JP2002008392A - 半導体記憶装置およびその評価方法 - Google Patents

半導体記憶装置およびその評価方法

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JP2002008392A
JP2002008392A JP2000187283A JP2000187283A JP2002008392A JP 2002008392 A JP2002008392 A JP 2002008392A JP 2000187283 A JP2000187283 A JP 2000187283A JP 2000187283 A JP2000187283 A JP 2000187283A JP 2002008392 A JP2002008392 A JP 2002008392A
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vpp
semiconductor memory
memory device
signal
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Tetsuji Nakakuma
哲治 中熊
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 VPPの昇圧不足原因である電源昇圧回路内
の不具合箇所を容易に特定することができ、また各回路
ブロック毎の動作評価も容易に行える手段およびこの手
段を利用した評価解析方法を提供する。 【解決手段】 複数の回路ブロックで構成された半導体
記憶装置の電源昇圧回路(VPP発生回路)において、
複数の回路ブロック(2,3,4)の少なくとも2つの
回路ブロックを切換制御信号(g,h)によって電気的
に接続または切断する動作切換回路(5,7)と、動作
切換回路(5,7)に接続する電極パッド(6,8)と
からなる、複数の回路ブロック(2,3,4)の各々の
動作を個別に評価可能な手段を有している。これによ
り、各回路ブロックごとにその動作を評価することが可
能となり、不具合箇所を迅速に絞り込むことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置およ
びその評価方法、特に半導体記憶装置の電源昇圧回路お
よび半導体記憶装置の評価方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体記憶装置においては、記憶データ
保持特性および高速動作特性の向上を図るために、デー
タの書き込みおよび読み出し時にその記憶部である絶縁
容量素子(以下セルキャパシタという)に、より高電圧
が印加されるようセルキャパシタ選択用信号線(以下ワ
ード線という)を電源電圧レベル以上に昇圧する手段を
用いている。これを実現するために、半導体記憶装置の
外部供給電源(以下VDDという)を昇圧した第二の電
源(以下VPPという)を使用する。
【0003】従来のVPPを使用した半導体記憶装置の
動作について図を用いて説明する。
【0004】図17は従来のVPP発生回路を含む半導
体記憶装置の昇圧系回路ブロック図である。半導体記憶
装置全体の制御回路51によってVPP発生回路は制御
され、メモリアレイ56に供給されるVPPの電圧レベ
ルを検出回路52により検出し、信号aを出力する。信
号aの論理値によりVPP制御発振回路53の出力信号
bが決定され、これが活性化信号の場合はチャージポン
プ回路54によりVPPが昇圧され、非活性化信号の場
合はVPPの昇圧動作は実行されない。また検査や評価
時にVPP電圧レベルをモニタできるようにVPP信号
を外部に直接出力するパッド55を有する。
【0005】図18に各信号の半導体記憶装置の電源投
入時からセルキャパシタにアクセスする通常の動作サイ
クルにおける動作タイミングを示す。電源投入時のVP
PレベルはVPPレベル検出回路52の基準電圧レベル
よりも低いため、信号aは”L”であり、VPP制御発
