JP3573689B2 - Continuous production method of transparent resin substrate - Google Patents

Description

【００１２】
一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を示し、ｍは１又は２の整数、ｎは０又は１の整数、ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０〜３の何れかの整数を表す。
【００１３】
上記の式（Ｉ）で表される含脂環骨格ビス（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^３，６．０^２，７．０^９，１３］ペンタデカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^３，６．０^２，７．０^９，１３］ペンタデカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^３，６．０^２，７．０^９，１３］ペンタデカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物などが挙げられる。
【００１４】
【化２】

【００１５】
一般式（ＩＩ）中、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を示し、ｍは１又は２の整数、ｎは０又は１の整数、ｒ及びｓは、それぞれ独立して、０〜３の何れかの整数を表す。
【００１６】
上記の一般式（ＩＩ）で表される含脂環骨格モノ（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝モノアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^{２， ６}］デカン＝モノメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^３，６．０^２，７．０^９，１３］ペンタデカン＝モノアクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^３，６．０^２，７．０^９，１３］ペンタデカン＝モノメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝モノアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝モノメタクリレート及びこれらの混合物などが挙げられる。
【００１７】
含脂環骨格ビス（メタ）アクリレート及び含脂環骨格モノ（メタ）アクリレートと組み合わせて使用される二官能性メルカプト化合物としては、一般式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表されるメルカプト化合物が好適である。
【００１８】
【化３】

【００１９】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^４はメチレン基またはエチレン基を示し、Ｒ^５はエーテル酸素を含んでいてもよい炭素数２〜１５の炭化水素残基を示し、ａは２〜６の整数を示す。
【００２０】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ^５（エーテル酸素を含んでいてもよい炭素数２〜１５の炭化水素残基）の具体例としては、例えば、ペンタエリスリトール残基、ジペンタエリスリトール残基、トリメチロールプロパン残基、エチレングリコール残基、ジエチレングリコール残基、トリエチレングリコール残基、ブタンジオール残基などが挙げられる。
【００２１】
一般式（ＩＩＩ）で表されるメルカプト化合物は、２〜６価のチオグリコール酸エステル又はチオプロピオン酸エステルであり、その具体例としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパントリス（β−チオプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（チオグリコレート）、エチレングリコールビス（β−チオプロピオネート）等が挙げられる。
【００２２】
【化４】

【００２３】
一般式（ＩＶ）中、ＸはＨＳ−（ＣＨ_２）_ｂ−ＣＯ−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｄ−（ＣＨ_２）_ｃ−を示す。但し、ｂ及びｃは、それぞれ独立して１〜８の整数を示す。
【００２４】
一般式（ＩＶ）で表されるメルカプト化合物はω−チオール基含有イソシアヌレートであり、その具体例としては、例えば、トリス［２−（β−チオプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス（２−チオグリコニルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス［２−（β−チオグリコニルオキシエトキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［（２−チオグリコニルオキシエトキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［３−（β−チオプロピオニルオキシ）プロピル］イソシアヌレート、トリス（３−チオグリコニルオキシプロピル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００２５】
【化５】

【００２６】
一般式（Ｖ）中、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立してアルキレン基を示し、ｅ及びｆはそれぞれ独立して０又は１の整数を示し、ｇは１又は２の整数を示す。
【００２７】
一般式（Ｖ）で表される化合物はチオール基含有炭化水素であり、その具体例としては、例えば、ベンゼンメルカプタン、キシリレンメルカプタン、４，４’−ジメルカプトジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【００２８】
本発明において、上記の各成分は、通常、次の様な割合で使用される。すなわち、一般式（Ｉ）で表される含脂環骨格ビス（メタ）アクリレートは７０〜９９重量部、一般式（ＩＩ）で表される含脂環骨格モノ（メタ）アクリレートは１〜３０重量部、これらの合計量１００重量部に対し、上記の一般式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表されるメルカプト化合物は１〜１０重量部である。
【００２９】
上記の光重合開始剤としては、活性線の照射によってラジカルを発生し得る限り、特に制限されず、各種の光重合開始剤を使用することが出来る。代表的には各種のアセトフェノン系またはベンゾフェノン系の光重合開始剤が挙げられる。
【００３０】
上記のアセトフェノン系光重合開始剤の具体例としては、例えば、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−ジフェノキシジクロロアセトフェノン等が挙げられ、上記のベンゾフェノン系光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロハシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００３１】
また、本発明においては、次の一般式（ＸＩ）で表される化合物も光重合開始剤として好適に使用することが出来る。
【００３２】
【化６】

【００３３】
一般式（ＶＩ）中、Ｒ^８は、メチル基、メトキシ基または塩素原子を示し、ｎは２又は３の整数示す。
【００３４】
上記の一般式（ＶＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスイフィン酸メチルエステル、２，６−ジクロロベンゾイルフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
【００３５】
上記の光重合開始剤は、モノマー１００重量部に対し、通常０．０１〜１重量部、好ましくは０．０２〜０．３重量部の割合で使用される。
【００３６】
本発明においては、任意の他の成分として、ラジカル重合可能な他の重合性モノマー、増粘剤、熱重合開始剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料などを使用することが出来る。
【００３７】
ラジカル重合可能な他の重合性モノマーとしては、例えば、メタクリロイルオキシメチルシクロデカン、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキメチル）シクロヘキサン等が挙げられる。これらの重合性モノマーは、前述の重合性モノマー１００重量部に対し、通常３０重量部以下の割合で使用される。
【００３８】
増粘剤としては、使用する重合性モノマーの種類より適宜選択されるが、通常、非晶質熱可塑性ポリマーが使用される。特に次の一般式（ＶＩＩ）又は（ＶＩＩＩ）で表される非晶質ポリオレフンが好適である。
【００３９】
【化７】

