JP2002032036A - Substrate for display element and reflection type liquid crystal display device - Google Patents

Substrate for display element and reflection type liquid crystal display device

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JP2002032036A
JP2002032036A JP2000218049A JP2000218049A JP2002032036A JP 2002032036 A JP2002032036 A JP 2002032036A JP 2000218049 A JP2000218049 A JP 2000218049A JP 2000218049 A JP2000218049 A JP 2000218049A JP 2002032036 A JP2002032036 A JP 2002032036A
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display element
element substrate
substrate according
plastic
laminate
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JP2000218049A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshimasa Eguchi
敏正 江口
Hideki Goto
英樹 後藤
Masaru Shibata
勝 柴田
Kazuhiko Yagata
和彦 屋ヶ田
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plastic substrate for display elements having a reflecting surface at the substrate itself by simplifying a manufacturing process step for the reflecting surface of a reflection type liquid crystal display device manufactured by many process steps and adopting plastic for the substrate heretofore made of glass and further the reflection type liquid crystal display using the same. SOLUTION: This substrate is the plastic substrate for display elements having rugged shapes in at least one side surface as a feature and the rugged shapes are manufactured by transfer by an embossing roll or lamination.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主として反射型液
晶表示装置表示装置に用いられる表示素子用プラスチッ
ク基板および反射型液晶表示装置表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plastic substrate for a display element mainly used for a reflection type liquid crystal display device and a reflection type liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射型の液晶表示装置は、これまで消費
電力の半分以上を占めていたバックライトを必要としな
いため、特に携帯機器の表示分野でその高品位化が望ま
れている。この反射型液晶表示装置は、太陽光等の外部
光を表示セルの裏面側基板の上に設けられた反射板によ
り、反射・散乱させてバックライトの代わりとするもの
で、従来はアルミニウム等の反射金属薄膜を樹脂フィル
ムに蒸着したものをガラス基板上に貼って使用してい
た。そしてその反射板は、太陽や周囲の景色の写り込み
を防止するため適度な散乱が必要で、例えば特開平10
−253810号公報に示されるように、表面に凹凸が
設けられており、この凹凸を設けるために微小な凹曲面
を原板に加工し、この凹凸面に硬質金属膜を電鋳し、前
記金属膜を剥がしたレプリカをベースフィルムに転写す
るという、多数の工程によって作製されていた。
2. Description of the Related Art Since a reflection type liquid crystal display device does not require a backlight, which has occupied more than half of the power consumption, a high quality display is desired especially in a display field of portable equipment. This reflection type liquid crystal display device is a device that reflects and scatters external light such as sunlight by a reflection plate provided on a backside substrate of a display cell and substitutes for a backlight. A reflective metal thin film deposited on a resin film was used by sticking it on a glass substrate. The reflector needs to be appropriately scattered to prevent reflection of the sun and surrounding scenery.
As shown in JP-A-253810, the surface is provided with irregularities. In order to provide the irregularities, a minute concave curved surface is processed into an original plate, and a hard metal film is electroformed on the irregular surface to form the metal film. Was transferred to a base film by a number of steps.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
に多数の工程によって作製されていた反射型液晶表示装
置の反射面の製造工程を簡易化すると共に、従来ガラス
で作られていた基板をプラスチック化することで、基板
自体に反射面をもつ表示素子用プラスチック基板を提供
し、さらにこれを用いた反射型液晶表示装置を提供する
ことを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention simplifies the manufacturing process of the reflection surface of the reflection type liquid crystal display device which has been manufactured by a number of processes as described above, and furthermore, the substrate which has conventionally been made of glass. It is an object of the present invention to provide a plastic substrate for a display element having a reflective surface on the substrate itself, and to provide a reflective liquid crystal display device using the plastic substrate.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は少なく
とも一方の表面に凹凸形状を有することを特徴とする表
示素子用プラスチック基板であり、その凹凸形状をエン
ボスロールまたはラミネートによる転写によって作製す
るものである。
That is, the present invention is a plastic substrate for a display element, characterized in that at least one surface has an uneven shape, and the uneven shape is produced by transfer using an embossing roll or a laminate. is there.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の表示素子用プラスチック
基板は、従来のガラス基板にプラスチックで作られた反
射板を貼り付けるものではなく、基板そのものに凹凸の
加工をするものである。したがって、従来の方法よりも
製造工程を短縮することができ、基板の多機能化を図る
ことができるため、液晶セルを構成する部品の省略化を
行うことができ、ひいてはコストダウンにつながる。本
発明の凹凸形状は、反射光の指向性から平均表面粗さRa
が0.1〜5μmであり一様且つ不均一に分布している
ことが好ましい。凹面形状であることは反射光の輝度を
高めることができ、またその寸法を不均一とすること
で、干渉縞の発生を抑えることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The plastic substrate for a display device of the present invention does not stick a reflection plate made of plastic on a conventional glass substrate, but processes the substrate itself with irregularities. Therefore, the manufacturing process can be shortened as compared with the conventional method, and the function of the substrate can be increased, so that components constituting the liquid crystal cell can be omitted, which leads to cost reduction. The uneven shape of the present invention has an average surface roughness Ra from the directivity of reflected light.
Is preferably 0.1 to 5 μm and is uniformly and non-uniformly distributed. The concave shape can increase the brightness of the reflected light, and the unevenness of the size can suppress the occurrence of interference fringes.

