JP2002011641A - Image pickup mechanism of cutting device - Google Patents

Image pickup mechanism of cutting device

Info

Publication number
JP2002011641A
JP2002011641A JP2000194340A JP2000194340A JP2002011641A JP 2002011641 A JP2002011641 A JP 2002011641A JP 2000194340 A JP2000194340 A JP 2000194340A JP 2000194340 A JP2000194340 A JP 2000194340A JP 2002011641 A JP2002011641 A JP 2002011641A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
opening
cutting
workpiece
cutting device
cover
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000194340A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4694675B2 (en
Inventor
Shigeru Ishii
茂 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2000194340A priority Critical patent/JP4694675B2/en
Publication of JP2002011641A publication Critical patent/JP2002011641A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4694675B2 publication Critical patent/JP4694675B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
  • Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image pickup mechanism of a cutting device capable of preventing adhesion of contaminant flying during cutting to an object lens. SOLUTION: The object lens opposite to the surface of a work to be machined held on a chuck table 3 and cut is provided. The photographing mechanism for a cutting device is provided to photograph the surface of the work to be machined and comprises a closing cover to cover the periphery of the object lens and have a lower part being opened; and an on-off cover 52 constituted operably between a closing position where an opening 331 of the closed cover is closed and an opening position where an opening 331 of a closed cover is released.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、切削装置の撮像機
構、更に詳しくはチャックテーブルに保持された被加工
物の表面を撮像するための切削装置の撮像機構に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image pickup mechanism of a cutting device, and more particularly to an image pickup mechanism of a cutting device for picking up an image of a surface of a workpiece held on a chuck table.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、半導体ウエーハ等を切削する切
削装置には、半導体ウエーハ等の被加工物の切削すべき
領域を検出したり、切削溝の状態を確認したりするため
に顕微鏡とCCDカメラ等を備えた撮像機構が装備され
ている。この撮像機構は、一般に切削領域に近接した位
置に配設されている。
2. Description of the Related Art For example, a cutting apparatus for cutting a semiconductor wafer or the like includes a microscope and a CCD camera for detecting a region to be cut of a workpiece such as a semiconductor wafer or confirming a state of a cutting groove. And the like. This imaging mechanism is generally arranged at a position close to the cutting area.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】而して、切削装置は切
削部に切削水を供給しつつ切削を遂行するため、切削に
よって発生する切削屑を含んだ切削水がコンタミとなっ
て飛散し、この飛散したコンタミが撮像機構を構成する
顕微鏡の対物レンズに付着する。この結果、対物レンズ
を通して撮像された切削すべき領域を誤検出したり、切
削溝の状態を誤認識するという問題が発生する。
However, since the cutting device performs cutting while supplying cutting water to the cutting portion, cutting water containing cutting chips generated by the cutting is scattered as contamination. The scattered contamination adheres to the objective lens of the microscope constituting the imaging mechanism. As a result, there arises a problem that a region to be cut imaged through the objective lens is erroneously detected or a state of the cut groove is erroneously recognized.

【0004】本発明は上記事実に鑑みてなされたもので
あり、その主たる技術課題は、切削時に飛散するコンタ
ミが対物レンズに付着するのを防止することができる切
削装置の撮像機構を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and a main technical problem thereof is to provide an image pickup mechanism of a cutting device which can prevent contamination scattered during cutting from adhering to an objective lens. It is in.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記主たる技術課題を解
決するため、本発明によれば、チャックテーブル上に保
持され切削加工される被加工物の表面と対向する対物レ
ンズを備え、被加工物の表面を撮像する切削装置の撮像
機構において、該対物レンズの周囲を覆い下方が開口さ
れた密閉カバーと、該密閉カバーの開口を開閉するシャ
ッター手段とを具備している、ことを特徴とする切削装
置の撮像機構が提供される。
According to the present invention, there is provided, in accordance with the present invention, an object lens provided with an objective lens which is held on a chuck table and faces a surface of a workpiece to be cut. An imaging mechanism of a cutting device for imaging the surface of the objective lens, comprising: a hermetic cover covering the periphery of the objective lens and having a downward opening; and shutter means for opening and closing the opening of the hermetic cover. An imaging mechanism for a cutting device is provided.

【0006】上記シャッター手段は、上記密閉カバーの
開口を塞ぐ閉位置と密閉カバーの開口を開放する開位置
との間を作動可能に構成された開閉蓋と、該開閉蓋を閉
位置と開位置に選択的に位置付けるアクチュエータとを
具備している。また、上記密閉カバー内には上記対物レ
ンズの外周に沿って配設され被加工物の表面に光を照射
するリング照明機構が配置されており、上記シャッター
手段は該リング照明機構の下方を開閉する。上記密閉カ
バー内にエアーを供給するエアー供給手段を具備してい
ることが望ましく、また、上記チャックテーブルに保持
された被加工物の撮像領域にエアーを噴出するエアー噴
出手段を具備していることが望ましい。
The shutter means includes an opening / closing lid operable between a closed position for closing the opening of the sealing cover and an opening position for opening the opening of the sealing cover; And an actuator for selectively positioning the actuator. A ring illumination mechanism is provided in the closed cover along the outer periphery of the objective lens and irradiates light to the surface of the workpiece. The shutter means opens and closes the lower part of the ring illumination mechanism. I do. It is desirable to have air supply means for supplying air into the closed cover, and to have air ejection means for ejecting air to the imaging area of the workpiece held on the chuck table. Is desirable.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明に従って構成された
切削装置の撮像機構の好適な実施形態について、添付図
面を参照して詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of an image pickup mechanism of a cutting device constituted according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0008】図1には、本発明に従って構成された撮像
機構を装備した切削装置としてのダイシング装置の斜視
図が示されている。図示の実施形態におけるダイシング
装置は、略直方体状の装置ハウジング2を具備してい
る。この装置ハウジング2内には、被加工物を保持する
チャックテーブル3が切削送り方向である矢印Xで示す
方向に移動可能に配設されている。チャックテーブル3
は、吸着チャック支持台31と、該吸着チャック支持台
31上に装着された吸着チャック32を具備しており、
該吸着チャック32の表面である載置面上に被加工物で
ある例えば円盤状の半導体ウエーハを図示しない吸引手
段によって保持するようになっている。また、チャック
テーブル3は、図示しない回転機構によって回動可能に
構成されている。
FIG. 1 is a perspective view of a dicing apparatus as a cutting apparatus equipped with an imaging mechanism constructed according to the present invention. The dicing device in the illustrated embodiment includes a device housing 2 having a substantially rectangular parallelepiped shape. In the apparatus housing 2, a chuck table 3 for holding a workpiece is provided so as to be movable in a cutting feed direction indicated by an arrow X. Chuck table 3
Comprises a suction chuck support 31 and a suction chuck 32 mounted on the suction chuck support 31.
A workpiece, for example, a disc-shaped semiconductor wafer is held on a mounting surface, which is a surface of the suction chuck 32, by a suction means (not shown). The chuck table 3 is configured to be rotatable by a rotation mechanism (not shown).

