JP2002011739A - Method for continuously manufacturing transparent resin substrate - Google Patents

Method for continuously manufacturing transparent resin substrate

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JP2002011739A
JP2002011739A JP2000198137A JP2000198137A JP2002011739A JP 2002011739 A JP2002011739 A JP 2002011739A JP 2000198137 A JP2000198137 A JP 2000198137A JP 2000198137 A JP2000198137 A JP 2000198137A JP 2002011739 A JP2002011739 A JP 2002011739A
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support sheet
transparent resin
photopolymerizable monomer
sheet
resin substrate
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靖 三輪
Noriyuki Saito
範之 斉藤
Mitsuru Ishihara
充 石原
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide am method for continuously manufacturing a transparent resin substrate having a uniform and flat surface and improved in product yield. SOLUTION: A photopolymerizable monomer composition (A) is supplied on a transferred lower support sheet (20) and an upper support sheet (30) transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet is laminated on the lower support sheet and, thereafter, the photopolymerizable monomer composition (A) is irradiated with active rays to be cured to continuously manufacture the transparent resin substrate. Prior to peeling both support sheets, the lug parts of both end parts in the longitudinal direction of the cured sheetlike photopolymerizable monomer composition (A) are cut by a lug part cutter (5).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明樹脂基板の連
続的製造方法に関し、詳しくは、均一且つ平坦な表面を
有し、しかも、製品歩留まりが改良された、透明樹脂基
板の連続的製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for continuously manufacturing a transparent resin substrate, and more particularly, to a method for continuously manufacturing a transparent resin substrate having a uniform and flat surface and improved product yield. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明樹脂基板は、工業的には、液晶、有
機ELなどのディスプレー基板、光学フィルター、光通
信材料、太陽電池基板などの各種用途に利用されてい
る。斯かる透明樹脂基板は、移送される下部支持シート
上に光重合性モノマー組成物を供給し、その上に下部支
持シートと同速度で同一方向に移送される上部支持シー
トを積層し、次いで、光重合性モノマー組成物に活性線
を照射して硬化させた後に両支持シートを剥離する方法
により、連続的に製造することが出来る。通常、上記の
支持シートには合成樹脂シートが使用される。
2. Description of the Related Art Transparent resin substrates are industrially used for various applications such as display substrates for liquid crystal and organic EL, optical filters, optical communication materials, and solar cell substrates. Such a transparent resin substrate supplies the photopolymerizable monomer composition onto the transferred lower support sheet, and stacks thereon the upper support sheet transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet, The photopolymerizable monomer composition can be manufactured continuously by irradiating the photopolymerizable monomer composition with an actinic ray and curing, and then peeling off both support sheets. Usually, a synthetic resin sheet is used for the above-mentioned support sheet.

【0003】ところで、上記の方法の場合、下部支持シ
ート上に供給され且つシート状に成形された光重合性モ
ノマー組成物は、その上に部支持シートが積層されて押
圧されるため、その端部において多少の盛り上がりが生
じる。斯かる盛り上がり部(耳部)は、支持シートの剥
離後、所定サイズに切断する製品化工程で一緒に切断し
て除去される。ところが、斯かる方法による場合は、耳
部の切断の際に製品が破損して製品歩留まりが低下する
という問題がある。
In the above method, the photopolymerizable monomer composition supplied onto the lower support sheet and formed into a sheet shape is laminated with the photopolymerizable monomer composition thereon and pressed. Some swelling occurs in the part. After the support sheet has been peeled off, such raised portions (ear portions) are cut and removed together in a commercialization step of cutting into a predetermined size. However, according to such a method, there is a problem that the product is damaged at the time of cutting the ear portion and the product yield is reduced.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、均一且つ平坦な
表面を有し、しかも、製品歩留まりが改良された、透明
樹脂基板の連続的製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a continuous transparent resin substrate having a uniform and flat surface and an improved product yield. It is an object of the present invention to provide a production method.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成すべく種々検討を重ねた結果、意外にも、両支
持シートの剥離の前に耳部を切断する、すなわち、支持
シートと共に耳部を切断するならば、製品の破損が防止
されて上記の目的を容易に達成し得るとの知見を得、本
発明の完成に至った。
As a result of various studies to achieve the above object, the present inventors surprisingly cut off the ears before peeling off both support sheets, ie, It has been found that if the ears are cut together with the sheet, breakage of the product is prevented and the above object can be easily achieved, and the present invention has been completed.

【0006】すなわち、本発明の要旨は、移送される下
部支持シート上に光重合性モノマー組成物を供給し、そ
の上に下部支持シートと同速度で同一方向に移送される
上部支持シートを積層した後、光重合性モノマー組成物
に活性線を照射して硬化させる透明樹脂基板の連続的製
造方法であって、上記の両支持シートの剥離に先立ち、
硬化したシート状光重合性モノマー組成物の長手方向両
端部の耳部を切断することを特徴とする透明樹脂基板の
連続的製造方法に存する。
That is, the gist of the present invention is to supply a photopolymerizable monomer composition onto a transferred lower support sheet, and to stack an upper support sheet transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet. Then, a continuous production method of a transparent resin substrate to be cured by irradiating the photopolymerizable monomer composition with actinic rays, prior to the separation of the two support sheets,
The present invention resides in a continuous production method of a transparent resin substrate, characterized by cutting the lugs at both ends in the longitudinal direction of the cured sheet-shaped photopolymerizable monomer composition.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づき
詳細に説明する。図1は本発明を実施するための製造設
備の好ましい一例の説明図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an explanatory view of a preferred example of a manufacturing facility for carrying out the present invention.

【0008】先ず、本発明で使用する光重合性モノマー
組成物について説明する。本発明で使用する光重合性モ
ノマー組成物は、重合性モノマーと光重合開始剤と任意
の他の成分とから構成される。
First, the photopolymerizable monomer composition used in the present invention will be described. The photopolymerizable monomer composition used in the present invention is composed of a polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and any other components.

【0009】上記の重合性モノマーとしては、紫外線な
どの活性線の照射によって重合・硬化することにより透
明樹脂を形成し得るモノマーである限り、特に制限され
ず、各種のモノマーを使用することが出来る。代表的に
は各種のアクリレート化合物、例えば、エポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレ
ート、ポリエーテルアクリレート、これらのオリゴマ
ー、または、これらと他の重合性モノマーとの組み合せ
等が挙げられる。
The above-mentioned polymerizable monomer is not particularly limited as long as it is a monomer capable of forming a transparent resin by being polymerized and cured by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays, and various monomers can be used. . Typically, various acrylate compounds, for example, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, oligomers of these, or combinations of these with other polymerizable monomers, and the like can be given.

