JP2001348437A - Film for molding, reflector base material, and reflector for lighting unit using it - Google Patents

Film for molding, reflector base material, and reflector for lighting unit using it

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JP2001348437A
JP2001348437A JP2000171645A JP2000171645A JP2001348437A JP 2001348437 A JP2001348437 A JP 2001348437A JP 2000171645 A JP2000171645 A JP 2000171645A JP 2000171645 A JP2000171645 A JP 2000171645A JP 2001348437 A JP2001348437 A JP 2001348437A
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JP
Japan
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reflector
film
molding
temperature
base material
Prior art date
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JP2000171645A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Moriyama
英樹 森山
Kenji Uhara
賢治 鵜原
Hideaki Machida
英明 町田
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Du Pont Toray Co Ltd
Original Assignee
Du Pont Toray Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflector base material for a lighting unit which is lightweight and excellent in the surface smoothness, safety, moldability, heat resistance, and handleability, and to provide a reflector for a lighting unit which is unnecessary for the pretreatment at the time of forming a reflecting layer, suitable for a mass production, lightweight, highly specular, excellent in heat resistance, heat radiation, safety and handleability, and also inexpensive and has high quality. SOLUTION: The reflector base material for a lighting unit is characterized in that the base material is a molding made of the film which has a close proximity between the molding temperature and the releasable temperature after the cooling posterior to the molding; and the reflector or a lighting unit has on the base material a reflecting layer mounted with the vapor deposition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば自動車の
ヘッドランプやフォグランプなどのランプリフレクタと
して使用する成形用フィルム、このフィルムを用いた反
射体基材および、この基材から形成される照明機用反射
体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film for molding used as a lamp reflector of a headlamp or a fog lamp of an automobile, a reflector substrate using the film, and a lighting device formed from the substrate. It relates to a reflector.

【0002】[0002]

【従来の技術】自動車のヘッドランプ(前照灯)やフォ
グランプの反射体(ランプリフレクタ)としては、ガラ
ス、アルミニウムなどの金属およびポリフェニレンサル
ファイドや不飽和ポリエステル樹脂などのプラスチック
の射出成形体または圧縮成形体などからなる反射体基材
に、反射物質としてアルミニウム、ニッケル−クロム合
金および酸化チタンなどを用いた金属反射層を形成した
ものが主として用いられている。
2. Description of the Related Art As a reflector (lamp reflector) of a headlamp (headlight) or a fog lamp of an automobile, a metal such as glass or aluminum and a plastic injection molding or compression molding such as polyphenylene sulfide or unsaturated polyester resin. BACKGROUND ART A material in which a metal reflecting layer formed of aluminum, a nickel-chromium alloy, titanium oxide, or the like as a reflective substance is formed on a reflector base body made of a body or the like is mainly used.

【0003】すなわち、自動車のヘッドランプ(前照
灯)およびフォグランプには、光源としてハロゲン球お
よびキセノン球などの電球が使用され、電球の口金部付
近の温度は200℃以上に加熱されることがあるため、反
射体基材としてはガラス、金属あるいはガラス繊維や炭
酸カルシウムなどの無機強化材を混入することにより耐
熱性を向上させたプラスチックの射出成形体または圧縮
成形体などが使用されているのである。
[0003] That is, light bulbs such as halogen bulbs and xenon bulbs are used as light sources for headlamps (headlights) and fog lamps of automobiles, and the temperature near the base of the bulb may be heated to 200 ° C or more. For this reason, as the reflector base material, an injection molded article or a compression molded article of glass, metal or plastic with improved heat resistance by mixing an inorganic reinforcing material such as glass fiber or calcium carbonate is used. is there.

【0004】しかるに、ガラスを反射体基材とするもの
は、重量が大きいことおよび破損しやすいことなどの問
題点があった。また、金属および強化樹脂成形体を反射
体基材とするものは、重量が大きいことに加えて、反射
鏡面性能(平滑性)を向上させるために、反射物質を蒸
着する前に樹脂コートなどの二次加工を必要とし、製造
工数が多いことなどの問題を有していた。
[0004] However, those using glass as a reflector base material have problems such as heavy weight and easy breakage. In addition, in the case of using a metal and a reinforced resin molded body as a reflector base, in addition to a large weight, in order to improve a reflective mirror surface performance (smoothness), a resin coat or the like is used before a reflective substance is deposited. There was a problem that secondary processing was required and the number of manufacturing steps was large.

【0005】しかも、強化樹脂成形体を反射体基材とす
るものは、金属を反射体基材とするものに比較し軽量で
あるが、基材強度の観点、また、成形技術上の制約から
から相当の肉厚を必要とするため、基材自体の放熱性が
低く、プロジェクター型などの蓄熱しやすい構造を持つ
ランプにおいては、形状保持に耐熱的な不安があり、ま
たハウジング内の温度上昇を助長して電球自身の寿命を
短くするという問題があった。
[0005] In addition, those using a reinforced resin molded body as a reflector base material are lighter in weight than those using a metal as a reflector base material, but from the viewpoint of base material strength and restrictions on molding technology. Since the base material itself has a low heat radiation property and the projector type has a structure that can easily store heat, there is a concern about heat retention in maintaining the shape, and a rise in the temperature inside the housing. To shorten the life of the bulb itself.

【0006】さらに、強化樹脂成形体を反射体基材とす
るものは、ランプの点灯加熱時に塩素化合物などのガス
を発生することがあり、このガスがヘッドランプなどの
前面レンズに付着凝固してレンズを曇らせ、ランプ性能
を低下させるという問題をも包含していた。
Further, when a reinforced resin molding is used as a reflector base material, a gas such as a chlorine compound may be generated when the lamp is turned on and heated, and this gas adheres and solidifies to a front lens such as a headlamp. It also included the problem of fogging the lens and degrading lamp performance.

【0007】一方、実公昭62−10887号公報には、アル
ニウム蒸着により鏡面処理されたフィルムシートからな
るシート製反射体が記載されており、このシート製反射
体は鏡面性を得るための脱脂などの前処理が不要である
ことが開示されているが、ここで用いられるフィルムシ
ートは耐熱性に劣るポリエチレンであることから、この
シート製反射体をハロゲン球などの高発熱ランプを用い
たヘッドランプなどの反射体として適用することは、耐
熱形状保持力の点で不可能であった。
On the other hand, Japanese Utility Model Publication No. Sho 62-10887 discloses a sheet-made reflector made of a film sheet which has been mirror-finished by aluminium vapor deposition. It is disclosed that the pre-treatment is unnecessary, but since the film sheet used here is polyethylene having poor heat resistance, the reflector made of this sheet is used as a headlamp using a high heat generation lamp such as a halogen bulb. It was not possible to apply it as a reflector such as in terms of heat-resistant shape retention force.

【0008】また、特公平5−88481号公報には、ポリイ
ミド樹脂およびポリエーテルケトン樹脂製フィルムから
なる反射体基材に可視光反射赤外線透過多層膜を形成し
た反射鏡が記載されており、この反射鏡は破損しにくさ
などに加え、ポリイミド樹脂などを使用することにより
ハロゲン球などの発熱にも耐え得るものであることが開
示されているが、この反射鏡は可視光反射赤外線透過多
層膜を基材上に形成したものであって、自動車用ヘッド
ランプおよびフォグランプの反射体としては実用できな
いものであった。また、「反射体基材としてポリイミド
樹脂などを使用することによりハロゲン球などの発熱に
も耐え得る」という特徴は、成形時において温度条件管
理が困難で、真空成形には適さず、金型加熱加圧方式に
よる成形においては型加熱、冷却に長時間を要すため成
形時間が長くなり、コスト面、量産面で実用に適さない
事を意味する。また、ガラス転移点の低い熱可塑性フィ
ルムを使用した場合には、耐熱性に劣ることが問題であ
った。
In Japanese Patent Publication No. 5-88481, there is described a reflector in which a visible light-reflecting infrared transmitting multilayer film is formed on a reflector substrate made of a film made of a polyimide resin and a polyetherketone resin. It is disclosed that the reflecting mirror can withstand heat such as halogen bulbs by using a polyimide resin or the like in addition to being difficult to be damaged, but this reflecting mirror is a visible light reflecting infrared transmitting multilayer film. Was formed on a base material and could not be practically used as a reflector for headlamps and fog lamps for automobiles. In addition, the feature that "it can withstand heat generated by halogen bulbs and the like by using a polyimide resin or the like as a reflector base material" is difficult to control the temperature conditions during molding, and is not suitable for vacuum molding. In the molding by the pressure method, a long time is required for heating and cooling the mold, so that the molding time becomes long, which means that it is not practical in terms of cost and mass production. Further, when a thermoplastic film having a low glass transition point is used, there is a problem that heat resistance is poor.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した従
来技術における問題点の解決を課題として検討した結果
達成されたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been achieved as a result of studying to solve the problems in the prior art described above.

