JP2002015978A - Exposure system - Google Patents

Exposure system

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JP2002015978A
JP2002015978A JP2000195928A JP2000195928A JP2002015978A JP 2002015978 A JP2002015978 A JP 2002015978A JP 2000195928 A JP2000195928 A JP 2000195928A JP 2000195928 A JP2000195928 A JP 2000195928A JP 2002015978 A JP2002015978 A JP 2002015978A
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memory
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manufacturing
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JP2000195928A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Kobayashi
謙一 小林
Original Assignee
Canon Inc
キヤノン株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a exposure system, capable of smoothly analyzing abnormality in the devise by easily attaching an external memory, in which information on errors on operation log is preserved, from the exposure device and easily enabling a connection to a general-purpose personal computer(PC) or the like. SOLUTION: This device has a second external memory 107 as a memory, dedicated to data log capable of reading the data of errors in the exposure system by means of the general PC, the second external memory 107 can be separated from the inside of this exposure system and the system has a means (such as an uninterruptible power source 108) for preserving detailed data of errors in the second external memory 107, from the occurrence of errors in the exposure system to the stop of the exposure system or after the stoppage of the exposure system.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体等のデバイス製造に用いられるデバイス製造装置、特に露光装置において、装置異常ステータスの格納手段および該異常ステータスの確認手段を有する露光装置に関するものである。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention provides a device manufacturing apparatus used for device fabrication such as semiconductors, particularly in the exposure apparatus, and a exposure apparatus having a check means storing means and the abnormal status of the device anomaly status.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、半導体等の製造に用いられる露光装置では、装置内に複数の計測ユニットや駆動機構があるため装置異常の原因となる要素が数多く存在する。 Conventionally, in an exposure apparatus used for manufacturing a semiconductor or the like, element causing device abnormality there are many because there are multiple measurement unit and drive mechanism in the apparatus. そこで、その異常に関する情報を装置操作部に搭載してあるディスプレイ等に表示することにより、露光装置のオペレータやエンジニアに知らせている。 Therefore, by displaying on a display or the like which are equipped with information about the abnormality in the apparatus operation unit, and notify the operator or engineer of the exposure apparatus. 異常発生時にエンジニアは、そのディスプレイに表示される異常に関する情報を元に異常の状態を把握し、異常箇所の修復等を行っている。 Engineers when an abnormality occurs grasps an abnormal state based on the information about the abnormality is displayed on the display is performed to repair or the like of the abnormal portion. また、露光装置にオペレーションシステム(OS)や異常情報のデータベース、操作ログ、計測データ等の保存用としてハードディスク等の外部メモリを装備しているため、異常ステータスは装置内の外部メモリに格納し、履歴として残してある。 The database of the operating system (OS) and abnormality information to an exposure apparatus, operation log, since equipped with external memory such as a hard disk for the storage of such measurement data, the abnormal status is stored in the external memory in the device, It is left as history. ゆえに、装置異常で露光装置が停止(電源OFF)しても、再起動することで異常ステータスを確認することができる。 Therefore, it is possible to an apparatus abnormality exposure apparatus be stopped (power OFF), to check the abnormal status at the next reboot.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の手法では、装置異常が発生し、その異常が危険度の高い異常と装置制御部が判断すると、装置電源を落とす回路が働き露光装置を停止することがある。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, in the conventional method, apparatus abnormality occurs and the abnormality is judged higher abnormality device controller-risk, to stop the exposure apparatus serves circuit dropping the device power Sometimes. そのため、装置電源が落ちる前に異常ステータスを装置内の外部メモリに格納し履歴として残していても、その異常ステータスを確認するためには、再度露光装置に電源を入れる必要があった。 Therefore, even if left as stores abnormal status before the device power drops in the external memory in the device history, in order to confirm the abnormality status, it is necessary to turn back exposure apparatus. 異常部の修復を行わずに露光装置に電源を入れるのは、異常の程度によっては危険を招く恐れがある。 Put the power to the exposure apparatus without repair of the abnormal portion, depending on the degree of abnormality may lead to danger. また、ディスプレイに異常に関する情報を表示する制御部が起動できない場合や、エラー情報、操作ログ等を確認したい場合には、装置内から外部メモリを取り外し、データを吸い上げることを行う。 Further, and when the control unit for displaying the information about the abnormality on the display can not be started, error information, if you want to check the operation log, etc., remove the external memory from the device, it carries out the siphon data. しかし、この外部メモリは、オペレーションシステム(OS)や異常情報のデータベース、操作ログ、計測データ等を保存できるようにハードディスク等の大容量のものを搭載しており、装置内から取り外し、パソコン(PC)等に接続してデータを取り出すには手間がかかるため、データを解析するまでに時間がかかる。 However, the external memory, an operating system (OS) and abnormality information database, the operation log, equipped with a having a large capacity such as a hard disk so that it can store measurement data, etc., removed from the apparatus, a personal computer (PC ) connected because it takes time to retrieve the data and the like, it takes time to analyze the data.

【0004】また、異常状態によっては、外部メモリに異常ステータスを格納するよりも優先して即座に電源を落とす場合もあるため、異常に関する情報が残らず、露光装置の復旧に時間を費やすことも考えられる。 Further, the abnormal condition, because sometimes powered down immediately in preference to store the abnormal status to the external memory, not left the information about the abnormality, also spend time recovery of the exposure apparatus Conceivable.

【0005】本発明は、上記従来例の問題点に鑑みてなされたものであり、エラーに関する情報や操作ログ等を保存する外部メモリを簡易的に露光装置から取り外しでき、汎用のパソコン等に簡単に接続可能とすることで、 [0005] The present invention has been made in consideration of the above prior art, can remove the external memory from the short exposure device that stores information and operating log or the like about the error, simply in a general-purpose personal computer or the like that it allows connection to,
装置異常の解析をスムーズに行える露光装置を提供することを目的とする。 And an object thereof is to provide an exposure apparatus capable of performing device abnormality analysis smoothly. また、外部メモリに優先して異常ステータスを格納することなく即座に電源を落とす異常状態の場合でも、異常ステータスを外部メモリに格納することを可能にする露光装置を提供することを目的とする。 Another object is to provide even the abnormal state to power down immediately without storing the abnormal status in preference to an external memory, an exposure apparatus makes it possible to store the abnormal status to the external memory.

【0006】 [0006]

【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達成するため、本発明の露光装置は、原版のパターンを基板に露光する露光装置において、前記露光装置におけるエラーの情報を格納でき、汎用パソコンにより読み取ることができるデータログ専用メモリを有し、前記露光装置内から前記データログ専用メモリを分離でき、前記露光装置におけるエラー発生から該露光装置の停止までの間、若しくは該露光装置の停止後に、前記エラーの詳細なデータを前記データログ専用メモリに保存する手段を有することを特徴とする。 To achieve Means and operation for solving the object described above, the exposure apparatus of the present invention is an exposure apparatus that exposes a pattern of an original onto a substrate, can store information about the error in the exposure apparatus, a general-purpose personal computer It has a data logging only memory that can be read by said can separate the data log-only memory from the exposure apparatus, between the error in the exposure apparatus to the stop of the exposure apparatus, or after cessation of exposure apparatus , characterized by having a means for storing detailed data of the error in the data log-only memory. 本構成等により、上記目的を達成できる。 With this configuration, etc., you can achieve the above object.

【0007】本発明においては、前記データログ専用メモリに保存する手段は、前記露光装置が停止するような重大エラーに対して、前記エラーの詳細なデータを前記データログ専用メモリに保存するものであることが好ましい。 [0007] In the present invention, means for storing the data log only memory, in which the exposure apparatus against severe error such as to stop and save the detailed data of the error in the data log-only memory there it is preferable. 本構成等により、重大エラーの再発防止等の問題解決を行うことができる。 With this configuration, etc., it can be performed problem solving recurrence prevention of serious error.

【0008】また、前記露光装置は、前記データログ専用メモリにデータを書き込むCPUが備えられ、少なくとも該データログ専用メモリおよび前記CPUに対して前記露光装置の電源とは別の電源(無停電電源)を有することができる。 Further, the exposure apparatus, the data log-only memory CPU is provided to write data to another of the power supply of at least the exposure apparatus with respect to the data log-only memory and the CPU power supply (UPS ) can have. 本構成等により、露光装置停止後でもデータの保存ができる。 With this configuration, etc., you can store data even after the exposure apparatus is stopped.

【0009】また、前記露光装置には、前記データログ専用メモリおよび前記CPUに対する該露光装置の電源とは別の電源の出力ライン上にノーマリ・オープンタイプのリレーが構成され、前記露光装置に備えられる緊急停止回路(EMO回路)が働いた場合、前記リレーがオープンし、該露光装置に対する電源供給を停止することができる。 Further, in the exposure apparatus, the data log-only memory and normally-open type relay on the output line of another supply of the supply for the exposure apparatus for said CPU is configured, provided in the exposure apparatus emergency stop circuit if (EMO circuit) worked for, the relay opens, it is possible to stop the power supply to the exposure apparatus. 本構成等により、半導体製造装置の安全規格に合致させることができる。 With this configuration, etc., it can be matched with the safety standards of the semiconductor manufacturing device.

