JP2002006099A - 電子線照射方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 異なる種類の製品においても連続して最適な
電子線照射が可能であるとともに、電子線や電力の損失
の少ない電子線照射方法およびその装置を提供する。 【構成】 立体被照射物を所定方向に片寄せした状態で
搬送しながら電子線を照射し、殺菌等の所期の目的を達
成する電子線照射方法において、前記被照射物である製
品Ａ、Ｂ、Ｃに電子線１５を照射する電子線照射部１０
と、前記電子線照射部１０を具備し該製品を搬送する照
射コンベア２０と、予め該製品の種類及び搬送順序を記
憶する記憶装置３と、前記照射コンベアの上流側に設け
られ該被照射物の種類又は／及び位置を検知する検知セ
ンサ５と、前記検知センサ５と記憶手段３よりの信号に
基づき電子線照射手段の電子線照射量を適宜調整する制
御手段１と、を備えたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば医療機器や
飲料用容器等の立体被照射物に、電子線を照射しながら
殺菌等の所期の目的を達成する電子線照射方法及びその
装置に係り、特に搬送系統に供給される被照射物の種類
に応じた電子線照射を行なう電子線照射方法及びその装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、十分な滅菌が必要とされる医療
機器や飲料用容器等には、健康衛生面等を考慮して、外
面だけでなく内面をも滅菌処理することが要求されてい
る。従来より、かかる滅菌処理には高圧蒸気滅菌、エチ
レンオキシドガス滅菌、γ線滅菌等の処理が施されてい
る。しかし、上記滅菌処理のうち、高圧蒸気滅菌処理は
被処理物の耐熱性の問題を有し、かつ１回の滅菌量が少
なく非能率的で、またエチレンオキシドガス滅菌等の化
学処理は残留毒性の惧れがあり、更にγ線滅菌において
は放射性物質の管理が困難でかつ環境上悪影響であるな
ど、夫々深刻な問題を抱えている。

【０００３】そこで、近年電子線照射が、その加速電圧
を大きくすることで医療機器等を滅菌可能とする方法が
注目されている。かかる電子線照射滅菌法は、上記滅菌
処理に比べて、照射時間が極めて短時間で処理可能で、
また被照射物の内部／内面までも滅菌可能で、特にγ線
との大きな差違として材料劣化が小さく材料選択の範囲
が広がる可能性がある。しかしながら、かかる電子線照
射滅菌法では、搬送系の影響から以下に示すような電子
線及び電力の無駄な照射の問題があった。従来の電子線
照射では、図５（ｃ）、図６（ｂ）のように、被照射物
のない空間に電子線を無駄打ちしていたため、効率の良
い照射ができないという問題だけでなく、照射条件の変
化があったとき、不要な電子線を照射しているという問
題をも有していた。

【０００４】そこで、かかる問題を解決するために、本
出願人は同時出願に電子線及び電力の損失を低減する発
明を提案している。これは、図４に示すように、ローラ
コンベア２２上を搬送されてくる製品２５をスキューコ
ンベア２１で所定方向に片寄せするとともに、コンベア
の搬送速度及び図示しないストッパ手段を制御すること
で製品２５を密着させて電子線の照射無駄を排除するこ
とを目的としている。

【０００５】さらに詳細に説明すると、図５（ｃ）に示
すように、従来では製品２５は、電子線照射領域におい
て、照射コンベア２０の幅方向に定まった位置を通過し
ないため製品幅Ｌに比べて電子線１５の振り幅Ｅを必要
以上に大きくせざるを得ず、電子線の無駄が大きかった
が、製品幅Ｌ_１の製品２５を図５（ａ）のように所定方
向に片寄せすることで振り幅Ｅ_１を最小にすることがで
き、電子線及び電力の無駄な照射を大幅に排除できる。
また、図６（ｂ）に示すような従来の搬送方法では、製
品２５とその後続の製品２５との間の空間に電子線１５
を無駄打ちしていたが、図６（ａ）に示すように、製品
２５同士を密着させることにより連続して製品が搬送さ
れてくるため電子線のロスを防止することができる。

