JP2002028597A - Method for cleaning electric article - Google Patents
Method for cleaning electric articleInfo
- Publication number
- JP2002028597A JP2002028597A JP2000212967A JP2000212967A JP2002028597A JP 2002028597 A JP2002028597 A JP 2002028597A JP 2000212967 A JP2000212967 A JP 2000212967A JP 2000212967 A JP2000212967 A JP 2000212967A JP 2002028597 A JP2002028597 A JP 2002028597A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal display
- plasma
- display element
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示素子を
構成する基板等の電気物品を洗浄する洗浄方法に関す
る。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a cleaning method for cleaning an electric article such as a substrate constituting a liquid crystal display element.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば液晶表示装置の製造にあたって、
液晶表示素子の端子部に回路基板を接合する場合にはそ
の接合に先立って液晶表示素子の端子部を洗浄するよう
にしている。2. Description of the Related Art For example, in manufacturing a liquid crystal display device,
When a circuit board is joined to a terminal portion of a liquid crystal display device, the terminal portion of the liquid crystal display device is cleaned prior to the joining.
【0003】すなわち、製造した液晶表示素子の端子部
は塵埃や残渣等の異物で汚染されている場合があり、そ
の汚染状態のまま端子部に異方導電性接着剤を用いて回
路基板を接合すると、その接合部に機械的な接着不良や
電気的な接続不良が生じてしまう。That is, the terminal portion of the manufactured liquid crystal display element may be contaminated with foreign matters such as dust and residue, and the circuit board is bonded to the terminal portion in the contaminated state using an anisotropic conductive adhesive. Then, poor mechanical adhesion or poor electrical connection occurs at the joint.
【0004】このため、製造した液晶表示素子の端子部
に回路基板を接合する際には、その接合に先立って液晶
表示素子を洗浄して汚染物質を除去することが行なわれ
ている。For this reason, when joining a circuit board to a terminal portion of a manufactured liquid crystal display element, the liquid crystal display element is washed to remove contaminants prior to the joining.
【0005】また、例えば液晶表示素子の製造工程の途
中にその液晶表示素子を構成する基板の表面を配向膜の
材料を印刷により塗布するような場合においても、その
塗布に先立って基板の表面を洗浄して汚染物質を除去す
るようにしている。Also, for example, in the case where the material of an alignment film is applied by printing on the surface of a substrate constituting the liquid crystal display element during the manufacturing process of the liquid crystal display element, the surface of the substrate is preceded by the application. They are cleaned to remove contaminants.
【0006】このような洗浄に際しては、従来からプラ
ズマ処理を用いる方法が知られている。プラズマ処理を
用いる従来の洗浄方法は、真空槽内に被洗浄物である液
晶表示素子や基板を収容し、その真空槽内に所定のガス
を導入し高周波で励起してそのガスをプラズマ化し、こ
のプラズマ化した前記被洗浄物に照射して洗浄するバッ
チ方式が採用されている。[0006] For such cleaning, a method using a plasma treatment is conventionally known. In the conventional cleaning method using plasma processing, a liquid crystal display element or a substrate to be cleaned is housed in a vacuum chamber, a predetermined gas is introduced into the vacuum chamber, the gas is excited by high frequency, and the gas is turned into plasma. A batch method of irradiating the plasma-treated object to be cleaned for cleaning is adopted.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
バッチ方式の洗浄方法においては、真空槽を用いるため
設備が大掛かりとなり、また真空槽内に被洗浄物を収容
して真空にした後、その全体にプラズマ化したガスを照
射するため、処理時間が長くなり能率が低下し、また洗
浄の必要な部分以外にもプラズマ化したガスが当たるた
め被洗浄物にダメージが生じやすい。特に、被洗浄物が
プラスチック製のフィルム基板を用いた液晶表示素子や
そのフィルム基板自体であるときにはより大きなダメー
ジが生じてしまう。However, in such a batch-type cleaning method, a vacuum tank is used, which requires a large-scale facility. Further, after the object to be cleaned is housed in the vacuum tank and evacuated, the cleaning is performed. Irradiation of plasma gas into the whole results in longer processing time and lower efficiency. In addition, the plasma gas is applied to portions other than those requiring cleaning, and the object to be cleaned is easily damaged. In particular, when the object to be cleaned is a liquid crystal display device using a plastic film substrate or the film substrate itself, greater damage occurs.
【0008】この発明はこのような点に着目してなされ
たもので、その目的とするところは、簡易な設備で、容
易に能率よく、またプラズマ処理によるダメージをほと
んど与えることなく電気物品の所要部分を洗浄すること
ができる洗浄方法を提供することにある。The present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to provide an electric article which is simple, easily and efficiently, and which is hardly damaged by plasma treatment. An object of the present invention is to provide a cleaning method capable of cleaning a part.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
目的を達成するために、電気物品の所要の領域部分にプ
ラズマ化したガス気流の照射が可能なノズルを有するプ
ラズマ照射器を用いてその領域部分を洗浄するようにし
たものである。In order to achieve the above object, the present invention uses a plasma irradiator having a nozzle capable of irradiating a gas stream which has been turned into plasma to a required area of an electric article. The area is cleaned.
【0010】そして、請求項2の発明では、電気物品が
液晶表示素子であって、この液晶表示素子の端子部に回
路基板を接合する工程に先立って前記端子部にプラズマ
化したガス気流を照射して洗浄することを特徴としてい
る。According to a second aspect of the present invention, the electric article is a liquid crystal display element, and the terminal section is irradiated with a gaseous gas stream which has been turned into plasma before the step of bonding the circuit board to the terminal section of the liquid crystal display element. It is characterized by washing.
【0011】請求項3の発明では、電気物品が液晶表示
素子構成用の基板であって、この基板の表面に配向膜の
材料を塗布する工程に先立って前記基板の表面にプラズ
マ化したガス気流を照射して洗浄することを特徴として
いる。According to the third aspect of the present invention, the electric article is a substrate for forming a liquid crystal display element, and a gas flow formed into a plasma on the surface of the substrate prior to the step of applying a material for an alignment film to the surface of the substrate. And cleaning.