【0010】したがって、本発明の第1の目的は、軽量
で表面平滑性、安全性、成形性、耐熱性および取扱性が
すぐれた成形用フィルムおよび照明機器用反射体基材を
提供することにある。
Accordingly, a first object of the present invention is to provide a molding film and a reflector base for lighting equipment which are lightweight and have excellent surface smoothness, safety, moldability, heat resistance and handleability. is there.

【0011】また、本発明の第2の目的は、反射層形成
時の前処理が不要で大量生産に適し、軽量で鏡面性が高
く、耐熱性、放熱性、安全性および取扱牲がすぐれると
共に、低コストかつ高品質の照明機器用反射体を提供す
ることにある。
A second object of the present invention is to eliminate the need for a pretreatment at the time of forming the reflective layer, which is suitable for mass production, is lightweight, has high specularity, and is excellent in heat resistance, heat dissipation, safety and handleability. Another object of the present invention is to provide a low-cost and high-quality reflector for lighting equipment.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の成形用フィルムは、 (1)200℃の貯蔵弾性率に対し貯蔵弾性率が90%
まで減少した温度と、同じく200℃の貯蔵弾性率に対
し貯蔵弾性率が10%まで減少した温度の差が50℃以
下であり、分子構造にイミド結合を有することを特徴と
するものである。
Means for Solving the Problems To achieve the above object, the molding film of the present invention comprises: (1) a storage elastic modulus at 200 ° C. of 90%;
The difference between the temperature at which the storage elastic modulus is reduced to 200 ° C. and the temperature at which the storage elastic modulus is reduced to 10% with respect to the storage elastic modulus at 200 ° C. is 50 ° C. or less, and the molecular structure has an imide bond.

【0013】また次の事項は好ましい態様である。The following are preferred embodiments.

【0014】(2)200℃での貯蔵弾性率が、30℃
での貯蔵弾性率の50%よりも大きいことを特徴とする
上記(1)記載の成形用フィルム。
(2) The storage elastic modulus at 200 ° C. is 30 ° C.
The film for molding according to the above (1), wherein the film has a storage modulus of more than 50%.

【0015】(3)フィルムが一般式(I)および(I
I)で示される構造単位を有する上記(1)記載の成形
用フィルム。
(3) The film has the general formula (I) or (I)
The molding film according to the above (1), having the structural unit represented by I).

【0016】[0016]

【化8】 Embedded image

【0017】[0017]

【化9】 [ただし、式中R1Embedded image [Where R 1 is

【0018】[0018]

【化10】 2Embedded image R 2 is

【0019】[0019]

【化11】 で示される基から選ばれたいずれかであり、さらにX:
Yのモル比は100〜20:0〜80である。] (4)フィルムが一般式(III)および(IV)で示され
る構造単位を有する上記(1)記載のフィルム。
Embedded image And any one of the groups represented by
The molar ratio of Y is from 100 to 20: 0 to 80. (4) The film according to the above (1), wherein the film has structural units represented by formulas (III) and (IV).

【0020】[0020]

【化12】 Embedded image

【0021】[0021]

【化13】 [ただし、式中R3Embedded image [Where R 3 is

【0022】[0022]

【化14】 で示される基から選ばれたいずれかであり、さらにm:n
のモル比は100〜20:0〜80である。]また、反
射体基材は、(1)これらのフィルムを用い、加熱型押
し成形または真空成形することにより形成されたことを
特徴とする。また、(2)反射面を形成する本体部、外
フランジ部および内フランジ部を有することを特徴とす
る上記(1)記載の反射体基材も好ましい。
Embedded image Any one selected from the groups represented by
Is from 100 to 20: 0 to 80. Further, the reflector base material is characterized in that (1) using these films, they are formed by hot stamping or vacuum forming. Further, (2) the reflector substrate according to the above (1), further comprising a main body part, an outer flange part, and an inner flange part forming a reflection surface.

【0023】さらに、本発明の照明機器用反射体は、
(1)この反射体基材上に、反射材を蒸着することによ
り反射層を形成したことを特徴とする。また、(2)反
射材がアルミニウムまたは銀であることを特徴とする上
記(1)記載の照明機器用反射体、(3)車両のランプ
リフレクタとして使用することを特徴とする上記(1)
または(2)記載の照明機器用反射体も好ましい。
Further, the reflector for lighting equipment of the present invention comprises:
(1) A reflective layer is formed by depositing a reflective material on the reflector base material. Further, (2) the reflector for lighting equipment according to the above (1), wherein the reflecting material is aluminum or silver, and (3) the reflector (1), which is used as a lamp reflector of a vehicle.
Alternatively, the reflector for lighting equipment described in (2) is also preferable.

【0024】[0024]

【作用】本発明のフィルムは成形温度と成形後に冷却し
て取り出し可能となる温度が近接しており、成形から取
り出しまでの時間が短い事を特徴とし、この事によって
コストを削減する事ができる。また、本発明の照明機器
用反射体基材は、それ自体の耐熱牲がすぐれた特定のプ
ラスチックフィルムの成形体からなるため、その表面平
滑性が良好で反射層形成時の前処理が不要であり、真空
成形などの簡易な成形法により低コストに得ることがで
き、しかもきわめて軽量で破損し難いことから安全性お
よび取扱性にすぐれるものである。
The film of the present invention is characterized by the fact that the molding temperature and the temperature at which it can be cooled and taken out after molding are close to each other, and the time from molding to taking out is short, thereby reducing the cost. . In addition, since the reflector base for lighting equipment of the present invention is formed of a specific plastic film molded body having excellent heat resistance, the surface smoothness thereof is good and pretreatment at the time of forming the reflection layer is unnecessary. In addition, it can be obtained at low cost by a simple molding method such as vacuum molding, and is excellent in safety and handling because it is extremely lightweight and hard to break.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】本発明において貯蔵弾性率はレオ
ロジ社のDVE-V4を用い、駆動周波数110Hz、昇温速
度2℃/分、振動変位16μmで行った時の値を言う。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, the storage elastic modulus refers to a value obtained by using DVE-V4 manufactured by Rheology Co., Ltd. at a driving frequency of 110 Hz, a heating rate of 2 ° C./min, and a vibration displacement of 16 μm.

【0026】本発明の成形用フィルムは、その原料に適
当なジアミンと酸二無水物を選ぶことによって、200
℃の貯蔵弾性率に対し貯蔵弾性率が90%まで減少した
温度と、同じく200℃の貯蔵弾性率に対し貯蔵弾性率
が10%まで減少した温度の差を50℃以下にする事が
出来る。
The molding film of the present invention can be prepared by selecting appropriate diamines and acid dianhydrides as raw materials.
The difference between the temperature at which the storage elastic modulus is reduced to 90% with respect to the storage elastic modulus of ° C and the temperature at which the storage elastic modulus is reduced to 10% with respect to the storage elastic modulus at 200 ° C can be made 50 ° C or less.

【0027】以下に、図面にしたがって、本発明の照明
機器用反射体基材および照明機器用反射体についてさら
に詳述する。
Hereinafter, the reflector base for lighting equipment and the reflector for lighting equipment of the present invention will be described in further detail with reference to the drawings.

