JP2001343758A - Development processing method for photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Development processing method for photosensitive planographic printing plate

Info

Publication number
JP2001343758A
JP2001343758A JP2000161849A JP2000161849A JP2001343758A JP 2001343758 A JP2001343758 A JP 2001343758A JP 2000161849 A JP2000161849 A JP 2000161849A JP 2000161849 A JP2000161849 A JP 2000161849A JP 2001343758 A JP2001343758 A JP 2001343758A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
group
compound
alkali
developing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP2000161849A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Takamiya
周一 高宮
Tadao Toyama
忠夫 登山
Hiroyuki Sasayama
笹山  洋行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000161849A priority Critical patent/JP2001343758A/en
Publication of JP2001343758A publication Critical patent/JP2001343758A/en
Abandoned legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a development processing method which is capable of maintaining the development activity of a developer, regardless of the amount of the photosensitive materials to be subjected to development processing within a prescribed time. SOLUTION: This development processing method for photosensitive planographic printing plates is characterized in that the activity of the developer is maintained constant, by replenishing the developer by using a development replenishing liquid, which compensates for the degradation in the activity of the developer by the processing method of the photosensitive planographic printing plates and a development replenishing liquid which compensates for the degradation in the activity of the developer with the lapse of time, which are different in alkalinity concentration. The development processing method for the photosensitive planographic printing plates is characterized, in that the developer is replenished with the development replenishing liquid which is the same as the concentrated stock solution of the replenishing liquid for replenishing degradation in the activity by the processing and the replenishing liquid for replenishing the degradation in the activity with the lapse of time but which varies in dilution ratio in this development processing described.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料の現像処
理方法に関し、詳しくは感光材料を現像する際に現像液
の現像活性を一定に保持することのできる現像処理方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for developing a light-sensitive material, and more particularly to a method for developing a light-sensitive material capable of maintaining a constant developing activity of a developing solution when developing the light-sensitive material.

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷版の中で特に多量に使用されて
いるポジ型感光性平版印刷版(PS版)を例にとると、
感光性平版印刷版の露光、現像過程は概略的に次のとお
りである。ポジ型PS版は典型的には、アルミニウム板
上にo−キノンジアジド化合物を含む組成物からなる感
光層を設けたものであるが、o−キノンジアジド化合物
は基本的には、活性光線が照射されると分解してカルボ
キシル基を持つ化合物となる。従ってポジ型PS版のご
ときは、感光層面を透明陽画を通して活性光線で露光す
ると、当該感光層の露光領域に存在するo−キノンジア
ジド化合物はカルボン酸に変化し、次いでこれを、現像
液としてアルカリ性水溶液で現像するとアルカリ性水溶
液中に溶解して除去されるので、PS版にはポジ画像が
形成される。そしてこのときにアルカリ性の現像液中に
溶解した前記カルボン酸及びPS版の感光層中に含まれ
ている他の酸性成分、さらには空気中から溶解・侵入し
てくる炭酸ガスが現像液中のアルカリ性成分と反応し、
これを消費してしまう。つまりPS版の現像により現像
液中のアルカリ性成分が減少することとなる。また、現
像液における水分の蒸発や炭酸ガス混入による疲労も、
現像液の現像活性を変化させる要因である。
2. Description of the Related Art In the case of a positive photosensitive lithographic printing plate (PS plate), which is used in a particularly large amount among lithographic printing plates,
The exposure and development processes of the photosensitive lithographic printing plate are schematically as follows. The positive PS plate typically has a photosensitive layer made of a composition containing an o-quinonediazide compound provided on an aluminum plate, but the o-quinonediazide compound is basically irradiated with actinic rays. Decomposes into a compound having a carboxyl group. Therefore, in the case of a positive PS plate, when the photosensitive layer surface is exposed to actinic rays through a transparent positive image, the o-quinonediazide compound present in the exposed area of the photosensitive layer changes to carboxylic acid, which is then used as a developing solution in an alkaline aqueous solution. When the development is carried out, a positive image is formed on the PS plate since it is dissolved and removed in an alkaline aqueous solution. At this time, the carboxylic acid dissolved in the alkaline developer and other acidic components contained in the photosensitive layer of the PS plate, and further, carbon dioxide gas dissolved / invaded from the air is contained in the developer. Reacts with alkaline components,
You consume this. That is, the alkaline component in the developing solution is reduced by the development of the PS plate. In addition, fatigue caused by evaporation of water and carbon dioxide gas in the developer,
It is a factor that changes the developing activity of the developer.

