JP2008241444A - Machining device - Google Patents

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JP2008241444A JP2007081966A JP2007081966A JP2008241444A JP 2008241444 A JP2008241444 A JP 2008241444A JP 2007081966 A JP2007081966 A JP 2007081966A JP 2007081966 A JP2007081966 A JP 2007081966A JP 2008241444 A JP2008241444 A JP 2008241444A
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武臣 福岡
Satoshi Takahashi
聡 高橋
Ryoji Narita
亮治 成田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a machining device capable of preventing a shift from being generated in an image picked up by an imaging means. <P>SOLUTION: This machining device is provided with a chuck table for holding a work, the imaging means provided with an optical system and an imaging element for imaging the work held by the chuck table, a machining means for machining the work held by the chuck table, a moving means for moving the chuck table along a machining feed direction including an imaging area of the imaging means, and a control means for controlling the imaging means, the machining means and the moving means, an opening and closing switch is arranged in an electric power source circuit for supplying electric power to the imaging element, and the control means closes the opening and closing switch, when executing an imaging process by the imaging means, and opens the opening and closing switch when finishing the imaging process by the imaging means. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削装置等の加工装置、更に詳しくは被加工物の加工領域等を撮像する撮像手段を備えた加工装置に関する。   The present invention relates to a processing apparatus such as a cutting apparatus that cuts a workpiece such as a semiconductor wafer, and more particularly to a processing apparatus including an imaging unit that images a processing region or the like of a workpiece.

例えば、半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に形成されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって区画された多数の領域にIC、LSI等のデバイスを形成し、該デバイスが形成された各領域をストリートに沿って分割することにより個々のデバイスを製造している。半導体ウエーハを分割する分割装置としては一般にダイシング装置としての切削装置が用いられている。この切削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物の切削すべき領域を検出する撮像手段と、チャックテーブルに保持され被加工物を切削する切削手段とを具備している。(例えば、特許文献1参照)。
特開2002−11641号公報
For example, in a semiconductor device manufacturing process, devices such as IC and LSI are formed in a number of regions partitioned by dividing lines called streets formed in a lattice shape on the surface of a semiconductor wafer having a substantially disk shape, Individual devices are manufactured by dividing each region in which the devices are formed along a street. As a dividing device for dividing a semiconductor wafer, a cutting device as a dicing device is generally used. The cutting apparatus includes a chuck table for holding a workpiece, an imaging unit for detecting a region to be cut of the workpiece held on the chuck table, and a cutting unit for cutting the workpiece held on the chuck table. It is equipped with. (For example, refer to Patent Document 1).
JP 2002-11461 A

上記撮像手段は、顕微鏡を構成する光学系と該光学系によって撮像された画像を電気信号に変換する撮像素子(CCD)を具備している。撮像手段の光学系にはヘアーラインと呼ばれる基準線が設けられており、この基準線と切削ブレードの位置とが一致するように予め調整されている。従って、撮像したストリートを基準線に合致させることにより、切削ブレードをストリートに正確に合致することができる。   The imaging means includes an optical system constituting a microscope and an imaging device (CCD) that converts an image captured by the optical system into an electrical signal. A reference line called a hairline is provided in the optical system of the image pickup means, and the reference line is adjusted in advance so that the position of the cutting blade matches. Therefore, the cutting blade can be accurately matched to the street by matching the captured street with the reference line.

上述した切削装置においては、装置の電源が投入されると上記撮像手段を構成する撮像素子には所定の電圧が印加されるようになっている。従って、撮像素子には長時間電圧が印加されることになるため、熱が蓄積される。この結果、撮像素子を保持しているケースが僅かに熱膨張するため、撮像した画像にズレが生ずる。このため、撮像されたストリートを基準線に合致させても、切削ブレードがストリートに合致したことにはならず、ウエーハを高精度に分割することができなくなるという問題がある。
このような問題は切削装置に限らず、加工領域を撮像するための光学系と撮像素子(CCD)とからなる撮像手段を備えたレーザー加工装置等の他の加工装置においても発生する。
In the above-described cutting apparatus, when the apparatus is turned on, a predetermined voltage is applied to the image pickup device constituting the image pickup means. Accordingly, since a voltage is applied to the image sensor for a long time, heat is accumulated. As a result, the case holding the image sensor slightly expands thermally, causing a shift in the captured image. For this reason, even if the captured street is matched with the reference line, the cutting blade does not match the street, and there is a problem that the wafer cannot be divided with high accuracy.
Such a problem occurs not only in the cutting apparatus but also in other processing apparatuses such as a laser processing apparatus including an image pickup unit including an optical system for picking up an image of a processing region and an image pickup element (CCD).

本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、撮像手段によって撮像される画像にズレが生ずることがない加工装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described facts, and a main technical problem thereof is to provide a processing apparatus that does not cause a deviation in an image picked up by an image pickup means.

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を撮像するための光学系と撮像素子を備えた撮像手段と、該チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、該チャックテーブルを該撮像手段の撮像領域を含む加工送り方向に移動せしめる移動手段と、該撮像手段と該加工手段および該移動手段を制御する制御手段と、を具備する加工装置において、
該撮像素子に電力を供給する電源回路に開閉スイッチが配設されており、
該制御手段は、該撮像手段による撮像工程を実施する際に該開閉スイッチを閉路し、該撮像手段による撮像工程が終了したら該開閉スイッチを開路する、
ことを特徴とする加工装置が提供される。
In order to solve the above-mentioned main technical problem, according to the present invention, a chuck table for holding a workpiece, an optical system for imaging the workpiece held on the chuck table, and an imaging means including an imaging device Machining means for machining a workpiece held on the chuck table; movement means for moving the chuck table in a machining feed direction including an imaging region of the imaging means; the imaging means, the machining means, and the In a processing apparatus comprising a control means for controlling the moving means,
An open / close switch is disposed in a power supply circuit that supplies power to the image sensor,
The control means closes the open / close switch when performing the imaging process by the imaging means, and opens the open / close switch when the imaging process by the imaging means is completed.
The processing apparatus characterized by this is provided.