【0028】図1は本発明の照明機器用反射体基材の一
例を示す一部破断斜視図、図2は本発明の照明機器用反
射体の一例を示す一部破断側面図である。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an example of a reflector for lighting equipment of the present invention, and FIG. 2 is a partially cutaway side view showing one example of a reflector for lighting equipment of the present invention.

【0029】図1に示したように、本発明の照明機器用
反射体基材1は、ガラス転移点温度が200℃以上であ
るフィルムを真空成形することにより得られた成形体か
らなり、反射部を形成する本体部2、外フランジ部4お
よび内フランジ部6を有するものであって、この例は自
動車用ヘッドランプのランプリフレクタベースとして構
成したものである。
As shown in FIG. 1, the reflector substrate 1 for lighting equipment of the present invention comprises a molded body obtained by vacuum-molding a film having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher. It has a main body part 2, an outer flange part 4 and an inner flange part 6 forming a part, and this example is configured as a lamp reflector base of an automobile headlamp.

【0030】この照明機器用反射体基材1においては、
本体部2の表面平滑牲はフィルムの時の平滑性をそのま
ま保持しており、反射層蒸着前に何らの前処理を施さず
とも、投光機用反射面を得るに十分な性能を有してい
る。
In this reflector 1 for lighting equipment,
The surface smoothness of the main body 2 retains the smoothness of the film as it is, and has sufficient performance to obtain a reflecting surface for a floodlight without any pretreatment before the reflective layer is deposited. ing.

【0031】なお、本体部2の強度が問題になるような
場合には、プラスチックの射出成形樹脂、金属のプレス
部品およびFRPなどによるフレームを、本体部2の外側
に取り付けることにより容易に補強することができる。
If the strength of the main body 2 becomes a problem, a frame made of plastic injection molding resin, metal pressed parts, FRP, or the like is easily reinforced by being attached to the outside of the main body 2. be able to.

【0032】図1に示した実施例では、本体部2を単純
な反射面形状としたが、目的に応じて、例えば本体部2
を多面体とするなどの成形可能な形状であれば、任意の
形状を選択することが可能である。
In the embodiment shown in FIG. 1, the main body 2 has a simple reflecting surface shape.
Any shape can be selected as long as it is a shape that can be molded, such as a polyhedron.

【0033】また、図2に示す照明機器用反射体8は、
図1に示す反射体基材1の内周面に、アルミニウムなど
の反射材を公知の手投で蒸着することにより、反射層1
0を形成している。この反射層10の形成工程において
は、反射体基材1がフィルム時の平滑性をそのまま保持
しているため、樹脂コーティングや脱脂などの前処理を
一切行う必要がない。
The reflector 8 for lighting equipment shown in FIG.
A reflective material such as aluminum is deposited on the inner peripheral surface of the reflector base material 1 shown in FIG.
0 is formed. In the step of forming the reflective layer 10, the reflector substrate 1 maintains the smoothness of the film as it is, so that there is no need to perform any pretreatment such as resin coating or degreasing.

【0034】なお、図2に示した照明機器用反射体基材
1においては、内フランジ部6の中央に電球(図示せ
ず)の差込口12を開口し、この差込口12の周囲に内
フランジ6aを形成することにより、ランプリフレクタ
を構成している。
In the reflector 1 for lighting equipment shown in FIG. 2, an insertion opening 12 for a light bulb (not shown) is opened at the center of the inner flange portion 6 and the periphery of the insertion opening 12 is formed. A lamp reflector is formed by forming the inner flange 6a.

【0035】図1に示した反射体基材1においては、外
フランジ部4を図2に示す反射体8の最終形状に成形し
たが、工業的には1枚のフィルムに複数個の反射体基材
1を並べて成形し、蒸着処理してから外フランジ部4の
外形を整えながら切り離すようにすることもできる。
In the reflector substrate 1 shown in FIG. 1, the outer flange portion 4 is formed into the final shape of the reflector 8 shown in FIG. 2, but a plurality of reflectors are industrially formed on one film. It is also possible to form the base materials 1 side by side, perform a vapor deposition process, and then separate the outer flange parts 4 while adjusting the outer shape.

【0036】上記の構成において、照明機器用反射体基
材1を形成するフィルムとしては、ガラス転移点温度が
200℃以上であるフィルムが使用され、このフィルムの
厚さは通常のフィルムとして供給されている厚さ、例え
ば数マイクロメートルから数ミリメートル程度のものが
使用可能である。
In the above structure, the film forming the reflector substrate 1 for lighting equipment has a glass transition point temperature.
A film having a temperature of 200 ° C. or higher is used, and the thickness of the film may be a thickness supplied as a normal film, for example, about several micrometers to several millimeters.

【0037】フィルムは延伸および未延伸のものをいず
れも使用することができるが、加工性改善などを目的と
して無機質または有機質の添加物を含有するフィルム
は、一般に反射体基材1の表面平滑牲を低下させること
になるため好ましくない。
Both stretched and unstretched films can be used. Films containing an inorganic or organic additive for the purpose of improving workability, etc., generally have a surface smoothness of the reflector substrate 1. Is undesirably reduced.

【0038】そして、本発明の照明機器用反射体基材1
は、前記フィルムの加熱型押し成形、真空成形および高
圧ガス吹付け成形などの手段で所望の形状に成形するこ
とにより得られるが、真空成形が最も簡便で、金型費用
も安価で、多数個同時成形加工も可能であるため経済的
には有利である。真空成形方法にはストレート法、ドレ
ープ法、エアスリップ法、スナップバックバック法、プ
ラグアシスト法などがあるが、公知の方法であればいず
れも適応可能である。
Then, the reflector substrate 1 for lighting equipment of the present invention
Can be obtained by molding the film into a desired shape by means such as hot die molding, vacuum molding, and high pressure gas spray molding. Vacuum molding is the simplest, the mold cost is low, and a large number of Since simultaneous molding is possible, it is economically advantageous. The vacuum forming method includes a straight method, a drape method, an air slip method, a snapback method, a plug assist method, and the like, and any known method can be applied.

【0039】この照明機器用反射体基材1に反射材とし
て蒸着させる金属としては、反射率の観点からアルミニ
ウムまたは銀が最も適しているが、化学的に安定した金
属化合物を適宜使用することができ、またクロムおよび
ニッケルークロム合金などを反射材あるいはフィルムと
の密着強度向上のための下地として使用することもでき
る。
Aluminum or silver is most suitable as a metal deposited on the reflector substrate 1 for a lighting device as a reflector from the viewpoint of reflectivity, but a chemically stable metal compound may be appropriately used. Alternatively, chromium, nickel-chromium alloy, or the like can be used as a base material for improving the adhesion strength to a reflective material or a film.

【0040】反射層10を形成するための蒸着手段とし
ては、真空蒸着法、スパッタリング法、電子ビーム法お
よびイオンプレーティング法などを用いることができる
が、本発明は特にこれらに限定するものではない。ま
た、得られた反射層10上に、さらにコーティングや蒸
着などにより保護膜を形成して使用してもよい。
As a vapor deposition means for forming the reflective layer 10, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an electron beam method, an ion plating method and the like can be used, but the present invention is not particularly limited to these. . Further, a protective film may be further formed on the obtained reflective layer 10 by coating, vapor deposition, or the like before use.

【0041】本発明の照明機器用反射体8の形状として
は、ヘッドランプやフォグランプとして使用されるいか
なる形状のものでもよく、反射層10が反射体基材1の
反射必要部分にのみ形成されているものであってもよ
い。
The shape of the reflector 8 for lighting equipment of the present invention may be any shape used as a headlamp or a fog lamp, and the reflective layer 10 is formed only on the portion of the reflector substrate 1 that requires reflection. May be available.

【0042】また、反射層10を反射体基材1に対して
電球と反対側に形成することができ、この場合には反射
層10を電球の外側に設けることによって、ポリイミド
フィルムの原色である黄色を反射光として得ることがで
きる。
In addition, the reflective layer 10 can be formed on the opposite side of the reflector substrate 1 from the light bulb, and in this case, by providing the reflective layer 10 on the outside of the light bulb, the primary color of the polyimide film can be obtained. Yellow can be obtained as reflected light.

