JP2001345312A5 - - Google Patents
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical group Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 210000001015 abdomen Anatomy 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001097001A JP4478352B2 (ja) | 2000-03-29 | 2001-03-29 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法並びに構造体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000091709 | 2000-03-29 | ||
| JP2000-91709 | 2000-03-29 | ||
| JP2001097001A JP4478352B2 (ja) | 2000-03-29 | 2001-03-29 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法並びに構造体の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001345312A JP2001345312A (ja) | 2001-12-14 |
| JP2001345312A5 true JP2001345312A5 (https=) | 2008-05-22 |
| JP4478352B2 JP4478352B2 (ja) | 2010-06-09 |
Family
ID=26588740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001097001A Expired - Lifetime JP4478352B2 (ja) | 2000-03-29 | 2001-03-29 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法並びに構造体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4478352B2 (https=) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3874726B2 (ja) | 2001-01-18 | 2007-01-31 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ生成方法 |
| JP3625197B2 (ja) | 2001-01-18 | 2005-03-02 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ装置およびプラズマ生成方法 |
| JP5312411B2 (ja) * | 2003-02-14 | 2013-10-09 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ発生装置およびリモートプラズマ処理装置 |
| CN100527365C (zh) * | 2003-03-25 | 2009-08-12 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子成膜方法以及等离子成膜装置 |
| JP4369264B2 (ja) * | 2003-03-25 | 2009-11-18 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ成膜方法 |
| JP2006040609A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Naohisa Goto | プラズマ処理装置および方法、並びにフラットパネルディスプレイ装置の製造方法 |
| JP2009224455A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Tokyo Electron Ltd | 平面アンテナ部材およびこれを備えたプラズマ処理装置 |
| US9928993B2 (en) | 2015-01-07 | 2018-03-27 | Applied Materials, Inc. | Workpiece processing chamber having a rotary microwave plasma antenna with slotted spiral waveguide |
-
2001
- 2001-03-29 JP JP2001097001A patent/JP4478352B2/ja not_active Expired - Lifetime
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