【０００６】しかし、かかる発明のように同一種類の製
品においては電子線の照射ロスや電力の無駄を排除する
ことが可能となったが、かかる電子線照射装置は大型の
ものが多く、設置コスト、運転コストが嵩むため、製品
の滅菌処理を請け負う業者による多種製品に対応可能な
電子線照射装置が必要とされている。また、このように
多種製品を扱う業者では、従来、製品の種類がかわった
時点で、同一種類の製品群の滅菌処理が終了するまで、
次の製品群を滅菌室の入り口若しくは電子線照射装置の
手前で停止させ、電子線照射装置を次に滅菌処理する製
品に適した設定に変更した後に該製品群を再び搬送して
電子線照射を行うという方法を採っていた。しかし、か
かる技術では、照射状況がかわる度に間隔が大きくあい
てしまい、生産性が悪く、電子線の照射ロスが大きいと
いう問題を抱えていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】かかる欠点を解消する
ために、特開平１１−１６９４３８号において、被滅菌
物の種類に適した電子線照射を行うことのできる従来技
術が開示されている。かかる技術を図７を参照して説明
するに、電子銃本体０４及び収束コイル０５からなる電
子銃０３から出射され加速管０６に入射される電子の量
を、信号発生器０１９及びヒータ電源０２０からなる電
流量制御手段０１８により被滅菌物０１の種類に応じて
制御することにより、被滅菌物０１に適した電子線が照
射される。また、速度制御手段０１７をコンベア０２に
設けることにより、被滅菌物０１の大きさや重さが電流
量制御手段０１８で制御できる範囲を超える場合にはコ
ンベア０２の搬送速度を調整し、電子線のエネルギー値
及び照射量を適度な大きさとし、より適した電子線で滅
菌処理することができる。

【０００８】しかしながら、かかる特開平１１−１６９
４３８号においては、異なる種類の被滅菌物に適した電
子線照射については考慮されているが、上記したよう
な、幅方向もしくは搬送方向に生じる空隙への照射によ
る電子線や電力の無駄によるコスト的な問題への対処が
なされていない。さらに、照射条件の変更に必要とされ
る時間が考慮されていないため、照射状況にずれが生
じ、滅菌処理が不十分である部分が発生する惧れがあ
る。そこで、本発明はかかる従来技術の課題に鑑み、異
なる種類の製品においても連続して最適な電子線照射が
可能であるとともに、電子線や電力の無駄の少ない電子
線照射方法およびその装置を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決するために、請求項１記載の発明として、立体被照射
物を所定方向に片寄せした状態で搬送しながら電子線を
照射し、殺菌等の所期の目的を達成する電子線照射方法
において、予め前記被照射物の種類及び搬送順序を記憶
しておき、搬送系上を流れる該被照射物の種類又は／及
び位置を検知し、前記記憶された被照射物の種類に応じ
て電子線照射領域通過時における電子線照射量を適宜調
整したことを特徴とする。

【００１０】かかる発明によれば、滅菌処理する製品に
つきその形状、重さ等、さらに夫々の製品群につき個
数、搬送順序等を予め記憶し、搬送系上に備えられた検
知手段により該製品の種類又は／及び位置を検知するこ
とで、電子線照射条件を最適な条件に設定することがで
き、異なる種類の製品が搬送されてきても、搬送系を停
止せず連続して電子線の照射ができ、生産性の高い滅菌
処理が可能となるとともに、電子線や電力の無駄の少な
い効率の良い電子線照射ができる。

【００１１】また、前記電子線照射量を調整する方法と
して、請求項２記載の発明に、前記記憶手段に被照射物
の種類毎に通過幅等を記憶させておき、前記被照射物が
電子線照射領域下を通過時に、該被照射物幅に応じて電
子線照射幅を調整するとともに、電子線照射量が必要線
量になるように該被照射物の搬送速度を制御することを
特徴とする電子線照射方法を提案する。かかる電子線照
射方法では、被照射物は所定方向に片寄して搬送されて
くるため、予め記憶された電子線走査方向の被照射物の
長さである通過幅に電子線照射幅を設定することで電子
線の照射ムダのない確実な照射が可能となる。また、電
子線照射幅を変更することにより電子線の密度が変わる
ため、電子線照射幅の変更に連動させ搬送速度をかえ
て、被照射物への電子線線量を一定に保つようにする。
これにより、記憶された被照射物の種類に適した滅菌処
理が容易に実現できる。

