JPH11202326A - Reflection type liquid crystal display element, and substrate for the reflection type liquid crystal display element - Google Patents

Reflection type liquid crystal display element, and substrate for the reflection type liquid crystal display element

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JPH11202326A
JPH11202326A JP10017828A JP1782898A JPH11202326A JP H11202326 A JPH11202326 A JP H11202326A JP 10017828 A JP10017828 A JP 10017828A JP 1782898 A JP1782898 A JP 1782898A JP H11202326 A JPH11202326 A JP H11202326A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal display
pixel electrode
substrate
display element
Prior art date
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Application number
JP10017828A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Shimizu
敦 清水
Masayasu Onishi
正泰 大西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Omron Corp
Original Assignee
Omron Corp
Omron Tateisi Electronics Co
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Publication date
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Publication of JPH11202326A publication Critical patent/JPH11202326A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a pixel electrode and a reflection layer by a simple method in a reflection type liquid crystal display element capable of preventing the projection of the scene of a front surface and improving the contrast of images by providing the pixel electrode or the reflection layer with a light diffusion pattern. SOLUTION: An underlying layer 28 is formed by press-molding resin such as ultraviolet ray setting resin on the inner surface of a transparent substrate 22a for constituting the back surface side substrate of this reflection type liquid crystal display element, and simultaneously, an irregular pattern 31 fine compared to a pixel size is formed on the surface of the layer 28. An electrode martial is deposited in uniform thickness on the layer 28 by a vapor deposition method or a sputtering method and the pixel electrode 29 is formed for respective pixel areas. On the surface of the pixel electrode 29, by surfacing the pattern 31 of the layer 28, the light diffusion pattern 32 for scattering and reflecting external light is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示素
子及び反射型液晶表示素子用の基板に関する。具体的に
いうと、本発明は、反射型液晶表示素子における反射光
特性の改善に関する。
The present invention relates to a reflective liquid crystal display device and a substrate for the reflective liquid crystal display device. More specifically, the present invention relates to an improvement in reflected light characteristics in a reflective liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子は、ガラス基板やフィルム
基板等の1対の透明基板間に形成された液晶セルと呼ば
れる空間に、液晶分子を封入して液晶層を形成したもの
であって、液晶層内の液晶分子に電圧を印加して液晶分
子の状態を変化させることにより、各画素毎に液晶セル
の光学的屈折率を変化させて画像を得ている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device is a device in which liquid crystal molecules are sealed in a space called a liquid crystal cell formed between a pair of transparent substrates such as a glass substrate and a film substrate. By applying a voltage to the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer to change the state of the liquid crystal molecules, an image is obtained by changing the optical refractive index of the liquid crystal cell for each pixel.

【0003】また、液晶表示素子自体は、低消費電力で
あるという特徴を有しているため、携帯用アプリケーシ
ョン(例えば、携帯電話の表示部等)への応用が積極的
に進められている。また、このような液晶表示素子に
は、大別して、透過型の液晶表示素子と反射型の液晶表
示素子とが知られている。
Further, since the liquid crystal display element itself has a feature of low power consumption, application to portable applications (for example, a display portion of a portable telephone) has been actively promoted. Further, as such a liquid crystal display element, a transmission type liquid crystal display element and a reflection type liquid crystal display element are generally known.

【0004】ところが、光源としてバックライトを利用
し、液晶表示素子の背面に配置されたバックライト光源
で発光した光を液晶表示素子に透過させ、それによって
画像を生成する透過型液晶表示素子では、せっかく液晶
表示素子で消費電力を抑えても、光源であるバックライ
トで多くの電力を消費してしまう。そのため、全体とし
ての電力消費が大きくなり、液晶表示素子の特徴が生か
せなくなるという欠点がある。
However, in a transmissive liquid crystal display device that uses a backlight as a light source and transmits light emitted from a backlight light source disposed on the back of the liquid crystal display device to the liquid crystal display device, thereby generating an image, Even if the power consumption is reduced by the liquid crystal display element, much power is consumed by the backlight as the light source. Therefore, there is a disadvantage that the power consumption as a whole increases and the characteristics of the liquid crystal display element cannot be utilized.

【0005】そこで、携帯用など電力消費が問題となる
用途では、液晶表示素子に入射する外光を利用する反射
型液晶表示素子を用いることが多い。このような反射型
液晶表示素子における外光反射方式としては、大きく分
けて2つの方式がある。一方の方式の反射型液晶表示素
子1(例えば、TN型LCD)は、図1に示すように、
液晶層3を封入している2枚の透明基板2a,2bのう
ち、前面側透明基板2bの内面にカラーフィルタ4及び
透明電極5を形成し、裏面側透明基板2aの内面にも透
明電極6を形成し、両透明基板2a,2bの外面側に偏
光板7a,7bを配置し、裏面側において偏光板7aの
外側に反射板8を貼り付けたものである。この方式の反
射型液晶表示素子1においては、明るい画素部分では、
前面から裏面へ向けて液晶表示素子1を透過した外光を
裏面側の反射板8で反射させ、再び液晶表示素子1の裏
面側から前面へ反射光を透過させる。
Therefore, in applications where power consumption is a problem, such as for portable use, a reflection type liquid crystal display element utilizing external light incident on the liquid crystal display element is often used. There are roughly two types of external light reflection methods in such a reflection type liquid crystal display element. As shown in FIG. 1, one type of reflective liquid crystal display element 1 (for example, TN type LCD)
Of the two transparent substrates 2a and 2b enclosing the liquid crystal layer 3, the color filter 4 and the transparent electrode 5 are formed on the inner surface of the front transparent substrate 2b, and the transparent electrode 6 is also formed on the inner surface of the rear transparent substrate 2a. Are formed, polarizers 7a and 7b are arranged on the outer surfaces of both transparent substrates 2a and 2b, and a reflector 8 is attached to the outside of the polarizer 7a on the back side. In the reflection type liquid crystal display element 1 of this system, in a bright pixel portion,
External light transmitted through the liquid crystal display element 1 from the front side to the back side is reflected by the reflection plate 8 on the back side, and the reflected light is transmitted from the back side to the front side of the liquid crystal display element 1 again.

【0006】もう一方の方式の反射型液晶表示素子9
(例えば、ECB型LCD)は、図2に示すように、液
晶層3を封入している2枚の透明基板2a,2bのう
ち、前面側透明基板2bの内面にカラーフィルタ4及び
透明電極5を形成し、裏面側透明基板2aの内面にアル
ミニウム等によって表面反射率の高い画素電極10を形
成し、前面側透明基板2bの外面側に偏光板7bを配置
したものである。この方式の液晶表示素子9において
は、明るい画素部分では、前面側の透明基板2bから入
射した外光を画素電極10で反射させ、再び液晶表示素
子9の前面へ反射光を戻すようになっている。
Another type of reflection type liquid crystal display element 9
As shown in FIG. 2, a color filter 4 and a transparent electrode 5 are provided on the inner surface of the front transparent substrate 2b among the two transparent substrates 2a and 2b enclosing the liquid crystal layer 3 as shown in FIG. The pixel electrode 10 having a high surface reflectance is formed on the inner surface of the rear transparent substrate 2a with aluminum or the like, and the polarizing plate 7b is disposed on the outer surface of the front transparent substrate 2b. In the liquid crystal display element 9 of this type, in a bright pixel portion, external light incident from the front transparent substrate 2b is reflected by the pixel electrode 10, and the reflected light is returned to the front surface of the liquid crystal display element 9 again. I have.