【0010】本発明においては、耐薬品性、剛性などの
観点から、次の一般式(I)で表される含脂環骨格ビス
(メタ)アクリレート、次の一般式(II)で表される含
脂環骨格モノ(メタ)アクリレートの組み合せが好適で
あり、特に、これらと後述の二官能性メルカプト化合物
との組み合せが好適である。なお、「(メタ)アクリレ
ート」は、アクリレートとメタクリレートを含む総称で
ある。
In the present invention, an alicyclic skeleton bis (meth) acrylate represented by the following general formula (I) and a general formula (II) represented by the following general formula (I) from the viewpoint of chemical resistance and rigidity. A combination of an alicyclic skeleton mono (meth) acrylate is preferable, and a combination of these with a bifunctional mercapto compound described below is particularly preferable. In addition, "(meth) acrylate" is a general term including acrylate and methacrylate.

【0011】[0011]

【化1】 Embedded image

【0012】一般式(I)中、R1及びR2は、それぞれ
独立して、水素原子またはメチル基を示し、mは1又は
2の整数、nは0又は1の整数、p及びqは、それぞれ
独立して、0〜3の何れかの整数を表す。
In the general formula (I), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 or 2, n is an integer of 0 or 1, p and q are And each independently represents any integer of 0 to 3.

【0013】上記の式(I)で表される含脂環骨格ビス
(メタ)アクリレートの具体例としては、例えば、ビス
(オキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デ
カン=ジアクリレート、ビス(オキシメチル)トリシク
ロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート、
ビス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.1.
2, 6]デカン=アクリレートメタクリレート及びこれ
らの混合物、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ[6.
5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=ジアク
リレート、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ[6.
5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=ジメタ
クリレート、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ[6.
5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=アクリ
レートメタクリレート及びこれらの混合物、ビス(オキ
シメチル)トリシクロ[5.2.1.02, 6]デカン=
ジアクリレート、ビス(オキシメチル)トリシクロ
[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート、ビ
ス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6
デカン=アクリレートメタクリレート及びこれらの混合
物などが挙げられる。
Specific examples of the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate represented by the above formula (I) include, for example, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = Diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate,
Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.
0 2, 6] decane = acrylate methacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.
5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane diacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.
5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane dimethacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.
5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13] pentadecane = acrylate methacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2, 6] decane =
Diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ]
Decane = acrylate methacrylate and mixtures thereof;

【0014】[0014]

【化2】 Embedded image

【0015】一般式(II)中、R3は水素原子またはメ
チル基を示し、mは1又は2の整数、nは0又は1の整
数、r及びsは、それぞれ独立して、0〜3の何れかの整
数を表す。
In the general formula (II), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 or 2, n is an integer of 0 or 1, r and s are each independently 0 to 3 Represents an integer.

【0016】上記の一般式(II)で表される含脂環骨格
モノ(メタ)アクリレートの具体例としては、例えば、
ビス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.1.
2,6]デカン=モノアクリレート、ビス(オキシメチ
ル)トリシクロ[5.2.1.02, 6]デカン=モノメ
タクリレート及びこれらの混合物、ビス(オキシメチ
ル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7
9,13]ペンタデカン=モノアクリレート、ビス(オキ
シメチル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7
9,13]ペンタデカン=モノメタクリレート及びこれら
の混合物、ビス(オキシメチル)トリシクロ[5.2.
1.02,6]デカン=モノアクリレート、ビス(オキシ
メチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=モ
ノメタクリレート及びこれらの混合物などが挙げられ
る。
Specific examples of the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate represented by the general formula (II) include, for example,
Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.
0 2,6] decane = monoacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2, 6] decane = monomethacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1. 13-6 . 0 2,7 .
0 9,13 ] pentadecane monoacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 .
0 9,13 ] pentadecane monomethacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.
1.0 2,6 ] decane = monoacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = monomethacrylate, and mixtures thereof.

【0017】含脂環骨格ビス(メタ)アクリレート及び
含脂環骨格モノ(メタ)アクリレートと組み合わせて使
用される二官能性メルカプト化合物としては、一般式
(III)〜(V)で表されるメルカプト化合物が好適であ
る。
The bifunctional mercapto compounds used in combination with the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate and the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate include mercapto compounds represented by formulas (III) to (V). Compounds are preferred.

【0018】[0018]

【化3】 Embedded image

【0019】一般式(III)中、R4はメチレン基または
エチレン基を示し、R5はエーテル酸素を含んでいても
よい炭素数2〜15の炭化水素残基を示し、aは2〜6
の整数を示す。
In the general formula (III), R 4 represents a methylene group or an ethylene group; R 5 represents a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain ether oxygen;
Indicates an integer.

【0020】一般式(III)において、R5(エーテル酸
素を含んでいてもよい炭素数2〜15の炭化水素残基)
の具体例としては、例えば、ペンタエリスリトール残
基、ジペンタエリスリトール残基、トリメチロールプロ
パン残基、エチレングリコール残基、ジエチレングリコ
ール残基、トリエチレングリコール残基、ブタンジオー
ル残基などが挙げられる。
In the general formula (III), R 5 (a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain an ether oxygen)
Specific examples include a pentaerythritol residue, a dipentaerythritol residue, a trimethylolpropane residue, an ethylene glycol residue, a diethylene glycol residue, a triethylene glycol residue, and a butanediol residue.

【0021】一般式(III)で表されるメルカプト化合
物は、2〜6価のチオグリコール酸エステル又はチオプ
ロピオン酸エステルであり、その具体例としては、例え
ば、ペンタエリスリトールテトラキス(β−チオプロピ
オネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグ
リコレート)、トリメチロールプロパントリス(β−チ
オプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス
(チオグリコレート)、エチレングリコールビス(β−
チオプロピオネート)等が挙げられる。
The mercapto compound represented by the general formula (III) is a di- to hexavalent thioglycolate or thiopropionate, and specific examples thereof include pentaerythritol tetrakis (β-thiopropioate). Pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), trimethylolpropane tris (β-thiopropionate), trimethylolpropane tris (thioglycolate), ethylene glycol bis (β-
Thiopropionate) and the like.

【0022】[0022]

【化4】 Embedded image

【0023】一般式(IV)中、XはHS-(CH2b-CO-(O
CH2CH2d-(CH2c-を示す。但し、b及びcは、それ
ぞれ独立して1〜8の整数を示す。
In the general formula (IV), X is HS- (CH 2 ) b -CO- (O
CH 2 CH 2 ) d- (CH 2 ) c- . Here, b and c each independently represent an integer of 1 to 8.

