JP2001353813A - Multiple metallic foil-covered plate suitable for holing with carbon dioxide gas laser and printed wiring board using multiple metallic foil-covered plate - Google Patents

Multiple metallic foil-covered plate suitable for holing with carbon dioxide gas laser and printed wiring board using multiple metallic foil-covered plate

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JP2001353813A
JP2001353813A JP2000181458A JP2000181458A JP2001353813A JP 2001353813 A JP2001353813 A JP 2001353813A JP 2000181458 A JP2000181458 A JP 2000181458A JP 2000181458 A JP2000181458 A JP 2000181458A JP 2001353813 A JP2001353813 A JP 2001353813A
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JP
Japan
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metal foil
layer
carbon dioxide
copper
hole
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Application number
JP2000181458A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Ikeguchi
信之 池口
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Original Assignee
Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metallic foil-covered plate, using a metallic foil, in which a through hole and/or a blind via hole can be opened by directly irradiating the plate with a carbon dioxide gas laser, even when the surface of the metallic foil is rubbed and cut as well as a highly integrated printed wiring board. SOLUTION: This multiple metallic foil-covered plate with the arranged metallic foil is prepared in such a way that the shiny face of the plate consisting of a copper layer, a nickel layer or a nickel alloy layer hest suitably becomes the nickel layer or the nickel alloy layer. In addition, the shiny face is directly irradiated with the carbon dioxide gas laser of such an output selected from the range of 5-60 mJ and thus the through hole and/or the blind via hole are opened to obtain the printed wiring board.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、炭酸ガスレーザー
を直接金属箔面に照射して小径の貫通孔及び/又はブラ
インドビア孔を形成できる、銅とニッケル又はニッケル
合金層で多重になった多重金属箔を用いた多重金属箔張
板、及びその多重金属箔張板に炭酸ガスレーザーで小径
の孔をあけて作成したプリント配線板に関する。このプ
リント配線板は小型、軽量の半導体プラスチックパッケ
ージ、マザーボード等としての使用に適している。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a multilayered copper and nickel or nickel alloy layer capable of forming a small diameter through hole and / or a blind via hole by directly irradiating a carbon dioxide gas laser to a metal foil surface. The present invention relates to a multiple metal foil clad board using heavy metal foil, and a printed wiring board formed by making a small diameter hole in the multiple metal foil clad board with a carbon dioxide laser. This printed wiring board is suitable for use as a small and lightweight semiconductor plastic package, motherboard or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体プラスチックパッケージ等
に用いられる高密度のプリント配線板には、表層の金属
箔として銅と多重になった多重層金属箔が使用されるこ
とはなかった。又、孔加工において、貫通孔はメカニカ
ルドリルによるドリリング等であけていた。近年、ます
ます孔径が小さくなってきており、0.15mmφ以下の孔径
での設計が実施されてきている。このような小径の孔を
あける場合、加工速度が遅い等の欠点があり、生産性、
作業性等に問題のあるものであった。ブラインドビア孔
は、事前に孔あけする位置の銅箔をエッチング除去して
から、低エネルギーの炭酸ガスレーザーで孔を形成して
いた。この工程は、エッチングフィルムのラミネート接
着、露光、現像、エッチング、フィルム剥離工程などが
あって時間を要し、作業性等に問題があった。銅箔の表
面に黒色酸化銅層を設け、この上から炭酸ガスレーザー
を照射してブラインドビア孔をあける方法がある。しか
しこの場合、銅箔表面の黒色酸化銅層は摩擦により剥落
し易く、この部分にレーザーを照射しても孔があかない
という問題があり、不良品が発生し易かった。また、表
裏の銅箔にあらかじめネガフィルムを使用して所定の方
法で同じ大きさの孔をあけておき、更には内層の銅箔に
も同様の孔を予めエッチングで形成したものを配置して
おき、炭酸ガスレーザーで表裏を貫通する孔を形成しよ
うとすると、内層銅箔の位置ズレ、上下の孔とランドと
の間に隙間を生じ、接続不良、及び表裏のランドが形成
できない等の欠点があった。
2. Description of the Related Art Hitherto, a multi-layer metal foil multiplexed with copper has not been used as a surface metal foil in a high-density printed wiring board used for a semiconductor plastic package or the like. In drilling, the through-hole is drilled by a mechanical drill or the like. In recent years, the hole diameter has become smaller and smaller, and designs with a hole diameter of 0.15 mmφ or less have been implemented. Drilling such small diameter holes has disadvantages such as low processing speed, productivity,
There was a problem with workability and the like. The blind via hole has been formed by etching the copper foil at the position where the hole is to be drilled in advance and then using a low-energy carbon dioxide laser. This process involves laminating and bonding of an etching film, exposure, development, etching, and a film peeling process, which requires time, and has a problem in workability and the like. There is a method in which a black copper oxide layer is provided on the surface of a copper foil, and a carbon dioxide laser is irradiated thereon to form a blind via hole. However, in this case, the black copper oxide layer on the surface of the copper foil was easily peeled off due to friction, and there was a problem that holes were not formed even when this portion was irradiated with a laser, and defective products were easily generated. In addition, a hole of the same size was made in advance by using a negative film on the front and back copper foils in a predetermined manner using a negative film. When trying to form a hole that penetrates the front and back with a carbon dioxide gas laser, there are gaps in the position of the inner copper foil, a gap between the upper and lower holes and the land, poor connection, and the inability to form the front and back lands was there.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の問題
点を解決した、炭酸ガスレーザーを直接金属箔上に照射
して孔あけできる金属箔を用いた金属箔張板、及びその
金属箔張板の金属箔上に炭酸ガスレーザーを直接照射し
て小径の貫通孔及び/又はブラインドビア孔を形成した
高密度のプリント配線板の提供を目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems, and provides a metal foil-clad board using a metal foil which can be pierced by irradiating a carbon dioxide laser directly onto the metal foil, and the metal foil. An object of the present invention is to provide a high-density printed wiring board in which a small diameter through-hole and / or a blind via hole are formed by directly irradiating a carbon dioxide laser on a metal foil of a veneer.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、熱硬化性樹脂
組成物を絶縁層とする金属箔張板の外層として、銅とニ
ッケル又はニッケル合金層が交互に層となった多重層金
属箔を配置した、炭酸ガスレーザーの直接照射により孔
あけ可能であることを特徴とする炭酸ガスレーザーによ
る孔あけに適した多重金属箔張板を提供する。さらに本
発明は、5〜60mJから選ばれたエネルギー炭酸ガス
レーザーを上記多重金属箔張板の多重金属箔上に直接照
射して、孔径80〜180μmの貫通孔及び/又はブラ
インドビア孔を形成して作成されることを特徴とするプ
リント配線板を提供する。本発明によれば、小径の貫通
孔及び/又はブラインドビア孔を不良品を発生すること
なく容易にあけることが可能であり、かつ事前に銅箔を
エッチング除去するなどの時間を節約できるとともに、
高速で小径の孔が効率的に作成できるという利点を有す
る。
According to the present invention, there is provided a multi-layer metal foil in which copper and nickel or a nickel alloy layer are alternately formed as an outer layer of a metal foil clad board having a thermosetting resin composition as an insulating layer. The present invention provides a multi-layer metal foil clad board suitable for drilling by a carbon dioxide gas laser, wherein the metal foil can be drilled by direct irradiation of a carbon dioxide gas laser. Further, in the present invention, an energy carbon dioxide gas laser selected from 5 to 60 mJ is directly irradiated on the multiple metal foils of the multiple metal foil clad board to form through holes and / or blind via holes having a hole diameter of 80 to 180 μm. Provided is a printed wiring board characterized by being produced by: According to the present invention, a small-diameter through hole and / or a blind via hole can be easily formed without generating a defective product, and time for etching and removing a copper foil in advance can be saved.
This has the advantage that small holes can be efficiently created at high speed.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の多重金属箔張板に使用す
る金属箔は、銅とニッケル層又はニッケル合金層が多重
になった多重金属箔である。炭酸ガスレーザーを照射す
る多重金属箔のシャイニー面とは反対面の樹脂と接着す
るマット面は、樹脂の密着性を上げるために、好適には
一般に公知の金属箔張板用金属箔表面処理が施されたも
のであることが好ましい。この多重金属箔のシャイニー
面を外側にして絶縁層である熱硬化性樹脂組成物層と積
層し、連続的或いは不連続に加熱、加圧して多重金属箔
張板或いは多層板を作成する。このようにして得られた
多重金属箔張板、多層板は、表面に少々のこすれが生じ
ても多重金属箔上に炭酸ガスレーザーを直接照射するこ
とにより不良品を生ずることなく小径の孔あけが可能で
ある。孔あけ後、表裏及び内層の多重金属箔又は銅箔に
はバリが発生する。この場合、機械的研磨でバリをとる
こともできるが、寸法変化等の点から、薬液によるエッ
チングが好適である。具体的には、高圧でエッチング液
を吹き付けるか、吸引して孔内を通し、内外層の多重金
属箔又は銅箔のバリを溶解除去する。又、ウェットブラ
ストによる研削も使用可能である。その後、これを銅メ
ッキでメッキアップして得られる両面金属箔張板を用
い、表裏に回路形成を行い、定法にてプリント配線板と
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The metal foil used for the multiple metal foil clad board of the present invention is a multiple metal foil in which copper and a nickel layer or a nickel alloy layer are multiplexed. The matte surface that adheres to the resin opposite to the shiny surface of the multi-layered metal foil irradiated with the carbon dioxide gas laser is preferably a generally known metal foil surface treatment for a metal foil clad board in order to increase the adhesion of the resin. It is preferable that it is performed. The multi-metal foil is laminated with the thermosetting resin composition layer as an insulating layer with the shiny side of the multi-metal foil facing outside, and heated or pressed continuously or discontinuously to produce a multi-metal foil clad board or a multilayer board. The multiple metal foil clad board and multilayer board thus obtained can be drilled with a small diameter without causing defective products by directly irradiating the carbon dioxide gas laser onto the multiple metal foil even if the surface slightly rubs. Is possible. After drilling, burrs are generated on the front and back and inner layers of the multiple metal foils or copper foils. In this case, burrs can be removed by mechanical polishing, but etching with a chemical is preferred from the viewpoint of dimensional change and the like. More specifically, an etching solution is sprayed or suctioned at a high pressure to pass through the hole to dissolve and remove burrs on the inner and outer layers of the multiple metal foil or copper foil. Grinding by wet blasting can also be used. Thereafter, a circuit is formed on the front and back sides using a double-sided metal foil-clad board obtained by plating up with copper plating, and a printed wiring board is formed by a standard method.

