JP2002006510A - 欠陥修正装置 - Google Patents
欠陥修正装置Info
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- JP2002006510A JP2002006510A JP2000182771A JP2000182771A JP2002006510A JP 2002006510 A JP2002006510 A JP 2002006510A JP 2000182771 A JP2000182771 A JP 2000182771A JP 2000182771 A JP2000182771 A JP 2000182771A JP 2002006510 A JP2002006510 A JP 2002006510A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被加工物に適した波長と出力レベルを有する
レーザ光を選択し、多層にわたった金属膜，高分子化合
物と金属膜の積層膜を一度に加工できるような欠陥修正
装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源１１から複数の波長のレーザ
光を出力し、分岐部１２で各波長ごとのレーザ光に分離
し、パワーコントロールユニット１３でそれぞれの波長
のレーザ光の出力を調整し、合成部１４で集光した後ス
リット板１５と対物レンズ１７を介して集光したレーザ
光を被加工物１８に照射する。
レーザ光を選択し、多層にわたった金属膜，高分子化合
物と金属膜の積層膜を一度に加工できるような欠陥修正
装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源１１から複数の波長のレーザ
光を出力し、分岐部１２で各波長ごとのレーザ光に分離
し、パワーコントロールユニット１３でそれぞれの波長
のレーザ光の出力を調整し、合成部１４で集光した後ス
リット板１５と対物レンズ１７を介して集光したレーザ
光を被加工物１８に照射する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は欠陥修正装置に関
し、特に、液晶パネルやプラズマディスプレイパネルな
どのフラットディスプレイ装置の、製造過程に起こる電
極不良や高分子化合物などの付着物などによる欠陥を修
正する欠陥修正装置に関する。
し、特に、液晶パネルやプラズマディスプレイパネルな
どのフラットディスプレイ装置の、製造過程に起こる電
極不良や高分子化合物などの付着物などによる欠陥を修
正する欠陥修正装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルやプラズマディスプレイパネ
ルなどのフラットディスプレイ装置は、最近ますます大
型化しかつ高精細化が進んできている。これに伴って、
これらを構成する基板電極パターン幅もますます細くな
り、電極不良や高分子化合物などの付着などによる欠陥
の発生する確率が高くなってきている。このような欠陥
を検出し、その欠陥をレーザ光を用いて修正するような
欠陥修正装置として、本願出願人は特願平１１−１５５
５０７号において提案した。
ルなどのフラットディスプレイ装置は、最近ますます大
型化しかつ高精細化が進んできている。これに伴って、
これらを構成する基板電極パターン幅もますます細くな
り、電極不良や高分子化合物などの付着などによる欠陥
の発生する確率が高くなってきている。このような欠陥
を検出し、その欠陥をレーザ光を用いて修正するような
欠陥修正装置として、本願出願人は特願平１１−１５５
５０７号において提案した。
【０００３】図３はその提案された欠陥修正装置の光学
系の概念図である。図３において、レーザ光源１で発振
されたレーザ光はフィルタ２からパワーコントロールユ
ニット３に入射されてレーザ光の出力が調整された後、
スリットユニット４から対物レンズ５を介して照射さ
れ、フラットディスプレイなどにおける欠陥が修正され
る。
系の概念図である。図３において、レーザ光源１で発振
されたレーザ光はフィルタ２からパワーコントロールユ