【0024】一般式(IV)で表されるメルカプト化合物
はω−チオール基含有イソシアヌレートであり、その具
体例としては、例えば、トリス[2−(β−チオプロピ
オニルオキシ)エチル]イソシアヌレート、トリス(2
−チオグリコニルオキシエチル)イソシアヌレート、ト
リス[2−(β−チオグリコニルオキシエトキシ)エチ
ル]イソシアヌレート、トリス[(2−チオグリコニル
オキシエトキシ)エチル]イソシアヌレート、トリス
[3−(β−チオプロピオニルオキシ)プロピル]イソ
シアヌレート、トリス(3−チオグリコニルオキシプロ
ピル)イソシアヌレート等が挙げられる。
The mercapto compound represented by the general formula (IV) is an isocyanurate containing an ω-thiol group, and specific examples thereof include tris [2- (β-thiopropionyloxy) ethyl] isocyanurate and tris (2
-Thioglyconyloxyethyl) isocyanurate, tris [2- (β-thioglyconyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris [(2-thioglyconyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris [3- (β -Thiopropionyloxy) propyl] isocyanurate, tris (3-thioglyconyloxypropyl) isocyanurate and the like.

【0025】[0025]

【化5】 Embedded image

【0026】一般式(V)中、R6及びR7はそれぞれ独
立してアルキレン基を示し、e及びfはそれぞれ独立し
て0又は1の整数を示し、gは1又は2の整数を示す。
In the general formula (V), R 6 and R 7 each independently represent an alkylene group, e and f each independently represent an integer of 0 or 1, and g represents an integer of 1 or 2. .

【0027】一般式(V)で表される化合物はチオール
基含有炭化水素であり、その具体例としては、例えば、
ベンゼンメルカプタン、キシリレンメルカプタン、4,
4’−ジメルカプトジフェニルスルフィド等が挙げられ
る。
The compound represented by the general formula (V) is a thiol group-containing hydrocarbon, and specific examples thereof include, for example,
Benzene mercaptan, xylylene mercaptan, 4,
4'-dimercaptodiphenyl sulfide and the like.

【0028】本発明において、上記の各成分は、通常、
次の様な割合で使用される。すなわち、一般式(I)で
表される含脂環骨格ビス(メタ)アクリレートは70〜
99重量部、一般式(II)で表される含脂環骨格モノ
(メタ)アクリレートは1〜30重量部、これらの合計
量100重量部に対し、上記の一般式(III)〜(V)
で表されるメルカプト化合物は1〜10重量部である。
In the present invention, each of the above components is usually
Used in the following proportions: That is, the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate represented by the general formula (I) is 70 to
99 parts by weight, 1 to 30 parts by weight of the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate represented by the general formula (II), and 100 parts by weight of the above, and the above general formulas (III) to (V)
The mercapto compound represented by the formula is 1 to 10 parts by weight.

【0029】上記の光重合開始剤としては、活性線の照
射によってラジカルを発生し得る限り、特に制限され
ず、各種の光重合開始剤を使用することが出来る。代表
的には各種のアセトフェノン系またはベンゾフェノン系
の光重合開始剤が挙げられる。
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as radicals can be generated by irradiation with actinic rays, and various photopolymerization initiators can be used. Typically, various acetophenone-based or benzophenone-based photopolymerization initiators can be used.

【0030】上記のアセトフェノン系光重合開始剤の具
体例としては、例えば、1−フェニル−2−ヒドロキシ
−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、4−ジフェノキシジクロロ
アセトフェノン等が挙げられ、上記のベンゾフェノン系
光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安
息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロハ
シベンゾフェノン等が挙げられる。
Specific examples of the acetophenone-based photopolymerization initiator include, for example, 1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 4-diphenoxydichloroacetophenone, and the like. Examples of the above-mentioned benzophenone-based photopolymerization initiator include benzophenone, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, and hydrohashibenzophenone.

【0031】また、本発明においては、次の一般式(X
I)で表される化合物も光重合開始剤として好適に使用
することが出来る。
In the present invention, the following general formula (X
The compound represented by I) can also be suitably used as a photopolymerization initiator.

【0032】[0032]

【化6】 Embedded image

【0033】一般式(VI)中、R8は、メチル基、メト
キシ基または塩素原子を示し、nは2又は3の整数示
す。
In the general formula (VI), R 8 represents a methyl group, a methoxy group or a chlorine atom, and n represents an integer of 2 or 3.

【0034】上記の一般式(VI)で表される化合物の
具体例としては、例えば、2,6−ジメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,
6−トリメチルベンゾイルフェニルホスイフィン酸メチ
ルエステル、2,6−ジクロロベンゾイルフェニルホス
フィンオキシド等が挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the above general formula (VI) include, for example, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6
Examples thereof include 6-trimethylbenzoylphenylphosphinic acid methyl ester and 2,6-dichlorobenzoylphenylphosphine oxide.

【0035】上記の光重合開始剤は、モノマー100重
量部に対し、通常0.01〜1重量部、好ましくは0.
02〜0.3重量部の割合で使用される。
The above photopolymerization initiator is used in an amount of usually 0.01 to 1 part by weight, preferably 0.1 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the monomer.
It is used in a ratio of 02 to 0.3 parts by weight.

【0036】本発明においては、任意の他の成分とし
て、ラジカル重合可能な他の重合性モノマー、増粘剤、
熱重合開始剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料など
を使用することが出来る。
In the present invention, as other optional components, other polymerizable monomers capable of radical polymerization, a thickener,
Thermal polymerization initiators, antioxidants, ultraviolet absorbers, dyes and pigments can be used.

【0037】ラジカル重合可能な他の重合性モノマーと
しては、例えば、メタクリロイルオキシメチルシクロデ
カン、2,2−ビス[4−(β−メタクリロイルオキシ
エトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−
(β−メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキシ
ル]プロパン、1,4−ビス(メタクリロイルオキメチ
ル)シクロヘキサン等が挙げられる。これらの重合性モ
ノマーは、前述の重合性モノマー100重量部に対し、
通常30重量部以下の割合で使用される。
Examples of other radically polymerizable monomers include methacryloyloxymethylcyclodecane, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, and 2,2-bis [4-
(Β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane and the like. These polymerizable monomers are based on 100 parts by weight of the aforementioned polymerizable monomer.
Usually, it is used in a proportion of 30 parts by weight or less.

【0038】増粘剤としては、使用する重合性モノマー
の種類より適宜選択されるが、通常、非晶質熱可塑性ポ
リマーが使用される。特に次の一般式(VII)又は(VII
I)で表される非晶質ポリオレフンが好適である。
The thickener is appropriately selected depending on the type of the polymerizable monomer used, but usually, an amorphous thermoplastic polymer is used. In particular, the following general formula (VII) or (VII
Amorphous polyolefins represented by I) are preferred.