【0006】本発明で使用する多重金属箔張板の金属箔
は、銅とニッケル又はニッケル合金との多重層を形成し
ており、80〜180μmの貫通孔及び/又はブラインドビア
孔を形成するのに、5〜60mJのエネルギーを直接照射し
て孔が形成できる多重金属箔である。多重層は、好適に
は、ニッケル又はニッケル合金層が最外層(金属箔張板
の表面)となるように多重層を形成して得られた金属箔
が使用される。この金属箔の、シャイニー面とは反対側
の樹脂と接着するマット面は、一般に公知の銅箔板用処
理を施したものを好適には使用する。例えば、マット面
とする多重金属箔表面に銅-コバルト-ニッケルのメッキ
による粗化処理後、コバルト処理或いはコバルト-ニッ
ケルメッキ処理を施したものが使用される。この樹脂側
に使用される多重金属箔面には数μmの凹凸が形成され
ている。又、この多重金属箔張板のシャイニー面には凹
凸があっても無くても良いが、その後の薬液による薄化
処理を考えると、凹凸はできるだけ小さい方が好まし
い。このような処理を施した後、変色、錆等を防ぐため
にクロム酸化合物の単独皮膜処理、クロム酸化物と亜鉛
及び/又は亜鉛酸化物との混合皮膜処理等、一般に公知
の防錆処理を施すのが好ましい。その後、必要に応じ
て、シランカップリング剤処理が施される。この多重金
属箔の厚みは、好適には厚さ3〜12μmのものが使用され
る。内層板としては、好適には厚さ9〜35μmの多重金属
箔又は銅箔が使用される。銅箔は特に限定はないが、電
解により形成されたものを好適に使用する。
The metal foil of the multi-metal foil clad board used in the present invention forms a multi-layer of copper and nickel or a nickel alloy, and forms a through hole and / or a blind via hole of 80 to 180 μm. In addition, this is a multi-layered metal foil capable of forming holes by directly irradiating energy of 5 to 60 mJ. As the multilayer, a metal foil obtained by forming the multilayer such that the nickel or nickel alloy layer is the outermost layer (the surface of the metal foil clad plate) is preferably used. As the mat surface of the metal foil to be bonded to the resin on the side opposite to the shiny surface, a surface subjected to a generally known treatment for a copper foil plate is preferably used. For example, a material obtained by subjecting a surface of a multi-metal foil serving as a mat surface to a roughening treatment by plating with copper-cobalt-nickel and then a cobalt treatment or a cobalt-nickel plating treatment is used. The multiple metal foil surface used on the resin side has irregularities of several μm. The shiny surface of this multi-layer metal foil clad plate may or may not have irregularities, but considering the subsequent thinning treatment with a chemical solution, it is preferable that the irregularities be as small as possible. After such treatment, a generally known rust preventive treatment such as a single film treatment of a chromic acid compound or a mixed film treatment of chromium oxide and zinc and / or zinc oxide is performed to prevent discoloration and rust. Is preferred. Thereafter, a silane coupling agent treatment is performed as necessary. The thickness of the multiple metal foil is preferably 3 to 12 μm. As the inner layer plate, a multi-metal foil or a copper foil having a thickness of 9 to 35 μm is preferably used. The copper foil is not particularly limited, but a copper foil formed by electrolysis is preferably used.

【0007】本発明の多重金属箔張板は、少なくとも1
つの最外層(金属箔張板の表面)に多重金属箔の層が存
在する金属箔張板、多層板であり、熱硬化性樹脂組成物
としては、基材補強されたもの、フィルム基材のもの、
補強基材の無い樹脂単独のもの等が使用可能である。し
かしながら、剛性の点からは、ガラス布基材のものが好
ましい。
[0007] The multiple metal foil clad board of the present invention has at least one
The outermost layer (the surface of the metal foil clad board) is a metal foil clad board and a multilayer board in which a layer of multiple metal foils is present. thing,
A resin alone without a reinforcing substrate can be used. However, from the viewpoint of rigidity, a glass cloth substrate is preferable.

【0008】多重金属箔は、銅とニッケル又はニッケル
合金が多重層となったものであり、少なくとも層が3重
以上であり、好適には多重金属箔張板の最外層(表面)
がニッケル又はニッケル合金層となったものが使用され
る。また、多重金属箔の銅層をシャイニー面として最外
層(表面)とする場合には、シャイニー面の銅箔の厚さ
は3μm以下とするのが好ましい。この場合、表面に凹凸
が数μm形成されている方が孔の形成上好ましい。銅層
は、これ以上厚いと孔形成が困難となる。
[0008] The multi-metal foil is a multi-layer of copper and nickel or a nickel alloy, and has at least three or more layers, preferably the outermost layer (surface) of the multi-metal foil clad board.
Is a nickel or nickel alloy layer. When the copper layer of the multiple metal foil is used as the outermost layer (surface) as a shiny surface, the thickness of the copper foil on the shiny surface is preferably 3 μm or less. In this case, it is preferable for the formation of the holes that the unevenness is formed to be several μm on the surface. If the copper layer is thicker, it becomes difficult to form holes.

【0009】又、高密度の回路を作成する場合、張り合
わせる表層の多重金属箔は、最初から薄いものを使用で
きるが、好適には、9〜12μmの厚い多重金属箔を積層成
形しておいて、炭酸ガスレーザーなどで孔加工後、表層
の多重金属箔をエッチング液で2〜7μm、好適には3〜5
μmまで薄くして、金属メッキ、好ましくは銅メッキし
て使用する。こうすることにより、回路のショートやパ
ターン切れ等の不良の発生もなく、高密度のプリント配
線板を作成することができる。更には、加工速度はドリ
ルであける場合に比べて格段に速く、生産性も良好で、
経済性にも優れているものが得られる。
When a high-density circuit is formed, a thin multi-layer metal foil of the surface layer to be laminated can be used from the beginning, but preferably, a multi-layer metal foil having a thickness of 9 to 12 μm is laminated and formed. After drilling with a carbon dioxide laser or the like, the surface of the multi-layer metal foil is etched with an etchant at 2 to 7 μm, preferably 3 to 5 μm.
It is used after being thinned to μm and plated with metal, preferably copper. By doing so, a high-density printed wiring board can be produced without occurrence of a defect such as a short circuit or a broken pattern. Furthermore, the processing speed is much faster than when drilling, and the productivity is good.
What is excellent in economical efficiency can be obtained.