【0012】請求項4の発明では、電気物品が液晶表示
素子であって、この液晶表示素子の外面にインクを塗布
する工程に先立って前記液晶表示素子の外面にプラズマ
化したガス気流を照射して洗浄することを特徴としてい
る。According to a fourth aspect of the present invention, the electric article is a liquid crystal display element, and prior to the step of applying ink to the outer surface of the liquid crystal display element, the outer surface of the liquid crystal display element is irradiated with a gas stream which has been turned into plasma. It is characterized by washing.
【0013】請求項5の発明では、電気物品が、外面に
偏光板が貼り付けられた液晶表示素子であって、その偏
光板の外面にインクを塗布する工程に先立って前記偏光
板の外面にプラズマ化したガス気流を照射して洗浄する
ことを特徴としている。According to a fifth aspect of the present invention, the electric article is a liquid crystal display device having a polarizing plate attached to an outer surface thereof, and the electric article is provided on the outer surface of the polarizing plate prior to the step of applying ink to the outer surface of the polarizing plate. The cleaning is performed by irradiating a plasma gas stream.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】この発明は、上記のように、電気
物品の所要の領域部分にプラズマ化したガス気流の照射
が可能なノズルを有するプラズマ照射器を用いてその領
域部分を洗浄することを特徴としている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, the present invention provides a method for cleaning a desired area of an electric article by using a plasma irradiator having a nozzle capable of irradiating a gas stream which has been turned into plasma into the area. It is characterized by.
【0015】具体的には、電気物品としての液晶表示素
子の端子部に回路基板を接合する工程に先立ってその端
子部にプラズマ照射器によりプラズマ化したガス気流を
照射して洗浄する。More specifically, prior to the step of bonding a circuit board to a terminal of a liquid crystal display element as an electrical article, the terminal is cleaned by irradiating a gas stream made into plasma with a plasma irradiator.
【0016】端子部の表面にプラズマ化した気流を照射
すると、プラズマが汚染物質に作用することにより化学
的変化が生じ、その領域の汚染物質が端子部の表面から
順次除去されて、端子部の表面の全体が清浄な状態に洗
浄される。そしてこの後、端子部の上に異方導電性接着
剤を介して回路基板を接合する。端子部の表面は汚染物
質が除去された清浄な状態にあり、したがって回路基板
を良好な接合状態を保って端子部に接合することができ
る。When the surface of the terminal portion is irradiated with an air stream that has been turned into plasma, the plasma acts on the contaminant to cause a chemical change, whereby the contaminant in that region is sequentially removed from the surface of the terminal portion, and the surface of the terminal portion is removed. The entire surface is cleaned in a clean state. After that, the circuit board is joined to the terminal portion via an anisotropic conductive adhesive. The surface of the terminal portion is in a clean state from which contaminants have been removed, so that the circuit board can be bonded to the terminal portion while maintaining a good bonding state.
【0017】このように、プラズマ照射器を用いて、液
晶表示素子の所要な領域部分つまり端子部にのみプラズ
マ化したガス気流を照射して洗浄する方法であり、この
ため従来のバッチ方式の洗浄方法に比べ、設備が簡易と
なり、また処理時間が短縮し、洗浄能率が向上する。As described above, this method is a method of irradiating only a required area portion of a liquid crystal display element, that is, a terminal portion, with a gas flow that has been converted into plasma by using a plasma irradiator. Compared with the method, the equipment is simplified, the processing time is shortened, and the cleaning efficiency is improved.
【0018】そして、バッチ方式の場合のように被洗浄
物の全体にプラズマ化したガス気流を照射するのではな
く、被洗浄物である液晶表示素子の所要な領域部分つま
り端子部の範囲にのみプラズマ化したガス気流を短時間
照射するだけであり、このため液晶表示素子にダメージ
が加わることがほとんどなく、液晶表示素子の基板がプ
ラスチック製フィルムであってもダメージを受けること
がない。Then, instead of irradiating the entire object to be cleaned with a plasma gas stream as in the case of the batch method, only a required area portion of the liquid crystal display element to be cleaned, that is, the area of the terminal portion, is used. Since the plasma gas stream is simply irradiated for a short time, the liquid crystal display element is hardly damaged, and the liquid crystal display element is not damaged even if the substrate is a plastic film.
【0019】端子部の表面に回路基板を異方導電性接着
剤で接合する際にその表面に対する接着剤の密着性を高
めて良好な接着強度を得るためには、その端子部の表面
の濡れ指数が高いことが望ましい。端子部の表面を洗浄
する方法として薬液を用いる方法が一般に知られている
が、この薬液を用いる方法では濡れ指数を高めることは
できない。When the circuit board is bonded to the surface of the terminal portion with an anisotropic conductive adhesive, in order to increase the adhesiveness of the adhesive to the surface and obtain good adhesive strength, it is necessary to wet the surface of the terminal portion. A high index is desirable. As a method for cleaning the surface of the terminal portion, a method using a chemical is generally known, but the method using the chemical cannot increase the wetting index.
【0020】これに対し、このプラズマ化したガス気流
をノズルより噴出させて所定の部分に照射するプラズマ
ジェット方式による洗浄の場合には、そのプラズマ化し
たガス気流により端子部の表面を改質して濡れ指数を高
めることができる。したがって、端子部の表面にプラズ
マ化したガス気流を照射して端子部の表面を改質し、こ
の表面に異方導電性接着剤を介して回路基板を接合する
ことによりその表面に対する接着剤の密着性を高めて良
好な接着強度が得られる。On the other hand, in the case of cleaning by a plasma jet method in which the gasified gas stream is ejected from a nozzle and irradiates a predetermined portion, the surface of the terminal portion is reformed by the gasified gas stream. To increase the wetting index. Therefore, the surface of the terminal section is irradiated with a gaseous gas stream that has been converted into plasma to modify the surface of the terminal section, and the circuit board is bonded to this surface via an anisotropic conductive adhesive, whereby the surface of the terminal section is exposed to the adhesive. Good adhesion strength can be obtained by increasing the adhesion.
