JP2002012448A - 固定化光触媒とその固定化光触媒の製造方法及びこれに用いる光触媒塗布液 - Google Patents
固定化光触媒とその固定化光触媒の製造方法及びこれに用いる光触媒塗布液Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基材表面への接着性に優れるうえ、基材表面
への付着量を多くでき、しかも光触媒の活性を高く維持
できるようにする。 【解決手段】 水やアルコールを含有する溶媒にシリカ
ゾルと凝集沈殿剤を添加し、次いでこれに酸化チタンを
加える。得られた塗布液を基材の表面に塗布し、加熱処
理を施すことにより基材表面に光触媒層を形成する。
への付着量を多くでき、しかも光触媒の活性を高く維持
できるようにする。 【解決手段】 水やアルコールを含有する溶媒にシリカ
ゾルと凝集沈殿剤を添加し、次いでこれに酸化チタンを
加える。得られた塗布液を基材の表面に塗布し、加熱処
理を施すことにより基材表面に光触媒層を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機物の分解や脱
臭に用いられる、基材表面に層状に形成された固定化光
触媒に関し、さらに詳しくは、基材表面への接着性に優
れるうえ、基材表面への付着量を多くでき、しかも光触
媒の活性を高く維持した固定化光触媒とその製造方法お
よびこれに用いる光触媒塗布液に関する。
臭に用いられる、基材表面に層状に形成された固定化光
触媒に関し、さらに詳しくは、基材表面への接着性に優
れるうえ、基材表面への付着量を多くでき、しかも光触
媒の活性を高く維持した固定化光触媒とその製造方法お
よびこれに用いる光触媒塗布液に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種の悪臭や空気中の有害物質の除去、
あるいは廃水中の有機物の分解処理等では、環境への負
荷が低い処理方法として、酸化チタンからなる光触媒を
用いる方法が知られている。この酸化チタン光触媒は、
主に処理を連続的に行うという観点から、通常、ガラス
や合成樹脂、セラミックス等の各種の基材表面に固着さ
れ、いわゆる固定化された状態で使用される。
あるいは廃水中の有機物の分解処理等では、環境への負
荷が低い処理方法として、酸化チタンからなる光触媒を
用いる方法が知られている。この酸化チタン光触媒は、
主に処理を連続的に行うという観点から、通常、ガラス
や合成樹脂、セラミックス等の各種の基材表面に固着さ
れ、いわゆる固定化された状態で使用される。
【０００３】従来、光触媒をガラス等の基材表面に固着
する方法としては、例えば特開平５−３０９２６７号公
報に開示のように、バインダーとしてシリカゾル等の金
属酸化物ゾルを用いる方法がある(以下、従来技術１と
いう)。また、例えば特開平９−３１００３９号公報に
示されるように、バインダーとして金属酸化物ゾルとア
ルコキシシラン等のシリコン化合物とを併用する方法が
提案されている(以下、従来技術２という)。
する方法としては、例えば特開平５−３０９２６７号公
報に開示のように、バインダーとしてシリカゾル等の金
属酸化物ゾルを用いる方法がある(以下、従来技術１と
いう)。また、例えば特開平９−３１００３９号公報に
示されるように、バインダーとして金属酸化物ゾルとア
ルコキシシラン等のシリコン化合物とを併用する方法が
提案されている(以下、従来技術２という)。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術１では、
上記金属酸化物ゾルの接着力がファン・デル・ワールス
力によるものであるため、光触媒の基材への接着力が極
めて弱く、得られた固定化光触媒は耐久性に問題があ
る。そこで接着力を高めるため、通常、高温度での焼き
付け処理が施されるが、この場合には種々の基材に適用
できない。一方、上記従来技術２では、光触媒の基材へ
の接着力は改善されるものの、基材に対する接着量は上