【0043】[0043]

【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明をさらに具体
的に説明する。 実施例1 DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中
に1,3ビス−(4アミノフェノキシ)ベンゼン29.
43g(101mmol)、N,N’−ジメチルアセトアミド
223.85gを入れ窒素雰囲気下、室温で攪拌する。
30分後から1時間後にかけて3,4,3’,4’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物6.49g(2
0mmol)を数回に分けて投入する。1時間攪拌した後、
4,4‘−オキシジフタル酸二無水物24.05g(7
8mmol)を数回に分けて投入する。さらに1時間攪拌し
た後、ピロメリット酸二無水物N,N’−ジメチルアセ
トアミド溶液(6wt%)16.22gを30分かけて滴
下し、さらに1時間攪拌する。ここで得られたポリアミ
ック酸は3500ポアズであった。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Example 1 1,3 bis- (4aminophenoxy) benzene in a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer
43 g (101 mmol) and 223.85 g of N, N'-dimethylacetamide are added and stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere.
From 30 minutes to 1 hour, 6.49 g of 3,4,3 ', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (2
0 mmol) in several portions. After stirring for one hour,
24.05 g of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (7
(8 mmol) in several portions. After stirring for another 1 hour, 16.22 g of a solution of pyromellitic dianhydride N, N'-dimethylacetamide (6 wt%) is added dropwise over 30 minutes, and the mixture is further stirred for 1 hour. The polyamic acid obtained here was 3500 poise.

【0044】得られたポリアミック酸の一部をポリエス
テルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な
膜を形成する。これをβ−ピコリン/無水酢酸混合溶液
(50:50)に5分間浸しイミド化させた。得られたポ
リイミドゲルフィルムを200℃30分、300℃20
分、400℃5分で熱処理を行いポリイミドフィルムを
得た。得られたポリイミド(厚み:50μm、TG:2
15℃)を使用し、真空成形を試みた。図1に示した形
状の自動車ヘッドランプ用反射体基材(ランプリフレク
タ基材)を得ることが出来た。得られたフィルムの貯蔵
弾性率をレオロジ社のDVE-V4を用い、駆動周波数110
Hz、昇温速度2℃/分、振動変位16μmで測定し
た。成形温度237℃、取り出し温度214℃、温度差23℃で
あった。測定の結果を図3,図4および表1にまとめ
た。 実施例2 DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中
に2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン34.12g(83mmol)、N,N’−ジメ
チルアセトアミド226.51gを入れ窒素雰囲気下、
室温で攪拌する。30分後から1時間後にかけて3,
4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物25.98g(242mmol)を数回に分けて投入す
る。1時間攪拌した後、ピロメリット酸二無水物 N,
N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)13.39
gを30分かけて滴下し、さらに1時間攪拌する。ここ
で得られたポリアミック酸は3500ポアズであった。
A part of the obtained polyamic acid is taken on a polyester film, and a uniform film is formed using a spin coater. This is a β-picoline / acetic anhydride mixed solution
(50:50) for 5 minutes for imidization. The obtained polyimide gel film was heated at 200 ° C. for 30 minutes and at 300 ° C. for 20 minutes.
Heat treatment at 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The obtained polyimide (thickness: 50 μm, TG: 2
(15 ° C.) and attempted vacuum forming. A reflector substrate (lamp reflector substrate) for a vehicle headlamp having the shape shown in FIG. 1 was obtained. The storage elastic modulus of the obtained film was measured using DVE-V4 manufactured by Rheology Co., Ltd.
Hz, the temperature rising rate was 2 ° C./min, and the vibration displacement was 16 μm. The molding temperature was 237 ° C, the removal temperature was 214 ° C, and the temperature difference was 23 ° C. The measurement results are summarized in FIGS. 3 and 4 and Table 1. Example 2 In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 34.12 g (83 mmol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and 226.51 g of N, N'-dimethylacetamide were placed. Under nitrogen atmosphere,
Stir at room temperature. 30 minutes to 1 hour later,
25.98 g (242 mmol) of 4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are added in several portions. After stirring for 1 hour, pyromellitic dianhydride N,
N'-dimethylacetamide solution (6 wt%) 13.39
g was added dropwise over 30 minutes and stirred for an additional hour. The polyamic acid obtained here was 3500 poise.

【0045】得られたポリアミック酸の一部をポリエス
テルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な
膜を形成する。これをβ−ピコリン/無水酢酸混合溶液
(50:50)に5分間浸しイミド化させた。得られたポ
リイミドゲルフィルムを200℃30分、300℃20
分、400℃5分で熱処理を行いポリイミドフィルムを
得た。得られたポリイミドは厚み:125μm、ヤング
率:3.2GPa、CTE:60ppm/℃、TG:230℃
であった。得られたフィルムを使用し、真空成形によ
り、図1に示した形状の自動車ヘッドランプ用反射体基
材(ランプリフレクタ基材)を得た。得られたフィルム
の貯蔵弾性率をレオロジ社のDVE-V4を用い、駆動周波数
110Hz、昇温速度2℃/分、振動変位16μmで測
定した。成形温度255℃、取り出し温度228℃、温度差27
℃であった。測定の結果を図3,図4および表1にまと
めた。 実施例3 DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中
に2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン34.12g(83mmol)、N,N’−ジメ
チルアセトアミド226.51gを入れ窒素雰囲気下、
室温で攪拌する。30分後から1時間後にかけて3,
4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物25.98g(242mmol)を数回に分けて投入す
る。1時間攪拌した後、ピロメリット酸二無水物 N,
N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)13.39
gを30分かけて滴下し、さらに1時間攪拌する。ここ
で得られたポリアミック酸は3500ポアズであった。
A part of the obtained polyamic acid is taken on a polyester film, and a uniform film is formed using a spin coater. This is a β-picoline / acetic anhydride mixed solution
(50:50) for 5 minutes for imidization. The obtained polyimide gel film was heated at 200 ° C. for 30 minutes and at 300 ° C. for 20 minutes.
Heat treatment at 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The obtained polyimide has a thickness of 125 μm, a Young's modulus of 3.2 GPa, a CTE of 60 ppm / ° C., and a TG of 230 ° C.
Met. Using the obtained film, a reflector base material (lamp reflector base material) for an automobile headlamp having the shape shown in FIG. 1 was obtained by vacuum forming. The storage elastic modulus of the obtained film was measured using DVE-V4 manufactured by Rheology at a driving frequency of 110 Hz, a temperature rising rate of 2 ° C./min, and a vibration displacement of 16 μm. Molding temperature 255 ° C, removal temperature 228 ° C, temperature difference 27
° C. The measurement results are summarized in FIGS. 3 and 4 and Table 1. Example 3 In a 500-ml separable flask equipped with a DC stirrer, 34.12 g (83 mmol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and 226.51 g of N, N'-dimethylacetamide were placed. Under nitrogen atmosphere,
Stir at room temperature. 30 minutes to 1 hour later,
25.98 g (242 mmol) of 4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are added in several portions. After stirring for 1 hour, pyromellitic dianhydride N,
N'-dimethylacetamide solution (6 wt%) 13.39
g was added dropwise over 30 minutes and stirred for an additional hour. The polyamic acid obtained here was 3500 poise.