振回路53より一定周波数のパルス信号が信号bに出力
される。このパルス信号により、チャージポンプ回路5
4は活性化され、VPPの昇圧動作を行う。VPPが前
記基準電圧レベル以上になった場合は信号aが”H”に
なり、信号bが”L”固定となって、チャージポンプ回
路54は非活性化し、昇圧動作が停止する。その後、セ
ルキャパシタにアクセスする通常の動作サイクルにおい
て選択されたワード線がVPPと接続され、ワード線は
電源電圧VDD以上に昇圧される。この時のVPPから
選択ワード線に電荷が放電されるため、VPPの電圧レ
ベルは若干低下する。VPPのレベル変動を小さくする
ため、通常はワード線負荷容量値よりも数十倍の平滑容
量をVPP配線に接続する。連続的な次期動作サイクル
中に、VPPの電圧レベルが前記基準電圧レベル以下と
なった場合に再び信号aが”L”となり、パルス信号b
により昇圧動作が実行される。この一連の動作が繰り返
されることで、セルキャパシタにアクセスする通常動作
サイクル中はVPPのレベルが前記基準電圧レベル前後
に維持される。
【0006】通常、パッド55を通じて昇圧後のVPP
レベルをモニタする場合、図19に示すように電源投入
後のセルキャパシタにアクセスする通常動作サイクルを
実行せずに、最終出力のVPPが前記基準電圧レベルに
達したかどうかをモニタするのみである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
VPP発生回路では、何らかの不具合によりVPPレベ
ルが電源電圧VDDより十分に高く昇圧されなかった場
合、あるいは設計目標どおりに昇圧されなかった場合
に、外部出力パッドでモニタ可能な信号が電源昇圧回路
から出力されるVPPの最終出力信号のみであるため、
電源昇圧回路内の不具合箇所を容易に特定することがで
きない、また各回路ブロック毎の動作評価も容易には実
施できないという課題があった。
【0008】本発明ではVPPの昇圧不足原因である電
源昇圧回路内の不具合箇所を容易に特定することがで
き、また各回路ブロック毎の動作評価も容易に行える手
段およびこの手段を利用した評価解析方法を提供するこ
とを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明の第1の半導体記憶装置は、複数の回路ブロ
ックで構成された半導体記憶装置の電源昇圧回路(VP
P発生回路)において、複数の回路ブロック(2,3,
4)の少なくとも2つの回路ブロックを切り換え制御信
号(g,h)によって電気的に接続または切断する動作
切り換え回路(5,7)と、動作切り換え回路(5,
7)に接続する電極パッド(6,8)とからなる、複数
の回路ブロック(2,3,4)の各々の動作を個別に評
価可能な手段を有している。
【0010】本発明の第2の半導体記憶装置は、第1の
半導体記憶装置において、電極パッド(17,20)が
ヒューズ(18,21)を介して動作切り換え回路(1
6,19)に接続されている。
【0011】本発明の第1の半導体装置の配置方法は、
一半導体基板(10)上に複数の半導体記憶装置を配置
する半導体記憶装置の配置方法であって、半導体基板上
の一部の所定箇所(11)のみに、本発明の第1の半導
体記憶装置を配置している。この時、所定箇所(11)
以外の箇所に配置される半導体記憶装置は、その電源昇
圧回路中に、動作切り換え回路(16,19)と動作切
り換え回路(16,19)に接続する電極パッド(1
7,20)とを有していない。
【0012】本発明の第1の半導体装置の評価方法は、
不揮発性メモリ領域(45)を有する半導体記憶装置の
評価方法において、半導体記憶装置の初期動作検査を行
う工程(46)と、初期動作検査で良品となった半導体
記憶装置の昇圧後電源電圧レベル及び昇圧後電源電圧基
準レベルを測定し(47)、昇圧後電源電圧レベル及び
昇圧後電源電圧基準レベルに関するデータを半導体記憶
装置の不揮発性メモリ領域(45)に記録する工程(4
8)と、半導体記憶装置のデータ保持特性評価を実施
し、良不良判定する工程(49)と、データ保持特性評
