JPH0866848A - Cutting direction detection system - Google Patents

Cutting direction detection system

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JPH0866848A
JPH0866848A JP22746594A JP22746594A JPH0866848A JP H0866848 A JPH0866848 A JP H0866848A JP 22746594 A JP22746594 A JP 22746594A JP 22746594 A JP22746594 A JP 22746594A JP H0866848 A JPH0866848 A JP H0866848A
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JP
Japan
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cutting
groove
workpiece
cut
cutting direction
Prior art date
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Application number
JP22746594A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuma Sekiya
一馬 関家
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Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To automatically detect a cutting direction in which chipping is less likely to occur by selecting a less chipped groove through the comparison of the states of the grooves, for determining the cutting direction. CONSTITUTION: A first cut groove formed is positioned immediately below a photographing means 7, and the state of the first cut groove is detected and stored in a memory. After the direction for cutting the workpiece has been reversed by the rotation of a holding means 6 by 180 degrees, the surface of the workpiece is photographed by the photographing means 7, and an area to be cut is detected by a cutting means 9. In accordance with this alignment, at least one second groove is cut in the workpiece, and the state of the second cut groove is detected and stored in the memory. The states of the first and second cut grooves are compared, and the cutting direction is determined through the selection of the less chipped groove.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハ等の被
加工物をダイサー等の切削装置で切削する場合の、切削
方向決定システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cutting direction determining system for cutting a workpiece such as a semiconductor wafer with a cutting device such as a dicer.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体ウェーハを切削するに
は、切削装置の回転ブレードで格子状に形成された切削
領域(ストリート)に沿ってダウンカットで切削する
が、被加工物の結晶方向の影響でストリートを右から左
へ切削する場合と、左から右へ切削する場合とではチッ
ピングの発生に差が生じてしまう。特に、GaAs等の
化合物半導体においてはその傾向が強く現れる。このた
め、従来は平行方向に並んだストリートのうち1ライン
のみ切削してオペレータがチッピングの発生状態を検査
し、チッピングが小さければそのままの方向で切削を続
行するが、チッピングが大きければ180°ワークを反
転させて逆方向から切削するようにしている。
2. Description of the Related Art Generally, in order to cut a semiconductor wafer, a rotating blade of a cutting machine cuts down along a cutting area (street) formed in a grid pattern. There is a difference in the occurrence of chipping between the case of cutting the street from right to left and the case of cutting the street from left to right. This tendency is particularly strong in compound semiconductors such as GaAs. Therefore, conventionally, only one line of the streets arranged in the parallel direction is cut, and the operator inspects the occurrence state of chipping. If the chipping is small, the cutting is continued in the same direction. Is reversed and the cutting is done from the opposite direction.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ようなオペレーターによる溝検査は面倒であり作業能率
を低下させ、切削装置がフルオートダイサーであるとマ
ニュアル方式の溝検査は不可能であり、チッピングが大
きく生じる方向から切削された場合には、品質の低下を
来すばかりか多くの不良品を発生させる原因になる。本
発明は、このような従来の問題点を解消するためになさ
れ、ダイサーでの切削時にウェーハ等被加工物のチッピ
ング発生の少ない切削方向を自動的に検出出来るように
した、切削方向検出システムを提供することを課題とす
る。
However, the groove inspection by the operator as described above is troublesome and lowers the work efficiency, and if the cutting device is a full-automatic dicer, the manual groove inspection cannot be performed. When the cutting is performed from the direction in which a large number of defects occur, not only the quality is deteriorated but also many defective products are generated. The present invention is made in order to solve such a conventional problem, a cutting direction detection system capable of automatically detecting the cutting direction with less occurrence of chipping of a workpiece such as a wafer when cutting with a dicer. The challenge is to provide.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】前記課題を技術的に解決
するための手段として、本発明は、被加工物を保持する
保持手段と、この保持手段に保持された被加工物を切削
する切削手段と、被加工物を光学的に撮像する撮像手段
とを少なくとも含む切削装置で切削する場合であって、
前記保持手段に保持された被加工物の表面を撮像手段で
撮像し前記切削手段で切削すべき切削領域を検出する第
1のアライメントステップと、このアライメントに基づ
いて被加工物に少なくとも1本の切削溝を形成する第1
の切削ステップと、前記切削溝を撮像手段の直下に位置
付け、溝の状態を検出してメモリに記憶する第1の溝検
出ステップと、前記保持手段を180°回転して被加工
物の切削方向を反転させる切削方向反転ステップと、反
転した後の被加工物の表面を前記撮像手段で撮像し切削
手段で切削すべき切削領域を検出する第2のアライメン
トステップと、このアライメントに基づいて被加工物に
少なくとも1本の切削溝を形成する第2の切削ステップ
と、前記切削溝を撮像手段の直下に位置付け、溝の状態
を検出してメモリに記憶する第2の溝検出ステップと、
前記第1の溝検出ステップと、第2の溝検出ステップと
によって検出した溝の状態を比較してチッピングの少な
い方を選び切削方向を決定する切削方向決定ステップ
と、から構成される切削方向決定システムを要旨とす
る。又、溝の状態とは溝の面積又は溝の幅であり、面積
の小さい方又は幅の小さい方をチッピングの少ない方と
して選ぶこと、被加工物のCH1 の切削領域と、CH2
の切削領域の何れに関しても切削方向を決定すること、
被加工物はチッピングの生じ易い化合物半導体であるこ
と、を要旨とするものである。
As means for technically solving the above-mentioned problems, the present invention provides a holding means for holding a workpiece and a cutting for cutting the workpiece held by the holding means. In the case of cutting with a cutting device including at least a means and an imaging means for optically imaging the workpiece,
A first alignment step in which the surface of the workpiece held by the holding means is imaged by the imaging means and a cutting region to be cut by the cutting means is detected; and at least one workpiece is formed on the workpiece based on this alignment step. First to form a cutting groove
Cutting step for positioning the cutting groove directly below the image pickup means, detecting the groove state and storing it in the memory, and rotating the holding means by 180 ° to cut the workpiece. And a second alignment step in which the surface of the workpiece after the reversal is imaged by the imaging means and the cutting area to be cut by the cutting means is detected, and the workpiece is machined based on this alignment. A second cutting step of forming at least one cutting groove on the object; a second groove detecting step of positioning the cutting groove directly below the image pickup means, detecting the state of the groove, and storing it in a memory;
Cutting direction determination step configured by comparing the states of the grooves detected by the first groove detection step and the second groove detection step and selecting the one with less chipping to determine the cutting direction The system is the gist. Moreover, the state of the groove is the width of the area or the groove of the groove, to choose a smaller smaller or width of the area as the lesser of chipping, and CH 1 of the cutting area of the workpiece, CH 2
Determining the cutting direction for any of the cutting areas of
The subject is that the work piece is a compound semiconductor which is apt to cause chipping.