また、本発明によれば、本発明によれば、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を撮像するための光学系と撮像素子を備えた撮像手段と、該撮像手段の該光学系の下方を遮蔽する遮蔽位置と該光学系の下方を開放する開放位置に作動する遮蔽部材を備えた遮蔽手段と、該チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、を具備する加工装置において、
該撮像素子に電力を供給する電源回路に配設され該遮蔽手段の作動と連動して開閉する開閉スイッチが配設されており、
該開閉スイッチは、該遮蔽手段の該遮蔽板が該遮蔽位置に位置付けられると開路し、該遮蔽板が該開放位置に位置付けられると閉路せしめられるように構成されている、
ことを特徴とする加工装置が提供される。
Further, according to the present invention, according to the present invention, a chuck table for holding a workpiece, an optical system for imaging the workpiece held on the chuck table, and an imaging means including an imaging device; , A shielding unit having a shielding position that shields the lower part of the optical system of the imaging unit, and a shielding member that operates to an open position that opens the lower part of the optical system, and a workpiece held on the chuck table A processing apparatus comprising:
An open / close switch disposed in a power supply circuit for supplying electric power to the image pickup device and opened and closed in conjunction with the operation of the shielding means;
The open / close switch is configured to open when the shielding plate of the shielding means is positioned at the shielding position, and to be closed when the shielding plate is positioned at the open position.
The processing apparatus characterized by this is provided.

本発明による加工装置においては、撮像手段を構成する撮像素子に電力を供給する電源回路に開閉スイッチが配設されており、制御手段が撮像手段による撮像工程を実施する際に開閉スイッチを閉路し、撮像手段による撮像工程が終了したら開閉スイッチを開路するので、撮像工程以外は撮像素子に電力が供給されない。従って、撮像素子に熱が蓄積されることがないため、撮像素子を保持しているケースが熱膨張することによる画像のズレの発生を防止することができる。
また、本発明によれば、撮像手段を構成する撮像素子に電力を供給する電源回路に撮像手段の光学系の下方を遮蔽する遮蔽手段の作動と連動して開閉する開閉スイッチを配設し、遮蔽手段が遮蔽位置に位置付けられると開閉スイッチを開路し、遮蔽手段が開放位置に位置付けられると開閉スイッチを閉路せしめるように構成したので、遮蔽手段を開放位置に位置付けて撮像手段による撮像を可能にする撮像工程以外は撮像素子に電力が供給されない。従って、撮像素子に熱が蓄積されることがないため、撮像素子を保持しているケースが熱膨張することによる画像のズレの発生を防止することができる。
In the processing apparatus according to the present invention, the open / close switch is disposed in the power supply circuit that supplies power to the image sensor that constitutes the imaging unit, and the control unit closes the open / close switch when the imaging unit performs the imaging process. Since the open / close switch is opened when the imaging process by the imaging means is completed, power is not supplied to the imaging device except for the imaging process. Accordingly, no heat is accumulated in the image sensor, and thus it is possible to prevent the image from being shifted due to thermal expansion of the case holding the image sensor.
Further, according to the present invention, the power supply circuit that supplies power to the imaging device constituting the imaging unit is provided with an open / close switch that opens and closes in conjunction with the operation of the shielding unit that shields the lower part of the optical system of the imaging unit, Since the opening / closing switch is opened when the shielding means is positioned at the shielding position, and the opening / closing switch is closed when the shielding means is positioned at the opening position, the shielding means is positioned at the open position so that imaging by the imaging means is possible. Power is not supplied to the image sensor except for the imaging process. Accordingly, no heat is accumulated in the image sensor, and thus it is possible to prevent the image from being shifted due to thermal expansion of the case holding the image sensor.

以下、本発明によって構成された加工装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して、更に詳細に説明する。   Hereinafter, a preferred embodiment of a processing apparatus constructed according to the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

図1には、本発明によって構成された加工装置としての切削装置の斜視図が示されている。図示の実施形態における切削装置は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2内には、被加工物を保持するチャックテーブル3が切削送り方向(加工送り方向)である矢印Xで示す方向に移動可能に配設されている。チャックテーブル3は、吸着チャック支持台31と、該吸着チャック支持台31上に配設された吸着チャック32を具備しており、該吸着チャック32の上面である保持面上に被加工物を図示しない吸引手段を作動することによって吸引保持するようになっている。また、チャックテーブル3は、図示しない回転機構によって回転可能に構成されている。なお、チャックテーブル支持台31には、被加工物として後述する半導体ウエーハを保護テープを介して支持する支持フレームを固定するためのクランプ33が配設されている。このように構成されたチャックテーブル3は、図示しない切削送り手段(移動手段)によって、矢印Xで示す切削送り方向(加工送り方向)に移動せしめられるようになっている。   FIG. 1 shows a perspective view of a cutting apparatus as a processing apparatus constructed according to the present invention. The cutting device in the illustrated embodiment includes a device housing 2 having a substantially rectangular parallelepiped shape. A chuck table 3 for holding a workpiece is disposed in the apparatus housing 2 so as to be movable in a direction indicated by an arrow X that is a cutting feed direction (machining feed direction). The chuck table 3 includes a suction chuck support 31 and a suction chuck 32 disposed on the suction chuck support 31. A workpiece is illustrated on a holding surface which is the upper surface of the suction chuck 32. Suction holding is performed by operating a suction means that does not. The chuck table 3 is configured to be rotatable by a rotation mechanism (not shown). The chuck table support 31 is provided with a clamp 33 for fixing a support frame for supporting a semiconductor wafer, which will be described later, as a work piece via a protective tape. The chuck table 3 configured as described above can be moved in a cutting feed direction (machining feed direction) indicated by an arrow X by a cutting feed means (moving means) (not shown).

図示の実施形態における切削装置は、切削手段(加工手段)としてのスピンドルユニット4を具備している。スピンドルユニット4は、図示しない割り出し送り手段によって図1において矢印Yで示す割り出し送り方向に移動せしめられるとともに、図示しない切り込み送り手段によって図1において矢印Zで示す切り込み送り方向に移動せしめられるようになっている。このスピンドルユニット4は、図示しない移動基台に装着され割り出し方向である矢印Yで示す方向および切り込み方向である矢印Zで示す方向に移動調整されるスピンドルハウジング41と、該スピンドルハウジング41に回転自在に支持された回転スピンドル42と、該回転スピンドル42の前端部に装着された切削ブレード43とを具備している。   The cutting apparatus in the illustrated embodiment includes a spindle unit 4 as cutting means (processing means). The spindle unit 4 is moved in an index feed direction indicated by an arrow Y in FIG. 1 by an index feed means (not shown), and is moved in a cut feed direction indicated by an arrow Z in FIG. 1 by a notch feed means (not shown). ing. The spindle unit 4 is mounted on a moving base (not shown) and is adjusted to move in a direction indicated by an arrow Y that is an indexing direction and a direction indicated by an arrow Z that is a cutting direction, and the spindle housing 41 is freely rotatable. And a cutting blade 43 attached to the front end of the rotating spindle 42.