【0046】得られたポリアミック酸の一部をポリエス
テルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な
膜を形成する。これを100℃60分乾燥し、自己支持
性のフィルムを得た。。得られたフィルムを200℃3
0分、300℃20分、400℃5分で熱処理を行いポ
リイミドフィルムを得た。得られたポリイミドは厚み:
50μm。得られたフィルムの貯蔵弾性率をレオロジ社
のDVE-V4を用い、駆動周波数110Hz、昇温速度2℃
/分、振動変位16μmで測定した。成形温度255℃、取
り出し温度228℃、温度差27℃であった。測定の結果を
図3,図4にまとめた。 実施例4 DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中
に2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン36.73g(89mmol)、N,N’−ジメ
チルアセトアミド227.95gを入れ窒素雰囲気下、
室温で攪拌する。30分後から1時間後にかけて3,
4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物14.41g(44mmol)を数回に分けて投入する。
1時間攪拌した後、ピロメリット酸二無水物9.17g
(42mmol)を数回に分けて投入する。さらに1時間攪拌
した後、ピロメリット酸二無水物 N,N’−ジメチル
アセトアミド溶液(6wt%)14.13gを30分かけ
て滴下し、さらに1時間攪拌する。ここで得られたポリ
アミック酸は4000ポアズであった。
A part of the obtained polyamic acid is taken on a polyester film, and a uniform film is formed using a spin coater. This was dried at 100 ° C. for 60 minutes to obtain a self-supporting film. . The obtained film was heated at 200 ° C.3
Heat treatment was performed for 0 minute, 300 ° C. for 20 minutes, and 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The resulting polyimide has a thickness:
50 μm. The storage elastic modulus of the obtained film was measured using DVE-V4 manufactured by Rheology Co., Ltd. at a driving frequency of 110 Hz and a heating rate of 2 ° C.
Per minute, at a vibration displacement of 16 μm. The molding temperature was 255 ° C, the removal temperature was 228 ° C, and the temperature difference was 27 ° C. The measurement results are summarized in FIGS. Example 4 36.73 g (89 mmol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and 227.95 g of N, N'-dimethylacetamide were placed in a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer. Under nitrogen atmosphere,
Stir at room temperature. 30 minutes to 1 hour later,
14.41 g (44 mmol) of 4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are added in several portions.
After stirring for 1 hour, 9.17 g of pyromellitic dianhydride
(42 mmol) are added in several portions. After further stirring for 1 hour, 14.13 g of a pyromellitic dianhydride N, N'-dimethylacetamide solution (6 wt%) is added dropwise over 30 minutes, and the mixture is further stirred for 1 hour. The polyamic acid obtained here was 4000 poise.

【0047】得られたポリアミック酸の一部をポリエス
テルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な
膜を形成する。これをβ−ピコリン/無水酢酸混合溶液
(50:50)に5分間浸しイミド化させた。得られたポ
リイミドゲルフィルムを200℃30分、300℃20
分、400℃5分で熱処理を行いポリイミドフィルムを
得た。得られたフィルムの貯蔵弾性率をレオロジ社のDV
E-V4を用い、駆動周波数110Hz、昇温速度2℃/
分、振動変位16μmで測定した。成形温度275℃、取
り出し温度236℃、温度差39℃であった。測定の結果を
図3,図4にまとめた。 実施例5 DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中
に2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン37.29g(91mmol)、N,N’−ジメ
チルアセトアミド227.74gを入れ窒素雰囲気下、
室温で攪拌する。30分後から1時間後にかけて3,
4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物11.71g(36mmol)を数回に分けて投入する。
1時間攪拌した後、ピロメリット酸二無水物11.30
g(51mmol)を数回に分けて投入する。さらに1時間攪
拌した後、ピロメリット酸二無水物 N,N’−ジメチ
ルアセトアミド溶液(6wt%)14.35gを30分か
けて滴下し、さらに1時間攪拌する。ここで得られたポ
リアミック酸は4500ポアズであった。
A part of the obtained polyamic acid is taken on a polyester film, and a uniform film is formed using a spin coater. This is a β-picoline / acetic anhydride mixed solution
(50:50) for 5 minutes for imidization. The obtained polyimide gel film was heated at 200 ° C. for 30 minutes and at 300 ° C. for 20 minutes.
Heat treatment at 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The storage modulus of the resulting film is
Using E-V4, drive frequency 110Hz, heating rate 2 ℃ /
And the vibration displacement was 16 μm. The molding temperature was 275 ° C, the removal temperature was 236 ° C, and the temperature difference was 39 ° C. The measurement results are summarized in FIGS. Example 5 In a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer, 37.29 g (91 mmol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and 227.74 g of N, N'-dimethylacetamide were placed. Under nitrogen atmosphere,
Stir at room temperature. 30 minutes to 1 hour later,
11.71 g (36 mmol) of 4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are added in several portions.
After stirring for 1 hour, pyromellitic dianhydride 11.30
g (51 mmol) are charged in several portions. After further stirring for 1 hour, 14.35 g of a solution of pyromellitic dianhydride N, N'-dimethylacetamide (6 wt%) is added dropwise over 30 minutes, and the mixture is further stirred for 1 hour. The polyamic acid obtained here was 4,500 poise.

【0048】得られたポリアミック酸の一部をポリエス
テルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な
膜を形成する。これをβ−ピコリン/無水酢酸混合溶液
(50:50)に5分間浸しイミド化させた。得られたポ
リイミドゲルフィルムを200℃30分、300℃20
分、400℃5分で熱処理を行いポリイミドフィルムを
得た。得られたポリイミドは厚み:50μm。得られた
フィルムを使用し、真空成形により、図1に示した形状
の自動車ヘッドランプ用反射体基材(ランプリフレクタ
基材)を得た。得られたフィルムの貯蔵弾性率をレオロ
ジ社のDVE-V4を用い、駆動周波数110Hz、昇温速度
2℃/分、振動変位16μmで測定した。成形温度282
℃、取り出し温度238℃、温度差44℃であった。測定の
結果を図3,図4および表1にまとめた。 実施例6 DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中
に2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン19.92g(48mmol)、4,4‘ジアミ
ノジフェニルエーテル9.72g(48mmol)、N,N’
−ジメチルアセトアミド226.80gを入れ窒素雰囲
気下、室温で攪拌する。30分後から1時間後にかけて
3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物30.33g(92mmol)を数回に分けて投入す
る。1時間攪拌した後、ピロメリット酸二無水物 N,
N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)15.33
gを30分かけて滴下し、さらに1時間攪拌する。ここ
で得られたポリアミック酸は4000ポアズであった。
A part of the obtained polyamic acid is taken on a polyester film, and a uniform film is formed using a spin coater. This is a β-picoline / acetic anhydride mixed solution
(50:50) for 5 minutes for imidization. The obtained polyimide gel film was heated at 200 ° C. for 30 minutes and at 300 ° C. for 20 minutes.
Heat treatment at 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The obtained polyimide has a thickness of 50 μm. Using the obtained film, a reflector base material (lamp reflector base material) for an automobile headlamp having the shape shown in FIG. 1 was obtained by vacuum forming. The storage elastic modulus of the obtained film was measured using DVE-V4 manufactured by Rheology at a driving frequency of 110 Hz, a temperature rising rate of 2 ° C./min, and a vibration displacement of 16 μm. Molding temperature 282
° C, the removal temperature was 238 ° C, and the temperature difference was 44 ° C. The measurement results are summarized in FIGS. 3 and 4 and Table 1. Example 6 19.92 g (48 mmol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and 9.72 g (48 mmol) of 4,4'diaminodiphenyl ether in a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer. , N, N '
-Add 226.80 g of dimethylacetamide and stir at room temperature under a nitrogen atmosphere. 30.33 g (92 mmol) of 3,4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are added in several portions over 30 minutes to 1 hour. After stirring for 1 hour, pyromellitic dianhydride N,
N'-dimethylacetamide solution (6 wt%) 15.33
g was added dropwise over 30 minutes and stirred for an additional hour. The polyamic acid obtained here was 4000 poise.