ニット３に入射されてレーザ光の出力が調整された後、
スリットユニット４から対物レンズ５を介して照射さ
れ、フラットディスプレイなどにおける欠陥が修正され
る。
【０００４】図３に示すレーザ光源１としては、レーザ
光の波長が短波長あるいは２波長のレーザが使用されて
いる。加工に使用されるレーザ光源は、ＹＡＧまたはＹ
ＬＦレーザであり、ＹＡＧレーザ光源は３波長のレーザ
光を発振することができ、ＹＬＦレーザ光源は２波長の
レーザ光を発振することができる。これらの基本発振波
長は近赤外域（ＹＡＧ１０６４ｎｍ，ＹＬＦ１０４７ｎ
ｍ）である。この基本波長を発振しているときのレーザ
出力は大きく、近赤外域のレーザ加工は熱加工を行なう
ため、金属物の加工に有効となる。
光の波長が短波長あるいは２波長のレーザが使用されて
いる。加工に使用されるレーザ光源は、ＹＡＧまたはＹ
ＬＦレーザであり、ＹＡＧレーザ光源は３波長のレーザ
光を発振することができ、ＹＬＦレーザ光源は２波長の
レーザ光を発振することができる。これらの基本発振波
長は近赤外域（ＹＡＧ１０６４ｎｍ，ＹＬＦ１０４７ｎ
ｍ）である。この基本波長を発振しているときのレーザ
出力は大きく、近赤外域のレーザ加工は熱加工を行なう
ため、金属物の加工に有効となる。
【０００５】一方、ＹＡＧ，ＹＬＦレーザ光源の第２高
調波（ＹＡＧ５３２ｎｍ，ＹＬＦ５２３ｎｍ）は可視光
域になる。この領域のレーザは、近赤外域のレーザより
もビームスポットを小さくできるために、微細な加工に
適している。しかし、レーザ光の出力レベルは基本波に
比べて４０％程度になり、金属膜厚が厚いものは基本波
に比べて加工しにくくなる。さらに、ＹＡＧレーザ光源
から出力される第３，第４高調波（３５５ｎｍ，２６６
ｎｍ）は紫外域になる。この領域のレーザ光は、光学的
な加工を行なうため、高分子化合物などの加工に有効と
なる。また、微細加工にも非常に有効となる。しかし、
レーザ光の出力レベルが小さいため、金属膜などの加工
をする場合には、非常に時間がかかり、レーザ出力によ
っては加工ができない場合がある。欠陥修正装置では、
このようなレーザ光源１の特性のレーザ光の中から、１
種類または２種類を選択して加工を行なっている。
調波（ＹＡＧ５３２ｎｍ，ＹＬＦ５２３ｎｍ）は可視光
域になる。この領域のレーザは、近赤外域のレーザより
もビームスポットを小さくできるために、微細な加工に
適している。しかし、レーザ光の出力レベルは基本波に
比べて４０％程度になり、金属膜厚が厚いものは基本波
に比べて加工しにくくなる。さらに、ＹＡＧレーザ光源
から出力される第３，第４高調波（３５５ｎｍ，２６６
ｎｍ）は紫外域になる。この領域のレーザ光は、光学的
な加工を行なうため、高分子化合物などの加工に有効と
なる。また、微細加工にも非常に有効となる。しかし、
レーザ光の出力レベルが小さいため、金属膜などの加工
をする場合には、非常に時間がかかり、レーザ出力によ
っては加工ができない場合がある。欠陥修正装置では、
このようなレーザ光源１の特性のレーザ光の中から、１
種類または２種類を選択して加工を行なっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】フラットディスプレイ
の加工は、多層にわたった金属膜加工，高分子化合物と
金属膜の積層膜加工を行なう必要がある。加工に使用で
きるレーザ光の波長は限定されるが、多層にわたった金
属膜では、それぞれの金属特性によって加工条件が異な
ってくる。また、高分子化合物と金属との積層膜加工で
は、物性特性が異なるために、加工するレーザ波長を限
定すると加工することが困難となる。金属膜は熱による
加工が有効的ではあるが、金属の特性によっては可視域
のレーザ光の方が吸収しやすく、効率的なものもある。
また、金属でも微細化を追求する場合は、レーザ波長は
短い方がよく、可視域や紫外域のレーザ光が必要にな
る。
の加工は、多層にわたった金属膜加工，高分子化合物と
金属膜の積層膜加工を行なう必要がある。加工に使用で
きるレーザ光の波長は限定されるが、多層にわたった金
属膜では、それぞれの金属特性によって加工条件が異な