価で良判定された半導体記憶装置の昇圧後電源電圧レベ
ル及び昇圧後電源電圧基準レベルに関する第1のデータ
を不揮発性メモリ領域(45)から読み出し、データ保
持特性評価で不良判定された半導体記憶装置の昇圧後電
源電圧レベル及び昇圧後電源電圧基準レベルに関する第
2のデータを不揮発性メモリ領域(45)から読み出
し、良不良判定結果と、第1のデータおよび第2のデー
タとの間の相関関係の有無を判定する工程(50)とを
備えている。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施形態に
ついて、図面を参照しながら説明する。
【0014】図1は本発明のVPP発生回路を含む昇圧
系評価回路(以下VPP評価TEGという)の回路ブロ
ック図を示し、1はVPP評価TEG全体の制御回路、
2はVPPレベル検出回路、3はVPP制御発振回路、
4はチャージポンプ回路、5はVPPレベル検出回路2
とVPP制御発振回路3を中継する切換回路I、6は切
換回路I5に接続するパッド、7はVPP制御発振回路
3とチャージポンプ回路4を中継する切換回路II、8は
切換回路II7に接続するパッド、9はVPPを出力する
パッドである。
【0015】これらの切換回路I5および切換回路II7
はそれぞれに接続する切換信号の論理でパッド6および
パッド8からの信号入力、信号出力を自在に制御可能と
し、VPP発生回路を通常動作させた場合の内部信号モ
ニタと同時に各回路ブロックの動作評価を可能としたこ
とを特徴とする。
【0016】図2にVPP発生回路を通常動作させた場
合において、VPPレベル検出回路2にのみ不具合が存
在する場合の信号波形図を示す。切換信号g、切換信号
hを共に”L”にすることでVPP発生回路は通常動作
を行う。VPPレベル検出回路2の出力信号aはVPP
制御発振回路3の入力信号cおよびパッド6への出力信
号dとに直接接続される。また、VPP制御発振回路3
の出力信号bはチャージポンプ回路4の入力信号eおよ
びパッド8への出力信号fとに直接接続される。
【0017】VPPレベル検出回路2の基準電圧レベル
生成部に不具合が存在する場合はVPPの電圧レベルが
基準電圧レベル以上になった時点で昇圧動作は停止し、
パッド6、パッド8でモニタされる信号は正常である
が、VPPパッド9でモニタされる電圧レベルが目標レ
ベル以下で異常を示す。
【0018】図3にVPP発生回路を通常動作させた場
合において、VPP制御発振回路3にのみ不具合が存在
する場合の信号波形図を示す。切換信号g、切換信号h
を共に”L”にすることで同様にVPP発生回路は通常
動作を行う。VPP制御発振回路3の発振回路部に不具
合が存在し、発振動作が停止した場合はVPPパッド9
およびパッド6、パッド8の出力信号がいずれも”L”
となり異常を示す。
【0019】図4にVPP発生回路を通常動作させた場
合において、チャージポンプ回路4にのみ不具合が存在
する場合の信号波形図を示す。切換信号g、切換信号h
を共に”L”にすることで同様にVPP発生回路は通常
動作を行う。チャージポンプ回路4の昇圧能力が低い場
合はVPPのレベルが基準電圧レベル以上にならないた
めに、パッド6の出力信号dは”L”固定、パッド8の
出力信号fは一定周期の発振パルス信号を出力する異常
を示す。
【0020】図5にVPP発生回路のVPPレベル検出
回路2の動作評価を行う場合の信号波形図を示す。切換
信号gを”L”にすることでVPPレベル検出回路2の
動作評価が可能となる。VPPパッド9からの入力信号
レベルをGNDレベルより微少な一定電圧ステップで上
昇させ、パッド6の出力信号dの論理変化点をモニタす
ることで、基準電圧レベルを評価できる。
【0021】図6にVPP発生回路のVPP制御発振回
路3の動作評価を行う場合の信号波形図を示す。切換信
号gを”H”にすることで信号aから信号cへの接続を
切り離し、信号dを信号cと直接接続することでパッド
6からの信号入力を可能とする。また、同時に切換信号
hを”L”にすることで信号bは信号fと直接接続、パ