【0006】本発明の表示素子用プラスチック基板に用
いるプラスチックは、表示素子の製造環境温度に耐えう
る必要があり、そのガラス転移点は160℃以上である
ことが望ましい。例として、ポリエステル、ポリカーボ
ネイト、ノルボルネン、ポリエーテルイミド、ポリアリ
レート、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケト
ン、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチックポ
リスチレン、環状ポリオレフィン及びそのコポリマー、
イミド変性ポリメチルメタクリレート等のイミド変性し
た高分子によるシート等があげられるが、特に限定はし
ない。更に、本発明で用いられる高分子シートは、最終
製品の用途より透明であることが望ましく、全光線透過
率は少なくとも40%以上、好ましくは80%以上であ
る。高分子フィルムは各層の形成に先立ち、各層及び高
分子フィルム相互の密着力を高めるために脱ガス処理、
コロナ放電処理、火炎処理等の表面処理が施されていて
もよい。
[0006] The plastic used for the plastic substrate for a display element of the present invention must be able to withstand the environmental temperature in the production of the display element, and its glass transition point is desirably 160 ° C or higher. Examples include polyester, polycarbonate, norbornene, polyetherimide, polyarylate, polyethersulfone, polyetherketone, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, cyclic polyolefin and copolymers thereof,
Examples include a sheet made of an imide-modified polymer such as imide-modified polymethyl methacrylate, but are not particularly limited. Further, it is desirable that the polymer sheet used in the present invention is more transparent than the use of the final product, and the total light transmittance is at least 40% or more, preferably 80% or more. Prior to the formation of each layer, the polymer film is degassed to enhance the adhesion between each layer and the polymer film,
Surface treatment such as corona discharge treatment and flame treatment may be performed.

【0007】上記プラスチックは、押出成形およびキャ
スティング等の方法でシート化されるが、例えば押出成
形の場合には、冷却ロールにディンプル加工用のエンボ
スロールを使用したり、あるいは成形したプラスチック
シートを加熱したエンボスロールに押し当てることで、
軟化させた状態で凹凸面を転写することができる。ま
た、キャスティングによる場合でも、硬化する前の軟化
した状態で転写させることが望ましい。さらに、本発明
のプラスチックは、成形した高分子シート原反の上にキ
ャスティング、コーティングあるいは各種印刷手法、積
層手法等により、紫外線硬化性樹脂組成物を積層した構
造であっても良い。
[0007] The above-mentioned plastic is formed into a sheet by a method such as extrusion molding and casting. For example, in the case of extrusion molding, an embossing roll for dimple processing is used as a cooling roll, or the formed plastic sheet is heated. By pressing against the embossed roll
The uneven surface can be transferred in a softened state. Further, even in the case of casting, it is desirable to transfer in a softened state before curing. Furthermore, the plastic of the present invention may have a structure in which an ultraviolet-curable resin composition is laminated on a molded polymer sheet raw material by casting, coating, various printing techniques, lamination techniques, or the like.