【００４０】
一般式（ＶＩＩ）中、Ｘは、シクロペンタジエン及びその誘導体、ノルボルナジエン及びその誘導体、ジシキロペンタジエン及びその誘導体、または、これらの水素添加物を示し、Ｒ^９は、水素原子、炭化水素基またはＣ_６Ｈ_４Ｒ^１０基を示し、Ｒ^１０は、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化炭化水素基またはハロゲン原子を示し、ｄ及びｅは、それぞれ独立して１以上の整数を示す。
【００４１】
【化８】

【００４２】
一般式（ＶＩＩＩ）中、ｊ及びｋは、それぞれ独立して０又は１以上の整数を示す。また、環状５員環単位はハロゲン原子または炭化水素基などの置換基を有していてもよい。
【００４３】
上記の様な非晶質ポリオレフンの具体例は、特開平１０−７７３２１号公報に記載されているのでそれを参照することが出来る。また、本発明においては、他の非晶質ポリオレフンとして、上記の公開公報に記載の、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン若しくはその誘導体と、シクロペンテン、シクロオクテン、１，５−シクロオクテンタジエン等の他の環状オレフィンとの開環重合体またはその水素添加物も使用することが出来る。
【００４４】
更に、本発明においては、次の一般式（ＩＸ）で表される化合物も増粘剤として好適に使用することが出来る。
【００４５】
【化９】