【0010】また、前記データログ専用メモリは、前記露光装置にて使用する少なくともオペレーションシステム(OS)、アプリケーション、および計測データのいずれかを保存するための第一の外部メモリとは別に、前記露光装置のエラー情報および操作ログを保存するための第二の外部メモリであることが好ましい。 Furthermore, the data log-only memory, at least operating system used in the exposure apparatus (OS), applications, and apart from the first external memory for storing one of measurement data, the exposure preferably a second external memory for storing the error information and operation log of the apparatus. 本構成等により、小容量のメモリでも保存でき、書き込み回数を軽減できる。 With this configuration, etc., can also be stored in a memory of small capacity, it can reduce the number of writes.

【0011】また、前記エラー情報および前記操作ログは、前記露光装置の異常停止までには至らないエラーの場合、前記第一の外部メモリに保存され、前記露光装置が停止するような重大エラーの場合、自動的に前記第二の外部メモリに保存されることが好ましい。 Further, the error information and the operation log in the case of errors not reach the point abnormal stop of the exposure device, stored in the first external memory, wherein the exposure device is a severe error such as to stop If, it is preferably automatically stored in the said second external memory. 本構成等により、請求項4に記載の露光装置の作用をさらに達成できる。 With this configuration, etc., it can be further achieved the effect of the exposure apparatus according to claim 4.

【0012】また、前記露光装置の動作時、オペレータが装置操作部にて前記第一の外部メモリ内の情報を前記第二の外部メモリに複写できる手段を有することができる。 Further, during operation of the exposure apparatus may have means for operator can copy the information in the first external memory with the device operating unit to the second external memory. 本構成等により、露光装置に関する様々な情報を汎用パソコンで簡易的に取り込み、電子メール等を使用して早急に開発者にデータを送れるようにすることができる。 This configuration etc., a variety of information about the exposure apparatus simplified manner uptake general purpose personal computer may be able to send urgent data developers using e-mail or the like.

【0013】また、前記データログ専用メモリは、汎用ノートパソコンで使用できるPCカードタイプのフラッシュメモリであり、該フラッシュメモリをエラー情報および操作ログの保存に使用することができる。 [0013] In addition, the data log only memory is a flash memory of the PC card type that can be used in general-purpose laptop, it is possible to use the flash memory to store the error information and operation log. 本構成等により、簡易的に、その場でデータの確認を行えるようにすることができる。 This configuration etc., in a simplified manner, it is possible to allow the confirmation of the data on the fly.

【0014】そして、前記第二の外部メモリにデータベースの構築を行い、エラーに関する少なくとも詳細情報および対処法のいずれかが保存されていることが好ましい。 [0014] Then, a construction of the database to the second external memory, it is preferable that at least either details and Action is stored about the error. 本構成等により、露光装置の異常解析を迅速に行うことができる。 With this configuration, etc., it can be performed rapidly abnormality analysis of the exposure apparatus.

【0015】さらに、前記露光装置は、エラー発生により異常を検知する制御部と、該制御部により検知された異常の程度を段階的に判別する手段と、前記異常の程度により該露光装置の電源を停止(OFF)するか否かを判断する手段とを有することができる。 Furthermore, the exposure apparatus includes a control unit for detecting an abnormality due to an error, the power of the means for determining the degree of the detected abnormal by said control unit stepwise, the exposure device by the degree of the abnormality it is possible to have a means for determining whether to stop (OFF). 本構成等により、上記作用と合わせて効果的なデータログ機能を実現することができる。 With this configuration, etc., it is possible to achieve effective data logging in conjunction with the action.

【0016】本発明の露光装置による半導体デバイス製造方法は、前記露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導体デバイスを製造する工程とを有することができる。 [0016] Semiconductor device manufacturing method using the exposure apparatus of the present invention, a semiconductor device by a plurality of processes using a process of installing manufacturing apparatuses for various processes in a semiconductor manufacturing factory, the manufacturing apparatuses including the exposure apparatus It may have a step of manufacturing a.

【0017】また、本発明の半導体デバイス製造方法は、前記製造装置群をローカルエリアネットワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネットワークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの間で、前記製造装置群の少なくとも1台に関する情報をデータ通信する工程とをさらに有することができる。 [0017] The semiconductor device manufacturing method of the present invention, the the steps of the manufacturing apparatuses are connected by a local area network, between said local area network semiconductor manufacturing an external network of the factory, the manufacturing apparatuses It may further include the step of data communicating information about at least one of.

【0018】さらに、本発明の半導体デバイス製造方法は、前記露光装置のベンダ若しくはユーザが提供するデータベースに前記外部ネットワークを介してアクセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情報を得る、 Furthermore, the semiconductor device manufacturing method of the present invention to obtain maintenance information of the manufacturing apparatus to access by the data communication via the external network to a vendor or a database provided by a user of the exposure apparatus,
若しくは前記半導体製造工場とは別の半導体製造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ通信して生産管理を行うことができる。 Or it is possible to perform production management and data communication via the external network with another semiconductor manufacturing factory and the semiconductor manufacturing plant.

【0019】本発明の露光装置を収容する半導体製造工場は、前記露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するローカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネットワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能にするゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも1台に関する情報をデータ通信することを可能にすることができる。 The semiconductor manufacturing plant to accommodate the exposure apparatus of the present invention, a manufacturing apparatus for various processes including the exposure apparatus, and a local area network for connecting the manufacturing apparatuses, factories outside from the local area network has a gateway to allow access to the external network, information about at least one of said manufacturing apparatuses can be can be communicated.

【0020】本発明の露光装置の保守方法は、半導体製造工場に設置された前記露光装置の保守方法であって、 The maintenance method for an exposure apparatus of the present invention is a maintenance method installed in a semiconductor manufacturing factory the exposure apparatus,
前記露光装置のベンダ若しくはユーザが、半導体製造工場の外部ネットワークに接続された保守データベースを提供する工程と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信する工程とを有することができる。 A step vendor or user of the exposure apparatus, to allow providing a maintenance database connected to an external network of the semiconductor manufacturing factory, the access from the semiconductor manufacturing factory to the maintenance database via the external network it can have the step of transmitting maintenance information accumulated in the maintenance database to the semiconductor manufacturing factory via the external network.

【0021】本発明の露光装置は、前記露光装置において、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、 The exposure apparatus of the present invention, in the exposure apparatus, a display, a network interface,
ネットワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさらに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワークを介してデータ通信することを可能にすることができる。 Further comprising a computer for executing network software, and maintenance information of the exposure apparatus can be can be communicated via a computer network.

【0022】さらに、前記ネットワーク用ソフトウェアは、前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接続され前記露光装置のベンダ若しくはユーザが提供する保守データベースにアクセスするためのユーザインタフェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネットワークを介して該データベースから情報を得ることを可能にすることができる。 Furthermore, software for the network, providing a user interface for a vendor or user of the exposure apparatus is connected to an external network of the installed plant the exposure device to access to the maintenance database to provide on said display and it may enable obtaining information from the database via the external network.

【0023】 [0023]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明する。 EXAMPLES Next, examples of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. [第1の実施例]図1は、本発明の第1の実施例に係る半導体等の製造に用いる露光装置の電気回路構成を示すブロック図である。 First Embodiment FIG. 1 is a block diagram showing an electric circuit configuration of an exposure apparatus used for manufacturing a semiconductor or the like according to the first embodiment of the present invention.

【0024】同図において、ワークステーション(EW [0024] In the figure, the workstation (EW
S)101は装置制御部の最上位に位置し、露光装置の制御を行うものであり、EWS用操作パネル部102 S) 101 is located at the top of the apparatus control unit, which controls the exposure apparatus, the operation panel unit 102 for EWS
は、ディスプレイ、キーボード、マウス等から構成されており、露光装置の操作または露光装置に関する情報の表示等を行うマンインターフェイス部である。 A display, a keyboard, are composed of a mouse or the like, a man interface unit for performing display of information about the operation or the exposure device of the exposure apparatus. 103はメインCPUであり、EWS101の下位に位置し、E 103 is the main CPU, located in the lower EWS101, E
WS101からの指令やメインCPU103の動作シーケンスにより装置内の各ユニットを統括し、制御するC Supervises the units in the apparatus by the operation sequence of the command and the main CPU103 from WS101, controls C
PUである。 Is a PU. 104は各ユニット単位の制御部であり、 104 denotes a controller of each unit basis,
ウエハステージ駆動部、フォーカス検出部、搬送系、照明系等のユニットとして構成されている。 Wafer stage drive unit, the focus detection unit, the transport system is configured as a unit of the illumination system or the like. それぞれのユニット制御部104は、上位に位置するメインCPU1 Each unit control section 104, a main CPU1 at an upper level
03からの指令により動作を行っている。 It performs an operation in accordance with a command from the 03.

【0025】105は不揮発性の記憶装置であり、ハードディスク等の外部メモリ(第一の外部メモリ)である。 [0025] 105 is a nonvolatile storage device, an external memory such as a hard disk (first external memory). 該メモリ105内には、オペレーションシステム(OS)やデータベースが構築されており、エラーコード、エラーメッセージ、表示内容(対処方法)、または装置制御のパラメータ、計測値データ、操作ログ等の格納等に用いている。 Within the memory 105, an operating system (OS) and database is built, the error code, error message, the display content of the (Action), or device control parameters, measured value data, to store such as operation logs It is used.

