封し、散乱線吸収グリッド
１００を得る。
収粉体３０が充填された後、深溝１０を密封する。ここ
では図１１に示すように、深溝加工済基板２０´の上面
２１Ａに、この上面２１Ａと略同じ形状を持つ放射線透
過材料からなる封止板４０または封止フィルム等を接着
することにより深溝１０を密封し、散乱線吸収グリッド
１００を得る。
【００５３】なお、上記、深溝の密封は、熱収縮フィル
ムによって基板の全面を密着して覆うようにしたり、深
溝の開口部に沿って部分的に上記封止板または封止フィ
ルムを密着させ配設したり、各深溝の開口部に、この開
口部と略等しい幅と長さを有する封止栓を挿入すること
により密封してもよい（第３の工程は必ずしも必要な
い） 次に本発明の第２実施の形態の製造工程について図１１
および図１２を用いて説明する。第２実施の形態は、放
射線吸収粉体を融点以上で融解してから深溝に充填する
製造工程を含むものであり、図中第１の実施の形態と共
通の構成については第１の実施の形態と同一の図面およ
び符号を用いて示し、その説明の一部を省略する。
ムによって基板の全面を密着して覆うようにしたり、深
溝の開口部に沿って部分的に上記封止板または封止フィ
ルムを密着させ配設したり、各深溝の開口部に、この開
口部と略等しい幅と長さを有する封止栓を挿入すること
により密封してもよい（第３の工程は必ずしも必要な
い） 次に本発明の第２実施の形態の製造工程について図１１
および図１２を用いて説明する。第２実施の形態は、放
射線吸収粉体を融点以上で融解してから深溝に充填する
製造工程を含むものであり、図中第１の実施の形態と共
通の構成については第１の実施の形態と同一の図面およ
び符号を用いて示し、その説明の一部を省略する。
【００５４】第１の工程は第１の実施の形態の第１の工
程と同様の工程である。ただし、第２の実施の形態で用
いる基板の材料としては、樹脂材料より耐熱性の優れた
木が好ましい。
程と同様の工程である。ただし、第２の実施の形態で用
いる基板の材料としては、樹脂材料より耐熱性の優れた
木が好ましい。
【００５５】第２の工程は、図１２に示すように放射線
吸収粉体である鉛粉体を融点以上で融解した材料３１
を、深溝加工済基板２０´の深溝１０に充填する工程で
ある。なお、この工程では、融解した材料を深溝に流し
込んで充填するので、粉体をそのまま深溝に充填する第
１の実施の形態の工程に比して、より容易に粉体を深溝
に充填することができる。また、融解した流体状の材料
を、気泡が生じないように溝に埋め込むために、基板を
チャンバー内に入れ、減圧した雰囲気中において上記流
体状の材料を深溝に流し込むことが好ましい。
吸収粉体である鉛粉体を融点以上で融解した材料３１
を、深溝加工済基板２０´の深溝１０に充填する工程で
ある。なお、この工程では、融解した材料を深溝に流し
込んで充填するので、粉体をそのまま深溝に充填する第
１の実施の形態の工程に比して、より容易に粉体を深溝
に充填することができる。また、融解した流体状の材料
を、気泡が生じないように溝に埋め込むために、基板を
チャンバー内に入れ、減圧した雰囲気中において上記流
体状の材料を深溝に流し込むことが好ましい。
【００５６】第３の工程としては、融解した材料３１が
深溝１０に充填された後、この材料３１を固化させる。
ここでは、材料３１を冷却することにより固化させる。
深溝１０に充填された後、この材料３１を固化させる。
ここでは、材料３１を冷却することにより固化させる。
【００５７】第４の工程としては、図１１に示すように
第１の実施の形態の第３の工程と同様の工程により深溝
１０を密封して散乱線吸収グリッドを得る（第２の実施
の形態においては、第４の工程は必ずしも必要なく、第
４の工程を実施する場合には第３の工程を省略してもよ
い） なお、放射線吸収粉体である鉛粉体を融点以上で融解し
た材料が、例えば鉛より融点が低いスズと、鉛とからな
る材料である場合には、この材料は合金となり両者を分
別することはできなくなるが、このような場合において
も上記散乱線を吸収する効果は得られる。
第１の実施の形態の第３の工程と同様の工程により深溝
１０を密封して散乱線吸収グリッドを得る（第２の実施
の形態においては、第４の工程は必ずしも必要なく、第
４の工程を実施する場合には第３の工程を省略してもよ
