JP2002001859A - Conductive plastic molding and its manufacturing method - Google Patents

Conductive plastic molding and its manufacturing method

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive plastic molding and a method for manufacturing the same capable of recovering a plastic material in a high efficiency by easily separating the material from the other material at a recycling time of the plastic molding. SOLUTION: A resin shield 16 formed with a conductive layer 18 for giving conductivity is adhered to the plastic molding 12 of an electric non-conductor via an adhesion layer 14 for developing releasability by heating.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、導電性プラスチ
ック成形品およびその製造方法に関し、更に詳細には、
リサイクル時に該成形品を構成するプラスチック材料だ
けから形成される部材を容易に分離可能として、材料毎
の再生を容易化し得るプラスチック成形品と、該成形品
の製造方法とに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive plastic molded article and a method for producing the same, and
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a plastic molded product that can be easily separated from a member formed only of a plastic material constituting the molded product at the time of recycling to facilitate regeneration of each material, and a method of manufacturing the molded product.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータやワードプロセッサ、その
他マイクロコンピュータを制御用素子として内蔵したシ
ーケンサ等の各種電子機器は、外部から機器内に侵入す
る電磁波等の外乱を受けて誤作動する可能性のあること
が知られている。また、これらの電子機器は、稼働時に
機器成形体外部へ電磁波を輻射して有害なノイズ源とな
ることも多い。この種の電磁波による干渉(EMI)や、
より周波数の低い電波による干渉(RFI)から前記電子
機器を保護したり、該機器から外部へ電磁波が漏出する
のを防止したりする目的で、所謂電磁シールド(遮蔽)が
機器成形体に一般に施される。
2. Description of the Related Art Various electronic devices such as a computer, a word processor, and a sequencer incorporating a microcomputer as a control element may malfunction due to disturbance such as electromagnetic waves entering the device from the outside. Are known. In addition, these electronic devices often emit electromagnetic waves to the outside of the device molded body during operation and become a harmful noise source in many cases. This type of electromagnetic interference (EMI),
In order to protect the electronic device from interference by lower frequency radio waves (RFI) and to prevent leakage of electromagnetic waves from the device to the outside, a so-called electromagnetic shield is generally applied to the molded article of the device. Is done.

【0003】前記シールドとしては、軽量で高い意匠性
を発揮し得るプラスチック製の電子機器成形体の全面ま
たは内面に、乾式メッキや湿式メッキにより金属メッキ
層を電析させたり、或いは導電性フィラーを含有する導
電性塗料を塗布したりした導電層の形成が一般に実施さ
れている。これらのシールドにより、前述の如く外部か
らの電磁波を遮蔽して機器内への侵入を防止し、また内
部からの電磁波の漏出を有効に防止することができる。
As the shield, a metal plating layer is deposited by dry plating or wet plating on the entire or inner surface of a plastic electronic device molded article which is lightweight and can exhibit high design properties, or a conductive filler is applied. The formation of a conductive layer, for example, by applying a conductive paint contained therein, is generally performed. With these shields, as described above, external electromagnetic waves can be shielded to prevent intrusion into the device, and leakage of internal electromagnetic waves can be effectively prevented.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで2001年4
月には「家電リサイクル法」が施行される予定であり、
各種産業廃棄物の効率的な処理および地球資源の有効活
用の観点から、あらゆる工業製品の再生、殊に物質的再
生(マテリアルリサイクル)を効率的に行なう方法が模索
されている。前記電子機器成形体に代表されるプラスチ
ック部材のマテリアルリサイクルには、これを粉砕を施
した後に加熱により溶融させ、これを各種製品に再生す
る方法が一般的に採用されている。しかし、このマテリ
アルリサイクルでは、前記プラスチック製の電子機器成
形体に密着的に形成されている前記導電層(金属成分)の
物理的な分離が困難であるため、溶融時および再利用の
成形時に樹脂中に該導電層形成物が夾雑物として介在
し、得られた製品の機械強度等の物性を低下させて実効
的な再生を妨げるばかりか、該金属の有効な回収も不可
能となる重大な欠点が指摘される。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, in April 2001
The “Home Appliance Recycling Law” is scheduled to go into effect this month,
From the viewpoint of efficient treatment of various industrial wastes and effective utilization of global resources, a method for efficiently regenerating all industrial products, particularly, material regeneration (material recycling) is being sought. For material recycling of a plastic member represented by the electronic device molded body, a method of pulverizing the plastic member, melting it by heating, and regenerating it into various products is generally adopted. However, in this material recycling, it is difficult to physically separate the conductive layer (metal component) formed in close contact with the plastic electronic device molded body. The conductive layer forming material intervenes as a contaminant in the product, which not only impairs physical properties such as mechanical strength of the obtained product and prevents effective regeneration, but also makes it impossible to effectively recover the metal. Shortcomings are noted.

【0005】そこで他の再生法として、予め導電層を形
成している金属を酸等の化学薬剤で溶解除去した後に、
前記プラスチック部材を粉砕する方法が考えられるが、
この場合導電層の溶解に多大な時間を要し、また該溶解
液の排水処理が必要となる等、再生コストが増大して生
産性が低下してしまう。また金属の回収に際して、更に
化学的または電気化学的な還元処理を施す必要がある。
なおガス化溶融炉や高炉による処理の場合、プラスチッ
クは熱源や還元用の化学成分として有効利用でき、かつ
金属も回収することは可能であるが、前記導電層は約1
〜3μmの微小な厚さしか有しないため、全体として物
質の再生率を充分に高く設定できない欠点を有する。
[0005] Therefore, as another regenerating method, after the metal forming the conductive layer is dissolved and removed with a chemical agent such as an acid in advance,
A method of crushing the plastic member is considered,
In this case, a long time is required for dissolving the conductive layer, and a wastewater treatment of the dissolving solution is required, so that the regeneration cost is increased and the productivity is reduced. When recovering the metal, it is necessary to further perform a chemical or electrochemical reduction treatment.
In the case of treatment in a gasification melting furnace or a blast furnace, plastic can be effectively used as a heat source or a chemical component for reduction, and metal can be recovered.
Since it has only a very small thickness of about 3 μm, it has a disadvantage that the regeneration rate of the substance cannot be set sufficiently high as a whole.

【0006】[0006]

【発明の目的】この発明は、導電性プラスチック成形品
の廃棄品から、構成材料を物質的に回収する際に顕在化
する前記問題に鑑み、これを好適に解決するべく提案さ
れたものであって、再生処理時にプラスチック材料とそ
の他の材料を容易に分離させ、高い効率でプラスチック
材料を回収し得る導電性プラスチック成形品およびその
製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed in view of the above-mentioned problems that appear when materially recovering constituent materials from the waste of conductive plastic molded articles, and to solve the problems appropriately. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a conductive plastic molded article capable of easily separating a plastic material from other materials at the time of a regeneration treatment and recovering the plastic material with high efficiency, and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記課題を克服し、所期
の目的を達成するため本発明の導電性プラスチック成形
品は、電気的に不導体なプラスチック原料から所要形状
に成形したプラスチック成形体と、導電性を付与する導
電層が形成され、前記プラスチック成形体に積層される
樹脂シールド体と、前記プラスチック成形体と樹脂シー
ルド体との間に介在して、両部材(12,16)を接着し、加
熱により剥離性を発現する接着層とからなることを特徴
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to overcome the above-mentioned problems and achieve the intended object, a conductive plastic molded article of the present invention is a plastic molded article formed into a required shape from an electrically non-conductive plastic raw material. And, a conductive layer for imparting conductivity is formed, a resin shield body laminated on the plastic molded body, interposed between the plastic molded body and the resin shield body, both members (12, 16) It is characterized by comprising an adhesive layer that adheres and exhibits releasability when heated.

【0008】前記課題を克服し、所期の目的を達成する
ため本願の別の発明に係る導電性プラスチック成形品の
製造方法は、電気的に不導体なプラスチック原料から所
要形状のプラスチック成形体を成形し、プラスチック原
料からなるシート状物を成形することで、前記プラスチ
ック成形体へ被着し得る樹脂体を作製した後、この樹脂
体の導電化すべき所要面に導電層を形成して樹脂シール
ド体を作製し、次いで前記プラスチック成形体と樹脂シ
ールド体との被着予定部位に、加熱により剥離性を発現
する接着剤を付与することで接着層を付与して、この接
着層により該プラスチック成形体および樹脂シールド体
を接着するようにしたことを特徴とする。
In order to overcome the above-mentioned problems and achieve the intended object, a method of manufacturing a conductive plastic molded article according to another invention of the present application is to produce a plastic molded article of a required shape from an electrically non-conductive plastic raw material. After forming a resin body that can be adhered to the plastic molded body by molding and forming a sheet-like material made of plastic raw material, a conductive layer is formed on a required surface of the resin body to be made conductive, and a resin shield is formed. A body is formed, and then an adhesive layer is formed by applying an adhesive that exhibits releasability by heating to a portion to be attached between the plastic molded body and the resin shield body, and the plastic molding is performed by the adhesive layer. The body and the resin shield body are bonded to each other.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】次に、本発明に係る導電性プラス
チック成形品およびその製造方法につき、好適な実施例
を挙げて、添付図面を参照しながら以下説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, a conductive plastic molded article and a method for producing the same according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings by way of preferred embodiments.