図示の実施形態における切削装置は、上記チャックテーブル3上に保持された被加工物の表面を撮像し、上記切削ブレード43によって切削すべき領域を検出するための撮像手段5を具備している。この撮像手段5は、後述する基準線が切削ブレード43と矢印X方向において一直線上に位置するように上記スピンドルハウジング41に取付けられている。また、図示の実施形態における切削装置は、撮像手段5によって撮像された画像等を表示する表示手段6を具備している。撮像手段5および表示手段6について、図2を参照して説明する。図2に示す撮像手段5は、ハウジング51に配設された顕微鏡からなる光学系52と、該光学系52によって撮像された画像を電気信号に変換する撮像素子(CCD)53を具備している。なお、撮像素子53は、ケース54に配設された状態でハウジング51に装着されている。このように構成された撮像素子53は、直流電源70を含む電源回路7によって電力が供給されるようになっている。また、撮像素子53は、光学系52によって撮像された画像を電気信号に変換し、画像データとして制御手段8に送る。そして、制御手段8は撮像素子53から送られた画像データを画像処理し、その画像を表示手段6に表示する。   The cutting apparatus in the illustrated embodiment includes an image pickup means 5 for picking up an image of the surface of the workpiece held on the chuck table 3 and detecting a region to be cut by the cutting blade 43. The imaging means 5 is attached to the spindle housing 41 so that a reference line, which will be described later, is positioned on a straight line with the cutting blade 43 in the direction of the arrow X. Further, the cutting apparatus in the illustrated embodiment includes a display unit 6 that displays an image or the like captured by the imaging unit 5. The imaging unit 5 and the display unit 6 will be described with reference to FIG. 2 includes an optical system 52 including a microscope disposed in a housing 51, and an image sensor (CCD) 53 that converts an image captured by the optical system 52 into an electrical signal. . Note that the image sensor 53 is mounted on the housing 51 in a state of being disposed in the case 54. The imaging device 53 configured as described above is supplied with power by the power supply circuit 7 including the DC power supply 70. Further, the image sensor 53 converts an image captured by the optical system 52 into an electrical signal, and sends it to the control means 8 as image data. Then, the control means 8 performs image processing on the image data sent from the image sensor 53 and displays the image on the display means 6.

図示の実施形態においては、上記撮像素子53に電力を供給する電源回路7には、開閉スイッチ71が配設されている。この開閉スイッチ71は、上記制御手段8によって制御されるスイッチ作動手段9(Act)によって開閉されるようになっている。なお、制御手段8は、上述した各手段および後述する各手段を制御するように構成されている。   In the illustrated embodiment, an open / close switch 71 is provided in the power supply circuit 7 that supplies power to the image sensor 53. The open / close switch 71 is opened and closed by a switch actuating means 9 (Act) controlled by the control means 8. Note that the control means 8 is configured to control each of the above-described means and each means described later.

図1に戻って説明を続けると、上記装置ハウジング2におけるカセット載置領域11aには、被加工物を収容するカセットを載置するカセット載置テーブル11が配設されている。このカセット載置テーブル11は、図示しない昇降手段によって上下方向に移動可能に構成されている。カセット載置テーブル11上には、被加工物としての半導体ウエーハ10を収容するカセット12が載置される。カセット12に収容される半導体ウエーハ10は、表面に格子状のストリートが形成されており、この格子状のストリートによって区画された複数の矩形領域にIC、LSI等のデバイスが形成されている。このように形成された半導体ウエーハ10は、環状のフレームFに装着された保護テープTの表面に裏面が貼着された状態でカセット12に収容される。   Returning to FIG. 1, the description will be continued. In the cassette mounting area 11 a of the apparatus housing 2, a cassette mounting table 11 for mounting a cassette for storing a workpiece is disposed. The cassette mounting table 11 is configured to be movable in the vertical direction by a lifting means (not shown). On the cassette mounting table 11, a cassette 12 that houses a semiconductor wafer 10 as a workpiece is placed. The semiconductor wafer 10 accommodated in the cassette 12 has a grid-like street formed on the surface thereof, and devices such as ICs and LSIs are formed in a plurality of rectangular regions partitioned by the grid-like street. The semiconductor wafer 10 thus formed is accommodated in the cassette 12 with the back surface adhered to the front surface of the protective tape T mounted on the annular frame F.

また、図示の実施形態における切削装置は、カセット載置テーブル13上に載置されたカセット14に収容されている半導体ウエーハ10(環状のフレームFに保護テープTを介して支持されている状態)を仮置きテーブル13に搬出する搬出手段14と、仮置きテーブル13に搬出された半導体ウエーハ10を上記チャックテーブル3上に搬送する第1の搬送手段15と、チャックテーブル3上で切削加工された半導体ウエーハ10を洗浄する洗浄手段16と、チャックテーブル3上で切削加工された半導体ウエーハ10を洗浄手段16へ搬送する第2の搬送手段17を具備している。   Further, the cutting device in the illustrated embodiment is a semiconductor wafer 10 accommodated in a cassette 14 placed on a cassette placement table 13 (in a state where it is supported on an annular frame F via a protective tape T). Is carried out on the chuck table 3, the first conveying means 15 for conveying the semiconductor wafer 10 carried out on the temporary table 13 onto the chuck table 3, and the chuck table 3. A cleaning means 16 for cleaning the semiconductor wafer 10 and a second transport means 17 for transporting the semiconductor wafer 10 cut on the chuck table 3 to the cleaning means 16 are provided.

以上のように構成された切削装置を用いて半導体ウエーハ10をストリートに沿って切断する切削手順について、図3に示すフローチャートをも参照して説明する。
制御手段8は、切削作業開始スイッチ(図示せず)が投入され、切削作業開始信号が入力されると、ステップS1においてウエーハ搬出工程を実行する。即ち、制御手段8は、カセット載置テーブル11の図示しない昇降手段を作動し、カセット載置テーブル11上に載置されたカセット12の所定位置に収容されている半導体ウエーハ10(環状のフレームFに保護テープTを介して支持されている状態)を搬出位置に位置付ける。次に、搬出手段14を進退作動して搬出位置に位置付けられた半導体ウエーハ10を仮置きテーブル13上に搬出する。
A cutting procedure for cutting the semiconductor wafer 10 along the street using the cutting apparatus configured as described above will be described with reference to the flowchart shown in FIG.
When a cutting work start switch (not shown) is turned on and a cutting work start signal is input, the control means 8 executes a wafer carry-out process in step S1. That is, the control means 8 operates a lifting / lowering means (not shown) of the cassette mounting table 11 so that the semiconductor wafer 10 (annular frame F) accommodated in a predetermined position of the cassette 12 placed on the cassette placing table 11 is operated. Is supported via the protective tape T) at the unloading position. Next, the unloading means 14 is advanced and retracted to unload the semiconductor wafer 10 positioned at the unloading position onto the temporary placement table 13.