【0008】本発明で用いられる紫外線硬化性樹脂組成
物の例を挙げるとアクリレート化合物等を主成分とした
液状の紫外線硬化性樹脂組成物やエポキシ樹脂や不飽和
ポリエステル樹脂を主成分としたシート状の紫外線硬化
性樹脂組成物等である。前者の場合は塗布装置により高
分子シート原反上に塗布し、溶剤を含む場合には乾燥装
置により溶剤を揮発させ、後者の場合には高分子シート
原反上に積層する。
Examples of the UV-curable resin composition used in the present invention include a liquid UV-curable resin composition containing an acrylate compound or the like as a main component and a sheet-like material containing an epoxy resin or an unsaturated polyester resin as a main component. UV curable resin composition. In the former case, the coating is performed on the raw polymer sheet by a coating device, and when a solvent is contained, the solvent is volatilized by a drying device. In the latter case, the polymer sheet is laminated on the raw polymer sheet.

【0009】本発明において表面に紫外線硬化性樹脂組
成物を有した高分子シートを凹凸面を有するラミネート
に密着させて凹凸形状を転写させる際には、その凹凸面
が十分に紫外線硬化性樹脂組成物表面に転写されるよ
う、紫外線硬化性樹脂組成物は軟化または液化していな
ければならない。紫外線硬化性樹脂組成物には、溶剤を
含まなくても室温で軟化しているものや液状のものも有
るが、そうでない場合は密着する前にヒーター等により
加熱を行うか、貼り合わせ時の温度を上げて密着と同時
に軟化させることが必要である。密着させる方法として
は、ニップロールや帯電固定等の方法が挙げられるがこ
れらに限定されるものではない。
In the present invention, when a polymer sheet having an ultraviolet-curable resin composition on its surface is brought into close contact with a laminate having an uneven surface to transfer the uneven shape, the uneven surface is sufficiently cured by the ultraviolet-curable resin composition. The ultraviolet curable resin composition must be softened or liquefied so as to be transferred to the surface of the object. UV-curable resin compositions include those that are softened at room temperature or liquid even without a solvent, but if they are not, they are heated by a heater or the like before they adhere, It is necessary to raise the temperature and soften at the same time as the adhesion. Examples of a method for bringing the adhesive into close contact include a method such as a nip roll and a charge fixing, but are not limited thereto.