【００４６】
一般式（ＩＸ）中、Ｙは、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ等のアルコキシ基を示し、ｈは１以上の整数を表す。
【００４７】
上記の増粘剤は、モノマー１００重量部に対し、通常２〜１０重量部、好ましくは４〜８重量部の割合で使用される。
【００４８】
本発明で使用する光重合性モノマー組成物は、上記の各成分の配合によって調製され、非溶媒系であり、その粘度は、２０℃において、剪断速度１０ｓｅｃ^−１の条件下に測定した値として、通常５００〜１０００００ｍＰａ・ｓｅｃ、好ましくは１０００〜１００００ｍＰａ・ｓｅｃの範囲とされる。
【００４９】
上記の熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）等が挙げられ、その使用量は、モノマー１００重量部に対し、通常１重量部以下である。また、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料としては、公知のものを適宜選択して使用することが出来る。
【００５０】
本発明の製造方法は、基本的には、移送される下部支持シート上に光重合性モノマー組成物を供給し、その上に下部支持シートと同速度で同一方向に移送される上部支持シートを積層した後、光重合性モノマー組成物に活性線を照射して硬化させる透明樹脂基板の連続的製造方法である。斯かる方法は、図１に示す様な製造設備で行なうことが出来る。
【００５１】
図１において、下部支持シート（２０）は、下部支持シート送給装置（２１）から送り出され、駆動ローラ（２２）、案内ローラ（２３）及び（２４）を経由し、下部支持シート巻取装置（２５）に巻き取られる。一方、上部支持シート（３０）は、上部支持シート送給装置（３１）から送り出され、案内ローラ（３２）、（３３）及び（３４）を経由し、上部支持シート巻取装置（３５）に巻き取られる。下部支持シート側に配置される案内ローラ（２３）及び（２４）と上部支持シート側に配置される案内ローラ（３３）及び（３４）は、それぞれ、対向して配置されている。
【００５２】
下部支持シート（２０）及び上部支持シート（３０）は、共に可撓性シートで構成され、また、後述する活性線の照射側のシートは透明シートで構成される。また、重合時の熱によって軟化しない様に通常１００℃以上の軟化点を有するシートで構成される。斯かる特性のシートとしては、厚さ５０〜３００μｍの合成樹脂シート、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の合成樹脂シートが挙げられる。また、支持シートの光重合性モノマー組成物と接する側の表面粗さ（Ｒａ）は、通常１００ｎｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以下とされる。斯かる支持シートとの使用により、その表面がより一層平滑な透明樹脂基板が得られる。
【００５３】
下部支持シート（２０）と上部支持シート（３０）は、同速度で同一方向に移送され、駆動ローラ（２２）から案内ローラ（２３）及び（２４）の間には水平なパスライが形成されている。シートの移送速度は、通常０．５〜２０ｍ／ｍｉｎ、好ましくは１〜１０ｍ／ｍｉｎとされる。
【００５４】
そして、駆動ローラ（２２）の近傍に配置されたダイコーター（１）から、下部支持シート（２０）上に光重合性モノマー組成物（Ａ）を供給し、その上に上部支持シート（３０）を積層した後、光重合性モノマー組成物に活性線を照射して硬化させる。
【００５５】
ダイコーター（１）から下部支持シート（２０）上に供給される光重合性モノマー組成物（Ａ）の厚さは、その供給速度とシートの移送速度とにより適宜調節されるが、通常０．１〜５ｍｍとされる。上部支持シート（３０）は、特に加圧される必要はなく、下部支持シート（２０）上に供給され且つシート状に成形された光重合性モノマー組成物（Ａ）に均一に積層される程度に押圧されればよい。活性線の光源としては、ケミカルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が使用される。
【００５６】
本発明の製造方法の最大の特徴は、下部支持シート（２０）及び／又は上部支持シート（３０）を透過させて活性線の照射を行なう前段硬化工程、および、両支持シート（２０）及び（３０）を剥離した後に活性線の照射を行なう後段硬化工程より成る点にある。
【００５７】
すなわち、図１に示す様に、先ず、前段硬化工程用活性線照射設備（４）で活性線の照射を行ない、次いで、両支持シート（２０）及び（３０）を夫々の巻取装置（２５）及び（３５）で剥離した後、後段硬化工程用活性線照射設備（６）で活性線の照射を行なう。図１に示す製造設備の場合、活性線の照射は、両工程共に両シート面から行なっているが、一方のシート面から行なってもよい。
【００５８】
本発明の好ましい態様においては、前段硬化工程では、通常５〜８５重量％、好ましくは２０〜６０重量％の光重合性モノマーの重合を行い、後段硬化工程においては、残余の光重合性モノマーの重合を行なう。硬化条件としては次の様な条件が推奨される。
【００５９】
すなわち、活性線の照射強度は、両工程共に約６０〜２００ｗ／ｃｍ、照射時間は、前段硬化工程の場合０．５〜３分、後段硬化工程の場合２〜５分とされる。そして、照射量は照射強度と照射時間の関係で決定されるが、後段硬化工程における照射量を大きくするのが好ましい。後段硬化工程の照射量は、前段硬化工程に対し、通常１．５〜２０倍、好ましくは５〜１０倍である。また、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、重合熱によって昇温する。本発明の場合、適宜の冷却手段により、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、前段硬化工程で約１００〜１５０℃、後段硬化工程で約１４０〜１８０℃の範囲に制御するのが好ましい。斯かる温度制御により、製品物性（透明性、強度、均質性など）の低下が抑制される。また、活性線照射設備としては市販の設備を利用することが出来るが、後段硬化工程の雰囲気は窒素などの不活性雰囲気とするのが好ましい。なお、前段硬化工程の雰囲気は大気雰囲気であってもよい。
【００６０】
また、後段硬化工程においては、前段硬化工程で得られた重合シート（完全硬化前の透明樹脂基板）に対して、長さ方向に０．２〜１Ｎ／ｃｍ^２の張力を掛け、且つ、幅方向に長手方向の１／５〜３／４の張力を掛けるのが好ましい。斯かる態様の後段硬化工程によれば、重合シートの歪み（うねり）が防止され、より一層平坦な透明樹脂基板が得られる。重合シートの長さ方向および幅方向に張力を掛ける方法としては、例えば、連続する多数のクリップが耳部を挟んで引張って走行するテンタークリップ方式を採用することが出来る。
【００６１】
図１に示す製造設備の場合は、前段硬化工程用活性線照射設備（４）と後段硬化工程用活性線照射設備（６）との間に耳部切断用カッター（５）が配置されている。これにより、硬化したシート状光重合性モノマー組成物の長手方向両端部の耳部（盛り上がり部）が除去される。通常、耳部は、支持シートの剥離後、所定サイズに切断する製品化工程で一緒に切断して除去される。斯かる方法による場合は、耳部の切断の際に製品が破損して製品歩留まりが低下するという問題がある。ところが、上記の様に、両支持シート（２０）及び（３０）を夫々の巻取装置（２５）及び（３５）で剥離する前に耳部を切断する、すなわち、支持シートと共に耳部を切断するならば、製品の破損が防止される利点がある。耳部切断用カッター（５）としてはレーザーカッターが好適に使用される。支持シートと共に切断して除去された耳部は、耳部巻取ローラ（図示せず）に巻き取られる。
【００６２】
上記の後段硬化工程終了後、得られた透明樹脂基板は、適宜の手段で切断され、透明樹脂基板製品（Ｂ）とされる。本発明においては、後段硬化工程終了後であって上記の切断処理前において、必要に応じて熱処理することが出来る。斯かる熱処理は、重合処理の仕上げてとしての意味を有する。熱処理温度は、通常、１５０〜２００℃、好ましくは１５０〜１７０℃とされ、熱処理時間は、通常０．５時間以上、好ましくは０．５〜２時間とされる。雰囲気は、不活性雰囲気または大気雰囲気の何れであってもよい。
【００６３】
なお、図示を省略したが、後段硬化工程にベルトコンベアを配置することが出来る。この場合は、通常、当該ベルトコンベアの上側に配置される活性線照射設備のみで後段硬化が行なわれる。また、図１に示す製造設備の場合、下部支持シート（２０）がベルトコンベアを兼ねているが、下部支持シート（２０）の下部にベルトコンベアを配置し、当該ベルトコンベアの上に下部支持シート（２０）を載せて移送してもよい。更に、一方の支持シート（好ましくは下部支持シート）はシームレスのエンドレススチールシートで構成し、支持シートとして使用後に廃棄される合成樹脂シートの量を削減してコストダウンを図ることも出来る。
【００６４】
本発明に係る方法で得られる透明樹脂基板は優れた光線透過率を有し、その透過率は、通常７５％以上、好ましくは８０％以上である。また、透明樹脂基板の厚さは、その用途によって異なるが、通常０．１〜５ｍｍ、好ましくは０．２〜１ｍｍである。
【００６５】
上記の様にして得られた透明樹脂基板は、液晶、有機ＥＬなどのディスプレー基板、光学フィルター、光通信材料、太陽電池基板などの各種用途に好適に利用される。
【００６６】
【実施例】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００６７】
実施例１
＜光重合性モノマー組成物の調製＞
ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン＝ジアクリレート９４重量％とペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオネート）６重量％との混合物１００重量部に対し、光重合開始剤として、ベンゾフェノン０．０５重量部と２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド０．０５重量部、増粘剤として日本ゼオン社製「ＺＥＯＮＥＸ４５０」（ノボルネン系開環重合体の水素添加物）３重量部を添加し、粘度３０００ｍＰａ・ｓｅｃの光重合性モノマー組成物を調製した。
【００６８】
＜透明樹脂基板の製造設備＞
図１に示すのと同様の製造設備を使用した。下部支持シート（２０）及び上部支持シート（３０）には幅３３０ｍｍで厚さ１００μｍのポリエステルシート（三菱化学ポリエステル社製「Ｏ３００」）、活性線照射設備（４）及び（６）にはメタルハライドランプ（日本電池社製）、耳部切断用カッター（５）には水冷式２５Ｗ炭酸ガスレーザー（カンタムエレクトロニクス社製）をそれぞれ使用した。
【００６９】
＜透明樹脂基板の製造＞
先ず、下部支持シート（２０）及び上部支持シート（３０）の移送速度を１ｍ／ｍｉｎｓとし、ダイコーター（１）から下部支持シート（２０）上に光重合性モノマー組成物（Ａ）を供給し、幅３１０ｍｍで厚さ４００μｍのシート状に成形した。
【００７０】
次いで、前段硬化工程用活性線照射設備（４）により０．５分間で２Ｊ／ｃｍ^２の照射を行なった。この際、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、空冷により１３０℃に保持した。因みに、前段硬化においては、光重合性モノマーの約６０重量％の重合が行われた。