い） なお、放射線吸収粉体である鉛粉体を融点以上で融解し
た材料が、例えば鉛より融点が低いスズと、鉛とからな
る材料である場合には、この材料は合金となり両者を分
別することはできなくなるが、このような場合において
も上記散乱線を吸収する効果は得られる。
【００５８】また、上記深溝に充填される融解材料は、
鉛粉体等の放射線吸収粉体を出発物質とした融解材料に
限らず、塊状、線状、粒状等の形態を有する放射線吸収
体を出発物質とした融解材料を用いてもよい。
鉛粉体等の放射線吸収粉体を出発物質とした融解材料に
限らず、塊状、線状、粒状等の形態を有する放射線吸収
体を出発物質とした融解材料を用いてもよい。
【００５９】次に本発明の第３実施の形態の製造工程に
ついて図１１および図１２を用いて説明する。第３実施
の形態は放射線吸収粉体を流体と共に深溝に充填する製
造工程を含むものであり、図中第１または２の実施の形
態と共通の構成については第１または２の実施の形態と
同一の図面および符号を用いて示し、その説明の一部を
省略する。
ついて図１１および図１２を用いて説明する。第３実施
の形態は放射線吸収粉体を流体と共に深溝に充填する製
造工程を含むものであり、図中第１または２の実施の形
態と共通の構成については第１または２の実施の形態と
同一の図面および符号を用いて示し、その説明の一部を
省略する。
【００６０】第１の工程は第１の実施の形態の第１の工
程と同様である。
程と同様である。
【００６１】第２の工程は、図１２に示すように放射線
吸収粉体を水および／または有機溶剤からなる流体３２
と共に深溝１０に充填する工程で、これによりは流体を
深溝に流し込んで充填するので、より容易に粉体を深溝
に充填することができる。
吸収粉体を水および／または有機溶剤からなる流体３２
と共に深溝１０に充填する工程で、これによりは流体を
深溝に流し込んで充填するので、より容易に粉体を深溝
に充填することができる。
【００６２】第３の工程は、放射線吸収粉体が上記流体
３２と共に深溝に充填された後、この流体を乾燥させる
工程である。
３２と共に深溝に充填された後、この流体を乾燥させる
工程である。
【００６３】第４の工程としては、図１１に示すよう
に、前記乾燥後、第１の実施の形態の第３の工程と同様
の工程により深溝１０を密封する工程で、これにより目
的とする散乱線吸収グリッドを得る（第４の工程は必ず
しも必要なく、第４の工程を実施する場合には第３の工
程を省略してもよい） 次に本発明の第４実施の形態の製造工程について図１１
および図１２を用いて説明する。第４実施の形態は放射
線吸収粉体を流体と共に深溝に充填する製造工程を含む
ものであり、図中第１、２または３の実施の形態と共通
の構成については第１、２または３の実施の形態と同一
の図面または符号を用いて示し、その説明の一部を省略
する。
に、前記乾燥後、第１の実施の形態の第３の工程と同様
の工程により深溝１０を密封する工程で、これにより目
的とする散乱線吸収グリッドを得る（第４の工程は必ず
しも必要なく、第４の工程を実施する場合には第３の工
程を省略してもよい） 次に本発明の第４実施の形態の製造工程について図１１
および図１２を用いて説明する。第４実施の形態は放射
線吸収粉体を流体と共に深溝に充填する製造工程を含む
ものであり、図中第１、２または３の実施の形態と共通
の構成については第１、２または３の実施の形態と同一
の図面または符号を用いて示し、その説明の一部を省略
する。
【００６４】第１の工程は第１の実施の形態の第１の工
程と同様である。
程と同様である。
【００６５】第２の工程は、図１２に示すように、自身
を固化させるためのバインダを含む流体３３と共に放射
線吸収粉体を深溝に充填する工程である。なお、この流
体は水および／または有機溶剤からなる流体であっても
よい。
を固化させるためのバインダを含む流体３３と共に放射
線吸収粉体を深溝に充填する工程である。なお、この流
体は水および／または有機溶剤からなる流体であっても
よい。
【００６６】第３の工程としては、前記充填後、流体３
３を固化させる。ここでは、バインダによる化学反応を
進めることにより流体３３を固化させる。
３を固化させる。ここでは、バインダによる化学反応を
進めることにより流体３３を固化させる。
【００６７】第４の工程は、第１の実施の形態の第３の