【0021】また他の例としては、電気物品としての液
晶表示素子構成用の基板の表面に配向膜の材料を塗布す
る工程に先立ってその基板の表面にプラズマ化したガス
気流を照射して洗浄する。As another example, prior to the step of applying a material for an alignment film to the surface of a substrate for forming a liquid crystal display element as an electric article, the surface of the substrate is irradiated with a gas flow of plasma to clean the surface. I do.
【0022】あるいは、電気物品としての液晶表示素子
の外面にインクを塗布する工程に先立ってその液晶表示
素子の外面にプラズマ化したガス気流を照射して洗浄す
る。Alternatively, prior to the step of applying ink to the outer surface of a liquid crystal display device as an electric article, the outer surface of the liquid crystal display device is washed by irradiating a gas stream made into plasma to the outer surface.
【0023】さらには、電気物品が、外面に偏光板が貼
り付けられた液晶表示素子である場合に、その偏光板の
外面にインクを塗布する工程に先立って前記偏光板の外
面にプラズマ化したガス気流を照射して洗浄する。Further, when the electric article is a liquid crystal display device having a polarizing plate adhered to the outer surface, plasma was formed on the outer surface of the polarizing plate prior to the step of applying ink to the outer surface of the polarizing plate. Cleaning is performed by irradiating a gas stream.
【0024】[0024]
【実施例】以下に、より具体的な実施例を図面を参照し
て説明する。図1および図2には第1の実施例を示して
あり、この第1の実施例は液晶表示素子1の端子部分を
洗浄する場合の例である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, more specific embodiments will be described with reference to the drawings. FIGS. 1 and 2 show a first embodiment. This first embodiment is an example in which the terminal portion of the liquid crystal display element 1 is cleaned.
【0025】液晶表示素子1は、透明なガラス板あるい
はプラスチックフィルムからなる一対の基板2を重ね合
わせ、枠状のシール材(図示せず)を介して接合し、そ
の両基板2とシール材とで囲まれた空間内に液晶を封入
してなる。In the liquid crystal display element 1, a pair of substrates 2 made of a transparent glass plate or a plastic film are overlapped and joined via a frame-shaped sealing material (not shown). Liquid crystal is sealed in the space surrounded by.
【0026】一方の基板2の一側縁部は他方の基板2の
一側縁部から突出し、この突出部分の内面が複数のIT
O等の透明導電膜からなる端子3が配列する端子部4と
なっている。One side edge of one substrate 2 protrudes from one side edge of the other substrate 2, and the inner surface of this protruding portion is formed by a plurality of ITs.
It is a terminal portion 4 in which terminals 3 made of a transparent conductive film such as O are arranged.
【0027】端子部3には、例えばフレキシブル構造の
駆動回路基板が異方導電性接着剤を介して接合される
が、この際、その端子部3が塵埃や残渣等の異物で汚染
されていると、その接合部に機械的な接着不良や電気的
な接続不良が生じてしまう。A drive circuit board having, for example, a flexible structure is bonded to the terminal portion 3 via an anisotropic conductive adhesive. At this time, the terminal portion 3 is contaminated with foreign matters such as dust and residue. In such a case, mechanical bonding failure or electrical connection failure occurs at the joint.
【0028】そこで、この第1の実施例では、プラズマ
照射器10を用いて端子部3の表面にプラズマ化したガ
ス気流を照射することによって、端子部3の表面に付着
している異物を吹き飛ばしたり、前記異物に作用する化
学的結合力を弱くして表面から分離させ、あるいは前記
異物そのものを化学的に分解して表面より除去して洗浄
する。Therefore, in the first embodiment, the foreign matter adhering to the surface of the terminal portion 3 is blown off by irradiating the surface of the terminal portion 3 with a gas stream which has been turned into plasma using the plasma irradiator 10. Alternatively, the foreign substance is separated from the surface by weakening the chemical bonding force acting on the foreign substance, or the foreign substance itself is chemically decomposed and removed from the surface for cleaning.
【0029】プラズマ照射器10は陽極としてのノズル
管11と、このノズル管11内に設けられた陰極として
のトーチ12とからなり、ノズル管11の先端部は先細
状に絞られた照射口11aとなっている。The plasma irradiator 10 is composed of a nozzle tube 11 as an anode and a torch 12 as a cathode provided in the nozzle tube 11. The tip of the nozzle tube 11 has a narrowed irradiation port 11a. It has become.
【0030】洗浄時には、ノズル管11内に反応用ガス
として例えば空気(大気)、窒素ガス(N2),アルゴ
ン(Ar)等を供給しながら陽極であるノズル管11と
陰極であるトーチ12との間にアーク放電を発生させ
る。At the time of cleaning, the nozzle tube 11 as an anode and the torch 12 as a cathode are supplied while supplying, for example, air (atmosphere), nitrogen gas (N 2 ), argon (Ar), or the like as a reaction gas into the nozzle tube 11. An arc discharge is generated between them.
【0031】これに応じてノズル管11内の反応用ガス
は加熱されて電離し、イオンと電子とになってプラズマ
状態を形成する。このプラズマ化した反応用ガスはノズ
ル管11のスポット径5mmの照射口11aからプラズ
マジェットJとして噴出し、端子部3の表面に照射され
る。In response, the reaction gas in the nozzle tube 11 is heated and ionized, forming ions and electrons to form a plasma state. The reaction gas converted into plasma is ejected as a plasma jet J from an irradiation port 11 a having a spot diameter of 5 mm of the nozzle tube 11, and is irradiated on the surface of the terminal portion 3.