ってくる。また、高分子化合物と金属との積層膜加工で
は、物性特性が異なるために、加工するレーザ波長を限
定すると加工することが困難となる。金属膜は熱による
加工が有効的ではあるが、金属の特性によっては可視域
のレーザ光の方が吸収しやすく、効率的なものもある。
また、金属でも微細化を追求する場合は、レーザ波長は
短い方がよく、可視域や紫外域のレーザ光が必要にな
る。
【０００７】高分子化合物を加工する場合は、紫外域光
は非常に有効であるが、赤外域光では加工ができない場
合がある。このような場合には、同時に加工を行なわず
にそれぞれの化合物に最適なレーザ波長，出力を選択し
て何度かに分けて加工を行なっている。
は非常に有効であるが、赤外域光では加工ができない場
合がある。このような場合には、同時に加工を行なわず
にそれぞれの化合物に最適なレーザ波長，出力を選択し
て何度かに分けて加工を行なっている。
【０００８】製造ラインでは、製造コストが問題になる
ため、レーザ光のショット数が多く、加工に必要な時間
が長いと判断した場合には、このような加工は行なわれ
ない。
ため、レーザ光のショット数が多く、加工に必要な時間
が長いと判断した場合には、このような加工は行なわれ
ない。
【０００９】それゆえに、この発明の主たる目的は、そ
れぞれの加工物に適したレーザ光，レーザ出力を選択
し、そのレーザ光を合成して加工し、多層にわたった金
属膜や高分子化合物と金属膜の積層膜などを一度に加工
できるような欠陥修正装置を提供することである。
れぞれの加工物に適したレーザ光，レーザ出力を選択
し、そのレーザ光を合成して加工し、多層にわたった金
属膜や高分子化合物と金属膜の積層膜などを一度に加工
できるような欠陥修正装置を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この発明は、被加工物の
加工上の欠陥を修正する欠陥修正装置であって、それぞ
れが異なる複数の波長のレーザ光を発振して同軸上に出
力するレーザ発振手段と、レーザ発振手段から発振され
るレーザ光と同軸上に複数またはそれ以下の数だけ所定
の間隔を隔てて配列され、複数波長のレーザ光のうち所
望のレーザ光を反射または透過させる光学素子を含む分
岐手段と、分岐手段の各光学素子によって反射されたレ
ーザ光の光路上に設けられ、反射されたレーザ光の出力
を制御する出力制御手段と、分岐手段の光学素子と同数
設けられ、それぞれが所定の間隔を有して配列され、出
力制御手段によって出力の制御された各レーザ光を反射
または透過させることによって集光する光学素子を含む
集光手段と、被加工物の加工形状に対応したスリットを
有し、1つの光軸に集光されたレーザ光が透過するスリ
ット部と、スリット部を透過したレーザ光を被加工物上
に導く光学系を備えて構成される。
加工上の欠陥を修正する欠陥修正装置であって、それぞ
れが異なる複数の波長のレーザ光を発振して同軸上に出
力するレーザ発振手段と、レーザ発振手段から発振され
るレーザ光と同軸上に複数またはそれ以下の数だけ所定
の間隔を隔てて配列され、複数波長のレーザ光のうち所
望のレーザ光を反射または透過させる光学素子を含む分
岐手段と、分岐手段の各光学素子によって反射されたレ
ーザ光の光路上に設けられ、反射されたレーザ光の出力
を制御する出力制御手段と、分岐手段の光学素子と同数
設けられ、それぞれが所定の間隔を有して配列され、出
力制御手段によって出力の制御された各レーザ光を反射
または透過させることによって集光する光学素子を含む
集光手段と、被加工物の加工形状に対応したスリットを
有し、1つの光軸に集光されたレーザ光が透過するスリ
ット部と、スリット部を透過したレーザ光を被加工物上
に導く光学系を備えて構成される。
【００１１】したがって、この発明では、レーザ発振手
段からたとえば基本波，第２高調波，第３高調波あるい
は第４高調波を含んだレーザ光を発振させ、それぞれの
波長を分離し、出力を制御した後集光して１つの光軸に
合成することができるため、このレーザ光を利用してさ
まざまな加工面に投影することにより加工を行なうこと
が可能となる。
段からたとえば基本波，第２高調波，第３高調波あるい