ッド8でモニタでき、VPP制御発振回路3の動作評価
が可能となる。パッド6からの入力信号dを”L”にし
た場合、VPP制御発振回路3の動作が正常なら目標ど
おりの一定周波数のパルス信号が、発振回路が異常なら
異常な周波数のパルス信号、あるいは”L”固定の信号
がパッド8に出力される。
【0022】図7にVPP発生回路のチャージポンプ回
路4の動作評価を行う場合の信号波形図を示す。切換信
号hを”H”にすることで信号bから信号eへの接続を
切り離し、信号fを信号eと直接接続することでパッド
8からの信号入力を可能とする。これと同時にVPPパ
ッド9をモニタすることでチャージポンプ回路4の動作
評価が可能となる。パッド8からの入力信号fを連続の
パルス信号にした場合、チャージポンプ回路4の動作が
正常ならVPPレベルは基準電圧レベル以上に昇圧され
るが、異常が存在する場合は基準電圧レベル以上に昇圧
されない。
【0023】図8は本発明のVPP評価TEGを半導体
ウェハ(以下ウェハという)の面内5点に配置した例を
示す。10はウェハ、11はVPP評価TEGの配置位
置である。
【0024】このようにVPP評価TEGをウェハ面内
にほぼ均等間隔で配置、VPP発生回路および各回路ブ
ロックの動作を評価することで、半導体記憶装置本体に
搭載される同一のVPP発生回路の特性を代表して評価
することができ、動作不具合発生時の原因解析を容易に
行うことが可能となる。
【0025】また、VPP評価TEGを半導体記憶装置
の製造工程を管理する評価モジュールに隣接するように
配置すれば、評価モジュール内の評価パターンの特性と
VPP評価TEGの特性とを相関付けて評価することが
可能となる。
【0026】以下本発明の第2の実施形態について、図
面を参照しながら説明する。
【0027】図9は本発明のVPP発生回路を含む半導
体記憶装置の昇圧系回路の回路ブロック図を示し、12
は全体の制御回路、13はVPPレベル検出回路、14
はVPP制御発振回路、15はチャージポンプ回路、1
6はVPPレベル検出回路13とVPP制御発振回路1
4を中継する切換回路I、17は切換回路I16に接続
するパッド、18は切換回路I16とパッド17を中継
するヒューズ、19はVPP制御発振回路14とチャー
ジポンプ回路15を中継する切換回路II、20は切換回
路II19に接続するパッド、21は切換回路II19とパ
ッド20を中継するヒューズ、22はVPPを出力する
パッド、23はメモリアレイである。
【0028】これらの切換回路I16および切換回路II
19はそれぞれに接続する切換信号の論理でパッド17
およびパッド20からの信号入力、信号出力を自在に制
御可能とし、VPP発生回路を通常動作させた場合の内
部信号モニタと同時に各回路ブロックの動作評価を可能
としたこと、およびパッドと切換回路とをヒューズを中
継して接続することにより、パッドとして半導体記憶装
置の通常動作時に使用するパッドを併用することを可能
としたことを特徴とする。
【0029】図10に切換回路I16の回路構成を示
す。24はそれぞれ信号aと信号c間、信号aと信号d
間、信号cと信号d間に接続されたスイッチ回路であ
り、テストモード切換信号gの論理により、それぞれ信
号間の電気的接続のON、OFFを行う。テストモード
切換信号gが”L”の時はスイッチ1,スイッチ2のみ
がONとなり、信号a,c,dは電気的に接続される。
テストモード切換信号gが”H”の時はスイッチ3のみ
がONとなり、信号c,dは電気的に接続され、信号a
とは電気的に切断される。このように切換回路I16を
構成することで各回路ブロックの動作評価が可能とな
る。また、切換回路II19の回路構成も同様とする。
【0030】図11にVPP発生回路を通常動作させた
場合において、正常に動作した時の信号波形図を示す。
テストモード切換信号g、テストモード切換信号hを共
に”L”にすることでVPP発生回路は通常動作を行
う。VPPレベル検出回路13の出力信号aはVPP制
御発振回路14の入力信号cおよびパッド17への出力