【0010】本発明の片面又は両面多重金属箔張板は、
積層成形時にBステージシートを置き、その外側に多重
金属箔を配置するか、Bステージ樹脂付き多重金属箔を
配置し、その外側にステンレス板を使用して、加熱、加
圧、好ましくは真空下に積層成形して得られる。又、内
層板を使用し、必要により内層板の多重金属箔表面又は
銅箔表面に化学処理を施し、その外側にBステージシー
トと多重金属箔、又はBステージ樹脂付き多重金属箔を
配し、同様に積層成形して多層板を作成する。なお、両
面多重金属箔張板の場合、一方の金属箔は銅箔であって
もよい。積層法としては、連続的に内層板に加熱ロール
で加圧下に張り付け、その後、熱硬化する方法等も使用
できる。この加熱時に多重層を構成する各金属は少なく
とも一部合金化し、少しくらいの擦れでも剥落すること
なく、炭酸ガスレーザー照射での孔あけ不良が発生しな
い。
The single-sided or double-sided multi-layered metal foil clad of the present invention comprises:
Place the B stage sheet at the time of lamination molding and arrange multiple metal foils on the outside, or arrange multiple metal foils with B stage resin, and use a stainless steel plate on the outside, heat, pressurize, preferably under vacuum It is obtained by lamination molding. In addition, using an inner layer plate, if necessary, a chemical treatment is applied to the surface of the multi-layer metal foil or the surface of the copper foil of the inner layer plate, and a B-stage sheet and a multi-layer metal foil, or a multi-layer metal foil with a B-stage resin are arranged outside thereof, Similarly, a multilayer board is formed by lamination molding. In the case of a double-sided multiple metal foil clad board, one of the metal foils may be a copper foil. As the laminating method, a method of continuously attaching the inner layer plate to the inner layer plate under pressure with a heating roll, and then performing thermosetting may be used. At the time of this heating, each metal constituting the multi-layer is at least partially alloyed, does not peel off even with a slight rub, and does not cause poor drilling by carbon dioxide laser irradiation.

【0011】多重金属箔張板の基材としては、一般に公
知の、有機、無機の織布、不織布が使用できる。具体的
には、無機の繊維としては、E、S、D、Mガラス等の
繊維等が挙げられる。又、有機繊維としては、全芳香族
ポリアミド、液晶ポリエステル、ポリベンザゾールの繊
維等が挙げられる。これらは、混抄でも良い。ポリイミ
ドフィルム等のフィルム類も使用可能である。
As the base material of the multi-layer metal foil clad board, generally known organic and inorganic woven fabrics and nonwoven fabrics can be used. Specifically, examples of the inorganic fibers include fibers such as E, S, D, and M glass. Examples of the organic fibers include wholly aromatic polyamide, liquid crystal polyester, and polybenzazole. These may be mixed. Films such as a polyimide film can also be used.

【0012】本発明の多重金属箔張板の熱硬化性樹脂と
しては、一般に公知の熱硬化性樹脂が使用される。具体
的には、エポキシ樹脂、多官能性シアン酸エステル樹
脂、多官能性マレイミドーシアン酸エステル樹脂、多官
能性マレイミド樹脂、不飽和基含有ポリフェニレンエー
テル樹脂等が挙げられ、1種或いは2種類以上が組み合わ
せて使用される。出力の高い炭酸ガスレーザー照射によ
る加工でのスルーホール形状の点からは、ガラス転移温
度が150℃以上の熱硬化性樹脂組成物が好ましく、耐湿
性、耐マイグレーション性、吸湿後の電気的特性等の点
から多官能性シアン酸エステル樹脂組成物が好適であ
る。内層板に使用する樹脂も同様である。
As the thermosetting resin of the multiple metal foil clad board of the present invention, a generally known thermosetting resin is used. Specifically, an epoxy resin, a polyfunctional cyanate ester resin, a polyfunctional maleimide-cyanate ester resin, a polyfunctional maleimide resin, an unsaturated group-containing polyphenylene ether resin, and the like, and one or more kinds Are used in combination. From the viewpoint of through-hole shape in processing by high-output carbon dioxide laser irradiation, a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of 150 ° C or higher is preferable, and has moisture resistance, migration resistance, and electrical characteristics after moisture absorption. In view of the above, a polyfunctional cyanate resin composition is preferred. The same applies to the resin used for the inner layer plate.

【0013】本発明の好適な熱硬化性樹脂分である多官
能性シアン酸エステル化合物とは、分子内に2個以上の
シアナト基を有する化合物である。具体的に例示する
と、1,3-又は1,4-ジシアナトベンゼン、1,3,5-トリシア
ナトベンゼン、1,3-、1,4-、1,6-、1,8-、2,6-又は2,7-
ジシアナトナフタレン、1,3,6-トリシアナトナフタレ
ン、4,4-ジシアナトビフェニル、ビス(4-ジシアナトフ
ェニル)メタン、2,2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパ
ン、2,2-ビス(3,5-ジブロモー4-シアナトフェニル)プロ
パン、ビス(4-シアナトフェニル)エーテル、ビス(4-シ
アナトフェニル)チオエーテル、ビス(4-シアナトフェニ
ル)スルホン、トリス(4-シアナトフェニル)ホスファイ
ト、トリス(4-シアナトフェニル)ホスフェート、および
ノボラックとハロゲン化シアンとの反応により得られる
シアネート類などである。
The polyfunctional cyanate compound which is a preferred thermosetting resin component of the present invention is a compound having two or more cyanato groups in a molecule. Specific examples include 1,3- or 1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5-tricyanatobenzene, 1,3-, 1,4-, 1,6-, 1,8-, 2 , 6- or 2,7-
Dicyanatonaphthalene, 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4,4-dicyanatobiphenyl, bis (4-dicyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2- Bis (3,5-dibromo-4-cyanatophenyl) propane, bis (4-cyanatophenyl) ether, bis (4-cyanatophenyl) thioether, bis (4-cyanatophenyl) sulfone, tris (4-cy (Anatophenyl) phosphite, tris (4-cyanatophenyl) phosphate, and cyanates obtained by reacting novolak with cyanogen halide.

【0014】これらのほかに特公昭41-1928、同43-1846
8、同44-4791、同45-11712、同46-41112、同47-26853及
び特開昭51-63149号公報等に記載の多官能性シアン酸エ
ステル化合物類も用いら得る。また、これら多官能性シ
アン酸エステル化合物のシアナト基の三量化によって形
成されるトリアジン環を有する分子量400〜6,000 のプ
レポリマーが使用される。このプレポリマーは、上記の
多官能性シアン酸エステルモノマーを、例えば鉱酸、ル
イス酸等の酸類;ナトリウムアルコラート等、第三級ア
ミン類等の塩基;炭酸ナトリウム等の塩類等を触媒とし
て重合させることにより得られる。このプレポリマー中
には一部未反応のモノマーも含まれており、モノマーと
プレポリマーとの混合物の形態をしており、このような
原料は本発明の用途に好適に使用される。一般には可溶
な有機溶剤に溶解させて使用する。
In addition to these, Japanese Patent Publication Nos. 41-1928 and 43-1846
8, polyfunctional cyanate compounds described in JP-A-44-4791, JP-A-45-11712, JP-A-46-41112, JP-A-47-26853 and JP-A-51-63149 can also be used. Further, a prepolymer having a molecular weight of 400 to 6,000 and having a triazine ring formed by trimerization of a cyanato group of these polyfunctional cyanate compounds is used. This prepolymer is obtained by polymerizing the above-mentioned polyfunctional cyanate ester monomer with a catalyst such as an acid such as a mineral acid or a Lewis acid; a base such as a tertiary amine such as sodium alcoholate; or a salt such as sodium carbonate. It can be obtained by: The prepolymer also contains some unreacted monomers and is in the form of a mixture of the monomer and the prepolymer, and such a raw material is suitably used for the purpose of the present invention. Generally, it is used after being dissolved in a soluble organic solvent.