【0010】本発明の好適な実施例に係る導電性プラス
チック成形品10は、図1および図2に示す如く、例え
ばノートパソコンに好適に利用可能な各種熱可塑性樹脂
等から形成され、成形体としての強度を有するプラスチ
ック成形体12と、このプラスチック成形体12に積層
される樹脂シールド体16と、これらプラスチック成形
体12および樹脂シールド体16の間に介在して、該プ
ラスチック成形体12および樹脂シールド体16を接着
する接着層14とから構成される。前記樹脂シールド体
16は、その基材をなす樹脂体15と、この樹脂体15
の所要面に形成される導電層18とからなる。
As shown in FIGS. 1 and 2, a conductive plastic molded article 10 according to a preferred embodiment of the present invention is formed of, for example, various thermoplastic resins which can be suitably used for a notebook personal computer. Plastic molded body 12 having the following strength, a resin shield body 16 laminated on the plastic molded body 12, and a plastic molded body 12 and a resin shield body interposed between the plastic molded body 12 and the resin shield body 16. And an adhesive layer 14 for adhering the body 16. The resin shield body 16 includes a resin body 15 serving as a base material thereof,
And a conductive layer 18 formed on a required surface of the substrate.

【0011】また本発明の好適な実施例に係る導電性プ
ラスチック成形品の製造方法は、図3に示す如く、成形
体作製工程S1、樹脂シールド体作製工程S2、接着層
付与工程S3、組立工程S4および最終工程S5に大き
く分かれる。
Further, as shown in FIG. 3, a method for manufacturing a conductive plastic molded product according to a preferred embodiment of the present invention includes a molded body manufacturing step S1, a resin shield body manufacturing step S2, an adhesive layer providing step S3, and an assembling step. It is largely divided into S4 and the final step S5.

【0012】前記成形体作製工程S1は、所要形状のプ
ラスチック成形体12を作製する工程であり、一般的に
公知の射出成形、押出成形、ブロー成形、真空成形、プ
レス成形またはトランスファー成形その他の成形方法の
何れも採用可能であり、適宜好適に選択される。殊に本
発明の場合は、量産性が高く、かつ成形体などの高い成
形精度を要求される成形に対応可能である射出成形が好
適である。
The molded article producing step S1 is a step of producing a plastic molded article 12 having a required shape, and is generally known as injection molding, extrusion molding, blow molding, vacuum molding, press molding, transfer molding or other molding. Any of the methods can be adopted and is suitably selected as appropriate. In particular, in the case of the present invention, injection molding, which has high productivity and can cope with molding of a molded article or the like which requires high molding accuracy, is preferable.

【0013】前記プラスチック成形体12としては、前
述の如く電子機器用成形体としての精密成形性および接
着層14との密着性を備えると共に、再利用処理の溶融
時に物性低下を余り起こさない各種熱可塑性樹脂が好適
に使用可能である。例えばABS樹脂、PC樹脂、PP
O樹脂、PP樹脂、PS樹脂、PEI樹脂、PPS樹
脂、PET樹脂、PBT樹脂、PES樹脂、PA樹脂等
およびPC/ABS樹脂等のポリマーアロイが挙げられ
る。なお再利用の形態として、例えば廃棄物粉砕後にフ
ィラーとして利用するのであれば、前述の熱可塑性樹脂
だけでなく各種熱硬化性樹脂も採用可能である。
As described above, the plastic molded body 12 has a precision moldability as a molded body for electronic equipment and an adhesive property with the adhesive layer 14, and has various heat properties which do not cause a physical property deterioration when melting in a recycling process. A plastic resin can be suitably used. For example, ABS resin, PC resin, PP
Polymer alloys such as O resin, PP resin, PS resin, PEI resin, PPS resin, PET resin, PBT resin, PES resin, PA resin, and PC / ABS resin. In addition, as a form of reuse, for example, if it is used as a filler after pulverization of waste, not only the above-mentioned thermoplastic resin but also various thermosetting resins can be adopted.

【0014】また前記プラスチック成形体12の機械的
強度向上や難燃性付与等を目的として、各種フィラーを
混合してもよい。前記フィラーとしては、アラミド繊
維、炭素繊維、ガラス繊維、炭酸カルシウム、酸化珪
素、硫酸バリウム、水酸化アルミニウムまたは水酸化マ
グネシウム等が挙げられる。
Various fillers may be mixed for the purpose of improving the mechanical strength of the plastic molded body 12 and imparting flame retardancy. Examples of the filler include aramid fiber, carbon fiber, glass fiber, calcium carbonate, silicon oxide, barium sulfate, aluminum hydroxide, and magnesium hydroxide.

【0015】前記樹脂シールド体作製工程S2は、前記
成形体作製工程S1とは別にプラスチック成形体12に
積層する樹脂シールド体16を作製する工程である。本
工程S2は、前記樹脂体成形段階S21と、導電層付与
段階S22とからなる。
The resin shield manufacturing step S2 is a step of manufacturing a resin shield 16 to be laminated on the plastic molded body 12 separately from the molded body manufacturing step S1. This step S2 includes the resin body molding step S21 and the conductive layer providing step S22.

【0016】前記樹脂体成形段階S21は、前記導電層
18を密着的に形成し得る所定の熱可塑性樹脂の如きプ
ラスチック原料を、前記プラスチック成形体12の内面
に積層し得る形状に成形する段階である。この段階で成
形される樹脂体15は、電磁シールド効果を発現する導
電層18を形成するための基材となるもので、前記プラ
スチック成形体12と違って機械的強度は要求されない
ので、該成形体12の20%以下の厚みで成形される。
The resin body molding step S21 is a step of molding a plastic material such as a predetermined thermoplastic resin capable of forming the conductive layer 18 in close contact with the inner surface of the plastic molded body 12 in a shape capable of being laminated. is there. The resin body 15 molded at this stage serves as a base material for forming the conductive layer 18 exhibiting an electromagnetic shielding effect, and unlike the plastic molded body 12, does not require mechanical strength. It is formed with a thickness of 20% or less of the body 12.

【0017】前記樹脂体15の具体的な成形方法として
は、前述の通り前記プラスチック成形体12の20%以
下の薄い樹脂体15を形成する必要性から、先ず好適な
プラスチック原料から所要厚さのシート状物を形成し、
次いでこのシート状物を真空成形等の方法を用いて該プ
ラスチック成形体12内部に積層し得る形状とするもの
である。この他にその形状によっては、量産性が高い押
出成形または射出成形や、通常のプレス成形等も採用可
能である。
As a specific method for molding the resin body 15, as described above, since it is necessary to form a thin resin body 15 having a thickness of 20% or less of the plastic molded body 12, first, a suitable plastic raw material is formed to a required thickness. Forming a sheet,
Next, the sheet is formed into a shape that can be laminated inside the plastic molded body 12 by a method such as vacuum molding. In addition, depending on the shape, extrusion molding or injection molding with high mass productivity, ordinary press molding, or the like can be employed.

【0018】前記樹脂体15の作製に好適に使用される
プラスチック原料は、前述のプラスチック成形体12の
構成材料とほぼ同じであり、殊にシート状物に成形し易
い樹脂が採用される。また後述する導電層付与段階S2
2において、無電解メッキにて導電層18を形成する場
合には、成形容易性の他に表面の化学的粗化、すなわち
クロム酸によるエッチング加工等が施し易い、例えばA
BSまたはABS系アロイ原料が好適である。またそれ
以外の原料であっても、各種の前処理によりクロム酸に
よるエッチングが可能となるポリカーボネート等や、ク
ロム酸以外の塩酸等でエッチングが可能であるナイロン
等も使用可能である。
The plastic raw material suitably used for the production of the resin body 15 is substantially the same as the constituent material of the plastic molded body 12 described above. In particular, a resin which can be easily formed into a sheet-like material is employed. Also, a conductive layer providing step S2 described later.
2, when the conductive layer 18 is formed by electroless plating, in addition to the ease of molding, the surface is chemically roughened, that is, etching with chromic acid is easily performed.
BS or ABS alloy raw materials are preferred. In addition, other raw materials such as polycarbonate which can be etched with chromic acid by various pretreatments, nylon which can be etched with hydrochloric acid other than chromic acid, and the like can also be used.

【0019】前記樹脂体成形段階S21に続いて行なわ
れる導電層付与段階S22は、前記プラスチック成形体
12の所定位置に積層し得る形状に成形された前記樹脂
体15に導電層18を形成する工程である。この導電層
18の形成方法は、無電解メッキの如き湿式メッキ、
導電性塗料または金属の化学的、物理的蒸着に代表
される乾式メッキ、等の所定の導電性を付与するもので
あれば、何れのものであっても採用可能であるので、以
下に、、の3つの方法を個別に説明する。
The conductive layer providing step S22, which is performed subsequent to the resin body forming step S21, includes a step of forming a conductive layer 18 on the resin body 15 formed into a shape that can be laminated at a predetermined position on the plastic molded body 12. It is. The conductive layer 18 may be formed by wet plating such as electroless plating,
Chemical coating of conductive paint or metal, dry plating typified by physical vapor deposition, etc., as long as it imparts predetermined conductivity such as any one can be adopted, so below, The three methods will be described individually.