信号dとに直接接続される。また、VPP制御発振回路
14の出力信号bはチャージポンプ回路15の入力信号
eおよびパッド20への出力信号fとに直接接続され
る。
【0031】この様に構成されたVPP発生回路を搭
載、また、その評価用パッドの半導体記憶装置の通常動
作時に使用するパッドとの併用を可能としたことによ
り、全体のパッド数を増加させることなく、ウェハ上に
形成される全ての半導体記憶装置のVPP発生回路の特
性評価および動作不具合発生時の原因解析を比較的容易
に行うことが可能となる。
【0032】以下本発明の第3の実施形態について、図
面を参照しながら説明する。
【0033】図12は本発明のVPP発生回路を含む半
導体記憶装置の昇圧系回路の回路ブロック図を示し、2
5は全体の制御回路、26はVPPレベル検出回路、2
7はVPP制御発振回路、28はチャージポンプ回路、
29はVPPレベル検出回路26とVPP制御発振回路
27を中継する切換回路I、30は切換回路I29に接
続するパッド、31はVPP制御発振回路27とチャー
ジポンプ回路28を中継する切換回路II、32は切換回
路II31に接続するパッド、33はVPPを出力するパ
ッド、34はメモリアレイである。
【0034】これらの切換回路I29および切換回路II
31はそれぞれに接続する切換信号の論理でパッド30
およびパッド32からの信号入力、信号出力を自在に制
御可能とし、VPP発生回路を通常動作させた場合の内
部信号モニタと同時に各回路ブロックの動作評価を可能
としたこと、およびパッドと切換回路とをヒューズ等を
中継して接続することなく、パッドとして半導体記憶装
置の通常動作時に使用するパッドを併用することを可能
としたことを特徴とする。
【0035】図13に切換回路I29の回路構成を示
す。35はそれぞれ信号aと信号c間、信号aと信号d
間、信号cと信号d間に接続されたスイッチ回路であ
り、テストモード切換信号g1およびテストモード切換
信号g2の論理により、それぞれ信号間の電気的接続の
ON、OFFを行う。テストモード切換信号g1および
テストモード切換信号g2が”L”の時はスイッチ1の
みがONとなり、信号a,cは電気的に接続される。テ
ストモード切換信号g1が”H”およびテストモード切
換信号g2が”L”の時はスイッチ1,スイッチ2のみ
がONとなり、信号a,c,dは電気的に接続される。
テストモード切換信号g2が”H”の時はスイッチ3の
みがONとなり、信号c,dは電気的に接続され、信号
aとは電気的に切断される。このように切換回路I29
を構成することで各回路ブロックの動作評価が可能とな
ると同時に、その評価用パッドの半導体記憶装置の通常
動作時に使用するパッドとの併用をヒューズを用いるこ
となく可能とできる。また、切換回路II31の回路構成
も同様とする。
【0036】図14にVPP発生回路を通常動作させた
場合において、正常に動作した時の信号波形図を示す。
テストモード切換信号g1、テストモード切換信号h1
を共に”H”に、テストモード切換信号g2、テストモ
ード切換信号h2を共に”L”にすることでVPP発生
回路は通常動作を行う。VPPレベル検出回路26の出
力信号aはVPP制御発振回路27の入力信号cおよび
パッド30への出力信号dとに直接接続される。また、
VPP制御発振回路27の出力信号bはチャージポンプ
回路28の入力信号eおよびパッド32への出力信号f
とに直接接続される。
【0037】この様に構成されたVPP発生回路を搭
載、また、その評価用パッドの半導体記憶装置の通常動
作時に使用するパッドとの併用をヒューズを用いずに可
能としたことにより、全体のパッド数および半導体装置
の製造工程を増加させることなく、ウェハ上に形成され
る全ての半導体記憶装置のVPP発生回路の特性評価お
よび動作不具合発生時の原因解析を比較的容易に行うこ
とが可能となる。
【0038】以下本発明の第4の実施形態について、図
面を参照しながら説明する。
【0039】図15は本発明のVPP発生回路を含む半
導体記憶装置の昇圧系回路の回路ブロック図を示し、3