記従来技術１と同程度で少ない。
上記金属酸化物ゾルの接着力がファン・デル・ワールス
力によるものであるため、光触媒の基材への接着力が極
めて弱く、得られた固定化光触媒は耐久性に問題があ
る。そこで接着力を高めるため、通常、高温度での焼き
付け処理が施されるが、この場合には種々の基材に適用
できない。一方、上記従来技術２では、光触媒の基材へ
の接着力は改善されるものの、基材に対する接着量は上
記従来技術１と同程度で少ない。
【０００５】しかも、上記従来技術１及び２は、いずれ
も光触媒の活性が低く、悪臭や有害物質を十分に分解で
きない問題がある。これは、バインダーとして用いられ
る金属酸化物ゾル、例えばシリカゾルの粒子径が１０ｎ
ｍ程度であるのに対し、酸化チタン粉末等の粒子径は、
通常、互いに凝集しているため上記バインダーの粒子径
よりもはるかに大きいことから、この両者を溶媒中で混
合すると酸化チタン粒子の表面がバインダーの粒子に覆
われてしまい、酸化チタンの光触媒活性が大きく低下す
るためと推測される。
も光触媒の活性が低く、悪臭や有害物質を十分に分解で
きない問題がある。これは、バインダーとして用いられ
る金属酸化物ゾル、例えばシリカゾルの粒子径が１０ｎ
ｍ程度であるのに対し、酸化チタン粉末等の粒子径は、
通常、互いに凝集しているため上記バインダーの粒子径
よりもはるかに大きいことから、この両者を溶媒中で混
合すると酸化チタン粒子の表面がバインダーの粒子に覆
われてしまい、酸化チタンの光触媒活性が大きく低下す
るためと推測される。
【０００６】本発明は上記問題点を解消して、基材表面
への接着性に優れるうえ、基材表面への付着量を多くで
き、しかも光触媒の活性を高く維持できる固定化光触媒
を提供することを技術的課題とする。
への接着性に優れるうえ、基材表面への付着量を多くで
き、しかも光触媒の活性を高く維持できる固定化光触媒
を提供することを技術的課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を達
成するため、次のように構成したことを特徴としてい
る。即ち、本発明１は固定化光触媒の製造方法に関し、
水とアルコールの少なくともいずれか一方を含有する溶
媒に、シリカゾルと金属塩からなる凝集沈殿剤とを添加
したのち、酸化チタンを加えることにより塗布液を調製
し、この塗布液を基材の表面に塗布し加熱処理を施すこ
とにより基材表面に光触媒層を形成することを特徴とす
る。
成するため、次のように構成したことを特徴としてい
る。即ち、本発明１は固定化光触媒の製造方法に関し、
水とアルコールの少なくともいずれか一方を含有する溶
媒に、シリカゾルと金属塩からなる凝集沈殿剤とを添加
したのち、酸化チタンを加えることにより塗布液を調製
し、この塗布液を基材の表面に塗布し加熱処理を施すこ
とにより基材表面に光触媒層を形成することを特徴とす
る。
【０００８】本発明２は固定化光触媒に関し、１０重量
％以上の酸化チタンと、ＳiＯ2として１０重量％以上の
ケイ素成分と、２０重量％以下の金属塩とを含有する、
光触媒層を基材の表面に形成したことを特徴とする。
％以上の酸化チタンと、ＳiＯ2として１０重量％以上の
ケイ素成分と、２０重量％以下の金属塩とを含有する、
光触媒層を基材の表面に形成したことを特徴とする。
【０００９】また、本発明３は固定化光触媒の製造に用
いる塗布液に関し、水とアルコールの少なくともいずれ
か一方を含有する溶媒に、シリカゾルに由来する１〜１
０重量％のＳiＯ2と、０.１〜５重量％の金属塩と、１
〜２０重量％の酸化チタンとを含有することを特徴とす
る。
いる塗布液に関し、水とアルコールの少なくともいずれ
か一方を含有する溶媒に、シリカゾルに由来する１〜１
０重量％のＳiＯ2と、０.１〜５重量％の金属塩と、１
〜２０重量％の酸化チタンとを含有することを特徴とす
る。
【００１０】
【作用】溶媒中に添加されたシリカゾルは凝集沈殿剤に
より適度に凝集し、粗粒子化する。またこのとき液体の
