JP2001520589A - 化学物質供給システムとその使用 - Google Patents
化学物質供給システムとその使用Info
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- B24B57/00—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 以下からなるシステムを特徴とする、化学的・機械的研磨中の化学物質供 給システム: a)互いに連結しており、必要なら、均一に混合するための攪拌器又は他の装置 を備え、かつ、必要なら、圧力をかけることができる貯蔵タンクと作業タンク、 b)バルブを備え、下り勾配に設置され、かつ、必要なら、圧力をかけることが できる配管、 c)必要なら、高純度化学物質に適する圧縮空気の供給、 d)必要なら、高純度水を供給するためのシステム。 2. 固体含有媒体を運ぶ配管がスタチック ミキサーを備えていることを特徴 とする、請求項1に記載の供給システム。 3. 前記配管を下り勾配に設置することにより、化学物質又はその混合物を重 力の作用で貯蔵タンクに運び戻すことが可能となることを特徴とする、請求項1 又は2に記載の供給システム。 4. 化学物質又はその混合物を圧縮空気の使用によって貯蔵タンクに運び戻す ことができることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の供給シス テム。 5. 汚染を避けるため、運転中圧力をかけることができることを特徴とする、 請求項1〜4のいずれか1項に記載の供給システム。 6. 大気圧より僅か0.3〜5バール高い圧力で運転することを特徴とする、 請求項5に記載の供給システム。 7. 使用する化学物質と接触するようになるすべてのシステム構成成分が、粒 子の摩耗又は溶解による化学物質の汚染を避けるため、強酸性及び強塩基性酸化 媒体の両方に対して不活性な材料でつくられることを特徴とする、請求項1〜6 のいずれか1項に記載のシステム。 8. 使用する化学物質を接触するようになるすべてのシステム構成成分が、該 化学物質に耐蝕性で、かつ、完全又は部分的にフッ素化したか又はフッ素化して いないポリマー炭化水素からなる群から選ばれる材料でつくられることを特徴と する、請求項7に記載の供給システム。 9. 化学的・機械的研磨用懸濁液の調製に請求項1〜8のいずれか1項に記載 の供給システムを使用すること。 10. 化学的・機械的研磨用懸濁液を使用の場所で直接供給するのに請求項1 〜8のいずれか1項に記載の供給システムを使用すること。 11. ウエハー又は半導体回路の製造に必要とする化学的・機械的研磨用懸濁 液の調製に請求項1〜8のいずれか1項に記載の供給システムを使用すること。 12. 以下のa)〜c)を特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の供給 システムの運転方法。 a)1つ以上の計量した固体を1つ以上の中間容器に入れ、 b)1種以上の液体を添加して混合することによりペースト状又は液状に転化さ せ、次いで c)1つ以上の貯蔵又は作業タンクであって、必要なら、運転に必要とする他の 化学物質が既に入れてあるもの、に導入する。
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