6は全体の制御回路、37はVPPレベル検出回路、3
8はVPP制御発振回路、39はチャージポンプ回路、
40はVPPレベル検出回路37とVPP制御発振回路
38を中継する切換回路I、41は切換回路I40に接
続するパッド、42はVPP制御発振回路38とチャー
ジポンプ回路39を中継する切換回路II、43は切換回
路II42に接続するパッド、44はVPPを出力するパ
ッド、45は不揮発メモリアレイである。
【0040】これらの切換回路I40および切換回路II
42はそれぞれに接続する切換信号の論理でパッド41
およびパッド43からの信号入力、信号出力を自在に制
御可能とし、VPP発生回路を通常動作させた場合の内
部信号モニタと同時に各回路ブロックの動作評価を可能
としたこと、およびメモリアレイに不揮発メモリアレイ
を使用したことを特徴とする。
【0041】図16に不揮発メモリのデータ保持特性の
信頼性評価フロー図を示す。まず、ステップ46でメモ
リのファンクショナルテストを含むチップの動作検査を
行い、良品についてステップ47でそのVPPおよびV
PPレベル検出回路37の基準電圧レベルの測定を行
う。ここでの測定データをステップ48において不揮発
メモリへ書き込み、記憶させる。次にメモリデータ保持
特性の信頼性評価をステップ49で行ない、データ保持
評価を行った結果、良不良判定のそれぞれのチップに対
して、それぞれのステップ50でのVPP、基準電圧レ
ベルデータである第1及び第2のデータをメモリセルか
ら読み出し、良不良判定と前記第1及び第2のデータと
の相関関係の有無を判定する。なお、信頼性評価前にデ
ータを採取するのは、評価時負荷により初期特性が変化
してしまうことを考慮したものである。
【0042】不揮発メモリのデータ保持特性評価におい
て、発生する少数ビット不良の原因は解析により不明で
あることが多く、プロセスばらつき等によりワード線昇
圧不足によるメモリキャパシタへのデータ書き込み不足
が発生することも不良要因の1つとして考えられてい
る。本発明でのVPP発生回路およびメモリデータ保持
特性不良の評価解析手法を用いることにより、VPP昇
圧レベルと不良発生との相関関係の有無を明確にするこ
とができ、ワード線昇圧不足によるメモリキャパシタへ
のデータ書き込み不足が不良原因かどうかを判定するこ
とが可能となる。
【0043】
【発明の効果】以上のように本発明はVPP発生回路を
構成する各回路ブロックごとにその動作を評価可能とす
る手段として、各回路ブロックにその動作を通常動作か
ら切換える切換回路および切換回路からの信号を半導体
記憶装置の外部に取り出すパッドを有している。これに
より、各回路ブロックごとにその動作を評価することが
可能となり、不具合箇所を迅速に絞り込むことができ
る。
【0044】また、本発明の提供するメモリデータ保持
特性不良の評価解析手法を用いることにより、VPP昇
圧レベルと不良発生との相関関係の有無を明確にするこ
とが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態におけるVPP評価T
EGの回路ブロック図
【図2】本発明の第1の実施形態におけるVPP評価T
EGの通常動作時信号波形図
【図3】本発明の第1の実施形態におけるVPP評価T
EGの通常動作時信号波形図
【図4】本発明の第1の実施形態におけるVPP評価T
EGの通常動作時信号波形図
【図5】本発明の第1の実施形態におけるVPP評価T
EGの回路ブロック評価時信号波形図
【図6】本発明の第1の実施形態におけるVPP評価T
EGの回路ブロック評価時信号波形図
【図7】本発明の第1の実施形態におけるVPP評価T
EGの回路ブロック評価時信号波形図
【図8】本発明の第1の実施形態におけるVPP評価T
EGのウェハ面内配置図
【図9】本発明の第2の実施形態におけるVPP昇圧系
回路ブロック図
【図10】本発明の第2の実施形態における切換回路構
成図
【図11】本発明の第2の実施形態におけるVPP昇圧
回路の通常動作時信号波形図