【0032】この際、液晶表示素子1は例えば移動テー
ブル13の上に載置し、プラズマ照射器10は移動テー
ブル13の上方の定位置に支持し、移動テーブル13を
液晶表示素子1と共に端子部3の長手方向に沿う方向に
一定の速度で移動させながらノズル管11の照射口11
aから端子部3の表面にプラズマジェットJを照射す
る。At this time, the liquid crystal display element 1 is placed on, for example, a moving table 13, the plasma irradiator 10 is supported at a fixed position above the moving table 13, and the moving table 13 is moved together with the liquid crystal display element 1 into a terminal portion. Irradiation port 11 of nozzle tube 11 while moving at a constant speed in the direction along the longitudinal direction of 3
a, the surface of the terminal portion 3 is irradiated with the plasma jet J.
【0033】これにより、端子部3の表面の全体の領域
に順次プラズマジェットJが当たってその領域の汚染物
質が吹き飛ばされたり、前記汚染物質に作用する化学的
結合力が弱まって表面から分離し、あるいは前記汚染物
質そのものが化学的に分解しして汚染物質が順次除去さ
れ、端子部3の表面の全体が清浄な状態に洗浄される。As a result, the plasma jet J is sequentially applied to the entire surface of the terminal portion 3 to blow off contaminants in the region, or the chemical bonding force acting on the contaminants is weakened and separated from the surface. Alternatively, the contaminants themselves are chemically decomposed and the contaminants are sequentially removed, and the entire surface of the terminal portion 3 is cleaned in a clean state.
【0034】そしてこの後、端子部3の上に異方導電性
接着剤を介して回路基板を接合する。端子部3の表面は
汚染物質が除去された清浄な状態にあり、したがって回
路基板を良好な接合状態を保って端子部3に接合するこ
とができる。After that, a circuit board is bonded on the terminal portion 3 via an anisotropic conductive adhesive. The surface of the terminal portion 3 is in a clean state from which contaminants have been removed, so that the circuit board can be bonded to the terminal portion 3 while maintaining a good bonding state.
【0035】このように、本実施例においては、プラズ
マ照射器10を用いて、液晶表示素子1の所要な領域部
分(端子部3)にのみプラズマジェットJを照射して洗
浄する方法であり、このため従来のバッチ方式の洗浄方
法に比べ、設備が簡易となり、また処理時間が短縮し、
洗浄能率が向上する。従来のバッチ方式の場合の処理時
間は20〜30分であるが本実施例のプラズマジェット
方式の場合は1秒以内で済む。As described above, the present embodiment is a method of irradiating only a required area (terminal portion 3) of the liquid crystal display element 1 with the plasma jet J using the plasma irradiator 10 for cleaning. For this reason, the equipment becomes simpler and the processing time is shorter than the conventional batch-type cleaning method.
The cleaning efficiency is improved. The processing time in the case of the conventional batch method is 20 to 30 minutes, but in the case of the plasma jet method of the present embodiment, it is within 1 second.
【0036】そして、バッチ方式の場合のように被洗浄
物の全体にプラズマを照射するのではなく、被洗浄物で
ある液晶表示素子1の所要な領域部分つまり端子部3の
範囲にのみプラズマジェットJを短時間照射するだけで
あり、このため液晶表示素子1にダメージが加わること
がほとんどなく、液晶表示素子1の基板2がプラスチッ
ク製フィルムであってもダメージを受けることがない。Then, instead of irradiating the entire object to be cleaned with plasma as in the case of the batch method, the plasma jet is applied only to a required area of the liquid crystal display element 1 which is the object to be cleaned, that is, the area of the terminal portion 3. J is only irradiated for a short time, so that the liquid crystal display element 1 is hardly damaged, and the liquid crystal display element 1 is not damaged even if the substrate 2 is a plastic film.
【0037】ところで、端子部3の表面に回路基板を異
方導電性接着剤で接合する際にその表面に対する接着剤
の密着性を高めて良好な接着強度を得るためには、その
端子部3の表面の濡れ指数が高いことが望ましい。端子
部3の表面を洗浄する方法として薬液を用いる方法が一
般に知られているが、この薬液を用いる方法では濡れ指
数を高めることはできない。When the circuit board is joined to the surface of the terminal portion 3 with an anisotropic conductive adhesive, in order to increase the adhesiveness of the adhesive to the surface and obtain a good adhesive strength, the terminal portion 3 is required. It is desirable that the surface has a high wettability index. As a method for cleaning the surface of the terminal portion 3, a method using a chemical is generally known, but the method using the chemical cannot increase the wetting index.
【0038】これに対し、本実施例のプラズマジェット
方式による洗浄の場合には、そのプラズマジェットJに
より端子部3の表面を改質して濡れ指数を高めることが
でき、例えば濡れ指数が0.030Pa(30dyn/
cm2)以下である表面を本実施例のプラズマジェット
方式で洗浄することにより濡れ指数が0.040Pa
(40dyn/cm2)以上に向上する。On the other hand, in the case of cleaning by the plasma jet method of the present embodiment, the surface of the terminal portion 3 can be modified by the plasma jet J to increase the wetting index. 030Pa (30dyn /
cm 2 ) or less, the wettability index is 0.040 Pa by cleaning the surface by the plasma jet method of this embodiment.
(40 dyn / cm 2 ) or more.
【0039】したがって、端子部3の表面を本実施例の
プラズマジェット方式で洗浄し、この洗浄した端子部3
の表面に異方導電性接着剤を介して回路基板を接合する
ことによりその表面に対する接着剤の密着性を高めて良
好な接着強度が得られる。Accordingly, the surface of the terminal portion 3 is cleaned by the plasma jet method of this embodiment, and the cleaned terminal portion 3 is cleaned.
By bonding the circuit board to the surface of the substrate through an anisotropic conductive adhesive, the adhesiveness of the adhesive to the surface is increased, and good adhesive strength can be obtained.