【0026】106は露光装置の電源制御部である。 [0026] 106 is a power supply control unit of the exposure apparatus. 電源制御部106は、装置電源を落とさないと危険を伴うような装置異常が発生した場合、メインCPU103からの指令により、若しくは電源制御部106内で異常を検知して装置電源をシャットダウンする機能を有している。 Power supply control unit 106, if the not drop device power source, such as dangerous device abnormality occurs, by a command from the main CPU 103, or by detecting an abnormality in the power supply control unit within 106 functions to shut down the unit power It has.

【0027】107は外部メモリ105のようにデータを格納するための外部メモリ(第二の外部メモリ)である。 [0027] 107 is an external memory for storing the data as the external memory 105 (second external memory). ここで、第一の外部メモリ105と第二の外部メモリ107との違いを説明する。 Here, explaining the difference between the first external memory 105 and the second external memory 107. 第一の外部メモリ105 The first external memory 105
はデータベース、EWS101、メインCPU103で実行するプログラム、OS等を格納することから大容量の記憶装置が必要となる。 Database, EWS101, a large capacity storage device is required since the store programs to be executed by the main CPU 103, an OS or the like. 例えば、不揮発性の磁気回路並びに磁性材料を用いた記憶装置を使用する。 For example, using a storage device using a nonvolatile magnetic circuit and a magnetic material. 一方、第二の外部メモリ107はエラー情報、操作ログ専用(データログ専用メモリ)であり、小容量でよく、露光装置から手軽に取り外し(分離)でき、また汎用のパソコン(PC)に手軽に接続することが可能(データを読み取ることが可能)なメモリである。 On the other hand, the second external memory 107 is error information, an operation log only (data logging only memory) may be a small capacity, can easily removable from the exposure device (separation), and easily in a general-purpose personal computer (PC) is (can be read data) memory can be connected. 最近のノートパソコンでは、PCカードのスロットが標準化され、PCカードタイプのフラッシュ(FLASH)メモリが汎用として使われていることから、このPCカードのFLASHメモリを用いるのが最適である。 Recent notebook PCs, PC Card slots are standardized, since the PC card type flash (FLASH) memory is used as a general-purpose, it is best to use a FLASH memory of the PC card. 格納するデータ形式は、 Data format to be stored,
どのようなPCからでもエラー情報、操作ログ情報を確認できるようにテキスト形式にするのがよい。 What kind of error information from any PC, it is preferable to text format so that you can confirm the operation log information. また、最近では、大容量のFLASHメモリも出ていることから、アプリケーションやデータベース等の構築を行い、 In addition, recently, from the fact that out also FLASH memory of large capacity, carried out the construction of such applications and databases,
異常ステータスに関する詳細情報や対処法等を予め第二の外部メモリ107内に保存しておく。 Keep in advance in the second external memory 107 an abnormal status of more information and addressing method.

【0028】108は無停電電源(UPS)である。 [0028] 108 is a uninterruptible power supply (UPS). 停電若しくは緊急停止回路が作動した場合に、突然電源が落ちると破損する恐れのある機器の保護電源である。 In the case of power failure or emergency stop circuit is working, which is a protective power of the equipment that could be damaged and the sudden power drop. 例えば、破損する可能性がある機器としては、ワークステーションがある。 For example, equipment may be damaged, there is a workstation. また、本実施例では、ワークステーション101だけでなくメインCPU103、外部メモリ105,107、および電源制御部106もUPS10 Further, in this embodiment, the main CPU103 well workstations 101, external memory 105, 107, and also the power supply control unit 106 UPS 10
8から電力供給する構成としている。 And a power supply configured from 8. 電源制御部106 Power supply control unit 106
に関しては、設備電源と無停電電源108から供給できる構成である。 With respect to a configuration capable of supplying the equipment power source and the uninterruptible power supply 108.

【0029】次に、あるユニット制御部104で異常を検知し、その異常が装置電源を落とす必要のある場合の処理を説明する。 Next, the abnormality is detected in a unit control section 104, the abnormality will be described processing in the case that needs to drop the device power. 図2は、本実施例に係るメインCPU 2, a main CPU according to the embodiment
103がエラー受信した場合の処理フローチャートである。 103 is a processing flowchart in the case where the reception error. 以下、図1および図2を用いて本実施例を説明する。 Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to FIGS.

【0030】あるユニット制御部104で異常を検知した場合、ユニット制御部104は、その異常ステータスを上位に位置するメインCPU103に送信する。 [0030] If an abnormality in a unit control section 104 has detected, the unit control section 104 transmits to the main CPU103 located the abnormal status to the upper. 異常ステータスを受信したメインCPU103は、その異常ステータスの程度を判別する。 The main CPU103 which has received the abnormal status, to determine the extent of the abnormality status. この判別では、装置電源の0FF、電源を落とすまでには至らずに露光装置の停止、ワーニング程度で装置動作継続可能等というように、段階的に判別する(ステップS201)。 The determination in, 0FF of the device power supply, stop of the exposure apparatus not enough until power down, so that the apparatus operates continuously available such as in the order of warning, stepwise determination (step S201).

【0031】ステップS201の判別結果から、ステップS202において装置電源を落とす場合にはステップS205、落とすまでには至らない場合にはステップS [0031] From the result of the determination at step S201, the step in the case of dropping the device power in step S202 S205, step. If not reach the point drop S
203に分岐する(ステップS202にて電源OFFするか否かを判断する)。 Branch to 203 (to determine whether to power OFF in step S202).

【0032】電源OFFに至らない場合(ステップS2 [0032] If you do not reach the power OFF (step S2
02においてNOの場合)には、その異常ステータスを第一の外部メモリ105に格納する(ステップS20 In the case of NO) at 02, and stores the abnormality status in the first external memory 105 (Step S20
3)。 3). この異常ステータスは、第一の外部メモリ105 The abnormal status is first external memory 105
内に上書きせず、履歴として残しておく。 Without overwriting within, leave as a history. その後、ステップS204で装置動作停止を行うために各ユニットに停止指令を出し、その異常ステータスを装置ディスプレイに表示する。 Thereafter, it issues a stop command to each unit in order to perform a device operation stops at step S204, displays the abnormal status to the device display. また、ワーニング程度の場合には、停止指令は出さずに異常ステータスの表示のみを行い、再度通常動作に戻るか、若しくは電源は落とさないが動作は停止する。 In the case of approximately warning performs only the display of the anomaly status without issuing the stop command, to return to normal operation again, or the power is not to drop the operation is stopped.

【0033】次に、装置電源を落とす必要のある重度のエラーと判断した場合(ステップS202においてYE Next, if it is determined that severe errors that need to drop the unit power (YE in step S202
Sの場合)では、装置電源を落とす指令を電源制御部1 In the case of S), the power supply control unit an instruction to drop the device power 1
06に送信する(ステップS205)。 It sends to 06 (step S205). 送信後、ステップS206では、シャットダウンシーケンスに遷移し、 After transmission, in step S206, a transition to the shutdown sequence,
電源が落ちても露光装置に支障が起こらないように、各ユニットに動作停止の指令や通信のソケットクローズ等を行う。 As does not occur any trouble even exposure apparatus powered down, the operation stop command or communication socket close such as to each unit.

【0034】ここで、ステップS205の電源OFF指令を送信した時の電源制御部106の動作を説明する。 [0034] Here, the operation of the power supply control unit 106 when the transmitting power OFF command in step S205.
電源制御部106では、電源OFF指令受信後、すぐに電源を落とさずにタイマカウントし、ある程度のディレイをおいて電源を一方的に落とす。 In the power supply control unit 106, after the power OFF command received, the timer count without immediately powered down, unilaterally powering down at a certain degree of delay. 一方的に落とすのは、メインCPU103の処理終了信号を待つとメインCPU103がはまっていたり、通信系のトラブルが発生した場合に電源が落ちない可能性があるので、確実に落せるようにするためである。 Unilaterally dropping is or are the main CPU 103 is in place and waiting for a processing end signal of the main CPU 103, the power supply when the trouble of the communication has occurred may not fall, in order to ensure washable so it is. このディレイには、メインCPU103のシャットダウン処理を終了できる時間を設定しておく。 This delay, setting the time to end the shutdown process of the main CPU103.

【0035】ステップS206のシャットダウンシーケンス後は、装置電源は落ちていることになる。 [0035] After the shutdown sequence of steps S206 would have fallen in the device power supply. ただし、 However,
ワークステーション101、メインCPU103、第二の外部メモリ107は、装置電源とは別に無停電電源から電力供給しているので、装置電源OFF後も動作可能である。 Workstation 101, the main CPU 103, a second external memory 107, since the power supply from the separate uninterruptible power to the device power supply is operable after device power OFF. ステップS207では、ステップS203とは異なり、異常ステータスを第二の外部メモリ107に格納する。 In step S207, unlike step S203, and stores the abnormality status in the second external memory 107. 以上がユニット制御部104で異常を検知し、 Or detects an abnormality in the unit control section 104,
その異常が装置電源を落とす必要のある場合の処理の説明である。 The abnormality is the description of the process in the case that needs to drop the device power.