【0007】前者の方式では、製造コストは安価になる
が、明るい画素部分で、液晶表示素子1に入射した外光
は、表裏の偏光板7a,7bを往復合わせて4回透過
し、透明基板2a,2bも往復合わせて4回通過しなけ
ればならない。ここで、偏光板7a,7bの理想的な透
過率は50%であり、実際には43〜45%まで低下す
ることもあり、透明基板2a,2bもガラス基板を用い
た場合でも、透過率は可視光の平均で98%以上にはな
らない。このため、前者の方式の反射型液晶表示素子1
では、入射した外光のうち反射して前面側へ戻ってくる
反射光の光量が極めて少なくなり、画像のコントラスト
が著しく低下するという問題がある。
In the former method, the manufacturing cost is reduced, but outside light incident on the liquid crystal display element 1 in the bright pixel portion is transmitted four times by reciprocating the front and back polarizing plates 7a and 7b, and the transparent substrate 2a and 2b must also pass four times in total. Here, the ideal transmittance of the polarizing plates 7a and 7b is 50%, and may actually be reduced to 43 to 45%. Even when the transparent substrates 2a and 2b are also glass substrates, the transmittances are high. Does not average more than 98% of visible light. For this reason, the reflection type liquid crystal display element 1 of the former type is used.
In this case, there is a problem in that the amount of reflected light that is reflected and returns to the front side of the incident external light is extremely small, and the contrast of an image is significantly reduced.

【0008】また、後者の方式では、前者の方式に比べ
て製造工数が増加し、コストも高くつくが、外光が偏光
板7bを透過する回数は2回、透明基板2bを透過する
回数も2回となるので、外光のロスが少なく、画像のコ
ントラストが高く、明るく見やすい表示が得られる。
In the latter method, the number of manufacturing steps is increased and the cost is higher than in the former method. However, the number of times that external light transmits through the polarizing plate 7b and the number of times that the external light transmits through the transparent substrate 2b are also increased. Since it is performed twice, a loss of external light is small, the contrast of the image is high, and a bright and easy-to-view display is obtained.

【0009】しかし、反射型液晶表示素子では、外光の
反射率が低いと画像のコントラストが低く、見にくくな
り、実用化が困難であるため、後者のように液晶表示素
子内で外光を反射させる方式が主流となっている。
However, in a reflection type liquid crystal display device, if the reflectance of external light is low, the contrast of an image is low, it is difficult to see the image, and practical use is difficult. The method of making it dominant is the mainstream.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】従来の反射型液晶表示
素子では、上記のように、液晶セルの内部で外光を反射
させるものが主流となっている。しかし、外光を反射さ
せる反射板として働く画素電極10が平坦であると、図
3に示すように、外光(つまり、正面の景色など)が液
晶表示素子9に映り込んだり、外光の正反射方向から外
れた方向では画像のコントラストが低下したりして、良
好な視認性を得られないという問題があった。特に、入
射光の強度が強い場合には、視認性が極端に悪くなって
いた。
As described above, most of the conventional reflection type liquid crystal display elements reflect external light inside the liquid crystal cell. However, when the pixel electrode 10 serving as a reflector that reflects external light is flat, external light (that is, a front view) is reflected on the liquid crystal display element 9 as shown in FIG. In the direction deviating from the regular reflection direction, there is a problem that the contrast of the image is reduced and good visibility cannot be obtained. In particular, when the intensity of the incident light is high, the visibility is extremely deteriorated.

【0011】このため、反射型の液晶表示素子に用いら
れている反射板(画素電極)には、ある程度の拡散性が
必要とされている。実際には、図4に示すように、画素
電極10の表面に、丸みを有するなだらかな凹凸状の光
拡散パターン11を形成することにより、光拡散性を持
たせ、図5に示すように視野角を広げている。
For this reason, the reflector (pixel electrode) used in the reflection type liquid crystal display element needs to have a certain degree of diffusion. Actually, as shown in FIG. 4, a light diffusion pattern 11 having a rounded and smooth uneven shape is formed on the surface of the pixel electrode 10 so as to have a light diffusion property, and as shown in FIG. The corner is widened.

【0012】光拡散パターンを有する画素電極を形成す
る従来方法としては、ベースとなる透明基板の上に、真
空蒸着法やスパッタ法等によってアルミニウムのような
電極材料を堆積させる際、所望の光拡散パターンとなる
ように電極材料被膜の堆積厚を細かく変化させることに
より、光拡散パターンを有する画素電極を形成する方法
がある。具体的には、マスクの開口を通過した電極材料
を透明電極の上に堆積させるようにし、このマスクの移
動速度を加速したり減速したりしてその移動速度を細か
く制御することにより電極材料被膜の厚みを微細に変化
させ、それによって電極材料被膜の表面に光拡散パター
ンを形成し、その後、エッチングによって電極材料被膜
を各画素毎に分割して画素電極を形成する。
As a conventional method of forming a pixel electrode having a light diffusion pattern, when depositing an electrode material such as aluminum on a transparent substrate as a base by a vacuum evaporation method or a sputtering method, a desired light diffusion There is a method of forming a pixel electrode having a light diffusion pattern by finely changing the deposition thickness of an electrode material film so as to form a pattern. Specifically, the electrode material that has passed through the opening of the mask is deposited on the transparent electrode, and the moving speed of the mask is accelerated or decelerated to finely control the moving speed, thereby forming an electrode material coating. Then, a light diffusion pattern is formed on the surface of the electrode material film, and then the electrode material film is divided for each pixel by etching to form a pixel electrode.

【0013】あるいは、ベースとなる透明基板の上に、
アルミニウムのような電極材料を厚く堆積させた後、レ
ジストを用いて電極材料被膜の表面をエッチングし、微
細な凹凸状をした光拡散パターンを画素電極に形成して
いる。
Alternatively, on a transparent substrate serving as a base,
After a thick electrode material such as aluminum is deposited, the surface of the electrode material film is etched using a resist to form a light diffusion pattern having fine irregularities on the pixel electrode.

【0014】従来にあっては、上記のように堆積厚を細
かく変化させながら電極材料を透明基板上に堆積させた
り、透明基板上に電極材料を厚く堆積させた後、エッチ
ングにより電極材料被膜に凹凸加工を施したりしている
が、いずれの方法にあっても、透明基板1枚1枚に光拡
散性を有する画素電極を形成するのに時間が掛かり過
ぎ、製造効率が悪かった。また、製造効率も悪いため、
コストも高くついていた。
Conventionally, an electrode material is deposited on a transparent substrate while the deposition thickness is finely changed as described above, or an electrode material is deposited thick on a transparent substrate, and then the electrode material film is formed by etching. Although irregular processing is performed, it takes too much time to form a pixel electrode having light diffusing property on each transparent substrate in any of the methods, and the manufacturing efficiency is poor. In addition, due to poor manufacturing efficiency,
The cost was high.