【0005】[0005]

【作 用】第1のアライメントステップでブレードとウ
ェーハのストリートとを一致させ、第1の切削ステップ
で少なくとも1本のストリートを切削し、その溝を第1
の溝検出ステップで光学的に検出すると共にチッピング
の度合いを記憶し、次に切削方向反転ステップにてチャ
ックテーブルを180°回転しストリートの方向を反転
させ、反転後のウェーハを第2のアライメントステップ
でアライメントし、第2の切削ステップで少なくとも1
本のストリートを切削し、その溝を第2の溝検出ステッ
プで光学的に検出すると共にチッピングの度合いを記憶
し、切削方向決定ステップにて前記第1の溝検出ステッ
プのチッピングと第2の溝検出ステップのチッピングと
を比較してチッピングの度合いの少ない方を切削方向と
決定する。チッピングの度合いは、溝の面積又は溝の幅
の大小により比較する。ストリートは格子状であるた
め、切削方向の決定はCH1 、CH2 の何れの方向につ
いても行う。特に、チッピングの生じ易い化合物半導体
について有効である。
[Operation] In the first alignment step, the blade and the street of the wafer are aligned, and in the first cutting step, at least one street is cut and the groove is
In the groove detection step, the degree of chipping is stored, and then the chuck table is rotated 180 ° to reverse the street direction in the cutting direction reversal step, and the wafer after the reversal is subjected to the second alignment step. Aligned with, and at least 1 in the second cutting step
The street of the book is cut, the groove is optically detected in the second groove detection step, and the degree of chipping is stored, and the chipping and second groove of the first groove detection step are stored in the cutting direction determination step. The chipping degree in the detection step is compared and the lesser degree of chipping is determined as the cutting direction. The degree of chipping is compared by the size of the groove area or the groove width. Since the streets have a grid pattern, the cutting direction is determined for both CH 1 and CH 2 . This is particularly effective for compound semiconductors that are apt to cause chipping.