【0049】得られたポリアミック酸の一部をポリエス
テルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な
膜を形成する。これをβ−ピコリン/無水酢酸混合溶液
(50:50)に5分間浸しイミド化させた。得られたポ
リイミドゲルフィルムを200℃30分、300℃20
分、400℃5分で熱処理を行いポリイミドフィルムを
得た。得られたポリイミドは厚み:50μm。得られた
フィルムの貯蔵弾性率をレオロジ社のDVE-V4を用い、駆
動周波数110Hz、昇温速度2℃/分、振動変位16
μmで測定した。成形温度275℃、取り出し温度236℃、
温度差39℃であった。測定の結果を図3,図4にまとめ
た。 実施例7 DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中
に1,3ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン6.5
8g(23mmol)、4,4‘ジアミノジフェニルエーテル
18.04g(90mmol)、N,N’−ジメチルアセトア
ミド224.45gを入れ窒素雰囲気下、室温で攪拌す
る。30分後から1時間後にかけて3,4,3’,4’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物42.23
g(109mmol)を数回に分けて投入する。1時間攪拌し
た後、ピロメリット酸二無水物N,N’−ジメチルアセ
トアミド溶液(6wt%)17.79gを30分かけて滴
下し、さらに1時間攪拌する。ここで得られたポリアミ
ック酸は4000ポアズであった。
A part of the obtained polyamic acid is taken on a polyester film, and a uniform film is formed using a spin coater. This is a β-picoline / acetic anhydride mixed solution
(50:50) for 5 minutes for imidization. The obtained polyimide gel film was heated at 200 ° C. for 30 minutes and at 300 ° C. for 20 minutes.
Heat treatment at 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The obtained polyimide has a thickness of 50 μm. The storage elastic modulus of the obtained film was measured using DVE-V4 manufactured by Rheology Co., Ltd. at a driving frequency of 110 Hz, a heating rate of 2 ° C./min, and a vibration displacement of 16
It was measured in μm. Molding temperature 275 ℃, take-out temperature 236 ℃,
The temperature difference was 39 ° C. The measurement results are summarized in FIGS. Example 7 1,3 bis (4-aminophenoxy) benzene 6.5 in a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer.
8 g (23 mmol), 18.04 g (90 mmol) of 4,4 ′ diaminodiphenyl ether and 224.45 g of N, N′-dimethylacetamide are added, and the mixture is stirred at room temperature under a nitrogen atmosphere. 3,4,3 ', 4' from 30 minutes to 1 hour
-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride 42.23
g (109 mmol) are charged in several portions. After stirring for 1 hour, 17.79 g of a pyromellitic dianhydride N, N'-dimethylacetamide solution (6 wt%) is added dropwise over 30 minutes, and the mixture is further stirred for 1 hour. The polyamic acid obtained here was 4000 poise.

【0050】得られたポリアミック酸の一部をポリエス
テルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な
膜を形成する。これをβ−ピコリン/無水酢酸混合溶液
(50:50)に5分間浸しイミド化させた。得られたポ
リイミドゲルフィルムを200℃30分、300℃20
分、400℃5分で熱処理を行いポリイミドフィルムを
得た。得られたポリイミドは厚み:50μm。得られた
フィルムを使用し、真空成形により、図1に示した形状
の自動車ヘッドランプ用反射体基材(ランプリフレクタ
基材)を得た。得られたフィルムの貯蔵弾性率をレオロ
ジ社のDVE-V4を用い、駆動周波数110Hz、昇温速度
2℃/分、振動変位16μmで測定した。成形温度282
℃、取り出し温度238℃、温度差44℃であった。測定の
結果を図3,図4および表1にまとめた。 比較例1 DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中
に4,4‘ジアミノジフェニルエーテル29.15g
(140mmol)、N,N’−ジメチルアセトアミド22
4.18gを入れ窒素雰囲気下、室温で攪拌する。30
分後から1時間後にかけてピロメリット酸二無水物3
0.80g(140mmol)を数回に分けて投入する。1時
間攪拌した後、ピロメリット酸二無水物 N,N’−ジ
メチルアセトアミド溶液(6wt%)15.87gを30
分かけて滴下し、さらに1時間攪拌する。ここで得られ
たポリアミック酸は4000ポアズであった。
A part of the obtained polyamic acid is taken on a polyester film, and a uniform film is formed using a spin coater. This is a β-picoline / acetic anhydride mixed solution
(50:50) for 5 minutes for imidization. The obtained polyimide gel film was heated at 200 ° C. for 30 minutes and at 300 ° C. for 20 minutes.
Heat treatment at 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The obtained polyimide has a thickness of 50 μm. Using the obtained film, a reflector base material (lamp reflector base material) for an automobile headlamp having the shape shown in FIG. 1 was obtained by vacuum forming. The storage elastic modulus of the obtained film was measured using DVE-V4 manufactured by Rheology at a driving frequency of 110 Hz, a temperature rising rate of 2 ° C./min, and a vibration displacement of 16 μm. Molding temperature 282
° C, the removal temperature was 238 ° C, and the temperature difference was 44 ° C. The measurement results are summarized in FIGS. 3 and 4 and Table 1. Comparative Example 1 29.15 g of 4,4 'diaminodiphenyl ether in a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer
(140 mmol), N, N'-dimethylacetamide 22
Add 4.18 g and stir at room temperature under a nitrogen atmosphere. 30
After one minute to one hour, pyromellitic dianhydride 3
0.80 g (140 mmol) is charged in several portions. After stirring for 1 hour, 15.87 g of pyromellitic dianhydride N, N'-dimethylacetamide solution (6 wt%) was added to 30
Add dropwise over a minute and stir for an additional hour. The polyamic acid obtained here was 4000 poise.

【0051】得られたポリアミック酸の一部をポリエス
テルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な
膜を形成する。これをβ−ピコリン/無水酢酸混合溶液
(50:50)に5分間浸しイミド化させた。得られたポ
リイミドゲルフィルムを200℃30分、300℃20
分、400℃5分で熱処理を行いポリイミドフィルムを
得た。得られたポリイミドは厚み:50μm。次に得ら
れたフィルムを用いて真空成形を試みた。図1に示した
形状の自動車ヘッドランプ用反射体基材(ランプリフレ
クタ基材)を得ることが出来なかった。フィルムの貯蔵
弾性率をレオロジ社のDVE-V4を用い、駆動周波数110
Hz、昇温速度2℃/分、振動変位16μmで測定し
た。成形温度350℃以上、取り出し温度258℃、温度差50
℃以上であった。測定の結果を図3および表1にまとめ
た。 比較例2 DCスターラーを備えた500mlセパラブルフラスコ中
にパラペニレンジアミン3.97g(36.7mmol)、
4,4‘ジアミノジフェニルエーテル22.07g(1
10mmol)、N,N’−ジメチルアセトアミド224.
03gを入れ窒素雰囲気下、室温で攪拌する。30分後
から1時間後にかけて4,4‘ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物10.81g(37mmol)、ピロメリット酸
二無水物15.31g(70mmol)を数回に分けて投入す
る。1時間攪拌した後、ピロメリット酸二無水物 N,
N’−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)16.3g
を30分かけて滴下し、さらに1時間攪拌する。ここで
得られたポリアミック酸は4000ポアズであった。
A part of the obtained polyamic acid is taken on a polyester film, and a uniform film is formed using a spin coater. This is a β-picoline / acetic anhydride mixed solution
(50:50) for 5 minutes for imidization. The obtained polyimide gel film was heated at 200 ° C. for 30 minutes and at 300 ° C. for 20 minutes.
Heat treatment at 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The obtained polyimide has a thickness of 50 μm. Next, vacuum forming was attempted using the obtained film. A reflector base material (lamp reflector base material) for an automobile headlamp having the shape shown in FIG. 1 could not be obtained. The storage elastic modulus of the film was measured using DVE-V4 manufactured by Rheology Co., Ltd.
Hz, the temperature rising rate was 2 ° C./min, and the vibration displacement was 16 μm. Molding temperature 350 ° C or higher, Discharge temperature 258 ° C, Temperature difference 50
° C or higher. The results of the measurement are summarized in FIG. Comparative Example 2 3.97 g (36.7 mmol) of parapenylenediamine in a 500 ml separable flask equipped with a DC stirrer,
22,07 g of 4,4 'diaminodiphenyl ether (1
10 mmol), N, N'-dimethylacetamide 224.
Add 03 g and stir at room temperature under a nitrogen atmosphere. From 30 minutes to 1 hour, 10.81 g (37 mmol) of 4,4 ′ biphenyltetracarboxylic dianhydride and 15.31 g (70 mmol) of pyromellitic dianhydride are added in several portions. After stirring for 1 hour, pyromellitic dianhydride N,
16.3 g of N'-dimethylacetamide solution (6 wt%)
Is added dropwise over 30 minutes, and the mixture is further stirred for 1 hour. The polyamic acid obtained here was 4000 poise.