【0020】 湿式メッキにより導電層を形成する場
合:(図3の参照) 無電解メッキの如き湿式メッキにより導電層18を形成
する場合、本導電層付与段階S22は前記樹脂体15の
所要面に導電化に際して必要とされる前処理を施す導電
化前処理段S2211と、該湿式メッキにより導電層1
8を析出させる導電化段S2212とからなる。前記導
電化前処理段階S2212としては、次の(1)〜(3)に
記載した3つの方法が挙げられる。 (1) 樹脂体15の導電化予定面に化学的粗化等を施し
た後、無電解メッキ反応の触媒となる貴金属微粒子を該
導電化処理面に吸着させ、次いで適宜選択される無電解
メッキ浴に浸漬して所定厚さの無電解メッキ金属等から
なる導電層18を形成する方法。 (2) 樹脂体15の導電化予定面に無電解メッキを析出
させる能力を持つ物質を塗料等に含有させて付与した
後、適宜必要とされる処理を行ない、次いで(1)と同様
に適宜選択される無電解メッキ浴に浸漬して所定厚さの
無電解メッキ金属等からなる導電層18を形成する方
法。ここで無電解メッキを析出させる能力を持つ物質と
は、(A)無電解メッキ反応触媒となる貴金属微粒子また
はこの貴金属微粒子を表面に付着させた微粒子、(B)貴
金属イオンを吸着する能力に優れた物質または(C)無電
解メッキにより付与する金属よりも電気化学的に卑であ
って、置換反応により付与すべき金属の核を生成する金
属粉等が挙げられる。 (3) 樹脂体15の導電化予定面に必要に応じて化学的
または物理的粗化等の処理を行なった後、電解メッキに
より導電層18を形成する方法。例えば、クロム酸−硫
酸混合液等により化学的粗化を行なった後、ズズ−パラ
ジウムコロイドを高濃度に吸着させて薄い金属膜を形成
した上に金属塩を含有する電解メッキ液中で電析を行な
う(D-POPシステム;荏原エージライト製)等が挙げら
れる。また、このズズ−パラジウムコロイド系以外の物
質として、有機パラジウムコロイドまたは有機パラジウ
ム錯体を用いる方法、導電性高分子溶液またはコロイド
を用いる方法或いはカーボンブラックまたはグラファイ
ト粉の分散液を用いる方法も挙げられる。
In the case where the conductive layer is formed by wet plating: (see FIG. 3) In the case where the conductive layer 18 is formed by wet plating such as electroless plating, this conductive layer applying step S 22 is performed on a required surface of the resin body 15. A pre-conductivity treatment step S2211 for performing pre-treatment required for conductivity, and a conductive layer 1 by wet plating.
And a conducting step S2212 for depositing the S.8. Examples of the pre-conductivity treatment step S2212 include the following three methods (1) to (3). (1) After the surface of the resin body 15 to be made conductive is chemically roughened, noble metal fine particles serving as a catalyst for the electroless plating reaction are adsorbed on the surface to be made conductive, and then the electroless plating selected as appropriate A method of forming a conductive layer 18 made of an electroless plated metal or the like having a predetermined thickness by dipping in a bath. (2) After applying a substance having the ability to precipitate electroless plating to the surface to be made conductive of the resin body 15 by adding it to a paint or the like, performing any necessary processing, and then appropriately performing the same processing as in (1). A method of forming a conductive layer 18 made of an electroless plating metal or the like having a predetermined thickness by dipping in a selected electroless plating bath. Here, the substance having the ability to precipitate electroless plating includes (A) fine particles of a noble metal serving as an electroless plating reaction catalyst or fine particles having the noble metal particles adhered to the surface, and (B) excellent ability to adsorb noble metal ions. And (C) metal powder which is electrochemically lower than the metal applied by electroless plating and generates a nucleus of the metal to be applied by a substitution reaction. (3) A method of performing a treatment such as chemical or physical roughening as necessary on the surface of the resin body 15 to be made conductive, and then forming the conductive layer 18 by electrolytic plating. For example, after performing chemical roughening with a chromic acid-sulfuric acid mixture or the like, a tin-palladium colloid is adsorbed at a high concentration to form a thin metal film and then deposited in an electrolytic plating solution containing a metal salt. (D-POP system; Ebara Age Light). In addition, as a substance other than the tin-palladium colloid, a method using an organic palladium colloid or an organic palladium complex, a method using a conductive polymer solution or a colloid, or a method using a carbon black or graphite powder dispersion liquid can also be used.

【0021】前記導電化前処理段S2211は、後述す
る導電化段S2213を施すための前処理の一つであ
り、化学的または物理的粗化や、導電層18を析出させ
る物質等の付与が行なわれる。前記化学的粗化として
は、前記樹脂体15の材質により従来公知の方法が何れ
も採用可能である。一般的にABS系等の酸化されて溶
融し易い高分子成分を分散相として有する原料の場合に
は、クロム酸および硫酸の混液が、ポリアミド系原料の
場合には塩酸等が好適に使用される。また物理的粗化と
しては、液体ホーニング等による方法が一般的に用いら
れる。更に表面の吸着能力を制御するために界面活性剤
または塗料を付与してもよい。
The pre-conductivity treatment step S2211 is one of pre-treatments for performing the later-described conductivity-conversion step S2213, and includes chemical or physical roughening and application of a substance or the like for depositing the conductive layer 18. Done. As the chemical roughening, any conventionally known method can be adopted depending on the material of the resin body 15. Generally, a mixture of chromic acid and sulfuric acid is suitably used for a raw material having an oxidized and easily meltable polymer component such as ABS as a dispersed phase, and a hydrochloric acid or the like is suitably used for a polyamide-based raw material. . As the physical roughening, a method using liquid honing or the like is generally used. Further, a surfactant or a paint may be applied to control the adsorption ability of the surface.

【0022】また導電層18形成の助長する物質および
その付与については、前述の(1)〜(3)の方法毎に異な
っているので、(1)〜(3)の各方法毎の工程と共に以下
に説明する。
The substance which promotes the formation of the conductive layer 18 and its application are different for each of the above-mentioned methods (1) to (3). This will be described below.

【0023】(1)の場合 導電化前処理段S2211:導電層18の下地となる樹
脂体15に対して、前述の化学的粗化を施し、次いで無
電解メッキに対して触媒活性を発現する所望の金属微粒
子を含む触媒を吸着させる。導電化段S2212:適宜
に選択される無電解メッキ用金属のメッキ浴に浸漬させ
て、前記触媒上に所定厚さの無電解メッキ用金属からな
る導電層18を析出させる。
In the case of (1): Conduction pre-treatment step S2211: The above-mentioned chemical roughening is performed on the resin body 15 serving as the base of the conductive layer 18, and then the catalyst activity is exhibited for electroless plating. A catalyst containing desired metal fine particles is adsorbed. Conducting step S2212: A conductive layer 18 made of a metal for electroless plating having a predetermined thickness is deposited on the catalyst by immersing it in a plating bath of an appropriately selected metal for electroless plating.

【0024】(2)は、前述の無電解メッキを析出させる
能力を持つ物質(A)、(B)、(C)に分けて個別に述べ
る。また導電化段S2212については、前述の(1)と
同じであるので、詳細な記載を省略する。
(2) will be described separately for each of the substances (A), (B) and (C) having the ability to deposit the electroless plating. Further, the conductive stage S2212 is the same as the above (1), and thus detailed description is omitted.

【0025】(A)導電化前処理段S2211として、無
電解メッキに対して触媒活性を発現する所望の金属微粒
子またはこの微粒子を表面に付着させた粒子を含有した
塗料としての高分子化合物を、スプレー等の手段で前記
樹脂体15の導電化予定面に付与する。次いで前記高分
子化合物表面に対して、酸またはアルカリ等のエッチン
グ剤による化学的粗化を施し、前記金属微粒子を露出さ
せる。そして導電化段S2212で導電層18を析出さ
せる。具体的な例として、銀金属微粒子を、この微粒子
より大きい酸化珪素等の微粒子表面に析出させたものを
塗料としての合成樹脂中に分散させたものが挙げられ
る。
(A) As the pre-conductivity treatment step S2211, a desired metal fine particle exhibiting catalytic activity with respect to electroless plating or a polymer compound as a paint containing particles having the fine particles adhered to the surface is used. It is applied to the surface of the resin body 15 to be made conductive by means such as spraying. Next, the surface of the polymer compound is chemically roughened with an etching agent such as an acid or an alkali to expose the metal fine particles. Then, the conductive layer 18 is deposited in the conductive step S2212. As a specific example, there can be cited one in which silver metal fine particles precipitated on the surface of fine particles of silicon oxide or the like larger than these fine particles are dispersed in a synthetic resin as a paint.