【００１２】このように、電子線照射幅を変更する際に
は、請求項３乃至４記載のように、搬送されてくる前記
被照射物群が大幅の被照射物から小幅の被照射物に変化
する場合、該大幅の被照射物の終端が前記電子線照射領
域を通過した直後から電子線照射幅を徐々に狭幅に調整
するとともに、前記電子線照射量が必要線量になるよう
に搬送速度を照射幅と連動させて制御し、一方、搬送さ
れてくる前記被照射物群が小幅の被照射物から大幅の被
照射物に変化する場合、該小幅の被照射物の終端が前記
電子線照射領域を通過する少し前から該変化後の被照射
物が電子線照射領域下に至るまでに電子線照射幅を幅拡
に調整するとともに、前記電子線照射量が必要線量にな
るように搬送速度を照射幅と連動させて制御するとよ
い。

【００１３】かかる発明によれば、電子線照射条件の変
更に起因する時間的ずれによる照射もれをなくし、確実
な滅菌処理が可能となる。

【００１４】また、請求項５記載の発明は、前記被照射
物を電子線照射領域の上流側で密着させるとともに、異
なる種類の被照射物においても実質的に連続密着して電
子線照射を行なうことを特徴とする。これにより、電子
線照射の処理効率が向上し、生産性が高く、かつ電子線
の照射ロス及び電力損失の少ない滅菌処理が可能とな
る。

【００１５】請求項６記載の発明は、かかる発明を好適
に実施するための装置に関する発明で、立体被照射物を
所定方向に片寄せした状態で搬送しながら電子線を照射
し、殺菌等の所期の目的を達成する電子線照射方法にお
いて、前記被照射物に電子線を照射する電子線照射手段
と、前記電子線照射手段を具備し該被照射物を搬送する
照射コンベアと、予め該被照射物の種類及び搬送順序を
記憶する記憶手段と、前記照射コンベアの上流側に設け
られ該被照射物の種類又は／及び位置を検知する検知セ
ンサと、前記検知センサと記憶手段よりの信号に基づき
電子線照射手段の電子線照射量を適宜調整する制御手段
と、を備えたことを特徴とする。

【００１６】また、請求項７記載の発明は、前記検知セ
ンサと記憶手段との信号に基づき、前記電子線照射量が
必要線量となるように前記電子線照射手段の照射幅及び
照射コンベア速度を制御する制御手段とを備えたことを
特徴とする。さらに、請求項８記載の発明は、前記記憶
手段に、予め大幅の被照射物から小幅の被照射物、若し
くは小幅の被照射物から大幅の被照射物への被照射物デ
ータを記憶させておき、該データに基づいて電子線照射
幅を可変させる構成とすることを特徴とする。かかる発
明により、請求項３乃至４と同様の効果が得られる。

【００１７】また、請求項９記載のように、低線量の電
子線照射において、前記電子線照射手段の照射幅及び照
射コンベア速度の制御範囲を超える場合には、該電子線
照射手段に電子線の出力を制御する出力制御手段を設け
るとよい。照射コンベア速度には限度があり、被照射物
に必要以上に電子線が照射されてしまう惧れがある。そ
こで、出力を小さくして被照射物の吸収線量を低減させ
ることにより、適切な線量を照射することができる。勿
論、滅菌処理に必用な線量が大きい場合においても同様
に、出力により制御可能な構成とする。

【００１８】さらにまた、請求項１０記載の発明は、前
記照射コンベア上流側に被照射物を密着する密着手段を
設けるとともに、該被照射物が異なる場合においても該
照射コンベア上を実質的に連続して密着搬送されること
を特徴とする。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
適な実施例を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例
に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相
対的配置等は特に特定的な記載がない限りは、この発明
の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例に
過ぎない。図１は本発明の実施形態に係る電子線照射装
置の概略構成図、図２は本発明の実施形態に係る電子線
照射装置で、コンベア上方から見た平面概略図、図３は
製品Ａ、製品Ｂ、製品Ｃが電子線照射領域を通過する時
間Ｔと、照射コンベア速度Ｖ及び照射幅Ｗとの関係を示
した図である。図１において、１０は電子線を発生させ
製品に照射する電子線照射部で、該電子線照射部１０
は、電子線１５を発生する電子線発生／加速器１２、ビ
ームガイド筒１３、偏平角錐台状の照射ホーン１４、電
子線の偏光走査を行なう走査電磁石制御装置１１からな
る。

【００２０】前記電子線発生／加速器１２は、電子線を
出射する電子銃と、該電子銃から出射された電子線を所
定のエネルギを有するように加速する加速管と、該加速
管に前記電子線を加速するためのマイクロ波エネルギを
供給するクライストロンとを備えている。そして、前記
加速された電子線は筒状のビームガイド筒１３を介して
図示しない集束電磁石により収束され高密度化された状
態で、電子線走査方向に拡開された偏平角錐台状の照射
ホーン１４内に導入される。該照射ホーン１４は入り口
側に走査電磁石１６が、前面に図示しないスリット状の
照射窓を具え、該照射窓をチタン膜等の電子線透過膜で
封止し、内部を真空空間下に維持させている。