【0015】さらに、エッチングによって電極材料被膜
の表面に凹凸を施す後者の方法では、透明基板1枚ごと
にエッチングを施して画素電極の表面に光拡散パターン
を形成するが、エッチングは例えば温度やガスなどの雰
囲気が均一かどうかによって多大の影響を受け易く、大
面積の透明基板に画素電極を形成するには不向きであっ
た。
In the latter method, in which the surface of the electrode material film is made uneven by etching, a light diffusion pattern is formed on the surface of the pixel electrode by etching each transparent substrate. However, it is easily affected by whether the atmosphere is uniform or not, and is not suitable for forming a pixel electrode on a large-sized transparent substrate.

【0016】本発明は、上記従来例の欠点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、光拡散パタ
ーンを有する画素電極又は反射層を簡単な製作方法によ
って付与することができる反射型液晶表示素子と当該表
示素子用の基板を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and has as its object to provide a pixel electrode having a light diffusion pattern or a reflective layer which can be provided by a simple manufacturing method. To provide a liquid crystal display device and a substrate for the display device.

【0017】[0017]

【発明の開示】請求項1に記載の反射型液晶表示素子
は、透明電極を形成した前面側の透明基板と画素電極を
形成した裏面側の基板とを対向させ、両基板間に液晶を
封入した反射型液晶表示素子において、前記裏面側基板
に画素サイズよりも微細な凹凸パターンを形成し、各画
素領域において当該凹凸パターンの上に光反射性の画素
電極を形成したことを特徴としている。
In the reflection type liquid crystal display element according to the present invention, a transparent substrate on the front side on which a transparent electrode is formed is opposed to a substrate on a rear side on which a pixel electrode is formed, and liquid crystal is sealed between the two substrates. In the reflection type liquid crystal display device described above, an uneven pattern finer than a pixel size is formed on the back side substrate, and a light reflective pixel electrode is formed on the uneven pattern in each pixel region.

【0018】請求項1に記載の液晶表示素子にあって
は、裏面側基板の表面に画素サイズよりも微細な凹凸パ
ターンが形成されているから、この上に均一な厚みの画
素電極を形成すれば、画素電極の表面に光拡散パターン
が形成される。前面側から反射型液晶表示素子内に入射
した外光は、画素電極によって反射されるが、画素電極
の表面に光拡散パターンが形成されているために、反射
光は散乱される。従って、外光が正反射されなくなり、
前面側の景色の映り込みが防止され、反射型液晶表示素
子のコントラストが良好となり、画面が見やすくなる。
In the liquid crystal display device according to the first aspect, since a concave and convex pattern finer than the pixel size is formed on the surface of the back side substrate, a pixel electrode having a uniform thickness is formed thereon. For example, a light diffusion pattern is formed on the surface of the pixel electrode. External light entering the reflective liquid crystal display element from the front side is reflected by the pixel electrode, but the reflected light is scattered because the light diffusion pattern is formed on the surface of the pixel electrode. Therefore, external light is no longer specularly reflected,
The reflection of the scenery on the front side is prevented, the contrast of the reflection type liquid crystal display element is improved, and the screen is easy to see.

【0019】しかも、下地層の上には、画素電極を均一
な膜厚に形成すれば良いので、基板上に堆積した電極材
料にエッチングを施して光拡散パターンを形成したり、
マスクの移動速度を制御して電極材料の堆積厚を変化さ
せることによって光拡散パターンを形成したりする従来
方法と比較して、画素電極の製作が極めて簡単になる。
なお、下地層は樹脂の型押しなどによって容易に製作で
きる。
In addition, since the pixel electrode may be formed on the underlayer with a uniform thickness, the electrode material deposited on the substrate may be etched to form a light diffusion pattern.
As compared with the conventional method of forming a light diffusion pattern by controlling the moving speed of the mask to change the deposition thickness of the electrode material, the fabrication of the pixel electrode becomes extremely simple.
The underlayer can be easily manufactured by embossing the resin.

【0020】請求項3に記載した反射型液晶表示素子用
の基板は、液晶を封入するための基板と、当該基板の表
面に形成された、表示素子の画素サイズよりも微細な凹
凸パターンとから構成されているから、この凹凸パター
ンの上に光反射性の画素電極を形成することにより、請
求項1の反射型液晶表示素子の裏面側の基板を容易に製
作することができる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a substrate for a reflection type liquid crystal display element comprising a substrate for enclosing a liquid crystal and a concavo-convex pattern formed on the surface of the substrate and smaller than the pixel size of the display element. Since the light-reflective pixel electrode is formed on the concave / convex pattern, the substrate on the back side of the reflective liquid crystal display element according to the first aspect can be easily manufactured.

【0021】請求項2に記載の反射型液晶表示素子は、
透明電極を形成した前面側の透明基板と画素電極を形成
した裏面側の基板とを対向させ、両基板間に液晶を封入
した反射型液晶表示素子において、前記裏面側基板に画
素サイズよりも微細な凹凸パターンを形成し、各画素領
域において当該凹凸パターンの上に光反射層を形成し、
当該光反射層に対応させて透明な画素電極を形成したこ
とを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a reflection type liquid crystal display device.
In a reflective liquid crystal display device in which a front transparent substrate on which a transparent electrode is formed and a rear substrate on which a pixel electrode is formed are filled with liquid crystal between the two substrates, the rear substrate has a smaller size than the pixel size. Forming an uneven pattern, forming a light reflection layer on the uneven pattern in each pixel region,
A transparent pixel electrode is formed corresponding to the light reflection layer.

【0022】請求項2に記載の反射型液晶表示素子にあ
っても、下地層の凹凸パターンの上に均一な厚みの反射
層を形成すれば、反射層の表面に光拡散パターンが形成
される。従って、反射型液晶表示素子内に入射した外光
が散乱反射され、前面側の景色の映り込みが防止され、
反射型液晶表示素子のコントラストが良好となり、画面
が見やすくなる。
In the reflection type liquid crystal display element according to the present invention, if a reflection layer having a uniform thickness is formed on the uneven pattern of the underlayer, a light diffusion pattern is formed on the surface of the reflection layer. . Therefore, the external light incident on the reflective liquid crystal display element is scattered and reflected, and the reflection of the scenery on the front side is prevented,
The contrast of the reflection type liquid crystal display element becomes good, and the screen becomes easy to see.

【0023】しかも、この場合も、下地層の上に反射層
を均一な膜厚に形成すれば良いので、反射層や画素電極
の製作が極めて簡単になる。
Moreover, in this case, since the reflective layer may be formed to a uniform thickness on the underlayer, the fabrication of the reflective layer and the pixel electrode becomes extremely simple.