【0006】[0006]

【実施例】以下、本発明の実施例について添付図面に基
づいて詳説する。図1はダイサーの一例を示し、カセッ
ト載置領域1に被加工物であるウェーハを複数枚収容し
たカセット2を載置し、このカセット内のウェーハを搬
出入手段3によって待機領域4に1枚ずつ搬出すると共
に、旋回アームを有する搬送手段5により保持手段であ
るチャックテーブル6に搬送し、このチャックテーブル
6を移動して撮像手段7によりアライメントした後、回
転ブレード8の装着された切削手段9にて切削するよう
になっている。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows an example of a dicer, in which a cassette 2 containing a plurality of wafers to be processed is placed in a cassette placing area 1, and one wafer in the cassette is placed in a standby area 4 by a loading / unloading means 3. Each of them is carried out one by one, and is conveyed to a chuck table 6 which is a holding means by a conveying means 5 having a swivel arm, and the chuck table 6 is moved and aligned by an image pickup means 7. Then, a cutting means 9 having a rotary blade 8 mounted thereon. It is designed to be cut.

【0007】前記ウェーハは図2に示すように樹脂テー
プ10を介してフレーム11に固定されており、そのウ
ェーハWには切削領域(ストリート)がCH1 方向とC
2方向とに一定の間隔をあけて並設されて格子状にな
っている。
As shown in FIG. 2, the wafer is fixed to a frame 11 via a resin tape 10. The wafer W has a cutting area (street) in the CH 1 direction and in the C direction.
They are arranged in parallel in the H 2 direction at regular intervals to form a grid.

【0008】GaAs、GaP等の化合物半導体W′
は、図3に示すように不定形である場合が多く、このよ
うな場合は例えば特開平4−363047号公報に開示
されている被加工物の形状、位置、大きさを検出するシ
ステムを併用すると良い。
Compound semiconductor W'of GaAs, GaP, etc.
Often has an irregular shape as shown in FIG. 3, and in such a case, a system for detecting the shape, position, and size of a workpiece disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-363047 is used together. Good to do.

【0009】前記切削手段9でウェーハWを切削する場
合に、先ず第1のアライメントステップとして前記撮像
手段7を介して回転ブレード8とストリートとを一致さ
せるためにウェーハWをアライメントする。
When the wafer W is cut by the cutting means 9, first, as a first alignment step, the wafer W is aligned through the image pickup means 7 in order to align the rotary blade 8 and the street.

【0010】アライメント後、第1の切削ステップによ
り図4に示すようにチャックテーブル6を移動させなが
ら回転ブレード8により少なくとも1本のストリートを
ダウンカットで切削する。この時、図5(イ) のようにウ
ェーハWのCH1 方向のストリートをAからBに向けて
切削したとする。
After the alignment, in the first cutting step, at least one street is down-cut by the rotary blade 8 while moving the chuck table 6 as shown in FIG. At this time, it is assumed that the street of the wafer W in the CH 1 direction is cut from A to B as shown in FIG.

【0011】切削後、第1の溝検出ステップにより前記
CH1 の切削溝を前記撮像手段7の直下に位置付けし、
溝の状態を検出して図5(ロ) のようにデジタル変換され
た画像をモニタ12に表示し、その画像に基づいて切削
溝U1 の面積を算出しCPU(図略)のメモリM1 に記
憶する。
After cutting, the CH 1 cutting groove is positioned immediately below the image pickup means 7 in the first groove detecting step,
The state of the groove is detected and an image digitally converted as shown in FIG. 5B is displayed on the monitor 12, the area of the cutting groove U 1 is calculated based on the image, and the memory M 1 of the CPU (not shown) is calculated. Remember.

【0012】この後、切削方向反転ステップによりチャ
ックテーブル6を180°回転し、前記撮像手段7を介
して回転ブレード8とストリートとを一致させる第2の
アライメントステップが遂行される。
After that, the chuck table 6 is rotated 180 ° in the cutting direction reversing step, and a second alignment step is performed in which the rotary blade 8 and the street are aligned with each other via the image pickup means 7.

【0013】次いで、第2の切削ステップにより図6に
示すようにチャックテーブル6を移動させながら回転ブ
レード8により少なくとも1本のストリートをダウンカ
ットで切削する。即ち、図7(イ) のようにウェーハWの
CH1 方向のストリートをBからAに向けて切削したこ
とになる。
Next, in the second cutting step, at least one street is down-cut by the rotary blade 8 while moving the chuck table 6 as shown in FIG. That is, as shown in FIG. 7A, the street in the CH 1 direction of the wafer W is cut from B to A.