【0003】このように、感光材料の現像では、現像液
を調製した直後は所望の適正な現像効果が得られるので
あるが、感光材料の繰り返し現像や調製後経過する時
間、その他の要因によって現像液の現像活性は低下す
る。そこで通常は、このような現像液のアルカリ性成分
の減少分や水分の蒸発による減少分を補充して、現像液
の現像活性を維持しようとすることが行われている。従
来、この現像液の補充方法としては、ある決まった面積
の印刷版を処理して、それによって生じた次の処理にお
ける印刷版の感度の低下を防ぐに必要な補充のための液
(補充液)の量を実際に算出して求め、さらに処理する
印刷版の単位面積当たり必要な量に換算しておき、印刷
版の処理ごとに印刷版の処理する面積に相当する量の或
いは一定時間ごとに平均的な必要量を添加して、現像液
中のアルカリ性成分の減少分の補充を行ってきた。しか
しながら、このような方法では短時間に多量の版が処理
された場合には、補充作業がわずらわしいことのほか、
上述したごとく予め算出しておいた量の補充液を添加す
ると、むしろアルカリ性成分の割合が増大して印刷版に
みかけの感度上昇をもたらし、それが著しい場合には、
その結果として印刷版としての耐刷不良や着肉不良の原
因をもたらし、またその反面、長時間にわたって少量の
版しか処理されない場合には印刷版にみかけの感度低下
をもたらし、それが著しい場合には印刷版特性として、
印刷物の汚れをきたすことにもなっていた。
As described above, in developing a photosensitive material, a desired and appropriate developing effect can be obtained immediately after the developer is prepared. However, the development of the photosensitive material depends on the repeated development of the photosensitive material, the time elapsed after the preparation, and other factors. The developing activity of the solution decreases. Therefore, it is usual to maintain the developing activity of the developer by replenishing such a decrease in the alkaline component of the developer or a decrease due to evaporation of water. Conventionally, as a method of replenishing the developing solution, a replenishing solution (replenishing solution) necessary for processing a printing plate having a predetermined area and preventing a decrease in the sensitivity of the printing plate in the next process caused by the processing is described. ) Is actually calculated and obtained, and is converted into a necessary amount per unit area of the printing plate to be further processed. The amount of the alkaline component in the developing solution has been replenished by adding an average required amount to the developing solution. However, in such a method, when a large number of plates are processed in a short time, replenishment work is troublesome,
As described above, the addition of a pre-calculated amount of replenisher rather increases the proportion of the alkaline component, causing an apparent increase in the sensitivity of the printing plate.
As a result, the printing plate causes poor printing durability and poor inlay, and on the other hand, when only a small amount of the plate is processed for a long time, the printing plate has an apparent decrease in sensitivity. Is a printing plate characteristic,
It was supposed to stain the printed matter.