【0036】上記した実施例では、異常ステータスのみのデータ格納例を示したが、異常ステータスだけでなく、オペレータがマンインターフェイス部102で操作した履歴(操作ログ)も第二の外部メモリ107に格納する形とする。 [0036] In the above embodiment, although the data storage example of only the abnormal status storage, as well as abnormal status, the history (operation log) also the second external memory 107 operated operator to man interface unit 102 the form to be. この操作履歴は、ワークステーション1 The operation history, workstation 1
01が常時第二の外部メモリ107に格納してもよいし、第二の外部メモリ107への書き込み回数を極力押さえるために、通常は第一の外部メモリ105に書き込んでおき、装置電源を落とすような異常が発生した場合、電源OFF後、無停電電源108の稼動中に第一の外部メモリ105から第二の外部メモリ107にコピーするような形でもよい。 01 may be stored in the second external memory 107 at all times, in order to suppress the number of writes to the second external memory 107 as much as possible, usually keep written into the first external memory 105, dropping the device power If an abnormality such as occurs after power OFF, or from the first external memory 105 during operation of the UPS 108 in a manner to copy to the second external memory 107.

【0037】外部メモリ105,107は、装置操作パネル部(装置操作部)102からの(オペレータによる)操作で第一の外部メモリ105内のデータ(情報) The external memory 105 and 107, data of the first external memory 105 (by the operator) operation from the device operation panel (device operating unit) 102 (information)
を第二の外部メモリ107に複写できる機能(手段)を設けておくことで、装置停止以外の異常ステータスや操作ログ等を必要な時に汎用ノートパソコンに取り込むことができる。 The By keeping ability to replicate (means) provided on the second external memory 107, can be incorporated into a general-purpose laptop when necessary devices other than stopping the abnormal status and operation log and the like. 最近では、電子メール等の情報伝達手段が著しく発達していることから、PCで取り込んだデータをいちはやく開発者の元へ送ることができ、ユーザ先のトラブル対応をスムーズに行える。 In recent years, from the fact that the means of communication such as e-mail has significantly developed, it can send the data captured by the PC promptly to the developers of the original, can be smoothly the user destination of troubleshooting.

【0038】第二の外部メモリ107にデータベース、 [0038] database to the second external memory 107,
アプリケーションを構築し、異常ステータスに関する詳細情報や対処法を事前にメモリ107内に保存しておくことにより、装置修復を行うエンジニアは、PC上でその異常ステータスをキーワードにデータベースにアクセスして詳細情報、対処法を確認できる。 Build applications, by storing in advance in the memory 107 for more information or actions to take on an abnormal status, engineers performing device repair detailed information by accessing the database the abnormality status in the keyword on a PC You can confirm the Remedy. また、汎用ノートパソコンで確認することが可能なので、異常停止した露光装置から第二の外部メモリ107を取り出し、その場でデータの確認ができる。 Further, since it is possible to check the universal laptop, it extracts a second external memory 107 from abnormally stops exposure apparatus can confirm the data on the fly.

【0039】[第2の実施例]上記した第1の実施例においては、メインCPU103がユニット制御部104 [0039] In the first embodiment described Second Embodiment above, the main CPU103 the unit control section 104
から異常ステータスを受信して装置電源OFFし、第二の外部メモリ107に格納する処理動作を説明した。 And device power OFF by receiving the abnormal status from, and explaining the processing operation to be stored in the second external memory 107. 第1の実施例の場合は、装置異常が発生してからユニット制御部104→メインCPU103→電源制御部106 For the first embodiment, units from the apparatus abnormality occurs controller 104 → main CPU 103 → power supply control unit 106
という経路で電源を落とすため、早急に電源を落とす必要のある装置異常の場合には、装置電源が落ちるまで通信時間等のディレイが問題となる。 For powering down a path of, in the case of urgently of a device abnormality necessary to reduce the power, the delay is a problem such as communication time until the device power drops. 例えば、装置内温度を一定に保つための温調器の温調不良や発熱機器の温度上昇を抑制するための冷却液の圧力上昇/低下、冷却水漏れ等は危険性が高いため、早急に露光装置を落とす必要がある。 For example, the cooling fluid pressure increase / reduction in order to suppress an increase in the temperature of the temperature control failure and heating equipment temperature controller for keeping the device within the temperature constant, the cooling water leakage and high risk, urgently it is necessary to reduce the exposure apparatus. 従来では、早急に電源を落とす必要のある装置異常等の検知は、電源制御部106で行っており、検知した際には異常ステータスの保存より優先して早急に電源を落とすようにしている。 Conventionally, detection of the device abnormality that need to urgently powering down is performed by the power control unit 106, upon detection so that drop as soon as possible power in preference to save the abnormal status. 図3は、第2の実施例に係る電源制御部106でエラーを検知した場合の処理フローチャートである。 Figure 3 is a flowchart of processing when an error is detected by the power supply control unit 106 according to the second embodiment. 以下、図1および図3を用いて本実施例を説明する。 Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to FIGS.

【0040】電源制御部106で装置異常を検知(ステップS301)すると、ステップS302で、その異常ステータスにより露光装置の電源を落とすか否かを判断する。 The detecting device abnormality in the power supply control unit 106 (Step S301) Then, in step S302, it is determined whether power down the exposure device by the abnormality status. 電源OFFまでには至らない場合(ステップS3 If the power is not reach the point OFF (step S3
02においてNOの場合)は、異常ステータスをメインCPU103に送信し(ステップS303)、その異常ステータスを受信したメインCPU103は、第1の実施例で示した動作を行う。 In the case of NO) in 02 transmits an abnormal status to the main CPU 103 (step S303), the main CPU 103 which has received the abnormal status, the operation shown in the first embodiment.

【0041】ステップS302において電源OFFと判断した場合(ステップS302においてYESの場合) [0041] If it is determined that the power OFF in step S302 (YES in step S302)
には、メインCPU103、ワークステーション101 , The main CPU103, a work station 101
に電源OFFすることを知らせるための信号(フェール信号)を送る(ステップS304)。 Signal to indicate that the power OFF Send (fail signal) (step S304). その後、ステップS304からステップS305およびステップS308 Thereafter, step S305 and step S308 from step S304
に、ワークステーション101およびメインCPU10 To, work station 101 and the main CPU10
3に電源を落とす信号(フェール信号)を送信する。 Transmitting a signal (fail signal) powering down 3.

【0042】ここで、フェール信号を受信(ステップS [0042] Here, receiving a fail signal (step S
305)したワークステーション側では、操作ログを第二の外部メモリ107に格納(ステップS306)してからシャットダウン(ステップS307)を行う。 The 305) the workstation side, to shut down (Step S307) after storing the operation log to the second external memory 107 (step S306). また、フェール信号を受信(ステップS308)したメインCPU103側では、電源制御部106からの異常ステータスの送信を待つ(ステップS309)。 Further, receiving the fail signal (step S308) in the main CPU103 side, waits for transmission of the abnormality status from the power control unit 106 (step S309).

【0043】再び電源制御部106側を説明すると、ステップS304のフェール信号送信後は、装置電源をO [0043] Referring again to explain the power source control unit 106 side, after fail signal transmitted in step S304 is a device power O
FF(ステップS310)し、異常ステータスをメインCPU103に送信(ステップS311)する。 And FF (step S310), and transmits the abnormal status to the main CPU 103 (step S311). 受信したメインCPU103では(ステップS309においてYESの場合)、その異常ステータスを第二の外部メモリ107に格納(ステップS312)して(データを書き込む)処理を終了する。 (YES in step S309) the main CPU103 in the received and ends the abnormality status stored in the second external memory 107 (step S312) to (write data) processing. また、ステップS309において、異常ステータスの受信がなければ、異常ステータスを待つ(NOのループ)。 Further, in step S309, the if there is no reception of the abnormal status, it waits for abnormal status (NO loop).

【0044】異常ステータスを送信した電源制御部10 [0044] The power supply control section 10 transmits an abnormal status
6側のステップS311では、その後ある程度のディレイをおいて(ステップS313)から無停電電源108 In step S311 of 6 side, then at a certain delay (step S313) from the uninterruptible power supply 108
をシャットダウンさせる(ステップS314)。 To shut down (step S314). このディレイは、ワークステーション101のシャットダウン(ステップS307)とメインCPU103による異常ステータスの格納(ステップS312)ができる程度のディレイをおく必要がある。 This delay has to place the delay enough to allow storage of abnormal status and shutdown the workstation 101 (step S307) by the main CPU 103 (step S312). または、ワークステーション101、メインCPU103からの終了信号を受信してから無停電電源108を落とす形でもよい。 Or, workstation 101, may be in the form of dropping the uninterruptible power supply 108 from the reception of the completion signal from the main CPU 103.

【0045】[第3の実施例]上記した第1および第2 The first and second were Third Embodiment above
の実施例では、オペレータが緊急停止回路を作動させた場合を考慮しておらず、メインCPU103、外部メモリ105,107を無停電電源108から電力供給する構成としているため、緊急停止回路が作動した場合でもメインCPU103、外部メモリ105,107は動作している。 In the embodiment, the operator does not take into account when operated emergency stop circuit, the main CPU 103, because of the power supplies constituting the external memory 105, 107 from the uninterruptible power supply 108, the emergency stop circuit is activated even if the main CPU103, the external memory 105 and 107 are operating. しかし、緊急停止回路が作動した場合には、 However, if the emergency stop circuit is activated,
装置内に電力供給をしてはならず、動作するユニットがあってはいけないという露光装置の安全規格に反することになる。 It must not supplying power to the device, which detracts from the safety standard of the exposure device that should not have an unit operating. そこで、第3の実施例として、緊急停止回路を考慮した場合を説明する。 Therefore, as a third embodiment, a case in consideration of the emergency stop circuit. 図4は、第3の実施例に係る緊急停止回路を考慮した露光装置の電気回路構成を示すブロック図である。 Figure 4 is a block diagram showing an electric circuit configuration of an exposure apparatus in consideration of an emergency stop circuit according to the third embodiment.