【００２１】前記照射ホーン１４内に導入された電子線
は、走査電磁石１６により所定の振れ角と振れ周波数
（往復偏向周波数）で偏向走査される訳であるが、この
偏向走査を行なう際に、前記走査電磁石１６への印加電
圧を制御する制御信号を走査電磁石制御装置１１から取
り込み、角速度を制御しながら偏向走査された電子線は
前記照射ホーン１４内及び前記照射窓を介して被照射物
の搬送幅方向に走査しながら所定の殺菌処理を行なう。

【００２２】尚、かかる装置における前記電子線の走査
角度により形成される走査波形は、走査電磁石１６に印
加される電流変化に依存する。そこで、電子線の出力を
所定値に保持したとき、図５に示すように、被照射物幅
の異なる製品Ａ、Ｂに電子線照射する場合、（ａ）のよ
うに小幅の製品Ａでは走査角が減少して電子線照射幅Ｅ
_１は狭くなり、該製品Ａの吸収線量は高くなり、（ｂ）
のように大幅の製品Ｂでは走査角が増加して電子線照射
幅Ｅ_２は大きくなり、製品Ｂの吸収線量が低くなる。こ
のように、電子線の出力が一定であるとき、照射される
電子線の密度は、該電子線の走査幅により決定する。

【００２３】また、図１において、２０、２１、２２は
製品を搬送するためのコンベアで、前記照射ホーン１４
の直下に位置し、該コンベア上を搬送される製品が滅菌
処理可能な程度電子線照射を施される速度で運転してい
る照射コンベア２０の上流側には、製品を載置し連続的
に移送するローラコンベア２２が設けられ、該照射コン
ベア２０とローラコンベア２２との間には、搬送されて
くる製品を所定方向に片寄せする機能を備えたスキュー
コンベア２１が位置している。

【００２４】前記照射コンベア２０はその両端に具えら
れたモータ２４により駆動され、該モータ２４は後記す
る制御手段１により制御されている。かかる制御手段１
は、外部からの情報を予め記憶させておく記憶装置３
と、該記憶装置３からの情報と、ローラコンベア上に複
数設けられて製品の種類又は及び位置を判別するセンサ
５とから電子線照射幅、及び照射コンベア２０搬送速度
とを制御する制御手段１とからなる。前記センサ５は特
に限定されないが、フォトセンサのように、製品の位置
を判別するものでもよいし、バーコードリーダのよう
に、製品の種類を判別可能なセンサでもよい。しかし、
該バーコードリーダは高価であるため、前記したような
フォトセンサを用い、予め記憶装置で記憶した個数を読
み込む形にしたほうがよい。

【００２５】尚、前記センサ５は図２に示すように、電
子線照射領域から発生するＸ線が直接当たらない位置、
即ちコンクリート等で形成された中央遮蔽壁の裏側付近
に設置するとよい。これにより、前記Ｘ線による該セン
サ５の材料の劣化が防げ、寿命が向上する。また、搬送
される製品を密着させるために具えられたストッパ２３
についても同様である。

【００２６】次にかかる実施形態の作用を説明する。被
照射物である製品が搬送される前若しくは搬送途中に、
予め記憶装置３にて、製品の形状、幅、密度、又は製品
のロット（製品群）毎の個数等の情報を記憶させてお
き、ローラコンベア２２上に設置された複数のセンサ５
から製品の位置又は／及び種類を検知し、前記記憶装置
３及び該センサ５に基づき、電子線照射領域下に搬送さ
れてくる製品の種類に応じた線量の電子線１５を照射す
る。

【００２７】これは、前記記憶装置３及びセンサ５から
の製品の種類及び位置についての情報を制御手段１にて
処理し、電子線照射幅と照射コンベア２０の搬送速度と
を割り出し、かかる結果に基づき走査電磁石制御装置１
１により走査電磁石１６を調整して前記電子線照射幅を
決定するとともに、前記制御手段１と接続されているモ
ータ２４により搬送速度を決定する。また、前記電子線
照射幅及び搬送速度だけでは制御不可能な場合には、前
記制御手段１に基づき電子線発生／加速器１２を制御し
て出力を調整するとよい。これにより、異なる種類の製
品でも連続して電子線照射できるとともに、該製品に最
適な照射が可能となり、生産性が高く、効率の良い滅菌
処理を施すことができる。