【0009】図示の実施形態におけるダイシング装置
は、切削手段としてのスピンドルユニット4を具備して
いる。スピンドルユニット4は、図示しない移動基台に
装着され割り出し方向である矢印Yで示す方向および切
り込み方向である矢印Zで示す方向に移動調整されるス
ピンドルハウジング41と、該スピンドルハウジング4
1に回転自在に支持され図示しない回転駆動機構によっ
て回転駆動される回転スピンドル42と、該回転スピン
ドル42に装着された切削ブレード43とを具備してい
る。
The dicing apparatus in the illustrated embodiment has a spindle unit 4 as cutting means. The spindle unit 4 is mounted on a moving base (not shown) and adjusted to move in a direction indicated by an arrow Y which is an indexing direction and in a direction indicated by an arrow Z which is a cutting direction.
1 comprises a rotating spindle 42 rotatably supported by a rotating drive mechanism (not shown) and a cutting blade 43 mounted on the rotating spindle 42.

【0010】図示の実施形態におけるダイシング装置
は、被加工物としての半導体ウエーハ5をストックする
カセット6と、被加工物搬出手段7と、被加工物搬送手
段8と、洗浄手段9、および洗浄搬送手段10を具備し
ている。なお、半導体ウエーハ5は、フレームFにテー
プTによって装着されており、フレーム51に装着され
た状態で上記カセット6に収容される。また、カセット
6は、図示しない昇降手段によって上下に移動可能に配
設されたカセットテーブル61上に載置される。
The dicing apparatus in the illustrated embodiment includes a cassette 6 for stocking a semiconductor wafer 5 as a workpiece, a workpiece carrying-out means 7, a workpiece carrying means 8, a cleaning means 9, and a cleaning / transporting means. Means 10 are provided. The semiconductor wafer 5 is mounted on a frame F by a tape T, and is housed in the cassette 6 while being mounted on the frame 51. Further, the cassette 6 is placed on a cassette table 61 which is arranged so as to be able to move up and down by elevating means (not shown).

【0011】図示の実施形態におけるダイシング装置
は、上記チャックテーブル3を構成する吸着チャック3
2の表面に保持された被加工物の表面を撮像し、上記切
削ブレード43によって切削すべき領域を検出したり、
切削溝の状態を確認したりするための撮像機構20を具
備している。この撮像機構20は顕微鏡やCCDカメラ
等の光学手段からなっている。なお、撮像機構20につ
いては後で詳細に説明する。また、ダイシング装置は、
撮像機構20によって撮像された画像を表示する表示手
段11を具備している。
The dicing apparatus according to the illustrated embodiment has a suction chuck 3 constituting the chuck table 3.
The imaging of the surface of the workpiece held on the surface of No. 2 detects the area to be cut by the cutting blade 43,
An imaging mechanism 20 for checking the state of the cutting groove is provided. This imaging mechanism 20 is made up of optical means such as a microscope and a CCD camera. The imaging mechanism 20 will be described later in detail. Also, the dicing device
A display unit 11 for displaying an image captured by the image capturing mechanism 20 is provided.

【0012】次に、上述したダイシング装置の加工処理
動作について簡単に説明する。カセット6の所定位置に
収容されたフレーム51に装着された状態の半導体ウエ
ーハ5(以下、フレームFに装着された状態の半導体ウ
エーハ5を単に半導体ウエーハ5という)は、図示しな
い昇降手段によってカセットテーブル61が上下動する
ことにより搬出位置に位置付けられる。次に、被加工物
搬出手段7が進退作動して搬出位置に位置付けられた半
導体ウエーハ5を被加工物載置領域12に搬出する。被
加工物載置領域12に搬出された半導体ウエーハ5は、
被加工物搬送手段8の旋回動作によって上記チャックテ
ーブル3を構成する吸着チャック32の載置面に搬送さ
れ、該吸着チャック32に吸引保持される。このように
して半導体ウエーハ5を吸引保持したチャックテーブル
3は、撮像機構20の直下まで移動せしめられる。チャ
ックテーブル3が撮像機構20の直下に位置付けられる
と、撮像機構20によって半導体ウエーハ5に形成され
ている切断ライン(ストリート)が検出され、スピンド
ルユニット4の割り出し方向である矢印Y方向に移動調
節して精密位置合わせ作業が行われる。
Next, the processing operation of the above dicing apparatus will be briefly described. The semiconductor wafer 5 mounted on the frame 51 housed at a predetermined position of the cassette 6 (hereinafter, the semiconductor wafer 5 mounted on the frame F is simply referred to as the semiconductor wafer 5) is moved by a cassette table (not shown) by elevating means (not shown). 61 is positioned at the carry-out position by moving up and down. Next, the workpiece unloading means 7 moves forward and backward, and unloads the semiconductor wafer 5 positioned at the unloading position to the workpiece mounting area 12. The semiconductor wafer 5 carried out to the workpiece mounting area 12 is
The workpiece is transported to the mounting surface of the suction chuck 32 constituting the chuck table 3 by the turning operation of the workpiece transfer means 8 and is suction-held by the suction chuck 32. The chuck table 3 holding the semiconductor wafer 5 by suction in this manner is moved to immediately below the imaging mechanism 20. When the chuck table 3 is positioned directly below the image pickup mechanism 20, the image pickup mechanism 20 detects a cutting line (street) formed on the semiconductor wafer 5, and adjusts the movement of the spindle unit 4 in the direction of the arrow Y which is the indexing direction of the spindle unit 4. Precision alignment work is performed.