【0039】[0039]

【化7】 Embedded image

【0040】一般式(VII)中、Xは、シクロペンタジ
エン及びその誘導体、ノルボルナジエン及びその誘導
体、ジシキロペンタジエン及びその誘導体、または、こ
れらの水素添加物を示し、R9は、水素原子、炭化水素
基またはC6410基を示し、R10は、水素原子、炭化
水素基、アルコキシ基、ハロゲン化炭化水素基またはハ
ロゲン原子を示し、d及びeは、それぞれ独立して1以
上の整数を示す。
In the general formula (VII), X represents cyclopentadiene and a derivative thereof, norbornadiene and a derivative thereof, dicyclopentadiene and a derivative thereof, or a hydrogenated product thereof, and R 9 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon or a hydrocarbon. It represents a group or a C 6 H 4 R 10 group, R 10 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group, a halogenated hydrocarbon group or a halogen atom, d and e are each independently an integer of 1 or more Is shown.

【0041】[0041]

【化8】 Embedded image

【0042】一般式(VIII)中、j及びkは、それぞれ
独立して0又は1以上の整数を示す。また、環状5員環
単位はハロゲン原子または炭化水素基などの置換基を有
していてもよい。
In the general formula (VIII), j and k each independently represent 0 or an integer of 1 or more. Further, the cyclic 5-membered ring unit may have a substituent such as a halogen atom or a hydrocarbon group.

【0043】上記の様な非晶質ポリオレフンの具体例
は、特開平10−77321号公報に記載されているの
でそれを参照することが出来る。また、本発明において
は、他の非晶質ポリオレフンとして、上記の公開公報に
記載の、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン若し
くはその誘導体と、シクロペンテン、シクロオクテン、
1,5−シクロオクテンタジエン等の他の環状オレフィ
ンとの開環重合体またはその水素添加物も使用すること
が出来る。
Specific examples of the above-mentioned amorphous polyolefin are described in JP-A-10-77321, which can be referred to. In the present invention, as other amorphous polyolefins, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene or a derivative thereof described in the above-mentioned publication and cyclopentene, cyclooctene,
A ring-opened polymer with another cyclic olefin such as 1,5-cyclooctentadiene or a hydrogenated product thereof can also be used.

【0044】更に、本発明においては、次の一般式(I
X)で表される化合物も増粘剤として好適に使用するこ
とが出来る。
Further, in the present invention, the following general formula (I)
The compound represented by X) can also be suitably used as a thickener.

【0045】[0045]

【化9】 Embedded image

【0046】一般式(IX)中、Yは、例えば、メトキ
シ、エトキシ、イソプロポキシ等のアルコキシ基を示
し、hは1以上の整数を表す。
In the general formula (IX), Y represents an alkoxy group such as methoxy, ethoxy and isopropoxy, and h represents an integer of 1 or more.

【0047】上記の増粘剤は、モノマー100重量部に
対し、通常2〜10重量部、好ましくは4〜8重量部の
割合で使用される。
The above thickener is used in an amount of usually 2 to 10 parts by weight, preferably 4 to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer.

【0048】本発明で使用する光重合性モノマー組成物
は、上記の各成分の配合によって調製され、非溶媒系で
あり、その粘度は、20℃において、剪断速度10se
-1の条件下に測定した値として、通常500〜100
000mPa・sec、好ましくは1000〜1000
0mPa・secの範囲とされる。
The photopolymerizable monomer composition used in the present invention is prepared by blending the above components, is a non-solvent system, and has a viscosity at 20 ° C. and a shear rate of 10 sec.
As a value measured under the condition of c- 1 , usually 500 to 100
000 mPa · sec, preferably 1000 to 1000
The range is 0 mPa · sec.

【0049】上記の熱重合開始剤としては、ベンゾイル
パーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネー
ト、t−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエー
ト)等が挙げられ、その使用量は、モノマー100重量
部に対し、通常1重量部以下である。また、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、染顔料としては、公知のものを適宜
選択して使用することが出来る。
Examples of the above-mentioned thermal polymerization initiator include benzoyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, t-butylperoxy (2-ethylhexanoate) and the like, and the amount thereof is based on 100 parts by weight of the monomer. , Usually 1 part by weight or less. In addition, known antioxidants, ultraviolet absorbers, and dyes and pigments can be appropriately selected and used.

【0050】本発明の製造方法は、基本的には、移送さ
れる下部支持シート上に光重合性モノマー組成物を供給
し、その上に下部支持シートと同速度で同一方向に移送
される上部支持シートを積層した後、光重合性モノマー
組成物に活性線を照射して硬化させる透明樹脂基板の連
続的製造方法である。斯かる方法は、図1に示す様な製
造設備で行なうことが出来る。
In the production method of the present invention, basically, the photopolymerizable monomer composition is supplied onto the lower support sheet to be transferred, and the upper portion is transferred thereon at the same speed as the lower support sheet in the same direction. This is a method for continuously producing a transparent resin substrate in which a support sheet is laminated and then the photopolymerizable monomer composition is irradiated with active rays and cured. Such a method can be performed in a manufacturing facility as shown in FIG.

【0051】しかも、上記の製造設備によれば、下部支
持シート及び/又は上部支持シートを透過させて活性線
の照射を行なう前段硬化工程、および、両支持シートを
剥離した後に活性線の照射を行なう後段硬化工程より成
る、本発明の好ましい態様を実施することが出来る。す
なわち、斯かる態様によれば、硬化終了後に両支持シー
トを剥離する方法の場合に惹起される問題、すなわち、
活性線の照射により、支持シートが熱収縮し、シート状
に成形された光重合性モノマー組成物との間にズレを生
じるとの問題を回避し、より一層均一且つ平坦な表面を
有する透明樹脂基板を製造することが出来る。
Further, according to the above-mentioned manufacturing equipment, the pre-curing step of irradiating the lower support sheet and / or the upper support sheet with active rays and irradiating the active rays after peeling off both support sheets. A preferred embodiment of the present invention comprising a subsequent post-curing step can be practiced. That is, according to such an aspect, the problem caused in the case of the method of peeling both support sheets after curing is completed, that is,
By irradiating with actinic radiation, a transparent resin having a more uniform and flat surface, avoiding the problem that the support sheet thermally shrinks and causes a gap between the support sheet and the photopolymerizable monomer composition formed into a sheet shape A substrate can be manufactured.