【0052】得られたポリアミック酸の一部をポリエス
テルフィルム上に取り、スピンコーターを用いて均一な
膜を形成する。これをβ−ピコリン/無水酢酸混合溶液
(50:50)に5分間浸しイミド化させた。得られたポ
リイミドゲルフィルムを200℃30分、300℃20
分、400℃5分で熱処理を行いポリイミドフィルムを
得た。得られたポリイミドは厚み:50μm。次に得ら
れたフィルムを用いて真空成形を試みた。図1に示した
形状の自動車ヘッドランプ用反射体基材(ランプリフレ
クタ基材)を得ることが出来なかった。フィルムの貯蔵
弾性率をレオロジ社のDVE-V4を用い、駆動周波数110
Hz、昇温速度2℃/分、振動変位16μmで測定し
た。成形温度350℃以上、取り出し温度247℃、温度差50
℃以上であった。測定の結果を図3および表1にまとめ
た。 実施例8 実施例1,2,5および7で得られたランプリフレクタ
基材に対し、アルミニウムを公知の真空蒸着法によりで
蒸着し、厚み0.3マイクロメートルの反射層を形成し
た。この反射層形成工程においては、樹脂コーティング
や脱脂などの前処理を行わなかったが、きわめて平滑な
蒸着面を形成することができた。そして内フランジ部の
中央に電球の差込口を開口し、この差込口の周囲に内フ
ランジを形成した。
A part of the obtained polyamic acid is taken on a polyester film, and a uniform film is formed using a spin coater. This is a β-picoline / acetic anhydride mixed solution
(50:50) for 5 minutes for imidization. The obtained polyimide gel film was heated at 200 ° C. for 30 minutes and at 300 ° C. for 20 minutes.
Heat treatment at 400 ° C. for 5 minutes to obtain a polyimide film. The obtained polyimide has a thickness of 50 μm. Next, vacuum forming was attempted using the obtained film. A reflector base material (lamp reflector base material) for an automobile headlamp having the shape shown in FIG. 1 could not be obtained. The storage elastic modulus of the film was measured using DVE-V4 manufactured by Rheology Co., Ltd.
Hz, the temperature rising rate was 2 ° C./min, and the vibration displacement was 16 μm. Molding temperature 350 ° C or higher, take-out temperature 247 ° C, temperature difference 50
° C or higher. The results of the measurement are summarized in FIG. Example 8 Aluminum was deposited on the lamp reflector base materials obtained in Examples 1, 2, 5, and 7 by a known vacuum deposition method to form a reflective layer having a thickness of 0.3 μm. In this reflective layer forming step, no pretreatment such as resin coating or degreasing was performed, but an extremely smooth vapor deposition surface could be formed. Then, an insertion opening for the electric bulb was opened at the center of the inner flange portion, and an inner flange was formed around the insertion opening.

【0053】得られた反射層の平滑性はきわめて高く、
ヘッドランプ用ランプリフレクタとして実用した場合
に、十分な反射光を得ることができた。
The resulting reflective layer has extremely high smoothness.
When used as a lamp reflector for a headlamp, sufficient reflected light could be obtained.

【0054】図3、図4および表1の結果から次のこと
が理解できる。
The following can be understood from the results shown in FIGS. 3 and 4 and Table 1.

【0055】[0055]

【表1】 表1において、◎は非常に優れる、○は可能、△は一部
可能、×は不可能を示す。
[Table 1] In Table 1, ◎ indicates very excellent, ○ indicates possible, Δ indicates partially possible, and × indicates impossible.

【0056】表1の結果から、実施例1,2,5,7で
得た200℃の貯蔵弾性率に対し貯蔵弾性率が90%ま
で減少した温度と、同じく200℃の貯蔵弾性率に対し
貯蔵弾性率が10%まで減少した温度の差が50℃以下
であるフィルムが非常に良好な真空成形性を有すること
を示す。
From the results in Table 1, it is found that the storage elastic modulus at 200 ° C. obtained in Examples 1, 2, 5, and 7 was reduced to 90% with respect to the storage elastic modulus at 200 ° C. It shows that a film having a difference in temperature at which the storage modulus is reduced to 10% and a temperature difference of 50 ° C. or less has very good vacuum formability.

【0057】図3は実施例1〜7および比較例1,2に
ついて、200℃の貯蔵弾性率を100とした時の貯蔵
弾性率の減少を%で表示したものである。この表から実
施例1〜7で得たフィルムは200℃の貯蔵弾性率に対
し貯蔵弾性率が90%まで減少した温度と、同じく20
0℃の貯蔵弾性率に対し貯蔵弾性率が10%まで減少し
た温度の差が50℃以下である事が分かる。
FIG. 3 shows the decrease in storage elastic modulus in% when the storage elastic modulus at 200 ° C. is set to 100 in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2. From the table, it was found that the films obtained in Examples 1 to 7 had a storage elastic modulus of 200 ° C., a temperature at which the storage elastic modulus was reduced to 90%, and a temperature of 20%.
It can be seen that the difference between the temperature at which the storage elastic modulus was reduced to 10% with respect to the storage elastic modulus at 0 ° C. was 50 ° C. or less.

【0058】図4は実施例1〜7について、30℃の貯
蔵弾性率を100とした時の貯蔵弾性率の減少を%で表
示したものである。この表から実施例1〜7で得たフィ
ルムは200℃での貯蔵弾性率が、30℃での貯蔵弾性
率の50%よりも大きいことが分かる。
FIG. 4 shows the decrease in storage elastic modulus in% when the storage elastic modulus at 30 ° C. is set to 100 in Examples 1 to 7. From this table, it can be seen that the films obtained in Examples 1 to 7 have a storage modulus at 200 ° C. which is larger than 50% of the storage modulus at 30 ° C.

【0059】即ち図3および図4から実施例1〜7で得
たフィルムが請求項1および2を満足する事が分かる。
さらに表1から請求項1を満たすフィルムが真空成形性
に優れ、成形用フィルムとして優れた性能を有する事が
分かる。
That is, it can be seen from FIGS. 3 and 4 that the films obtained in Examples 1 to 7 satisfy Claims 1 and 2.
Furthermore, it can be seen from Table 1 that the film satisfying claim 1 is excellent in vacuum moldability and has excellent performance as a film for molding.

【0060】[0060]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の照明機器
用反射体基材は、それ自体の耐熱性がすぐれた特定のプ
ラスチックフィルムの成形体からなるため、その表面平
滑牲が良好で反射層形成時の前処理が不要であり、さら
に成形温度と成形後に冷却して取り出し可能となる温度
が近接フィルムを用いる事によって真空成形法により低
コストに得ることができ、しかもきわめて軽量で破損し
難いことから安全牲および取扱性にすぐれるものであ
る。ここで「フィルムは成形温度」とは200℃の貯蔵
弾性率に対し、貯蔵弾性率が10%まで減少した温度を
言う。さらに「成形後に冷却して取り出し可能となる温
度」とは200℃の貯蔵弾性率に対し、貯蔵弾性率が90
%まで減少した温度を言う。
As described above, since the reflector base material for lighting equipment of the present invention is formed of a specific plastic film molded body having excellent heat resistance, it has good surface smoothness and good reflection. Pre-treatment at the time of layer formation is unnecessary, and the molding temperature and the temperature at which it can be taken out after molding can be obtained at low cost by vacuum molding by using the proximity film. Because it is difficult, it is excellent in safety and handling. Here, the “film forming temperature” refers to a temperature at which the storage elastic modulus decreases to 10% with respect to the storage elastic modulus of 200 ° C. Further, “the temperature at which the resin can be taken out after cooling after molding” refers to a storage elastic modulus of 200 ° C. and a storage elastic modulus of 90 ° C.
% Refers to the temperature that has decreased.