【0024】請求項4に記載した反射型液晶表示素子用
の基板は、液晶を封入するための基板と、当該基板の表
面に形成された、表示素子の画素サイズよりも微細な凹
凸パターンと、当該凹凸パターンの表面に形成された反
射層とから構成されているから、この反射層に対応させ
て透明な画素電極を形成することにより、請求項2の反
射型液晶表示素子の裏面側の基板を容易に製作すること
ができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate for a reflection type liquid crystal display element, comprising: a substrate for enclosing a liquid crystal; 3. The substrate on the back side of the reflective liquid crystal display device according to claim 2, wherein the substrate is constituted by a reflective layer formed on the surface of the concave and convex pattern, and a transparent pixel electrode is formed corresponding to the reflective layer. Can be easily manufactured.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】図6は本発明の一実施形態による
反射型液晶表示素子21の構造を示す一部破断した断面
図である。この反射型液晶表示素子21にあっては、一
対の透明基板22a,22b間に液晶層23が封入され
ており、各透明基板22a,22bとしてはガラス基板
やフィルム基板等が用いられる。前面側透明基板22b
の内面には、カラーフィルタ24、透明電極25及び配
向膜26が形成され、前面側透明基板22bの外面には
偏光板27が設けられ、裏面側透明基板22aの内面に
は、下地層28、画素電極29及び配向膜30が形成さ
れている。
FIG. 6 is a partially broken sectional view showing the structure of a reflective liquid crystal display device 21 according to one embodiment of the present invention. In this reflective liquid crystal display element 21, a liquid crystal layer 23 is sealed between a pair of transparent substrates 22a and 22b, and a glass substrate or a film substrate is used as each of the transparent substrates 22a and 22b. Front side transparent substrate 22b
A color filter 24, a transparent electrode 25, and an alignment film 26 are formed on the inner surface of the substrate, a polarizing plate 27 is provided on the outer surface of the front transparent substrate 22b, and an underlayer 28 is formed on the inner surface of the rear transparent substrate 22a. A pixel electrode 29 and an alignment film 30 are formed.

【0026】裏面側に配置される透明基板22aの構造
(1画素分)を図7に詳細に示す。ガラス板やプラスチ
ックフィルム等からなる透明基板22aの上には、各画
素領域毎に合成樹脂からなる下地層28が形成されてお
り、各下地層28の表面には、図8に示すように多数の
微細な凹凸を均一に、かつ整然と配列した凹凸パターン
31が形成されている。この下地層28の凹凸パターン
31の上には、均一な膜厚を有するアルミニウム等の画
素電極29が形成されている。この画素電極29は反射
板の機能を兼ねており、しかも、画素電極29の表面に
は、下地層28の凹凸パターン31のため、微細な凹凸
からなる光拡散パターン32が形成されている。また、
下地層28及び画素電極29は、表示画素に対応して設
けられており、隣接する各画素領域の下地層28どうし
及び画素電極29どうしは互いに分離している。
FIG. 7 shows the structure (for one pixel) of the transparent substrate 22a disposed on the back side in detail. On a transparent substrate 22a made of a glass plate, a plastic film or the like, a base layer 28 made of a synthetic resin is formed for each pixel region, and a plurality of base layers 28 are formed on the surface of each base layer 28 as shown in FIG. The uneven pattern 31 in which the fine unevenness is uniformly and orderly arranged is formed. A pixel electrode 29 made of aluminum or the like having a uniform film thickness is formed on the uneven pattern 31 of the underlayer 28. The pixel electrode 29 also functions as a reflection plate, and a light diffusion pattern 32 having fine irregularities is formed on the surface of the pixel electrode 29 because of the irregularity pattern 31 of the underlayer 28. Also,
The base layer 28 and the pixel electrode 29 are provided corresponding to the display pixels, and the base layer 28 and the pixel electrode 29 in each adjacent pixel region are separated from each other.

【0027】この裏面側の透明基板22aには、画素電
極29の上から、透明基板22a全体に、ポリイミド、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、エポキ
シアクリレート又はポリウレタン等の有機高分子からな
る配向膜30を均一に塗布し、布やブラシでラビングさ
れる。同様に、表面にカラーフィルタ24及び透明電極
25を形成された前面側の透明基板22bにも、透明電
極25の上から配向膜26を塗布しラビング処理され
る。ついで、両透明基板22a,22b間に液晶層23
を封入するようにして反射型液晶表示素子21が組み立
てられる。
On the transparent substrate 22a on the back side, polyimide, over the pixel electrode 29, is applied to the entire transparent substrate 22a.
An alignment film 30 made of an organic polymer such as polyamide, polyamide imide, polystyrene, epoxy acrylate or polyurethane is uniformly applied, and rubbed with a cloth or a brush. Similarly, the alignment film 26 is applied from above the transparent electrode 25 to the front transparent substrate 22b having the surface on which the color filter 24 and the transparent electrode 25 are formed, and rubbed. Next, a liquid crystal layer 23 is provided between the transparent substrates 22a and 22b.
Is assembled, and the reflection type liquid crystal display element 21 is assembled.

【0028】このような反射型液晶表示素子21にあっ
ては、暗い画素部分では、偏光板27を通って前面から
外光が入射し、画素電極29で反射して偏光板27へ戻
ってきた光は、偏光面が90°旋光しているため偏光板
27を透過できず、暗くなる。これに対し、明るい画素
部分では、偏光板27を通って前面から入射した外光
は、画素電極29の表面で反射し、再び液晶表示素子2
1の前面から抜け出る。しかも、入射した外光は画素電
極29によって反射され、さらに、表面の光拡散パター
ン32によって散乱反射されるので、液晶表示素子21
の画面が明るくなり、画像のコントラストも良好とな
る。また、景色の映り込みなども解消される。
In such a reflective liquid crystal display element 21, in a dark pixel portion, external light enters from the front through the polarizing plate 27, is reflected by the pixel electrode 29, and returns to the polarizing plate 27. The light cannot be transmitted through the polarizing plate 27 because the polarization plane is rotated by 90 °, and becomes dark. On the other hand, in a bright pixel portion, external light that has entered from the front through the polarizing plate 27 is reflected on the surface of the pixel electrode 29 and is again reflected on the liquid crystal display element 2.
Get out of the front of 1. Moreover, the incident external light is reflected by the pixel electrode 29 and further scattered and reflected by the light diffusion pattern 32 on the surface.
Screen becomes brighter and the contrast of the image becomes better. In addition, the reflection of the scenery is also eliminated.

【0029】しかも、この反射型液晶表示素子21にあ
っては、透明基板22aの表面に、樹脂の型押し等によ
って下地層28を形成した後、下地層28の上に均一な
厚みの画素電極29を形成するだけでよいから、画素電
極29の製作を容易にすることができ、コストも安価に
なる。
In addition, in the reflection type liquid crystal display element 21, a base layer 28 is formed on the surface of the transparent substrate 22a by embossing a resin or the like, and then a pixel electrode having a uniform thickness is formed on the base layer 28. Since it is only necessary to form the pixel electrode 29, the fabrication of the pixel electrode 29 can be facilitated and the cost can be reduced.