粘度も増加する。この溶液中に酸化チタンの粉末、スラ
リー或いはゾルを投入すると、この酸化チタン粒子は上
記粒子化したシリカゾルの表面に吸着するので、シリカ
ゾルによる酸化チタン粒子表面の被覆は前記従来技術に
比べて少なくなると考えられる。
より適度に凝集し、粗粒子化する。またこのとき液体の
粘度も増加する。この溶液中に酸化チタンの粉末、スラ
リー或いはゾルを投入すると、この酸化チタン粒子は上
記粒子化したシリカゾルの表面に吸着するので、シリカ
ゾルによる酸化チタン粒子表面の被覆は前記従来技術に
比べて少なくなると考えられる。
【００１１】上記塗布液は、シリカゾルと凝集沈殿剤と
を添加したのちケイ素化合物を加え、これに酸化チタン
を加えて調製してもよい。この場合は、添加されたケイ
素化合物が第２のバインダーとして作用し、その一部が
上記粗粒子化したシリカゾルの表面に吸着され、残部が
溶液中に残存する。
を添加したのちケイ素化合物を加え、これに酸化チタン
を加えて調製してもよい。この場合は、添加されたケイ
素化合物が第２のバインダーとして作用し、その一部が
上記粗粒子化したシリカゾルの表面に吸着され、残部が
溶液中に残存する。
【００１２】上記ケイ素化合物は、通常、テトラエトキ
シシラン等の、ＳiＲn(ＯＲ)4-n［ただし、ｎは０から
３のいずれかの整数、Ｒはアルキル基を示す］で示され
るアルコキシシランやその加水分解重縮合物が用いら
れ、その添加量は、上記酸化チタンのチタン原子に対す
るケイ素原子の比率を０.２〜１０に設定するのが好ま
しく、特には１〜３に設定するのがより好ましい。少な
すぎると光触媒と基材の接着性が低く、多すぎると光触
媒の活性が低下するからである。
シシラン等の、ＳiＲn(ＯＲ)4-n［ただし、ｎは０から
３のいずれかの整数、Ｒはアルキル基を示す］で示され
るアルコキシシランやその加水分解重縮合物が用いら
れ、その添加量は、上記酸化チタンのチタン原子に対す
るケイ素原子の比率を０.２〜１０に設定するのが好ま
しく、特には１〜３に設定するのがより好ましい。少な
すぎると光触媒と基材の接着性が低く、多すぎると光触
媒の活性が低下するからである。
【００１３】上記凝集沈殿剤は、通常、アルミニウム
塩、鉄塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、及びチタン塩の少
なくとも１種以上からなる金属塩が用いられる。なお、
ここでいう金属塩には、ポリ塩化アルミニウムや、ポリ
硫酸鉄、ポリ硫酸チタンのように、高分子系の金属塩も
含む。この金属塩の添加量は、シリカゾルのＳiＯ2に対
して１〜４０重量％に設定するのが好ましく、１〜２０
重量％に設定するのが一層好ましい。少なすぎるとシリ
カ粒子を十分に凝集できず、多すぎると凝集沈殿剤が液
中で沈殿し、光触媒と基材との接着性が低下するからで
ある。
塩、鉄塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、及びチタン塩の少
なくとも１種以上からなる金属塩が用いられる。なお、
ここでいう金属塩には、ポリ塩化アルミニウムや、ポリ
硫酸鉄、ポリ硫酸チタンのように、高分子系の金属塩も
含む。この金属塩の添加量は、シリカゾルのＳiＯ2に対
して１〜４０重量％に設定するのが好ましく、１〜２０
重量％に設定するのが一層好ましい。少なすぎるとシリ
カ粒子を十分に凝集できず、多すぎると凝集沈殿剤が液
中で沈殿し、光触媒と基材との接着性が低下するからで
ある。
【００１４】上記シリカゾルの添加量は、ＳiＯ2として
上記溶媒の１〜１０重量％とするのが好ましく、３〜７
重量％にすると一層好ましい。
上記溶媒の１〜１０重量％とするのが好ましく、３〜７
重量％にすると一層好ましい。
【００１５】上記光触媒である酸化チタンは粉末状、ス
ラリー状またはゾル状で添加され、その添加量は、シリ
カゾル及びケイ素化合物のＳiＯ2に対して１０〜５００
重量％とするのが好ましく、３０〜２００重量％にする
と一層好ましい。