【0040】図3には第2の実施例を示してあり、この
第2の実施例は、液晶表示素子を製造する工程中におい
て、プラスチックフィルムからなる基板2の表面に所定
の電極等をパターン形成したのちに、その表面をプラズ
マ照射器10を用いてプラズマジェットJを照射して洗
浄し、この洗浄後にその表面にポリイミド等の配向膜の
材料14を印刷により塗布する例である。FIG. 3 shows a second embodiment. In the second embodiment, a predetermined electrode or the like is patterned on a surface of a plastic film substrate 2 during a process of manufacturing a liquid crystal display element. In this example, the surface is cleaned by irradiating the surface with a plasma jet J using a plasma irradiator 10, and after this cleaning, a material 14 for an alignment film such as polyimide is applied to the surface by printing.
【0041】基板2の表面を洗浄する際には、図3
(A)に示すように、基板2を例えば移動テーブル13
の上に載置し、プラズマ照射器10を移動テーブル13
の上方に移動可能に設け、移動テーブル13を一方向
に、プラズマ照射器10をその一方向と直角の方向に移
動させながらノズル管11の照射口11aから基板2の
表面にプラズマジェットJを照射する。When cleaning the surface of the substrate 2, FIG.
As shown in (A), the substrate 2 is moved to, for example, a moving table 13.
And the plasma irradiator 10 is moved to the moving table 13.
Irradiating the plasma jet J onto the surface of the substrate 2 from the irradiation port 11a of the nozzle tube 11 while moving the moving table 13 in one direction and the plasma irradiator 10 in a direction perpendicular to the one direction. I do.
【0042】これにより、基板2の表面の各部に順次プ
ラズマジェットJが照射されてその全体の領域が均一に
洗浄される。この後、基板2を配向膜処理工程部に搬送
して図3(B)に示すように、基板2の表面に配向膜の
材料14を印刷する。Thus, each part of the surface of the substrate 2 is sequentially irradiated with the plasma jet J, and the entire area is uniformly cleaned. Thereafter, the substrate 2 is transported to the alignment film processing section, and the material 14 of the alignment film is printed on the surface of the substrate 2 as shown in FIG.
【0043】基板2の表面はプラズマジェットJの照射
による洗浄で清浄な状態に保たれ、さらにそのプラズマ
ジェットJの照射による改質で濡れ指数が向上してお
り、このため配向膜の材料14を印刷した際の配向膜の
材料14と基板2の表面との密着性を高めることができ
る。The surface of the substrate 2 is kept in a clean state by cleaning by irradiation with the plasma jet J, and the wettability index is improved by the modification by the irradiation with the plasma jet J. Adhesion between the material 14 of the alignment film and the surface of the substrate 2 at the time of printing can be improved.
【0044】そしてこの場合にも、基板2の所要な領域
部分つまり基板2の片側の表面のみにプラズマジェット
Jを短時間照射するだけであるから、基板2にほとんど
ダメージが加わるようなことがない。In this case as well, only a required area of the substrate 2, that is, only the surface on one side of the substrate 2 is irradiated with the plasma jet J for a short time, so that the substrate 2 is hardly damaged. .
【0045】図4には第3の実施例を示してあり、この
第3の実施例は、プラスチックフィルムからなる一対の
基板2をシール材を介して接合して液晶表示素子1を製
造した後に、その液晶表示素子1の一方の外面をプラズ
マジェット方式により洗浄し、この洗浄後にその外面に
例えば表示用のインク15を印刷する例である。FIG. 4 shows a third embodiment. In this third embodiment, a liquid crystal display element 1 is manufactured after a pair of substrates 2 made of a plastic film are joined via a sealing material. In this example, one outer surface of the liquid crystal display element 1 is cleaned by a plasma jet method, and after this cleaning, for example, display ink 15 is printed on the outer surface.
【0046】液晶表示素子1の外面を洗浄する際には、
図4(A)に示すように、液晶表示素子1をその洗浄す
べき外面を上に向けて移動テーブル13の上に載置し、
プラズマ照射器10を移動テーブル13の上方に移動可
能に設け、移動テーブル13を一方向に、プラズマ照射
器10をその一方向と直角の方向に移動させながらノズ
ル管11の照射口11aから液晶表示素子1の外面にプ
ラズマジェットJを照射する。When cleaning the outer surface of the liquid crystal display element 1,
As shown in FIG. 4A, the liquid crystal display element 1 is placed on the moving table 13 with its outer surface to be cleaned facing up,
The plasma irradiator 10 is movably provided above the moving table 13, and the liquid crystal display is formed from the irradiation port 11 a of the nozzle tube 11 while moving the moving table 13 in one direction and the plasma irradiator 10 in a direction perpendicular to the one direction. The outer surface of the element 1 is irradiated with the plasma jet J.
【0047】これにより、液晶表示素子1の外面の各部
に順次プラズマジェットJが照射されてその全体の領域
が均一に洗浄される。この後、図4(B)に示すよう
に、洗浄した液晶表示素子1の外面にインク15を印刷
する。Thus, each part of the outer surface of the liquid crystal display element 1 is sequentially irradiated with the plasma jet J, and the entire area is uniformly cleaned. Thereafter, as shown in FIG. 4B, the ink 15 is printed on the outer surface of the cleaned liquid crystal display element 1.
【0048】液晶表示素子1の外面はプラズマジェット
Jの照射による洗浄で清浄な状態に保たれ、さらにその
プラズマジェットJの照射による改質で濡れ指数が向上
しており、このためインク15を印刷した際の密着性を
高めることができる。The outer surface of the liquid crystal display element 1 is kept in a clean state by cleaning by irradiation with the plasma jet J, and the wetting index is improved by the modification by the irradiation with the plasma jet J. The adhesion at the time of doing can be improved.