は第４高調波を含んだレーザ光を発振させ、それぞれの
波長を分離し、出力を制御した後集光して１つの光軸に
合成することができるため、このレーザ光を利用してさ
まざまな加工面に投影することにより加工を行なうこと
が可能となる。
【００１２】また、被加工物は、フラットディスプレイ
であって、フラットディスプレイの基板上に形成された
パターンの欠陥を修正する。
であって、フラットディスプレイの基板上に形成された
パターンの欠陥を修正する。
【００１３】さらに、レーザ発振手段は３波長のレーザ
光を発振する。さらに、分岐手段および集光手段のそれ
ぞれの光学系は、３段で構成される。
光を発振する。さらに、分岐手段および集光手段のそれ
ぞれの光学系は、３段で構成される。
【００１４】さらに、出力制御手段は、透過率の変化す
る部材を反射されたレーザ光の光路上に配置することに
よってレーザ光の出力を制御する。
る部材を反射されたレーザ光の光路上に配置することに
よってレーザ光の出力を制御する。
【００１５】さらに、レーザ発振手段はＹＡＧレーザあ
るいはＹＬＦレーザが用いられる。
るいはＹＬＦレーザが用いられる。
【００１６】
【発明の実施の形態】図１はこの発明の一実施形態の欠
陥修正装置を示す図であり、図２は同じく光学系の概念
図である。
陥修正装置を示す図であり、図２は同じく光学系の概念
図である。
【００１７】図１および図２において、レーザ光源１１
はａ光，ｂ光，ｃ光の３波長あるいはａ光，ｂ光の２波
長のレーザ光を発振して同軸上に出力する、たとえばＹ
ＡＧレーザ光源あるいはＹＬＦレーザ光源が用いられ
る。これらのレーザ光源１１から出力されたレーザ光は
分岐部１２に入射される。ここで、ａ光，ｂ光，ｃ光と
しては図２に示すようにＹＡＧレーザ光源の場合は基本
波，第２高調波，第３高調波が用いられる。
はａ光，ｂ光，ｃ光の３波長あるいはａ光，ｂ光の２波
長のレーザ光を発振して同軸上に出力する、たとえばＹ
ＡＧレーザ光源あるいはＹＬＦレーザ光源が用いられ
る。これらのレーザ光源１１から出力されたレーザ光は
分岐部１２に入射される。ここで、ａ光，ｂ光，ｃ光と
しては図２に示すようにＹＡＧレーザ光源の場合は基本
波，第２高調波，第３高調波が用いられる。
【００１８】分岐部１２はレーザ光源１１から同軸的に
出力された３波長あるいは２波長のレーザ光をそれぞれ
分離するものであり、ダイクロイックミラー１２１，１
２２と反射ミラー１２３とを含む。これらのダイクロイ
ックミラー１２１，１２２と反射ミラー１２３はレーザ
光源１１から出力されるレーザ光と同軸上であって、そ
れぞれが所定の間隔を有して配置される。
出力された３波長あるいは２波長のレーザ光をそれぞれ
分離するものであり、ダイクロイックミラー１２１，１
２２と反射ミラー１２３とを含む。これらのダイクロイ
ックミラー１２１，１２２と反射ミラー１２３はレーザ
光源１１から出力されるレーザ光と同軸上であって、そ
れぞれが所定の間隔を有して配置される。
【００１９】レーザ光がａ光，ｂ光，ｃ光の３波長を含
んでいれば、ダイクロイックミラー１２１によってａ光
が反射され、ｂ光，ｃ光は透過し、ダイクロイックミラ
ー１２２によってｂ光が反射され、ｃ光は透過し、ｃ光
は反射ミラー１２３で反射される。レーザ光がａ光，ｂ
光の２波長を含んでいれば、分岐部１２はダイクロイッ
クミラー１２１と反射ミラー１２３によって構成され、
ａ光がダイクロイックミラー１２１で反射され、ｂ光は
ダイクロイックミラー１２１を透過し、反射ミラー１２
３で反射される。したがって、ダイクロイックミラー１
２１と１２２は波長の数に応じて適宜設けられる。な
お、ダイクロイックミラー１２１，１２２はそれぞれの
波長ごとに反射および透過が可能なようにコーティング
されたミラーあるいはプリズムであってもよい。
んでいれば、ダイクロイックミラー１２１によってａ光
が反射され、ｂ光，ｃ光は透過し、ダイクロイックミラ
ー１２２によってｂ光が反射され、ｃ光は透過し、ｃ光
は反射ミラー１２３で反射される。レーザ光がａ光，ｂ
光の２波長を含んでいれば、分岐部１２はダイクロイッ
クミラー１２１と反射ミラー１２３によって構成され、
