JP2002023388A - 有機溶剤回収装置およびその装置を用いたパターン形成方法 - Google Patents
有機溶剤回収装置およびその装置を用いたパターン形成方法Info
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- JP2002023388A JP2002023388A JP2000201905A JP2000201905A JP2002023388A JP 2002023388 A JP2002023388 A JP 2002023388A JP 2000201905 A JP2000201905 A JP 2000201905A JP 2000201905 A JP2000201905 A JP 2000201905A JP 2002023388 A JP2002023388 A JP 2002023388A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板上にパターン形成のためにフォトレジス
ト膜を塗布したときに発生する不要なフォトレジストを
洗浄溶剤で洗浄したとき、洗浄溶剤およびフォトレジス
トを回収して再利用する。 【解決手段】 気化容器１内にフォトレジストと洗浄溶
剤との混合液を供給する。そして、混合液から洗浄溶剤
のみを気化させて分離し、この気化された洗浄溶剤を液
化容器２１内に供給して液化させる。したがって、液化
容器２１から洗浄溶剤が回収され、気化容器１からフォ
トレジストが回収される。
ト膜を塗布したときに発生する不要なフォトレジストを
洗浄溶剤で洗浄したとき、洗浄溶剤およびフォトレジス
トを回収して再利用する。 【解決手段】 気化容器１内にフォトレジストと洗浄溶
剤との混合液を供給する。そして、混合液から洗浄溶剤
のみを気化させて分離し、この気化された洗浄溶剤を液
化容器２１内に供給して液化させる。したがって、液化
容器２１から洗浄溶剤が回収され、気化容器１からフォ
トレジストが回収される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は有機溶剤回収装置
およびその装置を用いたパターン形成方法に関する。
およびその装置を用いたパターン形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ＬＳＩ等の半導体チップや薄膜
トランジスタの製造プロセスにおいては、基板上にパタ
ーン形成のためにフォトレジスト膜を塗布したときに発
生する不要なフォトレジストを洗浄溶剤で洗浄して除去
することが多い。一例として、基板上にフォトレジスト
膜をスピンコート法により塗布する場合、基板をコータ
カップ内において高速回転させ、基板上に滴下されたフ
ォトレジストを遠心力により拡散させ、これにより基板
上にフォトレジスト膜を塗布している。この場合、コー
タカップを用いているのは、基板上から遠心力により飛
ばされたフォトレジストをコータカップの内面に付着さ
せることにより、フォトレジストが周囲に飛散して周囲
を汚染するのを防止するためである。そして、コータカ
ップの内面に付着されたフォトレジストを洗浄溶剤で洗
浄して除去している。また、基板の端面にフォトレジス
トが不要に付着されるので、この不要に付着されたフォ
トレジストも洗浄溶剤で洗浄して除去している。
トランジスタの製造プロセスにおいては、基板上にパタ
ーン形成のためにフォトレジスト膜を塗布したときに発
生する不要なフォトレジストを洗浄溶剤で洗浄して除去
することが多い。一例として、基板上にフォトレジスト
膜をスピンコート法により塗布する場合、基板をコータ
カップ内において高速回転させ、基板上に滴下されたフ
ォトレジストを遠心力により拡散させ、これにより基板
上にフォトレジスト膜を塗布している。この場合、コー
タカップを用いているのは、基板上から遠心力により飛
ばされたフォトレジストをコータカップの内面に付着さ
せることにより、フォトレジストが周囲に飛散して周囲
を汚染するのを防止するためである。そして、コータカ
ップの内面に付着されたフォトレジストを洗浄溶剤で洗
浄して除去している。また、基板の端面にフォトレジス
トが不要に付着されるので、この不要に付着されたフォ
トレジストも洗浄溶剤で洗浄して除去している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって、上記のよ
うな製造プロセスでは、フォトレジストと洗浄溶剤との
混合液が多量に発生する。しかしながら、従来では、こ
