JP2001347394A - はんだ合金及びはんだボール - Google Patents

はんだ合金及びはんだボール

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 Pbの含有量を1.0重量%以下に留めなが
ら、液相線温度がSn−Pb共晶系はんだ合金に近い1
70〜205℃程度とでき、さらに従来の無鉛はんだよ
りも強度あるいは耐酸化性が改善されたはんだ合金を提
供する。 【解決手段】 Snを主成分とし、Zn5.0〜10.
0重量%及びAl0.01〜0.50重量%とを含有さ
せる。また、Snを主成分とし、Bi22.0〜42.
0重量%及びAl0.01〜0.50重量%とを含有さ
せる。このような組成の採用により、Snを主体としつ
つPbの含有量を大幅に削減しても、はんだ合金の液相
線温度をより低温でのはんだ付けに好適なものに設定で
きる。これにより、例えば従来のSn−Pb共晶系はん
だと同様の接合処理温度が採用できるようになる。ま
た、Alを上記のように微量添加することにより、はん
だ合金の接合強度を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明ははんだ合金の組成お
よびBGA等に使用されるはんだボールに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、集積回路チップや集積回路基板な
どの電子部品の接合用には、ほとんどの場合においてS
n−Pb系はんだ合金が用いられてきたが、環境保護の
観点からPbを含有したはんだは次第に敬遠されてお
り、近い将来、有鉛はんだの使用を全廃しようとの動き
もある。これを受けて近年、Pbを使用しない無鉛はん
だの開発が精力的に進められている。無鉛はんだは、例
えばSn−Pb系はんだの代替となるものであるから、
電気的特性を始め、はんだ付け性(被接合体表面とのぬ
れ性)あるいは接合強度において著しく劣るものであっ
てはならない。これら無鉛はんだの具体例として、Sn
−Ag−Cu系はんだ、Sn−Bi系はんだ及びSn−
Zn系はんだ等が代用組成として考案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の無鉛はんだは、はんだ付け性や接合強度あるいは耐
酸化性に劣り、これらを改善しようとしてAgやCu等
の含有量を増やすと液相線温度が高くなり、はんだリフ
ロー条件等の変更を余儀なくされるという問題があっ
た。
【0004】本発明の課題は、Pbの含有量を1.0重
量%以下に留めながら、液相線温度がSn−Pb共晶系
はんだ合金に近い170〜205℃程度とでき、さらに
従来の無鉛はんだよりも強度あるいは耐酸化性が改善さ
れたはんだ合金を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段及び作用・効果】上記課題
を解決するために、本発明のはんだ合金の第一の構成
は、Snを主成分とし、Zn5.0〜10.0重量%及
びAl0.01〜0.50重量%とを含有することを特
徴とする。なお、本明細書において、「主成分」(「主
体」あるいは「主に」等も同義)とは、着目している物
質において、含有率(重量%)のもっとも高い成分を意
味する。
【0006】上記のような組成を採用することで、Sn
を主体としつつPbの含有量を大幅に削減しても、はん
だ合金の液相線温度をより低温でのはんだ付けに好適な
ものに設定できる。これにより、例えば従来のSn−P
b共晶系はんだと同様の接合処理温度が採用できるよう
になる。液相線温度は具体的には170〜205℃の範
囲に調整する。また、Alを上記のように微量添加する
ことにより、はんだ合金の接合強度を向上させることが
できる。
【0007】上記本発明のはんだ合金において、Znの
含有量が10.0重量%を超えると、はんだ合金の液相
線温度と固相線温度との差が大きくなり、偏析や、凝固
時の固液共存時間が長くなることによる接続欠陥等が生
じ易くなる。また、Znの含有量が多くなりすぎると、
はんだの表面の酸化が激しくなり、ぬれ性が著しく劣化
するという問題もある。一方、Znの含有量が5.0重
量%未満になると、Znを含有することによる液相線温
度低下の効果が少なくなる。それ故、Znの含有量は
5.0〜10.0重量%の範囲で設定するのが良く、よ
り望ましくは7.0〜9.5重量%の範囲で調整するの
が良い。
【0008】上記本発明のはんだ合金において、Alの
含有量が0.01重量%未満になると強度向上効果が不
充分となる。一方、0.50重量%を超えてAlを含有
させても、それ以上の強度向上効果が見込めなくなるば
かりでなく、Alの含有量が過剰となってはんだの流動
性に悪影響を及ぼすこともある。それ故、Alの含有量
は0.01〜0.50重量%の範囲で設定するのが良
く、より望ましくは0.03〜0.20重量%の範囲で
設定するのが良い。