【0015】エポキシ樹脂としては、一般に公知のもの
が使用できる。具体的には、液状或いは固形のビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ブタ
ジエン、ペンタジエン、ビニルシクロヘキセン、ジシク
ロペンチルエーテル等の二重結合をエポキシ化したポリ
エポキシ化合物類;ポリオール、水酸基含有シリコン樹
脂類とエポハロヒドリンとの反応によって得られるポリ
グリシジル化合物類等が挙げられる。これらは1種或い
は2種類以上が組み合わせて使用され得る。
As the epoxy resin, a generally known epoxy resin can be used. Specifically, liquid or solid bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, butadiene, pentadiene, vinylcyclohexene, dicyclopentyl ether, etc. And polyglycidyl compounds obtained by reacting a polyol, a hydroxyl-containing silicone resin with an epohalohydrin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

【0016】ポリイミド樹脂としては、一般に公知のも
のが使用され得る。具体的には、多官能性マレイミド類
とポリアミン類との反応物、特公昭57-005406 に記載の
末端三重結合のポリイミド類が挙げられる。これらの熱
硬化性樹脂は、単独でも使用されるが、特性のバランス
を考え、適宜組み合わせて使用するのが良い。
As the polyimide resin, generally known ones can be used. Specific examples include a reaction product of a polyfunctional maleimide and a polyamine, and a polyimide having a terminal triple bond described in JP-B-57-005406. These thermosetting resins may be used alone, but it is preferable to use them in an appropriate combination in consideration of the balance of properties.

【0017】本発明の熱硬化性樹脂組成物には、組成物
本来の特性が損なわれない範囲で、所望に応じて種々の
添加物を配合することができる。これらの添加物として
は、不飽和ポリエステル等の重合性二重結合含有モノマ
ー類及びそのプレポリマー類;ポリブタジエン、エポキ
シ化ブタジエン、マレイン化ブタジエン、ブタジエン-
アクリロニトリル共重合体、ポリクロロプレン、ブタジ
エン-スチレン共重合体、ポリイソプレン、ブチルゴ
ム、フッ素ゴム、天然ゴム等の低分子量液状〜高分子量
のelasticなゴム類;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リブテン、ポリ-4-メチルペンテン、ポリスチレン、AS
樹脂、ABS樹脂、MBS樹脂、スチレン-イソプレンゴム、
ポリエチレン-プロピレン共重合体、4-フッ化エチレン-
6-フッ化エチレン共重合体類;ポリカーボネート、ポリ
フェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリエステル、ポ
リフェニレンサルファイド等の高分子量プレポリマー若
しくはオリゴマー;ポリウレタン等が例示され、適宜使
用される。また、その他、公知の有機、無機の充填剤、
染料、顔料、増粘剤、滑剤、消泡剤、分散剤、レベリン
グ剤、光増感剤、難燃剤、光沢剤、重合禁止剤、チキソ
性付与剤等の各種添加剤が、所望に応じて適宜組み合わ
せて用いられる。必要により、反応基を有する化合物は
硬化剤、触媒が適宜配合される。
Various additives can be added to the thermosetting resin composition of the present invention, if desired, as long as the inherent properties of the composition are not impaired. These additives include polymerizable double bond-containing monomers such as unsaturated polyesters and prepolymers thereof; polybutadiene, epoxidized butadiene, maleated butadiene, butadiene-
Low molecular weight liquid to high molecular weight elastic rubbers such as acrylonitrile copolymer, polychloroprene, butadiene-styrene copolymer, polyisoprene, butyl rubber, fluororubber, and natural rubber; polyethylene, polypropylene, polybutene, poly-4-methyl Penten, polystyrene, AS
Resin, ABS resin, MBS resin, styrene-isoprene rubber,
Polyethylene-propylene copolymer, 4-fluoroethylene-
6-fluorinated ethylene copolymers; high molecular weight prepolymers or oligomers such as polycarbonate, polyphenylene ether, polysulfone, polyester, and polyphenylene sulfide; and polyurethane are exemplified and used as appropriate. In addition, other known organic and inorganic fillers,
Various additives such as dyes, pigments, thickeners, lubricants, defoamers, dispersants, leveling agents, photosensitizers, flame retardants, brighteners, polymerization inhibitors, and thixotropic agents may be used as desired. They are used in appropriate combinations. If necessary, the compound having a reactive group is appropriately blended with a curing agent and a catalyst.

【0018】本発明に使用する熱硬化性樹脂組成物の中
に、絶縁性無機充填剤を添加できる。特に炭酸ガスレー
ザー孔あけ用としては、孔の形状を均質にするために10
〜80重量%、好ましくは、20〜70重量%添加する。絶縁性
無機充填剤の種類は特に限定はない。具体的には、タル
ク、焼成タルク、水酸化アルミニウム、カオリン、アル
ミナ、ウオラストナイト、合成雲母、ガラス粉末等が挙
げられ、1種或いは2種以上を配合して使用する。無機
充填剤の形状は特に限定はなく、球状、針状、繊維状、
無定型等が使用できる。
An insulating inorganic filler can be added to the thermosetting resin composition used in the present invention. Especially for carbon dioxide gas laser drilling, 10
8080% by weight, preferably 20-70% by weight. The kind of the insulating inorganic filler is not particularly limited. Specific examples include talc, calcined talc, aluminum hydroxide, kaolin, alumina, wollastonite, synthetic mica, glass powder, and the like, and one or more of them may be used in combination. The shape of the inorganic filler is not particularly limited, and is spherical, acicular, fibrous,
An amorphous type or the like can be used.

【0019】熱硬化性樹脂組成物は、それ自体は加熱に
より硬化するが硬化速度が遅く、作業性、経済性等に劣
る場合には、使用した熱硬化性樹脂に対して公知の熱硬
化触媒を用い得る。使用量は、熱硬化性樹脂100重量部
に対して0.005〜10重量部、好ましくは0.01〜5重量部で
ある。
The thermosetting resin composition itself is cured by heating, but when the curing speed is low and the workability and economic efficiency are poor, a known thermosetting catalyst for the thermosetting resin used is used. Can be used. The amount used is 0.005 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of the thermosetting resin.

【0020】炭酸ガスレーザーで多重金属箔張板に貫通
孔及び/又はブラインドビア孔をあける場合、直接炭酸
ガスレーザービームを多重金属箔シャイニー面上に照射
し多重金属箔を加工して孔あけを行う。炭酸ガスレーザ
ーの波長は、9.3〜10.6μmが使用される。エネルギー
は、好適には5〜60mJで、所定パルス照射して孔あけす
る。孔径は好適には80〜180μmである。貫通孔及
び/ビア孔をあける場合、最初から最後まで同一エネル
ギーを照射して孔あけする方法、エネルギーを途中で高
くするか、低くして孔あけする方法、いずれの方法でも
良い。
When a through-hole and / or a blind via hole is made in a multi-metal foil clad board with a carbon dioxide gas laser, a carbon dioxide gas laser beam is directly radiated onto the shiny surface of the multi-metal foil to process the multi-metal foil and make a hole. Do. The wavelength of the carbon dioxide laser is 9.3 to 10.6 μm. The energy is preferably 5 to 60 mJ, and a predetermined pulse is applied to form holes. The pore size is preferably between 80 and 180 μm. In the case of drilling through holes and / or via holes, any of a method of irradiating holes with the same energy from the beginning to the end, and a method of piercing by increasing or decreasing the energy on the way may be used.