ａ光がダイクロイックミラー１２１で反射され、ｂ光は
ダイクロイックミラー１２１を透過し、反射ミラー１２
３で反射される。したがって、ダイクロイックミラー１
２１と１２２は波長の数に応じて適宜設けられる。な
お、ダイクロイックミラー１２１，１２２はそれぞれの
波長ごとに反射および透過が可能なようにコーティング
されたミラーあるいはプリズムであってもよい。
【００２０】図２に示した概念図では、ダイクロイック
ミラー１２１によって基本波のみが反射されて第２高調
波および第３高調波は透過し、ダイクロイックミラー１
２２によって第２高調波が反射されて第３高調波は透過
し、反射ミラー１２３で第３高調波が反射する。
ミラー１２１によって基本波のみが反射されて第２高調
波および第３高調波は透過し、ダイクロイックミラー１
２２によって第２高調波が反射されて第３高調波は透過
し、反射ミラー１２３で第３高調波が反射する。
【００２１】分岐部１２で分岐された各波長のレーザ光
は、出力制御手段としてのパワーコントロールユニット
１３によってそれぞれの出力レベルが制御される。パワ
ーコントロールユニット１３は分岐部１２で分岐された
各波長レーザ光の光路上に配置されている。このパワー
コントロールユニット１３はモータ１３１からの回転力
が平歯車１３２，１３３を介して回転円板１３４に伝え
られるようになっている。回転円板１３４は、たとえば
偏光板やコーティングされた波長板などの光学素子によ
って形成されており、回転することによって光の透過率
が変化し、その回転板１３４をレーザ光が通過するとき
に、その出力レベルが調整される。
は、出力制御手段としてのパワーコントロールユニット
１３によってそれぞれの出力レベルが制御される。パワ
ーコントロールユニット１３は分岐部１２で分岐された
各波長レーザ光の光路上に配置されている。このパワー
コントロールユニット１３はモータ１３１からの回転力
が平歯車１３２，１３３を介して回転円板１３４に伝え
られるようになっている。回転円板１３４は、たとえば
偏光板やコーティングされた波長板などの光学素子によ
って形成されており、回転することによって光の透過率
が変化し、その回転板１３４をレーザ光が通過するとき
に、その出力レベルが調整される。
【００２２】パワーコントロールユニット１３でレベル
調整された各波長のレーザ光は、集光手段１４としての
反射ミラー１４１，光学素子１４２，１４３によって集
光される。すなわち、反射ミラー１４１は、ａ光の光路
上に配置されてａ光を反射させる。光学素子１４２はｂ
光の光路上であってかつ反射ミラー１４１の反射光と同
軸上に配置される。したがって、光学素子１４２はｂ光
を反射させるとともに、ａ光を透過させて、ａ光とｂ光
とを合成して出力する。光学素子１４３はｃ光の光路と
同軸上であって、光学素子１４２から出力されたａ光と
ｂ光の光路の同軸上に配置されている。したがって、光
学素子１４２はｃ光を反射させるとともに、ａ光とｂ光
を透過させ、ａ光とｂ光とｃ光とを合成してスリット板
１５に出力する。
調整された各波長のレーザ光は、集光手段１４としての
反射ミラー１４１，光学素子１４２，１４３によって集
光される。すなわち、反射ミラー１４１は、ａ光の光路
上に配置されてａ光を反射させる。光学素子１４２はｂ
光の光路上であってかつ反射ミラー１４１の反射光と同
軸上に配置される。したがって、光学素子１４２はｂ光
を反射させるとともに、ａ光を透過させて、ａ光とｂ光
とを合成して出力する。光学素子１４３はｃ光の光路と
同軸上であって、光学素子１４２から出力されたａ光と
ｂ光の光路の同軸上に配置されている。したがって、光
学素子１４２はｃ光を反射させるとともに、ａ光とｂ光
を透過させ、ａ光とｂ光とｃ光とを合成してスリット板
１５に出力する。
【００２３】図２に示した例では、反射ミラー１４１で
基本波が反射され、光学素子１４２によって第２高調波
が反射されると共に基本波と合成され、光学素子１４２
によって第３高調波が反射され、基本波および第２高調
波と合成される。
基本波が反射され、光学素子１４２によって第２高調波