【図12】本発明の第3の実施形態におけるVPP昇圧
系回路ブロック図
【図13】本発明の第3の実施形態における切換回路構
成図
【図14】本発明の第3の実施形態におけるVPP昇圧
回路の通常動作時信号波形図
【図15】本発明の第4の実施形態におけるVPP昇圧
系回路ブロック図
【図16】本発明の第4の実施形態における不揮発メモ
リのデータ保持特性評価フロー図
【図17】従来におけるVPP昇圧系回路ブロック図
【図18】従来におけるVPP昇圧回路の通常動作時タ
イミング図
【図19】従来におけるVPP昇圧回路の待機時信号波
形図
【符号の説明】
1,12,25,36,51 制御回路 2,13,26,37,52 VPPレベル検出回路 3,14,27,38,53 VPP制御発振回路 4,15,28,39,54 チャージポンプ回路 5,16,29,40 切換回路I 6,17,30,41 パッド 7,19,31,42 切換回路II 8,20,32,43 パッド 9,22,33,44,55 パッド 10 半導体基板 11 半導体基板上の所定箇所 24,35 スイッチ1,2,3 46 チップ動作検査 47 VPP、基準レベル測定 48 不揮発性メモリへの測定データ書き込み 49 メモリデータ保持特性信頼性評価 50 VPP、基準レベルデータの参照

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の回路ブロックで構成された半導体
    記憶装置の電源昇圧回路であって、前記複数の回路ブロ
    ックの少なくとも2つの回路ブロックを切り換え制御信
    号によって電気的に接続または切断する動作切り換え回
    路と、前記動作切り換え回路に接続する電極パッドとか
    らなる、前記複数の回路ブロックの各々の動作を個別に
    評価可能な手段を有することを特徴とする半導体記憶装
    置の電源昇圧回路。
  2. 【請求項2】 前記電極パッドがヒューズを介して前記
    動作切り換え回路に接続されたことを特徴とする請求項
    1に記載の半導体記憶装置の電源昇圧回路。
  3. 【請求項3】 一半導体ウエハ上に、請求項1に記載の
    半導体記憶装置の電源昇圧回路を複数個、互いにほぼ均
    等間隔になるような所定位置に配置して形成することを
    特徴とする半導体記憶装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 不揮発性メモリ領域を有する半導体記憶
    装置の評価方法において、前記半導体記憶装置の初期動
    作検査を行う工程と、前記初期動作検査で良品となった
    半導体記憶装置の昇圧後電源電圧レベル及び昇圧後電源
    電圧基準レベルを測定し、前記昇圧後電源電圧レベル及
    び昇圧後電源電圧基準レベルに関するデータを前記半導
    体記憶装置の不揮発性メモリ領域に記録する工程と、前
    記半導体記憶装置のデータ保持特性評価を実施し、良不
    良判定する工程と、前記データ保持特性評価で良判定さ
    れた半導体記憶装置の前記昇圧後電源電圧レベル及び昇
    圧後電源電圧基準レベルに関する第1のデータを前記不
    揮発性メモリ領域から読み出し、前記データ保持特性評
    価で不良判定された半導体記憶装置の前記昇圧後電源電
    圧レベル及び昇圧後電源電圧基準レベルに関する第2の
    データを前記不揮発性メモリ領域から読み出し、前記良
    不良判定結果と、前記第1のデータおよび第2のデータ
    との間の相関関係の有無を判定する工程とを備えている
    ことを特徴とする半導体記憶装置の評価方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011014197A (ja) * 2009-07-02 2011-01-20 Renesas Electronics Corp 半導体装置

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