【0030】(下地層及び画素電極の形成方法)つぎ
に、紫外線照射により硬化する紫外線硬化型樹脂を用い
た、いわゆる2P(Photo-Polymerization)法により透
明基板22aの上に下地層28を成形する方法を説明す
る。図9(a)(b)に示すように、透明基板22aの
上に流動性のある透明な紫外線硬化型樹脂33を供給し
た後、紫外線硬化型樹脂33の上から透明基板22aへ
向けてスタンパ34を降下させる[図9(c)]。この
スタンパ34の下面には、下地層28の凹凸パターン3
1と合致する反転パターン35が画素ピッチと同じピッ
チで複数形成されている。このスタンパ34を透明基板
22aに十分に押し付けてスタンパ34と透明基板22
aの間に紫外線硬化型樹脂33を挟み込み、スタンパ3
4の反転パターン35で紫外線硬化型樹脂33を型押し
した後、そのままの状態で、透明基板22aを通して紫
外線硬化型樹脂33に紫外線ランプ等によって紫外線
(UV光)を照射する[図9(d)]。紫外線を照射さ
れた紫外線硬化型樹脂33は、紫外線を浴びると硬化反
応を起こして硬化するので、紫外線硬化型樹脂33にス
タンパ34の反転パターン35が転写成形され、硬化し
た紫外線硬化型樹脂33によって透明基板22a上に下
地層28が形成されると共に下地層28の表面に凹凸パ
ターン31が成形される[図9(e)]。こうして下地
層28が形成されると、その凹凸パターン31の上に真
空蒸着法やスパッタ法等によってアルミニウム等の電極
材料36を均一な厚みに堆積させる[図9(f)]。つ
いで、電極材料36の堆積層を画素電極29のパターン
に合わせてエッチングすることによってパターニング
し、各画素領域毎に電極材料を分離して画素電極29を
形成する[図9(g)]。このとき、画素電極29の表
面には、下地層28の凹凸パターン31が浮き出て光拡
散パターン32となる。
(Method of Forming Underlayer and Pixel Electrode) Next, the underlayer 28 is formed on the transparent substrate 22a by a so-called 2P (Photo-Polymerization) method using an ultraviolet curable resin which is cured by irradiation with ultraviolet rays. The method will be described. As shown in FIGS. 9 (a) and 9 (b), after supplying a transparent and transparent ultraviolet curable resin 33 onto the transparent substrate 22a, the stamper is moved from above the ultraviolet curable resin 33 toward the transparent substrate 22a. 34 is lowered [FIG. 9 (c)]. On the lower surface of the stamper 34, the uneven pattern 3 of the underlayer 28 is formed.
A plurality of inversion patterns 35 corresponding to 1 are formed at the same pitch as the pixel pitch. The stamper 34 is sufficiently pressed against the transparent substrate 22a, and the stamper 34 and the transparent substrate 22 are pressed.
a, an ultraviolet curable resin 33 is sandwiched between
After embossing the ultraviolet curable resin 33 with the inverted pattern 35 of No. 4, the ultraviolet curable resin 33 is irradiated with ultraviolet light (UV light) by an ultraviolet lamp or the like through the transparent substrate 22a as it is [FIG. ]. The ultraviolet-curable resin 33 irradiated with ultraviolet light undergoes a curing reaction when exposed to ultraviolet light, and is cured. Therefore, the reverse pattern 35 of the stamper 34 is transferred to the ultraviolet-curable resin 33 and is molded. An underlayer 28 is formed on the transparent substrate 22a, and an uneven pattern 31 is formed on the surface of the underlayer 28 (FIG. 9E). When the underlayer 28 is formed in this manner, an electrode material 36 such as aluminum is deposited on the uneven pattern 31 to a uniform thickness by a vacuum evaporation method, a sputtering method, or the like (FIG. 9F). Next, the deposited layer of the electrode material 36 is patterned by etching according to the pattern of the pixel electrode 29, and the electrode material is separated for each pixel region to form the pixel electrode 29 (FIG. 9G). At this time, the concavo-convex pattern 31 of the underlying layer 28 emerges on the surface of the pixel electrode 29 to become a light diffusion pattern 32.

【0031】このようにして下地層28及び画素電極2
9を形成すれば、スタンパ34を用いて透明基板22a
の上に簡単に下地層28及び画素電極29を形成するこ
とができ、しかも、紫外線照射によって紫外線硬化型樹
脂33を硬化させて下地層28を成形することにより、
樹脂硬化のための養生時間も必要なく、簡単な工程で、
しかも短時間で下地層28を形成することができ、画素
電極29も均一な厚みに堆積させるだけでよいので、量
産に適している。
As described above, the base layer 28 and the pixel electrode 2
9, the transparent substrate 22a is formed using the stamper 34.
The base layer 28 and the pixel electrode 29 can be easily formed on the substrate, and the base layer 28 is formed by curing the ultraviolet curable resin 33 by irradiating ultraviolet rays.
No need for curing time for resin curing, simple process,
In addition, the underlayer 28 can be formed in a short time, and the pixel electrode 29 only needs to be deposited to a uniform thickness, which is suitable for mass production.

【0032】この理由を以下に詳しく述べる。2P法に
よれば、スタンパ34の反転パターン35を紫外線硬化
型樹脂33に転写させることによって微細な凹凸パター
ン31を有する下地層28を容易に形成することがで
き、微細な凹凸パターン31を有する下地層28の上に
均一な厚みの電極材料を堆積させることにより、光拡散
パターン32を有する画素電極29を容易に製作するこ
とができる。特に、比較的粘性の低い紫外線硬化型樹脂
33を用い、スタンパ34で型押しした後、紫外線を照
射して硬化させれば、精度よくスタンパ34の反転パタ
ーン35を転写することができ、正確な複製を大量に行
える。さらに、2P法では紫外線照射光源を透明基板2
2aの全体に一括露光するだけで下地層28が形成さ
れ、処理工程が1回で済む。
The reason will be described in detail below. According to the 2P method, the underlayer 28 having the fine concavo-convex pattern 31 can be easily formed by transferring the reverse pattern 35 of the stamper 34 to the ultraviolet curable resin 33. By depositing an electrode material having a uniform thickness on the ground layer 28, the pixel electrode 29 having the light diffusion pattern 32 can be easily manufactured. In particular, by using a relatively low-viscosity ultraviolet-curable resin 33, pressing the mold with a stamper 34, and then irradiating and curing the resin, the reverse pattern 35 of the stamper 34 can be transferred with high accuracy. Large numbers of copies can be made. Further, in the 2P method, the ultraviolet irradiation light source is set to the transparent substrate 2.
The base layer 28 is formed only by performing the collective exposure on the entire area 2a, and only one processing step is required.

【0033】これに対し、エッチング法では、同じマス
クと同じ設定条件(例えば温度、ガス雰囲気、時間な
ど)を用いても、そのときの光の当たり方、温度やガス
雰囲気濃度の密度分布等によりバラツキが大きくなって
しまう。これでは0.01mmオーダーで高さをシビア
に制御しなければならない液晶表示素子用には適さな
い。また、従来のように、マスクを用いてその移動速度
を制御することにより複雑な形状の画素電極を形成しよ
うとすれば、非常に複雑なマスク制御を必要とし、処理
時間が非常に長くなる。
On the other hand, in the etching method, even if the same mask and the same setting conditions (for example, temperature, gas atmosphere, time, etc.) are used, depending on how light hits and the density distribution of the temperature and gas atmosphere concentration at that time, Variations increase. This is not suitable for a liquid crystal display element in which the height must be severely controlled on the order of 0.01 mm. Further, if a pixel electrode having a complicated shape is to be formed by controlling the moving speed by using a mask as in the related art, very complicated mask control is required, and the processing time becomes extremely long.

【0034】また、スタンパ34で型押しした後、紫外
線照射して紫外線硬化型樹脂33を硬化させるだけで下
地層28を形成できるので、熱硬化性樹脂を用いる方法
やエッチング法などに比べ、透明基板1枚あたりの処理
時間が短くて済む。基板1枚あたりの処理時間は、従来
の例えばエッチング法を用いるかぎり、原理的に時間が
掛かるのはやむを得ず、工業的に量産性を考えた場合、
大きなネックとなっていた。
Also, since the base layer 28 can be formed only by embossing with the stamper 34 and then irradiating ultraviolet rays to cure the ultraviolet curable resin 33, the transparent layer is more transparent than a method using a thermosetting resin or an etching method. The processing time per substrate can be reduced. The processing time per substrate is inevitably time-consuming in principle, as long as a conventional etching method is used, for example.
It was a big neck.