【0013】その後、半導体ウエーハ5を吸引保持した
チャックテーブル3を切削送り方向である矢印Xで示す
方向(切削ブレード43の回転軸と直交する方向)に移
動することにより、チャックテーブル3に保持された半
導体ウエーハ5は切削ブレード43により所定の切断ラ
イン(ストリート)に沿って切断される。即ち、切削ブ
レード43は割り出し方向である矢印Yで示す方向およ
び切り込み方向である矢印Zで示す方向に移動調整され
て位置決めされたスピンドルユニット4に装着され、回
転駆動されているので、チャックテーブル3を切削ブレ
ード43の下側に沿って切削送り方向に移動することに
より、チャックテーブル3に保持された半導体ウエーハ
5は切削ブレード43により所定の切断ライン(ストリ
ート)に沿って切削される。この切削には、所定深さの
V溝等の切削溝を形成する場合と、切断ライン(ストリ
ート)に沿って切断する場合がある。切断ライン(スト
リート)に沿って切断すると、半導体ウエーハ5は半導
体チップに分割される。分割された半導体チップは、テ
ープTの作用によってバラバラにはならず、フレームF
に装着された半導体ウエーハ5の状態が維持されてい
る。このようにして半導体ウエーハ5の切断が終了した
後、半導体ウエーハ5を保持したチャックテーブル3
は、最初に半導体ウエーハ5を吸引保持した位置に戻さ
れ、ここで半導体ウエーハ5の吸引保持を解除する。次
に、半導体ウエーハ5は、洗浄搬送手段10によって洗
浄手段9に搬送され、ここで洗浄される。このようにし
て洗浄された半導体ウエーハ5は、被加工物搬送手段8
によって被加工物載置領域12に搬出される。そして、
半導体ウエーハ5は、被加工物搬出手段7によってカセ
ット6の所定位置に収納される。
Thereafter, the chuck table 3 holding the semiconductor wafer 5 by suction is moved in a direction indicated by an arrow X (a direction perpendicular to the rotation axis of the cutting blade 43), which is a cutting feed direction, so that the chuck table 3 is held by the chuck table 3. The semiconductor wafer 5 is cut along a predetermined cutting line (street) by the cutting blade 43. That is, the cutting blade 43 is mounted on the spindle unit 4 which is moved and adjusted in the direction indicated by the arrow Y which is the indexing direction and the direction indicated by the arrow Z which is the cutting direction, and is rotationally driven. Is moved along the lower side of the cutting blade 43 in the cutting feed direction, so that the semiconductor wafer 5 held on the chuck table 3 is cut by the cutting blade 43 along a predetermined cutting line (street). In this cutting, there are a case where a cutting groove such as a V-groove having a predetermined depth is formed and a case where cutting is performed along a cutting line (street). When the semiconductor wafer 5 is cut along a cutting line (street), the semiconductor wafer 5 is divided into semiconductor chips. The divided semiconductor chips do not fall apart due to the action of the tape T, and the frame F
The state of the semiconductor wafer 5 mounted on is maintained. After the cutting of the semiconductor wafer 5 is completed in this manner, the chuck table 3 holding the semiconductor wafer 5
Is first returned to the position where the semiconductor wafer 5 is suctioned and held, and the suction holding of the semiconductor wafer 5 is released here. Next, the semiconductor wafer 5 is transported to the cleaning means 9 by the cleaning and transporting means 10, where it is cleaned. The semiconductor wafer 5 thus cleaned is transferred to the workpiece transfer means 8.
Thus, the workpiece is carried out to the work placement area 12. And
The semiconductor wafer 5 is accommodated in a predetermined position of the cassette 6 by the workpiece carrying-out means 7.

【0014】次に、上記撮像機構20について、図2乃
至図5を参照して説明する。図示の実施形態における撮
像機構20は、マクロ用撮像機構20aとミクロ用撮像
機構20bとからなっている。マクロ用撮像機構20a
は,下端に対物レンズ211aを備え移動基台23に装
着された顕微鏡21aと、該顕微鏡21aと連結された
CCDカメラ22aを具備している。また、ミクロ用撮
像機構20bも、下端に対物レンズ211bを備え移動
基台23に装着された顕微鏡21bと、該顕微鏡21b
と連結されたCCDカメラ22bを具備している。上記
移動基台23は、静止支持板24に図示しない案内レー
ルに沿って上下方向に移動可能装着されている。図示の
形態における撮像機構20は、移動基台23を静止支持
板24の図示しない案内レールに沿って上下方向に移動
させ上記対物レンズ211aおよび211bの焦点を調
整するための送り機構25を具備している。送り機構2
5は、周知のねじロッド式作動機構からなり、パルスモ
ータ251を正転および逆転駆動することにより、移動
基台23を上下方向に移動せしめる。
Next, the image pickup mechanism 20 will be described with reference to FIGS. The imaging mechanism 20 in the illustrated embodiment includes a macro imaging mechanism 20a and a micro imaging mechanism 20b. Macro imaging mechanism 20a
Has a microscope 21a mounted on a movable base 23 with an objective lens 211a at the lower end, and a CCD camera 22a connected to the microscope 21a. The microscopic imaging mechanism 20b also includes a microscope 21b provided with an objective lens 211b at the lower end and mounted on the moving base 23, and a microscope 21b.
And a CCD camera 22b connected to the camera. The movable base 23 is mounted on the stationary support plate 24 so as to be movable in a vertical direction along a guide rail (not shown). The imaging mechanism 20 in the illustrated form includes a feed mechanism 25 for vertically moving the movable base 23 along a guide rail (not shown) of the stationary support plate 24 and adjusting the focal points of the objective lenses 211a and 211b. ing. Feed mechanism 2
Reference numeral 5 denotes a well-known screw-rod type operating mechanism, which moves the moving base 23 in the vertical direction by driving the pulse motor 251 to rotate forward and reverse.