【0010】本発明におけるラミネート表面およびエン
ボスロール表面には、平均表面粗さRaが0.1〜5μm
の突起を有することが必要である。このようなラミネー
トとしては、エンボスフィルム、易滑フィルム等で用い
られる製造方法によって得ることができる。たとえば、
突起物として球形粒子を用い、これを含有するプラスチ
ック層を延伸することで、突起物の頭を出させる方式が
考えられ、球形粒子としては、特に限定しないが、架橋
高分子、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、
炭酸カルシウム等を使用することができる。勿論これら
表面に、樹脂との親和性を高めるための表面処理や樹脂
コーティング等を行っても良い。また、前記架橋高分子
としては、これも特に限定しないが、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ジビニルベンゼン、スチレン、フェノー
ル等を挙げることができ、これらの単独あるいは複数の
樹脂の共重合体等の複合物質を用いることができる。こ
れらの球形粒子の大きさは、前記曲率半径と同様の半径
を持つものを使用することが望ましい。これらの球形粒
子は当然粒度分布を持っているので、不均一な曲率半径
を持ち、且つ樹脂との混合を充分に行うことにより樹脂
層内に一様に分布させることができる。こうして作製し
た積層体を延伸すると、樹脂層が引き延ばされて厚みが
薄くなり、球形粒子の頭を出すことができる。この延伸
度合いによって、上記のような平均表面粗さRaが0.1
〜5μmの凸面を持つラミネートを作成することが可能
である。また、特開平11−348219号公報のよう
に、球形粒子を使用せず、メソゲン基を含有する共重合
ポリエステル層と、非液晶性ポリエステル層の2層より
成るラミネートを延伸して作製する方法も考えられる。
The laminate surface and the embossing roll surface in the present invention have an average surface roughness Ra of 0.1 to 5 μm.
It is necessary to have the projections. Such a laminate can be obtained by a manufacturing method used for an embossed film, an easily lubricated film, and the like. For example,
A method of using spherical particles as the projections and extending the plastic layer containing the same to make the heads of the projections possible is considered. The spherical particles are not particularly limited, but a crosslinked polymer, silica, alumina, Zirconia, titanium oxide,
Calcium carbonate or the like can be used. Of course, these surfaces may be subjected to a surface treatment or a resin coating for enhancing the affinity with the resin. Examples of the crosslinked polymer include, but are not particularly limited to, polyimide, polyamideimide, divinylbenzene, styrene, phenol, and the like, and a composite material such as a copolymer of a single resin or a plurality of resins. Can be used. As for the size of these spherical particles, it is desirable to use those having a radius similar to the radius of curvature. Since these spherical particles naturally have a particle size distribution, they have an uneven radius of curvature and can be uniformly distributed in the resin layer by sufficiently mixing with the resin. When the laminate thus produced is stretched, the resin layer is stretched, the thickness becomes thin, and the head of the spherical particles can be exposed. By the degree of stretching, the average surface roughness Ra as described above is 0.1
It is possible to make a laminate with a convex surface of 55 μm. Further, as disclosed in JP-A-11-348219, a method of stretching and producing a laminate composed of two layers of a copolymer polyester layer containing a mesogen group and a non-liquid crystalline polyester layer without using spherical particles is also available. Conceivable.

【0011】本発明において凹凸面を有するラミネート
のプラスチック材質として、PET等のように紫外線を
透過する透明な材質とすることにより、ラミネート側か
ら高圧水銀灯等の紫外線を照射することにより紫外線硬
化性樹脂組成物を硬化させることができ、これによりラ
ミネートを密着させた状態で前記プラスチック上に紫外
線硬化樹脂層を形成して、凹凸面を有する表示素子用プ
ラスチック基板を製造することができる。また、このラ
ミネートは紫外線照射後に剥離することが可能な為、工
程中での傷付きや異物の付着を防止する保護フィルムと
しての機能も合わせ持つことができる。
In the present invention, the plastic material of the laminate having an uneven surface is made of a transparent material such as PET or the like which transmits ultraviolet light, and the ultraviolet curable resin is irradiated from the laminate side with ultraviolet light such as a high pressure mercury lamp. The composition can be cured, whereby a UV-curable resin layer is formed on the plastic in a state where the laminate is in close contact with the plastic, whereby a plastic substrate for a display element having an uneven surface can be manufactured. In addition, since this laminate can be peeled off after irradiation with ultraviolet rays, it can also have a function as a protective film for preventing scratches and adhesion of foreign substances during the process.

【0012】[0012]