【0046】図4の301〜308の説明は、上記説明した図1と同じなので省略し、図1と異なる構成の部分について説明する。 [0046] Description of 301 to 308 of Figure 4 is the same as FIG. 1 described above is omitted, a description will be given of a part of the configuration different from that of FIG. 309は緊急停止回路(EMO回路)であり、設備からの電源からDC24Vに変換する回路である。 309 is an emergency stop circuit (EMO circuit) is a circuit for converting the power from the facility to DC24V. 緊急停止回路309から出力するDC24 Output from the emergency stop circuit 309 DC24
Vラインは、図4に示すように本体電源ラインをON/ V line, ON a main power supply line as shown in FIG. 4 /
OFFするためのリレー310と、無停電電源308からの出力ラインをON/OFFするためのリレー311 A relay 310 for OFF, ON for turning ON / OFF the output line from the UPS 308 relay 311
の制御側を経由し、オペレータが露光装置を緊急停止させるための緊急停止SW312を経由している。 Via the control side, the operator is via the emergency stop SW312 for an emergency stop of the exposure apparatus. リレー311を有する無停電電源308の出力ラインの先には、メインCPU303、外部メモリ305,307が接続してある。 The previous output line of the uninterruptible power supply 308 having a relay 311, the main CPU 303, the external memory 305 and 307 is connected. ワークステーション(EWS)301 Workstation (EWS) 301
は、動作中に電源が突然落ちると破損する恐れがあるため、緊急停止回路309が働いても電源供給できるようにリレーを介していない。 Because there is a risk of damage to the power supply suddenly drops during operation, not via the relay to allow the power supply be worked emergency stop circuit 309. また、リレー310,311 In addition, the relay 310, 311
は、ノーマリ・オープンタイプのリレーを使用する。 It is, to use the normally-open type of relay.

【0047】オペレータが緊急停止SW312を押すとDC24Vラインがきれ、各リレー310,311はオープンするので、装置本体への電力供給と無停電電源3 The operator has expired is DC24V line by pressing the emergency stop SW312, because each relay 310 and 311 which can be opened, power supply to the device body and the uninterruptible power supply 3
08からの出力をカットすることができる。 The output from the 08 can be cut. ゆえに、緊急停止回路309が作動した場合には、メインCPU3 Therefore, when the emergency stop circuit 309 is activated, the main CPU3
03、外部メモリ305,307を停止することができ、露光装置の安全規格を満たすことが可能となる。 03, it is possible to stop the external memory 305, 307, it is possible to satisfy the safety standards of the exposure apparatus.

【0048】[半導体生産システムの実施例]次に、上記説明した露光装置を利用した半導体等のデバイス(I [0048] [Example of Semiconductor Production System] Next, a semiconductor or the like uses an exposure apparatus described above the device (I
CやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の生産システムの例を説明する。 C and LSI such as a semiconductor chip, a liquid crystal panel, CCD, thin film magnetic head, an example of a micromachine, etc.) will be described. これは、半導体製造工場に設置された製造装置のトラブル対応や定期メンテナンス、若しくはソフトウェア提供等の保守サービスを、製造工場外のコンピュータネットワーク等を利用して行うものである。 This trouble remedy or periodic maintenance of a manufacturing apparatus installed in a semiconductor manufacturing factory, or maintenance service software provision, is performed by utilizing a computer network outside the manufacturing factory or the like.

【0049】図5は、全体システムをある角度から切り出して表現したものである。 [0049] Figure 5 is obtained by seen from a certain angle the entire system. 図中、501は半導体デバイスの製造装置を提供するベンダ(装置供給メーカ)の事業所である。 In the figure, 501 denotes a business office of a vendor that provides semiconductor device manufacturing apparatus (device supply manufacturer). 製造装置の実例として、半導体製造工場で使用する各種プロセス用の半導体製造装置、例えば、 Examples of the manufacturing apparatus are semiconductor manufacturing apparatuses for various processes used in a semiconductor manufacturing factory, for example,
前工程用機器(露光装置、レジスト処理装置、エッチング装置等のリソグラフィ装置、熱処理装置、成膜装置、 Before process apparatuses (exposure apparatus, resist processing apparatus, an etching apparatus, an annealing apparatus, film formation apparatus,
平坦化装置等)や後工程用機器(組立て装置、検査装置等)を想定している。 It assumes a planarization apparatus, and the like) and post-process apparatuses (assembly apparatus, inspection apparatus, etc.). 事業所501内には、製造装置の保守データベースを提供するホスト管理システム50 In the office 501, the host management system 50 for providing a maintenance database for the manufacturing apparatus
8、複数の操作端末コンピュータ510、これらを結んでイントラネット等を構築するローカルエリアネットワーク(LAN)509を備える。 8, comprise a local area network (LAN) 509 to construct an intranet and the like by connecting a plurality of operation terminal computers 510, these. ホスト管理システム5 The host management system 5
08は、LAN509を事業所の外部ネットワークであるインターネット505に接続するためのゲートウェイと、外部からのアクセスを制限するセキュリティ機能を備える。 08 has a gateway for connecting the LAN509 Internet 505 as an external network of the business office, and a security function for limiting external accesses.

【0050】一方、502〜504は、製造装置のユーザとしての半導体製造メーカの製造工場である。 On the other hand, 502 to 504 denote manufacturing factories of the semiconductor manufacturer as users of manufacturing apparatuses. 製造工場502〜504は、互いに異なるメーカに属する工場であってもよいし、同一のメーカに属する工場(例えば、前工程用の工場、後工程用の工場等)であってもよい。 Manufacturing plant 502 to 504 may be a plant belonging to different manufacturers, plants belonging to the same maker (e.g., a factory for pre-process factory and the like for post-process) may be used. 各工場502〜504内には、夫々、複数の製造装置506と、それらを結んでイントラネット等を構築するローカルエリアネットワーク(LAN)511と、各製造装置506の稼動状況を監視する監視装置としてホスト管理システム507とが設けられている。 Within each plant 502-504, respectively, and a plurality of manufacturing apparatuses 506, the host and a local area network (LAN) 511 to construct an intranet or the like connects these, as a monitoring apparatus for monitoring the operation status of each manufacturing apparatus 506 and management system 507 is provided. 各工場5 Each factory 5
02〜504に設けられたホスト管理システム507 The host management system 507 provided in the 02-504
は、各工場内のLAN511を工場の外部ネットワークであるインターネット505に接続するためのゲートウェイを備える。 It has a gateway for connecting the LAN511 in each factory to Internet 505 as an external network of the factory. これにより各工場のLAN511からインターネット505を介してベンダ501側のホスト管理システム508にアクセスが可能となり、ホスト管理システム508のセキュリティ機能によって限られたユーザだけがアクセスが許可となっている。 This can access the host management system 508 of the vendor 501 side through the Internet 505 from LAN511 each plant, only a limited user by the security function of the host management system 508 has authorizes access. 具体的には、 In particular,
インターネット505を介して、各製造装置506の稼動状況を示すステータス情報(例えば、トラブルが発生した製造装置の症状)を工場側からベンダ側に通知する他、その通知に対応する応答情報(例えば、トラブルに対する対処方法を指示する情報、対処用のソフトウェアやデータ)や、最新のソフトウェア、ヘルプ情報等の保守情報をベンダ側から受け取ることができる。 Via the internet 505, status information indicating the operation status of each manufacturing apparatus 506 (e.g., the symptom of a manufacturing apparatus in trouble) addition to notifying the vendor side from the factory, response information (e.g., information designating a remedy against the trouble, or remedy software or data), it is possible to receive the latest software, the maintenance information such as help information from the vendor side. 各工場5 Each factory 5
02〜504とベンダ501との間のデータ通信および各工場内のLAN511でのデータ通信には、インターネットで一般的に使用されている通信プロトコル(TC The data communication LAN511 data communications and in each plant between 02-504 and vendor 501, Internet commonly used communication protocol (TC
P/IP)が使用される。 P / IP) is used. なお、工場外の外部ネットワークとしてインターネットを利用する代わりに、第三者からのアクセスができずにセキュリティの高い専用線ネットワーク(ISDN等)を利用することもできる。 Instead of using the Internet as an external network of the factory, it is also possible to utilize a highly secure dedicated network (ISDN or the like) can not be accessed by a third party. また、ホスト管理システムはベンダが提供するものに限らずユーザがデータベースを構築して外部ネットワーク上に置き、ユーザの複数の工場から該データベースへのアクセスを許可するようにしてもよい。 The host management system on an external network to construct a user database is not limited to the one provided by the vendor, or may be from a plurality of factories of the user to authorize access to the database.