工程と同様の工程で、深溝１０を密封して散乱線吸収グ
リッドを得る（第４の工程は必ずしも必要なく、第４の
工程を実施する場合には第３の工程を省略してもよい） 次に本発明の第５実施の形態の製造工程について図１１
および図１２を用いて説明する。第５実施の形態は放射
線吸収粉体を流体と共に深溝に充填する製造工程を含む
ものであり、図中第１、２、３または４の実施の形態と
共通の構成については第１、２、３または４の実施の形
態と同一の図面または符号を用いて示し、その説明の一
部を省略する。
工程と同様の工程で、深溝１０を密封して散乱線吸収グ
リッドを得る（第４の工程は必ずしも必要なく、第４の
工程を実施する場合には第３の工程を省略してもよい） 次に本発明の第５実施の形態の製造工程について図１１
および図１２を用いて説明する。第５実施の形態は放射
線吸収粉体を流体と共に深溝に充填する製造工程を含む
ものであり、図中第１、２、３または４の実施の形態と
共通の構成については第１、２、３または４の実施の形
態と同一の図面または符号を用いて示し、その説明の一
部を省略する。
【００６８】第１の工程は第１の実施の形態の第１の工
程と同様である。
程と同様である。
【００６９】第２の工程で、図１２に示すように、放射
線吸収粉体を、この粉体より低融点の物質を融解した材
料からなる流体３４と共に深溝１０に充填し、第３の工
程で、前記充填後、流体３４を固化させる。ここでは、
流体３４を冷却することにより固化させる。第４の工程
では、第１の実施の形態の第３の工程と同様の工程によ
り深溝１０を密封して散乱線吸収グリッドを得る（第４
の工程は必ずしも必要なく、第４の工程を実施する場合
には第３の工程を省略してもよい） なお、上記深溝は、その加工方向であるＹ軸方向の側面
を貫通させて、図１３に示すように、基板２０の上面２
１Ａおよびその側面２１Ｂおよび２１Ｃにも開口部が形
成されるように加工してもよい。
線吸収粉体を、この粉体より低融点の物質を融解した材
料からなる流体３４と共に深溝１０に充填し、第３の工
程で、前記充填後、流体３４を固化させる。ここでは、
流体３４を冷却することにより固化させる。第４の工程
では、第１の実施の形態の第３の工程と同様の工程によ
り深溝１０を密封して散乱線吸収グリッドを得る（第４
の工程は必ずしも必要なく、第４の工程を実施する場合
には第３の工程を省略してもよい） なお、上記深溝は、その加工方向であるＹ軸方向の側面
を貫通させて、図１３に示すように、基板２０の上面２
１Ａおよびその側面２１Ｂおよび２１Ｃにも開口部が形
成されるように加工してもよい。
【図１】本発明の実施の形態による散乱線吸収グリッド
の概略構成を示す図
の概略構成を示す図
【図２】基板の深溝を密封する様子を示す図
【図３】基板の深溝を密封する様子を示す図
【図４】基板の深溝を密封する様子を示す図
【図５】基板の深溝を密封する様子を示す図
【図６】基板の側面を貫通しないように深溝を形成した
基板を示す図
基板を示す図
【図７】Ｘ―θステージ上に基板２０を位置決めした様
子を示す図
子を示す図
【図８】加工前の基板を示す図
【図９】深溝加工済基板を示す図
【図１０】深溝に粉体を挿入する様子を示す図
【図１１】粉体を挿入した深溝を密封する様子を示す図
【図１２】深溝に流体を挿入する様子をを示す図
【図１３】基板の側面を貫通させた深溝が形成された深
溝加工済基板を示す図
溝加工済基板を示す図
１０ 深溝 ２０ 基板 ２１ 基板の上面 ９０ Ｘ―θステージ ９１ ディスクカッタ ２００ 放射線源の位置
Claims (15)
- 【請求項１】 放射線透過材料からなる基板に、使用時
に放射線源に向かって収束する傾きを持たせて多数の深
溝を形成し、 該深溝に放射線吸収体を充填することを特徴とする散乱
線吸収グリッドの製造方法。 - 【請求項２】 前記放射線吸収体を融点以上で融解した
状態で、前記深溝に充填することを特徴とする請求項１
記載の散乱線吸収グリッドの製造方法。 - 【請求項３】 前記充填後、前記融点以上で融解した状
態の放射線吸収体を固化させることを特徴とする請求項
２項記載の散乱線吸収グリッドの製造方法。 - 【請求項４】 放射線透過材料からなる基板に、使用時
に放射線源に向かって収束する傾きを持たせて多数の深
溝を形成し、 該深溝に放射線吸収粉体を充填することを特徴とする散