【0014】切削後、第2の溝検出ステップにより前記
CH1 のBからAの切削溝を前記撮像手段7の直下に位
置付けし、前記と同様に溝の状態を検出して図7(ロ) の
ようにデジタル変換された画像をモニタ12に表示し、
その画像に基づいて切削溝U2 の面積を算出しCPU
(図略)のメモリM2 に記憶する。
After cutting, the cutting grooves B to A of CH 1 are positioned immediately below the image pickup means 7 by the second groove detecting step, and the state of the grooves is detected in the same manner as described above, and then the state shown in FIG. Display the digitally converted image on the monitor 12,
The area of the cutting groove U 2 is calculated based on the image and the CPU
It is stored in the memory M 2 (not shown).

【0015】この後、切削方向決定ステップにより前記
メモリM1 とM2 とを比較し、切削溝の面積の小さい方
つまりチッピングの少ない方を選び、切削方向を決定す
る。図示の例では、切削溝U1 の方がU2 よりも面積が
小さいので切削方向はAからBに決定される。図8は以
上の各ステップをフローチャートで表示したものであ
る。
Thereafter, in the cutting direction determining step, the memories M 1 and M 2 are compared with each other, and one having a smaller cutting groove area, that is, one having less chipping is selected to determine the cutting direction. In the illustrated example, the cutting groove U 1 has a smaller area than U 2, and therefore the cutting direction is determined from A to B. FIG. 8 is a flowchart showing the above steps.

【0016】この切削方向決定に基づき、前記ウェーハ
WはCH1 方向に関して全てのストリートがAからB方
向に切削され、切削終了後にはウェーハWのCH2 方向
に関して切削されるが、このCH2 の切削方向決定に際
しても先と同じ方法がとられる。但し、その前段階とし
てチャックテーブル6を90°回転し、CH2 方向のス
トリートと回転ブレードの切削方向とを平行にする必要
がある。
[0016] Based on the cutting direction determination, the wafer W is all the streets respect CH 1 direction is cut from A to B direction, but after the cutting ends are cut with respect to CH 2 direction of the wafer W, the CH 2 The same method as above is used to determine the cutting direction. However, as a pre-stage, it is necessary to rotate the chuck table 6 by 90 ° so that the street in the CH 2 direction and the cutting direction of the rotary blade are parallel.

【0017】尚、切削溝のチッピング状態の比較におい
て、溝の面積をパラメータとしその面積の小さい方をチ
ッピングの少ない方として選んだが、溝の幅をパラメー
タとしてその小さい方をチッピングの少ない方として選
ぶようにしても良い。又、本発明は図3に示すような不
定形の化合物半導体にも全く同じ要領で充分適用するこ
とが出来る。
In the comparison of the chipping state of the cutting groove, the area of the groove is used as a parameter and the smaller area is selected as the less chipping, but the smaller width is selected as the parameter and the smaller one is selected as the less chipping. You may do it. Further, the present invention can be sufficiently applied to an amorphous compound semiconductor as shown in FIG. 3 in exactly the same manner.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ウェーハの格子状ストリートを回転ブレードで切削する
場合に、チッピングの発生が少ない切削方向を自動的に
検出出来るようにしたので、品質の向上を図ると共に不
良品の発生を防止することが出来る。特に、チッピング
の生じ易い化合物半導体に有効であり、且つフルオート
ダイサーに好適である等の優れた効果を奏する。
As described above, according to the present invention,
When the lattice street of the wafer is cut by the rotating blade, the cutting direction with less chipping can be automatically detected, so that the quality can be improved and defective products can be prevented. In particular, it has excellent effects such as being effective for a compound semiconductor which is apt to cause chipping and being suitable for a full-auto dicer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 ダイサーの一例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of a dicer.

【図2】 カセット内に収容されるウェーハの上面図で
ある。
FIG. 2 is a top view of wafers housed in a cassette.

【図3】 不定形化合物半導体の上面図である。FIG. 3 is a top view of an amorphous compound semiconductor.

【図4】 第1切削ステップの状態を示す説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a state of a first cutting step.

【図5】 (イ) は第1切削ステップ時での切削方向を示
す説明図、(ロ) はその切削溝の画像図である。
5A is an explanatory view showing a cutting direction at the first cutting step, and FIG. 5B is an image view of the cutting groove.

【図6】 第2切削ステップの状態を示す説明図であ
る。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state of a second cutting step.