【0061】また、本発明の照明機器用反射体は、それ
自体の耐熱性および表面平滑性がすぐれた特定のプラス
チックフィルムの成形体からなる反射体基材上に、蒸着
による反射層を形成してなるため、反射層を蒸着する前
に樹脂コーティングなどの前処理を行う必要がなくて、
大量生産により低コストに得ることができ、しかもきわ
めて軽量で破損し難く、ランプ点灯時に実用上障害とな
る脱ガスを生じないことから、放熱性、安全性および取
扱性にすぐれるばかりか、耐熱性および鏡面性が高く高
品質の性能を発揮するものであり、自動車のヘッドラン
プやフオグランプあるいは大型投光器などのランプリフ
レクタとして有利に使用することができる。
Further, the reflector for lighting equipment of the present invention is obtained by forming a reflective layer by vapor deposition on a reflector base made of a specific plastic film molded article having excellent heat resistance and surface smoothness. It is not necessary to perform pretreatment such as resin coating before depositing the reflective layer,
It can be obtained at low cost by mass production, and is extremely lightweight and hard to break, and it does not generate degassing which is a practical obstacle when lighting the lamp, so it has excellent heat dissipation, safety and handling properties, as well as heat resistance It has high performance and high specularity and exhibits high quality performance, and can be advantageously used as a lamp reflector for a headlamp, a fog lamp or a large floodlight of an automobile.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明の照明機器用反射体基材の一例を
示す一部破断斜視図である
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an example of a reflector base for lighting equipment of the present invention.

【図2】図2は本発明の照明機器用反射体の一例を示す
一部破断側面図である。
FIG. 2 is a partially cutaway side view showing an example of a reflector for lighting equipment of the present invention.

【図3】図3は実施例の200〜350℃における動的
粘弾性を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing dynamic viscoelasticity at 200 to 350 ° C. of an example.

【図4】図4は実施例の25〜350℃における動的粘
弾性を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing dynamic viscoelasticity at 25 to 350 ° C. of an example.

【符号の説明】 1 照明機器用反射体基材 2 本体部 4 外フランジ部 6 内フランジ部 6a 内フランジ 8 照明機器用反射体 10 反射層 12 電球差し込み口[Description of Signs] 1 Reflector base material for lighting equipment 2 Main body part 4 Outer flange part 6 Inner flange part 6a Inner flange 8 Reflector for lighting equipment 10 Reflective layer 12 Light bulb insertion port

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F21S 8/10 F21V 7/22 Z 4J043 F21V 15/01 G02B 5/10 C 7/22 B29C 51/08 G02B 5/10 B29K 79:00 // B29C 51/08 B29L 31:30 B29K 79:00 C08L 79:08 B29L 31:30 F21M 3/02 A C08L 79:08 (72)発明者 町田 英明 東京都中央区日本橋本町1丁目5番6号 東レ・デュポン株式会社内 Fターム(参考) 2H042 DA02 DA04 DA11 DA21 DB06 DB08 DC02 DC08 DD05 DE04 3K042 AA08 AB02 AC02 BB01 4F071 AA60 AH07 BB02 BB03 BC01 BC07 4F100 AB10B AB24B AK49A AK54A AR00B BA02 DB09 EH66B GB32 GB48 JJ03 JK07A JK15 JL03 JL05 JN06B YY00A 4F208 AA40 AC03 AH17 MA01 MA05 MB01 MC01 MW02 4J043 QB26 QB31 SA06 SB02 TA14 TA22 TB02 UA121 UA122 UA131 UA132 UA141 UA142 UA151 UB021 UB121 UB122 UB131 UB152 UB172 UB402 VA011 VA021 VA022 VA031 VA032 VA051 VA062 XA16 YA06 YA08 ZA32 ZB11 ZB21 ZB52 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) F21S 8/10 F21V 7/22 Z 4J043 F21V 15/01 G02B 5/10 C 7/22 B29C 51/08 G02B 5/10 B29K 79:00 // B29C 51/08 B29L 31:30 B29K 79:00 C08L 79:08 B29L 31:30 F21M 3/02 A C08L 79:08 (72) Inventor Hideaki Machida Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 1-5-6 Hommachi F-term in Toray DuPont Co., Ltd. (Reference) 2H042 DA02 DA04 DA11 DA21 DB06 DB08 DC02 DC08 DD05 DE04 3K042 AA08 AB02 AC02 BB01 4F071 AA60 AH07 BB02 BB03 BC01 BC07 4F100 AB10B AB24B AK49ABA02A GB32 GB48 JJ03 JK07A JK15 JL03 JL05 JN06B YY00A 4F208 AA40 AC03 AH17 MA01 MA05 MB01 MC01 MW02 4J043 QB26 QB31 SA06 SB02 TA14 TA22 TB02 UA121 UA122 UA131 UA132 UA141 UA142 UA151 UB021 UB121 UB122 UB131 UB152 UB172 UB402 VA011 VA021 VA022 VA031 VA032 VA051 VA062 XA16 YA06 YA08 ZA32 ZB11 ZB21 ZB52

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】200℃の貯蔵弾性率に対し貯蔵弾性率が
90%まで減少した温度と、同じく200℃の貯蔵弾性
率に対し貯蔵弾性率が10%まで減少した温度の差が5
0℃以下であり、分子構造にイミド結合を有する成形用
フィルム。
1. The difference between the temperature at which the storage modulus is reduced to 90% for the storage modulus at 200 ° C. and the temperature at which the storage modulus is reduced to 10% for the storage modulus at 200 ° C. is 5%.
A molding film having a temperature of 0 ° C. or lower and an imide bond in the molecular structure.
【請求項2】200℃での貯蔵弾性率が、30℃での貯
蔵弾性率の50%よりも大きいことを特徴とする請求項
1に記載の成形用フィルム。
2. The molding film according to claim 1, wherein the storage elastic modulus at 200 ° C. is larger than 50% of the storage elastic modulus at 30 ° C.
【請求項3】フィルムが一般式(I)および(II)で示
される構造単位を有する請求項1に記載の成形用フィル
ム。 【化1】 【化2】 [ただし、式中R1は 【化3】 2は 【化4】 で示される基から選ばれたいずれかであり、さらにX:
Yのモル比は100〜20:0〜80である。]
3. The molding film according to claim 1, wherein the film has structural units represented by formulas (I) and (II). Embedded image Embedded image Wherein R 1 is R 2 is And any one of the groups represented by
The molar ratio of Y is from 100 to 20: 0 to 80. ]
【請求項4】フィルムが一般式(III)および(IV)で
示される構造単位を有する請求項1に記載のフィルム。 【化5】 【化6】 [ただし、式中R3は 【化7】 で示される基から選ばれたいずれかであり、さらにm:n
のモル比は100〜20:0〜80である。]
4. The film according to claim 1, wherein the film has structural units represented by general formulas (III) and (IV). Embedded image Embedded image Wherein R 3 is Any one selected from the groups represented by
Is from 100 to 20: 0 to 80. ]
【請求項5】請求項1〜4のいずれかに記載のフィルム
を用い、加熱型押し成形または真空成形することにより
形成されたことを特徴とする反射体基材。
5. A reflector substrate formed by using the film according to any one of claims 1 to 4 and subjecting the film to hot pressing or vacuum forming.
【請求項6】反射面を形成する本体部、外フランジ部お
よび内フランジ部を有することを特徴とする請求項5記
載の反射体基材。
6. The reflector substrate according to claim 5, further comprising a main body, an outer flange, and an inner flange forming a reflection surface.
【請求項7】請求項5または6に記載の反射体基材上
に、反射材を蒸着することにより反射層を形成したこと
を特徴とする照明機器用反射体。
7. A reflector for lighting equipment, wherein a reflector is formed on the reflector substrate according to claim 5 by vapor deposition of a reflector.
【請求項8】反射材がアルミニウムまたは銀であること
を特徴とする請求項7に記載の照明機器用反射体。
8. The reflector for lighting equipment according to claim 7, wherein the reflector is aluminum or silver.
【請求項9】車両のランプリフレクタとして使用するこ
とを特徴とする請求項7または8に記載の照明機器用反
射体。
9. The reflector for lighting equipment according to claim 7, wherein the reflector is used as a lamp reflector of a vehicle.
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