の混合液をそのまま廃棄しているので、特に、洗浄溶剤
が無駄となり、コスト高になってしまうという問題があ
った。また、フォトレジストも無駄となり、より一層コ
スト高になってしまうという問題があった。この発明の
課題は、洗浄溶剤等の有機溶剤の無駄を少なくすること
である。この発明の他の課題は、フォトレジストの無駄
を少なくすることである。
うな製造プロセスでは、フォトレジストと洗浄溶剤との
混合液が多量に発生する。しかしながら、従来では、こ
の混合液をそのまま廃棄しているので、特に、洗浄溶剤
が無駄となり、コスト高になってしまうという問題があ
った。また、フォトレジストも無駄となり、より一層コ
スト高になってしまうという問題があった。この発明の
課題は、洗浄溶剤等の有機溶剤の無駄を少なくすること
である。この発明の他の課題は、フォトレジストの無駄
を少なくすることである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明に
係る有機溶剤回収装置は、フォトレジストと有機溶剤と
の混合液が供給され、該混合液から前記有機溶剤のみを
気化させて分離する気化容器と、前記気化容器から気化
された有機溶剤が供給され、該気化された有機溶剤を液
化させて回収する液化容器とを具備したものである。請
求項２に記載の発明に係る有機溶剤回収装置は、請求項
１に記載の発明において、前記液化容器内を減圧する減
圧手段を備えたものである。請求項３に記載の発明に係
る有機溶剤回収装置は、フォトレジストと有機溶剤との
混合液が供給され、該混合液から前記有機溶剤を気化さ
せて分離する気化容器と、前記気化容器から前記フォト
レジストを回収する回収手段とを具備したものである。
請求項４に記載の発明に係る有機溶剤回収装置は、請求
項１〜３に記載の発明において、前記気化容器を加熱す
る加熱手段および前記液化容器を冷却する冷却手段を備
えたものである。請求項５に記載の発明に係る有機溶剤
回収装置は、請求項４に記載の発明において、前記気化
容器内の温度を検出する温度センサを備えたものであ
る。請求項６に記載の発明に係る有機溶剤回収装置は、
請求項５に記載の発明において、前記気化容器内の液の
粘度を検出する粘度センサを備えたものである。請求項
７に記載の発明に係る有機溶剤回収装置は、請求項１〜
６のいずれに記載の発明において、前記気化容器の供給
口をフォトレジスト塗布装置のフォトレジストと有機溶
剤との混合液を排出する混合液排出部に接続し、前記気
化容器の排出口を前記フォトレジスト塗布装置のフォト
レジスト供給部に接続し、前記液化容器の排出口を前記
フォトレジスト塗布装置の有機溶剤供給部に接続したも
のである。請求項８に記載の発明に係るパターン形成方
法は、基板上にパターン形成のためのフォトレジストを
成膜する成膜ステップと、前記成膜ステップにおける不
要なフォトレジストを有機溶剤で除去する除去ステップ
と、前記フォトレジストと前記有機溶剤との混合液から
前記有機溶剤のみを気化させて分離する気化ステップ
と、該気化された有機溶剤を液化させて回収する回収ス
テップと、回収された有機溶剤を再利用する有機溶剤再
利用ステップとを具備したものである。請求項９に記載
の発明に係るパターン形成方法は、請求項８に記載の発
明において、前記気化ステップの後、前記フォトレジス
トを再利用するフォトレジスト再利用ステップを有する
ものである。請求項１０に記載の発明に係るパターン形
成方法は、請求項９に記載の発明において、前記フォト
レジスト再利用ステップが、フォトレジストに含まれる
溶剤を補充するステップを含むようにしたものである。
そして、請求項１に記載の発明によれば、フォトレジス
トと有機溶剤との混合液から有機溶剤を気化させて分離
した後液化させて回収しているので、この回収された有
機溶剤を再利用することができ、したがって有機溶剤の
無駄を少なくすることができる。また、請求項３に記載
の発明によれば、気化容器からフォトレジストを回収し
ているので、この回収されたフォトレジストを再利用す
ることができ、したがってフォトレジストの無駄を少な
くすることができる。
係る有機溶剤回収装置は、フォトレジストと有機溶剤と
の混合液が供給され、該混合液から前記有機溶剤のみを
気化させて分離する気化容器と、前記気化容器から気化
された有機溶剤が供給され、該気化された有機溶剤を液
化させて回収する液化容器とを具備したものである。請
求項２に記載の発明に係る有機溶剤回収装置は、請求項
１に記載の発明において、前記液化容器内を減圧する減
圧手段を備えたものである。請求項３に記載の発明に係