【0021】本発明の炭酸ガスレーザーでの孔あけにお
いて、孔周囲に多重金属箔及び銅箔のバリが発生する。
孔部に発生した多重金属及び銅のバリをエッチング除去
する方法としては、特に限定しないが、例えば、特開平
02-22887、同02-22896、同02-25089、同02-25090、同02
-59337、同02-60189、同02-166789、同03-25995、同03-
60183、同03-94491、同04-199592、同04-263488号公報
で開示された、薬品で金属表面を溶解除去する方法(S
UEP法と呼ぶ)による。エッチング速度は、一般には
0.02〜1.0μm/秒 で行う。また、内層の多重金属箔又は
銅箔のバリをエッチング除去する場合、同時に多重金属
箔又は銅箔の表面の一部をも平面的にエッチング除去
し、好適には厚さ2〜7μm、更に好適には3〜5μmとする
ことにより、その後の金属メッキされた多重金属箔又は
銅箔に細密なパターンを形成でき、高密度のプリント配
線板とすることができる。
In drilling with the carbon dioxide laser of the present invention, burrs of multiple metal foils and copper foils are generated around the holes.
The method of etching and removing the multi-metal and copper burrs generated in the hole is not particularly limited.
02-22887, 02-22896, 02-25089, 02-25090, 02
-59337, 02-60189, 02-166789, 03-25995, 03-
60183, 03-94491, 04-199592, and 04-263488 disclose a method for dissolving and removing a metal surface with a chemical (S
UEP method). The etching rate is generally
Perform at 0.02 to 1.0 μm / sec. Also, when etching and removing the burrs of the inner layer multiple metal foil or copper foil, at the same time also partially remove the surface of the multiple metal foil or copper foil in a planar manner, preferably a thickness of 2 to 7 μm, more preferably. By setting the thickness to 3 to 5 μm, a fine pattern can be formed on the subsequent metal-plated multiple metal foil or copper foil, and a high-density printed wiring board can be obtained.

【0022】多重金属箔張板の裏面には、孔が貫通した
場合のレーザーによるレーザーマシーンのテーブルの損
傷を防ぐために、単に金属板を配置することも可能であ
るが、好ましくは、金属板の表面の少なくとも一部を接
着させた樹脂層を多重金属箔張板の裏面金属箔と接着さ
せて配置し、貫通孔あけ後に樹脂層と金属板を剥離す
る。孔あけは連続的にも行うことができる。この場合、
多重金属箔張シートは空中に浮かした状態で連続的に流
しながら炭酸ガスレーザーで孔あけを行う方法、下の台
に押し付けてから孔あけを行う方法等が使用できる。加
工された孔内部の表層、内層多重金属箔又は銅箔の樹脂
が接着していた面には1μm程度の樹脂層が金属箔表面に
残存する場合が殆どである。この樹脂層を、エッチング
前にデスミア処理等の一般に公知の処理で事前に除去が
可能である。しかしながら、液が小径の孔内部に到達し
ない場合、内層の銅箔等の表面に残存する樹脂層の除去
残が発生し、銅メッキとの接続不良になる場合がある。
従って、より好適には、まず気相で孔内部を処理して樹
脂の残存層を完全に除去し、次いで孔内部及び表裏の多
重金属箔バリ及び銅箔バリをエッチング除去する。
A metal plate can be simply disposed on the back surface of the multi-layered metal foil-clad plate in order to prevent the laser machine table from being damaged by a laser when a hole is penetrated. A resin layer to which at least a part of the surface is adhered is adhered to the back metal foil of the multiple metal foil-clad board, and the resin layer and the metal plate are peeled off after drilling through holes. Drilling can also be performed continuously. in this case,
A method of perforating with a carbon dioxide laser while continuously flowing the multiple metal foil-clad sheet while floating in the air, a method of perforating by pressing against a lower table, and the like can be used. In most cases, a resin layer of about 1 μm is left on the surface of the metal foil on the surface of the processed hole where the resin of the surface layer, the inner layer multiple metal foil or the copper foil is adhered. This resin layer can be removed in advance by a generally known treatment such as a desmear treatment before etching. However, when the liquid does not reach the inside of the small-diameter hole, a residue of the resin layer remaining on the surface of the inner layer copper foil or the like may be removed, resulting in poor connection with copper plating.
Therefore, more preferably, first, the inside of the hole is treated in the gas phase to completely remove the residual layer of the resin, and then the inside of the hole and the multiple metal foil burrs and the copper foil burrs on the front and back sides are removed by etching.

【0023】気相処理としては一般に公知の処理が使用
可能であるが、例えばプラズマ処理、低圧紫外線処理等
が挙げられる。プラズマは、高周波電源により分子を部
分的に励起し、電離させた低温プラズマを用いる。これ
は、イオンの衝撃を利用した高速の処理、ラジカル種に
よる穏やかな処理が一般には使用され、処理ガスとし
て、反応性ガス、不活性ガスが使用される。反応性ガス
としては、主に酸素が使用され、化学的に表面処理をす
る。不活性ガスとしては、主にアルゴンガスを使用す
る。このアルゴンガス等を使用し、物理的な表面処理を
行う。物理的な処理は、イオンの衝撃を利用して表面を
クリーニングする。低紫外線は、波長が短い領域の紫外
線であり、波長として、184.9nm、253.7nm がピークの
短波長域の波長を照射し、樹脂層を分解除去する。
As the gas phase treatment, generally known treatments can be used, and examples thereof include a plasma treatment and a low-pressure ultraviolet treatment. As the plasma, low-temperature plasma in which molecules are partially excited by a high-frequency power source and ionized is used. For this, high-speed processing using ion bombardment and gentle processing using radical species are generally used, and reactive gases and inert gases are used as processing gases. As the reactive gas, oxygen is mainly used, and the surface is chemically treated. As the inert gas, an argon gas is mainly used. Using this argon gas or the like, physical surface treatment is performed. Physical treatment uses ion bombardment to clean the surface. The low ultraviolet ray is an ultraviolet ray having a short wavelength region, and irradiates a short wavelength region having a peak at 184.9 nm and 253.7 nm, and decomposes and removes the resin layer.

【0024】孔内部は、一般には銅メッキを行う。通常
の銅メッキを施すことも可能であるが、また銅メッキで
孔内部を一部、好適には80容積%以上充填することもで
きる。孔あけにおいては、もちろんエキシマレーザー、
YAGレーザー等の併用も可能である。更には、メカニカ
ルドリルの併用も可能である。
The inside of the hole is generally plated with copper. Normal copper plating can be performed, but copper plating can partially fill the inside of the hole, preferably 80% by volume or more. In drilling, of course, excimer laser,
A combined use of a YAG laser or the like is also possible. Further, a mechanical drill can be used in combination.

【0025】[0025]

【実施例】以下に実施例、比較例で本発明を具体的に説
明する。尚、特に断らない限り、『部』は重量部を表
す。
The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. Unless otherwise specified, “parts” indicates parts by weight.

【0026】実施例1 2,2-ビス(4-シアナトフェニル)エーテル700部、1,4-ジ
シアナトベンゼン200部、ビス(4-マレイミドフェニル)
エーテル100部を150℃に溶融させ、撹拌しなが4時間反
応させ、プレポリマーを得た。これをメチルエチルケト
ンとジメチルホルムアミドの混合溶剤に溶解した。これ
にビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:エピコート1
001、油化シェルエポキシ<株>製)1000部を加え、均一
に溶解混合した。更に触媒としてオクチル酸亜鉛0.4部
を加え、溶解混合し、これに無機充填剤(商品名:焼成タ
ルク、日本タルク<株>、平均粒子径4μm)1000部、水酸
化アルミニウム(平均粒子径)700部、及び黒色顔料7部
を加え、均一撹拌混合してワニスAを得た。このワニスA
を厚さ100μmのガラス織布に含浸し、150℃で乾燥し
て、ゲル化時間(at170℃)107秒、ガラス布含有量50重量
%のプリプレグBを作成した。
Example 1 700 parts of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) ether, 200 parts of 1,4-dicyanatobenzene, bis (4-maleimidophenyl)
100 parts of ether was melted at 150 ° C. and reacted for 4 hours while stirring to obtain a prepolymer. This was dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethylformamide. Add bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicoat 1)
(001, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) (1000 parts) was added and uniformly mixed. Further, 0.4 part of zinc octylate is added as a catalyst, dissolved and mixed, and 1000 parts of an inorganic filler (trade name: calcined talc, Nippon Talc Co., Ltd., average particle diameter 4 μm), aluminum hydroxide (average particle diameter) 700 And 7 parts of a black pigment were added and uniformly stirred and mixed to obtain Varnish A. This varnish A
Is impregnated into a glass woven cloth having a thickness of 100 μm, dried at 150 ° C., and gelled for 107 seconds (at 170 ° C.), glass cloth content 50 weight
% Of prepreg B was prepared.