【0049】そしてこの場合にも、液晶表示素子1の所
要な領域部分つまり液晶表示素子1の片側の外面のみに
プラズマジェットJを短時間照射するだけであるから、
液晶表示素子1つまりプラスチックフィルムからなる基
板2にほとんどダメージが加わるようなことがない。In this case as well, only a required area of the liquid crystal display element 1, that is, only one outer surface of the liquid crystal display element 1 is irradiated with the plasma jet J for a short time.
The liquid crystal display element 1, that is, the substrate 2 made of a plastic film is hardly damaged.
【0050】図5には第4の実施例を示してあり、この
第4の実施例は、ガラス板からなる一対の基板2をシー
ル材を介して接合して液晶表示素子1を製造した後に、
その液晶表示素子1の一方の外面をプラズマジェット方
式により洗浄し、この洗浄後にその外面に例えば表示用
のインク15を印刷する例である。FIG. 5 shows a fourth embodiment. In this fourth embodiment, a liquid crystal display element 1 is manufactured after a pair of substrates 2 made of glass plates are joined via a sealing material. ,
In this example, one outer surface of the liquid crystal display element 1 is cleaned by a plasma jet method, and after this cleaning, for example, display ink 15 is printed on the outer surface.
【0051】液晶表示素子1の外面を洗浄する際には、
図5(A)に示すように、液晶表示素子1をその洗浄す
べき外面を上に向けて移動テーブル13の上に載置し、
プラズマ照射器10を移動テーブル13の上方に移動可
能に設け、移動テーブル13を一方向に、プラズマ照射
器10をその一方向と直角の方向に移動させながらノズ
ル管11の照射口11aから液晶表示素子1の外面にプ
ラズマジェットJを照射する。When cleaning the outer surface of the liquid crystal display element 1,
As shown in FIG. 5A, the liquid crystal display element 1 is placed on the moving table 13 with its outer surface to be cleaned facing upward,
The plasma irradiator 10 is movably provided above the moving table 13, and the liquid crystal display is formed from the irradiation port 11 a of the nozzle tube 11 while moving the moving table 13 in one direction and the plasma irradiator 10 in a direction perpendicular to the one direction. The outer surface of the element 1 is irradiated with the plasma jet J.
【0052】これにより、液晶表示素子1の外面の各部
に順次プラズマジェットJが照射されてその全体の領域
が均一に洗浄される。この後、図5(B)に示すよう
に、洗浄した液晶表示素子1の外面にインク15を印刷
する。Thus, each portion of the outer surface of the liquid crystal display element 1 is sequentially irradiated with the plasma jet J, and the entire area is uniformly cleaned. Thereafter, as shown in FIG. 5B, ink 15 is printed on the outer surface of the cleaned liquid crystal display element 1.
【0053】液晶表示素子1の外面はプラズマジェット
Jの照射による洗浄で清浄な状態に保たれ、さらにその
プラズマジェットJの照射による改質で濡れ指数が向上
しており、このためインク15を印刷した際の密着性を
高めることができる。The outer surface of the liquid crystal display element 1 is kept in a clean state by cleaning by irradiation with the plasma jet J, and the wettability index is improved by the modification by the irradiation with the plasma jet J. The adhesion at the time of doing can be improved.
【0054】そしてこの場合にも、液晶表示素子1の所
要な領域部分つまり液晶表示素子1の片側の外面のみに
プラズマジェットJを短時間照射するだけであるから、
液晶表示素子1にほとんどダメージが加わるようなこと
がない。In this case as well, only a required area of the liquid crystal display element 1, that is, only one outer surface of the liquid crystal display element 1 is irradiated with the plasma jet J for a short time.
The liquid crystal display element 1 is hardly damaged.
【0055】図6には第5の実施例を示してあり、この
第5の実施例は、ガラス板からなる一対の基板2をシー
ル材を介して接合して液晶表示素子1を製造した後にそ
の基板の外面に偏光板16を貼り付け、この偏光板16
の外面をプラズマジェット方式により洗浄し、この洗浄
後にその偏光板16の外面に例えば表示用のインク15
を印刷する例である。FIG. 6 shows a fifth embodiment. In the fifth embodiment, a liquid crystal display element 1 is manufactured after a pair of substrates 2 made of glass plates are joined via a sealing material. A polarizing plate 16 is attached to the outer surface of the substrate, and the polarizing plate 16
Is cleaned by a plasma jet method, and after this cleaning, for example, a display ink 15 is coated on the outer surface of the polarizing plate 16.
Is an example of printing.
【0056】偏光板16の外面を洗浄する際には、図6
(A)に示すように、液晶表示素子1をその洗浄すべき
偏光板16の外面を上に向けて移動テーブル13の上に
載置し、プラズマ照射器10を移動テーブル13の上方
に移動可能に設け、移動テーブル13を一方向に、プラ
ズマ照射器10をその一方向と直角の方向に移動させな
がらノズル管11の照射口11aから偏光板16の外面
にプラズマジェットJを照射する。When cleaning the outer surface of the polarizing plate 16, FIG.
As shown in (A), the liquid crystal display element 1 is placed on the moving table 13 with the outer surface of the polarizing plate 16 to be cleaned facing upward, and the plasma irradiator 10 can be moved above the moving table 13. The plasma jet J is irradiated onto the outer surface of the polarizing plate 16 from the irradiation port 11a of the nozzle tube 11 while moving the moving table 13 in one direction and the plasma irradiator 10 in a direction perpendicular to the one direction.
【0057】これにより、偏光板16の外面の各部に順
次プラズマジェットJが照射されてその全体の領域が均
一に洗浄される。この後、図6(B)に示すように、洗
浄した偏光板16の外面にインク15を印刷する。Thus, each part of the outer surface of the polarizing plate 16 is sequentially irradiated with the plasma jet J, and the entire area is uniformly cleaned. Thereafter, as shown in FIG. 6B, the ink 15 is printed on the outer surface of the cleaned polarizing plate 16.