【0026】(B)導電化前処理段S2211として、
(1)および(A)で述べた触媒としての微粒子を、吸着す
る能力に優れた物質をスプレー等の手段で、前記樹脂体
15の導電化予定面に付与する。次いで無電解メッキに
対して触媒活性を発現する所望の金属微粒子触媒を含有
する触媒槽に浸漬させて、触媒としての微粒子を吸着さ
せる。そして導電化段S2212を施して導電層18を
析出させる。具体的な例として、キトサン等の貴金属イ
オンを吸着可能物質を含有するキレート樹脂が挙げられ
る。
(B) As the pre-conductivity treatment stage S2211,
A substance having an excellent ability to adsorb the fine particles as a catalyst described in (1) and (A) is applied to the conductive surface of the resin body 15 by means such as spraying. Next, it is immersed in a catalyst tank containing a desired metal fine particle catalyst exhibiting catalytic activity for electroless plating to adsorb fine particles as a catalyst. Then, the conductive layer 18 is deposited by performing the conductive step S2212. A specific example is a chelate resin containing a substance capable of adsorbing noble metal ions such as chitosan.

【0027】(C)導電化前処理段S2211として、無
電解メッキにより付与する金属よりも電気化学的に卑で
あって、置換反応により該無電解メッキ金属の核を生成
する金属粉を所定量含有させた高分子化合物をスプレー
等の手段で、前記樹脂体15の導電化予定面に付与す
る。次いでイオン化した該無電解メッキ金属を含有する
水溶液に浸漬させて該無電解メッキ金属の核を生成させ
る。そして導電化段S2212で導電層18を析出させ
る。具体的な例として、スズ−パラジウム触媒等の吸着
能力が高い、極性官能基を有する合成樹脂ラテックス、
変成シリコーン樹脂またはシアノアクリレート樹脂、或
いはニッケル微粒子を含有し、酸性銅塩溶液中で容易に
銅を置換析出させて無電解銅メッキ中で銅を析出するこ
とができるもの等が挙げられる。
(C) As the pre-conductivity treatment step S2211, a predetermined amount of metal powder that is electrochemically lower than the metal applied by electroless plating and generates nuclei of the electroless plated metal by a substitution reaction is used. The polymer compound contained is applied to the conductive surface of the resin body 15 by spraying or the like. Next, the core is immersed in an aqueous solution containing the ionized electroless plating metal to generate nuclei of the electroless plating metal. Then, the conductive layer 18 is deposited in the conductive step S2212. As a specific example, a high adsorption ability such as a tin-palladium catalyst, a synthetic resin latex having a polar functional group,
Modified silicone resin or cyanoacrylate resin, or those containing nickel fine particles and capable of easily displacing and depositing copper in an acidic copper salt solution and depositing copper in electroless copper plating can be used.

【0028】(3)の場合 導電化前処理段S2211:前記樹脂体15に対して、
液体ホーニング等の所定の物理的粗化または酸またはア
ルカリ等のエッチング剤を用いた化学的粗化を施す。次
いでパラジウム−ズズコロイド、有機パラジウム、導電
性高分子または炭素材料コロイド等の導電物質を吸着さ
せる。なお、この段階で必要に応じて前記導電性物質に
より薄い導電層を形成してもよい。導電化段S221
2:前記導電性物質により導電化された所要面を電極を
当接させることで負極とし、正極に可溶性または不溶性
電極をして、これらに通電させて電解メッキにより導電
層18を形成する。
In the case of (3): Conduction pretreatment step S2211:
A predetermined physical roughening such as liquid honing or a chemical roughening using an etching agent such as an acid or an alkali is performed. Next, a conductive substance such as a palladium-uzud colloid, an organic palladium, a conductive polymer or a carbon material colloid is adsorbed. Note that at this stage, a thin conductive layer may be formed using the conductive material as necessary. Conduction stage S221
2: A required surface made conductive by the conductive material is brought into contact with an electrode to form a negative electrode, a positive electrode is formed with a soluble or insoluble electrode, and a current is applied to these electrodes to form a conductive layer 18 by electrolytic plating.

【0029】前記(1)並びに(2)の(A)および(B)の各
方法において、無電解メッキに対して触媒活性を発現す
る微粒子とは、前述の銀以外に、例えば金、ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、オスミウムま
たは白金等の貴金属が挙げられる。また貴金属微粒子を
非メッキ面に吸着させる方法として、以下の(a)〜(d)
に記載される4つの方法が挙げられる。 (a)塩化スズおよび塩化パラジウムの2種類の溶液に順
に浸漬して、該スズによりパラジウムを還元して触媒と
しての金属パラジウムを表面に付与する方法。 (b)スズとパラジウムの錯塩化物コロイド液に浸漬し
て、錯塩化物を吸着させた後に水洗を施すことで、該ス
ズによりパラジウムを金属に還元し、硫酸等で該スズの
酸化物を除去することで、表面に残留した該パラジウム
を触媒とする方法。 (c)塩化パラジウム溶液に浸漬した後、還元剤液に浸漬
させ、金属に還元されたパラジウムを触媒とする方法。 (d)各種の触媒貴金属塩溶液中に界面活性剤を添加し、
撹絆しながら還元剤を添加することで得られる触媒貴金
属コロイド液に浸漬する方法。この場合、前記コロイド
液は、触媒貴金属の化合物の水溶性の塩を溶解し、界面
活性剤を加えて激しく撹拌しながら、還元剤を添加する
ことで得られる。界面活性剤には様々なものがあるが、
陰イオン性または陽イオン性界面活性剤が好適であり、
例えば石けん、高級アルコール硫酸ナトリウム、アルキ
ルベンゼンスルフォン酸ナトリウム、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル硫酸ナトリウム等、ラウリルトリメ
チルアンモニウムクロライドまたはアルキルベンジルジ
メチルアンモニウムクロライド等が使用される。
In each of the methods (A) and (B) of the above (1) and (2), the fine particles exhibiting catalytic activity for electroless plating are, for example, gold, ruthenium, Noble metals such as rhodium, palladium, iridium, osmium or platinum are exemplified. As a method of adsorbing the noble metal fine particles on the non-plated surface, the following (a) to (d)
4 methods. (a) A method of sequentially immersing in two kinds of solutions of tin chloride and palladium chloride, reducing palladium with the tin, and applying metal palladium as a catalyst to the surface. (b) immersing in a complex chloride colloid solution of tin and palladium to adsorb the complex chloride, followed by washing with water to reduce the palladium to metal with tin and remove the tin oxide with sulfuric acid or the like; The palladium remaining on the surface as a catalyst. (c) A method of immersing in a palladium chloride solution and then immersing in a reducing agent solution and using palladium reduced to metal as a catalyst. (d) adding a surfactant to various catalyst noble metal salt solutions,
A method of immersing in a catalytic noble metal colloid solution obtained by adding a reducing agent while stirring. In this case, the colloid solution is obtained by dissolving a water-soluble salt of a compound of a catalytic noble metal, adding a surfactant, and adding a reducing agent while stirring vigorously. There are various surfactants,
Anionic or cationic surfactants are preferred,
For example, soap, higher alcohol sodium sulfate, sodium alkyl benzene sulfonate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, lauryl trimethyl ammonium chloride, alkylbenzyl dimethyl ammonium chloride and the like are used.

【0030】前記触媒金属の微粒子は、連続膜として形
成される必要はなく、前記接着層14上に吸着していれ
ばよい。また前記触媒金属の微粒子が、ある程度高濃度
に吸着されず濃度が低すぎる場合には導電層18が形成
されず、極度に過剰の場合には下地となる前記樹脂体1
5と導電層18等との密着が弱くなるので留意が必要で
ある。
The fine particles of the catalytic metal need not be formed as a continuous film, but may be adsorbed on the adhesive layer 14. If the catalyst metal particles are not adsorbed to a certain high concentration and the concentration is too low, the conductive layer 18 will not be formed.
Care must be taken because the adhesion between the conductive layer 5 and the conductive layer 18 or the like becomes weak.

【0031】湿式メッキによる導電化段S2212は、
導電性に優れる前述のメッキ用金属を無電解メッキによ
り前記触媒金属に付与することで導電層18を形成し、
前記樹脂体15から樹脂シールド体16を得る段であ
る。前記樹脂シールド体16に付与された導電層18の
使用環境下での耐食性の程度如何によっては、必要に応
じて引続きニッケルまたはスズその他種類の金属を無電
解メッキまたは電解メッキを施こす第2導電化段階S2
214を行なってもよい。ここでメッキで施される導電
層18厚さとしては0.5〜2μm程度が好適であり、
これ以上厚くなると製造時間およびコストが増大してし
まう。
The conduction stage S2212 by wet plating is as follows:
Forming the conductive layer 18 by applying the plating metal having excellent conductivity to the catalyst metal by electroless plating,
In this step, a resin shield body 16 is obtained from the resin body 15. Depending on the degree of corrosion resistance of the conductive layer 18 applied to the resin shield body 16 in the use environment, nickel or tin or another kind of metal may be continuously subjected to electroless plating or electrolytic plating as necessary. S2
214 may be performed. Here, the thickness of the conductive layer 18 applied by plating is preferably about 0.5 to 2 μm,
If the thickness is more than this, the manufacturing time and cost will increase.