ラリー状またはゾル状で添加され、その添加量は、シリ
カゾル及びケイ素化合物のＳiＯ2に対して１０〜５００
重量％とするのが好ましく、３０〜２００重量％にする
と一層好ましい。
【００１６】上記により調製された塗布液は、ガラス等
の基材の表面に塗布され、乾燥、加熱により光触媒層が
形成される。この加熱温度は、低いと接着力が弱く、高
いと基材に悪影響を及ぼすことから、１５０〜６００℃
の範囲が好ましい。なお、上記ケイ素化合物を加えた場
合には３００℃以下の低温加熱でも十分な接着力を有す
るが、上記ケイ素化合物を加えない場合には５００〜６
００℃の範囲で加熱するのが、接着力を増加させる上で
一層好ましい。
の基材の表面に塗布され、乾燥、加熱により光触媒層が
形成される。この加熱温度は、低いと接着力が弱く、高
いと基材に悪影響を及ぼすことから、１５０〜６００℃
の範囲が好ましい。なお、上記ケイ素化合物を加えた場
合には３００℃以下の低温加熱でも十分な接着力を有す
るが、上記ケイ素化合物を加えない場合には５００〜６
００℃の範囲で加熱するのが、接着力を増加させる上で
一層好ましい。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例と比較例により具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
【００１８】(実施例１)エタノール２.５２ｇとイオン
交換水２.２１ｇとの混合液を溶媒とし、この溶媒に酸
性シリカゾル(触媒化成工業株式会社製：商品名 CATALO
ID SN,［ＳiＯ2］分:２０重量％)を２ｇ加え、さらに凝
集沈殿剤として硫酸アルミニウム水溶液(［Ａl2(ＳＯ4)
3］分:２７重量％)を０.２６ｇ加えて混合し、シリカゾ
ルと硫酸アルミニウムの凝集体あるいは析出体を作って
スラリー状の混合液を得た。次いでこの混合液にテトラ
エトキシシラン(［ＳiＯ2］分:２９重量％)を０.９３ｇ
加えて１時間撹拌したのち、酸化チタン微粉末(石原産
業株式会社製：商品名 ST-01)０.３ｇを加え、超音波洗
浄器を用いて前記凝集体と酸化チタンの混合と分散を１
時間行い、光触媒塗布液を得た。
交換水２.２１ｇとの混合液を溶媒とし、この溶媒に酸
性シリカゾル(触媒化成工業株式会社製：商品名 CATALO
ID SN,［ＳiＯ2］分:２０重量％)を２ｇ加え、さらに凝
集沈殿剤として硫酸アルミニウム水溶液(［Ａl2(ＳＯ4)
3］分:２７重量％)を０.２６ｇ加えて混合し、シリカゾ
ルと硫酸アルミニウムの凝集体あるいは析出体を作って
スラリー状の混合液を得た。次いでこの混合液にテトラ
エトキシシラン(［ＳiＯ2］分:２９重量％)を０.９３ｇ
加えて１時間撹拌したのち、酸化チタン微粉末(石原産
業株式会社製：商品名 ST-01)０.３ｇを加え、超音波洗
浄器を用いて前記凝集体と酸化チタンの混合と分散を１
時間行い、光触媒塗布液を得た。
【００１９】上記塗布液をガラス板に、塗布液へ浸して
２４cm/分の速度で引き上げるディッピング法で塗布
し、室温で３０分放置した後、１５０℃の低温で３０分
間加熱し、ガラス板の表面に酸化チタンの光触媒層を形
成した。
２４cm/分の速度で引き上げるディッピング法で塗布
し、室温で３０分放置した後、１５０℃の低温で３０分
間加熱し、ガラス板の表面に酸化チタンの光触媒層を形
成した。
【００２０】(実施例２)エタノール２.５２ｇとイオン
交換水２.２１ｇとの混合液を溶媒とし、凝集沈殿剤と
して硫酸アルミニウムに代え硫酸亜鉛水溶液(［ＺnＳＯ
4］分:２７重量％)を０.２６ｇ添加した他は、上記実施
例１と同様に塗布液を調製し、同様にガラス板に塗布し
乾燥して固定化光触媒を得た。
交換水２.２１ｇとの混合液を溶媒とし、凝集沈殿剤と
して硫酸アルミニウムに代え硫酸亜鉛水溶液(［ＺnＳＯ
4］分:２７重量％)を０.２６ｇ添加した他は、上記実施
例１と同様に塗布液を調製し、同様にガラス板に塗布し
乾燥して固定化光触媒を得た。