【0015】上記対物レンズ211aおよび211bに
は、それぞれその周囲を覆う密閉カバー30aおよび3
0bが装着されている。なお、密閉カバー30aおよび
30bは実質的に同一の構成であり、以下お主に図4お
よび図5を参照して説明する。密閉カバー30aおよび
30bは、筒状の側壁31と、該側壁31の上端に装着
された上壁32と、側壁31の下端に装着された下壁3
3と、側壁31の内側に配設された内筒34を具備して
いる。上壁32の中央部には上記対物レンズ211aお
よび211bの外径と対応する嵌合穴321が設けられ
ている。この嵌合穴321は穴径が対物レンズ211a
および211bの外径より僅かに小さく形成されてお
り、従って、嵌合穴321は対物レンズ211aおよび
211bの外周に圧入嵌合される。下壁33には開口3
31が設けられており、その開口縁には上側に傾斜し後
述するリング照明機構を支持するテーパー状の支持面3
32が形成されている。上記内筒34は、上部を構成す
る円筒部341と下部を構成し漸次縮径されて形成され
た縮径部342とからなっており、その下端部が上記下
壁33に形成された開口331に達している。内筒34
を構成する縮径部342の外周面は上記テーパー状の支
持面332に対応するテーパー面によって形成されてい
る。このように形成された内筒34は、その下部を構成
する縮径部342の下方が開口343されており、この
開口343を通して対物レンズ211aおよび211b
に光を取り入れるようになっている。
The objective lenses 211a and 211b are respectively provided with sealing covers 30a and 3
0b is attached. The sealing covers 30a and 30b have substantially the same configuration, and will be mainly described below with reference to FIGS. The sealing covers 30a and 30b are composed of a cylindrical side wall 31, an upper wall 32 mounted on an upper end of the side wall 31, and a lower wall 3 mounted on a lower end of the side wall 31.
3 and an inner cylinder 34 disposed inside the side wall 31. A fitting hole 321 corresponding to the outer diameter of the objective lenses 211a and 211b is provided at the center of the upper wall 32. This fitting hole 321 has a hole diameter of the objective lens 211a.
Therefore, the fitting hole 321 is press-fitted to the outer periphery of the objective lenses 211a and 211b. Opening 3 in lower wall 33
A tapered support surface 3 which is inclined upward and supports a ring illumination mechanism to be described later is provided at an opening edge thereof.
32 are formed. The inner cylinder 34 includes a cylindrical portion 341 that forms an upper portion and a reduced diameter portion 342 that forms a lower portion and is gradually reduced in diameter. The lower end of the inner cylinder 34 has an opening 331 formed in the lower wall 33. Has been reached. Inner cylinder 34
Is formed by a tapered surface corresponding to the tapered support surface 332. The inner cylinder 34 thus formed has an opening 343 below the reduced diameter portion 342 constituting the lower portion thereof.
It is designed to take in light.

【0016】図示の実施形態における密閉カバー30a
および30bは、上記側壁31と内筒34との間に対物
レンズ211aおよび211bの外周に沿って配設され
るリング照明機構40を備えている。リング照明機構4
0は、複数個の嵌合穴411を備えた環状の光ファイバ
ー支持部材41と、この光ファイバー支持部材41に形
成された複数個の嵌合穴411に先端部を嵌合した複数
本の光ファイバー42とからなっており、光ファイバー
支持部材41が上記下壁33に形成されたテーパー状の
支持面332と内筒34を構成する縮径部342の外周
面(テーパー面)との間に挟持され保持されている。複
数本の光ファイバー42の基端部は、側壁31に装着さ
れた光ファイバー挿通管43(図2及び図3参照)を通
して図示しない光源に対向して配置されている。このよ
うに構成されたリング照明機構40は、下壁33に形成
された331を通してチャックテーブル3に保持された
被加工物としての半導体ウエーハ5の撮像領域300を
照射する。
The sealing cover 30a in the illustrated embodiment
And 30b include a ring illumination mechanism 40 disposed between the side wall 31 and the inner cylinder 34 along the outer circumference of the objective lenses 211a and 211b. Ring illumination mechanism 4
Reference numeral 0 denotes an annular optical fiber support member 41 having a plurality of fitting holes 411, and a plurality of optical fibers 42 each having a front end fitted into a plurality of fitting holes 411 formed in the optical fiber support member 41. The optical fiber supporting member 41 is sandwiched and held between the tapered supporting surface 332 formed on the lower wall 33 and the outer peripheral surface (tapered surface) of the reduced diameter portion 342 constituting the inner cylinder 34. ing. The base ends of the plurality of optical fibers 42 are arranged to face a light source (not shown) through an optical fiber insertion tube 43 (see FIGS. 2 and 3) mounted on the side wall 31. The ring illumination mechanism 40 configured as described above irradiates the imaging region 300 of the semiconductor wafer 5 as a workpiece held on the chuck table 3 through the 331 formed on the lower wall 33.

【0017】図2および図3に示すように図示の実施形
態における撮像機構20は、上記密閉カバー30a、3
0bの内筒34を構成する縮径部342に設けられた開
口343および下壁33に形成された開口331を開閉
するシャッター手段50を具備している。図示の実施形
態におけるシャッター手段50は、図3に示すように蓋
支持部材51と開閉蓋52と該開閉蓋52を作動するロ
ータリーアクチュエーター53とからなっている。蓋支
持部材51は、支持部511と装着部512を備えてい
る。支持部511は、水平部511aと該水平部511
aの前端から上方に折り曲げ形成された垂直部511b
とからなっている。装着部512は支持部511の後端
部から立設して形成されており、取付け用の長穴512
a、長穴512aを備えている。このように構成された
蓋支持部材51は、装着部512に設けられた取付け用
の長穴512a、長穴512aにボルト531、531
を挿通し、このボルト531、531を上記移動基台2
3の端部に設けられたねじ穴231、231に螺合する
ことによって移動基台23に装着される。
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the image pickup mechanism 20 in the illustrated embodiment
A shutter means 50 for opening and closing an opening 343 provided in the reduced diameter portion 342 constituting the inner cylinder 34 of the inner wall 34b and an opening 331 formed in the lower wall 33 is provided. The shutter means 50 in the illustrated embodiment includes a lid support member 51, an opening / closing lid 52, and a rotary actuator 53 for operating the opening / closing lid 52, as shown in FIG. The lid support member 51 includes a support portion 511 and a mounting portion 512. The support portion 511 includes a horizontal portion 511a and the horizontal portion 511.
a vertical portion 511b formed by bending upward from the front end of a
It consists of The mounting portion 512 is formed upright from the rear end of the support portion 511, and has a long hole 512 for attachment.
a, an elongated hole 512a. The lid supporting member 51 thus configured is provided with bolts 531 and 531 in the mounting long holes 512a and the long holes 512a provided in the mounting portion 512.
And the bolts 531 and 531 are connected to the movable base 2.
3 is mounted on the movable base 23 by screwing into screw holes 231 and 231 provided at the end of the base 3.