【0004】このように現像液の現像活性を常に一定の
レベルに保つことは、当業者にとって重要ではあるが、
かなり面倒で、技術的にも困難であった。本発明者らは
この問題点を解決するため、現像処理に用いられる現像
液に対して、そのアルカリ強度よりも大なるアルカリ強
度を示す第一の補充液を感光材料の処理のたびごとに添
加し、さらに上記現像液のアルカリ強度よりも大なるア
ルカリ強度を示す第二の補充液を一定の割合の量で連続
的に、あるいは一定時間ごとに一定の量を間欠的に添加
することを特徴とする現像液の現像活性を一定に保つ方
法を提案した(特開昭55−115039号公報)。こ
こで第一の補充液と第二の補充液は同一のものである。
しかしながら、上述のとおり同一の補充液を使用して経
時的系統と使用・消費による系統との2系列による補充
によってもなお、不都合な点がある。すなわち、所定時
間に比較的多量に感光材料を現像処理する場合には、水
分の蒸発分を超えて水分が補充されることとなり、水が
過剰となりアルカリ強度が不足することになる。一方所
定時間に少量の感光材料しか現像処理しない場合には、
消費されるアルカリ分を超えてアルカリ分が補充される
こととなり、アルカリ強度が過剰となり水分が不足した
状態となる。このような状況から、依然として、現像液
の現像活性を常に一定のレベルに保つ手段が求められて
いる。
Although it is important for those skilled in the art to always keep the developing activity of a developer at a constant level,
It was quite troublesome and technically difficult. In order to solve this problem, the present inventors have added a first replenisher having an alkali strength higher than the alkali strength thereof to the developer used for the development processing every time the photosensitive material is processed. Further, a second replenisher having an alkali strength greater than the alkali strength of the developer is continuously added at a constant rate, or a constant amount is added intermittently at regular intervals. (Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-115039). Here, the first replenisher and the second replenisher are the same.
However, as described above, there is still an inconvenience even when the two replenishing systems are used, one using the same replenisher and the other using the consumption and consumption. That is, when the photosensitive material is developed in a relatively large amount in a predetermined time, the water is replenished beyond the evaporation of the water, so that the water becomes excessive and the alkali strength becomes insufficient. On the other hand, if only a small amount of photosensitive material is developed in a given time,
The alkali content is replenished in excess of the consumed alkali content, and the alkali strength becomes excessive and the water content becomes insufficient. Under such circumstances, there is still a need for a means for maintaining the developing activity of the developer at a constant level.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、所定時間内
に現像処理する感光材料の量の多少にかかわらずに、現
像液の現像活性を一定に保持することのできる現像処理
方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a developing method capable of keeping the developing activity of a developing solution constant irrespective of the amount of photosensitive material to be developed within a predetermined time. It is in.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、従来の経時的
系統と使用・消費による系統との2系列による現像液の
補充において、両者の補充液のアルカリ濃度を異なるも
のとすることによって、現像液の現像活性を一定に保持
することのできることを見出した。従って本発明は、感
光性平版印刷版の処理による現像液の活性度の低下を補
う現像補充液と、経時による現像液の活性度の低下を補
う現像補充液とのアルカリ濃度が異なる現像補充液を用
いて補充することにより、現像液の活性度を一定に保つ
ことを特徴とする、感光性平版印刷版の現像処理方法に
関する。本発明はまた、上記の現像処理方法において、
処理による活性度の低下及び経時による活性度の低下を
補充するための補充液の濃縮原液は同一であるが、希釈
比率が異なる現像補充液を補充することを特徴とする感
光性平版印刷版の現像処理方法に関する。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, the replenishment of the developing solution by the conventional two-time system and the system using and consuming has been described. It has been found that the developing activity of the developer can be kept constant by making the replenishers different in alkali concentration. Therefore, the present invention provides a development replenisher having a different alkali concentration between a development replenisher which compensates for the decrease in the activity of the developer due to the processing of the photosensitive lithographic printing plate and a development replenisher which compensates for the decrease in the activity of the developer over time. The present invention relates to a method for developing a photosensitive lithographic printing plate, characterized in that the activity of a developer is kept constant by replenishing with a developer. The present invention also provides the above development processing method,
A concentrated lithographic printing plate comprising replenishing a developing replenisher having the same concentration of a replenisher for replenishing the decrease in activity due to processing and the decrease in activity over time, but having a different dilution ratio. The present invention relates to a developing method.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
先ず、本発明の現像処理方法に使用しうる現像剤(現像
浴に処理開始当初に仕込む現像液)としては、アルカリ
現像処理液が挙げられ、特に制限はなく、その基本的な
処方は公知のアルカリ現像処理液を用い、所定量の界面
活性剤を添加するものである。アルカリ現像処理液(以
下、単に現像液ともいう。)はアルカリ性の水溶液であ
って、従来公知のアルカリ水溶液の中から適宜選択する
ことができる。アルカリ水溶液としては、ケイ酸アルカ
リ若しくは非還元糖と、塩基とからなる現像液が挙げら
れ、特にpH12.5〜13.5のものが好ましい。前記ケ
イ酸アルカリとしては、水に溶解したときにアルカリ性
を示すものであり、例えばケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム、ケイ酸リチウムなどのアルカリ金属ケイ酸塩、
ケイ酸アンモニウムなどが挙げられる。ケイ酸アルカリ
は1種単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
First, examples of the developer (developer to be initially charged in the developing bath) which can be used in the developing method of the present invention include an alkali developing solution, and there is no particular limitation. It uses an alkali developing solution and adds a predetermined amount of a surfactant. The alkali developing solution (hereinafter, also simply referred to as a developer) is an aqueous alkaline solution, and can be appropriately selected from conventionally known aqueous alkaline solutions. Examples of the aqueous alkali solution include a developing solution composed of an alkali silicate or a non-reducing sugar and a base, and those having a pH of 12.5 to 13.5 are particularly preferable. As the alkali silicate, those which show alkalinity when dissolved in water, for example, sodium silicate, potassium silicate, alkali metal silicates such as lithium silicate,
Ammonium silicate and the like. The alkali silicate may be used alone or in combination of two or more.