【0052】図1において、下部支持シート(20)
は、下部支持シート送給装置(21)から送り出され、
駆動ローラ(22)、案内ローラ(23)及び(24)
を経由し、下部支持シート巻取装置(25)に巻き取ら
れる。一方、上部支持シート(30)は、上部支持シー
ト送給装置(31)から送り出され、案内ローラ(3
2)、(33)及び(34)を経由し、上部支持シート
巻取装置(35)に巻き取られる。下部支持シート側に
配置される案内ローラ(23)及び(24)と上部支持
シート側に配置される案内ローラ(33)及び(34)
は、それぞれ、対向して配置されている。
In FIG. 1, the lower support sheet (20)
Is sent out from the lower support sheet feeding device (21),
Drive roller (22), guide rollers (23) and (24)
Through the lower support sheet winding device (25). On the other hand, the upper support sheet (30) is sent out from the upper support sheet feeding device (31), and the guide rollers (3
2) Via (33) and (34), it is wound by the upper support sheet winding device (35). Guide rollers (23) and (24) arranged on the lower support sheet side and guide rollers (33) and (34) arranged on the upper support sheet side
Are arranged facing each other.

【0053】下部支持シート(20)及び上部支持シー
ト(30)は、共に可撓性シートで構成され、また、後
述する活性線の照射側のシートは透明シートで構成され
る。また、重合時の熱によって軟化しない様に通常10
0℃以上の軟化点を有するシートで構成される。斯かる
特性のシートとしては、厚さ50〜300μmの合成樹
脂シート、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、ポリカーボネート等の合成樹脂
シートが挙げられる。また、支持シートの光重合性モノ
マー組成物と接する側の表面粗さ(Ra)は、通常10
0nm以下、好ましくは20nm以下とされる。斯かる
支持シートとの使用により、その表面がより一層平滑な
透明樹脂基板が得られる。
The lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) are both made of a flexible sheet, and the sheet on the irradiation side of the actinic ray described later is made of a transparent sheet. Also, usually 10 to avoid softening by heat during polymerization.
It is composed of a sheet having a softening point of 0 ° C. or higher. Examples of the sheet having such characteristics include a synthetic resin sheet having a thickness of 50 to 300 μm, for example, a synthetic resin sheet such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polycarbonate. The surface roughness (Ra) of the side of the support sheet in contact with the photopolymerizable monomer composition is usually 10
0 nm or less, preferably 20 nm or less. By using such a support sheet, a transparent resin substrate having a smoother surface can be obtained.

【0054】下部支持シート(20)と上部支持シート
(30)は、同速度で同一方向に移送され、駆動ローラ
(22)から案内ローラ(23)及び(24)の間には
水平なパスライが形成されている。シートの移送速度
は、通常0.5〜20m/min、好ましくは1〜10
m/minとされる。
The lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) are transported in the same direction at the same speed, and a horizontal path line is formed between the drive roller (22) and the guide rollers (23) and (24). Is formed. The transfer speed of the sheet is usually 0.5 to 20 m / min, preferably 1 to 10 m / min.
m / min.

【0055】そして、駆動ローラ(22)の近傍に配置
されたダイコーター(1)から、下部支持シート(2
0)上に光重合性モノマー組成物(A)を供給し、その
上に上部支持シート(30)を積層した後、光重合性モ
ノマー組成物に活性線を照射して硬化させる。
Then, from the die coater (1) arranged near the driving roller (22), the lower support sheet (2) is moved.
0) The photopolymerizable monomer composition (A) is supplied thereon, and the upper support sheet (30) is laminated thereon. Then, the photopolymerizable monomer composition is irradiated with active rays and cured.

【0056】ダイコーター(1)から下部支持シート
(20)上に供給される光重合性モノマー組成物(A)
の厚さは、その供給速度とシートの移送速度とにより適
宜調節されるが、通常0.1〜5mmとされる。上部支
持シート(30)は、特に加圧される必要はなく、下部
支持シート(20)上に供給され且つシート状に成形さ
れた光重合性モノマー組成物(A)に均一に積層される
程度に押圧されればよい。活性線の光源としては、ケミ
カルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水
銀ランプ、メタルハライドランプ等が使用される。
The photopolymerizable monomer composition (A) supplied from the die coater (1) onto the lower support sheet (20)
Is appropriately adjusted depending on the supply speed and the sheet transfer speed, but is usually 0.1 to 5 mm. The upper support sheet (30) does not need to be particularly pressurized, and is supplied on the lower support sheet (20) and is uniformly laminated on the photopolymerizable monomer composition (A) formed into a sheet. What is necessary is just to be pressed. As a light source for the active ray, a chemical lamp, a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used.

【0057】本発明の好ましい態様の場合、先ず、前段
硬化工程用活性線照射設備(4)で活性線の照射を行な
い、次いで、両支持シート(20)及び(30)を夫々
の巻取装置(25)及び(35)で剥離した後、後段硬
化工程用活性線照射設備(6)で活性線の照射を行な
う。図1に示す製造設備の場合、活性線の照射は、両工
程共に両シート面から行なっているが、一方のシート面
から行なってもよい。
In a preferred embodiment of the present invention, firstly, the active ray irradiation equipment (4) for the pre-curing step is used to irradiate an active ray, and then both support sheets (20) and (30) are respectively wound into respective winding devices. After peeling in (25) and (35), irradiation with active rays is performed in the active ray irradiation equipment (6) for the post-curing step. In the case of the manufacturing facility shown in FIG. 1, the irradiation of active rays is performed from both sheet surfaces in both steps, but may be performed from one sheet surface.

【0058】上記の前段硬化工程では、通常5〜85重
量%、好ましくは20〜60重量%の光重合性モノマー
の重合を行い、後段硬化工程においては、残余の光重合
性モノマーの重合を行なう。硬化条件としては次の様な
条件が推奨される。
In the above first curing step, usually 5 to 85% by weight, preferably 20 to 60% by weight of the photopolymerizable monomer is polymerized, and in the second curing step, the remaining photopolymerizable monomer is polymerized. . The following conditions are recommended as curing conditions.