上記ステップS1においてウエーハ搬出工程を実行したならば、制御手段8はステップS2に進んでウエーハ保持工程を実行する。即ち、制御手段8は第1の搬送手段15を作動して仮置きテーブル13に搬出された半導体ウエーハ10を上記チャックテーブル3上に搬送する。次に、制御手段8は図示しない吸引手段を作動して、半導体ウエーハ10をチャックテーブル3上に吸引保持する。また、制御手段8は図示しないクランプ作動手段を作動して、半導体ウエーハ10が貼着された保護テープTが装着されている環状のフレームFを上記クランプ33によって固定する。   If the wafer unloading process is executed in step S1, the control means 8 proceeds to step S2 and executes the wafer holding process. That is, the control unit 8 operates the first transfer unit 15 to transfer the semiconductor wafer 10 carried out to the temporary table 13 onto the chuck table 3. Next, the control means 8 operates a suction means (not shown) to suck and hold the semiconductor wafer 10 on the chuck table 3. Further, the control means 8 operates a clamp operating means (not shown) to fix the annular frame F on which the protective tape T with the semiconductor wafer 10 attached is fixed by the clamp 33.

上述したようにウエーハ保持工程を実行したならば、制御手段8はステップS3に進んでスイッチ作動手段9(Act)を附勢(ON)する。この結果、電源回路7に配設された開閉スイッチ71が閉路(ON)され、撮像手段5の撮像素子53に所定の電圧が印加される。このようにして撮像素子53に所定の電圧が印加され、撮像手段5による撮像準備が完了したならば、制御手段8はステップS4に進んで半導体ウエーハ10に形成されたストリートと切削ブレード43との位置合わせを行うアライメント工程を実施するための撮像工程を実行する。   If the wafer holding step is executed as described above, the control means 8 proceeds to step S3 and energizes (ON) the switch actuating means 9 (Act). As a result, the open / close switch 71 provided in the power supply circuit 7 is closed (ON), and a predetermined voltage is applied to the image pickup device 53 of the image pickup means 5. In this way, when a predetermined voltage is applied to the image pickup device 53 and preparation for image pickup by the image pickup means 5 is completed, the control means 8 proceeds to step S4, and the street formed on the semiconductor wafer 10 and the cutting blade 43 are connected. An imaging process for performing an alignment process for performing alignment is executed.

撮像工程においては、先ず制御手段8は図示しない移動手段を作動して、半導体ウエーハ10を保持したチャックテーブル3を撮像手段5の直下まで移動せしめる。次に、制御手段8は撮像手段5を作動して、半導体ウエーハ10に所定の方向に形成されているストリートを撮像する。そして、制御手段8は撮像手段5によって撮像されたストリートを図2に示すように表示手段6に表示する。なお、図2に示すように撮像されたストリートが基準線とズレている場合には、制御手段8はスピンドルユニット4を割り出し方向である矢印Y方向に移動調節して基準線をストリートの中心に位置付ける。この結果、切削ブレード43は、ストリートの中心と合致した位置に位置付けられたことになる。なお、上述したように撮像手段5によって撮像されたストリートが基準線と平行でない場合には、制御手段8は図示しない回転機構を作動して半導体ウエーハ10を保持したチャックテーブル3を回動して、ストリートと基準線が平行になるように調整する(アライメント工程)。この撮像工程は、所定の方向と直交する方向に形成されているストリートに対しても実施する。   In the imaging step, first, the control unit 8 operates a moving unit (not shown) to move the chuck table 3 holding the semiconductor wafer 10 to a position immediately below the imaging unit 5. Next, the control means 8 operates the image pickup means 5 to pick up an image of the street formed in a predetermined direction on the semiconductor wafer 10. And the control means 8 displays the street imaged by the imaging means 5 on the display means 6 as shown in FIG. If the imaged street is misaligned with the reference line as shown in FIG. 2, the control means 8 moves and adjusts the spindle unit 4 in the arrow Y direction as the indexing direction so that the reference line becomes the center of the street. Position. As a result, the cutting blade 43 is positioned at a position that matches the center of the street. As described above, when the street imaged by the imaging unit 5 is not parallel to the reference line, the control unit 8 operates a rotation mechanism (not shown) to rotate the chuck table 3 holding the semiconductor wafer 10. , And adjust so that the street and the reference line are parallel (alignment process). This imaging process is also performed on streets formed in a direction orthogonal to a predetermined direction.

上述した撮像工程を実行したならば、制御手段8はステップS5に進んで、スイッチ作動手段9(Act)を除勢(OFF)する。この結果、電源回路7に配設された開閉スイッチ71が開路(OFF)され、撮像手段5の撮像素子53への電力の供給が遮断される。   If the above-described imaging process is executed, the control means 8 proceeds to step S5 and deenergizes (OFF) the switch actuating means 9 (Act). As a result, the open / close switch 71 provided in the power supply circuit 7 is opened (OFF), and the supply of power to the image pickup device 53 of the image pickup means 5 is cut off.