【0058】偏光板16の外面はプラズマジェットJの
照射による洗浄で清浄な状態に保たれ、さらにそのプラ
ズマジェットJの照射による改質で濡れ指数が向上して
おり、このためインク15を印刷した際の密着性を高め
ることができる。The outer surface of the polarizing plate 16 was kept clean by washing with the plasma jet J, and the wetting index was improved by the modification by the irradiation with the plasma jet J. Therefore, the ink 15 was printed. Adhesion at the time can be enhanced.
【0059】そしてこの場合にも、液晶表示素子1の所
要な領域部分つまり偏光板16の外面のみにプラズマジ
ェットJを短時間照射するだけであるから、偏光板16
を含めて液晶表示素子1にほとんどダメージが加わるよ
うなことがない。In this case as well, only the plasma jet J is irradiated for a short time only on a required area of the liquid crystal display element 1, that is, only on the outer surface of the polarizing plate 16.
And the liquid crystal display element 1 is hardly damaged.
【0060】[0060]
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、簡
易な設備で、容易に能率よく、またプラズマによるダメ
ージをほとんど与えることなく洗浄することができる。
そしてプラズマ化したガス気流の照射によりその照射領
域を改質して濡れ指数を高めることができ、これにより
回路基板の接合や配向膜の材料の塗布、あるいはインク
の塗布時における密着性を向上させることができる。As described above, according to the present invention, cleaning can be performed easily and efficiently with simple equipment, and with almost no damage by plasma.
Then, the irradiation area can be improved by irradiation of the gasified gas stream to increase the wetting index, thereby improving the adhesion at the time of bonding the circuit board, applying the material of the alignment film, or applying the ink. be able to.
【図1】この発明の第1の実施例を示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of the present invention.
【図2】同じく正面図。FIG. 2 is a front view of the same.
【図3】この発明の第2の実施例を示す正面図。FIG. 3 is a front view showing a second embodiment of the present invention.
【図4】この発明の第3の実施例を示す正面図。FIG. 4 is a front view showing a third embodiment of the present invention.
【図5】この発明の第4の実施例を示す正面図。FIG. 5 is a front view showing a fourth embodiment of the present invention.
【図6】この発明の第5の実施例を示す正面図。FIG. 6 is a front view showing a fifth embodiment of the present invention.
1…液晶表示素子 2…基板 3…端子部 4…端子 10…プラズマ照射器 11…ノズル管 12…トーチ 13…テーブル 14…配向膜の材料 15…インク 16…偏光板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display element 2 ... Substrate 3 ... Terminal part 4 ... Terminal 10 ... Plasma irradiator 11 ... Nozzle tube 12 ... Torch 13 ... Table 14 ... Orientation film material 15 ... Ink 16 ... Polarizing plate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/304 645 H01L 21/304 645A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/304 645 H01L 21/304 645A
Claims (5)
したガス気流の照射が可能なノズルを有するプラズマ照
射器を用いてその領域部分を洗浄することを特徴とする
電気物品の洗浄方法。1. A method for cleaning an electric article, comprising cleaning a predetermined area of an electric article using a plasma irradiator having a nozzle capable of irradiating a gas stream formed into plasma to a predetermined area.
晶表示素子の端子部に回路基板を接合する工程に先立っ
て前記端子部にプラズマ化したガス気流を照射して洗浄
することを特徴とする請求項1に記載の電気物品の洗浄
方法。2. The electric article is a liquid crystal display device, wherein prior to the step of bonding a circuit board to a terminal portion of the liquid crystal display device, the terminal portion is irradiated with a gaseous gas stream which has been plasma-cleaned. The method for cleaning an electric article according to claim 1.
って、この基板の表面に配向膜の材料を塗布する工程に
先立って前記基板の表面にプラズマ化したガス気流を照
射して洗浄することを特徴とする請求項1に記載の電気
物品の洗浄方法。3. The electric article is a substrate for forming a liquid crystal display element, and prior to a step of applying a material for an alignment film to the surface of the substrate, the surface of the substrate is irradiated with a gas flow of plasma to clean the surface. The method for cleaning an electric article according to claim 1, wherein the cleaning is performed.
晶表示素子の外面にインクを塗布する工程に先立って前
記液晶表示素子の外面にプラズマ化したガス気流を照射
して洗浄することを特徴とする請求項1に記載の電気物
品の洗浄方法。4. An electric article is a liquid crystal display element, and prior to a step of applying ink to an outer surface of the liquid crystal display element, the outer surface of the liquid crystal display element is washed by irradiating the outer surface of the liquid crystal display element with a gas flow of plasma. The method for cleaning an electric article according to claim 1, wherein:
た液晶表示素子であって、その偏光板の外面にインクを
塗布する工程に先立って前記偏光板の外面にプラズマ化
したガス気流を照射して洗浄することを特徴とする請求
項1に記載の電気物品の洗浄方法。5. An electric article, which is a liquid crystal display device having a polarizing plate attached to an outer surface thereof, wherein a gas stream formed into a plasma on the outer surface of the polarizing plate prior to a step of applying ink to the outer surface of the polarizing plate. The method for cleaning an electric article according to claim 1, wherein the cleaning is performed by irradiating the electric article.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000212967A JP2002028597A (en) | 2000-07-13 | 2000-07-13 | Method for cleaning electric article |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000212967A JP2002028597A (en) | 2000-07-13 | 2000-07-13 | Method for cleaning electric article |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002028597A true JP2002028597A (en) | 2002-01-29 |
Family
ID=18708800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000212967A Pending JP2002028597A (en) | 2000-07-13 | 2000-07-13 | Method for cleaning electric article |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002028597A (en) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006128442A (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Optrex Corp | Method of washing connection lead terminal |
US7176402B2 (en) | 2003-10-23 | 2007-02-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for processing electronic parts |
JP2007163873A (en) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Optrex Corp | Contaminant removing method |
JP2007323812A (en) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and device for generating atmospheric pressure plasma |
JP2008027830A (en) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Plasma processing method and device |