【００２１】(実施例３)エタノール３.１８ｇとイオン
交換水２.２１ｇとの混合液を溶媒とし、テトラエトキ
シシランを添加しない他は、上記実施例１と同様に塗布
液を調製し、同様にガラス板に塗布し乾燥した後、５５
０℃の高温で１０分間加熱して固定化光触媒を得た。な
お、上記エタノールの量を上記実施例１や実施例２と異
ならせたのは、最終的に得られる光触媒塗布液に、上記
各実施例と同様、エタノールが３.２ｇ、水が４.０ｇ含
まれるように調整するためである。以下の各実施例や比
較例においても、それぞれ最初に調製される混合液のエ
タノールとイオン交換水の量が同様に調整される。
交換水２.２１ｇとの混合液を溶媒とし、テトラエトキ
シシランを添加しない他は、上記実施例１と同様に塗布
液を調製し、同様にガラス板に塗布し乾燥した後、５５
０℃の高温で１０分間加熱して固定化光触媒を得た。な
お、上記エタノールの量を上記実施例１や実施例２と異
ならせたのは、最終的に得られる光触媒塗布液に、上記
各実施例と同様、エタノールが３.２ｇ、水が４.０ｇ含
まれるように調整するためである。以下の各実施例や比
較例においても、それぞれ最初に調製される混合液のエ
タノールとイオン交換水の量が同様に調整される。
【００２２】(実施例４)エタノール３.１８ｇとイオン
交換水２.２１ｇとの混合液を溶媒とし、テトラエトキ
シシランを添加しない他は、上記実施例２と同様に塗布
液を調製し、同様にガラス板に塗布し乾燥した後、上記
実施例３と同様、５５０℃の高温で１０分間加熱して固
定化光触媒を得た。
交換水２.２１ｇとの混合液を溶媒とし、テトラエトキ
シシランを添加しない他は、上記実施例２と同様に塗布
液を調製し、同様にガラス板に塗布し乾燥した後、上記
実施例３と同様、５５０℃の高温で１０分間加熱して固
定化光触媒を得た。
【００２３】(比較例１)エタノール３.１８ｇとイオン
交換水２.４０ｇとの混合液を溶媒とし、凝集沈殿剤と
テトラエトキシシランを添加しない他は、上記実施例１
と同様に塗布液を調製し、同様にガラス板に塗布し乾燥
して固定化光触媒を得た。
交換水２.４０ｇとの混合液を溶媒とし、凝集沈殿剤と
テトラエトキシシランを添加しない他は、上記実施例１
と同様に塗布液を調製し、同様にガラス板に塗布し乾燥
して固定化光触媒を得た。
【００２４】(比較例２)エタノール２.５２ｇとイオン
交換水２.４０ｇとの混合液を溶媒とし、凝集沈殿剤を
添加しない他は、上記実施例１と同様に塗布液を調製
し、同様にガラス板に塗布し乾燥して固定化光触媒を得
た。
交換水２.４０ｇとの混合液を溶媒とし、凝集沈殿剤を
添加しない他は、上記実施例１と同様に塗布液を調製
し、同様にガラス板に塗布し乾燥して固定化光触媒を得
た。
【００２５】(比較例３)エタノール２.５２ｇとイオン
交換水１.９２ｇとの混合液を溶媒とし、硫酸アルミニ
ウム水溶液(［Ａl2(ＳＯ4)3］分:２７重量％)を０.６６
ｇ添加した他は、上記実施例１と同様に塗布液を調製
し、同様にガラス板に塗布し乾燥して固定化光触媒を得
た。なおこの場合、上記硫酸アルミニウムの添加量は、
シリカゾルのＳiＯ2に対して約４５重量％である。
交換水１.９２ｇとの混合液を溶媒とし、硫酸アルミニ
ウム水溶液(［Ａl2(ＳＯ4)3］分:２７重量％)を０.６６
ｇ添加した他は、上記実施例１と同様に塗布液を調製
し、同様にガラス板に塗布し乾燥して固定化光触媒を得
た。なおこの場合、上記硫酸アルミニウムの添加量は、
シリカゾルのＳiＯ2に対して約４５重量％である。
【００２６】上記実施例及び比較例で得た各固定化光触
媒の光触媒活性は、メチレンブルーの分解率を用いて測
定した。すなわち、上記両面に光触媒層を形成したガラ
ス板３.６４cm2をそれぞれの測定試料とし、１６ppm濃
度のメチレンブルー５mlを入れた直径５cmのシャーレに
この測定試料を沈め、上方からブラックライトを３.５m
W/cm2の光強度で1時間照射した後、溶液の吸光度を測定
して最初の吸光度と比較することによりメチレンブルー