次に、制御手段8はステップS6に進み、半導体ウエーハ10を保持したチャックテーブル3を切削加工領域に移動して、切削工程(加工工程)を実行する。
即ち、制御手段8は図示しない切り込み送り手段を作動して、切削ブレード43を矢印Zで示す方向に所定量切り込み送りし所定の方向に回転させつつ、半導体ウエーハ10を吸引保持したチャックテーブル3を切削送り方向である矢印Xで示す方向(切削ブレード43の回転軸と直交する方向)に所定の切削送り速度で移動する。この切削工程においては、切削ブレード43および切削部に切削水が供給される。この結果、チャックテーブル3上に保持された半導体ウエーハ10は切削ブレード43により所定のストリートに沿って切断される。このようにして、半導体ウエーハ10を所定のストリートに沿って切断したら、制御手段8は図示しない割り出し送り手段を作動して、チャックテーブル3を矢印Yで示す方向にストリートの間隔だけ割り出し送りし、上記切削工程を実施する。そして、半導体ウエーハ10の所定方向に延在するストリートの全てに沿って切削工程を実施したならば、制御手段8は図示しない回転機構を作動してチャックテーブル3を90度回転させて、半導体ウエーハ10の所定方向と直交する方向に延在するストリートに沿って切削工程を実行することにより、半導体ウエーハ10に格子状に形成された全てのストリートが切削されて個々のチップに分割される。なお、分割されたチップは、保護テープTの作用によってバラバラにはならず、環状のフレームFに支持されたウエーハの状態が維持されている。
Next, the control means 8 proceeds to step S6, moves the chuck table 3 holding the semiconductor wafer 10 to the cutting region, and executes a cutting step (processing step).
That is, the control means 8 operates a notch feeding means (not shown) to cut and feed the cutting blade 43 by a predetermined amount in the direction indicated by the arrow Z and rotate the chuck table 3 holding the semiconductor wafer 10 by suction. It moves at a predetermined cutting feed speed in a direction indicated by an arrow X that is a cutting feed direction (a direction orthogonal to the rotation axis of the cutting blade 43). In this cutting process, cutting water is supplied to the cutting blade 43 and the cutting part. As a result, the semiconductor wafer 10 held on the chuck table 3 is cut along a predetermined street by the cutting blade 43. After the semiconductor wafer 10 is cut along a predetermined street in this way, the control means 8 operates an index feed means (not shown) to index and feed the chuck table 3 in the direction indicated by the arrow Y by the street interval. The cutting process is performed. When the cutting process is performed along all of the streets extending in a predetermined direction of the semiconductor wafer 10, the control means 8 operates a rotation mechanism (not shown) to rotate the chuck table 3 by 90 degrees, so that the semiconductor wafer is rotated. By executing the cutting process along the streets extending in the direction orthogonal to the predetermined direction, all the streets formed in a lattice shape on the semiconductor wafer 10 are cut and divided into individual chips. The divided chips do not fall apart due to the action of the protective tape T, and the state of the wafer supported by the annular frame F is maintained.

上述したように半導体ウエーハ10のストリートに沿って切削工程が終了したら、制御手段8はステップS7に進んで、ウエーハ保持解除工程を実行する。即ち、制御手段8は図示しない移動手段を作動して、半導体ウエーハ10を保持したチャックテーブル3を最初に半導体ウエーハ10を吸引保持した位置に戻る。そして、制御手段8は、図示しない吸引手段の吸引を停止して、半導体ウエーハ10の吸引保持を解除する。   As described above, when the cutting process is completed along the streets of the semiconductor wafer 10, the control means 8 proceeds to step S7 and executes a wafer holding release process. That is, the control means 8 operates a moving means (not shown) to return the chuck table 3 holding the semiconductor wafer 10 to the position where the semiconductor wafer 10 is first sucked and held. Then, the control means 8 stops the suction of the suction means (not shown) and releases the suction holding of the semiconductor wafer 10.

次に、制御手段8はステップS8に進んで、洗浄工程を実行する。即ち、制御手段8は第2の搬送手段17を作動して、チャックテーブル3上の半導体ウエーハ10を洗浄手段16に搬送する。そして、制御手段8は、洗浄手段16を作動して上記切削工程において切削加工された半導体ウエーハ10を洗浄し乾燥する。   Next, the control means 8 proceeds to step S8 and executes a cleaning process. That is, the control unit 8 operates the second transfer unit 17 to transfer the semiconductor wafer 10 on the chuck table 3 to the cleaning unit 16. Then, the control means 8 operates the cleaning means 16 to clean and dry the semiconductor wafer 10 cut in the cutting process.

上述した洗浄工程を実行したならば、制御手段8はステップS9に進んで、ウエーハ収納工程を実行する。即ち、制御手段8は第1の搬送手段15を作動して、洗浄手段16において洗浄および乾燥された半導体ウエーハ10を仮置きテーブル13に搬送する。そして、制御手段8は搬出手段14を作動して、仮置きテーブル13に搬送された切削加工後の半導体ウエーハ10をカセット12の所定位置に収納する。従って、搬出手段14は、加工後の半導体ウエーハ10をカセット12に搬入する搬入手段としての機能も備えている。   If the cleaning process described above is executed, the control means 8 proceeds to step S9 and executes the wafer storage process. That is, the control unit 8 operates the first transport unit 15 to transport the semiconductor wafer 10 cleaned and dried by the cleaning unit 16 to the temporary placement table 13. Then, the control means 8 operates the carry-out means 14 to store the semiconductor wafer 10 after cutting, which has been conveyed to the temporary table 13, in a predetermined position of the cassette 12. Accordingly, the carry-out means 14 also has a function as a carry-in means for carrying the processed semiconductor wafer 10 into the cassette 12.

以上のように、図示の実施形態における切削装置おいては、撮像手段5を構成する撮像素子53に電力を供給する電源回路7に開閉スイッチ71が配設され、この開閉スイッチ71が上述した撮像工程を実施している間だけ附勢(ON)されるので、撮像工程以外は撮像手段5を構成する撮像素子53に電力が供給されない。従って、撮像素子53に熱が蓄積されることがないため、撮像素子53を保持しているケース54が熱膨張することによる画像のズレの発生を防止することができる。   As described above, in the cutting apparatus according to the illustrated embodiment, the open / close switch 71 is disposed in the power supply circuit 7 that supplies power to the image pickup device 53 constituting the image pickup unit 5, and the open / close switch 71 is used for the above-described image pickup. Since it is energized (ON) only while the process is being performed, power is not supplied to the image sensor 53 constituting the imaging means 5 except for the imaging process. Accordingly, since heat is not accumulated in the image sensor 53, it is possible to prevent image displacement due to thermal expansion of the case 54 holding the image sensor 53.

なお、上記撮像手段5によって被加工物である半導体ウエーハ10を撮像する撮像工程は、上記切削工程が実施された後に切削溝の状態を検査するために実施する場合がある。例えば、被加工物である半導体ウエーハ10を所定の枚数に対して上記切削工程を実施したならば、制御手段8は上記スイッチ作動手段9(Act)を附勢(ON)して電源回路7に配設された開閉スイッチ71が閉路(ON)するとともに、半導体ウエーハ10をチャックテーブル3に戻す。そして、制御手段8は、撮像手段5を作動して半導体ウエーハ10に形成された切削溝を撮像し、切削溝の状態を検査する切削溝検査工程を実行する。   Note that the imaging step of imaging the semiconductor wafer 10 that is a workpiece by the imaging unit 5 may be performed in order to inspect the state of the cutting groove after the cutting step is performed. For example, if the above-described cutting process is performed on a predetermined number of semiconductor wafers 10 as workpieces, the control means 8 energizes (ON) the switch actuating means 9 (Act) to the power supply circuit 7. The provided opening / closing switch 71 is closed (ON), and the semiconductor wafer 10 is returned to the chuck table 3. And the control means 8 operates the imaging means 5, images the cutting groove formed in the semiconductor wafer 10, and performs the cutting groove inspection process which test | inspects the state of a cutting groove.