【図7】 (イ) は第2切削ステップ時での切削方向を示
す説明図、(ロ) はその切削溝の画像図である。
FIG. 7A is an explanatory view showing the cutting direction at the second cutting step, and FIG. 7B is an image view of the cutting groove.

【図8】 ステップのフローチャート図である。FIG. 8 is a flowchart of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…カセット載置領域 2…カセット 3…搬出入
手段 4…待機領域 5…搬送手段 6…チャックテーブル 7…撮像手
段 8…回転ブレード 9…切削手段 10…樹
脂テープ 11…フレーム 12…モニタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cassette mounting area 2 ... Cassette 3 ... Carrying in / out means 4 ... Standby area 5 ... Conveying means 6 ... Chuck table 7 ... Imaging means 8 ... Rotating blade 9 ... Cutting means 10 ... Resin tape 11 ... Frame 12 ... Monitor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/301 H01L 21/78 F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H01L 21/301 H01L 21/78 F

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被加工物を保持する保持手段と、この保
持手段に保持された被加工物を切削する切削手段と、被
加工物を光学的に撮像する撮像手段とを少なくとも含む
切削装置で切削する場合であって、 前記保持手段に保持された被加工物の表面を撮像手段で
撮像し前記切削手段で切削すべき切削領域を検出する第
1のアライメントステップと、 このアライメントに基づいて被加工物に少なくとも1本
の切削溝を形成する第1の切削ステップと、 前記切削溝を撮像手段の直下に位置付け、溝の状態を検
出してメモリに記憶する第1の溝検出ステップと、 前記保持手段を180°回転して被加工物の切削方向を
反転させる切削方向反転ステップと、 反転した後の被加工物の表面を前記撮像手段で撮像し切
削手段で切削すべき切削領域を検出する第2のアライメ
ントステップと、 このアライメントに基づいて被加工物に少なくとも1本
の切削溝を形成する第2の切削ステップと、 前記切削溝を撮像手段の直下に位置付け、溝の状態を検
出してメモリに記憶する第2の溝検出ステップと、 前記第1の溝検出ステップと、第2の溝検出ステップと
によって検出した溝の状態を比較してチッピングの少な
い方を選び切削方向を決定する切削方向決定ステップ
と、から構成される切削方向決定システム。
1. A cutting device comprising at least holding means for holding a workpiece, cutting means for cutting the workpiece held by the holding means, and imaging means for optically imaging the workpiece. In the case of cutting, a first alignment step of capturing an image of the surface of the workpiece held by the holding means by the image pickup means and detecting a cutting region to be cut by the cutting means, and a first alignment step based on this alignment. A first cutting step of forming at least one cutting groove in the workpiece; a first groove detecting step of positioning the cutting groove directly below the imaging means, detecting a groove state, and storing the state in a memory; A cutting direction reversing step of reversing the cutting direction of the work piece by rotating the holding means by 180 °, and an image of the surface of the work piece after reversing is picked up by the image pick-up means to detect a cutting area to be cut by the cutting means. A second alignment step; a second cutting step for forming at least one cutting groove on the workpiece based on this alignment; and positioning the cutting groove directly below the image pickup means to detect the state of the groove. Cutting for determining the cutting direction by comparing the states of the grooves detected by the second groove detecting step stored in the memory, the first groove detecting step, and the second groove detecting step, and selecting the one with less chipping to determine the cutting direction. A cutting direction determination system including a direction determination step.
【請求項2】 溝の状態とは溝の面積又は溝の幅であ
り、面積の小さい方又は幅の小さい方をチッピングの少
ない方として選ぶ、請求項1記載の切削方向決定システ
ム。
2. The cutting direction determining system according to claim 1, wherein the groove state is an area of the groove or a width of the groove, and one having a smaller area or one having a smaller width is selected as one having less chipping.
【請求項3】 被加工物のCH1 の切削領域と、CH2
の切削領域の何れに関しても切削方向を決定する、請求
項1乃至2記載の切削方向決定システム。
3. A CH 1 cutting area of a workpiece and CH 2
The cutting direction determination system according to claim 1, wherein the cutting direction is determined for any of the cutting regions.
【請求項4】 被加工物はチッピングの生じ易い化合物
半導体である、請求項1乃至3記載の切削方向決定シス
テム。
4. The cutting direction determination system according to claim 1, wherein the work piece is a compound semiconductor which is apt to cause chipping.
JP22746594A 1994-08-30 1994-08-30 Cutting direction detection system Pending JPH0866848A (en)

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