【0059】すなわち、活性線の照射強度は、両工程共
に約60〜200w/cm、照射時間は、前段硬化工程
の場合0.5〜3分、後段硬化工程の場合2〜5分とさ
れる。そして、照射量は照射強度と照射時間の関係で決
定されるが、後段硬化工程における照射量を大きくする
のが好ましい。後段硬化工程の照射量は、前段硬化工程
に対し、通常1.5〜20倍、好ましくは5〜10倍で
ある。また、光重合性モノマー組成物(A)の温度は、
重合熱によって昇温する。本発明の場合、適宜の冷却手
段により、光重合性モノマー組成物(A)の温度は、前
段硬化工程で約100〜150℃、後段硬化工程で約1
40〜180℃の範囲に制御するのが好ましい。斯かる
温度制御により、製品物性(透明性、強度、均質性な
ど)の低下が抑制される。また、活性線照射設備として
は市販の設備を利用することが出来るが、後段硬化工程
の雰囲気は窒素などの不活性雰囲気とするのが好まし
い。なお、前段硬化工程の雰囲気は大気雰囲気であって
もよい。
That is, the irradiation intensity of the active ray is about 60 to 200 w / cm in both steps, and the irradiation time is 0.5 to 3 minutes in the former curing step and 2 to 5 minutes in the latter curing step. . The irradiation amount is determined by the relationship between the irradiation intensity and the irradiation time, but it is preferable to increase the irradiation amount in the subsequent curing step. The irradiation amount in the latter curing step is usually 1.5 to 20 times, preferably 5 to 10 times that of the former curing step. The temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) is as follows:
The temperature is raised by the heat of polymerization. In the case of the present invention, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) is about 100 to 150 ° C. in the first curing step and about 1 in the second curing step by an appropriate cooling means.
It is preferable to control the temperature in the range of 40 to 180 ° C. Such temperature control suppresses a decrease in physical properties of the product (such as transparency, strength, and homogeneity). In addition, as the actinic ray irradiation equipment, commercially available equipment can be used, but the atmosphere of the post-curing step is preferably an inert atmosphere such as nitrogen. The atmosphere in the first curing step may be an air atmosphere.

【0060】本発明の場合、後段硬化工程においては、
前段硬化工程で得られた重合シート(完全硬化前の透明
樹脂基板)に対して、長さ方向に0.2〜1N/cm2
張力を掛け、且つ、幅方向に長手方向の1/5〜3/4
の張力を掛けるのが好ましい。斯かる態様の後段硬化工
程によれば、重合シートの歪み(うねり)が防止され、
より一層平坦な透明樹脂基板が得られる。重合シートの
長さ方向および幅方向に張力を掛ける方法としては、例
えば、連続する多数のクリップが耳部を挟んで引張って
走行するテンタークリップ方式を採用することが出来
る。
In the case of the present invention, in the subsequent curing step,
A tension of 0.2 to 1 N / cm 2 is applied in the length direction to the polymer sheet (transparent resin substrate before completely cured) obtained in the first-stage curing step, and 1/5 of the longitudinal direction in the width direction. ~ 3/4
Is preferably applied. According to the post-curing step in such an embodiment, distortion (undulation) of the polymer sheet is prevented,
An even flatter transparent resin substrate can be obtained. As a method of applying tension in the length direction and the width direction of the polymerized sheet, for example, a tenter clip method in which a large number of continuous clips are pulled across an ear portion and run can be adopted.

【0061】本発明の最大の特徴は、上記の両支持シー
トの剥離に先立ち、硬化したシート状光重合性モノマー
組成物の長手方向両端部の耳部を切断する点にある。す
なわち、図1に示す製造設備の場合は、前段硬化工程用
活性線照射設備(4)と後段硬化工程用活性線照射設備
(6)との間に配置された耳部切断用カッター(5)に
より、両支持シート(20)及び(30)を夫々の巻取
装置(25)及び(35)で剥離する前に耳部を切断す
る。耳部切断用カッター(5)としてはレーザーカッタ
ーが好適に使用される。支持シートと共に切断して除去
された耳部は、耳部巻取ローラ(図示せず)に巻き取ら
れる。
The most important feature of the present invention is that the edges of both ends in the longitudinal direction of the cured sheet-shaped photopolymerizable monomer composition are cut prior to the peeling of the two support sheets. That is, in the case of the manufacturing equipment shown in FIG. 1, the ear cutting cutter (5) arranged between the actinic ray irradiation equipment (4) for the pre-curing step and the actinic ray irradiation equipment (6) for the post-curing step. Thus, the ears are cut off before the support sheets (20) and (30) are peeled off by the respective winding devices (25) and (35). A laser cutter is suitably used as the ear cutting cutter (5). The ear part cut and removed together with the support sheet is wound around an ear winding roller (not shown).

【0062】上記の後段硬化工程終了後、得られた透明
樹脂基板は、適宜の手段で切断され、透明樹脂基板製品
(B)とされる。本発明においては、後段硬化工程終了
後であって上記の切断処理前において、必要に応じて熱
処理することが出来る。斯かる熱処理は、重合処理の仕
上げてとしての意味を有する。熱処理温度は、通常、1
50〜200℃、好ましくは150〜170℃とされ、
熱処理時間は、通常0.5時間以上、好ましくは0.5
〜2時間とされる。雰囲気は、不活性雰囲気または大気
雰囲気の何れであってもよい。
After the completion of the above-mentioned second curing step, the obtained transparent resin substrate is cut by an appropriate means to obtain a transparent resin substrate product (B). In the present invention, heat treatment can be performed, if necessary, after the completion of the second-stage curing step and before the above-described cutting treatment. Such a heat treatment has a meaning as a finish of the polymerization treatment. The heat treatment temperature is usually 1
50 to 200 ° C, preferably 150 to 170 ° C,
The heat treatment time is usually 0.5 hour or more, preferably 0.5 hour or more.
~ 2 hours. The atmosphere may be either an inert atmosphere or an air atmosphere.

【0063】なお、図示を省略したが、後段硬化工程に
ベルトコンベアを配置することが出来る。この場合は、
通常、当該ベルトコンベアの上側に配置される活性線照
射設備のみで後段硬化が行なわれる。また、図1に示す
製造設備の場合、下部支持シート(20)がベルトコン
ベアを兼ねているが、下部支持シート(20)の下部に
ベルトコンベアを配置し、当該ベルトコンベアの上に下
部支持シート(20)を載せて移送してもよい。更に、
一方の支持シート(好ましくは下部支持シート)はシー
ムレスのエンドレススチールシートで構成し、支持シー
トとして使用後に廃棄される合成樹脂シートの量を削減
してコストダウンを図ることも出来る。
Although not shown, a belt conveyor can be provided in the subsequent curing step. in this case,
Normally, post-stage curing is performed only by the actinic ray irradiation equipment arranged above the belt conveyor. In the case of the manufacturing equipment shown in FIG. 1, the lower support sheet (20) also serves as a belt conveyor, but the belt conveyor is arranged below the lower support sheet (20), and the lower support sheet is placed on the belt conveyor. (20) may be transported. Furthermore,
One support sheet (preferably, the lower support sheet) is made of a seamless endless steel sheet, and the cost can be reduced by reducing the amount of the synthetic resin sheet discarded after use as the support sheet.