次に、本発明の他の実施形態について、図4および図5を参照して説明する。
図4および図5に示す実施形態は、撮像手段5を構成する光学系52の下方を遮蔽する遮蔽手段20を備えるとともに、この遮蔽手段20の作動に連動して上記電源回路7に配設された開閉スイッチ71を開閉するように構成したものである。図示の実施形態における遮蔽手段20は、撮像素子(CCD)53の光学系52が配設されたハウジング51の下端に光学系52の光軸に対して直角に装着されたガイド部材21と、該ガイド部材21の下側に移動可能に配設された遮蔽部材22と、該遮蔽部材22をガイド部材21の下面に沿って移動する作動手段23とを具備している。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
The embodiment shown in FIGS. 4 and 5 includes a shielding unit 20 that shields the lower side of the optical system 52 that constitutes the imaging unit 5 and is disposed in the power supply circuit 7 in conjunction with the operation of the shielding unit 20. The open / close switch 71 is configured to open and close. The shielding means 20 in the illustrated embodiment includes a guide member 21 mounted at a right angle to the optical axis of the optical system 52 at the lower end of the housing 51 in which the optical system 52 of the imaging device (CCD) 53 is disposed, A shielding member 22 movably disposed below the guide member 21 and an operating means 23 for moving the shielding member 22 along the lower surface of the guide member 21 are provided.

ガイド部材21は、矩形状に形成された案内部211と、該案内板211を光学系62の下端部に装着する筒状の装着部212とからなっている。案内部211は、中央部に光学系52と対応する第1の穴211aを備えており、その下面には長手方向に沿って一対の案内溝211b、211cが対向して形成されている。筒状の装着部212は、第1の穴211aの周囲から立設して形成されている。このように構成されたガイド部材21は、筒状の装着部212をハウジング51の下端部に嵌合し、接着剤或いはビス等の固着手段によってハウジング51に装着する。   The guide member 21 includes a guide portion 211 formed in a rectangular shape and a cylindrical mounting portion 212 that mounts the guide plate 211 on the lower end portion of the optical system 62. The guide portion 211 includes a first hole 211a corresponding to the optical system 52 at the center, and a pair of guide grooves 211b and 211c are formed on the lower surface thereof so as to face each other along the longitudinal direction. The cylindrical mounting portion 212 is formed upright from the periphery of the first hole 211a. The guide member 21 configured as described above has a cylindrical mounting portion 212 fitted to the lower end portion of the housing 51, and is mounted on the housing 51 by an adhering means such as an adhesive or a screw.

遮蔽部材22は、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂等の可撓性を有するシート材からなっており、所定位置に上記第1の穴211aと対応する第2の穴22aが設けられている。このように形成された遮蔽部材22は、両側部を上記ガイド部材21を構成する案内部211の下面に形成された一対の案内溝211b、211cに係合することにより、案内部211の下面に沿って移動可能に配設される。従って、遮蔽部材22に設けられた第2の穴22aを上記第1の穴211aと対向する開放位置に位置付けることにより、撮像手段5のよる光学系52を通しての撮像を可能とする。また、遮蔽部材22を上記開放位置から少なくとも第2の穴22aの直径に相当する量移動した遮蔽位置に位置付けることにより、上記第1の穴211aを遮蔽する。なお、遮蔽部材22の一端部には作動手段23と連結するための2個の穴22b、22bが設けられている。   The shielding member 22 is made of a flexible sheet material such as polyethylene terephthalate (PET) resin, and a second hole 22a corresponding to the first hole 211a is provided at a predetermined position. The shielding member 22 formed in this way is engaged with a pair of guide grooves 211b and 211c formed on the lower surface of the guide portion 211 that constitutes the guide member 21 on both sides, thereby forming a lower surface of the guide portion 211. It is arranged to be movable along. Accordingly, by positioning the second hole 22a provided in the shielding member 22 at an open position facing the first hole 211a, the imaging unit 5 can perform imaging through the optical system 52. Further, the first hole 211a is shielded by positioning the shielding member 22 at a shielding position that is moved at least by an amount corresponding to the diameter of the second hole 22a from the open position. Note that two holes 22 b and 22 b for connecting to the actuating means 23 are provided at one end of the shielding member 22.

作動手段23は、図示の実施形態においてはエアーピストン機構によって構成されている。エアーピストン機構からなる作動手段23は、シリンダ231と、該シリンダ231内に摺動可能に配設されたピストン232と、該ピストン232の一端が連結されたピストンロッド233と、該ピストンロッド233の他端に取付けられた連結部材234とを具備している。このように構成された作動手段23は、シリンダ231におけるピストン232によって区画された第1の室231aと第2の室231bが図示しないエアー制御回路に連通されている。ピストンロッド233の他端に取付けられた連結部材234は、上記遮蔽部材22の幅に対応する長さを有しており、遮蔽部材22の一端部を挟持する挟持溝234aを備えている。また、連結部材234には、挟持溝234aと直交する方向に上記遮蔽部材22の一端部に設けられた2個の穴22b、22bと対応する2個の穴234b、234bが形成されている。このように構成された連結部材234の挟持溝234aに遮蔽部材22の一端部を挿入し、連結部材234に設けられた穴234b、234bおよび遮蔽部材22に設けられた穴22b、22bにボルト235を挿通し、該ボルト235にナット236を螺合することにより、遮蔽部材22が連結部材234に取付けられる。   The actuating means 23 is constituted by an air piston mechanism in the illustrated embodiment. The actuating means 23 comprising an air piston mechanism includes a cylinder 231, a piston 232 slidably disposed in the cylinder 231, a piston rod 233 to which one end of the piston 232 is coupled, and the piston rod 233. And a connecting member 234 attached to the other end. In the operating means 23 configured as described above, the first chamber 231a and the second chamber 231b defined by the piston 232 in the cylinder 231 are communicated with an air control circuit (not shown). The connecting member 234 attached to the other end of the piston rod 233 has a length corresponding to the width of the shielding member 22, and includes a holding groove 234 a that holds one end of the shielding member 22. The connecting member 234 is formed with two holes 234b and 234b corresponding to the two holes 22b and 22b provided at one end of the shielding member 22 in a direction perpendicular to the holding groove 234a. One end of the shielding member 22 is inserted into the holding groove 234a of the connecting member 234 thus configured, and the bolt 235 is inserted into the holes 234b and 234b provided in the connecting member 234 and the holes 22b and 22b provided in the shielding member 22. , And the nut 236 is screwed into the bolt 235 to attach the shielding member 22 to the connecting member 234.