の分解率を求めた。また、接着性は光触媒層を手で擦る
と粉末が付着する場合を「不可」とし、強く擦っても剥
離しないものを「良」とした。これらの測定結果を図１
の対比表に示す。
媒の光触媒活性は、メチレンブルーの分解率を用いて測
定した。すなわち、上記両面に光触媒層を形成したガラ
ス板３.６４cm2をそれぞれの測定試料とし、１６ppm濃
度のメチレンブルー５mlを入れた直径５cmのシャーレに
この測定試料を沈め、上方からブラックライトを３.５m
W/cm2の光強度で1時間照射した後、溶液の吸光度を測定
して最初の吸光度と比較することによりメチレンブルー
の分解率を求めた。また、接着性は光触媒層を手で擦る
と粉末が付着する場合を「不可」とし、強く擦っても剥
離しないものを「良」とした。これらの測定結果を図１
の対比表に示す。
【００２７】上記測定結果から明らかなように、沈殿凝
集剤とケイ素化合物を用いずにバインダーとしてシリカ
ゾルのみを用いた比較例１では、光触媒活性が低く、固
着された光触媒量も少なく、しかも接着性が劣ってお
り、これに第２のバインダーとしてケイ素化合物である
テトラエトキシシランを加えた比較例２の場合も、接着
性は改良されているが光触媒活性はむしろ一層低下して
いる。
集剤とケイ素化合物を用いずにバインダーとしてシリカ
ゾルのみを用いた比較例１では、光触媒活性が低く、固
着された光触媒量も少なく、しかも接着性が劣ってお
り、これに第２のバインダーとしてケイ素化合物である
テトラエトキシシランを加えた比較例２の場合も、接着
性は改良されているが光触媒活性はむしろ一層低下して
いる。
【００２８】これに対し、シリカゾルに沈殿凝集剤とケ
イ素化合物とを添加して用いた本発明の実施例１及び実
施例２にあっては、比較的低い熱処理温度でも光触媒の
付着量が多く、光触媒活性が高いうえ、接着強度も高
く、耐久性に優れている。また実施例３や実施例４のよ
うに、シリカゾルと沈殿凝集剤とのみを加え、テトラエ
トキシシランを加えない場合でも、熱処理温度を高くす
ると接着強度は高くなり、光触媒の付着量が増加し、光
り触媒活性も高くなっている。
イ素化合物とを添加して用いた本発明の実施例１及び実
施例２にあっては、比較的低い熱処理温度でも光触媒の
付着量が多く、光触媒活性が高いうえ、接着強度も高
く、耐久性に優れている。また実施例３や実施例４のよ
うに、シリカゾルと沈殿凝集剤とのみを加え、テトラエ
トキシシランを加えない場合でも、熱処理温度を高くす
ると接着強度は高くなり、光触媒の付着量が増加し、光
り触媒活性も高くなっている。
【００２９】但し、上記凝集沈殿剤の添加量を多くし過
ぎると、例えば添加量が４０重量％を越える比較例３の
ように、基材表面への付着量が急激に増加するととも
に、接着強度が低下し、耐久性に問題が出てくる。
ぎると、例えば添加量が４０重量％を越える比較例３の
ように、基材表面への付着量が急激に増加するととも
に、接着強度が低下し、耐久性に問題が出てくる。
【００３０】
【発明の効果】本発明は上記のように構成され作用する
ことから次の効果を奏する。
ことから次の効果を奏する。
【００３１】（１）溶媒中で凝集沈殿剤により適度に凝
集したシリカゾルは、粒子径が大きくなるので酸化チタ
ン粒子に対する被覆が少なくなると考えられ、この結
果、酸化チタンの光触媒活性を高く維持することができ
る。
集したシリカゾルは、粒子径が大きくなるので酸化チタ
ン粒子に対する被覆が少なくなると考えられ、この結
果、酸化チタンの光触媒活性を高く維持することができ
る。
【００３２】（２）また、上記凝集沈殿剤の添加により
塗布液の粘度が高くなることから、基材表面への塗布量
を多くすることができ、光触媒の基材表面への付着量を
多くすることができる。
塗布液の粘度が高くなることから、基材表面への塗布量
を多くすることができ、光触媒の基材表面への付着量を
多くすることができる。
【００３３】（３）シリカゾルを凝集させたのちケイ素
化合物を添加した場合には、その後に添加した酸化チタ