【００７１】
次いで、耳部切断用カッター（５）により両端から２０ｍｍの位置で耳部を切断して除去した後、巻取装置（２５）及び（３５）で両支持シート（２０）及び（３０）をそれぞれ剥離した。
【００７２】
次いで、後段硬化工程用活性線照射設備（６）により５分間で２５Ｊ／ｃｍ^２の照射を行なった。この際、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、空冷により１６０℃に保持した。その後、所定の長さに切断して透明樹脂基板製品（Ｂ）を得た。
【００７３】
得られた透明樹脂基板製品（Ｂ）について、１０ｃｍ角に切り出して高さの変動（うねり）を測定した結果１ｍｍであった。
【００７４】
比較例１
実施例１において、２段硬化を行なわず、前段硬化工程用活性線照射設備（４）により５分間で２５Ｊ／ｃｍ^２の照射のみを行なって硬化を終了した以外は、実施例１と同様にして透明樹脂基板製品（Ｂ）を得た。得られた透明樹脂基板製品（Ｂ）のうねりは８ｍｍであった。
【００７５】
【発明の効果】
以上説明した本発明によれば、均一且つ平坦な表面を有する透明樹脂基板の連続的製造方法が提供され、本発明の工業的価値は顕著である。
【図面の簡単な説明】
【図１】発明を実施するための製造設備の好ましい一例の説明図
【符号の説明】
１：ダイコーター
４：前段硬化工程用活性線照射設備
５：耳部切断用カッター
６：後段硬化工程用活性線照射設備
２０：下部支持シート
２１：下部支持シート送給装置
２２：駆動ローラ
２３：案内ローラ
２４：案内ローラ
２５：下部支持シート巻取装置
３０：上部支持シート
３１：上部支持シート送給装置
３２：案内ローラ
３３：案内ローラ
３４：案内ローラ
３５：上部支持シート巻取装置
Ａ：光重合性モノマー組成物
Ｂ：透明樹脂基板製品[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for continuously manufacturing a transparent resin substrate, and more particularly, to a method for continuously manufacturing a transparent resin substrate having a uniform and flat surface.
[0002]
[Prior art]
BACKGROUND ART Transparent resin substrates are industrially used for various applications such as display substrates for liquid crystal and organic EL, optical filters, optical communication materials, and solar cell substrates. Such a transparent resin substrate supplies the photopolymerizable monomer composition onto the transferred lower support sheet, and stacks thereon the upper support sheet transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet, The photopolymerizable monomer composition can be continuously produced by a method of irradiating an actinic ray to cure the photopolymerizable monomer composition and then peeling off both support sheets. Usually, a synthetic resin sheet is used for the above-mentioned support sheet.
[0003]
By the way, in the above method, the support sheet thermally shrinks due to the irradiation of the actinic ray, and a gap occurs between the support sheet and the photopolymerizable monomer composition formed into a sheet. Therefore, it is difficult to continuously manufacture a transparent resin substrate having a uniform and flat surface.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for continuously manufacturing a transparent resin substrate having a uniform and flat surface.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have conducted various studies in order to achieve the above object, and as a result, surprisingly, the curing step by irradiation with actinic radiation was divided into two steps, and the support sheet was peeled off after the former curing step, and then the step was performed. It has been found that if the curing step is performed, the above object can be easily achieved, and the present invention has been completed.
[0006]
That is, the gist of the present invention is to supply the photopolymerizable monomer composition on the lower support sheet to be transferred, and after stacking the upper support sheet to be transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet, A method for continuously producing a transparent resin substrate for curing a photopolymerizable monomer composition by irradiating an actinic ray, comprising: a first curing step of irradiating an actinic ray through a lower support sheet and / or an upper support sheet; Further, the present invention resides in a method for continuously manufacturing a transparent resin substrate, which comprises a post-curing step of irradiating active rays after peeling off both support sheets.
[0007]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram of a preferred example of a manufacturing facility for carrying out the present invention.
[0008]
First, the photopolymerizable monomer composition used in the present invention will be described. The photopolymerizable monomer composition used in the present invention is composed of a polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and any other components.
[0009]
The above-mentioned polymerizable monomer is not particularly limited as long as it is a monomer capable of forming a transparent resin by being polymerized and cured by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays, and various monomers can be used. Typically, various acrylate compounds, for example, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, oligomers of these, or combinations of these with other polymerizable monomers, etc., are mentioned.
[0010]
In the present invention, an alicyclic ring skeleton bis (meth) acrylate represented by the following general formula (I) and an alicyclic ring represented by the following general formula (II) from the viewpoint of chemical resistance, rigidity and the like. A combination of a skeleton mono (meth) acrylate is preferred, and a combination of these with a bifunctional mercapto compound described below is particularly preferred. Note that “(meth) acrylate” is a general term including acrylate and methacrylate.
[0011]
Embedded image