る有機溶剤回収装置は、フォトレジストと有機溶剤との
混合液が供給され、該混合液から前記有機溶剤を気化さ
せて分離する気化容器と、前記気化容器から前記フォト
レジストを回収する回収手段とを具備したものである。
請求項４に記載の発明に係る有機溶剤回収装置は、請求
項１〜３に記載の発明において、前記気化容器を加熱す
る加熱手段および前記液化容器を冷却する冷却手段を備
えたものである。請求項５に記載の発明に係る有機溶剤
回収装置は、請求項４に記載の発明において、前記気化
容器内の温度を検出する温度センサを備えたものであ
る。請求項６に記載の発明に係る有機溶剤回収装置は、
請求項５に記載の発明において、前記気化容器内の液の
粘度を検出する粘度センサを備えたものである。請求項
７に記載の発明に係る有機溶剤回収装置は、請求項１〜
６のいずれに記載の発明において、前記気化容器の供給
口をフォトレジスト塗布装置のフォトレジストと有機溶
剤との混合液を排出する混合液排出部に接続し、前記気
化容器の排出口を前記フォトレジスト塗布装置のフォト
レジスト供給部に接続し、前記液化容器の排出口を前記
フォトレジスト塗布装置の有機溶剤供給部に接続したも
のである。請求項８に記載の発明に係るパターン形成方
法は、基板上にパターン形成のためのフォトレジストを
成膜する成膜ステップと、前記成膜ステップにおける不
要なフォトレジストを有機溶剤で除去する除去ステップ
と、前記フォトレジストと前記有機溶剤との混合液から
前記有機溶剤のみを気化させて分離する気化ステップ
と、該気化された有機溶剤を液化させて回収する回収ス
テップと、回収された有機溶剤を再利用する有機溶剤再
利用ステップとを具備したものである。請求項９に記載
の発明に係るパターン形成方法は、請求項８に記載の発
明において、前記気化ステップの後、前記フォトレジス
トを再利用するフォトレジスト再利用ステップを有する
ものである。請求項１０に記載の発明に係るパターン形
成方法は、請求項９に記載の発明において、前記フォト
レジスト再利用ステップが、フォトレジストに含まれる
溶剤を補充するステップを含むようにしたものである。
そして、請求項１に記載の発明によれば、フォトレジス
トと有機溶剤との混合液から有機溶剤を気化させて分離
した後液化させて回収しているので、この回収された有
機溶剤を再利用することができ、したがって有機溶剤の
無駄を少なくすることができる。また、請求項３に記載
の発明によれば、気化容器からフォトレジストを回収し
ているので、この回収されたフォトレジストを再利用す
ることができ、したがってフォトレジストの無駄を少な
くすることができる。
【０００５】
【発明の実施の形態】図１はこの発明の一実施形態にお
ける有機溶剤回収装置の概略構成図を示したものであ
る。この有機溶剤回収装置は密閉型の気化容器１を備え
ている。気化容器１の上部には第１のバルブ２が介在さ
れた配管３を介して混合液タンク４が接続されている。
混合液タンク４内には、図示していないが、上述したよ
うなスピンコート方式のフォトレジスト塗布装置から排
出される、フォトレジストと洗浄溶剤（有機溶剤）との
混合液（以下、単に混合液という。）が人手により収容
されるようになっている。
ける有機溶剤回収装置の概略構成図を示したものであ
る。この有機溶剤回収装置は密閉型の気化容器１を備え
ている。気化容器１の上部には第１のバルブ２が介在さ
れた配管３を介して混合液タンク４が接続されている。
混合液タンク４内には、図示していないが、上述したよ
うなスピンコート方式のフォトレジスト塗布装置から排
出される、フォトレジストと洗浄溶剤（有機溶剤）との
混合液（以下、単に混合液という。）が人手により収容
されるようになっている。
【０００６】気化容器１の周囲には、ヒータ５に接続さ
れた、熱媒を循環させるための加熱用配管６が設けられ
ている。気化容器１には、その内部の温度を検出するた
めの温度センサ７およびその内部の液の粘度を検出する
ための粘度センサ８が接続されている。気化容器１の下
部には第２のバルブ９が介在された回収管１０を介して
再利用調整部１１が接続されている。再利用調整部１１
は、ゴミ等を除去するためのフィルタ、後述の如く回収
されたフォトレジストに溶剤を補填して再利用可能とす
るための調整部等を備えている。
れた、熱媒を循環させるための加熱用配管６が設けられ
ている。気化容器１には、その内部の温度を検出するた
めの温度センサ７およびその内部の液の粘度を検出する
ための粘度センサ８が接続されている。気化容器１の下
部には第２のバルブ９が介在された回収管１０を介して
再利用調整部１１が接続されている。再利用調整部１１