ン粒子は、このケイ素化合物と上記シリカゾルにより各
種の基材表面に良好に接着することから、低い熱処理温
度でも耐久性に優れた固定化光触媒にすることができ
る。
化合物を添加した場合には、その後に添加した酸化チタ
ン粒子は、このケイ素化合物と上記シリカゾルにより各
種の基材表面に良好に接着することから、低い熱処理温
度でも耐久性に優れた固定化光触媒にすることができ
る。
【図１】本発明の実施例と比較例の、固定化光触媒の触
媒性能と付着量、および接着性の測定結果を示す比較表
である。
媒性能と付着量、および接着性の測定結果を示す比較表
である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 183/00 Ｃ０９Ｄ 183/00 (72)発明者 白石 松太郎 大阪府大阪市東淀川区小松４丁目２番15号 安積濾紙株式会社内 (72)発明者 橋田 勲 奈良県磯城郡川西町結崎421−46 (72)発明者 丸喜 貫太 大阪府大阪市東淀川区小松４丁目２番15号 安積濾紙株式会社内 (72)発明者 中島 博 大阪府大阪市東淀川区小松４丁目２番15号 安積濾紙株式会社内 Ｆターム(参考） 4G059 AA01 AC30 EA04 EA05 EB07 4G069 AA04 AA08 BA02A BA02B BA04A BA04B BA14B BA21C BA48A BB10A BB10B BC10A BC16A BC16B BC35A BC35B BC50A BC66A BD05C BE06C CA05 CA10 CA11 CA17 EA07 FA03 FB06 FB15 FB16 FB23 FB30 FB78 FC02 FC08 4J038 AA011 DL021 DL031 HA106 HA156 HA216 HA376 HA446 KA04 KA06 KA09 KA12 KA20 NA05 NA17 NA27 PC03 PC08
Claims (7)
- 【請求項１】 水とアルコールの少なくともいずれか一
方を含有する溶媒に、シリカゾルと金属塩からなる凝集
沈殿剤とを添加したのち、酸化チタンを加えることによ
り塗布液を調製し、 この塗布液を基材の表面に塗布し加熱処理を施すことに
より基材表面に光触媒層を形成することを特徴とする、
固定化光触媒の製造方法。 - 【請求項２】 上記シリカゾルと凝集沈殿剤とを添加し
たのちケイ素化合物を加え、これに酸化チタンを加えて
上記塗布液を調製する、請求項１に記載の固定化光触媒
の製造方法。 - 【請求項３】 上記ケイ素化合物が、ＳiＲn(ＯＲ)4-n
（ただし、ｎは０から３のいずれかの整数、Ｒはアルキ
ル基を示す）で示されるアルコキシシランまたはその加
水分解重縮合物である、請求項２に記載の固定化光触媒
の製造方法。 - 【請求項４】 上記金属塩が、アルミニウム塩、鉄塩、
亜鉛塩、マグネシウム塩、及びチタン塩の少なくとも１
種以上からなる、請求項１から請求項３のいずれか１項
に記載の固定化光触媒の製造方法。 - 【請求項５】１０重量％以上の酸化チタンと、ＳiＯ2と
して１０重量％以上のケイ素成分と、２０重量％以下の
金属塩とを含有する、光触媒層を基材の表面に形成した
ことを特徴とする、固定化光触媒。 - 【請求項６】 水とアルコールの少なくともいずれか一
方を含有する溶媒に、シリカゾルに由来する１〜１０重
量％のＳiＯ2と、０.１〜５重量％の金属塩と、１〜２
０重量％の酸化チタンとを含有することを特徴とする、
光触媒塗布液。 - 【請求項７】 さらに０.１〜２０重量％のケイ素化合