【0051】さて、図6は、本実施形態の全体システムを図5とは別の角度から切り出して表現した概念図である。 [0051] Now, FIG. 6 is a conceptual diagram expressing cut at a different angle from FIG. 5 of the overall system of this embodiment. 先の例では、それぞれが製造装置を備えた複数のユーザ工場と、該製造装置のベンダの管理システムとを外部ネットワークで接続して、該外部ネットワークを介して各工場の生産管理や少なくとも1台の製造装置の情報をデータ通信するものであった。 In the above example, a plurality of user factories each with the manufacturing apparatus vendor are connected via the management system of the manufacturing apparatus in the external network, production management and at least one of each plant via the external network was information of the manufacturing apparatus can be data communicated. これに対し本例は、複数のベンダの製造装置を備えた工場と、該複数の製造装置のそれぞれのベンダの管理システムとを工場外の外部ネットワークで接続して、各製造装置の保守情報をデータ通信するものである。 In the example of FIG This a factory having manufacturing apparatuses of a plurality of vendors, by connecting the management system of each vendor of the plurality of manufacturing apparatuses in an external network of the factory, and maintenance information of each manufacturing apparatus it is intended to data communication. 図中、601は製造装置ユーザ(半導体デバイス製造メーカ)の製造工場であり、工場の製造ラインには各種プロセスを行う製造装置、ここでは例として露光装置602、レジスト処理装置603、 In the figure, 601 denotes a manufacturing factory of a manufacturing apparatus user (semiconductor device manufacturer), factory manufacturing apparatuses for various processes, the production line, where the exposure apparatus 602 as an example, resist processing apparatus 603,
成膜処理装置604が導入されている。 Thin film deposition apparatus 604 has been introduced. なお、図6では、製造工場601は1つだけ描いているが、実際は複数の工場が同様にネットワーク化されている。 In FIG. 6, the manufacturing plant 601 depicts only one actually are networked plural factories. 工場内の各装置はLAN606で接続されてイントラネット等を構成し、ホスト管理システム605で製造ラインの稼動管理がされている。 Each device in the factory are connected to constitute an intranet or the like with LAN606, which manages the operation of the manufacturing line and a host management system 605. 一方、露光装置メーカ610、レジスト処理装置メーカ620、成膜装置メーカ630等、 On the other hand, the exposure apparatus manufacturer 610, resist processing apparatus manufacturer 620, film formation apparatus manufacturer 630 or the like,
ベンダ(装置供給メーカ)の各事業所には、それぞれ供給した機器の遠隔保守を行うためのホスト管理システム611,621,631を備え、これらは上述したように保守データベースと外部ネットワークのゲートウェイを備える。 Each office of a vendor (apparatus supply manufacturer), comprises a host management system 611, 621, 631 for performing remote maintenance for the supplied apparatuses. Each of these has a maintenance database and a gateway for an external network, as described above . ユーザの製造工場内の各装置を管理するホスト管理システム605と、各装置のベンダの管理システム611,621,631とは、外部ネットワーク60 The host management system 605 for managing the apparatuses in the manufacturing factory of the user, the management system 611, 621, 631 of the vendor of the devices are, external network 60
0であるインターネット若しくは専用線ネットワークによって接続されている。 Are connected via the Internet or dedicated network is zero. このシステムにおいて、製造ラインの一連の製造機器の中のどれかにトラブルが起きると、製造ラインの稼動が休止してしまうが、トラブルが起きた機器のベンダからインターネット600を介した遠隔保守を受けることで迅速な対応が可能で、製造ラインの休止を最小限に抑えることができる。 In this system, when trouble occurs in any one of a series of manufacturing equipment of the production line, but the operation of the manufacturing line stops, subject to remote maintenance via the Internet 600 from the vendor of the trouble has occurred equipment it can respond quickly that, it is possible to minimize the rest of the production line.

【0052】半導体製造工場に設置された各製造装置はそれぞれ、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、記憶装置にストアされたネットワークアクセス用ソフトウェアならびに装置動作用のソフトウェアを実行するコンピュータを備える。 [0052] Semiconductor manufacturing each Each manufacturing apparatus installed in the factory, a display, a network interface, software for network access stored in a storage device and a computer that executes the software and apparatus operating. 記憶装置としては内蔵メモリやハードディスク、若しくはネットワークファイルサーバ等である。 The storage device built-in memory, hard disk, or a network file server or the like. 上記ネットワークアクセス用ソフトウェアは、専用又は汎用のウェブブラウザを含み、例えば図7に一例を示す様な画面のユーザインタフェースをディスプレイ上に提供する。 The network access software includes a dedicated or general-purpose web browser, provides a user interface having a window as shown in FIG. 7, for example on the display. 各工場で製造装置を管理するオペレータは、画面を参照しながら、製造装置の機種70 The operator who manages manufacturing apparatuses in each factory, with reference to the screen, the production apparatus model 70
1、シリアルナンバー702、トラブルの件名703、 1, serial number 702, subject of trouble 703,
発生日704、緊急度705、症状706、対処法70 Date 704, degree of urgency 705, symptom 706, remedy 70
7、経過708等の情報を画面上の入力項目に入力する。 7, input information such as the elapsed 708 to an input field on the screen. 入力された情報はインターネットを介して保守データベースに送信され、その結果の適切な保守情報が保守データベースから返信されディスプレイ上に提示される。 The input information is transmitted to the maintenance database via the Internet, and appropriate maintenance information is sent back from the maintenance database and displayed on the display. また、ウェブブラウザが提供するユーザインタフェースは、さらに図示のごとくハイパーリンク機能71 The user interface provided by the web browser, further as shown in the drawing hyperlinking 71
0,711,712を実現し、オペレータは各項目の更に詳細な情報にアクセスしたり、ベンダが提供するソフトウェアライブラリから製造装置に使用する最新バージョンのソフトウェアを引出したり、工場のオペレータの参考に供する操作ガイド(ヘルプ情報)を引出したりすることができる。 Achieves 0,711,712, the operator to access more detailed information of each item, to extract the latest version of software to be used for a manufacturing apparatus from a software library provided by the vendor, a reference for the operator in the factory operation guide can be or drawer (help information). ここで、保守データベースが提供する保守情報には、上記説明した本発明に関する情報も含まれ、また前記ソフトウェアライブラリは本発明を実現するための最新のソフトウェアも提供する。 Here, the maintenance information provided by the maintenance database includes the information concerning the present invention described above is also included, The software library also provides the latest software for implementing the present invention.

【0053】次に、上記説明した生産システムを利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。 Next, a manufacturing process of a semiconductor device using the production system described above. 図8は、 Figure 8,
半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。 It shows the flow of the whole manufacturing process of a semiconductor device. ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。 In step 1 (circuit design), a semiconductor device circuit is designed. ステップ2(マスク製作)では設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。 Step 2 is a process for making a mask on the basis of the circuit pattern design (mask fabrication). 一方、ステップ3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。 On the other hand, a wafer is manufactured using a material such as silicon at step 3 (wafer manufacture). ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。 Step 4 (wafer process) called a pre-process wherein, by using the mask and wafer that have been prepared, forms actual circuitry on the wafer through lithography. 次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、 The next step 5 (assembly) called a post-process, a semiconductor chip the wafer formed in Step 4 and includes an assembly step (dicing,
ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組立て工程を含む。 Bonding), a packaging step (chip encapsulation). ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。 Step 6 (inspection) performs various tests for the semiconductor device manufactured in step 5, a durability check and perform. こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷(ステップ7)する。 The semiconductor device is completed with these processes and shipped (step 7). 前工程と後工程はそれぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎に上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされる。 Performed in pre-process and post-process are separate dedicated factories, and maintenance is done by these the above-described remote maintenance system for each plant. また、前工程工場と後工程工場との間でも、 In addition, between the pre-process factory and the post-process factory,
インターネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や装置保守のための情報等がデータ通信される。 Information, etc. for production management and apparatus maintenance is communicated via the Internet or dedicated network.

【0054】図9は、上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。 [0054] Figure 9 shows a detailed flow of the wafer process. ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化させる。 In step 11 (oxidation), the wafer surface is oxidized. ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。 Step 12 of forming an insulating film on the wafer surface (CVD). ステップ13(電極形成)ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。 The electrode is formed by vapor deposition step 13 (electrode formation) on the wafer. ステップ14(イオン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。 Step 14 (ion implantation), ions are implanted into the wafer. ステップ1 Step 1
5(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。 5 (resist processing), the wafer is coated with a photosensitive agent. ステップ16(露光)では上記説明した露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。 The circuit pattern of the mask by the step 16 (exposure), the above-mentioned exposure apparatus exposes the wafer. ステップ17(現像)では露光したウエハを現像する。 In step 17 (development) develops the exposed wafer. ステップ18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。 In step 18 (etching), portions other than the developed resist image. ステップ19(レジスト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。 In step 19 (resist stripping) removes unused resist after etching. これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。 By repeating these steps, multiple circuit patterns are formed on the wafer. 各工程で使用する製造機器は上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もしトラブルが発生しても迅速な復旧が可能で、従来に比べて半導体デバイスの生産性を向上させることができる。 A manufacturing apparatus used in each step undergoes maintenance by the remote maintenance system described above has been made, the prevent problems if trouble can be quickly recovered occurs, the semiconductor device as compared with the conventional thereby improving the productivity.

【0055】 [0055]

【発明の効果】以上説明したように、本出願に係る第1 As described above, according to the present invention, first according to the application
の発明によれば、装置が停止するような重大エラーに関して、エラー発生後に装置停止までの間、若しくは停止後にエラーの詳細データを保存する機能(手段)を設け、また装置停止状態においても装置内からメモリを分離でき、汎用PCによりエラーデータを読み取ることができるデータログ専用メモリを用いることで、データ解析に時間がかかる等の従来の問題を解決できる。 According to the invention, for severe error such devices is stopped, an error until device stops after the occurrence, or the ability to save the details of the error data after stop (means) provided, also inside the device also in the device stopped from it can separate memory, by using the data logging only memory capable of reading the error data by a general PC, can solve the conventional problems such as it takes time for data analysis.

