JP2002033516A - 発光ダイオードの活性層の評価方法およびその評価装置 - Google Patents
発光ダイオードの活性層の評価方法およびその評価装置Info
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Abstract
た安定な信号により、発光ダイオードの活性層の評価を
行うことができる発光ダイオードの活性層の評価方法お
よびその評価装置を提供する。 【解決手段】 微小交流電流を付加した直流電流を供給
する電源1と、この電源に接続される発光ダイオード2
と、この発光ダイオード2から放射された光を光学系3
を介して分光する分光器4と、この分光器4からの出力
信号を光電子増倍管5を介して直流成分の発光スペクト
ルを記録する直流電流検出装置7と、前記分光器4から
の出力信号を前記光電子増倍管5を介して交流成分のス
ペクトルを記録する交流電流検出装置6とを備え、前記
直流成分と交流成分の発光スペクトルのピーク波長差が
大きい場合には、前記発光ダイオードの活性層の組成不
均一性が大きく、前記ピーク波長差が小さい場合には前
記発光ダイオードの活性層の組成不均一性が小さいと判
定する。
Description
(レーザーダイオードを含む)及びダイオード加工前の
活性層形成ウエハ、チップの活性層における組成不均一
性を評価する方法およびその評価装置に関するものであ
る。
方法としては、以下に示すような方法があった。
構成比を得ることができる。しかし、この質量分析法で
は、破壊評価法のため製品の評価に用いることはできな
い。また、測定には大がかりな設備が必要であり、高コ
ストである。
ル、発光励起スペクトル等を組み合わせた非破壊評価方
法であり、比較的簡便で低コストな手法である。しか
し、二種類以上の測定法を組み合わせるために手間と時
間がかかる。
は光学的評価法は、上記したように、それぞれ問題点を
有している。
C)電流に重畳した広い範囲の交流(AC)で一定した
安定な信号により、発光ダイオードの活性層の評価を行
うことができる発光ダイオードの活性層の評価方法およ
びその評価装置を提供することを目的とする。
達成するために、 〔1〕発光ダイオードの活性層の評価方法において、発
光ダイオードに微小交流電流を付加した直流電流を印加
し、前記発光ダイオードから放射された光を分光器で分
光し、その直流成分と交流成分のそれぞれの発光スペク
トルを記録し、前記直流成分と交流成分の発光スペクト
ルのピーク波長差が大きい場合には、前記発光ダイオー
ドの活性層の組成不均一性が大きく、前記ピーク波長差
が小さい場合には前記発光ダイオードの活性層の組成不
均一性が小さいと判定することを特徴とする。
活性層の評価方法において、前記微小交流電流は、交流
電流0.2mAから5mAであることを特徴とする。
活性層の評価方法において、前記微小交流電流の周波数
は、75Hzから100kHzであることを特徴とす
る。
において、微小交流電流を付加した直流電流を供給する
電源と、この電源に接続される発光ダイオードと、この
発光ダイオードから放射された光を光学系を介して分光
する分光器と、この分光器からの出力信号を光電子増倍
管を介して直流成分の発光スペクトルを記録する直流電
流検出装置と、前記分光器からの出力信号を前記光電子
増倍管を介して交流成分の発光スペクトルを記録する交
流電流検出装置とを具備することを特徴とする。
において、直流成分と微小交流成分からなる光強度を有
するレーザー光を発光ダイオードに作用させ、前記発光
ダイオードから放射された光を分光器で分光し、前記レ
ーザー光の直流成分と交流成分のそれぞれの発光スペク
トルを記録し、前記直流成分と交流成分の発光スペクト
ルのピーク波長差が大きい場合には、前記発光ダイオー
ドの活性層の組成不均一性が大きく、前記ピーク波長差
が小さい場合には前記発光ダイオードの活性層の組成不
均一性が小さいと判定することを特徴とする。
において、発光ダイオードに作用させる直流成分と微小
交流成分からなる光強度を有するレーザー光発生装置
と、前記発光ダイオードから放射された光を分光する分
光器と、この分光器からの出力信号を光電子増倍管を介
して直流成分の発光スペクトルを記録する直流電流検出
装置と、前記分光器からの出力信号を前記光電子増倍管
を介して交流成分の発光スペクトルを記録する交流電流
検出装置とを具備することを特徴とする。
は、レーザーダイオードやウエハに形成された発光ダイ
オードをも含む広義に解するものとする。
て図面を参照しながら詳細に説明する。
となる考え方について説明する。
半導体混晶(InGaN、AlGaAs、AlInGa
P等)が使われる。組成比に空間的揺らぎがあると、エ
ネルギーギャップにも空間的な揺らぎが存在し、発光準
位にある程度のエネルギー幅が生じる。基本的に、直流
電流によって発光ダイオードの活性層に注入されたキャ