物を含有する、請求項６に記載の光触媒塗布液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000192076A JP2002012448A (ja) | 2000-06-27 | 2000-06-27 | 固定化光触媒とその固定化光触媒の製造方法及びこれに用いる光触媒塗布液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000192076A JP2002012448A (ja) | 2000-06-27 | 2000-06-27 | 固定化光触媒とその固定化光触媒の製造方法及びこれに用いる光触媒塗布液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002012448A true JP2002012448A (ja) | 2002-01-15 |
Family
ID=18691257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000192076A Pending JP2002012448A (ja) | 2000-06-27 | 2000-06-27 | 固定化光触媒とその固定化光触媒の製造方法及びこれに用いる光触媒塗布液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002012448A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1577008A2 (en) * | 2004-03-17 | 2005-09-21 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Coating composition of photocatalyst |
| WO2007105680A1 (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Fujirebio Inc. | 免疫測定用吸収パッド、免疫測定用ストリップ及び免疫測定装置 |
| JP2008525188A (ja) * | 2004-12-28 | 2008-07-17 | カウンシル オブ サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ | 光触媒による汚れの自動洗浄工程 |
-
2000
- 2000-06-27 JP JP2000192076A patent/JP2002012448A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1577008A2 (en) * | 2004-03-17 | 2005-09-21 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Coating composition of photocatalyst |
| EP1577008A3 (en) * | 2004-03-17 | 2006-04-12 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Coating composition of photocatalyst |
| JP2008525188A (ja) * | 2004-12-28 | 2008-07-17 | カウンシル オブ サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ | 光触媒による汚れの自動洗浄工程 |
| WO2007105680A1 (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Fujirebio Inc. | 免疫測定用吸収パッド、免疫測定用ストリップ及び免疫測定装置 |
| US8119420B2 (en) | 2006-03-13 | 2012-02-21 | Fujirebio Inc. | Absorption pad for immunoassay, strip for immunoassay, and immunoassay apparatus |
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