【0032】前記導電化段S2212で採用される無電
解メッキ用金属としては、メッキ浴の管理が比較的容易
で、工業的に広く利用されている無電解銅または無電解
ニッケル−リン合金等が好適である。その他の無電解メ
ッキ用金属としては、無電解銅・ニッケル・リン合金、
無電解ニッケル・ホウ素合金、無電解コバルト・リン合
金、無電解金、無電解銀または無電解パラジウム等が挙
げられる。また電解メッキを採用する場合、電解メッキ
金属としては工業的に広く利用されている銅またはニッ
ケルが好適である。その他の電解メッキ用金属として
は、マンガン、亜鉛、鉄、スズ、クロム、金、銀、パラ
ジウム、鉛またはニッケル・マンガン合金等の合金が挙
げられる。
As the metal for electroless plating employed in the conducting step S2212, electroless copper or electroless nickel-phosphorus alloy, which is relatively easy to manage a plating bath and is widely used in industry, is used. It is suitable. Other metals for electroless plating include electroless copper, nickel and phosphorus alloys,
Examples include electroless nickel-boron alloy, electroless cobalt-phosphorus alloy, electroless gold, electroless silver, and electroless palladium. When electrolytic plating is adopted, copper or nickel, which is widely used industrially, is suitable as the electrolytic plating metal. Other metals for electrolytic plating include alloys such as manganese, zinc, iron, tin, chromium, gold, silver, palladium, lead and nickel-manganese alloys.

【0033】前述の第2導電化段S2213についての
一例を挙げれば、第1の導電層には導電性に優れる銅を
使用し、第2の導電層には耐蝕性に優れるニッケル・リ
ン合金を使用すれば、導電性および耐蝕性の双方に優れ
る導電層18を形成し得る。本第2導電化段S2213
で好適に使用される無電解用メッキ金属および電解メッ
キ用金属は、前述の〔0032〕に記載の各金属に準じ
る。
As an example of the second conductive layer S2213 described above, copper having excellent conductivity is used for the first conductive layer, and nickel-phosphorus alloy having excellent corrosion resistance is used for the second conductive layer. If used, the conductive layer 18 having both excellent conductivity and corrosion resistance can be formed. This second conductive stage S2213
The electroless plating metal and the electroplating metal preferably used in the above are the same as those described in the above [0032].

【0034】 導電性塗料により導電層を形成する場
合:(図3の参照) 導電性塗料により導電層18を形成する導電層付与工程
S22は、基本的に前記樹脂体15の所要面に導電性フ
ィラーまたは各種金属を含有する塗料としての高分子化
合物をスプレー塗布等の手段により付与・乾燥させて、
導電層18を形成する導電化段S2221だけからな
る。
In the case of forming a conductive layer with a conductive paint: (see FIG. 3) The conductive layer providing step S22 of forming the conductive layer 18 with the conductive paint is basically performed on a required surface of the resin body 15 by a conductive method. By applying and drying a polymer compound as a paint containing filler or various metals by means such as spray coating,
It consists only of a conducting step S2221 for forming the conducting layer 18.

【0035】導電性塗料による導電化段S2221は、
導電性を付与する導電性フィラーを塗料としての高分子
化合物中に分散させた導電性塗料を、前記樹脂体15の
所要の表面にスプレー塗布または刷毛塗り等の方法によ
り付与することで実施される。表面に付与された導電性
塗料は、乾燥・固着して導電層18を形成し、前記樹脂
体15から樹脂シールド体16が得られる。ここで導電
性塗料で施される導電層18厚さとしては20〜100
μm程度が好適であり、薄すぎると充分な導電性が得ら
れず、厚くなると製造時間およびコストが増大すると共
に、使用中に塗膜にクラックが入り、脱落する畏れが増
大する。
The step S2221 for making the conductive material conductive is as follows.
It is carried out by applying a conductive paint in which a conductive filler imparting conductivity is dispersed in a polymer compound as a paint to a required surface of the resin body 15 by a method such as spray coating or brush coating. . The conductive paint applied to the surface is dried and fixed to form a conductive layer 18, and a resin shield 16 is obtained from the resin 15. Here, the thickness of the conductive layer 18 applied with the conductive paint is 20 to 100.
A thickness of about μm is preferred. If the thickness is too small, sufficient conductivity cannot be obtained, and if the thickness is too large, the production time and cost increase, and the fear of the coating film cracking during use and falling off increases.

【0036】前記導電性フィラーとしては、炭素材料、
金属粉、金属繊維、導電性セラミックスまたはチタン酸
カリウムウィスカー表面に炭素を蒸着した複合材料等が
好適に利用可能である。前記炭素材料としては、グラフ
ァイト粉、カーボンブラックまたは炭素繊維が、前記導
電性セラミックスとしては、インジウム・スズ酸化物ま
たは窒化チタン等が夫々挙げられる。そして前記金属粉
または各種金属としては、アルミニウム、銅、ニッケ
ル、銀、金、白金、パラジウムまたは黄銅が挙げられ
る。また前記導電性フィラー等を含有させる塗料として
の高分子化合物としては、ポリウレタン樹脂、エポキシ
樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、シリコーン樹脂、スチレン樹脂、ポリふっ化ビニリ
デン樹脂またはアクリル樹脂等の塗料として利用可能な
高分子化合物が好適に採用可能である。
As the conductive filler, a carbon material,
A metal powder, a metal fiber, a conductive ceramic, or a composite material obtained by depositing carbon on the surface of a potassium titanate whisker can be suitably used. Examples of the carbon material include graphite powder, carbon black and carbon fiber, and examples of the conductive ceramic include indium tin oxide and titanium nitride. Examples of the metal powder or various metals include aluminum, copper, nickel, silver, gold, platinum, palladium, and brass. Further, as the polymer compound as a paint containing the conductive filler or the like, a polyurethane resin, an epoxy resin, a polyester resin, a melamine resin, a phenol resin, a silicone resin, a styrene resin, a polyvinylidene fluoride resin or a paint such as an acrylic resin A high molecular compound that can be used as a polymer can be suitably used.

【0037】 乾式メッキにより導電層を形成する場
合:(図3の参照) 蒸着の如き乾式メッキにより導電層18を形成する場
合、導電層付与工程S22は基本的に前記樹脂シールド
体16上にアルミニウムの如き金属を蒸着等の手段によ
り付与して、導電層18を形成する導電化段S2231
だけからなる。
When the conductive layer is formed by dry plating: (see FIG. 3) When the conductive layer 18 is formed by dry plating such as evaporation, the conductive layer providing step S22 is basically performed by forming aluminum on the resin shield body 16 A conductive step S2231 for forming the conductive layer 18 by applying a metal such as
Consists only of

【0038】乾式メッキによる前記導電化段S2231
としては、Chemical Vapor Doposition(CVD:化学気
相蒸着)またはPhysical Vapor Deposition(物理気相蒸
着)が挙げられる。前記CVDは気体原料から化学反応
を経て導電層18を形成するものであり、またPVDは
物理的プロセスを経ること所要の導電層18を得るもの
で、真空蒸着またはスバッタ蒸着等が挙げられる。一般
的な化学気相蒸着法を例として述べれば、触媒等の蒸着
補助物質を前記樹脂体15の所要面に塗布して、所定の
反応管内に載置する。そして前記反応管内に蒸着させる
金属を含有する原料ガス(アルミニウム蒸着の場合、ア
ルキルアルミニウム等)を流入させる。次いで流入せた
原料ガスを、加熱、プラズマまたは光等のエネルギー源
を用いることで励起させて蒸着反応を進行させる。この
際、前記原料ガス中に様々な反応活性物質を含有させて
もよい。この際の使用金属としては、銅、ニッケル、コ
バルト、アルミニウム、チタン、金またはパラジウム等
が好適であり、これらを単層または積層として使用す
る。
The conducting step S2231 by dry plating
Examples include Chemical Vapor Doposition (CVD) or Physical Vapor Deposition (physical vapor deposition). The CVD is for forming the conductive layer 18 through a chemical reaction from a gaseous raw material, and the PVD is for obtaining the conductive layer 18 required to undergo a physical process, such as vacuum deposition or splatter deposition. Taking a general chemical vapor deposition method as an example, a deposition auxiliary material such as a catalyst is applied to a required surface of the resin body 15 and placed in a predetermined reaction tube. Then, a source gas containing a metal to be deposited (such as alkylaluminum in the case of aluminum deposition) is introduced into the reaction tube. Next, the flowing source gas is excited by using an energy source such as heating, plasma, or light to cause a deposition reaction to proceed. At this time, various reactive substances may be contained in the raw material gas. As a metal to be used at this time, copper, nickel, cobalt, aluminum, titanium, gold, palladium, or the like is suitable, and these are used as a single layer or a laminate.