リア(電子と正孔)は、エネルギーギャップの一番小さ
なところで再結合して発光する。
増えるにつれて、エネルギーギャップの小さなところか
らの発光は飽和し、あふれたキャリアがそれより大きな
エネルギーギャップをもつところから発光するようにな
る。これらの発光の重ね合わせが、発光ダイオードの発
光スペクトルの直流成分である。
発光強度が揺らぐのはエネルギーギャップの比較的大き
なところなので、発光スペクトルの交流成分が直流成分
よりも短波長側にシフトすることになる。
参照して詳細に説明する。
ドの評価測定システムの構成図、図2はその供試発光ダ
イオードに印加される電流波形を示す図である。
は電圧源)、2は供試発光ダイオード、3は光学系、4
は分光器、5は光電子増倍管、6は交流電流検出装置、
7は直流電流検出装置(デジタルマルチメータ)であ
る。
図2に示すように、直流電流と微小交流電流を重畳して
流す。
射された光を分光器4で分光し、光電子増倍管5を介し
て、直流成分を直流電流検出装置7により、交流成分を
交流電流検出装置6によりそれぞれのスペクトルを記録
する。なお、交流電流検出装置6では、図示しないが、
ロックインアンプを有し、直流電流に重畳した交流電流
の周波数でロックして測定する。
不均一性が小さい場合には、発光準位は一つしか存在し
ないが、組成不均一性が大きくなると発光準位は有限の
エネルギー幅を持つようになる。本発明の特徴は、組成
不均一性の大小を直接反映しているこの現象をプローブ
として用いていることである。
光スペクトルのピーク波長差から、組成不均一性の大小
を評価することができる。例えば、両成分のピーク波長
が一致していれば、図3に示すように、組成不均一性は
小さい。
大きければ、組成不均一性は大きいと言える。
状態密度は図3の準位に比べると小さい。図4から明ら
かなように低い準位からの発光は直流電流で飽和し、微
小交流電流は最も高いエネルギーをもつ準位からの発光
を与えるため直流成分と交流成分の発光ピークにずれが
生じる。
ードの活性層における組成不均一性の直接的な評価を、
短時間で簡便かつ非破壊的に低コストで行うことができ
る。さらに、フェルミ面近傍のキャリアによる発光を選
択的に測定できるという、従来の測定法には無い新しい
特徴を有する。
て説明する。
加交流の大きさと周波数は、IAC=0.2mA、f=3
30Hzである。
の出力電流のレベルは、発光ダイオードからの光を集め
る光学系や分光器、光電子増倍管への印加電圧にも依存
するので一概には言えないが、参考までに、今回は、3
00pA程度である。測定精度と再現性は、普通の発光
スペクトル測定と同程度に優れている。
数とそれぞれのピークシフト値図5に示すように、Al
GaAs・DHS赤色LED、InGaN・SQW緑色
LED、InGaN・SQW青色LEDの3種類を測定
した。ピークシフト量はそれぞれ0meV、44me
V、26meVである。
トの直流電流依存性を測定した。InGaN・SQW緑
色LEDに対する実験結果を図6に示す。直流電流IDC
が小さいときにはピークシフトが小さく、直流電流IDC
を増やすにつれてピークシフト量も大きくなるが、傾き
は次第に小さくなっている。
化するので、組成揺らぎを評価する際には直流電流IDC
を一定にしなければならないことが分かる。
のピークシフトのばらつきチェック結果(IDC=20m
A,IAC=1mA,f=330Hz,室温)を示す図で
あり、ピークシフトは、35〜55meVの間でバラつ
いている。
Dのピークシフトの交流電流振幅依存性結果(IDC=2
0mA,f=330Hz,室温)を示す図であり、交流
電流0.5mAから5mAまでは、ピークシフトは45
meVから48meVの範囲にある。
のピークシフトの交流電流周波数依存性結果(IDC=2
0mA,IAC=1mA,室温)を示す図であり、周波数
75Hzから100kHzの領域であれば、ピークシフ
トは46meVから49meVの範囲にある。
イオードの評価測定システムの構成図である。
装置(半導体レーザー装置、ガスレーザー装置、固体レ
ーザー装置でもよい)であり、図10の左上部に示すよ
うに、直流成分と微小交流成分からなるレーザー光強度
を得ることができる。12は発光ダイオードウエハ、1
3はその発光ダイオードウエハ12からの発光を受ける
光学系、14は図1に示したような測定装置であり、図
示しないが、分光器、光電子増倍管、交流電流検出装
置、直流電流検出装置からなる。
では、発光ダイオードにDC+AC電流を流してキャリ
アを注入し、その発光スペクトルを測定する例について
述べたが、この実施例では、DC+ACの強度を持つレ
ーザー励起光でキャリアを励起して発光スペクトルを測
定する。
弦波として説明しているが、これに限定するものではな
く、方形波や三角波、ランプ波等の場合にも適用するこ
とができる。