【0064】本発明に係る方法で得られる透明樹脂基板
は優れた光線透過率を有し、その透過率は、通常75%
以上、好ましくは80%以上である。また、透明樹脂基
板の厚さは、その用途によって異なるが、通常0.1〜
5mm、好ましくは0.2〜1mmである。
The transparent resin substrate obtained by the method according to the present invention has an excellent light transmittance, which is usually 75%.
Or more, preferably 80% or more. Further, the thickness of the transparent resin substrate varies depending on its use, but is usually 0.1 to
5 mm, preferably 0.2-1 mm.

【0065】上記の様にして得られた透明樹脂基板は、
液晶、有機ELなどのディスプレー基板、光学フィルタ
ー、光通信材料、太陽電池基板などの各種用途に好適に
利用される。
The transparent resin substrate obtained as described above is
It is suitably used for various uses such as display substrates such as liquid crystal and organic EL, optical filters, optical communication materials, and solar cell substrates.

【0066】[0066]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist of the present invention.

【0067】実施例1 <光重合性モノマー組成物の調製>ビス(オキシメチ
ル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジアク
リレート94重量%とペンタエリスリトールテトラキス
(β−チオプロピオネート)6重量%との混合物100
重量部に対し、光重合開始剤として、ベンゾフェノン
0.05重量部と2,4,6−トリメチルベンゾイルジ
フェニルフォスフィンオキサイド0.05重量部、増粘
剤として日本ゼオン社製「ZEONEX450」(ノボ
ルネン系開環重合体の水素添加物)3重量部を添加し、
粘度3000mPa・secの光重合性モノマー組成物
を調製した。
Example 1 <Preparation of photopolymerizable monomer composition> Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = 94% by weight of diacrylate and pentaerythritol tetrakis (β-thiopro 100% mixture with 6% by weight of pionate)
With respect to parts by weight, 0.05 parts by weight of benzophenone and 0.05 parts by weight of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide are used as a photopolymerization initiator, and "ZEONEX450" (manufactured by Zeon Corporation) as a thickener is used. 3 parts by weight of a hydrogenated product of a ring-opening polymer)
A photopolymerizable monomer composition having a viscosity of 3000 mPa · sec was prepared.

【0068】<透明樹脂基板の製造設備>図1に示すの
と同様の製造設備を使用した。下部支持シート(20)
及び上部支持シート(30)には幅330mmで厚さ1
00μmのポリエステルシート(三菱化学ポリエステル
社製「O300」)、活性線照射設備(4)及び(6)
にはメタルハライドランプ(日本電池社製)、耳部切断
用カッター(5)には水冷式25W炭酸ガスレーザー
(カンタムエレクトロニクス社製)をそれぞれ使用し
た。
<Production Equipment for Transparent Resin Substrate> The same production equipment as shown in FIG. 1 was used. Lower support sheet (20)
And the upper support sheet (30) has a width of 330 mm and a thickness of 1 mm.
00 μm polyester sheet (“O300” manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester), actinic ray irradiation equipment (4) and (6)
, A water-cooled 25 W carbon dioxide laser (manufactured by Quantum Electronics Co., Ltd.) was used for the ear cutting cutter (5).

【0069】<透明樹脂基板の製造>先ず、下部支持シ
ート(20)及び上部支持シート(30)の移送速度を
1m/minsとし、ダイコーター(1)から下部支持
シート(20)上に光重合性モノマー組成物(A)を供
給し、幅310mmで厚さ400μmのシート状に成形
した。
<Manufacture of Transparent Resin Substrate> First, the transfer speed of the lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) was set to 1 m / min, and photopolymerization was performed on the lower support sheet (20) from the die coater (1). The reactive monomer composition (A) was supplied, and formed into a sheet having a width of 310 mm and a thickness of 400 μm.

【0070】次いで、前段硬化工程用活性線照射設備
(4)により0.5分間で2J/cm 2の照射を行なっ
た。この際、光重合性モノマー組成物(A)の温度は、
空冷により130℃に保持した。因みに、前段硬化にお
いては、光重合性モノマーの約60重量%の重合が行わ
れた。
Next, the actinic ray irradiation equipment for the pre-curing step
(4) 2 J / cm for 0.5 minutes TwoIrradiation
Was. At this time, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) is
The temperature was kept at 130 ° C. by air cooling. By the way, in the first stage curing
About 60% by weight of the photopolymerizable monomer is polymerized.
Was.

【0071】次いで、耳部切断用カッター(5)により
両端から20mmの位置で耳部を切断して除去した後、
巻取装置(25)及び(35)で両支持シート(20)
及び(30)をそれぞれ剥離した。
Next, the ear portion was cut off at a position of 20 mm from both ends by an edge cutting cutter (5) and removed.
Both support sheets (20) with the winding devices (25) and (35)
And (30) were peeled off.

【0072】次いで、後段硬化工程用活性線照射設備
(6)により5分間で25J/cm2の照射を行なっ
た。この際、光重合性モノマー組成物(A)の温度は、
空冷により160℃に保持した。その後、所定の長さに
切断して透明樹脂基板製品(B)を得た。
Then, irradiation was performed at 25 J / cm 2 for 5 minutes by the actinic ray irradiation equipment (6) for the post-curing step. At this time, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) is
The temperature was maintained at 160 ° C. by air cooling. Thereafter, the product was cut into a predetermined length to obtain a transparent resin substrate product (B).

【0073】約50mの透明樹脂基板製品が得られるま
で50分間に亘り連続的に透明樹脂基板の製造を行なっ
た。その間、透明樹脂基板製品(B)の破損は起こらな
かった。
The transparent resin substrate was continuously manufactured for 50 minutes until a transparent resin substrate product of about 50 m was obtained. During that time, the transparent resin substrate product (B) did not break.