【0027】厚さ12μmの多重金属箔として、銅層5μm
/ニッケル層2μm/銅層3μm/ニッケル層2μmとした金
属箔の銅層側のマット面に通常のマット面処理を施し、
その表面にクロム酸化物と亜鉛の合金処理を施した、マ
ット面の平均凹凸3.2μmの金属箔を用意した。この多重
金属箔を上記プリプレグ4枚の上下に、シャイニー面の
ニッケル層が外側になるように置き、その外側に厚さ1.
5mmのステンレス板を配置し、200℃、20kgf/cm2、30mmH
g以下の真空下に2時間積層成形して両面金属箔張積層板
Cを得た。一方、ポリビニルアルコールを水に溶解した
樹脂を厚み50μmのアルミニウム箔の片面に塗布し、110
℃で20分乾燥して、厚さ20μmの塗膜を有するバックア
ップシートDを作成した。
As a multiple metal foil having a thickness of 12 μm, a copper layer of 5 μm
/ Nickel layer 2μm / Copper layer 3μm / Nickel layer 2μm
A metal foil having an average unevenness of 3.2 μm on the matte surface, on which the surface was subjected to an alloy treatment of chromium oxide and zinc, was prepared. This multi-layered metal foil is placed on the upper and lower sides of the four prepregs so that the nickel layer on the shiny side is on the outside, and the thickness 1.
Place a 5mm stainless plate, 200 ℃, 20kgf / cm 2 , 30mmH
The laminate was laminated under a vacuum of not more than g for 2 hours to obtain a double-sided metal foil-clad laminate C. On the other hand, a resin obtained by dissolving polyvinyl alcohol in water was applied to one side of an aluminum foil having a thickness of 50 μm,
After drying at 20 ° C. for 20 minutes, a backup sheet D having a coating film having a thickness of 20 μm was prepared.

【0028】両面金属箔張板Cの表面を布で10回こす
ったが、摩耗量は1μm以下であった。この金属箔張板の
下側にバックアップシートDを置き、この金属箔張板の
上側から径100μmの孔を50mm角内に900個、直接炭酸ガ
スレーザーのパルス発振で出力10mJ にて5ショット照
射して、70ブロック(合計63000個)の貫通孔をあ
けた。下側のバックアップシートを除去し、SUEP液
を高速で吹き付けて、表裏の金属箔バリを溶解除去する
と同時に、表層の金属箔を残存厚さ4μmまで溶解した。
銅メッキを全体に15μm付着させた後、既存の方法にて
回路(ライン/スペース=50/50μm)、ハンダボールパッ
ド等を形成し、少なくとも半導体チップ部、ボンディン
グ用パッド部、ハンダボールパッド部を除いてメッキレ
ジストで被覆し、ニッケル、金メッキを施し、プリント
配線板を作成した。このプリント配線板の評価結果を表
1に示す。
The surface of the double-sided metal foil-clad board C was rubbed 10 times with a cloth, and the abrasion was 1 μm or less. A backup sheet D is placed below the metal foil-clad plate, and 900 holes of 100 μm in diameter within a 50 mm square are radiated from the upper side of the metal foil-clad plate into 5 shots at an output of 10 mJ by pulse oscillation of a direct carbon dioxide gas laser. Then, through holes of 70 blocks (63,000 in total) were formed. The lower backup sheet was removed, and a SUEP solution was sprayed at a high speed to dissolve and remove the metal foil burrs on the front and back, and at the same time, the metal foil on the surface layer was dissolved to a residual thickness of 4 μm.
After depositing copper plating 15μm on the whole, circuit (line / space = 50 / 50μm), solder ball pad, etc. are formed by the existing method, and at least the semiconductor chip part, bonding pad part, solder ball pad part Except for coating with a plating resist, and applying nickel and gold plating, a printed wiring board was prepared. The evaluation results of this printed wiring board are shown.
Shown in 1.

【0029】実施例2 エポキシ樹脂(商品名:エピコート1001、油化シェルエ
ポキシ<株>製)300部、及びエポキシ樹脂(商品名:ESC
N220F、住友化学工業<株>製)700部、ジシアンジアミド
35部、2-エチル-4-メチルイミダゾール1部をメチルエ
チルケトンとジメチルホルムアミドとの混合溶剤に溶解
し、均一に攪拌混合してワニスEとした。このワニスEを
厚さ100μmのガラス織布に含浸、乾燥して、ゲル化時間
150秒、ガラス布の含有量48重量%のプリプレグF、厚さ5
0μmのガラス織布に含浸、乾燥してゲル化時間170秒、
ガラス布の含有量31重量%のプリプレグGを作成した。
Example 2 300 parts of epoxy resin (trade name: Epicoat 1001, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) and epoxy resin (trade name: ESC)
N220F, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 700 parts, dicyandiamide
A varnish E was prepared by dissolving 35 parts of 2-ethyl-4-methylimidazole in 1 part of a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethylformamide, and uniformly stirring and mixing. This varnish E is impregnated with a 100 μm thick glass woven fabric, dried, and gelled.
150 seconds, 48% by weight of glass cloth prepreg F, thickness 5
Impregnated into 0 μm glass woven fabric, dried and gelled for 170 seconds,
A prepreg G having a glass cloth content of 31% by weight was prepared.

【0030】このプリプレグFを1枚使用し、上下に一
般の12μmの電解銅箔を置き、190℃、20kgf/cm2、30mmH
g以下の真空下で2時間積層成形し、両面銅張積層板Hを
得た。この板の表裏に回路を形成し、黒色酸化銅処理を
施した後、この板の表裏にプリプレグGを各1枚配置し
その両外側に、多重金属箔を配置した。この多重金属箔
は銅層5μm/ニッケル-コバルト合金層5μm/銅層2μm
となるように作成し、銅5μm側に実施例1と同様の一般
のマット面処理を行って銅箔表面に凹凸2.3μmをつけ、
その表面に銅/亜鉛の合金層を形成したマット面処理の
金属箔である。この外側に厚さ1.5μmのステンレス
板を配置し、180℃、20kgf/cm2、真空度30mmHg以
下で積層成形して4層板Iを作成した。この板の下側に
上記バックアップシートDを配置して100℃、5kgf/cmの
加熱ロールで張り合わせた。この金属箔張板の上側か
ら、炭酸ガスレーザーの出力40mJで2ショット、15mJ
で2ショット照射して孔径115μmの貫通孔をあけた。
又、出力35mJで1ショット、15mJで1ショット照射して
孔径90μmのブラインドビア孔をあけた。この板の全
体をSUEP処理を施して金属箔バリを溶解除去すると同時
に金属箔の厚さを3μmまで溶解除去した後、定法にて銅
メッキを行い、同様にプリント配線板とした。評価結果
を表1に示す。
Using one piece of this prepreg F, place a general 12 μm electrolytic copper foil on the upper and lower sides, 190 ° C., 20 kgf / cm 2 , 30 mmH
Laminate molding was performed for 2 hours under a vacuum of not more than g to obtain a double-sided copper-clad laminate H. After forming a circuit on the front and back of the plate and performing black copper oxide treatment, one prepreg G was disposed on each of the front and back of the plate, and multiple metal foils were disposed on both outer sides thereof. This multiple metal foil has a copper layer of 5μm / nickel-cobalt alloy layer of 5μm / copper layer of 2μm
The same general matte surface treatment as in Example 1 was performed on the copper 5 μm side to make the copper foil surface 2.3 μm uneven.
It is a mat-face treated metal foil having a copper / zinc alloy layer formed on its surface. A stainless steel plate having a thickness of 1.5 μm was placed on the outside, and laminated and formed at 180 ° C., 20 kgf / cm 2 and a degree of vacuum of 30 mmHg or less to form a four-layer plate I. The backup sheet D was placed below the plate and bonded together with a heating roll at 100 ° C. and 5 kgf / cm. From the upper side of this metal foil clad board, 2 shots with a carbon dioxide laser output of 40 mJ, 15 mJ
And a through hole having a hole diameter of 115 μm was formed.
In addition, one shot was irradiated at an output of 35 mJ and one shot was irradiated at 15 mJ to form a blind via hole having a hole diameter of 90 μm. The entire board was subjected to SUEP treatment to dissolve and remove metal foil burrs, and at the same time, to dissolve and remove the metal foil to a thickness of 3 μm, followed by copper plating according to a standard method to similarly produce a printed wiring board. Table 1 shows the evaluation results.