は、ゴミ等を除去するためのフィルタ、後述の如く回収
されたフォトレジストに溶剤を補填して再利用可能とす
るための調整部等を備えている。
【０００７】気化容器１の上部には第３のバルブ１２が
介在された配管１３を介して密閉型の液化容器２１の上
部が接続されている。液化容器２１の上部には第４のバ
ルブ２２が介在された配管２３を介して真空ポンプ２４
が接続されている。液化容器２１の周囲には、冷凍機２
５に接続された、冷媒を循環させるための冷却用配管２
６が設けられている。液化容器２１には、その内部の圧
力を検出するための圧力センサ２７が接続されている。
液化容器２１の下部には第５のバルブ２８が介在された
回収管２９が接続されている。
介在された配管１３を介して密閉型の液化容器２１の上
部が接続されている。液化容器２１の上部には第４のバ
ルブ２２が介在された配管２３を介して真空ポンプ２４
が接続されている。液化容器２１の周囲には、冷凍機２
５に接続された、冷媒を循環させるための冷却用配管２
６が設けられている。液化容器２１には、その内部の圧
力を検出するための圧力センサ２７が接続されている。
液化容器２１の下部には第５のバルブ２８が介在された
回収管２９が接続されている。
【０００８】次に、この有機溶剤回収装置で洗浄溶剤お
よびフォトレジストを回収する場合について説明する。
まず、全てのバルブ２、９、１２、２２、２８を閉じた
状態において、混合液タンク４内に所定量の混合液を収
容する。次に、第１のバルブ２を開け、混合液タンク４
内の所定量の混合液を気化容器１内に供給する。次に、
第１のバルブ２を閉じ、第４のバルブ２２を開ける。次
に、真空ポンプ２４を駆動させ、液化容器２１内を減圧
し、また冷凍機２５を駆動させ、冷却用配管２６内を冷
媒が循環することにより、液化容器２１内を冷却する。
また、ヒータ５を駆動させ、加熱用配管６内を熱媒が循
環することにより、気化容器１内を加熱する。
よびフォトレジストを回収する場合について説明する。
まず、全てのバルブ２、９、１２、２２、２８を閉じた
状態において、混合液タンク４内に所定量の混合液を収
容する。次に、第１のバルブ２を開け、混合液タンク４
内の所定量の混合液を気化容器１内に供給する。次に、
第１のバルブ２を閉じ、第４のバルブ２２を開ける。次
に、真空ポンプ２４を駆動させ、液化容器２１内を減圧
し、また冷凍機２５を駆動させ、冷却用配管２６内を冷
媒が循環することにより、液化容器２１内を冷却する。
また、ヒータ５を駆動させ、加熱用配管６内を熱媒が循
環することにより、気化容器１内を加熱する。
【０００９】そして、液化容器２１内が所定の減圧状態
となったとき、これを圧力センサ２７で検出し、第４の
バルブ２２を閉じ、真空ポンプ２４を停止する。また、
気化容器１内の温度を温度センサ７で検出し、気化容器
１内の温度が所定の温度に維持されるように、ヒータ５
を制御する。ここで、所定の温度とは、所定の減圧状態
において、洗浄溶剤（通常、大気圧における沸点１１０
〜１３０℃）が気化し、フォトレジストに含まれる溶剤
（通常、大気圧における沸点１３０〜１４０℃）が気化
しない温度のことである。
となったとき、これを圧力センサ２７で検出し、第４の
バルブ２２を閉じ、真空ポンプ２４を停止する。また、
気化容器１内の温度を温度センサ７で検出し、気化容器
１内の温度が所定の温度に維持されるように、ヒータ５
を制御する。ここで、所定の温度とは、所定の減圧状態
において、洗浄溶剤（通常、大気圧における沸点１１０
〜１３０℃）が気化し、フォトレジストに含まれる溶剤
（通常、大気圧における沸点１３０〜１４０℃）が気化
しない温度のことである。
【００１０】次に、第３のバルブ１２を開ける。する
と、気化容器１内が所定の減圧状態となり、減圧蒸留現
象により、気化容器１内の混合液から洗浄溶剤のみが気
化されて分離される。この気化された洗浄溶剤は液化容
器２１内に供給され、液化される。この場合、気化容器
１内に当初供給された混合液の量が予め分かっている所
定の量であり、また気化容器１内の温度も予め分かって
いる所定の温度であるので、気化容器１内の混合液から
洗浄溶剤の全てが気化されて分離される時間は予め計算
しておくことができる。
と、気化容器１内が所定の減圧状態となり、減圧蒸留現
象により、気化容器１内の混合液から洗浄溶剤のみが気
化されて分離される。この気化された洗浄溶剤は液化容
器２１内に供給され、液化される。この場合、気化容器
１内に当初供給された混合液の量が予め分かっている所
定の量であり、また気化容器１内の温度も予め分かって