【実施例】以下本発明を実施例によって説明するが、本
発明は実施例により何ら限定されるものではない。 <実施例>厚さ200μm、表面粗さの最大(Rma
x)が0.3μmのポリエーテルサルホンを高分子シー
ト原反として用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾ
ーン、ラミネートロール、高圧水銀灯、巻取装置を有す
る製造装置を用いて次の加工を行った。まず、紫外線硬
化性樹脂組成物として分子量1540融点70℃のエポ
キシアクリレートプレポリマー(昭和高分子製、VR−
60)100重量部、酢酸ブチル300重量部,セロソ
ルブアセテート100重量部,ベンゾインエチルエーテ
ル2重量部を50℃にて撹拌、溶解して均一な溶液とし
たものをコーター部のグラビヤロールコーターで乾燥前
膜厚5μmで塗布し、加熱乾燥ゾーン中100℃で5分
間加熱して溶媒を除去した。溶媒除去後の紫外線硬化性
樹脂組成物はペースト状の軟化状態であった。続いてニ
ップロールを用いて、Raが0.5μmのラミネートに密
着させて80w/cmの紫外線を照射して紫外線硬化性
樹脂組成物を硬化させ、巻取装置で巻き取って高分子シ
ートを連続的に得た。紫外線の照射時間は10秒間であ
った。また、同様にして、 Raが0.5μmのラミネー
トの代わりにRmax=0.06μmであるラミネート
に密着させて凹凸のない高分子シートを得た。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples. <Example> Thickness 200 μm, maximum surface roughness (Rma
x) Using polyether sulfone having a thickness of 0.3 μm as a raw polymer sheet, the following processing was performed using a manufacturing apparatus having an unwinding device, a coater, a heating and drying zone, a laminating roll, a high-pressure mercury lamp, and a winding device. Was done. First, an epoxy acrylate prepolymer having a molecular weight of 1540 and a melting point of 70 ° C. (VR-
60) 100 parts by weight of butyl acetate, 300 parts by weight of butyl acetate, 100 parts by weight of cellosolve acetate, and 2 parts by weight of benzoin ethyl ether were stirred at 50 ° C. and dissolved to form a uniform solution before drying with a gravure roll coater in a coater section. The solution was applied at a film thickness of 5 μm, and heated at 100 ° C. for 5 minutes in a heating drying zone to remove the solvent. After removing the solvent, the ultraviolet-curable resin composition was in a paste-like softened state. Then, using a nip roll, Ra is adhered to the laminate having a thickness of 0.5 μm and irradiated with ultraviolet light of 80 w / cm to cure the ultraviolet curable resin composition. I got it. The irradiation time of the ultraviolet rays was 10 seconds. Similarly, instead of the laminate having a Ra of 0.5 μm, the polymer was adhered to a laminate having an Rmax of 0.06 μm to obtain a polymer sheet having no irregularities.

【0013】これらのラミネートを剥離した後、高分子
シート上に、スパッタリングを行い500Å厚のSiO
2を得た。次に、凹凸のある高分子シートにのみ光を反
射する材質であるアルミニウムを蒸着し、反射面を形成
した。続いて、両シートに透明導電膜として、スパッタ
リングにより、In/In+Snの原子比が0.98で
ある酸化インジウム錫(ITO)からなる透明導電膜を
得た。ITOを成膜後、レジストを塗布して現像し、エ
ッチング液として10vol%HCl、液温40℃中で
パターンエッチングし、対角長さ3インチ、L/S=1
50/50μmの表示パターンを形成した。パターン形
成後、STN用配向膜を塗布し、150℃2hrの焼成
処理を行った後、240度ツイストの配向となるようラ
ビング処理を行った。ラビング処理後、スペーサーを散
布し、シール剤を塗布し、130℃でシール硬化させて
両シートを貼り合わせてセル化し、STN用液晶組成物
を注入した。さらに、偏光板を貼り合わせて反射型液晶
表示装置を作製した。この反射型液晶表示素子は、太陽
光や周囲の景色の写り込みが無く、バックライトなしで
も充分な明るさを維持できた。また、虹模様のような干
渉縞も見られず、良好な表示性能を示した。
After these laminates are peeled off, sputtering is performed on the polymer sheet to form a 500-mm thick SiO 2 film.
Got two . Next, aluminum, which is a material that reflects light, was vapor-deposited only on the polymer sheet having irregularities to form a reflection surface. Subsequently, as a transparent conductive film on both sheets, a transparent conductive film made of indium tin oxide (ITO) having an atomic ratio of In / In + Sn of 0.98 was obtained by sputtering. After forming ITO, a resist is applied and developed, and pattern etching is performed at 10 vol% HCl as an etchant at a liquid temperature of 40 ° C., a diagonal length of 3 inches, L / S = 1.
A display pattern of 50/50 μm was formed. After the pattern formation, an alignment film for STN was applied and baked at 150 ° C. for 2 hours, and then rubbed to 240 ° twist alignment. After the rubbing treatment, the spacers were sprayed, a sealant was applied, the seal was cured at 130 ° C., the two sheets were bonded together to form a cell, and the STN liquid crystal composition was injected. Furthermore, a polarizing type liquid crystal display device was manufactured by attaching a polarizing plate. This reflective liquid crystal display element was free from sunlight and surrounding scenery, and could maintain sufficient brightness without a backlight. In addition, no interference fringes such as a rainbow pattern were observed, and good display performance was exhibited.