【0039】前記接着層付与工程S3は、前記プラスチ
ック成形体12または/および樹脂シールド体16の夫
々の被着予定部位に、スプレー塗布等の手段により接着
剤を付与・乾燥させて接着層14を形成する工程であ
る。この接着層の付与については、採用される接着剤の
粘度等の物性に最も効率的な、例えばスプレー塗布また
はローラ塗布により行なわれる。
In the adhesive layer applying step S3, an adhesive is applied to each of the parts to be applied of the plastic molded body 12 and / or the resin shield body 16 by means of spray coating or the like, and dried to form the adhesive layer 14. This is the step of forming. The application of the adhesive layer is performed by, for example, spray coating or roller coating, which is most efficient for the physical properties such as the viscosity of the employed adhesive.

【0040】前記接着剤としては、接着時および使用中
には優れた密着性・接着性を発揮すると共に、所定の加
熱により粘性を低下させて粘着性・接着性を失い、剥離
性を発現するホットメルト型粘接着剤の如き高分子化合
物を主成分とするものや、接着剤中に加熱により膨張す
る加熱膨張性粒子を含有することで、所定加熱下で該粒
子の膨張により被接着物間の接触面積を著しく減ずるこ
とで剥離性を発現するものが好ましい。
The adhesive exhibits excellent adhesiveness and adhesiveness at the time of bonding and during use, and loses adhesiveness and adhesiveness by reducing the viscosity by predetermined heating, and exhibits peelability. A substance containing a polymer compound as a main component such as a hot-melt type adhesive or an adhesive containing heat-expandable particles which expand by heating, the substance to be adhered by expansion of the particles under predetermined heating. It is preferable that the material exhibit releasability by remarkably reducing the contact area therebetween.

【0041】前記接着層14の層厚さとしては5〜50
μm程度が好適であり、これより薄すぎると接着力が低
下して剥離の畏れが生じ、厚すぎると無駄な製造コスト
が必要となる。前記接着層14は、基本的には本実施例
に係る導電性プラスチック成形品の廃棄時に、全体の大
部分を占めるプラスチック成形体12と、各種金属材料
等からなる導電層18を付与された樹脂シールド体16
とを容易に分離させるものであり、何れも適度な粘度を
有する高分子粘稠体であることが一般的である。なお前
記プラスチック成形体12と、樹脂シールド体16とが
分離されて廃棄される際に、接着層14を形成する接着
剤が該プラスチック成形体12の残留して、プラスチッ
ク材料の回収時に不純物として取り込まれてしまうが、
その量は数10g/m2と微々たるものであり、該プラス
チック材料の回収・再生に影響を与えることは殆どな
い。また前記接着剤として、前記プラスチック成形体1
2に対して相溶性のある物質を選択することでも、前述
の問題に対応し得る。
The thickness of the adhesive layer 14 is 5 to 50.
A thickness of about μm is preferable. If the thickness is too thin, the adhesive strength is reduced, and there is fear of peeling. If the thickness is too thick, wasteful production costs are required. The adhesive layer 14 is basically formed by disposing the conductive plastic molded product according to the present embodiment and disposing the plastic molded body 12 occupying most of the whole and the resin provided with the conductive layer 18 made of various metal materials and the like. Shield body 16
Are easily separated from each other, and each of them is generally a polymer viscous body having an appropriate viscosity. When the plastic molded body 12 and the resin shield body 16 are separated and discarded, the adhesive forming the adhesive layer 14 remains on the plastic molded body 12 and is taken in as an impurity when the plastic material is collected. But
The amount is as small as several tens g / m 2, and hardly affects the recovery and regeneration of the plastic material. Further, as the adhesive, the plastic molding 1
Selection of a substance compatible with 2 can also address the above-mentioned problem.

【0042】前記接着剤中に、加熱下で膨張する加熱膨
張性粒子をに含有させたものを用いる場合には、前記樹
脂シールド体16へ接着剤を付与し乾燥させた後、プラ
スチック成形体12を該接着剤塗布面を押圧して組み立
てる。このため前記接着剤の層と、前記樹脂シールド体
16との接触面積は、該樹脂シールド体16への該粘着
剤付与面積に略等しいのに対して、前記プラスチック成
形体12への接触面積は押圧しただけなので比較的小さ
いものとなる。この結果、前記プラスチック成形体12
および接着剤の間の未接触部分から、前記加熱膨張性粒
子の加熱膨張によって剥離が発生し、該プラスチック成
形体12側に接着剤を殆ど残すことなく分離が可能とな
る。
If the adhesive contains heat-expandable particles that expand under heating, the adhesive is applied to the resin shield 16 and dried, and then the plastic molded body 12 is heated. Is assembled by pressing the adhesive applied surface. Therefore, the contact area between the adhesive layer and the resin shield body 16 is substantially equal to the adhesive application area on the resin shield body 16, while the contact area on the plastic molded body 12 is It is relatively small because it is only pressed. As a result, the plastic molding 12
Separation occurs from the non-contact portion between the adhesive and the adhesive due to the thermal expansion of the thermally expandable particles, and separation can be performed without leaving the adhesive on the plastic molded body 12 side.

【0043】ここまでに施された成形体作製工程S1、
樹脂シールド体作製工程S2および接着層付与工程S3
により、本実施例に係る導電化プラスチック成形体を製
造するためのプラスチック成形体12および導電層18
が形成された樹脂シールド体16が夫々作製され、これ
らを接着して積層・一体化する準備が全て整う。次段階
である組立工程S4は、前記プラスチック成形体12お
よび樹脂シールド体16を、前記接着層14を介して積
層・一体化させる工程である。そして最終的に施される
工程S5では、必要に応じて前記導電性プラスチック成
形品の水洗および乾燥、加工並びに検査が行なわれ、製
品として完成する。
The molded body manufacturing process S1 performed so far,
Resin shield body manufacturing step S2 and adhesive layer providing step S3
Accordingly, the plastic molded body 12 and the conductive layer 18 for manufacturing the conductive plastic molded body according to the present embodiment
Are formed, and all preparations for bonding and laminating and integrating them are completed. The next assembly step S4 is a step of laminating and integrating the plastic molded body 12 and the resin shield body 16 with the adhesive layer 14 interposed therebetween. In a final step S5, the conductive plastic molded product is subjected to washing and drying, processing, and inspection as necessary to complete the product.

【0044】[0044]

【実験例】以下に実施例に係る導電性プラスチック成形
品の製造方法および得られた導電性プラスチック成形品
の実験例を示す。
[Experimental Examples] A method of manufacturing a conductive plastic molded product according to the examples and experimental examples of the obtained conductive plastic molded product will be described below.

【0045】・成形体作製工程S1:プラスチック成形
品の原料として、炭素繊維を10wt%含有するPC/
ASA材料(商品名 FA420CA;三菱レイヨン製)を
使用して射出成形により、寸法210×260×20で
厚さが1.2mmの上方に開口した箱形形状のプラスチ
ック成形体を得た。
Molding step S1: PC / carbon containing 10% by weight of carbon fiber as a raw material of a plastic molding
By using an ASA material (trade name: FA420CA; manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), a box-shaped plastic molded body having a size of 210 × 260 × 20 and a thickness of 1.2 mm and opening upward was obtained by injection molding.

【0046】・樹脂シールド体作製工程S2:成形段階
S21では、プラスチック成形品の原料として、ABS
樹脂(商品名サイコラックスEPX;宇部サイコン製)を
使用して、先ず0.2mmのシード状物を作製し、次い
で真空成形により、前記プラスチック成形体内面に密着
的に積層する箱形形状の樹脂体を得た。 導電層付与段階S22(S221):次の各段を経ること
で、前記樹脂体の所要面に導電層が形成された樹脂シー
ルド体が作製された。導電化前処理段S2211では、
硫酸ナトリウム20g/Lおよびリン酸ナトリウム20
g/Lを含有する脱脂液に、温度50℃、4分間の条件
で浸漬することで脱脂を行ない、水洗後、無水クロム酸
400g/Lおよび98%硫酸400g/Lからなるエッ
チング液に、68℃の温度下で10分浸漬を行ないエッ
チングを施した。続いて充分な水洗を行なった後に35
%塩酸50ml/Lの室温中和液に1分間浸漬させて中
和を行なった。続いて、水洗および35%塩酸180m
l/Lのプレディップ槽への浸漬を行なった後に、パラ
ジウム・スズ触媒(商品名 キャタリストC;奥野製薬工
業製)30ml/Lおよび35%塩酸200ml/Lから
なるキャタリスト浴に、温度35℃、2分間の条件で浸
漬した。次いで水洗を施し、表面活性化剤(商品名 アク
セラレータX;奥野製薬工業製)0.5g/Lおよび98%
硫酸100ml/Lからなるアクセラレータ浴に浸漬さ
せて、触媒金属としてのパラジウムを前記樹脂シールド
体表面に充分に付与し、最終的に水洗を行なった。導電
化段S2212では、無電解銅メッキ浴(商品名 TSP
−810無電解銅標準処方;奥野製薬製)に、温度55
℃、30分間の条件で浸漬、約2μmの無電解銅メッキ
層を析出させた。第2導電化段S2213では、無電解
ニッケルメッキ浴(商品名 TSP−48ニッケル標準処
方;奥野製薬製)に、温度50℃、10分間の条件で浸漬
させて、約0.3μm無電解ニッケルメッキ層を析出さ
せた。
-Resin shield manufacturing step S2: In the molding step S21, ABS is used as a raw material for a plastic molded product.
Using a resin (trade name: Psycholux EPX; manufactured by Ube Sycon), a 0.2 mm seed-like material is first prepared, and then a box-shaped resin that is tightly laminated on the inner surface of the plastic molded body by vacuum molding. I got a body. Conductive layer providing step S22 (S221): Through the following steps, a resin shield body having a conductive layer formed on a required surface of the resin body was produced. In the pre-conductivity treatment step S2211,
Sodium sulfate 20 g / L and sodium phosphate 20
g / L in a degreasing solution at a temperature of 50 ° C. for 4 minutes to perform degreasing. Etching was performed by immersion at a temperature of 10 ° C. for 10 minutes. Then, after sufficient washing, 35
Neutralization was performed by immersion in a room temperature neutralizing solution of 50% hydrochloric acid / L for 1 minute. Then, wash with water and 180% of 35% hydrochloric acid.
After immersion in a 1 / L pre-dip tank, a palladium-tin catalyst (trade name: Catalyst C; manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) was placed in a catalyst bath consisting of 30 ml / L and 35% hydrochloric acid 200 ml / L at a temperature of 35%. C. for 2 minutes. Then, it is washed with water, and a surface activator (trade name: Accelerator X; manufactured by Okuno Pharmaceutical Industries) 0.5 g / L and 98%
It was immersed in an accelerator bath composed of 100 ml / L of sulfuric acid to sufficiently apply palladium as a catalyst metal to the surface of the resin shield, and finally washed with water. In the conductive stage S2212, an electroless copper plating bath (trade name: TSP
-810 electroless copper standard recipe;
It was immersed at 30 ° C. for 30 minutes to deposit an electroless copper plating layer of about 2 μm. In the second conductive stage S2213, the substrate is immersed in an electroless nickel plating bath (trade name: TSP-48 nickel standard prescription; manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) at a temperature of 50 ° C. for 10 minutes to obtain an electroless nickel plating of about 0.3 μm. The layers were deposited.