【0018】蓋支持部材51を構成する支持部511の
下側に開閉蓋52が配置され、支持部511の上側に開
閉蓋52を作動するロータリーアクチュエーター53が
配置される。開閉蓋52の一端部上面には軸連結部材5
21が装着されており、この軸連結部材521と支持部
511の上面に載置されたロータリーアクチュエーター
53のローター軸が連結するように構成されている。な
お、ロータリーアクチュエーター53は、圧縮空気作動
式、電動モータ式、ロータリーソレノイド式等種々の方
式のアクチュエーターを用いることができる。
An opening / closing lid 52 is arranged below the supporting portion 511 constituting the lid supporting member 51, and a rotary actuator 53 for operating the opening / closing lid 52 is arranged above the supporting portion 511. A shaft connecting member 5 is provided on the upper surface of one end of the opening / closing lid 52.
The shaft connecting member 521 and the rotor shaft of the rotary actuator 53 mounted on the upper surface of the support portion 511 are connected to each other. As the rotary actuator 53, various types of actuators such as a compressed air operated type, an electric motor type, and a rotary solenoid type can be used.

【0019】図示の実施形態におけるシャッター手段5
0は、上記蓋支持部材51を構成する支持部511の垂
直部511bの前面に装着される前カバー54を備えて
いる。前カバー54は、一端部には長穴541、長穴5
41は設けられており、この長穴541、長穴541に
ボルト532、532を挿通し、このボルト532、5
32を上記支持部511の垂直部511bに設けられた
ねじ穴511c、511cに螺合することによって垂直
部511bに装着される。前カバー54の下端には後方
に折り曲げ形成された水平部542を備えており、この
水平部542は上記開閉蓋52より僅かに下側に位置付
けられている。なお、前カバー54の他端部には、上記
光ファイバー挿通管43が貫挿するための切欠部543
が設けられている。以上のように構成されたシャッター
手段50は、ロータリーアクチュエーター53を作動す
ることによって開閉蓋52が軸連結部材521を中心と
して回動せしめられ、上記密閉カバー30a、30bの
内筒34を構成する縮径部342、342に設けられた
開口343、343および下壁33、33に形成された
開口331、331を塞ぐ閉位置(図4において2点鎖
線で示す位置)と該開口343、343および開口33
1、331を開放する開位置(図4において実戦で示す
位置)とに選択的に位置付けられる。
Shutter means 5 in the illustrated embodiment
Reference numeral 0 denotes a front cover 54 mounted on the front surface of the vertical portion 511b of the support portion 511 constituting the lid support member 51. The front cover 54 has an elongated hole 541 and an elongated hole 5 at one end.
41 are provided, bolts 532 and 532 are inserted through the elongated holes 541 and 541, and the bolts 532 and 532.
32 is attached to the vertical portion 511b by screwing into the screw holes 511c and 511c provided in the vertical portion 511b of the support portion 511. At the lower end of the front cover 54, there is provided a horizontal portion 542 bent rearward, and the horizontal portion 542 is positioned slightly below the opening / closing lid 52. A notch 543 through which the optical fiber insertion tube 43 is inserted is provided at the other end of the front cover 54.
Is provided. In the shutter means 50 configured as described above, the opening / closing lid 52 is rotated about the shaft connecting member 521 by operating the rotary actuator 53, and the shutter means 50 forms the inner cylinder 34 of the closed covers 30a and 30b. A closed position (a position shown by a two-dot chain line in FIG. 4) for closing the openings 343 and 343 provided in the diameter portions 342 and 342 and the openings 331 and 331 formed in the lower walls 33 and 33, and the openings 343 and 343 and the opening 33
1 and 331 are selectively positioned at an open position (the position shown by the actual battle in FIG. 4).

【0020】図2および図3に基づいて説明を続ける
と、上記前カバー54の前面には、エアー供給管61お
よびエアー噴出ノズル62がそれぞれ取り付けられた管
支持部材63a、63bが装着されている。管支持部材
63aおよび63bに取り付けられたエアー供給管61
および61は、上記前カバー54に設けられた貫通穴5
44および544、上記密閉カバー30aおよび30b
の側壁31および31に設けられた貫通穴312および
312、密閉カバー30aおよび30bの内筒34およ
び34に設けられた貫通穴343および343(図4参
照)を貫通して配設されている。このエアー供給管61
および61は図示しないエアー供給源に接続されてお
り、従って、エアー供給管61およ61および図示しな
いエアー供給源は上記密閉カバー30a、30bの内筒
34、34と対物レンズ211a、211bとの間に形
成された空間にエアーを供給するエアー供給手段として
機能する。一方、エアー噴出ノズル62、62は、その
先端がチャックテーブル3に保持された被加工物として
の半導体ウエーハ5の撮像領域300に向けて配設され
ている。このエアー噴出ノズル62、62は図示しない
エアー供給源に接続されており、従って、エアー噴出ノ
ズル62、62および図示しないエアー供給源は、チャ
ックテーブル3に保持された被加工物の撮像領域300
にエアーを噴出し、水滴等の異物を吹き飛ばして撮像領
域を清掃するエアー噴出手段として機能する。
Continuing the description with reference to FIGS. 2 and 3, on the front surface of the front cover 54, pipe support members 63a and 63b to which an air supply pipe 61 and an air jet nozzle 62 are respectively attached are mounted. . Air supply pipe 61 attached to pipe support members 63a and 63b
And 61 are through holes 5 provided in the front cover 54.
44 and 544, the closed covers 30a and 30b
Through holes 312 and 312 provided in the side walls 31 and 31 and through holes 343 and 343 (see FIG. 4) provided in the inner cylinders 34 and 34 of the closed covers 30a and 30b. This air supply pipe 61
And 61 are connected to an air supply source (not shown). Therefore, the air supply pipes 61 and 61 and the air supply source (not shown) are connected between the inner cylinders 34 and 34 of the closed covers 30a and 30b and the objective lenses 211a and 211b. It functions as air supply means for supplying air to the space formed between them. On the other hand, the air ejection nozzles 62, 62 are disposed with their ends facing the imaging area 300 of the semiconductor wafer 5 as a workpiece held on the chuck table 3. The air ejection nozzles 62, 62 are connected to an air supply source (not shown). Therefore, the air ejection nozzles 62, 62 and the air supply source (not shown) are connected to an imaging region 300 of the workpiece held on the chuck table 3.
It functions as an air ejecting means for ejecting air to blow off foreign matters such as water droplets to clean the imaging area.