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
よれば、以下のような効果を奏することができる。
(電流値,周波数)で一定した安定な信号により、発光
ダイオードの活性層の評価を行うことができる。
クトルのピーク波長差が大きい場合には、発光ダイオー
ドの活性層の組成不均一性が大きく、前記ピーク波長差
が小さい場合には前記発光ダイオードの活性層の組成不
均一性が小さいと判定することができる。
の組み合わせで構築することができる。
定性チェックに適用可能であり、直接量子井戸構造の形
成状況のばらつきチェックに適用可能である。
設計・開発・製造過程におけるデバイスの評価に貢献す
るところが大である。
定システムの構成図である。
形を示す図である。
クトルのピーク波長が一致し、発光ダイオードの活性層
の組成不均一性が小さい場合を示す図である。
クトルのピーク波長差が大きく、発光ダイオードの活性
層の組成不均一性が大きい場合を示す図である。
D、InGaN・SQW緑色LED、InGaN・SQ
W青色LEDの3種類のピークシフト量を示す図であ
る。
に対するピークシフトの直流電流依存性を示す図であ
る。
に対するピークシフトのばらつきチェックの結果を示す
図である。
に対するピークシフトの交流電流振幅依存性を示す図で
ある。
に対するピークシフトの交流電流周波数依存性を示す図
である。
評価測定システムの構成図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 発光ダイオードの活性層の評価方法にお
いて、(a)発光ダイオードに微小交流電流を付加した
直流電流を印加し、(b)前記発光ダイオードから放射
された光を分光器で分光し、(c)その直流成分と交流
成分のそれぞれの発光スペクトルを記録し、(d)前記
直流成分と交流成分の発光スペクトルのピーク波長差が
大きい場合には、前記発光ダイオードの活性層の組成不
均一性が大きく、前記ピーク波長差が小さい場合には前
記発光ダイオードの活性層の組成不均一性が小さいと判
定することを特徴とする発光ダイオードの活性層の評価
方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の発光ダイオードの活性層
の評価方法において、前記微小交流電流は、交流電流
0.2mAから5mAであることを特徴とする発光ダイ
オードの活性層の評価方法。 - 【請求項3】 請求項2記載の発光ダイオードの活性層
の評価方法において、前記微小交流電流の周波数は、7
5Hzから100kHzであることを特徴とする発光ダ
イオードの活性層の評価方法。 - 【請求項4】 発光ダイオードの活性層の評価装置にお
いて、(a)微小交流電流を付加した直流電流を供給す
る電源と、(b)該電源に接続される発光ダイオード
と、(c)該発光ダイオードから放射された光を光学系
を介して分光する分光器と、(d)該分光器からの出力
信号を光電子増倍管を介して直流成分の発光スペクトル
を記録する直流電流検出装置と、(e)前記分光器から
の出力信号を前記光電子増倍管を介して交流成分の発光
スペクトルを記録する交流電流検出装置とを具備するこ
とを特徴とする発光ダイオードの活性層の評価装置。 - 【請求項5】 発光ダイオードの活性層の評価方法にお
いて、(a)直流成分と微小交流成分からなる光強度を
有するレーザー光を発光ダイオードに作用させ、(b)
前記発光ダイオードから放射された光を分光器で分光
し、(c)前記レーザー光の直流成分と交流成分のそれ
ぞれの発光スペクトルを記録し、(d)前記直流成分と
交流成分の発光スペクトルのピーク波長差が大きい場合
には、前記発光ダイオードの活性層の組成不均一性が大
きく、前記ピーク波長差が小さい場合には前記発光ダイ
オードの活性層の組成不均一性が小さいと判定すること
を特徴とする発光ダイオードの活性層の評価方法。 - 【請求項6】 発光ダイオードの活性層の評価装置にお
いて、(a)発光ダイオードに作用させる直流成分と微
小交流成分からなる光強度を有するレーザー光発生装置
と、(b)前記発光ダイオードから放射された光を分光
する分光器と、(c)該分光器からの出力信号を光電子
増倍管を介して直流成分の発光スペクトルを記録する直
流電流検出装置と、(d)前記分光器からの出力信号を
前記光電子増倍管を介して交流成分の発光スペクトルを
記録する交流電流検出装置とを具備することを特徴とす
る発光ダイオードの活性層の評価装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN101552313B (zh) * | 2009-05-22 | 2013-02-27 | 重庆大学 | 一种磁场激励的led在线检测方法 |
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