[0012]
In the general formula (I), R ¹ and R ² each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 or 2, n is an integer of 0 or 1, p and q are each independently Represents an integer of 0 to 3.
[0013]
Specific examples of the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate represented by the above formula (I) include, for example, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 ] decane = diacrylate; Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 ] decane = dimethacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 ] decane = acrylate methacrylate and mixtures thereof, Bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 ^3,6 . 0 ^2,7 . ^09,13 ] pentadecane diacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 ^3,6 . 0 ^2,7 . ^09,13 ] pentadecane dimethacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 ^3,6 . 0 ^2,7 . ^09,13 ] pentadecane acrylate methacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 ] decane = diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1. 0 ^2,6 ] decane = dimethacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 ] decane = acrylate methacrylate, and mixtures thereof.
[0014]
Embedded image

[0015]
In the general formula (II), R ³ represents a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 or 2, n is an integer of 0 or 1, r and s are each independently any one of 0 to 3 Represents an integer.
[0016]
Specific examples of the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate represented by the general formula (II) include, for example, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 ] decane = monoacrylate , bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^{2, 6]} decane = monomethacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 ^{3, 6.} 0 ^2,7 . ^09,13 ] pentadecane monoacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 ^3,6 . 0 ^2,7 . ^09,13 ] pentadecane = monomethacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 ] decane = monoacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1. 0 ^2,6 ] decane = monomethacrylate and mixtures thereof.
[0017]
As the bifunctional mercapto compound used in combination with the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate and the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate, mercapto compounds represented by formulas (III) to (V) are preferable. It is.
[0018]
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[0019]
In the general formula (III), R ⁴ represents a methylene group or an ethylene group, R ⁵ represents a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain ether oxygen, and a represents an integer of 2 to 6. Show.
[0020]
In the general formula (III), specific examples of R ⁵ (a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain an ether oxygen) include, for example, a pentaerythritol residue, a dipentaerythritol residue, a trimethylol Examples include a propane residue, an ethylene glycol residue, a diethylene glycol residue, a triethylene glycol residue, and a butanediol residue.
[0021]
The mercapto compound represented by the general formula (III) is a di- to hexavalent thioglycolate or thiopropionate, and specific examples thereof include, for example, pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), Examples include pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), trimethylolpropane tris (β-thiopropionate), trimethylolpropane tris (thioglycolate), and ethylene glycol bis (β-thiopropionate).
[0022]
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[0023]
In general formula (IV), X is _{HS- (CH 2) b -CO- (} OCH 2 CH 2) d - (CH 2) c - shows a. Here, b and c each independently represent an integer of 1 to 8.
[0024]
The mercapto compound represented by the general formula (IV) is an isocyanurate containing an ω-thiol group, and specific examples thereof include tris [2- (β-thiopropionyloxy) ethyl] isocyanurate and tris (2- Thioglyconyloxyethyl) isocyanurate, tris [2- (β-thioglyconyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris [(2-thioglyconyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris [3- (β- Thiopropionyloxy) propyl] isocyanurate, tris (3-thioglyconyloxypropyl) isocyanurate and the like.
[0025]
Embedded image