いる所定の温度であるので、気化容器１内の混合液から
洗浄溶剤の全てが気化されて分離される時間は予め計算
しておくことができる。
【００１１】そこで、第３のバルブ１２を開けた時点か
ら予め計算された時間が経過したら、第１のバルブ２を
開け、気化容器１内および液化容器２１内を大気圧状態
に戻す。ただし、第１のバルブ２を開ける前に、確認の
ために、気化容器１内の液の粘度を粘度センサ８で計測
し、その計測結果が所定の値、例えば１０ｃｐ（センチ
ポアズ）よりも低い場合、さらにある程度稼働し、１０
ｃｐに達したら、第１のバルブ２を開けるようにしても
よい。この場合、フォトレジストは使用することによ
り、フォトレジスト中に含まれる溶剤が減少してその粘
度が変化するので、所定の粘度で分離を停止するように
設定しておくと、洗浄溶剤が混入した状態で分離が停止
されるので、上述の如く、温度管理を正確に行って、洗
浄溶剤が完全に分離されるようにすることが望ましい。
但し、分離停止がフォトレジストの粘度管理による場合
でも、液化容器２１に貯蔵される洗浄溶剤はそのまま再
利用可能である。
ら予め計算された時間が経過したら、第１のバルブ２を
開け、気化容器１内および液化容器２１内を大気圧状態
に戻す。ただし、第１のバルブ２を開ける前に、確認の
ために、気化容器１内の液の粘度を粘度センサ８で計測
し、その計測結果が所定の値、例えば１０ｃｐ（センチ
ポアズ）よりも低い場合、さらにある程度稼働し、１０
ｃｐに達したら、第１のバルブ２を開けるようにしても
よい。この場合、フォトレジストは使用することによ
り、フォトレジスト中に含まれる溶剤が減少してその粘
度が変化するので、所定の粘度で分離を停止するように
設定しておくと、洗浄溶剤が混入した状態で分離が停止
されるので、上述の如く、温度管理を正確に行って、洗
浄溶剤が完全に分離されるようにすることが望ましい。
但し、分離停止がフォトレジストの粘度管理による場合
でも、液化容器２１に貯蔵される洗浄溶剤はそのまま再
利用可能である。
【００１２】そして、第５のバルブ２８を開け、液化容
器２１内から洗浄溶剤を回収する。また、第２のバルブ
９を開け、気化容器１内からフォトレジストを回収して
再利用調整部１１に供給する。再利用調整部１１では、
回収されたフォトレジストからゴミ等を除去し、その成
分を再利用可能となるように調整する。すなわち、洗浄
溶剤が混入されていないフォトレジストを、気化容器１
内の粘度センサ８で計測した粘度に基づいて、再利用に
必要な量の溶剤を補充する。この場合、確認のため、再
利用調整部１１内で粘度を再計測してもよい。次に、ヒ
ータ５および冷凍機２５を停止し、第１、第２、第３お
よび第５のバルブ２、９、１２、２８を閉じると、初期
の状態となる。
器２１内から洗浄溶剤を回収する。また、第２のバルブ
９を開け、気化容器１内からフォトレジストを回収して
再利用調整部１１に供給する。再利用調整部１１では、
回収されたフォトレジストからゴミ等を除去し、その成
分を再利用可能となるように調整する。すなわち、洗浄
溶剤が混入されていないフォトレジストを、気化容器１
内の粘度センサ８で計測した粘度に基づいて、再利用に
必要な量の溶剤を補充する。この場合、確認のため、再
利用調整部１１内で粘度を再計測してもよい。次に、ヒ
ータ５および冷凍機２５を停止し、第１、第２、第３お
よび第５のバルブ２、９、１２、２８を閉じると、初期
の状態となる。
【００１３】このように、この有機溶剤回収装置では、
混合液から洗浄溶剤およびフォトレジストを回収してい
るので、洗浄溶剤およびフォトレジストを再利用するこ
とができ、したがって洗浄溶剤およびフォトレジストの
無駄を少なくすることができ、ひいてはコストを低減す
ることができる。ところで、仮に、気化容器１内の混合
液から洗浄溶剤の全てを気化させて分離することができ
なくても、液化容器２１内から洗浄溶剤のみを回収する
ことができるので、この回収された洗浄溶剤をそのまま
再利用することができる。
混合液から洗浄溶剤およびフォトレジストを回収してい
るので、洗浄溶剤およびフォトレジストを再利用するこ
とができ、したがって洗浄溶剤およびフォトレジストの
無駄を少なくすることができ、ひいてはコストを低減す
ることができる。ところで、仮に、気化容器１内の混合
液から洗浄溶剤の全てを気化させて分離することができ
なくても、液化容器２１内から洗浄溶剤のみを回収する
ことができるので、この回収された洗浄溶剤をそのまま
再利用することができる。
【００１４】なお、図２に示すこの発明の他の実施形態
のように構成してもよい。すなわち、気化容器１の上部