【0031】比較例1 多重金属箔の代りに一般の電解銅箔を使用した他は実施
例1と同様にして銅張板を作成し、銅張板の上に炭酸ガ
スレーザーを直接照射して実施例1同一条件で孔あけを
行なったが、孔はあかなかった。
Comparative Example 1 A copper-clad board was prepared in the same manner as in Example 1 except that a general electrolytic copper foil was used instead of the multiple metal foils, and a carbon dioxide gas laser was directly irradiated on the copper-clad board. Example 1 A hole was drilled under the same conditions, but no hole was drilled.

【0032】比較例2 多重金属箔の代りに一般の銅箔を使用した他は実施例1
と同様に積層成形し、銅張積層板を作成した。この表面
に黒色酸化銅処理を施し、その後この表面を布で10回
こすった後、その上から実施例1と同一条件で炭酸ガス
レーザーを照射したが、孔は殆どあかなかった。
Comparative Example 2 Example 1 except that a general copper foil was used instead of the multiple metal foils.
In the same manner as described above, a copper-clad laminate was prepared. This surface was subjected to black copper oxide treatment, and thereafter, the surface was rubbed with a cloth 10 times. Then, a carbon dioxide laser was irradiated thereon from the surface under the same conditions as in Example 1, but almost no holes were formed.

【0033】比較例3 エポキシ樹脂(商品名:エピコート5045、油化シェルエ
ポキシ<株>製)2,000部、ジシアンジミド70部、2ーエ
チルー4−メチルイミダゾール2部をメチルエチルケト
ンとジメチルホルムアミドの混合溶剤に溶解し、更に実
施例1の絶縁性無機充填剤を800部加え、攪拌混合して
均一分散してワニスを得た。これを厚さ100μmのガラス
織布に含浸、乾燥して、ゲル化時間140秒、ガラス含有
量48重量%のプリプレグJ、厚さ50μmのガラス織布に
含浸して、ゲル化時間180秒、ガラス布含有量33重量%
のプリプレグKを得た。このプリプレグJを2枚使用
し、両面に一般の12μm電解銅箔を配置し、180℃、20kg
f/cm2、30mmHg以下の真空下に2時間積層成形して両面銅
張積層板Lを得た。この銅張積層板Lを用い、メカニカ
ルドリリングにて150μmの貫通孔を形成した。ビア孔を
あけるために30mJの出力の炭酸ガスレーザーを銅箔面上
に直接照射したが、孔は形成できなかった。SUEP処理を
行わずに、銅メッキを施し、同様にプリント配線板とし
た。評価結果を表1に示す。
Comparative Example 3 2,000 parts of an epoxy resin (trade name: Epicoat 5045, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), 70 parts of dicyandiimide, and 2 parts of 2-ethyl-4-methylimidazole were dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethylformamide. Further, 800 parts of the insulating inorganic filler of Example 1 was added, and the mixture was stirred, mixed and uniformly dispersed to obtain a varnish. This was impregnated into a glass woven fabric having a thickness of 100 μm, dried, and gelled for 140 seconds, prepreg J having a glass content of 48% by weight, and impregnated into a glass woven fabric having a thickness of 50 μm, and a gelling time of 180 seconds was used. Glass cloth content 33% by weight
Prepreg K was obtained. Using two prepregs J, place a general 12μm electrolytic copper foil on both sides, 180 ℃, 20kg
Laminate molding was performed for 2 hours under a vacuum of f / cm 2 and 30 mmHg or less to obtain a double-sided copper-clad laminate L. Using this copper-clad laminate L, a 150 μm through-hole was formed by mechanical drilling. A carbon dioxide laser with a power of 30 mJ was directly irradiated on the copper foil surface to make via holes, but no holes could be formed. Copper plating was performed without performing the SUEP treatment, and a printed wiring board was similarly formed. Table 1 shows the evaluation results.

【0034】比較例4 実施例2の両面銅張積層板Hを用い、内層のスルーホー
ルとなる箇所の銅箔を孔径100μmとなるように上下銅箔
をエッチング除去し、回路を形成した後、銅箔表面を黒
色酸化銅処理し、その両外側にプリプレグGを各1枚置
き、その外側に一般の12μmの電解銅箔を配置し、実施
例2と同一条件で積層成形して4層銅張板とした。この
多層板を用い、貫通孔を形成する表裏面の位置に孔径10
0μmの孔を銅箔をエッチング除去してあけた。この表面
から炭酸ガスレーザーで、出力15mJで4ショット照射し
て貫通孔をあけた。後は比較例3と同様にしてSUEP処理
を行わずに、デスミア処理を1回行い、銅メッキを15μ
m施し、表裏に回路を形成し、同様にプリント配線板を
作成した。評価結果を表1に示す。
COMPARATIVE EXAMPLE 4 Using the double-sided copper-clad laminate H of Example 2, the upper and lower copper foils were removed by etching so as to have a hole diameter of 100 μm at the portion of the inner layer that would be a through hole, and a circuit was formed. The surface of the copper foil is treated with black copper oxide, one prepreg G is placed on each outer side, and a general 12 μm electrolytic copper foil is arranged on the outer side, and laminated and formed under the same conditions as in Example 2 to form a four-layer copper. It was a veneer. Using this multilayer board, a hole diameter of 10
A hole of 0 μm was made by etching away the copper foil. The surface was irradiated with 4 shots with a carbon dioxide laser at an output of 15 mJ to form through holes. After that, desmearing was performed once without performing SUEP processing in the same manner as in Comparative Example 3, and copper plating was performed for 15 μm.
m, a circuit was formed on the front and back, and a printed wiring board was prepared in the same manner. Table 1 shows the evaluation results.

【0035】 表1 項 目 実 施 例 比 較 例 1 2 2 3 4 貫通孔形成(%) 100 100 6 100 100 表裏ランド銅箔と孔との隙間(μm) 0 0 ー 0 22 内層銅箔と孔との位置ズレ(μm) ー 0 ー ー 36 パターン切れ及びショート (個) 0/200 0/200 ー 52/200 55/200 ガラス転移温度(℃) 210 160 ー 139 160 スルーホール・ヒー(%) 100 サイクル 1.1 1.3 ー 1.6 3.9 300 サイクル 1.5 1.7 ー 1.8 6.5 孔あけ加工時間(分) 16 13 ー 630 ー 耐マイグレーション性(HAST)(Ω) 常態 4x1011 ー ー 1x1011 ー 200hrs. 8x108 < 108 500hrs. 4x108 ー 700hrs. 2x108 1000hrs. 1x108 Table 1 Item Example Comparative example 1 2 2 3 4 Through hole formation (%) 100 100 6 100 100 Gap between front and back land copper foil and hole (μm) 0 0-0 22 Inner layer copper foil Displacement from hole (μm) ー 0 ー ー 36 Pattern break and short (pieces) 0/200 0/200 ー 52/200 55/200 Glass transition temperature (℃) 210 160 ー 139 160 Through hole heat (% ) 100 cycles 1.1 1.3 over 1.6 3.9 300 cycles 1.5 1.7 over 1.8 6.5 drilling time (min) 16 13 over 630 over migration resistance (HAST) (Omega) normal 4x10 11 over over 1x10 11 over 200hrs. 8x10 8 <10 8 500hrs.4x10 8ー 700hrs.2x10 8 1000hrs.1x10 8