【0035】また、従来法では画素電極自体の厚みが不
均一となるため、液晶表示素子の駆動法を工夫しない
と、場合によっては画素内にムラが生じることがある。
これに対し、本発明の液晶表示素子21では、画素電極
29の厚みを均一にすることができるので、このような
問題を解消できる。
Further, in the conventional method, the thickness of the pixel electrode itself becomes non-uniform, so that if the driving method of the liquid crystal display element is not devised, unevenness may occur in the pixel in some cases.
On the other hand, in the liquid crystal display element 21 of the present invention, such a problem can be solved because the thickness of the pixel electrode 29 can be made uniform.

【0036】よって、本発明によれば、液晶表示素子2
1の広視野角化の要求に大きく貢献し、かつ、画素電極
29表面の滑らかさが液晶表示素子21としての要求を
十分満たす、画素電極付きの基板を容易かつ大量に製造
することが可能となる。また、本発明によれば、製造上
のバラツキ(同一液晶表示素子21内でのバラツキ、液
晶表示素子21間でのバラツキ)が少ないため、上記効
果(例えば広視野角化など)を安定して得ることがで
き、工業生産性に優れる。
Therefore, according to the present invention, the liquid crystal display element 2
(1) It is possible to easily and mass-produce a substrate with a pixel electrode, which greatly contributes to the demand for a wide viewing angle and the smoothness of the surface of the pixel electrode 29 sufficiently satisfies the requirement for the liquid crystal display element 21. Become. Further, according to the present invention, since there is little variation in manufacturing (variation within the same liquid crystal display element 21 and variation between the liquid crystal display elements 21), the above-described effects (for example, wide viewing angle) can be stably achieved. And excellent industrial productivity.

【0037】なお、本発明にかかる2P法でも、画素電
極のパターニングにはエッチング法を用いるが、画素電
極の平面パターンを得るために用いるに過ぎず、画素電
極の厚みをエッチングにより加工する場合のような問題
がない。特に、画素電極のパターニングは、透明基板全
面に対し十分大きな寸法のマスクを用いて一括してエッ
チングできるので、大きな工数増とはならない。
In the 2P method according to the present invention, an etching method is used for patterning a pixel electrode. However, this method is only used to obtain a planar pattern of a pixel electrode. There is no such problem. In particular, since the patterning of the pixel electrode can be collectively etched over the entire surface of the transparent substrate using a mask having a sufficiently large dimension, the number of steps is not significantly increased.

【0038】(スタンパの製造方法)上記スタンパ34
の製造方法を図10に示す。まず、図10(a)に示す
ような平板状をしたガラス板37を用意し、図11に示
すようにガラス板37の表面に、結像レンズ38で集光
させたレーザー光を照射し、レーザー加工(レーザーリ
トグラフイ)により2点鎖線(39)で示す深さまでガ
ラス板37を蒸発除去し、ガラス板37の表面に所望の
凹凸パターン39(すなわち、下地層28の凹凸パター
ン31と同じ形状であって、予めレーザー加工装置を制
御するコンピュータに記憶させている)を形成する。ガ
ラス板37の表面に所望の凹凸パターン39を形成して
ガラス板37からなる原盤40を作製した後、原盤40
の上にニッケルを堆積させ、ニッケル電鋳法により原盤
40の反転型であるニッケルマスタ41を作製し[図1
0(c)]、ニッケルマスタ41を原盤40から剥離す
る[図10(d)]。ニッケル電鋳法によりニッケルマ
スタ41を作製する際には、その準備として原盤40を
例えば蒸着法あるいは無電解メッキ法で導電化してお
き、導電化された原盤40の表面を陰極とし、例えばス
ルファミン酸ニッケル浴で電気メッキしてニッケルマス
タ41を作製する。
(Method of Manufacturing Stamper) The stamper 34
10 is shown in FIG. First, a glass plate 37 having a flat plate shape as shown in FIG. 10A is prepared, and the surface of the glass plate 37 is irradiated with laser light focused by an imaging lens 38 as shown in FIG. The glass plate 37 is evaporated and removed to a depth indicated by a two-dot chain line (39) by laser processing (laser lithography), and a desired concavo-convex pattern 39 (that is, the same shape as the concavo-convex pattern 31 of the underlayer 28) is formed on the surface of the glass plate 37. , Which is stored in a computer that controls the laser processing apparatus in advance). A master 40 made of the glass plate 37 is formed by forming a desired concavo-convex pattern 39 on the surface of the glass plate 37.
Nickel is deposited on the substrate, and a nickel master 41 which is an inverted type of the master 40 is manufactured by a nickel electroforming method [FIG.
0 (c)], the nickel master 41 is peeled off from the master 40 [FIG. 10 (d)]. When preparing the nickel master 41 by the nickel electroforming method, the master 40 is made conductive by, for example, a vapor deposition method or an electroless plating method, and the surface of the conductive master 40 is used as a cathode. The nickel master 41 is manufactured by electroplating in a nickel bath.

【0039】こうして得られたニッケルマスタ41でも
スタンパ34の反転パターン35と同じパターン42を
有しているから、ニッケルマスタ41をスタンパ34と
して使用できるが、通常は(工業的には)このニッケル
マスタ41をさらにニッケル電鋳法で複製したものをス
タンパ34とする。ニッケルマスタ41を複製する場合
には、ニッケルマスタ41の表面に例えば重クロム酸カ
リ溶液で酸化膜を作った後、再びニッケル電鋳法により
凸凹が反転したマザー43(原盤の複製)を作製し[図
10(e)]、さらにニッケル電鋳法によりマザー43
の反転した型を作製し、ニッケルマスタ41の複製であ
るスタンパ34を作製する[図10(f)]。従って、
スタンパ34が摩耗した場合には、マザー43から再度
複製することができる。
Since the nickel master 41 thus obtained also has the same pattern 42 as the inverted pattern 35 of the stamper 34, the nickel master 41 can be used as the stamper 34, but usually (industrial) this nickel master 41 is used. A stamper 34 is obtained by further copying 41 by nickel electroforming. When duplicating the nickel master 41, an oxide film is formed on the surface of the nickel master 41 using, for example, a potassium dichromate solution, and then a mother 43 (replica of the master) whose unevenness is reversed by nickel electroforming is again produced. [FIG. 10 (e)] Further, the mother 43 is formed by nickel electroforming.
Then, a stamper 34, which is a copy of the nickel master 41, is manufactured [FIG. 10 (f)]. Therefore,
When the stamper 34 is worn, it can be reproduced again from the mother 43.