が反射されると共に基本波と合成され、光学素子１４２
によって第３高調波が反射され、基本波および第２高調
波と合成される。
【００２４】これらの反射ミラー１４１と光学素子１４
２，１４３はそれぞれ適宜所定の間隔を隔てて配置され
ており、コーティングにより形成されるミラーあるいは
プリズム構成される。
２，１４３はそれぞれ適宜所定の間隔を隔てて配置され
ており、コーティングにより形成されるミラーあるいは
プリズム構成される。
【００２５】スリット板１５は被加工物１８の形状に対
応したスリットを有しており、スリット板１５をレーザ
光が通過し、顕微鏡ユニット１６の対物レンズ１７を介
して被加工物１８上にレーザ光を照射することによっ
て、不要な欠陥を除去することができる。
応したスリットを有しており、スリット板１５をレーザ
光が通過し、顕微鏡ユニット１６の対物レンズ１７を介
して被加工物１８上にレーザ光を照射することによっ
て、不要な欠陥を除去することができる。
【００２６】したがって、この発明の実施形態に従え
ば、被加工物１８の特性によって最適なレーザ波長を選
択することができ、かつ波長の出力を調整できる。さら
に、３種類のレーザ光を合成しかつ出力も制御できるの
で、金属多層膜や高分子化合物と金属膜との合成膜を同
時に加工することができる。このように同時に加工が可
能なため、レーザ加工にかかる時間を短縮することがで
きる。
ば、被加工物１８の特性によって最適なレーザ波長を選
択することができ、かつ波長の出力を調整できる。さら
に、３種類のレーザ光を合成しかつ出力も制御できるの
で、金属多層膜や高分子化合物と金属膜との合成膜を同
時に加工することができる。このように同時に加工が可
能なため、レーザ加工にかかる時間を短縮することがで
きる。
【００２７】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
【００２８】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、複数
の波長のレーザ光を発振し、それぞれの波長ごとのレー
ザ光を分離してそれぞれのレベルを調整し、さらに同軸
上に合成した後被加工物に照射するようにしたので、被
加工物の特性によって最適なレーザ波長を選択しかつ同
時にレーザ出力を選択することができるので、金属多層
膜や高分子化合物と金属膜との合成膜などを同時に加工
することができ、レーザ加工にかかる時間を短縮でき
る。
の波長のレーザ光を発振し、それぞれの波長ごとのレー
ザ光を分離してそれぞれのレベルを調整し、さらに同軸
上に合成した後被加工物に照射するようにしたので、被
加工物の特性によって最適なレーザ波長を選択しかつ同
時にレーザ出力を選択することができるので、金属多層
膜や高分子化合物と金属膜との合成膜などを同時に加工
することができ、レーザ加工にかかる時間を短縮でき
る。
【図１】 この発明の一実施形態の欠陥修正装置を示す
図である。
図である。
【図２】 図１に示した欠陥修正装置の光学系の概念図
である。
である。
【図３】 この発明の背景となる欠陥修正装置の光学系
を示す概念図である。
を示す概念図である。
１１ レーザ光源、１２ 分岐部、１３ パワーコント
ロールユニット、１４合成部、１５ スリット板、１６
顕微鏡ユニット、１７ 対物レンズ、１８被加工物、
１２１，１２２，１４２，１４３ 光学素子、１２３，
１４１ 反射ミラー、１３１ モータ、１３２，１３３
平歯車、１３４ 回転板。
ロールユニット、１４合成部、１５ スリット板、１６
顕微鏡ユニット、１７ 対物レンズ、１８被加工物、
１２１，１２２，１４２，１４３ 光学素子、１２３，
１４１ 反射ミラー、１３１ モータ、１３２，１３３
平歯車、１３４ 回転板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３５２ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３５２ // Ｂ２３Ｋ 101:40 Ｂ２３Ｋ 101:40 Ｆターム(参考） 2H088 FA15 FA16 FA18 FA30 HA13 KA04 MA16 2H097 AA13 BB02 CA17 EA01 EA03 LA12 4E068 CA01 CA02 CA04 CD03 CD08 DA10 5G435 AA17 BB06 BB12 EE33 HH12 KK05 KK09 KK10