[0026]
In the general formula (V), R ⁶ and R ⁷ each independently represent an alkylene group, e and f each independently represent an integer of 0 or 1, and g represents an integer of 1 or 2.
[0027]
The compound represented by the general formula (V) is a thiol group-containing hydrocarbon, and specific examples thereof include benzene mercaptan, xylylene mercaptan, and 4,4′-dimercaptodiphenyl sulfide.
[0028]
In the present invention, the above components are generally used in the following proportions. That is, the alicyclic ring skeleton bis (meth) acrylate represented by the general formula (I) is 70 to 99 parts by weight, and the alicyclic ring skeleton mono (meth) acrylate represented by the general formula (II) is 1 to 30 parts by weight. And the mercapto compound represented by the above general formulas (III) to (V) is 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount thereof.
[0029]
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as radicals can be generated by irradiation with actinic rays, and various photopolymerization initiators can be used. Typically, various acetophenone-based or benzophenone-based photopolymerization initiators can be used.
[0030]
Specific examples of the acetophenone-based photopolymerization initiator include, for example, 1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 4-diphenoxydichloroacetophenone, and the like. Examples of the above-mentioned benzophenone-based photopolymerization initiator include benzophenone, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydrohashibenzophenone and the like.
[0031]
Further, in the present invention, a compound represented by the following general formula (XI) can also be suitably used as a photopolymerization initiator.
[0032]
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[0033]
In Formula (VI), R ⁸ represents a methyl group, a methoxy group, or a chlorine atom, and n represents an integer of 2 or 3.
[0034]
Specific examples of the compound represented by the general formula (VI) include, for example, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl Examples include phenylphosphinic acid methyl ester and 2,6-dichlorobenzoylphenylphosphine oxide.
[0035]
The photopolymerization initiator is used in a proportion of usually 0.01 to 1 part by weight, preferably 0.02 to 0.3 part by weight, based on 100 parts by weight of the monomer.
[0036]
In the present invention, as other optional components, other polymerizable monomers capable of radical polymerization, a thickener, a thermal polymerization initiator, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a dye and a pigment can be used.
[0037]
Examples of other radically polymerizable monomers include methacryloyloxymethylcyclodecane, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, and 2,2-bis [4- (β- Methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, and the like. These polymerizable monomers are generally used in a proportion of 30 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the above-mentioned polymerizable monomer.
[0038]
The thickener is appropriately selected depending on the type of the polymerizable monomer to be used, but usually, an amorphous thermoplastic polymer is used. Particularly, an amorphous polyolefin represented by the following general formula (VII) or (VIII) is preferable.
[0039]
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[0040]
In the general formula (VII), X represents cyclopentadiene and a derivative thereof, norbornadiene and a derivative thereof, dicyclopentadiene and a derivative thereof, or a hydrogenated product thereof, and R ⁹ represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a C ₆ H ₄ R ¹⁰ represents a group, R ¹⁰ represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group, a halogenated hydrocarbon group or a halogen atom, and d and e each independently represent an integer of 1 or more.
[0041]
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[0042]
In the general formula (VIII), j and k each independently represent 0 or an integer of 1 or more. Further, the cyclic 5-membered ring unit may have a substituent such as a halogen atom or a hydrocarbon group.
[0043]
Specific examples of the above-described amorphous polyolefin are described in JP-A-10-77321, which can be referred to. In the present invention, as other amorphous polyolefins, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene or a derivative thereof described in the above-mentioned publication and cyclopentene, cyclooctene, 1,5- A ring-opened polymer with another cyclic olefin such as cyclooctentadiene or a hydrogenated product thereof can also be used.
[0044]
Further, in the present invention, a compound represented by the following formula (IX) can also be suitably used as a thickener.
[0045]
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[0046]
In Formula (IX), Y represents an alkoxy group such as methoxy, ethoxy, and isopropoxy, and h represents an integer of 1 or more.
[0047]
The above thickener is used in an amount of usually 2 to 10 parts by weight, preferably 4 to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer.
[0048]
The photopolymerizable monomer composition used in the present invention is prepared by blending the above components, is a non-solvent system, and has a viscosity as a value measured at 20 ° C. under a shear rate of 10 sec ^−1. , Usually 500 to 100,000 mPa · sec, preferably 1,000 to 10,000 mPa · sec.
[0049]
Examples of the above-mentioned thermal polymerization initiator include benzoyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, t-butylperoxy (2-ethylhexanoate), and the amount of the thermal polymerization initiator is usually 1 to 100 parts by weight of the monomer. Not more than parts by weight. In addition, known antioxidants, ultraviolet absorbers, and dyes and pigments can be appropriately selected and used.
[0050]
The production method of the present invention basically supplies the photopolymerizable monomer composition onto the transferred lower support sheet, and further transfers the upper support sheet transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet. This is a method for continuously manufacturing a transparent resin substrate in which the photopolymerizable monomer composition is laminated and then irradiated with actinic radiation to be cured. Such a method can be performed in a manufacturing facility as shown in FIG.
[0051]
In FIG. 1, a lower support sheet (20) is sent out from a lower support sheet feeder (21), passes through a drive roller (22), guide rollers (23) and (24), and is taken up by a lower support sheet winding device. (25). On the other hand, the upper support sheet (30) is sent out from the upper support sheet feeding device (31), passes through the guide rollers (32), (33) and (34), and is sent to the upper support sheet winding device (35). It is wound up. The guide rollers (23) and (24) arranged on the lower support sheet side and the guide rollers (33) and (34) arranged on the upper support sheet side are arranged to face each other.
[0052]
The lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) are both made of a flexible sheet, and a sheet on the side irradiated with actinic rays, which will be described later, is made of a transparent sheet. Further, it is usually composed of a sheet having a softening point of 100 ° C. or higher so as not to be softened by heat during polymerization. Examples of the sheet having such characteristics include a synthetic resin sheet having a thickness of 50 to 300 μm, for example, a synthetic resin sheet such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polycarbonate. The surface roughness (Ra) of the support sheet on the side in contact with the photopolymerizable monomer composition is usually 100 nm or less, preferably 20 nm or less. By using such a support sheet, a transparent resin substrate having a smoother surface can be obtained.
[0053]
The lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) are transported in the same direction at the same speed, and a horizontal path line is formed between the drive roller (22) and the guide rollers (23) and (24). I have. The transfer speed of the sheet is usually 0.5 to 20 m / min, preferably 1 to 10 m / min.
[0054]
Then, the photopolymerizable monomer composition (A) is supplied onto the lower support sheet (20) from the die coater (1) disposed near the drive roller (22), and the upper support sheet (30) is further placed thereon. After laminating, the photopolymerizable monomer composition is irradiated with actinic radiation to be cured.
[0055]
The thickness of the photopolymerizable monomer composition (A) supplied from the die coater (1) onto the lower support sheet (20) is appropriately adjusted depending on the supply speed and the sheet transfer speed. 1 to 5 mm. The upper support sheet (30) does not need to be particularly pressurized, and is supplied on the lower support sheet (20) and is uniformly laminated on the photopolymerizable monomer composition (A) formed into a sheet. What is necessary is just to be pressed. As a light source for the active ray, a chemical lamp, a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used.
[0056]
The most significant feature of the production method of the present invention is that a pre-curing step of irradiating the lower support sheet (20) and / or the upper support sheet (30) and irradiating with active rays, and both support sheets (20) and ( 30) is a post-curing step of irradiating an actinic ray after peeling off 30).
[0057]
That is, as shown in FIG. 1, first, the active ray irradiation equipment (4) for the pre-curing step is used to irradiate the active ray, and then both support sheets (20) and (30) are wound into respective winding devices (25). ) And (35), the active ray is irradiated in the active ray irradiation equipment (6) for the post-curing step. In the case of the manufacturing facility shown in FIG. 1, the irradiation of active rays is performed from both sheet surfaces in both steps, but may be performed from one sheet surface.
[0058]
In a preferred embodiment of the present invention, in the first curing step, usually 5 to 85% by weight, preferably 20 to 60% by weight of the photopolymerizable monomer is polymerized, and in the second curing step, the remaining photopolymerizable monomer is polymerized. Perform polymerization. The following conditions are recommended as curing conditions.
[0059]
That is, the irradiation intensity of the active ray is about 60 to 200 w / cm in both steps, and the irradiation time is 0.5 to 3 minutes in the former curing step and 2 to 5 minutes in the latter curing step. The irradiation amount is determined by the relationship between the irradiation intensity and the irradiation time, but it is preferable to increase the irradiation amount in the subsequent curing step. The irradiation amount in the latter curing step is usually 1.5 to 20 times, preferably 5 to 10 times that of the former curing step. Further, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) is increased by the heat of polymerization. In the case of the present invention, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) is preferably controlled to a range of about 100 to 150 ° C. in the first curing step and about 140 to 180 ° C. in the second curing step by an appropriate cooling means. preferable. Such temperature control suppresses a decrease in product properties (transparency, strength, homogeneity, etc.). Further, as the actinic ray irradiation equipment, a commercially available equipment can be used, but the atmosphere in the latter curing step is preferably an inert atmosphere such as nitrogen. The atmosphere in the first curing step may be an air atmosphere.
[0060]
Further, in the post-curing step, a tension of 0.2 to 1 N / cm ² is applied to the polymer sheet (transparent resin substrate before complete curing) obtained in the pre-curing step in the length direction, and the width is increased. It is preferable to apply a tension of 1/5 to 3/4 of the longitudinal direction in the direction. According to the post-curing step in such an embodiment, distortion (undulation) of the polymer sheet is prevented, and a more flat transparent resin substrate is obtained. As a method of applying tension in the length direction and the width direction of the polymerized sheet, for example, a tenter clip method in which a large number of continuous clips are pulled across an ear portion and run can be adopted.
[0061]
In the case of the manufacturing equipment shown in FIG. 1, an ear cutting cutter (5) is disposed between the active ray irradiation equipment (4) for the first curing step and the active ray irradiation equipment (6) for the second curing step. . As a result, the lugs (bulges) at both ends in the longitudinal direction of the cured sheet-shaped photopolymerizable monomer composition are removed. Usually, after the support sheet is peeled off, the ear portions are cut and removed together in a commercialization step of cutting into a predetermined size. In the case of such a method, there is a problem that the product is damaged when the ear is cut, and the product yield is reduced. However, as described above, the ears are cut off before the support sheets (20) and (30) are peeled off by the respective winding devices (25) and (35), that is, the ears are cut together with the support sheet. If so, there is an advantage that damage to the product is prevented. A laser cutter is preferably used as the ear cutting cutter (5). The ear part cut and removed together with the support sheet is wound around an ear winding roller (not shown).
[0062]
After the above-mentioned second-stage curing step, the obtained transparent resin substrate is cut by an appropriate means to obtain a transparent resin substrate product (B). In the present invention, a heat treatment can be performed, if necessary, after the end of the second-stage curing step and before the above-described cutting treatment. Such a heat treatment has a meaning as a finish of the polymerization treatment. The heat treatment temperature is usually 150 to 200 ° C, preferably 150 to 170 ° C, and the heat treatment time is usually 0.5 hours or more, preferably 0.5 to 2 hours. The atmosphere may be either an inert atmosphere or an air atmosphere.