上述したように構成された作動手段23は、図4に示すようにシリンダ231が撮像手段5のハウジング51にピストン232の摺動方向が光学系52の光軸と平行になるように適宜の固定手段によって取付けられる。そして、連結部材234がガイド部材21を構成する案内部211の長手方向一端の上方に位置付けられる。このため、可撓性を有するシートからなる遮蔽部材22は、案内部211の長手方向一端縁から略直角に屈曲される。従って、作動手段23は、ピストンロッド233を図4において上下方向に作動することにより、遮蔽部材22をガイド部材21を構成する案内部211の下面に沿って移動することができる。即ち、作動手段23のピストンロッド233を実線で示す下方位置に作動すると遮蔽部材22は図4において実線で示す上記開放位置に位置付けられ、ピストンロッド233を上方位置に作動すると遮蔽部材22は図4において2点鎖線で示す上記遮蔽位置に位置付けられる。このように遮蔽部材22を可撓性を有するシートによって形成することにより、作動手段23の配置が容易となる。   The actuating means 23 configured as described above is appropriately fixed so that the cylinder 231 is in the housing 51 of the imaging means 5 and the sliding direction of the piston 232 is parallel to the optical axis of the optical system 52 as shown in FIG. Mounted by means. The connecting member 234 is positioned above one end in the longitudinal direction of the guide portion 211 that constitutes the guide member 21. For this reason, the shielding member 22 made of a flexible sheet is bent at a substantially right angle from one edge in the longitudinal direction of the guide portion 211. Therefore, the actuating means 23 can move the shielding member 22 along the lower surface of the guide portion 211 constituting the guide member 21 by actuating the piston rod 233 in the vertical direction in FIG. That is, when the piston rod 233 of the actuating means 23 is operated to the lower position indicated by the solid line, the shielding member 22 is positioned at the open position indicated by the solid line in FIG. 4, and when the piston rod 233 is operated to the upper position, the shielding member 22 is Is positioned at the shielding position indicated by a two-dot chain line. Thus, by forming the shielding member 22 with a flexible sheet, the operation means 23 can be easily arranged.

図4および図5に示す実施形態においては、図2に示す上記電源回路7に配設された開閉スイッチ71が上記作動手段23と隣接してハウジング51に取付けられている。この開閉スイッチ71は、スイッチ作動片711が上記作動手段23を構成する連結部材234の上面と対向して配設されている。このように構成された開閉スイッチ71は、作動手段23が図4において実線で示す上記開放位置に位置付けられている状態では連結部材234とスイッチ作動片111が離隔しており、閉路(ON)している。また、開閉スイッチ71は、作動手段23が図4において2点鎖線で示す上記遮蔽位置に位置付けられると、連結部材234によってスイッチ作動片711が作動され、開路(OFF)せしめられる。   In the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, an open / close switch 71 disposed in the power supply circuit 7 shown in FIG. 2 is attached to the housing 51 adjacent to the operating means 23. In the open / close switch 71, the switch operating piece 711 is disposed to face the upper surface of the connecting member 234 constituting the operating means 23. In the open / close switch 71 configured as described above, the connecting member 234 and the switch operating piece 111 are separated from each other when the operating means 23 is positioned at the open position indicated by the solid line in FIG. ing. In addition, when the operating means 23 is positioned at the shielding position indicated by a two-dot chain line in FIG. 4, the switch operating piece 711 is operated by the connecting member 234 and the open / close switch 71 is opened (OFF).

図4および図5に示す実施形態は以上のように構成され、上記電源回路7に配設された開閉スイッチ71が遮蔽手段20を構成する作動手段23と連動して開閉するようになっているので、上記図2に示す実施形態におけるスイッチ作動手段9は不要となる。そして、遮蔽手段20を構成する作動手段23が上記制御手段8の制御信号に基いて作動せしめられる。即ち、制御手段8は、上記撮像工程を実施する際には作動手段23を作動して図4において実線で示す上記開放位置に位置付ける。このとき、作動手段23の連結部材234と開閉スイッチ71のスイッチ作動片711が図4において実線で示すように離隔して、開閉スイッチ71は閉路(ON)する。この結果、遮蔽部材22に設けられた第2の穴22aが案内板211に設けられた第1の穴211aとが合致し、撮像手段5による撮像が可能となる。また、制御手段8は上記撮像工程が終了したならば、作動手段23を作動して図4において2点鎖線で示す上記遮蔽位置に位置付ける。このとき、作動手段23の連結部材234が図4において2点鎖線で示すように開閉スイッチ71のスイッチ作動片711を作動して、開閉スイッチ71は開路(OFF)せしめられる。従って、撮像手段5を構成する撮像素子53には、上述した撮像工程を実施している間だけ電力が供給されることになる。このため、撮像工程以外は撮像手段5を構成する撮像素子53に電力が供給されないので、撮像素子53に熱が蓄積されることがなく、撮像素子53を保持しているケース54が熱膨張することによる画像のズレの発生を防止することができる。   The embodiment shown in FIGS. 4 and 5 is configured as described above, and the open / close switch 71 provided in the power supply circuit 7 opens and closes in conjunction with the operating means 23 constituting the shielding means 20. Therefore, the switch actuating means 9 in the embodiment shown in FIG. 2 is not necessary. The actuating means 23 constituting the shielding means 20 is actuated based on the control signal of the control means 8. That is, the control unit 8 operates the operation unit 23 when performing the imaging step, and positions the operation unit 23 at the open position indicated by a solid line in FIG. At this time, the connecting member 234 of the actuating means 23 and the switch actuating piece 711 of the open / close switch 71 are separated as shown by the solid line in FIG. 4, and the open / close switch 71 is closed (ON). As a result, the second hole 22a provided in the shielding member 22 matches the first hole 211a provided in the guide plate 211, and imaging by the imaging means 5 becomes possible. Further, when the imaging step is completed, the control unit 8 operates the operation unit 23 to position it at the shielding position indicated by a two-dot chain line in FIG. At this time, the connecting member 234 of the operating means 23 operates the switch operating piece 711 of the open / close switch 71 as shown by a two-dot chain line in FIG. 4, and the open / close switch 71 is opened (OFF). Therefore, power is supplied to the image sensor 53 constituting the imaging unit 5 only while the above-described imaging process is performed. For this reason, since power is not supplied to the image pickup device 53 constituting the image pickup means 5 except for the image pickup step, heat is not accumulated in the image pickup device 53 and the case 54 holding the image pickup device 53 is thermally expanded. Therefore, it is possible to prevent the image from being shifted.