【0014】<実施例2>芳香族ポリエーテルスルホン
(住友化学工業(株)製 スミカエクセルPES)を原
料に厚さ200μmのフィルムを押出成形した。この
時、引き取り機の第一ロールに対向させて、Raが2μm
のディンプル形状加工用のエンボスロールを配して、凹
凸形状を転写した。この後、実施例1で用いた紫外線硬
化性樹脂を塗布し、紫外線硬化させた。実施例1と同様
の凹凸のない高分子シートを反射面のない基板とし、S
iO2のスパッタリング以下実施例1と同様の工程に
て、反射型液晶表示装置を作製した。実施例2において
も実施例1と同様、太陽光や周囲の景色の写り込みが無
く、バックライトなしでも充分な明るさを維持できた。
また、虹模様のような干渉縞も見られず、良好な表示性
能を示した。
Example 2 A 200 μm thick film was extruded from aromatic polyether sulfone (Sumika Excel PES manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) as a raw material. At this time, Ra is 2 μm, facing the first roll of the take-up machine.
An embossing roll for processing the dimple shape was arranged to transfer the uneven shape. Thereafter, the UV-curable resin used in Example 1 was applied and UV-cured. A polymer sheet having no irregularities as in Example 1 was used as a substrate having no reflective surface,
iO 2 sputtering A reflection type liquid crystal display device was manufactured in the same steps as in Example 1. In Example 2, as in Example 1, there was no reflection of sunlight or surrounding scenery, and sufficient brightness could be maintained without a backlight.
In addition, no interference fringes such as a rainbow pattern were observed, and good display performance was exhibited.

【0015】[0015]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の方法によれ
ば従来多数の工程が必要であった反射型液晶表示装置の
反射面側の表示素子基板を容易に作成することができ
る。しかも、ガラス基板を用いず、プラスチック基板と
反射板を一体に作製するため、表示素子のコストダウン
を図ることができ、電子産業上極めて有用である。
As described above, according to the method of the present invention, a display element substrate on the reflection surface side of a reflection type liquid crystal display device, which conventionally required many steps, can be easily produced. Moreover, since a plastic substrate and a reflector are integrally formed without using a glass substrate, the cost of a display element can be reduced, which is extremely useful in the electronics industry.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 屋ヶ田 和彦 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 Fターム(参考) 2H090 JA02 JB02 JB03 JC03 4F209 AA34 AA44L AG01 AG05 AH81 PA03 PA08 PB01 PC05 PQ09 5C094 AA43 AA44 AA45 EB01 EB02 ED11  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Kazuhiko Yagada 2-5-8 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd. F-term (reference) 2H090 JA02 JB02 JB03 JC03 4F209 AA34 AA44L AG01 AG05 AH81 PA03 PA08 PB01 PC05 PQ09 5C094 AA43 AA44 AA45 EB01 EB02 ED11