【0009】Al添加によるはんだの強度向上効果は、
はんだ合金中に分散形成されている層状の組織(いわゆ
るラメラ構造)が微細化すること及び析出物の形成と関
係していると考えられる。Alの添加はラメラ間隔を細
かくする効果を有するとともに、添加されたAlは析出
物を形成する。ラメラ間隔が細かくなる効果及び析出物
形成による強化の効果によって、強度が向上すると推測
される。そして、Alの含有量が0.01重量%未満に
なるとラメラ間隔の微細化と析出物の形成が十分でなく
なるため、強度向上効果が不充分となるものと推測され
る。なお、ラメラの形成間隔は5μm以下になっている
のが良い。ラメラの形成間隔が5μmを超えると、強度
向上効果が不十分となる場合がある。他方、ラメラの形
成間隔の下限値に特に制限はないが、一般的なはんだリ
フロー工程におけるリフロー後の冷却速度を考慮すれ
ば、ラメラの形成間隔が1μm未満となることはほとん
どない。
【0010】上記のはんだ合金は、Snを主成分とし、
Zn6.0〜8.0重量%及びIn6.0〜11.0重
量%とを含有するものとすることができる。
【0011】上記のような組成範囲のInを含有させる
ことにより、はんだのぬれ性及び耐酸化性を向上させる
ことができる。そして、これを前提として、はんだ合金
の液相線温度を適度に低下させるため、Znの含有量は
6.0〜8.0重量%に設定する。これにより、例えば
従来のSn−Pb共晶系はんだと同様の接合処理温度が
採用できるようになる。
【0012】Inの含有量が6.0重量%未満になる
と、はんだのぬれ性及び耐酸化性が低下し、はんだ付け
性が不充分となる場合がある。一方、Inの含有量が1
1.0重量%を超えると、合金の例えば液相線温度が低
くなり過ぎて、Sn−Pb共晶系はんだ合金と同様の接
合処理温度が採用できなくなる。それ故、Inの含有量
は6.0〜11.0重量%の範囲で設定するのが良い。
【0013】次に、本発明のはんだ合金の第二の構成
は、Snを主成分とし、Bi22.0〜42.0重量%
及びAl0.01〜0.50重量%とを含有することを
特徴とする。
【0014】上記のような組成を採用することで、第一
の構成と同様に、Snを主体としつつPbの含有量を大
幅に削減しても、はんだ合金の液相線温度をより低温で
のはんだ付けに好適なものに設定できる。これにより、
例えば従来のSn−Pb共晶系はんだと同様の接合処理
温度が採用できるようになる。液相線温度は具体的には
170〜205℃の範囲に調整する。また、Alを上記
のように微量添加することにより、はんだ合金の接合強
度を向上させることができる。
【0015】上記本発明のはんだ合金の第二の構成にお
いて、Biの含有量が22.0重量%未満になると、合
金の例えば液相線温度が高くなり、はんだ付けには不適
となる。一方、Biの含有量が42.0重量%を超える
と、液相線温度が低くなりすぎて、Sn−Pb共晶系は
んだ合金と同様の接合処理温度が採用できなくなる。さ
らにBiが含有されすぎると、接合強度が低くなるとい
った問題もある。それ故、Biの含有量は22.0〜4
2.0重量%の範囲で設定するのが良く、より望ましく
は25〜36重量%の範囲で調整するのが良い。また、
Alの含有量の限定理由は第一の構成と同様である。
【0016】本発明のはんだ合金の第一及び第二の構成
においては、Pbの含有量は1.0重量%以下であるの
が良く、望ましくは、不可避不純物を除いて含有されて
いないのが良い。
【0017】また、上記本発明のはんだ合金には、N
i,Cu,Agから選ばれる1種または2種以上を、N
iが0.01〜3.0重量%、Cuが0.01〜1.0
重量%、Agが0.01〜5.0重量%の範囲にて含有
させることができる。
【0018】上記本発明のはんだ合金に、Ni、Cu、
Agを含有させることにより、そのはんだ合金のぬれ性
あるいは耐酸化性を向上させることができる。各々の含
有量がNiは3.0重量%、Cuは1.0重量%、Ag
は5.0重量%を超えると液相線温度が高くなり、はん
だ付けには不適となる。他方、Ni、Cu、Agの各々
の含有量が0.01重量%未満になると、これらの成分
を含有させる効果がほとんど得られない。それ故、N
i,Cu,Agの含有量は、望ましくはNiは0.01
〜3.0重量%、Cuは0.01〜1.0重量%、Ag
は0.01〜5.0重量%の範囲で設定するのが良い。
各々の含有量の範囲は1種のみ含有させる場合でも、2
種以上含有させる場合でも同じである。
【0019】上記本発明のはんだ合金により、BGA
(ボールグリッドアレイ)等に使用されるはんだボール
を構成することができる。このようなはんだボールは、
例えば遠心噴霧法によって製造することができる。そし
て、本発明の合金組成の採用により、真球度の高いはん
だボールが製造可能となる。その理由としては、本発明
のはんだ合金は耐酸化性に優れていることから、酸化に
よる表面張力の変動が防止されることが考えられる。遠