（供給口）は、第１のバルブ２が介在された配管３を介
して、フォトレジスト塗布装置のフォトレジストと洗浄
溶剤との混合液を排出する混合液排出部３１に接続され
ている。気化容器１の下部（排出口）は、第２のバルブ
９が介在された回収管１０、再利用調整部１１および配
管３２を介して、フォトレジスト塗布装置のフォトレジ
スト供給部３３に接続されている。液化容器２１の下部
（排出口）は、第５のバルブ２８が介在された回収管２
９を介して、フォトレジスト塗布装置の洗浄溶剤供給部
３４に接続されている。さらに、気化容器１および液化
容器２１の各上部は、第６および第７のバルブ３５、３
６が介在された配管３７、３８を介して窒素ガス供給源
３９に接続されている。
のように構成してもよい。すなわち、気化容器１の上部
（供給口）は、第１のバルブ２が介在された配管３を介
して、フォトレジスト塗布装置のフォトレジストと洗浄
溶剤との混合液を排出する混合液排出部３１に接続され
ている。気化容器１の下部（排出口）は、第２のバルブ
９が介在された回収管１０、再利用調整部１１および配
管３２を介して、フォトレジスト塗布装置のフォトレジ
スト供給部３３に接続されている。液化容器２１の下部
（排出口）は、第５のバルブ２８が介在された回収管２
９を介して、フォトレジスト塗布装置の洗浄溶剤供給部
３４に接続されている。さらに、気化容器１および液化
容器２１の各上部は、第６および第７のバルブ３５、３
６が介在された配管３７、３８を介して窒素ガス供給源
３９に接続されている。
【００１５】したがって、この有機溶剤回収装置では、
フォトレジスト塗布装置の混合液排出部３１から混合液
を直接供給され、回収して再利用調整したフォトレジス
トをフォトレジスト塗布装置のフォトレジスト供給部３
３に直接供給し、回収した洗浄溶剤をフォトレジスト塗
布装置の洗浄溶剤供給部３４に直接供給することがで
き、全体的に自動化することができる。また、これに伴
い、ゴミ等の混入を激減することができる。
フォトレジスト塗布装置の混合液排出部３１から混合液
を直接供給され、回収して再利用調整したフォトレジス
トをフォトレジスト塗布装置のフォトレジスト供給部３
３に直接供給し、回収した洗浄溶剤をフォトレジスト塗
布装置の洗浄溶剤供給部３４に直接供給することがで
き、全体的に自動化することができる。また、これに伴
い、ゴミ等の混入を激減することができる。
【００１６】ここで、窒素ガス供給源３９の役目につい
て説明する。まず、第１、第３および第４のバルブ２、
１２、２２を閉じた状態とする。そして、第２および第
６のバルブ９、３５を開けると、窒素ガス供給源３９か
らの窒素ガスのガス圧により、気化容器１内のフォトレ
ジストが再利用調整部１１を経てフォトレジスト供給部
３３に供給される。一方、第５および第７のバルブ２
８、３６を開けると、窒素ガス供給源３９からの窒素ガ
スのガス圧により、液化容器２１内の洗浄溶剤が洗浄溶
剤供給部３４に供給される。
て説明する。まず、第１、第３および第４のバルブ２、
１２、２２を閉じた状態とする。そして、第２および第
６のバルブ９、３５を開けると、窒素ガス供給源３９か
らの窒素ガスのガス圧により、気化容器１内のフォトレ
ジストが再利用調整部１１を経てフォトレジスト供給部
３３に供給される。一方、第５および第７のバルブ２
８、３６を開けると、窒素ガス供給源３９からの窒素ガ
スのガス圧により、液化容器２１内の洗浄溶剤が洗浄溶
剤供給部３４に供給される。
【００１７】なお、本発明は、基本的にはフォトレジス
トおよび洗浄溶剤の双方を再利用することにより最大の
効果を得ることができるものであるが、上述した如く、
洗浄溶剤だけは再利用可能とするようしてもよい。ま
た、逆に、フォトレジストだけは再利用可能とするよう
にしてもよい。その場合には、気化分離する温度を洗浄
溶剤の気化温度よりも少し高めに設定するなどして、フ
ォトレジストに含まれる溶剤も一部は気化されるが、洗
浄溶剤はすべて確実に気化分離し、その後、フォトレジ
ストに再利用可能となる量の溶剤を補充すればよい。
トおよび洗浄溶剤の双方を再利用することにより最大の
効果を得ることができるものであるが、上述した如く、
洗浄溶剤だけは再利用可能とするようしてもよい。ま
た、逆に、フォトレジストだけは再利用可能とするよう
にしてもよい。その場合には、気化分離する温度を洗浄
溶剤の気化温度よりも少し高めに設定するなどして、フ
ォトレジストに含まれる溶剤も一部は気化されるが、洗
浄溶剤はすべて確実に気化分離し、その後、フォトレジ
ストに再利用可能となる量の溶剤を補充すればよい。