【0040】また、スタンパ34を作製するには、図1
2(a)〜(f)に示すように、ガラス板37の表面に
塗布されたレジスト44をレーザー加工することによっ
て原盤40を作製してもよい。レジスト44を使用する
場合には、ガラス板37とレジスト44の密着剤とし
て、例えばシランカップリング剤をガラス板37の表面
に塗布しておき、レーザー加工した後、露光、現像及び
洗浄の工程を経て、レジスト44による凹凸パターン3
9がガラス板37の表面に形成される[図12(a)
(b)]。この後の処理は、図10(c)以下と同様に
行う[図12(c)〜(f)]。
In order to manufacture the stamper 34, FIG.
As shown in FIGS. 2A to 2F, the master 40 may be manufactured by laser processing the resist 44 applied to the surface of the glass plate 37. When the resist 44 is used, for example, a silane coupling agent is applied to the surface of the glass plate 37 as a bonding agent between the glass plate 37 and the resist 44, and after the laser processing, exposure, development and cleaning steps are performed. After that, the uneven pattern 3 by the resist 44
9 is formed on the surface of the glass plate 37 [FIG.
(B)]. Subsequent processing is performed in the same manner as in FIG. 10C and thereafter [FIGS. 12C to 12F].

【0041】(第2の実施形態)図9の実施形態では、
下地層28の各凹凸パターン31を構成している凸部ど
うしは分離しているように見える(実際には、0.5〜
2μm程度の薄い樹脂層が存在する)。図13に示すも
のは、下地層28の厚みを大きくし(例えば数10μm
程度)、凹凸パターン31の凸部どうしが連続するよう
にしたものである。
(Second Embodiment) In the embodiment of FIG.
The projections forming each of the concavo-convex patterns 31 of the underlayer 28 appear to be separated from each other (actually, 0.5 to 0.5).
There is a thin resin layer of about 2 μm). In the structure shown in FIG. 13, the thickness of the underlayer 28 is increased (for example, several tens μm).
Degree), and the convex portions of the concave / convex pattern 31 are continuous.

【0042】また、各画素領域に設けられている下地層
28どうしも図14に示すように連続していてもよい。
ただし、画素電極29は画素領域毎に分割されている。
The underlayers 28 provided in the respective pixel regions may be continuous as shown in FIG.
However, the pixel electrode 29 is divided for each pixel region.

【0043】このような形状の下地層28を形成する場
合には、図15(a)〜(g)に示すように、十分な量
の紫外線硬化型樹脂33を透明基板22aの上に供給
し、スタンパ34を下降させる下限位置を設定すること
によって、下降したスタンパ34と透明基板22aの間
に所定のスペースを残すようにすればよい。
When the underlayer 28 having such a shape is formed, as shown in FIGS. 15A to 15G, a sufficient amount of the ultraviolet curable resin 33 is supplied onto the transparent substrate 22a. By setting the lower limit position for lowering the stamper 34, a predetermined space may be left between the lowered stamper 34 and the transparent substrate 22a.

【0044】また、下地層28を2P法によって透明基
板22aの上に転写成形する際、成形された下地層28
はスタンパ34から剥離しにくいので、透明基板22a
から剥がれる恐れがある。そのため、下地層28の、ス
タンパ34からの離形性を良好にするには、下地層2
8を形成するための紫外線硬化型樹脂33にあらかじめ
離型剤(剥離剤)45を混入させておけばよい(図1
6)。あるいは、透明基板22aの表面に、透明基板
22aと下地層28との密着性を良好にする働きのある
薬品(プライマー、カップリング剤)46をあらかじめ
塗布しておいてもよい(図17)。あるいは、との
方法を併用してもよい。
When the base layer 28 is transferred and formed on the transparent substrate 22a by the 2P method, the formed base layer 28
Is difficult to separate from the stamper 34, so that the transparent substrate 22a
There is a risk of peeling from. Therefore, in order to improve the releasability of the underlayer 28 from the stamper 34, the underlayer 2
A release agent (release agent) 45 may be mixed in advance with the ultraviolet-curable resin 33 for forming 8 (FIG. 1).
6). Alternatively, a chemical (primer, coupling agent) 46 having a function of improving the adhesion between the transparent substrate 22a and the base layer 28 may be applied in advance to the surface of the transparent substrate 22a (FIG. 17). Alternatively, the above methods may be used in combination.

【0045】(第3の実施形態)図18は本発明のさら
に別な実施形態による反射型液晶表示素子に用いられる
裏面側の透明基板22aの構造を示す一部破断した断面
図である。この実施形態では、透明基板22aの上に下
地層28を形成した後、蒸着法やスパッタ法などによっ
て下地層28の凹凸パターン31の上にアルミニウム又
はアルミニウム合金等を均一な膜厚に堆積させて各画素
領域毎に反射層47を形成している。従って、反射層4
7の表面には、凹凸パターン31が浮き出て凹凸状をし
た光拡散パターン48が生じている。さらに、反射層4
7の上に均一な厚みとなるようにITO等の透明な画素
電極(透明電極)49を形成している。なお、この場合
も、図19に示すように、各画素領域の下地層28が連
続していてもよい。
(Third Embodiment) FIG. 18 is a partially cutaway sectional view showing the structure of a rear transparent substrate 22a used in a reflection type liquid crystal display device according to still another embodiment of the present invention. In this embodiment, after the base layer 28 is formed on the transparent substrate 22a, aluminum or an aluminum alloy or the like is deposited in a uniform thickness on the concave / convex pattern 31 of the base layer 28 by an evaporation method, a sputtering method, or the like. The reflection layer 47 is formed for each pixel region. Therefore, the reflection layer 4
On the surface of 7, a light diffusion pattern 48 in which the concavo-convex pattern 31 protrudes and has a concavo-convex shape is formed. Further, the reflection layer 4
A transparent pixel electrode (transparent electrode) 49 made of ITO or the like is formed on the substrate 7 so as to have a uniform thickness. In this case, as shown in FIG. 19, the underlying layer 28 of each pixel region may be continuous.

【0046】また、反射層47を用いる場合には、図2
0に示すように、透明基板22aの外面に下地層28を
形成し、各画素領域において下地層28の凹凸パターン
31の上にアルミニウム又はアルミニウム合金からなる
反射層47を形成し、反射層47と対向させて透明基板
22aの内面にITO等の透明な画素電極49を平坦に
形成してもよい。
In the case where the reflection layer 47 is used, FIG.
As shown in FIG. 0, a base layer 28 is formed on the outer surface of the transparent substrate 22a, and a reflection layer 47 made of aluminum or an aluminum alloy is formed on the uneven pattern 31 of the base layer 28 in each pixel region. A transparent pixel electrode 49 made of ITO or the like may be formed flat on the inner surface of the transparent substrate 22a so as to face the same.

【0047】なお、上記各実施形態では、透明基板の表
面に2P法等によって下地層を形成することによって透
明基板表面に下地層を形成する場合を説明したが、例え
ばプラスチックフィルムからなる透明基板の表面に加熱
型を押し付けて下地層を一体成形したり、ガラス板から
なる透明基板の表面にエッチング等で凹状部を形成して
もよい。しかし、前者の方法では、形状の安定性が悪く
て変形し易く、微細な加工も困難である。また、後者の
方法では、ガラス板のエッチングは精度(形状、高さお
よび平坦性など)がさらに悪く、よい方法とは言えな
い。従って、紫外線硬化型樹脂を用いて透明基板の表面
に下地層を形成する2P法がもっとも優れているといえ
る。
In each of the above embodiments, the case where the underlayer is formed on the surface of the transparent substrate by forming the underlayer on the surface of the transparent substrate by the 2P method or the like has been described. A base may be integrally formed by pressing a heating mold against the surface, or a concave portion may be formed on the surface of a transparent substrate made of a glass plate by etching or the like. However, the former method has poor shape stability and is easily deformed, and it is difficult to perform fine processing. Further, in the latter method, the accuracy (shape, height, flatness, and the like) of the etching of the glass plate is further poor, and cannot be said to be a good method. Therefore, it can be said that the 2P method of forming a base layer on the surface of a transparent substrate using an ultraviolet curable resin is the best.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来例の反射型液晶表示素子を示す概略断面図
である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a conventional reflective liquid crystal display device.