乱線吸収グリッドの製造方法。 - 【請求項５】 前記粉体を融点以上で融解した状態で、
前記深溝に充填することを特徴とする請求項４記載の散
乱線吸収グリッドの製造方法。 - 【請求項６】 前記粉体を流体と共に前記深溝に充填す
ることを特徴とする請求項４記載の散乱線吸収グリッド
の製造方法。 - 【請求項７】 前記流体が、水および／または有機溶剤
からなるものであることを特徴とする請求項６記載の散
乱線吸収グリッドの製造方法。 - 【請求項８】 前記充填後、前記流体を乾燥させること
を特徴とする請求項７記載の散乱線吸収グリッドの製造
方法。 - 【請求項９】 前記流体が、該流体を固化させるための
バインダを含むものであることを特徴とする請求項６ま
たは７記載の散乱線吸収グリッドの製造方法。 - 【請求項１０】 前記流体が、前記粉体より低融点の物
質を融解した材料からなるものであることを特徴とする
請求項６記載の散乱線吸収グリッドの製造方法。 - 【請求項１１】 前記充填後、前記融点以上で融解した
状態の粉体あるいは前記流体を固化させることを特徴と
する請求項５、９、１０のいずれか１項記載の散乱線吸
収グリッドの製造方法。 - 【請求項１２】 前記充填後、前記深溝を密封すること
を特徴とする請求項１から１１のいずれか１項記載の散
乱線吸収グリッドの製造方法。 - 【請求項１３】 使用時に放射線源に向かって収束する
傾きを有する多数の深溝が形成された放射線透過材料か
らなる基板と、前記深溝に充填された放射線吸収体とか
らなることを特徴とする散乱線吸収グリッド。 - 【請求項１４】 使用時に放射線源に向かって収束する
傾きを有する多数の深溝が形成された放射線透過材料か
らなる基板と、前記深溝に充填された放射線吸収粉体と
からなることを特徴とする散乱線吸収グリッド。 - 【請求項１５】 前記放射線吸収体または放射線吸収粉
体が前記深溝内に密封されていることを特徴とする請求
項１３または１４記載の散乱線吸収グリッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000223502A JP2002040149A (ja) | 2000-07-25 | 2000-07-25 | 散乱線吸収グリッドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000223502A JP2002040149A (ja) | 2000-07-25 | 2000-07-25 | 散乱線吸収グリッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002040149A true JP2002040149A (ja) | 2002-02-06 |
Family
ID=18717584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000223502A Withdrawn JP2002040149A (ja) | 2000-07-25 | 2000-07-25 | 散乱線吸収グリッドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002040149A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009509133A (ja) * | 2005-09-19 | 2009-03-05 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 電磁放射線の選択的吸収のための格子，及びその製造方法 |
-
2000
- 2000-07-25 JP JP2000223502A patent/JP2002040149A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009509133A (ja) * | 2005-09-19 | 2009-03-05 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 電磁放射線の選択的吸収のための格子，及びその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20071002 |