【0021】図の実施形態における撮像機構20は以上
のように構成されており、以下その作用について説明す
る。切削時においては開閉蓋52が密閉カバー30a、
30bの内筒34を構成する縮径部342、342に設
けられた開口343、343および下壁33、33に形
成された開口331、331を塞ぐ閉位置(図4におい
て2点鎖線で示す位置)に位置付けられるとともに、エ
アー供給管61、61を通して密閉カバー30a、30
bの内筒34、34と対物レンズ211a、211bと
の間に形成された空間にエアーが供給される。このよう
に対物レンズ211a、211bは、その周囲が密閉カ
バー30a、30bによって覆われているとともに、密
閉カバー30a、30bの内筒34を構成する縮径部3
42、342に設けられた開口343、343が開閉蓋
52によって塞がれるので、切削時にコンタミを含んだ
切削水は飛散しても対物レンズ211a、211bに付
着することはない。従って、被加工物の表面を対物レン
ズ211a、211bを通して常に正確に撮像すること
ができ、パターンマッチング等の画像処理を誤認識する
ことなく円滑に遂行できる。また、切削時にはエアー供
給管61、61を通して密閉カバー30a、30bの内
筒34、34と対物レンズ211a、211bとの間に
形成された空間にエアーが供給されるので、密閉カバー
30a、30b内の気圧が外気圧より高くなるため、開
閉蓋52と密閉カバー30a、30bとの隙間から密閉
カバー30a、30b内にコンタミが侵入することはな
い。また、図示の実施形態においては、リング照明機構
40の下方、即ち密閉カバー30a、30bの下壁3
3、33に形成された開口331、331が開閉蓋52
によって塞がれるので、切削時にコンタミを含んだ切削
水は飛散してもリング照明機構40に付着することはな
い。
The image pickup mechanism 20 in the embodiment shown in the drawing is configured as described above, and its operation will be described below. At the time of cutting, the opening / closing lid 52 has the closed cover 30a,
A closed position that closes the openings 343 and 343 provided in the reduced-diameter portions 342 and 342 constituting the inner cylinder 34 of the 30b and the openings 331 and 331 formed in the lower walls 33 and 33 (the position indicated by a two-dot chain line in FIG. 4). ), And through the air supply pipes 61, 61, the sealing covers 30a, 30
Air is supplied to the space formed between the inner cylinders 34, 34b and the objective lenses 211a, 211b. In this way, the objective lenses 211a and 211b are covered with the hermetic covers 30a and 30b, and the reduced diameter portion 3 forming the inner cylinder 34 of the hermetic covers 30a and 30b.
Since the openings 343 and 343 provided in the openings 42 and 342 are closed by the opening / closing lid 52, the cutting water containing contaminants does not adhere to the objective lenses 211a and 211b even when scattered during cutting. Therefore, the surface of the workpiece can always be accurately imaged through the objective lenses 211a and 211b, and image processing such as pattern matching can be smoothly performed without erroneous recognition. Further, at the time of cutting, air is supplied to the space formed between the inner cylinders 34, 34 of the closed covers 30a, 30b and the objective lenses 211a, 211b through the air supply pipes 61, 61, so that the inside of the closed covers 30a, 30b is Is higher than the outside pressure, so that contamination does not enter the closed covers 30a, 30b from the gap between the open / close lid 52 and the closed covers 30a, 30b. In the illustrated embodiment, the lower wall 3 of the sealing cover 30a, 30b is located below the ring illumination mechanism 40.
The openings 331 and 331 formed in the opening and closing lids
The cutting water containing contaminants does not adhere to the ring illumination mechanism 40 even when scattered during cutting.

【0022】一方、撮像機構20によって被加工物の表
面を撮像する際には、開閉蓋52を密閉カバー30a、
30bの内筒34を構成する縮径部342、342に設
けられた開口343、343および下壁33、33に形
成された開口331、331を開放する開位置(図4に
おいて実線で示す位置)に位置付けるとともに、エアー
噴出ノズル62、62を通してチャックテーブル3に保
持された被加工物の撮像領域300にエアーを噴出す
る。このとき、エアー供給管61、61を通して密閉カ
バー30a、30bの内筒34、34と対物レンズ21
1a、211bとの間に形成された空間にエアーを供給
し、このエアーを開口343、343を通して被加工物
の撮像領域300に噴出することが望ましい。このよう
に撮像機構20によって被加工物の表面を撮像する際に
は、被加工物の撮像領域300にエアーを噴出するの
で、被加工物の撮像領域に付着している切削水等を排除
することができ、従って、撮像された例えば切削溝の状
態等を正確に認識することができる。
On the other hand, when the imaging mechanism 20 takes an image of the surface of the workpiece, the opening / closing lid 52 is attached to the sealing cover 30a.
An opening position (a position indicated by a solid line in FIG. 4) that opens the openings 343 and 343 provided in the reduced diameter portions 342 and 342 constituting the inner cylinder 34 of the 30b and the openings 331 and 331 formed in the lower walls 33 and 33. And ejects air to the imaging area 300 of the workpiece held on the chuck table 3 through the air ejection nozzles 62, 62. At this time, the inner tubes 34, 34 of the closed covers 30a, 30b and the objective lens 21 are passed through the air supply pipes 61, 61.
It is preferable that air is supplied to a space formed between the first and second substrates 1a and 211b, and the air is jetted through the openings 343 and 343 to the imaging region 300 of the workpiece. As described above, when the surface of the workpiece is imaged by the imaging mechanism 20, air is blown into the imaging area 300 of the workpiece, so that cutting water and the like adhering to the imaging area of the workpiece are eliminated. Therefore, it is possible to accurately recognize the state of, for example, the cut groove that is imaged.

【0023】以上、本発明を図示の実施形態に基づいて
説明したが、本発明は実施形態のみに限定されるもので
はない。例えば、実施形態においてはマクロ用撮像機構
20aとミクロ用撮像機構20bの2つの撮像機構によ
って撮像機構20を構成した例を示したが、撮像機構は
一つでもよい。
Although the present invention has been described based on the illustrated embodiment, the present invention is not limited to the embodiment. For example, in the embodiment, the example in which the imaging mechanism 20 is configured by the two imaging mechanisms of the macro imaging mechanism 20a and the micro imaging mechanism 20b has been described, but the number of imaging mechanisms may be one.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明による切削装置の撮像機構は以上
のように構成されているので、次の作用効果を奏する。
The imaging mechanism of the cutting device according to the present invention is constructed as described above, and has the following operation and effect.