【0056】本出願に係る第2の発明によれば、露光装置が停止するような重大エラーに対してエラーの詳細なデータをデータログ専用メモリに保存する手段により、 According to the second invention according to the [0056] present application, the means for storing detailed data of the error in the data log only memory against severe error such as an exposure apparatus is stopped,
異常に関する情報が残らず、露光装置の復旧に時間を費やす等の問題を回避することが可能となる。 Not remain infos abnormality, it is possible to avoid problems such as spend time recovery of the exposure apparatus.

【0057】本出願に係る第3の発明によれば、エラーの詳細データを保存する手段において、少なくともデータログ専用メモリと該データログ専用メモリにデータを書き込むCPUを装置電源と別の電源(UPS)から電力供給することで、第1の発明である装置停止後のデータ保存を可能にする。 According to a third aspect of the [0057] present application, the means for storing detailed data of the error, device CPU to write data to at least the data log-only memory and the data logging only memory power supply and another supply (UPS ) from it to power, to enable data storage after stopping the apparatus, which is the first invention.

【0058】本出願に係る第4の発明によれば、緊急停止回路(EMO)が働いた場合において、前記データログ専用メモリ、前記CPUの別電源供給を停止する機能を設けることで、半導体製造装置の安全規格を満たした第1の発明を簡便に構成できる。 According to the fourth invention according to the [0058] present application, in the case of an emergency stop circuit (EMO) is worked, by providing a function for stopping the data logging only memory, another power supply of the CPU, semiconductor manufacturing the first invention that meets safety standards of the apparatus can be simply configured.

【0059】本出願に係る第5の発明によれば、前記データログ専用メモリを露光装置で使用するOS、アプリケーション、計測データの保存用の第1外部メモリとは別に装置のエラーデータ、操作ログを保存するための第2の外部メモリとすることで、小容量のメモリでも保存でき、書き込み回数を軽減できる。 [0059] According to the fifth aspect of the present application, OS to use the data log-only memory in the exposure apparatus, application, error data separately apparatus from the first external memory for storage of measurement data, operation log with the second external memory for storing even be saved in memory of small capacity, it can reduce the number of writes.

【0060】本出願に係る第6の発明によれば、装置停止までには至らないエラーは、OS、アプリケーション等のメモリに保存し、装置停止するような重大エラーは、装置停止後、自動的にエラー情報、操作ログを第2 According to the sixth invention according to the [0060] present application, the error does not reach the point apparatus stops stores OS, in a memory such as an application, severe error such as device stop after stopping the apparatus, automatically error information to, the operation log second
の専用メモリに保存することで、第5の発明をさらに達成することができる。 By saving the dedicated memory can further achieve the fifth invention.

【0061】本出願に係る第7の発明によれば、装置動作時に、オペレータが装置操作部にて第1外部メモリ内の情報を第2外部メモリに複写できる機能を設けることで、露光装置に関する様々な情報を汎用PCで簡易的に確認できる。 According to the seventh invention according to the [0061] present application, during the apparatus operation, when the operator is provided with a function of the information in the first external memory at device operating unit can copied to the second external memory, an exposure apparatus a variety of information simplified manner can be confirmed by a general-purpose PC. また、電子メール等を使用して早急に開発者にデータを送れるようになり、情報伝達をスムーズに行える。 In addition, by using e-mail or the like will be able to send as soon as possible data to developers, can perform information transmission smoothly.

【0062】本出願に係る第8の発明によれば、汎用ノートパソコンで使用できるPCカードタイプのFLAS According to the eighth invention according to the [0062] present application, FLAS the PC card type that can be used in general-purpose laptop
Hメモリをエラー情報、操作ログの保存に使用することで、簡易的に、その場でデータの確認を行えるようなる。 H Memory error information, that used to store the operation log, in a simplified manner, so as to enable the confirmation of the data on the fly.

【0063】本出願に係る第9の発明によれば、第2外部メモリにおいて、エラーデータベースの構築によりエラーに関する詳細情報、対処法等を保存しておくことで、装置異常解析を迅速に行えるようになる。 According to a ninth aspect of the [0063] present application, in the second external memory, detailed information about the error by the error's construction database By saving remedy like, quickly perform such a device abnormality analysis become.

【0064】本出願に係る第10の発明によれば、異常の程度を段階的に判別する手段や露光装置の電源をOF [0064] According to the tenth invention of the present application, the power means and the exposure apparatus for determining the degree of abnormality stepwise OF
Fするか否かを判断する手段等により、上記効果と合わせてさらに効果的なデータログ機能を有する露光装置を提供できる。 By means such as determining whether to F, it can provide an exposure apparatus having a more efficient data logging together with the effects.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】 本発明の第1の実施例に係る露光装置の電気回路構成を示すブロック図である。 1 is a block diagram showing the electrical circuit configuration of an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1におけるメインCPUがエラー受信した場合の処理フローチャートである。 [2] The main CPU in Fig. 1 is a process flow chart in the case where the reception error.

【図3】 第2の実施例に係る電源制御部でエラーを検知した場合の処理フローチャートである。 3 is a flowchart of processing when an error is detected by the power supply control unit according to the second embodiment.

【図4】 第3の実施例に係る緊急停止回路を考慮した半導体露光装置内電気ブロック図である。 4 is a semiconductor exposure device in an electrical block diagram considering an emergency stop circuit according to the third embodiment.

【図5】 本発明の一実施例に係る露光装置を含む半導体デバイスの生産システムをある角度から見た概念図である。 5 is a conceptual view seen from a certain angle a production system for a semiconductor device including an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の一実施例に係る露光装置を含む半導体デバイスの生産システムを別の角度から見た概念図である。 6 is a conceptual view of the production system for a semiconductor device from a different angle including an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の一実施例に係る露光装置を含む半導体デバイスの生産システムにおけるユーザインタフェースの具体例を示す図である。 7 is a diagram showing a specific example of a user interface in the production system for a semiconductor device including an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の一実施例に係る露光装置によるデバイスの製造プロセスのフローを説明する図である。 8 is a diagram illustrating the flow of manufacturing process of a device by the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の一実施例に係る露光装置によるウエハプロセスを説明する図である。 9 is a diagram for explaining a wafer process by an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

101,301:ワークステーション、102,30 101 and 301: workstation, 102,30
2:操作パネル部、103,303:メインCPU、1 2: Operation panel unit, 103,303: a main CPU, 1
04,304:ユニット制御部、105,305:第1 04,304: unit controller, 105 and 305: first
外部メモリ、106,306:電源制御部、107,3 External memory, 106,306: the power supply control unit, 107,3
07:第2外部メモリ、108,308:無停電電源、 07: second external memory, 108, 308: The uninterruptible power supply,
309:緊急停止回路(EM0)、310,311:リレー、S312:緊急停止SW、501:ベンダの事業所、502,503,504:製造工場、505:インターネット、506:製造装置、507:工場のホスト管理システム、508:ベンダ側のホスト管理システム、509:ベンダ側のローカルエリアネットワーク(LAN)、510:操作端末コンピュータ、511: 309: emergency stop circuit (EM0), 310,311: relay, S312: emergency stop SW, 501: office of the vendor, 502, 503, 504: manufacturing plant, 505: Internet, 506: manufacturing equipment, 507: factory the host management system, 508: vendor side of the host management system 509: a local area network vendor side (LAN), 510: operation terminal computer 511:
工場のローカルエリアネットワーク(LAN)、60 Factory of the local area network (LAN), 60
0:外部ネットワーク、601:製造装置ユーザの製造工場、602:露光装置、603:レジスト処理装置、 0: External Network, 601: manufacturing apparatus user fabrication factory, 602: exposure apparatus, 603: resist processing apparatus,
604:成膜処理装置、605:工場のホスト管理システム、606:工場のローカルエリアネットワーク(L 604: thin film deposition apparatus, 605: plant host management system 606: factory local area network (L
AN)、610:露光装置メーカ、611:露光装置メーカの事業所のホスト管理システム、620:レジスト処理装置メーカ、621:レジスト処理装置メーカの事業所のホスト管理システム、630:成膜装置メーカ、 AN), 610: exposure apparatus manufacturer 611: exposure apparatus maker offices host management system 620: resist processing apparatus manufacturer, 621: resist processing apparatus manufacturer Plant host management system 630: deposition apparatus manufacturer,
631:成膜装置メーカの事業所のホスト管理システム、701:製造装置の機種、702:シリアルナンバー、703:トラブルの件名、704:発生日、70 631: the film-forming apparatus maker office of the host management system, 701: information such as the type of manufacturing apparatus, 702: serial number, 703: subject of trouble, 704: Date, 70
5:緊急度、706:症状、707:対処法、708: 5: urgency, 706: Symptoms, 707: Remedy, 708:
経過、710,711,712:ハイパーリンク機能。 Elapsed, 710,711,712: hyper link function.