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも一方の表面に凹凸形状を有す
ることを特徴とする表示素子用基板。
1. A display element substrate having at least one surface having an uneven shape.
【請求項2】 前記凹凸形状が、平均表面粗さRaが0.
1〜5μmであり一様且つ不均一に分布してなる凹凸形
状である請求項1記載の表示素子用基板。
2. The uneven shape has an average surface roughness Ra of 0.
2. The display element substrate according to claim 1, wherein the substrate has an uneven shape which is 1 to 5 [mu] m and is uniformly and non-uniformly distributed.
【請求項3】 前記プラスチックが、ガラス転移点が1
60℃以上のプラスチックである請求項1または2記載
の表示素子用基板。
3. The plastic has a glass transition point of 1
The display element substrate according to claim 1, wherein the substrate is a plastic having a temperature of 60 ° C. or higher.
【請求項4】 前記プラスチックが、ガラス転移点が1
60℃以上の高分子シート原反上に紫外線硬化性樹脂組
成物を積層した構造のプラスチックである請求項1また
は2記載の表示素子用基板。
4. The method according to claim 1, wherein the plastic has a glass transition point of 1
The display element substrate according to claim 1, wherein the substrate is a plastic having a structure in which an ultraviolet curable resin composition is laminated on a raw polymer sheet at 60 ° C. or higher.
【請求項5】 前記凹凸形状が、プラスチックが軟化し
た状態で転写により付与されてなる凹凸形状である請求
項1〜4のいずれか1項に記載の表示素子用基板。
5. The display element substrate according to claim 1, wherein the uneven shape is an uneven shape formed by transferring the plastic in a softened state.
【請求項6】 前記凹凸形状が、エンボスロールを用い
てプラスチック表面に転写されてなる凹凸形状である請
求項1〜5のいずれか1項に記載の表示素子用基板。
6. The display element substrate according to claim 1, wherein the uneven shape is an uneven shape transferred to a plastic surface using an emboss roll.
【請求項7】 前記凹凸形状が、プラスチック表面にラ
ミネートを密着させて転写されてなる凹凸形状である請
求項1〜5のいずれか1項に記載の表示素子用基板。
7. The display element substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the uneven shape is an uneven shape formed by transferring a laminate in close contact with a plastic surface.
【請求項8】 前記ラミネートが、特定波長の紫外線を
透過し、紫外線硬化樹脂に紫外線を照射した後に、剥離
することが可能なラミネートである請求項7記載の表示
素子用基板。
8. The display element substrate according to claim 7, wherein the laminate is a laminate that transmits ultraviolet light of a specific wavelength and can be peeled off after irradiating the ultraviolet curable resin with ultraviolet light.
【請求項9】 前記ラミネートが、球形粒子を含有する
プラスチック層のみからなるラミネートである請求項7
または8記載の表示素子用基板。
9. The laminate according to claim 7, wherein the laminate comprises only a plastic layer containing spherical particles.
Or the display element substrate according to 8.
【請求項10】 前記球形粒子が架橋高分子、シリカ、
アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、炭酸カルシウムの
いずれかもしくはこれらの混合物よりなる球状粒子であ
る請求項9記載の表示素子用基板。
10. The method according to claim 1, wherein the spherical particles are a crosslinked polymer, silica,
10. The display element substrate according to claim 9, wherein the substrate is a spherical particle made of any one of alumina, zirconia, titanium oxide, and calcium carbonate, or a mixture thereof.
【請求項11】 前記架橋高分子がポリイミド、ポリイ
ミドアミド、ジビニルベンゼン、スチレン、フェノール
の各樹脂の単独及び/又は複数の重合体からなる架橋高
分子である請求項10記載の表示素子用基板。
11. The display element substrate according to claim 10, wherein the crosslinked polymer is a crosslinked polymer comprising a single and / or a plurality of polymers of polyimide, polyimideamide, divinylbenzene, styrene and phenolic resins.
【請求項12】 前記ラミネートが、メソゲン基を含有
する共重合ポリエステル層と非液晶性ポリエステル層の
少なくとも2層からなるラミネートである請求項7また
は8記載の表示素子用基板。
12. The display element substrate according to claim 7, wherein the laminate is a laminate including at least two layers of a mesogen group-containing copolymerized polyester layer and a non-liquid crystalline polyester layer.
【請求項13】 前記ラミネートが、延伸されてなるラ
ミネートである請求項7〜11のいずれか1項に記載の
表示素子用基板。
13. The display element substrate according to claim 7, wherein the laminate is a stretched laminate.
【請求項14】 プラスチック基板の凹凸形状を有する
面に、光を反射する材質からなる層が積層されてなるこ
とを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の
表示素子用基板。
14. The display element substrate according to claim 1, wherein a layer made of a material that reflects light is laminated on a surface of the plastic substrate having an uneven shape. .
【請求項15】 請求項1〜14のいずれか1項に記載
の表示素子用基板を用いることを特徴とする反射型液晶
表示装置。
15. A reflection type liquid crystal display device using the display element substrate according to claim 1. Description:
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