【図2】別な従来例の反射型液晶表示素子を示す概略断
面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another conventional reflection type liquid crystal display device.

【図3】平坦な反射板による入射光の反射を示す概略図
である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing reflection of incident light by a flat reflector.

【図4】光拡散パターンを有する画素電極を形成された
透明基板を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a transparent substrate on which a pixel electrode having a light diffusion pattern is formed.

【図5】光拡散パターンを有する画素電極を用いた液晶
表示装置において、外光を散乱反射するようすを示す断
面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which external light is scattered and reflected in a liquid crystal display device using a pixel electrode having a light diffusion pattern.

【図6】本発明の一実施形態による反射型液晶表示素子
を示す一部破断した断面図である。
FIG. 6 is a partially broken sectional view showing a reflective liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【図7】同上の透明基板上に形成された下地層及び画素
電極を示す拡大断面図である。
FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing a base layer and a pixel electrode formed on the transparent substrate of the above.

【図8】同上の下地層の凹凸パターンを示す平面図であ
る。
FIG. 8 is a plan view showing a concavo-convex pattern of the underlayer according to the third embodiment.

【図9】(a)〜(g)は透明基板上に下地層及び画素
電極を形成する方法を説明する概略図である。
FIGS. 9A to 9G are schematic diagrams illustrating a method of forming a base layer and a pixel electrode on a transparent substrate.

【図10】(a)〜(f)は下地層を成形するためのス
タンパの製造方法を説明する図である。
FIGS. 10A to 10F are diagrams illustrating a method of manufacturing a stamper for forming an underlayer.

【図11】ガラス板をレーザー加工する様子を示す図で
ある。
FIG. 11 is a diagram showing a state in which a glass plate is laser-processed.

【図12】(a)〜(f)は下地層を成形するためのス
タンパの別な製造方法を説明する図である。
FIGS. 12A to 12F are diagrams illustrating another method for manufacturing a stamper for forming an underlayer.

【図13】本発明の別な実施形態における、透明基板上
に形成された下地層及び画素電極を示す断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing an underlayer and a pixel electrode formed on a transparent substrate according to another embodiment of the present invention.

【図14】本発明のさらに別な実施形態における、透明
基板上に形成された下地層及び画素電極を示す断面図で
ある。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a base layer and a pixel electrode formed on a transparent substrate in still another embodiment of the present invention.

【図15】(a)〜(g)は透明基板上に同上の下地層
及び画素電極を形成する方法を説明する概略図である。
FIGS. 15A to 15G are schematic views illustrating a method of forming an underlayer and a pixel electrode on a transparent substrate.

【図16】スタンパと下地層との離型性を良好にする方
法を説明する図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating a method for improving the releasability of a stamper and an underlayer.

【図17】スタンパと下地層との離型性を良好にする別
な方法を説明する図である。
FIG. 17 is a diagram illustrating another method for improving the releasability of the stamper and the underlayer.

【図18】本発明のさらに別な実施形態における、透明
基板上に形成された下地層、反射層及び透明な画素電極
を示す断面図である。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a base layer, a reflective layer, and a transparent pixel electrode formed on a transparent substrate according to still another embodiment of the present invention.

【図19】本発明のさらに別な実施形態における、透明
基板上に形成された下地層、反射層及び透明な画素電極
を示す断面図である。
FIG. 19 is a cross-sectional view showing a base layer, a reflective layer, and a transparent pixel electrode formed on a transparent substrate according to still another embodiment of the present invention.

【図20】本発明のさらに別な実施形態における、透明
基板上に形成された下地層、反射層及び透明な画素電極
を示す断面図である。
FIG. 20 is a cross-sectional view showing a base layer, a reflective layer, and a transparent pixel electrode formed on a transparent substrate according to still another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

22a,22b 透明基板 28 下地層 29 画素電極 31 凹凸パターン 32 画素電極の光拡散パターン 33 紫外線硬化型樹脂 34 スタンパ 47 反射層 48 反射層の光拡散パターン 49 画素電極(透明電極) 22a, 22b Transparent substrate 28 Underlayer 29 Pixel electrode 31 Concavo-convex pattern 32 Light diffusion pattern of pixel electrode 33 Ultraviolet curing resin 34 Stamper 47 Reflective layer 48 Light diffusion pattern of reflective layer 49 Pixel electrode (transparent electrode)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明電極を形成した前面側の透明基板と
画素電極を形成した裏面側の基板とを対向させ、両基板
間に液晶を封入した反射型液晶表示素子において、 前記裏面側基板に画素サイズよりも微細な凹凸パターン
を形成し、各画素領域において当該凹凸パターンの上に
光反射性を有する画素電極を形成したことを特徴とする
反射型液晶表示素子。
1. A reflective liquid crystal display device in which a front transparent substrate on which a transparent electrode is formed and a rear substrate on which a pixel electrode is formed are opposed to each other, and a liquid crystal is sealed between the two substrates. A reflection type liquid crystal display device, wherein a concave / convex pattern finer than a pixel size is formed, and a pixel electrode having light reflectivity is formed on the concave / convex pattern in each pixel region.
【請求項2】 透明電極を形成した前面側の透明基板と
画素電極を形成した裏面側の基板とを対向させ、両基板
間に液晶を封入した反射型液晶表示素子において、 前記裏面側基板に画素サイズよりも微細な凹凸パターン
を形成し、各画素領域において当該凹凸パターンの上に
光反射層を形成し、当該光反射層に対応させて透明な画
素電極を形成したことを特徴とする反射型液晶表示素
子。
2. A reflective liquid crystal display device in which a front transparent substrate on which a transparent electrode is formed and a rear substrate on which a pixel electrode is formed are opposed to each other, and a liquid crystal is sealed between the two substrates. A reflection pattern characterized by forming a concavo-convex pattern finer than the pixel size, forming a light reflection layer on the concavo-convex pattern in each pixel region, and forming a transparent pixel electrode corresponding to the light reflection layer. Liquid crystal display device.
【請求項3】 液晶を封入するための基板と、当該基板
の表面に形成された、表示素子の画素サイズよりも微細
な凹凸パターンとからなることを特徴とする反射型液晶
表示素子用の基板。
3. A substrate for a reflective liquid crystal display device, comprising: a substrate for enclosing liquid crystal; and a concavo-convex pattern formed on the surface of the substrate and smaller than the pixel size of the display device. .
【請求項4】 液晶を封入するための基板と、当該基板
の表面に形成された、表示素子の画素サイズよりも微細
な凹凸パターンと、当該凹凸パターンの表面に形成され
た反射層とからなることを特徴とする反射型液晶表示素
子用の基板。
4. A substrate for enclosing liquid crystal, a concavo-convex pattern formed on the surface of the substrate, which is finer than a pixel size of a display element, and a reflective layer formed on the surface of the concavo-convex pattern. A substrate for a reflection type liquid crystal display device, characterized in that:
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