【００２８】尚、前記製品の搬送には、図２に示すよう
にストッパ２３を用いて密着させて搬送するとよい。か
かる製品の搬送系は、コンクリート壁で遮蔽された滅菌
室の側壁に沿うように配置されており、上流側からロー
ラコンベア２２、スキューコンベア２１、照射コンベア
２０、ローラコンベアの順で一体的に連結され、入り口
側ローラコンベア２２とスキューコンベアの間にはスト
ッパ２３が設けられている。前記入り口側ローラコンベ
ア２２の側壁には、複数のセンサ５が備えられており、
製品の種類又は／及び位置を検知することができる。ま
た、前記照射コンベア２０の途中には電子線照射部１０
が設置され、該照射コンベア２０上を搬送される製品に
滅菌処理を施すように構成される。かかる電子線照射部
１０は照射コンベア２０の上方に配置されており、製品
の照射方向幅が大である場合には、下方にさらに電子線
照射部を設けて両面照射可能に構成するとよい。

【００２９】かかる滅菌室入り口からローラコンベア２
２により搬送される製品は、前記ストッパ２３により一
時停止され、電子線照射を行なう照射コンベア２０上で
製品が密着するように、適度な間隔で該ストッパ２３が
解除される。夫々の間隔が密になった製品群はスキュー
コンベア２１で所定方向に片寄せされ、前記照射コンベ
ア２０で滅菌処理を施された後、再び、搬送速度の大き
いローラコンベア２２により滅菌室出口へ搬送される。

【００３０】図３に示すグラフは、夫々幅方向距離の異
なる製品群である、ロットＡ、ロットＢ、ロットＣ（夫
々の幅方向距離Ｌ_２、Ｌ_１、Ｌ_３）が電子線照射領域を
通過する時間Ｔと、照射コンベア速度Ｖ及び照射幅Ｗと
の関係を表わしたものである。かかるグラフ密着搬送さ
れてくるロットＡとロットＢとに移行したとき、つまり
大幅の製品Ａから小幅の製品Ｂに移行したとき、ロット
Ａが通過した直後から照射幅の調整を行なうようにす
る。一方、ロットＢからロットＣに移行したときには
（小幅から大幅への変化）、前記ロットＣが照射領域に
搬送されてくる直前までに該照射幅をロットＣ幅方向距
離Ｌ_３に合わせておく必要がある。このように、電子線
の照射幅を制御することで、照射洩れのない確実な滅菌
処理が可能となる。

【００３１】

【発明の効果】以上記載のごとく本発明によれば、製品
の形状、重さ等、さらにその製品群につき個数、搬送順
序等を予め記憶し、搬送系上に備えられた複数の検知手
段により該製品の種類もしくは位置を検知することで、
電子線照射条件を最適な条件に設定することができ、異
なる種類の製品が搬送されてきても、連続密着して電子
線の照射ができ、生産性の高い滅菌処理が可能となると
ともに、電子線や電力の無駄の少ない電子線照射ができ
る。また、電子線照射幅と電子線照射領域での搬送速度
とを連動制御することで、電子線線量を一定に保持する
ことが容易に可能となる。さらに、電子線照射幅を変更
する際に、被照射物幅のより大きい方に合わせて設定す
ることにより照射もれのない滅菌処理を確実に行うこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施形態に係る電子線照射装置の概
略構成図を示す。

【図２】 本発明の実施形態に係る電子線照射装置で、
コンベア上方から見た平面概略図を示す。

【図３】 製品Ａ、製品Ｂ、製品Ｃが電子線照射領域を
通過する時間Ｔと、照射コンベア速度Ｖ及び照射幅Ｗと
の関係を表わした図である。

【図４】 本実施形態に係る密着、片寄せ搬送を示す平
面図である。

【図５】 本実施形態に係る電子線照射領域の搬送方向
断面図で、（ａ）は被照射物幅Ｌ_１の製品への電子線照
射を示す図、（ｂ）は被照射物幅Ｌ_２の製品への電子線
照射を示す図、（ｃ）は従来技術における被照射物幅Ｌ
の製品への電子線照射を示す図である。