Claims (17)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 原版のパターンを基板に露光する露光装置において、 前記露光装置におけるエラーの情報を格納でき、汎用パソコンにより読み取ることができるデータログ専用メモリを有し、 前記露光装置内から前記データログ専用メモリを分離でき、 前記露光装置におけるエラー発生から該露光装置の停止までの間、若しくは該露光装置の停止後に、前記エラーの詳細なデータを前記データログ専用メモリに保存する手段を有することを特徴とする露光装置。 1. A exposure apparatus for exposing a pattern of an original onto a substrate, can store information about the error in the exposure apparatus has a data logging only memory which can be read by a general-purpose personal computer, the data from the exposure apparatus can separate log-only memory, between the error in the exposure apparatus to the stop of the exposure apparatus, or after cessation of exposure apparatus, having means for storing detailed data of the error in the data log-only memory exposure apparatus according to claim.
  2. 【請求項2】 前記データログ専用メモリに保存する手段は、前記露光装置が停止するような重大エラーに対して、前記エラーの詳細なデータを前記データログ専用メモリに保存するものであることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 Wherein means for storing the data log only memory, that against severe error such as the exposure apparatus is stopped, is to store the detailed data of the error in the data log-only memory an apparatus according to claim 1, wherein.
  3. 【請求項3】 前記露光装置は、前記データログ専用メモリにデータを書き込むCPUが備えられ、少なくとも該データログ専用メモリおよび前記CPUに対して前記露光装置の電源とは別の電源を有することを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。 Wherein the exposure apparatus, the data log-only memory CPU is provided to write data to, to have a separate power supply from the power source of the exposure device for at least the data logging only memory and said CPU an apparatus according to claim 1 or 2, characterized.
  4. 【請求項4】 前記露光装置には、前記データログ専用メモリおよび前記CPUに対する該露光装置の電源とは別の電源の出力ライン上にノーマリ・オープンタイプのリレーが構成され、 前記露光装置に備えられる緊急停止回路が働いた場合、 The method according to claim 4, wherein the exposure apparatus, the data log-only memory and normally-open type relay on the output line of another supply of the supply for the exposure apparatus for said CPU is configured, provided in the exposure apparatus If the emergency stop circuit is activated to be,
    前記リレーがオープンし、該露光装置に対する電源供給を停止することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の露光装置。 The relay is open, the exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3, characterized in that stops the power supply to the exposure apparatus.
  5. 【請求項5】 前記データログ専用メモリは、前記露光装置にて使用する少なくともオペレーションシステム、 Wherein said data log only memory, at least operating system used in the exposure apparatus,
    アプリケーション、および計測データのいずれかを保存するための第一の外部メモリとは別に、前記露光装置のエラー情報および操作ログを保存するための第二の外部メモリであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の露光装置。 Application, and apart from the first external memory for storing one of the measured data, claims, characterized in that a second external memory for storing the error information and operation log of the exposure apparatus An apparatus according to any one of 1 to 4.
  6. 【請求項6】 前記エラー情報および前記操作ログは、 Wherein said error information and the operation log,
    前記露光装置の異常停止までには至らないエラーの場合、前記第一の外部メモリに保存され、前記露光装置が停止するような重大エラーの場合、自動的に前記第二の外部メモリに保存されることを特徴とする請求項1〜5 For errors that do not reach the point abnormal stop of the exposure device, stored in the first external memory, if severe error such as the exposure apparatus is stopped, automatically saved to the second external memory claim, characterized in Rukoto 1-5
    のいずれかに記載の露光装置。 An apparatus according to any one of.
  7. 【請求項7】 前記露光装置の動作時、オペレータが装置操作部にて前記第一の外部メモリ内の情報を前記第二の外部メモリに複写できる手段を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の露光装置。 7. In operation of the exposure apparatus, according to claim 1 in which the operator is characterized in that it comprises means capable of copying the information in the first external memory with the device operating unit to the second external memory An apparatus according to any one of 6.
  8. 【請求項8】 前記データログ専用メモリは、汎用ノートパソコンで使用できるPCカードタイプのフラッシュメモリであり、該フラッシュメモリをエラー情報および操作ログの保存に使用することを特徴とする請求項1〜 Wherein said data log-only memory is a flash memory of the PC card type that can be used in general-purpose laptop claim 1, characterized in that the use of the flash memory to store the error information and operation log
    7のいずれかに記載の露光装置。 An apparatus according to any one of 7.
  9. 【請求項9】 前記第二の外部メモリにデータベースの構築を行い、エラーに関する少なくとも詳細情報および対処法のいずれかが保存されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の露光装置。 9. perform database construction in the second external memory, according to claim 1, characterized in that at least either details and Action is stored about the error exposure apparatus.
  10. 【請求項10】 前記露光装置は、エラー発生により異常を検知する制御部と、該制御部により検知された異常の程度を段階的に判別する手段と、前記異常の程度により該露光装置の電源を停止するか否かを判断する手段とを有することを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の露光装置。 Wherein said exposure apparatus includes a control unit for detecting an abnormality due to an error, the power of the means for determining the degree of the detected abnormal by said control unit stepwise, the exposure device by the degree of the abnormality an apparatus according to any one of claims 1 to 9, characterized in that it comprises a means for determining whether to stop.
  11. 【請求項11】 請求項1〜10のいずれかに記載の露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群を半導体製造工場に設置する工程と、該製造装置群を用いて複数のプロセスによって半導体デバイスを製造する工程とを有することを特徴とする半導体デバイス製造方法。 11. A semiconductor device comprising the steps of installing manufacturing apparatuses for various processes including the exposure apparatus according to any of claims 1 to 10 in a semiconductor manufacturing factory, by a plurality of processes using the manufacturing apparatuses semiconductor device manufacturing method characterized by a step of producing.
  12. 【請求項12】 前記製造装置群をローカルエリアネットワークで接続する工程と、前記ローカルエリアネットワークと前記半導体製造工場外の外部ネットワークとの間で、前記製造装置群の少なくとも1台に関する情報をデータ通信する工程とをさらに有することを特徴とする請求項11に記載の半導体デバイス製造方法。 A step of the method according to claim 12 wherein said manufacturing apparatuses are connected by a local area network, between the local area network and the semiconductor manufacturing factory via the external network of data communication information about at least one of the manufacturing apparatuses semiconductor device manufacturing method according to claim 11, further comprising the step of.
  13. 【請求項13】 前記露光装置のベンダ若しくはユーザが提供するデータベースに前記外部ネットワークを介してアクセスしてデータ通信によって前記製造装置の保守情報を得る、若しくは前記半導体製造工場とは別の半導体製造工場との間で前記外部ネットワークを介してデータ通信して生産管理を行うことを特徴とする請求項12 Wherein said obtaining maintenance information of the manufacturing apparatus by accessing via the external network to a vendor or a database provided by a user of the exposure apparatus by data communication, or another semiconductor manufacturing factory to the semiconductor manufacturing plant claim and performing production management by data communication via the external network with 12
    に記載の半導体デバイス製造方法。 Semiconductor device manufacturing method according to.
  14. 【請求項14】 請求項1〜10のいずれかに記載の露光装置を含む各種プロセス用の製造装置群と、該製造装置群を接続するローカルエリアネットワークと、該ローカルエリアネットワークから工場外の外部ネットワークにアクセス可能にするゲートウェイを有し、前記製造装置群の少なくとも1台に関する情報をデータ通信することを可能にすることを特徴とする半導体製造工場。 14. A manufacturing apparatus for various processes including the exposure apparatus according to any of claims 1 to 10, a local area network for connecting the manufacturing apparatuses, outside the factory from outside the local area network It has a gateway to allow access to the network, a semiconductor manufacturing factory, characterized in that to allow the data communication information about at least one of the manufacturing apparatuses.
  15. 【請求項15】 半導体製造工場に設置された請求項1 15. The method of claim 1 installed in a semiconductor manufacturing factory
    〜10のいずれかに記載の露光装置の保守方法であって、前記露光装置のベンダ若しくはユーザが、半導体製造工場の外部ネットワークに接続された保守データベースを提供する工程と、前記半導体製造工場内から前記外部ネットワークを介して前記保守データベースへのアクセスを許可する工程と、前記保守データベースに蓄積される保守情報を前記外部ネットワークを介して半導体製造工場側に送信する工程とを有することを特徴とする露光装置の保守方法。 A maintenance method for an exposure apparatus according to any one of 10, a vendor or user of the exposure apparatus, comprising: providing a maintenance database connected to an external network of the semiconductor manufacturing plant, from the semiconductor manufacturing factory characterized by a step of transmitting said a step of allowing access to the maintenance database via the external network, the maintenance information to the semiconductor manufacturing factory via the external network accumulated in the maintenance database maintenance method for an exposure apparatus.
  16. 【請求項16】 請求項1〜10のいずれかに記載の露光装置において、ディスプレイと、ネットワークインタフェースと、ネットワーク用ソフトウェアを実行するコンピュータとをさらに有し、露光装置の保守情報をコンピュータネットワークを介してデータ通信することを可能にすることを特徴とする露光装置。 16. The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 10, via a display, a network interface, further comprising a computer for executing network software, and maintenance information of the exposure apparatus a computer network exposure apparatus, characterized in that can be communicated Te.
  17. 【請求項17】 前記ネットワーク用ソフトウェアは、 17. Software for the network,
    前記露光装置が設置された工場の外部ネットワークに接続され前記露光装置のベンダ若しくはユーザが提供する保守データベースにアクセスするためのユーザインタフェースを前記ディスプレイ上に提供し、前記外部ネットワークを介して該データベースから情報を得ることを可能にすることを特徴とする請求項16に記載の露光装置。 It provides a user interface for accessing a maintenance database vendor or user of the exposure apparatus is connected to an external network of the installed plant the exposure apparatus is provided on the display, from the database via the external network an apparatus according to claim 16, characterized in that it possible to obtain information.
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