【0025】即ち、本発明による切削装置の撮像機構
は、対物レンズの周囲を覆い下方が開口された密閉カバ
ーと、該密閉カバーの開口を開閉するシャッター手段と
を具備しているので、切削時に対物レンズはその周囲が
密閉カバーによって覆われているとともに、密閉カバー
の下側開口が開閉蓋によって塞がれる。従って、切削時
にコンタミを含んだ切削水が飛散しても対物レンズに付
着することはない。この結果、被加工物の表面を対物レ
ンズを通して常に正確に撮像することができ、パターン
マッチング等の画像処理を誤認識することなく円滑に遂
行できる。
That is, since the imaging mechanism of the cutting apparatus according to the present invention includes a closed cover that covers the periphery of the objective lens and is open at the lower side, and shutter means for opening and closing the opening of the closed cover, the cutting mechanism can be used during cutting. The periphery of the objective lens is covered by a sealing cover, and the lower opening of the sealing cover is closed by an opening / closing lid. Therefore, even if cutting water containing contaminants scatters during cutting, it does not adhere to the objective lens. As a result, the surface of the workpiece can always be accurately imaged through the objective lens, and image processing such as pattern matching can be smoothly performed without erroneous recognition.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に従って構成された撮像装置を装備した
切削装置であるダイシング装置の斜視図。
FIG. 1 is a perspective view of a dicing device, which is a cutting device equipped with an imaging device configured according to the present invention.

【図2】本発明に従って構成された撮像装置の斜視図。FIG. 2 is a perspective view of an imaging device configured according to the present invention.

【図3】図2に示す撮像装置の構成部材を分解して示す
斜視図。
FIG. 3 is an exploded perspective view showing constituent members of the imaging apparatus shown in FIG. 2;

【図4】図2に示す撮像装置の要部を破断して示す断面
図。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a main part of the imaging device shown in FIG.

【図5】図2に示す撮像装置を構成する密閉カバーの底
面図。
FIG. 5 is a bottom view of a sealing cover included in the imaging device shown in FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2:装置ハウジング 3:チャックテーブル 31:吸着チャック支持台 32:吸着チャック 4:スピンドルユニット 41:スピンドルハウジング 42:回転スピンドル 43:切削ブレード 5:半導体ウエーハ 6:カセット 7:被加工物搬出手段 8:被加工物搬送手段 9:洗浄手段 10:洗浄搬送手段 11:表示手段 20:撮像機構 20a:マクロ用撮像機構 20b:ミクロ用撮像機構 21a、21b:顕微鏡 211a、211b:対物レンズ 22a、22b:CCDカメラ 23:移動基台 24:静止支持板 25:送り機構 251:パルスモータ 30a、30b:密閉カバー 31:密閉カバーの側壁 32:密閉カバーの上壁 33:密閉カバーの下壁 331:開口 34:密閉カバーの内筒 40:リング照明機構 41:リング照明機構の光ファイバー支持部材 42:リング照明機構の光ファイバー 50:シャッター手段 51:シャッター手段の蓋支持部材 52:シャッター手段の開閉蓋 53:シャッター手段のロータリーアクチュエーター 54:シャッター手段の前カバー 61:エアー供給管 62:エアー噴出ノズル 63a、63b:管支持部材 2: Device housing 3: Chuck table 31: Suction chuck support 32: Suction chuck 4: Spindle unit 41: Spindle housing 42: Rotating spindle 43: Cutting blade 5: Semiconductor wafer 6: Cassette 7: Workpiece unloading means 8: Workpiece conveying means 9: Cleaning means 10: Cleaning conveying means 11: Display means 20: Imaging mechanism 20a: Macro imaging mechanism 20b: Microscopic imaging mechanism 21a, 21b: Microscope 211a, 211b: Objective lenses 22a, 22b: CCD Camera 23: Moving base 24: Stationary support plate 25: Feeding mechanism 251: Pulse motor 30a, 30b: Sealing cover 31: Sealing cover side wall 32: Sealing cover upper wall 33: Sealing cover lower wall 331: Opening 34: Inner cylinder of hermetic cover 40: Ring illumination mechanism 41: Ring Optical fiber support member of light mechanism 42: Optical fiber of ring illumination mechanism 50: Shutter means 51: Lid support member of shutter means 52: Open / close lid of shutter means 53: Rotary actuator of shutter means 54: Front cover of shutter means 61: Air supply Pipe 62: Air jet nozzle 63a, 63b: Pipe support member

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 チャックテーブル上に保持され切削加工
される被加工物の表面と対向する対物レンズを備え、被
加工物の表面を撮像する切削装置の撮像機構において、 該対物レンズの周囲を覆い下方が開口された密閉カバー
と、該密閉カバーの開口を開閉するシャッター手段とを
具備している、 ことを特徴とする切削装置の撮像機構。
1. An imaging mechanism of a cutting device, comprising: an objective lens which is held on a chuck table and faces a surface of a workpiece to be cut and which captures an image of the surface of the workpiece. An imaging mechanism for a cutting device, comprising: a closed cover having a lower opening; and shutter means for opening and closing the opening of the closed cover.
【請求項2】 該シャッター手段は、該密閉カバーの開
口を塞ぐ閉位置と該密閉カバーの開口を開放する開位置
との間を作動可能に構成された開閉蓋と、該開閉蓋を該
閉位置と該開位置に選択的に位置付けるアクチュエータ
とを具備している、請求項1記載の切削装置の撮像機
構。
2. An opening / closing lid operable between a closed position for closing an opening of the hermetic cover and an open position for opening the opening of the hermetic cover; The imaging mechanism of a cutting device according to claim 1, further comprising a position and an actuator selectively positioned at the open position.
【請求項3】 該密閉カバー内には該対物レンズの外周
に沿って配設され被加工物の表面に光を照射するリング
照明機構が配置されており、該シャッター手段は該リン
グ照明機構の下方を開閉する、請求項1又は2記載の切
削装置。
3. A ring illumination mechanism is provided in the closed cover along the outer periphery of the objective lens and irradiates light to the surface of the workpiece, and the shutter means is provided in the ring illumination mechanism. The cutting device according to claim 1, wherein the lower portion is opened and closed.
【請求項4】 該密閉カバー内にエアーを供給するエア
ー供給手段を具備している、請求項1から3のいずれか
に記載の切削装置。
4. The cutting device according to claim 1, further comprising an air supply unit that supplies air into the closed cover.
【請求項5】 チャックテーブルに保持された被加工物
の撮像領域にエアーを噴出するエアー噴出手段を具備し
ている、請求項1から4のいずれかに記載の切削装置。
5. The cutting device according to claim 1, further comprising an air ejection unit that ejects air to an imaging area of the workpiece held on the chuck table.
JP2000194340A 2000-06-28 2000-06-28 Imaging mechanism of cutting equipment Expired - Lifetime JP4694675B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000194340A JP4694675B2 (en) 2000-06-28 2000-06-28 Imaging mechanism of cutting equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000194340A JP4694675B2 (en) 2000-06-28 2000-06-28 Imaging mechanism of cutting equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002011641A true JP2002011641A (en) 2002-01-15
JP4694675B2 JP4694675B2 (en) 2011-06-08