【００１８】また、上記実施の形態では、フォトレジス
トを洗浄溶剤で洗浄する場合で説明したが、フォトレジ
ストを露光した後、エッチング液によりパターン形状に
エッチングする場合や、パターンを形成した後、フォト
レジストを剥離する場合等、不要なフォトレジストを有
機溶剤により除去する場合に全て適用可能である。
トを洗浄溶剤で洗浄する場合で説明したが、フォトレジ
ストを露光した後、エッチング液によりパターン形状に
エッチングする場合や、パターンを形成した後、フォト
レジストを剥離する場合等、不要なフォトレジストを有
機溶剤により除去する場合に全て適用可能である。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１に記載の
発明によれば、フォトレジストと有機溶剤との混合液か
ら有機溶剤を気化させて分離した後液化させて回収して
いるので、この回収された有機溶剤を再利用することが
でき、したがって有機溶剤の無駄を少なくすることがで
き、ひいてはコストを低減することができる。また、請
求項３に記載の発明によれば、気化容器からフォトレジ
ストを回収しているので、この回収されたフォトレジス
トを再利用することができ、したがってフォトレジスト
の無駄を少なくすることができ、ひいてはコストをより
一層低減することができる。
発明によれば、フォトレジストと有機溶剤との混合液か
ら有機溶剤を気化させて分離した後液化させて回収して
いるので、この回収された有機溶剤を再利用することが
でき、したがって有機溶剤の無駄を少なくすることがで
き、ひいてはコストを低減することができる。また、請
求項３に記載の発明によれば、気化容器からフォトレジ
ストを回収しているので、この回収されたフォトレジス
トを再利用することができ、したがってフォトレジスト
の無駄を少なくすることができ、ひいてはコストをより
一層低減することができる。
【図１】この発明の一実施形態における有機溶剤回収装
置の概略構成図。
置の概略構成図。
【図２】この発明の他の実施形態における有機溶剤回収
装置の概略構成図。
装置の概略構成図。
１ 気化容器 ４ 混合液タンク ５ ヒータ ６ 加熱用配管 ７ 温度センサ ８ 粘度センサ １１ 再利用調整部 ２１ 液化容器 ２４ 真空ポンプ ２５ 冷凍機 ２６ 冷却用配管 ３１ 混合液排出部 ３３ フォトレジスト供給部 ３４ 洗浄溶剤供給部 ３９ 窒素ガス供給源
Claims (10)
- 【請求項１】 フォトレジストと有機溶剤との混合液が
供給され、該混合液から前記有機溶剤を気化させて分離
する気化容器と、前記気化容器から気化された有機溶剤
が供給され、該気化された有機溶剤を液化させて回収す
る液化容器とを具備することを特徴とする有機溶剤回収
装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の発明において、前記液
化容器内を減圧する減圧手段を備えていることを特徴と
する有機溶剤回収装置。 - 【請求項３】 フォトレジストと有機溶剤との混合液が
供給され、該混合液から前記有機溶剤を気化させて分離
する気化容器と、前記気化容器から前記フォトレジスト
を回収する回収手段とを具備することを特徴とする有機
溶剤回収装置。 - 【請求項４】 請求項１〜３に記載の発明において、前
記気化容器を加熱する加熱手段および前記液化容器を冷
却する冷却手段を備えていることを特徴とする有機溶剤
回収装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載の発明において、前記気
化容器内の温度を検出する温度センサを備えていること
を特徴とする有機溶剤回収装置。 - 【請求項６】 請求項５に記載の発明において、前記気
化容器内の液の粘度を検出する粘度センサを備えている
ことを特徴とする有機溶剤回収装置。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれに記載の発明にお
いて、前記気化容器の供給口はフォトレジスト塗布装置
のフォトレジストと有機溶剤との混合液を排出する混合
液排出部に接続され、前記気化容器の排出口は前記フォ
トレジスト塗布装置のフォトレジスト供給部に接続さ
れ、前記液化容器の排出口は前記フォトレジスト塗布装
置の有機溶剤供給部に接続されていることを特徴とする
有機溶剤回収装置。 - 【請求項８】 基板上にパターン形成のためのフォトレ
ジストを成膜する成膜ステップと、前記成膜ステップに
おける不要なフォトレジストを有機溶剤で除去する除去