【図６】 （ａ）は密着搬送を示す電子線照射領域の部
分構成図で、（ｂ）は従来技術における電子線照射領域
の部分構成図を示す。

【図７】 従来技術における電子線照射装置の概略構成
図を示す。

【符号の説明】

１ 制御手段 ３ 記憶装置 ５ 光電センサ １０ 電子線照射部 １１ 走査電磁石制御装置 １２ 電子線発生／加速器 １４ 照射ホーン １５ 電子線 ２０ 照射コンベア ２１ スキューコンベア ２２ ローラコンベア ２５ 製品 Ａ、Ｂ、Ｃ 製品

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 立体被照射物を所定方向に片寄せした状
   態で搬送しながら電子線を照射し、殺菌等の所期の目的
   を達成する電子線照射方法において、 予め前記被照射物の種類及び搬送順序を記憶しておき、
   搬送系上を流れる該被照射物の種類又は／及び位置を検
   知し、前記記憶された被照射物の種類に応じて電子線照
   射領域通過時における電子線照射量を適宜調整したこと
   を特徴とする電子線照射方法。
2. 【請求項２】 前記記憶手段に被照射物の種類毎にその
   通過幅等を記憶させておき、前記被照射物が電子線照射
   領域下を通過時に、該被照射物幅に応じて電子線照射幅
   を調整するとともに、電子線照射量が必要線量になるよ
   うに該被照射物の搬送速度を制御することを特徴とする
   請求項１記載の電子線照射方法。
3. 【請求項３】 搬送されてくる前記被照射物群が大幅の
   被照射物から小幅の被照射物に変化する場合、該大幅の
   被照射物の終端が前記電子線照射領域を通過した直後か
   ら電子線照射幅を徐々に狭幅に調整するとともに、前記
   電子線照射量が必要線量になるように搬送速度を照射幅
   と連動させて制御することを特徴とする請求項１記載の
   電子線照射方法。
4. 【請求項４】 搬送されてくる前記被照射物群が小幅の
   被照射物から大幅の被照射物に変化する場合、該小幅の
   被照射物の終端が前記電子線照射領域を通過する少し前
   から該変化後の被照射物が電子線照射領域下に至るまで
   に電子線照射幅を幅拡に調整するとともに、前記電子線
   照射量が必要線量になるように搬送速度を照射幅と連動
   させて制御することを特徴とする請求項１記載の電子線
   照射方法。
5. 【請求項５】 前記被照射物を電子線照射領域の上流側
   で密着させるとともに、異なる種類の被照射物において
   も実質的に連続密着して電子線照射を行なうことを特徴
   とする請求項１記載の電子線照射方法。
6. 【請求項６】 立体被照射物を所定方向に片寄せした状
   態で搬送しながら電子線を照射し、殺菌等の所期の目的
   を達成する電子線照射方法において、前記被照射物に電
   子線を照射する電子線照射手段と、 前記電子線照射手段を具備し該被照射物を搬送する照射
   コンベアと、 予め該被照射物の種類及び搬送順序を記憶する記憶手段
   と、 前記照射コンベアの上流側に設けられ該被照射物の種類
   又は／及び位置を検知する検知センサと、 前記検知センサと記憶手段よりの信号に基づき電子線照
   射手段の電子線照射量を適宜調整する制御手段と、を備
   えたことを特徴とする電子線照射装置。
7. 【請求項７】 前記検知センサと記憶手段との信号に基
   づき、前記電子線照射量が必要線量となるように前記電
   子線照射手段の照射幅及び照射コンベア速度を制御する
   制御手段とを備えたことを特徴とする請求項６記載の電
   子線照射装置。
8. 【請求項８】 前記記憶手段に、予め大幅の被照射物か
   ら小幅の被照射物、若しくは小幅の被照射物から大幅の
   被照射物への被照射物データを記憶させておき、該デー
   タに基づいて電子線照射幅を可変させる構成とすること
   を特徴とする請求項６記載の電子線照射装置。
9. 【請求項９】 前記電子線照射手段の照射幅及び照射コ
   ンベア速度の制御範囲を超える場合には、該電子線照射
   手段に電子線の出力を制御する出力制御手段を設けるこ
   とを特徴とする請求項６記載の電子線照射装置。
10. 【請求項１０】 前記照射コンベア上流側に被照射物を
    密着する密着手段を設けるとともに、該被照射物が異な
    る場合においても該照射コンベア上を実質的に連続して
    密着搬送されることを特徴とする請求項６記載の電子線
    照射装置。