Family

ID=18693185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000194340A Expired - Lifetime JP4694675B2 (en) 2000-06-28 2000-06-28 Imaging mechanism of cutting equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4694675B2 (en)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007088361A (en) * 2005-09-26 2007-04-05 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP2008153321A (en) * 2006-12-15 2008-07-03 Topcon Corp Testing apparatus
JP2008241444A (en) * 2007-03-27 2008-10-09 Disco Abrasive Syst Ltd Machining device
JP2009038181A (en) * 2007-08-01 2009-02-19 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP2009226555A (en) * 2008-03-24 2009-10-08 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP2011079086A (en) * 2009-10-07 2011-04-21 Disco Abrasive Syst Ltd Image pickup apparatus
JP2013098437A (en) * 2011-11-02 2013-05-20 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP2013116518A (en) * 2011-12-02 2013-06-13 Disco Corp Cutting device
KR101366899B1 (en) * 2012-06-19 2014-02-25 창원대학교 산학협력단 Monitoring apparatus for cutting surface
JP2015112675A (en) * 2013-12-11 2015-06-22 株式会社ディスコ Cutting device
JP2018072054A (en) * 2016-10-26 2018-05-10 川崎重工業株式会社 Boring device
DE102021200617A1 (en) 2020-01-27 2021-07-29 Disco Corporation METHOD FOR ADAPTING A BRIGHTNESS OF LIGHTING IN A PROCESSING DEVICE

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04122442U (en) * 1991-04-16 1992-11-04 株式会社デイスコ Detection means for precision cutting equipment
JPH05215527A (en) * 1992-01-31 1993-08-24 Union Tool Kk Cutting-tool inspecting apparatus
JPH05345974A (en) * 1992-06-12 1993-12-27 Kubota Corp Vapor deposition device
JPH0625344U (en) * 1991-09-20 1994-04-05 新日本製鐵株式会社 Peephole purging device for observation inside blast furnace
JPH0760616A (en) * 1993-08-26 1995-03-07 Toyoda Mach Works Ltd Protective device for cutting tool tip measuring device
JPH0866848A (en) * 1994-08-30 1996-03-12 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting direction detection system
JPH11287611A (en) * 1998-04-03 1999-10-19 Mitsutoyo Corp Machining apparatus with in-process measuring function and photometry

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04122442U (en) * 1991-04-16 1992-11-04 株式会社デイスコ Detection means for precision cutting equipment
JPH0625344U (en) * 1991-09-20 1994-04-05 新日本製鐵株式会社 Peephole purging device for observation inside blast furnace
JPH05215527A (en) * 1992-01-31 1993-08-24 Union Tool Kk Cutting-tool inspecting apparatus
JPH05345974A (en) * 1992-06-12 1993-12-27 Kubota Corp Vapor deposition device
JPH0760616A (en) * 1993-08-26 1995-03-07 Toyoda Mach Works Ltd Protective device for cutting tool tip measuring device
JPH0866848A (en) * 1994-08-30 1996-03-12 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting direction detection system
JPH11287611A (en) * 1998-04-03 1999-10-19 Mitsutoyo Corp Machining apparatus with in-process measuring function and photometry

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007088361A (en) * 2005-09-26 2007-04-05 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP4664788B2 (en) * 2005-09-26 2011-04-06 株式会社ディスコ Cutting equipment
JP2008153321A (en) * 2006-12-15 2008-07-03 Topcon Corp Testing apparatus
JP2008241444A (en) * 2007-03-27 2008-10-09 Disco Abrasive Syst Ltd Machining device
JP2009038181A (en) * 2007-08-01 2009-02-19 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP2009226555A (en) * 2008-03-24 2009-10-08 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP2011079086A (en) * 2009-10-07 2011-04-21 Disco Abrasive Syst Ltd Image pickup apparatus
JP2013098437A (en) * 2011-11-02 2013-05-20 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP2013116518A (en) * 2011-12-02 2013-06-13 Disco Corp Cutting device
KR101366899B1 (en) * 2012-06-19 2014-02-25 창원대학교 산학협력단 Monitoring apparatus for cutting surface
JP2015112675A (en) * 2013-12-11 2015-06-22 株式会社ディスコ Cutting device
JP2018072054A (en) * 2016-10-26 2018-05-10 川崎重工業株式会社 Boring device
DE102021200617A1 (en) 2020-01-27 2021-07-29 Disco Corporation METHOD FOR ADAPTING A BRIGHTNESS OF LIGHTING IN A PROCESSING DEVICE
KR20210095991A (en) 2020-01-27 2021-08-04 가부시기가이샤 디스코 Method of adjusting brightness of linghting device in machining apparatus
US11140335B2 (en) 2020-01-27 2021-10-05 Disco Corporation Method of adjusting brightness of illuminator in processing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP4694675B2 (en) 2011-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7622000B2 (en) Laser processing apparatus and laser processing method
US7850817B2 (en) Polishing device and substrate processing device
US5839187A (en) Apparatus and method for mounting a chip
JP3485816B2 (en) Dicing equipment
KR101203505B1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP4827576B2 (en) Cutting equipment
JP4694675B2 (en) Imaging mechanism of cutting equipment
US20070051710A1 (en) Laser beam processing machine
US20160372317A1 (en) Device and method for cleaning backside or edge of wafer
TWI392004B (en) Cutting device
KR102504620B1 (en) Cutting apparatus
US7641406B2 (en) Bevel inspection apparatus for substrate processing
JP6696851B2 (en) Chuck table mechanism
TW201609332A (en) Cutting device
JP4426403B2 (en) Laser processing equipment
KR20090067033A (en) Protective film coating device and laser machine
JP2009038181A (en) Cutting device
JP3880728B2 (en) Drawing device
KR20220157304A (en) Method for measuring thickness of protective film
JP2889449B2 (en) Cleaning equipment
JP6635864B2 (en) Processing equipment
JPH08102479A (en) Wafer inspection equipment
JPH07321072A (en) Dicing device
JP5804465B1 (en) Component holding mechanism, transfer device, transfer method
JP5803034B1 (en) Conveying device and conveying method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070525

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100406

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100604

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100914

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101115

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110208

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110224

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4694675

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term