心噴霧法は、例えば高速回転する回転円盤に溶融したは
んだ合金を流下、衝突させて遠心力により飛散、微粒化
させる方法を例示できる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の効果を確かめるために、次の
実験を行った。 (実施例1)Sn−9重量%Znの合金組成をベースと
して、これにAlを各種含有比率にて添加した場合の、
はんだ合金の硬さ変化について調べるために、合金原料
を表1の各種組成になるように配合し、溶解することに
より各種合金を作製した。次に各合金において、ビッカ
ース硬さをJIS−Z2244に規定されている方法に
より、マイクロビッカース硬度計を用いて、試験荷重5
0gfにて測定した。また、はんだ合金の広がり率をJ
IS−Z3197に規定されている方法で測定した。以
上の結果を表1に示す。
【0021】
【表1】
【0022】Alを添加することにより、添加しない場
合と比較してはんだ合金の硬さが明らかに大きくなって
いることがわかる。また、はんだ合金の硬さは、Alの
添加量が増加するに従い大きくなるが、Alの添加量が
0.50重量%以上ではAl添加量を増加させても、大
幅な硬さの増加は見られないこともわかる。
【0023】(実施例2)Sn−29重量%Biの合金
組成をベースとして、これにAlを各種含有比率にて添
加した場合の、はんだ合金の硬さ変化について、実施例
1と同様に調べた。結果を表2に示す。
【0024】
【表2】
【0025】Sn−Zn系はんだ合金と同様に、Alを
添加することによりはんだ合金の硬さが大きくなってい
ることがわかる。
【0026】(実施例3)表3に示す各種はんだ合金を
実施例1と同様に調製し、広がり率を調べた。なお、表
3には示差熱分析により測定した各はんだ合金の固相線
温度及び液相線温度も合わせて示している。
【0027】
【表3】
【0028】この結果によると、Sn−Zn系はんだ合
金にInを添加することによって、はんだ合金の広がり
率が明らかに向上していることがわかる。これは、In
を本発明の組成範囲で含有することにより、はんだのぬ
れ性が向上するためであると考えられる。また、Znを
5.0〜10.0、Inを6.0〜11.0の範囲で調
整することにより、Sn−Pb共晶系はんだ合金と同等
の液相線温度及びぬれ性を有するはんだ合金を得ること
が可能であることがわかる。
【0029】(実施例4)表4に示す組成にて、Ni、C
uあるいはAgを含有するはんだ合金を実施例1と同様
に調製し、広がり率によるぬれ性及びはんだの液相線を
測定した。表4にその結果を示す。
【0030】
【表4】
【0031】すなわち、Ni,Cu、Agを1種あるい
は2種以上、Niは0.01〜3.0重量%、Cuは
0.01〜1.0重量%、Agは0.01〜5.0重量
%の範囲で添加することにより、液相線温度をそれほど
上昇させることなく、広がり率が示すぬれ性も良好に維
持できていることがわかる。
【0032】(実施例5)表5に示す各種組成の合金か
らなるはんだボールを遠心噴霧法により作製した。具体
的には、図1のような遠心噴霧装置において、高速回転
する回転円盤1の中心に溶融したはんだ合金2を上方か
ら流下し、回転円盤に衝突させて遠心力により飛散、微
粒化させることによりはんだボール3を作製した。な
お、具体的な遠心噴霧の条件は、円盤材質はTiとし、
円盤の半径は100mm、円盤の回転数は15000r
pmとした。作製したはんだボールは、標準ふるいを用
いて粒度分布を測定するとともに、粒度100〜106
μmの範囲に属するボールの回収率と、粒度の標準偏差
を求めた。また、粒度100〜106μmの範囲に属す
るボールについては、真球度(ボールの表面に外接する
最小球面と、ボール表面の各点との半径方向の距離の最
大値)を、公知の3次元形状測定装置を用いて測定し
た。結果を表5に示す。粒度分布の結果は、表に示す各
粒度クラス(単位:μm、ただし、各クラスは下限値を
含み、上限値は含まない)に属するはんだボールの重量
割合(重量%)にて示している。また、真球度の判定
は、真球度が30μm未満なら良好(○)、30以上で
あり60μm未満なら可(△)、60以上なら不可
(×)としている。
【0033】
【表5】
【0034】すなわち、本発明の組成を有するはんだ合
金にて構成されるはんだボールは粒度分布幅が狭く、所
望の粒度(100〜106μm)の回収率が高いと同時
に、真球度も良好であることがわかる。このような回収
率及び真球度の高いBGA用はんだボールが得られる理
由は、はんだ合金の耐酸化性が向上したためであると考
えられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】遠心噴霧法によるはんだボールの製造方法を説
明する図。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 Snを主成分とし、Zn5.0〜10.