Claims (7)
- 【請求項１】 被加工物の加工上の欠陥を修正する欠陥
修正装置であって、 それぞれが異なる複数の波長のレーザ光を発振して同軸
上に出力するレーザ発振手段と、 前記レーザ発振手段から発振されるレーザ光と同軸上に
前記複数またはそれ以下の数だけ所定の間隔を隔てて配
列され、前記複数波長のレーザ光のうち所望のレーザ光
を反射または透過させる光学素子を含む分岐手段と、 前記分岐手段の各光学素子によって反射されたレーザ光
の光路上に設けられ、該反射されたレーザ光の出力を制
御する出力制御手段と、 前記分岐手段の光学素子と同数設けられ、それぞれが所
定の間隔を有して配列され、前記出力制御手段によって
出力の制御された各レーザ光を反射または透過させるこ
とによって集光する光学素子を含む集光手段と、 前記被加工物の加工形状に対応したスリットを有し、前
記集光手段によって集光されたレーザ光が透過するスリ
ット部と、 前記スリット部を透過したレーザ光を前記被加工物上に
導く光学系を備えた、欠陥修正装置。 - 【請求項２】 前記被加工物は、フラットディスプレイ
であって、 前記フラットディスプレイの基板上に形成されたパター
ンの欠陥を修正することを特徴とする、請求項１に記載
の欠陥修正装置。 - 【請求項３】 前記レーザ発振手段は、少なくとも３波
長のレーザ光を発振することを特徴とする、請求項１ま
たは２に記載の欠陥修正装置。 - 【請求項４】 前記分岐手段および前記集光手段のそれ
ぞれの光学素子は、３段で構成されていることを特徴と
する、請求項１から３のいずれかに記載の欠陥修正装
置。 - 【請求項５】 前記出力制御手段は、透過率の変化する
部材を前記反射されたレーザ光の光路上に配置すること
によって該レーザ光の出力を制御することを特徴とす
る、請求項１に記載の欠陥修正装置。 - 【請求項６】 前記レーザ発振手段は、ＹＡＧレーザで
あることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記
載の欠陥修正装置。 - 【請求項７】 前記レーザ発振手段は、ＹＬＦレーザで
あることを特徴とする、請求項１または２に記載の欠陥
修正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000182771A JP2002006510A (ja) | 2000-06-19 | 2000-06-19 | 欠陥修正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000182771A JP2002006510A (ja) | 2000-06-19 | 2000-06-19 | 欠陥修正装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002006510A true JP2002006510A (ja) | 2002-01-09 |
Family
ID=18683467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000182771A Withdrawn JP2002006510A (ja) | 2000-06-19 | 2000-06-19 | 欠陥修正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002006510A (ja) |
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2000
- 2000-06-19 JP JP2000182771A patent/JP2002006510A/ja not_active Withdrawn
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