【0047】接着層付与工程S3:高分子化合物として
のアクリル酸ブチル60重量部、アクリル酸エチル40
重量部およびアクリル酸5重量部からなるアクリル系共
重合体100重量部をトルエンに溶解させ、ここにホリ
ウレタン系架橋剤5重量%および加熱膨張物質として熱
膨張性微小球(商品名 マツモトフイクロスフェア F−
50D;松本油脂製)50重量%を加えたものを接着剤と
した。そして前記樹脂シールド体を所要形状の木型の治
具で覆い、外側の被着予定部位だけに前記接着剤を乾燥
厚さが40μmとなるようにスプレー塗布して接着層を
形成した。
Adhesive layer applying step S3: 60 parts by weight of butyl acrylate as a polymer compound, 40 parts of ethyl acrylate
100 parts by weight of an acrylic copolymer composed of 5 parts by weight of acrylic acid and 5 parts by weight of acrylic acid are dissolved in toluene, and 5% by weight of a urethane-based crosslinking agent and heat-expandable microspheres (trade name: Matsumoto Fibers) as a heat-expanding substance Fair F-
50D (Matsumoto Yushi) was added as an adhesive. Then, the resin shield body was covered with a wooden jig having a required shape, and the adhesive was spray-coated only on an outer portion to be attached so as to have a dry thickness of 40 μm to form an adhesive layer.

【0048】組立工程S4:前記接着層付与工程S3で
接着層が形成された樹脂シールド体と、前記プラスチッ
ク成形体とを積層状態に保持し、手で約100Nの加重
が掛かるように均等に押さえつける作業を場所を変えな
がら10回行ない、該樹脂シールド体および前記プラス
チック成形体を積層・一体化させた。
Assembling step S4: The resin shield body on which the adhesive layer is formed in the adhesive layer applying step S3 and the plastic molded body are held in a laminated state and pressed down evenly by hand so that a load of about 100 N is applied. The operation was performed 10 times while changing the location, and the resin shield body and the plastic molded body were laminated and integrated.

【0049】・評価項目、評価方法および結果(物性) プラスチック成形体と樹脂シールド体との接着力:評
価方法:前記プラスチック成形体および樹脂シールド体
接着・積層した導電性プラスチック成形品から、長さ2
10mm幅20mmmの試験片を作製した。そしてこの
試験片の樹脂シールド体層の端部より50mm程度をプ
ラスチック成形体から引き剥がした後、該成形体を瞬間
接着剤で厚さ0.5mmのアルミニウム板に固定し、該
樹脂シールド体の引き剥がし済端面を引っ張り試験機チ
ャックでつかんで90度引き剥がし強度を測定した。こ
の際、JIS Z 0237「粘着テープ・粘着シート試
験方法」を参考として、90度引き剥がし治具および粘
着力の測定は同一とした(接着層(粘着体)、該接着層の
幅および組立(圧着)方法仕方は相違する)。下記の表1
に示す如く、充分な接着力が確認された。 密着性:JIS H 8504に規定される「めっきの
密着性試験」における「テープ試験方法」にしたがって
評価した。すなわち、導電層表面を貫通する刻み目によ
り区切られた一辺2mmの正方形25個に対して、所定
の処理を施した後に剥離していない箇所を数えた。この
結果、下記の表2の如く、粘着テープによるクロスカッ
ト面への剥離試験を行っても剥がれは全く起こらず、良
好な密着性が確認された。 EMIシールド性:KEC法準拠のシールド効果測定
治具に、作製した導電性プラスチック成形品から150
×150mm角の試験片を切り出して取り付け、トラッ
キングジェネレータを備えるスペクトラムアナライザ
(商品名 8560A;ヒューレット・パッカード製)によ
り1MHz〜1GHzの周波数帯域で入射波の強度に対
する透過波の強度の減衰比をシールド効果として、電界
波および磁界波のシールド特性を夫々測定した。参考と
して、シールド効果とその品質の対照表を下記の表3に
載せる。 評価の結果、下記の表4に示す如く、1MHz〜1GH
zで電子機器として充分に使用できるシールド効果が確
認された。
Evaluation items, evaluation methods and results (physical properties) Adhesive strength between plastic molded article and resin shield: Evaluation method: length of conductive plastic molded article bonded and laminated with plastic molded article and resin shield 2
A test piece having a width of 10 mm and a width of 20 mm was prepared. Then, about 50 mm from the end of the resin shield body layer of the test piece was peeled off from the plastic molded body, and the molded body was fixed to an aluminum plate having a thickness of 0.5 mm with an instantaneous adhesive. The peeled end face was gripped by a tensile tester chuck, and the peel strength was measured by 90 degrees. At this time, referring to JIS Z 0237 "Testing method for pressure-sensitive adhesive tape / pressure-sensitive adhesive sheet", the 90-degree peeling jig and the measurement of the pressure-sensitive adhesive force were the same (adhesive layer (adhesive), width and assembly of the adhesive layer (adhesive)). The method of crimping is different). Table 1 below
As shown in the figure, sufficient adhesive strength was confirmed. Adhesion: Evaluated according to “Tape test method” in “Plating adhesion test” specified in JIS H8504. That is, the portions that were not peeled off after performing a predetermined treatment on 25 squares each having a side of 2 mm and separated by a notch penetrating the surface of the conductive layer were counted. As a result, as shown in Table 2 below, no peeling occurred even when a peeling test was performed on the cross-cut surface with the adhesive tape, and good adhesion was confirmed. EMI shielding performance: 150 mm from the prepared conductive plastic molded article to a KEC-compliant shielding effect measuring jig
A spectrum analyzer equipped with a tracking generator by cutting out and mounting a × 150 mm square test specimen
(Trade name: 8560A; manufactured by Hewlett-Packard) was used to measure the shielding characteristics of the electric wave and the magnetic wave in the frequency band of 1 MHz to 1 GHz, using the attenuation ratio of the intensity of the transmitted wave to the intensity of the incident wave as the shielding effect. For reference, a comparison table of the shielding effect and its quality is shown in Table 3 below. As a result of the evaluation, as shown in Table 4 below, 1 MHz to 1 GH
At z, a shielding effect that can be sufficiently used as an electronic device was confirmed.