    0重量%及びAl0.01〜0.50重量%を含有する
    ことを特徴とするはんだ合金。
  2. 【請求項2】 Zn6.0〜8.0重量%及びIn6.
    0〜11.0重量%を含有することを特徴とする請求項
    1に記載のはんだ合金。
  3. 【請求項3】 Snを主成分とし、Bi22.0〜4
    2.0重量%及びAl0.01〜0.50重量%を含有
    することを特徴とするはんだ合金。
  4. 【請求項4】 Ni,Cu,Agから選ばれる1種また
    は2種以上を、Niが0.01〜3.0重量%、Cuが
    0.01〜1.0重量%、Agが0.01〜5.0重量
    %の範囲で含有することを特徴とする請求項1ないし3
    のいずれかに記載のはんだ合金。
  5. 【請求項5】 Pbの含有量が1.0重量%以下である
    ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の
    はんだ合金。
  6. 【請求項6】 請求項1から5に記載のはんだ合金にて
    構成されたことを特徴とするはんだボール。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003061896A1 (fr) * 2002-01-21 2003-07-31 Fujitsu Limited Alliage de brasage et joint brase
WO2003061897A1 (fr) * 2002-01-22 2003-07-31 Japan Science And Technology Corporation Materiau de soudage sans plomb
WO2007029329A1 (ja) * 2005-09-09 2007-03-15 Fujitsu Limited はんだ合金、そのはんだ合金を用いた電子基板およびその製造方法
CN100413634C (zh) * 2005-12-12 2008-08-27 黄德欢 一种低熔点无铅焊锡
WO2008130012A1 (ja) * 2007-04-17 2008-10-30 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha パワー半導体モジュール
JP2008284583A (ja) * 2007-05-17 2008-11-27 Murata Mfg Co Ltd ソルダペースト、および接合物品
US7829199B2 (en) 2004-04-21 2010-11-09 Nec Corporation Solder, and mounted components using the same
CN103231180A (zh) * 2013-05-15 2013-08-07 郑州机械研究所 铝合金低温钎焊钎料及其制备方法
JP2013163207A (ja) * 2012-02-10 2013-08-22 Nihon Superior Co Ltd Sn−Bi系はんだ合金
CN108374104A (zh) * 2018-03-09 2018-08-07 广西大学 一种低熔点Sn-Bi-Al系无铅焊料合金材料及其制备方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102814595B (zh) * 2012-05-05 2015-04-08 大连理工大学 用于铝铜软钎焊的Sn-Zn基近共晶无铅钎料合金

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003061896A1 (fr) * 2002-01-21 2003-07-31 Fujitsu Limited Alliage de brasage et joint brase
US6893512B2 (en) 2002-01-21 2005-05-17 Fujitsu Limited Solder alloy and soldered bond
WO2003061897A1 (fr) * 2002-01-22 2003-07-31 Japan Science And Technology Corporation Materiau de soudage sans plomb
US7829199B2 (en) 2004-04-21 2010-11-09 Nec Corporation Solder, and mounted components using the same
WO2007029329A1 (ja) * 2005-09-09 2007-03-15 Fujitsu Limited はんだ合金、そのはんだ合金を用いた電子基板およびその製造方法
CN100413634C (zh) * 2005-12-12 2008-08-27 黄德欢 一种低熔点无铅焊锡
WO2008130012A1 (ja) * 2007-04-17 2008-10-30 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha パワー半導体モジュール
JP2008284583A (ja) * 2007-05-17 2008-11-27 Murata Mfg Co Ltd ソルダペースト、および接合物品
JP2013163207A (ja) * 2012-02-10 2013-08-22 Nihon Superior Co Ltd Sn−Bi系はんだ合金
CN103231180A (zh) * 2013-05-15 2013-08-07 郑州机械研究所 铝合金低温钎焊钎料及其制备方法
CN108374104A (zh) * 2018-03-09 2018-08-07 广西大学 一种低熔点Sn-Bi-Al系无铅焊料合金材料及其制备方法

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