JP2008053549A (en) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and device for mounting circuit on display panel |
WO2009008557A1 (en) * | 2007-07-12 | 2009-01-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Plasma excitation gas cleaning method and plasma excitation gas cleaning apparatus |
JP2009051151A (en) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Method for manufacturing double-sided metal foil-clad laminate |
DE112007000977T5 (en) | 2006-05-30 | 2009-05-28 | Panasonic Corporation, Kadoma-shi | Atmospheric pressure plasma generating method, plasma processing method, device mounting method and apparatus using the method |
JP2011044433A (en) * | 2010-09-29 | 2011-03-03 | Panasonic Corp | Plasma treatment method and device |
KR20200084656A (en) * | 2019-01-03 | 2020-07-13 | (주) 엠에이케이 | A method for cleaning the electrode tap of the secondary battery |
CN113950405A (en) * | 2019-06-11 | 2022-01-18 | 横滨橡胶株式会社 | Tire cleaning method and tire manufacturing method |
JP2023064028A (en) * | 2021-10-25 | 2023-05-10 | ジャパン・フィールド株式会社 | Washing method for cleaning object |
-
2000
- 2000-07-13 JP JP2000212967A patent/JP2002028597A/en active Pending
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7176402B2 (en) | 2003-10-23 | 2007-02-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for processing electronic parts |
JP2006128442A (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Optrex Corp | Method of washing connection lead terminal |
JP2007163873A (en) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Optrex Corp | Contaminant removing method |
DE112007000977T5 (en) | 2006-05-30 | 2009-05-28 | Panasonic Corporation, Kadoma-shi | Atmospheric pressure plasma generating method, plasma processing method, device mounting method and apparatus using the method |
JP2007323812A (en) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and device for generating atmospheric pressure plasma |
US8399794B2 (en) | 2006-05-30 | 2013-03-19 | Panasonic Corporation | Atmospheric pressure plasma, generating method, plasma processing method and component mounting method using same, and device using these methods |
JP4682917B2 (en) * | 2006-05-30 | 2011-05-11 | パナソニック株式会社 | Atmospheric pressure plasma generation method and apparatus |
JP2008027830A (en) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Plasma processing method and device |
JP4682946B2 (en) * | 2006-07-25 | 2011-05-11 | パナソニック株式会社 | Plasma processing method and apparatus |
JP4687613B2 (en) * | 2006-08-25 | 2011-05-25 | パナソニック株式会社 | Circuit body mounting method and apparatus on display panel |
JP2008053549A (en) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and device for mounting circuit on display panel |
WO2009008557A1 (en) * | 2007-07-12 | 2009-01-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Plasma excitation gas cleaning method and plasma excitation gas cleaning apparatus |
JP2009051151A (en) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Method for manufacturing double-sided metal foil-clad laminate |
JP2011044433A (en) * | 2010-09-29 | 2011-03-03 | Panasonic Corp | Plasma treatment method and device |
KR20200084656A (en) * | 2019-01-03 | 2020-07-13 | (주) 엠에이케이 | A method for cleaning the electrode tap of the secondary battery |
KR102186957B1 (en) * | 2019-01-03 | 2020-12-04 | (주) 엠에이케이 | A method for cleaning the electrode tap of the secondary battery |
CN113950405A (en) * | 2019-06-11 | 2022-01-18 | 横滨橡胶株式会社 | Tire cleaning method and tire manufacturing method |
CN113950405B (en) * | 2019-06-11 | 2023-09-26 | 横滨橡胶株式会社 | Tire cleaning method and tire manufacturing method |
JP2023064028A (en) * | 2021-10-25 | 2023-05-10 | ジャパン・フィールド株式会社 | Washing method for cleaning object |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002028597A (en) | Method for cleaning electric article | |
JP2701709B2 (en) | Method and apparatus for directly joining two materials | |
JP4697066B2 (en) | Electrode bonding method and component mounting apparatus | |
US11102889B2 (en) | Desmearing method and desmearing device | |
JP4540519B2 (en) | Cleaning device, liquid crystal display substrate cleaning device, and liquid crystal display assembly device | |
JP2011074395A (en) | Bonding method, bonded body, liquid droplet jetting head and liquid droplet jetting apparatus | |
JP2002050655A (en) | Chip-packaging method and substrate-cleaning device used for the same | |
JP2005099595A (en) | Assembling device and method, and terminal cleaning device | |
JP2006258958A (en) | Method and device for bonding substrate | |
JP3922003B2 (en) | Method of joining circuit body to flat panel display panel | |
US7176402B2 (en) | Method and apparatus for processing electronic parts | |
JP4325280B2 (en) | Processing method of electronic parts | |
JP2004006707A (en) | Packaging method and packaging apparatus | |
JP2002334862A (en) | Method for manufacturing semiconductor device and apparatus for cleaning semiconductor substrate used therefor | |
JP2009158866A (en) | Semiconductor device and electronic apparatus | |
JP2008207519A (en) | Manufacturing method for liquid ejection head, and liquid ejection head | |
WO2010058648A1 (en) | Surface modification process using microplasma and bonding process using microplasma | |
JP2006005302A (en) | Flexible substrate and manufacturing method of the same | |
JP2002305234A (en) | Etching method for rear side of silicon wafer and protecting tape for silicon wafer | |
JP2008041355A (en) | Plasma surface treatment device, and surface treatment method | |
JPH09179085A (en) | Manufacture of liquid crystal element and discharge processor used for same | |
JP2017024947A (en) | Laminated body and method for manufacturing the same, and electronic device and method for manufacturing the same | |
JP2009158867A (en) | Laminated substrate, semiconductor device, and electronic apparatus | |
JP2019073399A (en) | Surface treatment method and device, and glass substrate | |
JP2002050849A (en) | Method and device for laser beam machining |