ステップと、前記フォトレジストと前記有機溶剤との混
合液から前記有機溶剤のみを気化させて分離する気化ス
テップと、該気化された有機溶剤を液化させて回収する
回収ステップと、回収された有機溶剤を再利用する有機
溶剤再利用ステップとを具備することを特徴とするパタ
ーン形成方法。 - 【請求項９】 請求項８に記載の発明において、前記気
化ステップの後、前記フォトレジストを再利用するフォ
トレジスト再利用ステップを有することを特徴とするパ
ターン形成方法。 - 【請求項１０】 請求項９に記載の発明において、前記
フォトレジスト再利用ステップは、フォトレジストに含
まれる溶剤を補充するステップを含むことを特徴とする
パターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000201905A JP2002023388A (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | 有機溶剤回収装置およびその装置を用いたパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000201905A JP2002023388A (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | 有機溶剤回収装置およびその装置を用いたパターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002023388A true JP2002023388A (ja) | 2002-01-23 |
Family
ID=18699508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000201905A Pending JP2002023388A (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | 有機溶剤回収装置およびその装置を用いたパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002023388A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007072138A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト液製造方法及びこれを用いたレジスト膜 |
| KR100841941B1 (ko) | 2007-01-22 | 2008-06-30 | 주식회사 이엔에프테크놀로지 | 포토레지스트 성분을 포함하는 폐유기용제의 처리방법 |
| JP2010523303A (ja) * | 2007-04-04 | 2010-07-15 | レーマン，マルクス | 出発材料の蒸留法及びこの方法を実施するための装置 |
| JP2013153063A (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
-
2000
- 2000-07-04 JP JP2000201905A patent/JP2002023388A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007072138A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト液製造方法及びこれを用いたレジスト膜 |
| KR100841941B1 (ko) | 2007-01-22 | 2008-06-30 | 주식회사 이엔에프테크놀로지 | 포토레지스트 성분을 포함하는 폐유기용제의 처리방법 |
| JP2010523303A (ja) * | 2007-04-04 | 2010-07-15 | レーマン，マルクス | 出発材料の蒸留法及びこの方法を実施するための装置 |
| JP2013153063A (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
| US9165797B2 (en) | 2012-01-25 | 2015-10-20 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus, liquid processing method, and storage medium |
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