一方、遮蔽手段20は上記撮像工程以外には図4において2点鎖線で示す上記遮蔽位置に位置付けられるので、撮像手段5を構成する光学系52は遮蔽部材22によって遮蔽される。従って、上記切削工程においては切削ブレード43および切削部に切削水を供給しつつ切削作業を実施するため、切削ブレード43の回転によって切削水およびコンタミが飛散するが、この飛散した飛沫は遮蔽手段20の遮蔽部材22によって遮蔽され撮像手段5の光学系52を汚染することはない。   On the other hand, since the shielding means 20 is positioned at the shielding position indicated by a two-dot chain line in FIG. 4 except for the imaging step, the optical system 52 constituting the imaging means 5 is shielded by the shielding member 22. Accordingly, in the above cutting process, the cutting operation is performed while supplying cutting water to the cutting blade 43 and the cutting portion. Therefore, the cutting water 43 and the contamination are scattered by the rotation of the cutting blade 43. The shielding member 22 shields the optical system 52 of the imaging means 5 from contamination.

以上、本発明を切削装置に適用した例を示したが、本発明はレーザー加工装置等他の加工装置に適用しても同様の作用効果を奏する。   As mentioned above, although the example which applied this invention to the cutting device was shown, even if it applies this invention to other processing apparatuses, such as a laser processing apparatus, there exists the same effect.

本発明に従って構成された加工手段としての切削装置の要部斜視図。The principal part perspective view of the cutting device as a processing means comprised according to this invention. 図1に示す切削装置に装備される撮像手段および制御手段を示すブロック構成図。The block block diagram which shows the imaging means and control means with which the cutting apparatus shown in FIG. 1 is equipped. 図2に示す制御手段の制御手順を示すフローチャート。The flowchart which shows the control procedure of the control means shown in FIG. 図1に示す切削装置に装備される撮像手段に遮蔽手段を装着した状態を示す斜視図。The perspective view which shows the state which attached the shielding means to the imaging means with which the cutting apparatus shown in FIG. 1 is equipped. 図4に示す遮蔽手段を分解して示す斜視図。The perspective view which decomposes | disassembles and shows the shielding means shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

2:切削装置の装置ハウジング
3:チャックテーブル
31:チャックテーブル支持台
32:吸着チャック
33:クランプ
4:スピンドルユニット
41:スピンドルハウジング
42:回転スピンドル
43:切削ブレード
5:撮像手段
51:ハウジング
52:光学系
53:撮像素子
54:ケース
6:表示手段
7:電源回路
70:電源
71:開閉スイッチ
711:スイッチ作動片
8:制御手段
9:スイッチ作動手段(Act)
10:半導体ウエーハ
11:カセット載置テーブル
12:カセット
13:仮置きテーブル
14:搬出手段
15:第1の搬送手段
16:洗浄手段
17:第2の搬送手段
20:遮蔽手段
21:ガイド部材
22:遮蔽部材
23:作動部材
2: Device housing of cutting device 3: Chuck table 31: Chuck table support base 32: Suction chuck 33: Clamp 4: Spindle unit 41: Spindle housing 42: Rotating spindle 43: Cutting blade 5: Imaging means 51: Housing 52: Optical System 53: Image sensor 54: Case 6: Display means 7: Power supply circuit 70: Power supply 71: Open / close switch 711: Switch operating piece 8: Control means 9: Switch operating means (Act)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10: Semiconductor wafer 11: Cassette mounting table 12: Cassette 13: Temporary placement table 14: Unloading means 15: 1st conveyance means 16: Cleaning means 17: 2nd conveyance means 20: Shielding means 21: Guide member 22: Shielding member 23: Actuating member

Claims (2)

被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を撮像するための光学系と撮像素子を備えた撮像手段と、該チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、該チャックテーブルを該撮像手段の撮像領域を含む加工送り方向に移動せしめる移動手段と、該撮像手段と該加工手段および該移動手段を制御する制御手段と、を具備する加工装置において、
該撮像素子に電力を供給する電源回路に開閉スイッチが配設されており、
該制御手段は、該撮像手段による撮像工程を実施する際に該開閉スイッチを閉路し、該撮像手段による撮像工程が終了したら該開閉スイッチを開路する、
ことを特徴とする加工装置。
A chuck table for holding a workpiece, an image pickup unit having an optical system and an image sensor for imaging the workpiece held on the chuck table, and a workpiece held on the chuck table. In a processing apparatus comprising: a processing unit; a moving unit that moves the chuck table in a processing feed direction including an imaging region of the imaging unit; and a control unit that controls the imaging unit, the processing unit, and the moving unit. ,
An open / close switch is disposed in a power supply circuit that supplies power to the image sensor,
The control means closes the open / close switch when performing the imaging process by the imaging means, and opens the open / close switch when the imaging process by the imaging means is completed.
A processing apparatus characterized by that.
被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を撮像するための光学系と撮像素子を備えた撮像手段と、該撮像手段の該光学系の下方を遮蔽する遮蔽位置と該光学系の下方を開放する開放位置に作動する遮蔽部材を備えた遮蔽手段と、該チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、を具備する加工装置において、
該撮像素子に電力を供給する電源回路に配設され該遮蔽手段の作動と連動して開閉する開閉スイッチが配設されており、
該開閉スイッチは、該遮蔽手段の該遮蔽板が該遮蔽位置に位置付けられると開路し、該遮蔽板が該開放位置に位置付けられると閉路せしめられるように構成されている、
ことを特徴とする加工装置。
A chuck table for holding a workpiece, an imaging system including an optical system and an imaging device for imaging the workpiece held on the chuck table, and a shield for shielding the imaging system from below the optical system In a processing apparatus comprising: a shielding means having a shielding member that operates to an open position that opens a position and a position below the optical system; and a processing means that processes a workpiece held on the chuck table.
An open / close switch disposed in a power supply circuit for supplying electric power to the image pickup device and opened and closed in conjunction with the operation of the shielding means;
The open / close switch is configured to open when the shielding plate of the shielding means is positioned at the shielding position, and to be closed when the shielding plate is positioned at the open position.
A processing apparatus characterized by that.
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