【0036】<測定方法> 1)表裏孔位置の隙間及び孔形成数 孔径100μm(炭酸ガスレーザー)又は150μm(メカニ
カルドリル)の孔を900孔1ブロックとして、70ブロッ
ク(孔計63,000孔)炭酸ガスレーザ−及びメカニカルド
リルで孔あけを行い、1枚の銅張板に63,000孔をあける
に要した時間、表裏のランド用銅箔と孔との隙間、及び
内層銅箔とのズレの最大値を示した。又、孔は全て拡大
鏡を使用して形成%を調べた。 2)回路パターン切れ、及びショート 実施例、比較例で、孔のあいていない板を同様に作成
し、ライン/スペース=50/50μm の櫛形パターンを作成
した後、拡大鏡でエッチング後の200パターンを目視に
て観察し、パターン切れ、及びショートしているパター
ンの合計を分子に示した。 3)ガラス転移温度 DMA法にて測定した。 4)スルーホール・ヒートサイクル試験 各スルーホール孔にランド径250μmを作成し、900孔を
表裏交互につなぎ、1サイクルが、260℃・ハンダ・浸せ
き30秒→室温・5分 で、300サイクルまで実施し、抵抗
値の変化率の最大値を示した。 5)耐マイグレーション性(HAST) 孔径100μm(炭酸ガスレーザー孔あけ)又は150μm(メ
カニカルドリリング)の銅メッキされた貫通孔をそれぞ
れ表裏交互に1個ずつつなぎ、このつないだもの2組が
孔壁間150μmで平行 になるようにして、合計100セ
ット作成し、130℃、85%RH、1.8VDCにて所定時間処理後
に取り出し、平行に配列した貫通孔壁間の絶縁抵抗を測
定した。
<Measurement method> 1) Gap at the position of front and back holes and the number of holes to be formed A carbon dioxide laser having a hole diameter of 100 μm (carbon dioxide laser) or 150 μm (mechanical drill) as one block of 900 holes and 70 blocks (63,000 holes in total). And the time required to make 63,000 holes in one copper clad board, the gap between the copper foil for land on the front and back, and the hole, and the maximum value of the deviation from the inner layer copper foil. Was. In addition, all the holes were examined for percent formation using a magnifying glass. 2) Cut and short circuit pattern In the examples and comparative examples, a board without holes was created in the same way, a comb pattern of line / space = 50 / 50μm was created, and 200 patterns were etched with a magnifying glass. Was visually observed, and the total of the broken pattern and the short-circuited pattern was shown in the molecule. 3) Glass transition temperature Measured by the DMA method. 4) Through hole heat cycle test Create a land diameter of 250μm in each through hole hole, connect 900 holes alternately front and back, one cycle is 260 ° C, solder, immersion 30 seconds → room temperature, 5 minutes, up to 300 cycles The maximum value of the rate of change of the resistance value was shown. 5) Migration resistance (HAST) Copper-plated through-holes with a hole diameter of 100 μm (CO2 laser drilling) or 150 μm (mechanical drilling) are connected alternately on the front and back alternately, and two sets of these are connected between the hole walls. A total of 100 sets were prepared so as to be parallel at 150 μm, taken out at 130 ° C., 85% RH, 1.8 VDC for a predetermined time, and the insulation resistance between the through-hole walls arranged in parallel was measured.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の銅層とニッケル層又はニッケル
合金層からなる多重層金属箔を使用した金属箔張板は、
金属箔表面を作業中にこすっても炭酸ガスレーザービー
ムを直接照射することにより、孔径80〜180μmの貫通孔
及び/又はブラインドビア孔を金属箔張板に不良の発生
もなく形成することが可能であり、メカニカルドリリン
グに比べて格段に加工速度が速く、生産性について大幅
に改善できる。又、その後、孔部に発生した金属箔バリ
及び銅箔バリを溶解除去すると同時に、金属箔の表面を
平面的に厚さ方向に一部溶解除去し、金属箔の残存厚さ
を2〜7μm、好適には3〜5μmとすることにより、その後
の銅メッキによるメッキアップにおいても、細密パター
ンを形成することができ、高密度のプリント配線板を作
成することができる。
According to the present invention, a metal foil cladding using a multilayer metal foil comprising a copper layer and a nickel layer or a nickel alloy layer,
By irradiating the carbon dioxide laser beam directly even when rubbing the metal foil surface during work, through holes and / or blind via holes with a hole diameter of 80 to 180 μm can be formed on the metal foil cladding without defects The processing speed is much faster than mechanical drilling, and the productivity can be greatly improved. Further, thereafter, at the same time as dissolving and removing metal foil burrs and copper foil burrs generated in the holes, partially dissolving and removing the surface of the metal foil in the thickness direction in a plane, and reducing the remaining thickness of the metal foil to 2 to 7 μm. By setting the thickness to preferably 3 to 5 μm, a fine pattern can be formed even in subsequent plating-up by copper plating, and a high-density printed wiring board can be produced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/00 H05K 3/00 N Fターム(参考) 4E351 AA02 BB01 BB23 BB24 BB30 BB35 BB49 DD04 DD19 DD21 DD54 FF18 GG01 4F100 AA01A AA19 AB16C AB17B AB31C AB33B AK01A AK53 BA03 BA05 BA10A BA10B BA10C BA13 CA23A DC11 DG15 DH01 EJ333 GB43 JB13A JG04A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (reference) H05K 3/00 H05K 3/00 NF term (reference) 4E351 AA02 BB01 BB23 BB24 BB30 BB35 BB49 DD04 DD19 DD21 DD54 FF18 GG01 4F100 AA01A AA19 AB16C AB17B AB31C AB33B AK01A AK53 BA03 BA05 BA10A BA10B BA10C BA13 CA23A DC11 DG15 DH01 EJ333 GB43 JB13A JG04A

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱硬化性樹脂組成物を絶縁層とする金属
箔張板の外層として、銅とニッケル又はニッケル合金層
が交互に層となった多重層金属箔を配置した、炭酸ガス
レーザーの直接照射により孔あけ可能であることを特徴
とする炭酸ガスレーザーによる孔あけに適した多重金属
箔張板。
1. A carbon dioxide gas laser comprising a multi-layer metal foil in which copper and nickel or nickel alloy layers are alternately arranged as an outer layer of a metal foil clad board having a thermosetting resin composition as an insulating layer. Multi-layer metal foil cladding suitable for drilling with carbon dioxide laser, characterized in that drilling is possible by direct irradiation.
【請求項2】 多重層金属箔の炭酸ガスレーザー照射側
の表面が、ニッケル層又はニッケル合金層であることを
特徴とする請求項1記載の多重金属箔張板。
2. The multi-layer metal clad according to claim 1, wherein the surface of the multi-layer metal foil on the carbon dioxide laser irradiation side is a nickel layer or a nickel alloy layer.
【請求項3】 多重層金属箔の炭酸ガスレーザー照射側
の表面が、厚さ3μm以下の銅層であることを特徴とする
請求項1記載の多重金属箔張板。
3. The multi-metal foil clad board according to claim 1, wherein the surface of the multi-layer metal foil on the carbon dioxide laser irradiation side is a copper layer having a thickness of 3 μm or less.
【請求項4】 熱硬化性樹脂組成物が、多官能性シアン
酸エステルモノマー、該シアン酸エステルプレポリマー
を必須成分とする樹脂組成物であることを特徴とする請
求項1、2又は3記載の多重金属箔張板。
4. The resin composition according to claim 1, wherein the thermosetting resin composition is a resin composition containing a polyfunctional cyanate ester monomer and the cyanate ester prepolymer as essential components. Multiple metal foil cladding.
【請求項5】 該熱硬化性樹脂組成物中に、絶縁性無機
充填剤を10〜80重量%配合したことを特徴とする請
求項1、2、3又は4記載の多重金属箔張板。
5. The multi-ply metal-clad board according to claim 1, wherein the thermosetting resin composition contains 10 to 80% by weight of an insulating inorganic filler.
【請求項6】 5〜60mJから選ばれたエネルギーの
炭酸ガスレーザーを請求項1〜5のいずれかに記載の多
重金属箔張板の多重金属箔上に直接照射して、孔径80
〜180μmの貫通孔及び/又はブラインドビア孔を形
成して作成されることを特徴とするプリント配線板。
6. A carbon dioxide laser having an energy selected from 5 to 60 mJ, which is directly irradiated onto the multiple metal foil of the multiple metal foil-clad board according to any one of claims 1 to 5, and has a hole diameter of 80 mm.
A printed wiring board formed by forming through holes and / or blind via holes of up to 180 μm.
【請求項7】 炭酸ガスレーザーで孔あけ後、孔部に発
生した多重金属箔バリを薬液で溶解除去すると同時に外
層の多重金属箔を平面的に一部溶解除去することを特徴
とする請求項5記載のプリント配線板。
7. The method according to claim 1, wherein after forming a hole with a carbon dioxide gas laser, the multiple metal foil burrs generated in the hole are dissolved and removed with a chemical solution, and at the same time, the outer multiple metal foil is partially dissolved and removed in a plane. 5. The printed wiring board according to 5.
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