【0050】・評価項目、評価方法および結果(リサイ
クル性) 廃棄後の再生(リサイクル)率:得られた導電性プラス
チック成形品を、150℃の熱風循環型高温乾燥機内に
得られた導電性プラスチック成形品を10分間放置し
た。この結果、前記導電性プラスチック成形品を構成す
るプラスチック成形体および樹脂シールド体は手で容易
に分離可能であった。前記プラスチック成形体は、粉砕
して再成形可能であり、この粉砕物から所定のJIS試
験片を成形し、引っ張り強度、破断伸びおよびアイゾッ
ト衝撃強度等の各物性値を測定したところ、該物性値の
変動は同プラスチック原料のバージン材から成形される
JIS試験片のそれと比較して±10%以内であり、良
好な物性を有する再生品であることが確認された。また
処理前重量(導電性プラスチック成形品重量)と、処理後
(再生成形品)重量とから計算される再生率は約83重量
%と良好であった。更に前記樹脂シールド体中に含有さ
れる各種樹脂材料および金属材料の重量は、夫々12重
量%および2重量%であり、これらについてもガス化溶
融炉等による処理でリサイクル可能である。
Evaluation items, evaluation methods and results (recyclability) Recycling (recycling) rate after disposal: The obtained conductive plastic molded product was treated with a conductive plastic obtained in a hot air circulation type high temperature dryer at 150 ° C. The molded article was left for 10 minutes. As a result, the plastic molded article and the resin shield constituting the conductive plastic molded article could be easily separated by hand. The plastic molded body is crushable and re-moldable. A predetermined JIS test piece is formed from the crushed material, and various physical properties such as tensile strength, elongation at break and Izod impact strength are measured. Is within ± 10% of that of the JIS test piece molded from the virgin material of the plastic raw material, and it was confirmed that the recycled product had good physical properties. Also, the weight before processing (weight of the conductive plastic molded product) and the weight after processing
(Recycled molded article) The regeneration rate calculated from the weight was as good as about 83% by weight. Furthermore, the weights of various resin materials and metal materials contained in the resin shield body are 12% by weight and 2% by weight, respectively, and these can also be recycled by treatment in a gasification melting furnace or the like.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上に説明した如く、本発明に係る導電
性プラスチック成形品よれば、加熱により剥離する接着
剤から形成される接着層により、導電性を有するシール
ド体と、プラスチック材料の大部分を占めるプラスチッ
ク成形体を容易に分離可能としたので、該成形品を廃棄
後のマテリアルリサイクルに供した際に、高い再生率で
導電性プラスチック成形品を構成するプラスチック材料
を回収し得る利点がある。また本発明の製造方法は、前
述した導電性プラスチック成形品を好適に効率良く製造
し得るものである。
As described above, according to the conductive plastic molded product according to the present invention, the conductive shield and the plastic material are largely formed by the adhesive layer formed from the adhesive which is peeled off by heating. , The plastic molded body occupying the same is easily separable, so that when the molded article is subjected to material recycling after disposal, there is an advantage that the plastic material constituting the conductive plastic molded article can be recovered at a high regeneration rate. . Further, the production method of the present invention is capable of producing the above-mentioned conductive plastic molded article suitably and efficiently.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る導電性プラスチック成形品の一部
切り欠き斜視図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of a conductive plastic molded product according to the present invention.

【図2】図1におけるII−IIの拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line II-II in FIG.

【図3】本発明の好適な実施例に係る導電性プラスチッ
ク成形品の製造方法を示す工程図である。
FIG. 3 is a process chart showing a method for manufacturing a conductive plastic molded product according to a preferred embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 プラスチック成形体 14 接着層 15 樹脂体 16 樹脂シールド体 18 導電層 Reference Signs List 12 plastic molded body 14 adhesive layer 15 resin body 16 resin shield body 18 conductive layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 9/00 H05K 9/00 X // B29K 701:00 B29K 701:00 B29L 9:00 B29L 9:00 Fターム(参考) 4F100 AC01G AK01A AK01B AK01C AK25G AK51G AK74 AR00B AT00A BA03 BA07 BA10A BA10B CA21B CB05 CC00B DE04G EC182 EH361 EH462 EH661 EH711 EJ151 GB41 JA02G JB20G JD08 JG01 JG01B JL14 JL16 4F211 AB02 AD20 AD33 AE03 AG01 AG03 AH33 TA04 TC02 TC09 TD16 TN50 TN53 TN58 TQ01 4K024 AA03 AA09 AB02 AB17 BA12 BB18 GA16 5E321 BB23 BB32 GG05 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 9/00 H05K 9/00 X // B29K 701: 00 B29K 701: 00 B29L 9:00 B29L 9:00 F-term (reference) 4F100 AC01G AK01A AK01B AK01C AK25G AK51G AK74 AR00B AT00A BA03 BA07 BA10A BA10B CA21B CB05 CC00B DE04G EC182 EH361 EH462 EH661 EH711 EJ151 GB41 JA02G JB20G JD08 JG01 A03J02A01 TN53 TN58 TQ01 4K024 AA03 AA09 AB02 AB17 BA12 BB18 GA16 5E321 BB23 BB32 GG05

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電気的に不導体なプラスチック原料から
所要形状に成形したプラスチック成形体(12)と、 導電性を付与する導電層(18)が形成され、前記プラスチ
ック成形体(12)に積層される樹脂シールド体(16)と、 前記プラスチック成形体(12)と樹脂シールド体(16)との
間に介在して、両部材(12,16)を接着し、加熱により剥
離性を発現する接着層(14)とからなることを特徴とする
導電性プラスチック成形品。
A plastic molded body (12) molded into a required shape from an electrically non-conductive plastic raw material and a conductive layer (18) for imparting conductivity are formed and laminated on the plastic molded body (12). Resin shield body (16), which is interposed between the plastic molded body (12) and the resin shield body (16), adheres both members (12, 16), and exhibits peelability by heating. A conductive plastic molded product comprising an adhesive layer (14).
【請求項2】 前記接着層(14)は、加熱により溶融する
ホットメルト型粘接着剤からなる請求項1記載の導電性
プラスチック成形品。
2. The conductive plastic molded article according to claim 1, wherein said adhesive layer (14) is made of a hot-melt type adhesive which is melted by heating.
【請求項3】 前記接着層(14)には、加熱により膨張し
得る加熱膨張物質が含有されている請求項1記載の導電
性プラスチック成形品。
3. The conductive plastic molded article according to claim 1, wherein said adhesive layer (14) contains a heat-expandable substance expandable by heating.
【請求項4】 前記樹脂シールド体(16)の厚さは、前記
プラスチック成形体(12)の厚さの20%以下である請求
項1〜3の何れかに記載の導電性プラスチック成形品。
4. The conductive plastic molded article according to claim 1, wherein the thickness of the resin shield body (16) is 20% or less of the thickness of the plastic molded body (12).
【請求項5】 電気的に不導体なプラスチック原料から
所要形状のプラスチック成形体(12)を成形し、 プラスチック原料からなるシート状物を成形すること
で、前記プラスチック成形体(12)へ被着し得る樹脂体(1
5)を作製した後、この樹脂体(15)の導電化すべき所要面
に導電層(18)を形成して樹脂シールド体(16)を作製し、 次いで前記プラスチック成形体(12)と樹脂シールド体(1
6)との被着予定部位に、加熱により剥離性を発現する接
着剤を付与することで接着層(14)を形成して、この接着
層(14)により該プラスチック成形体(12)および樹脂シー
ルド体(16)を接着するようにしたことを特徴とする導電
性プラスチック成形品の製造方法。
5. A plastic molded body (12) having a required shape is formed from an electrically non-conductive plastic raw material, and a sheet-like material made of the plastic raw material is molded to adhere to the plastic molded body (12). Resin body (1
After preparing 5), a conductive layer (18) is formed on a required surface of the resin body (15) to be made conductive, and a resin shield body (16) is manufactured.Then, the plastic molded body (12) and the resin shield are formed. Body (1
6), the adhesive layer (14) is formed by applying an adhesive which exhibits releasability by heating, and the plastic molded body (12) and the resin are formed by the adhesive layer (14). A method for producing a conductive plastic molded product, wherein a shield body (16) is bonded.
【請求項6】 前記接着剤は、加熱により溶融するホッ
トメルト型粘接着剤である請求項5記載の導電性プラス
チック成形品の製造方法。
6. The method for producing a conductive plastic molded article according to claim 5, wherein the adhesive is a hot-melt adhesive which melts by heating.
【請求項7】 前記接着剤には、加熱により膨張し得る
加熱膨張物質が含有されている請求項5記載の導電性プ
ラスチック成形品の製造方法。
7. The method for producing a conductive plastic molded product according to claim 5, wherein the adhesive contains a heat-expandable substance that can be expanded by heating.
【請求項8】 前記導電層(18)は、無電解メッキの如き
湿式メッキ反応に対し触媒効果を発現する触媒金属の如
き物質を前記樹脂シールド体(16)に付与し、次いでこれ
に湿式メッキを施すことで形成される請求項5〜7の何
れかに記載の導電性プラスチック成形品の製造方法。
8. The conductive layer (18) is provided with a substance such as a catalytic metal that exhibits a catalytic effect on a wet plating reaction such as electroless plating to the resin shield body (16). The method for producing a conductive plastic molded product according to any one of claims 5 to 7, wherein the molded product is formed by performing the following.
【請求項9】 前記導電層(18)は、導電性フィラーの如
き導電性物質を含有した高分子化合物からなる導電性塗
料の付与により形成される請求項5〜7の何れかに記載
の導電性プラスチック成形品の製造方法。
9. The conductive layer according to claim 5, wherein said conductive layer is formed by applying a conductive paint made of a polymer compound containing a conductive substance such as a conductive filler. Method for manufacturing conductive plastic molded products.
【請求項10】 前記導電層(18)は、真空蒸着の如き乾
式メッキにより形成される請求項5〜7の何れかに記載
の導電性プラスチック成形品の製造方法。
10. The method according to claim 5, wherein the conductive layer is formed by dry plating such as vacuum deposition.
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