[0063]
Although not shown, a belt conveyor can be provided in the subsequent curing step. In this case, the post-stage curing is usually performed only by the actinic ray irradiation equipment arranged above the belt conveyor. In the case of the manufacturing equipment shown in FIG. 1, the lower support sheet (20) also serves as a belt conveyor, but the belt conveyor is arranged below the lower support sheet (20), and the lower support sheet is placed on the belt conveyor. (20) may be transported. Further, one of the support sheets (preferably, the lower support sheet) is made of a seamless endless steel sheet, and the amount of the synthetic resin sheet discarded after use as the support sheet can be reduced to reduce the cost.
[0064]
The transparent resin substrate obtained by the method according to the present invention has excellent light transmittance, and the transmittance is usually 75% or more, preferably 80% or more. The thickness of the transparent resin substrate varies depending on its use, but is usually 0.1 to 5 mm, preferably 0.2 to 1 mm.
[0065]
The transparent resin substrate obtained as described above is suitably used for various uses such as display substrates for liquid crystal and organic EL, optical filters, optical communication materials, and solar cell substrates.
[0066]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist of the present invention.
[0067]
Example 1
<Preparation of photopolymerizable monomer composition>
To 100 parts by weight of a mixture of 94% by weight of bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 ] decane = diacrylate and ⁶ % by weight of pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), As a polymerization initiator, 0.05 parts by weight of benzophenone and 0.05 parts by weight of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, and as a thickener, "ZEONEX450" manufactured by Zeon Corporation (hydrogen of nobornene-based ring-opened polymer) 3 parts by weight of an additive) were added to prepare a photopolymerizable monomer composition having a viscosity of 3000 mPa · sec.
[0068]
<Transparent resin substrate manufacturing equipment>
The same manufacturing equipment as shown in FIG. 1 was used. The lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) have a width of 330 mm and a thickness of 100 μm polyester sheet (“O300” manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester), and the active ray irradiation equipment (4) and (6) have metal halide lamps. A water-cooled 25 W carbon dioxide laser (manufactured by Quantum Electronics Co., Ltd.) was used for the ear part cutting cutter (5) (manufactured by Nippon Battery Co., Ltd.).
[0069]
<Manufacture of transparent resin substrate>
First, the transfer speed of the lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) is set to 1 m / mins, and the photopolymerizable monomer composition (A) is supplied from the die coater (1) onto the lower support sheet (20). Into a sheet having a width of 310 mm and a thickness of 400 μm.
[0070]
Next, irradiation of ² J / cm ² was performed for 0.5 minutes by the actinic ray irradiation equipment (4) for the former curing step. At this time, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) was kept at 130 ° C. by air cooling. Incidentally, in the first-stage curing, about 60% by weight of the photopolymerizable monomer was polymerized.
[0071]
Next, after cutting and removing the ear portion at a position of 20 mm from both ends with an edge cutting cutter (5), both support sheets (20) and (30) are respectively taken up by winding devices (25) and (35). Peeled off.
[0072]
Next, irradiation was performed at 25 J / cm ² for 5 minutes by the actinic ray irradiation equipment (6) for the post-curing step. At this time, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) was maintained at 160 ° C. by air cooling. Thereafter, the resultant was cut into a predetermined length to obtain a transparent resin substrate product (B).
[0073]
The resulting transparent resin substrate product (B) was cut into 10 cm squares, and the height variation (undulation) was measured to be 1 mm.
[0074]
Comparative Example 1
In the same manner as in Example 1 except that the two-stage curing was not performed and the curing was completed only by irradiating 25 J / cm ² for 5 minutes using the active ray irradiation equipment (4) for the former curing step. Thus, a transparent resin substrate product (B) was obtained. The undulation of the obtained transparent resin substrate product (B) was 8 mm.
[0075]
【The invention's effect】
According to the present invention described above, a method for continuously manufacturing a transparent resin substrate having a uniform and flat surface is provided, and the industrial value of the present invention is remarkable.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory view of a preferred example of a manufacturing facility for carrying out the invention.
1: Die coater 4: Active ray irradiation equipment for pre-curing step 5: Cutter for cutting ear part 6: Active ray irradiation equipment 20 for post-curing step: Lower support sheet 21: Lower support sheet feeding device 22: Drive roller 23: Guide roller 24: Guide roller 25: Lower support sheet winding device 30: Upper support sheet 31: Upper support sheet feeding device 32: Guide roller 33: Guide roller 34: Guide roller 35: Upper support sheet winding device A: Light Polymerizable monomer composition B: transparent resin substrate product

Claims (4)

The photopolymerizable monomer composition is supplied onto the transferred lower support sheet, and the upper support sheet transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet is laminated thereon, and then the photopolymerizable monomer composition is activated. A continuous production method of a transparent resin substrate which is cured by irradiating a line, wherein a pre-curing step of irradiating an active ray by passing through a lower support sheet and / or an upper support sheet, and both support sheets are separated. A method for continuously manufacturing a transparent resin substrate, comprising a post-curing step of irradiating active rays later. The method according to claim 1, wherein 5 to 85% by weight of the photopolymerizable monomer is polymerized in the first curing step, and the remaining photopolymerizable monomer is polymerized in the second curing step. 3. The method according to claim 1, wherein the surface roughness (Ra) of the support sheet on the side in contact with the photopolymerizable monomer composition is 100 nm or less. 4. In the post-curing step, a tension of 0.2 to 1 N / cm ² is applied to the polymer sheet obtained in the pre-curing step in the length direction and １ ／ to ３ of the longitudinal direction in the width direction. The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the tension is applied.

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