【0074】比較例1 実施例1において、透明樹脂基板の製造設備として、後
段硬化工程用活性線照射設備(6)の後に耳部切断用カ
ッター(5)が配置された設備を使用し、両支持シート
(20)及び(30)の剥離後に耳部を切断した以外
は、実施例1と同様にして透明樹脂基板製品(B)を得
た。50分間の連続製造中に透明樹脂基板製品(B)の
破損が10回起こった。
Comparative Example 1 In Example 1, as the production equipment for the transparent resin substrate, equipment was used in which an active ray irradiation equipment (6) for the post-curing step was followed by an ear cutting cutter (5). A transparent resin substrate product (B) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ears were cut after the support sheets (20) and (30) were peeled off. During the continuous production for 50 minutes, the transparent resin substrate product (B) was damaged 10 times.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、均一且つ
平坦な表面を有し、しかも、製品歩留まりが改良され
た、透明樹脂基板の連続的製造方法が提供され、本発明
の工業的価値は顕著である。
According to the present invention described above, a method for continuously manufacturing a transparent resin substrate having a uniform and flat surface and improved product yield is provided. Is remarkable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】発明を実施するための製造設備の好ましい一例
の説明図
FIG. 1 is an explanatory diagram of a preferred example of a manufacturing facility for carrying out the invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:ダイコーター 4:前段硬化工程用活性線照射設備 5:耳部切断用カッター 6:後段硬化工程用活性線照射設備 20:下部支持シート 21:下部支持シート送給装置 22:駆動ローラ 23:案内ローラ 24:案内ローラ 25:下部支持シート巻取装置 30:上部支持シート 31:上部支持シート送給装置 32:案内ローラ 33:案内ローラ 34:案内ローラ 35:上部支持シート巻取装置 A:光重合性モノマー組成物 B:透明樹脂基板製品 1: Die coater 4: Active ray irradiation equipment for pre-curing process 5: Cutter for cutting ear 6: Active ray irradiation equipment for post-curing process 20: Lower support sheet 21: Lower support sheet feeding device 22: Drive roller 23: Guide roller 24: Guide roller 25: Lower support sheet take-up device 30: Upper support sheet 31: Upper support sheet feed device 32: Guide roller 33: Guide roller 34: Guide roller 35: Upper support sheet take-up device A: Light Polymerizable monomer composition B: Transparent resin substrate product

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B29L 7:00 B29L 7:00 C08L 57:00 C08L 57:00 (72)発明者 石原 充 三重県四日市市東邦町1番地 三菱化学株 式会社四日市事業所内 Fターム(参考) 4F071 AA33 AF29 AF30 AH12 AH19 BA02 BB02 BB12 BC01 BC03 BC08 4F073 AA05 AA07 BA18 BB01 CA45 FA03 HA09 HA11 4F204 AA43 AA44 AG01 AH36 AK03 AM32 AR08 EA04 EB02 EE03 EE07 EF01 EF36 EK04 EW02 EW06 EW23 EW34 4J011 AA04 AA05 AC04 BB10 CA08 CC10 QA03 QA45 SA01 SA22 SA26 SA29 SA61 SA84 TA02 TA03 UA01 VA01 VA02 WA07──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B29L 7:00 B29L 7:00 C08L 57:00 C08L 57:00 (72) Inventor Mitsuru Ishihara Yokkaichi, Mie Prefecture 1 Tohocho Mitsubishi Chemical Corporation Yokkaichi Office F-term (reference) 4F071 AA33 AF29 AF30 AH12 AH19 BA02 BB02 BB12 BC01 BC03 BC08 4F073 AA05 AA07 BA18 BB01 CA45 FA03 HA09 HA11 4F204 AA43 AA44 AG03 AE02 AR03 AE03 EF01 EF36 EK04 EW02 EW06 EW23 EW34 4J011 AA04 AA05 AC04 BB10 CA08 CC10 QA03 QA45 SA01 SA22 SA26 SA29 SA61 SA84 TA02 TA03 UA01 VA01 VA02 WA07

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 移送される下部支持シート上に光重合性
モノマー組成物を供給し、その上に下部支持シートと同
速度で同一方向に移送される上部支持シートを積層した
後、光重合性モノマー組成物に活性線を照射して硬化さ
せる透明樹脂基板の連続的製造方法であって、上記の両
支持シートの剥離に先立ち、硬化したシート状光重合性
モノマー組成物の長手方向両端部の耳部を切断すること
を特徴とする透明樹脂基板の連続的製造方法。
1. A photopolymerizable monomer composition is supplied onto a transferred lower support sheet, and an upper support sheet transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet is laminated thereon. A continuous method for producing a transparent resin substrate, which is cured by irradiating the monomer composition with actinic radiation, prior to the peeling of the two support sheets, at both ends in the longitudinal direction of the cured sheet-shaped photopolymerizable monomer composition. A method for continuously manufacturing a transparent resin substrate, characterized by cutting ears.
【請求項2】 耳部の切断がレーザーカッターにより行
われる請求項1に記載の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the cutting of the ears is performed by a laser cutter.
【請求項3】 下部支持シート及び/又は上部支持シー
トを透過させて活性線の照射を行なう前段硬化工程、お
よび、両支持シートを剥離した後に活性線の照射を行な
う後段硬化工程より成る請求項1又は2に記載の製造方
法。
3. A pre-curing step of irradiating an active ray through a lower support sheet and / or an upper supporting sheet, and a post-curing step of irradiating an actinic ray after peeling off both support sheets. 3. The production method according to 1 or 2.
【請求項4】 前段硬化工程において光重合性モノマー
の5〜85重量%を重合させ、後段硬化工程で残余の光
重合性モノマーの重合を行なう請求項3に記載の製造方
法。
4. The method according to claim 3, wherein 5 to 85% by weight of the photopolymerizable monomer is polymerized in the first curing step, and the remaining photopolymerizable monomer is polymerized in the second curing step.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004008449A1 (en) * 2002-07-10 2004-01-22 C.I. Kasei Company, Limited Optical recording medium, light-transmitting protective sheet used for same, and method for manufacturing them
JP2006219569A (en) * 2005-02-09 2006-08-24 Sumitomo Bakelite Co Ltd Manufacturing method of transparent composite sheet
WO2007111172A1 (en) * 2006-03-27 2007-10-04 The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Continuous process for producing resin substrate and resin substrate
JP2013006417A (en) * 2005-03-31 2013-01-10 Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd Method for producing transparent film
JP2017189893A (en) * 2016-04-12 2017-10-19 大倉工業株式会社 Manufacturing method of photosetting resin film and laminate obtained therefrom
JP2019111498A (en) * 2017-12-25 2019-07-11 大倉工業株式会社 Method for producing active energy ray-curable resin film

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004008449A1 (en) * 2002-07-10 2004-01-22 C.I. Kasei Company, Limited Optical recording medium, light-transmitting protective sheet used for same, and method for manufacturing them
JP2006219569A (en) * 2005-02-09 2006-08-24 Sumitomo Bakelite Co Ltd Manufacturing method of transparent composite sheet
JP2013006417A (en) * 2005-03-31 2013-01-10 Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd Method for producing transparent film
WO2007111172A1 (en) * 2006-03-27 2007-10-04 The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Continuous process for producing resin substrate and resin substrate
JP2017189893A (en) * 2016-04-12 2017-10-19 大倉工業株式会社 Manufacturing method of photosetting resin film and laminate obtained therefrom
JP2019111498A (en) * 2017-12-25 2019-07-11 大倉工業株式会社 Method for producing active energy ray-curable resin film

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