【0008】上記アルカリ水溶液は、ケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素SiO2とアルカリ酸化物M2O(Mはア
ルカリ金属又はアンモニウム基を表す。)との混合比
率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節するこ
とができる。前記アルカリ水溶液の中でも、前記酸化ケ
イ素SiO2とアルカリ酸化物M2Oとの混合比率(Si
2/M2O:モル比)が0.5〜3.0のものが好ましく、
1.0〜2.0のものがより好ましい。前記SiO2/M2
が0.5未満であると、アルカリ強度が強くなっていくた
め、平版印刷用原版の支持体として汎用のアルミニウム
板などをエッチングしてしまうといった弊害を生ずるこ
とがあり、3.0を超えると、現像性が低下することがあ
る。
The aqueous alkali solution is developed by adjusting the mixing ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 as a component of silicate and alkali oxide M 2 O (M represents an alkali metal or ammonium group). Sex can be easily adjusted. Among the alkaline aqueous solutions, the mixing ratio of the silicon oxide SiO 2 and the alkaline oxide M 2 O (Si
O 2 / M 2 O: molar ratio) is preferably a 0.5 to 3.0,
Those having 1.0 to 2.0 are more preferable. The SiO 2 / M 2 O
If the value is less than 0.5, the alkali strength is increased, so that a harmful effect of etching a general-purpose aluminum plate or the like as a support for the lithographic printing plate precursor may occur. In some cases, the developability may decrease.

【0009】また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度と
しては、アルカリ水溶液の質量に対して1〜10質量%
が好ましく、3〜8質量%がより好ましく、4〜7質量
%が最も好ましい。この濃度が1質量%未満であると現
像性、処理能力が低下することがあり、10質量%を超
えると沈澱や結晶を生成しやすくなり、さらに廃液時の
中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支障をきた
すことがある。
The concentration of the alkali silicate in the developer is 1 to 10% by mass based on the mass of the aqueous alkali solution.
Is preferably 3 to 8% by mass, and most preferably 4 to 7% by mass. If the concentration is less than 1% by mass, developability and processing capacity may be reduced. If the concentration is more than 10% by mass, precipitates and crystals are easily formed, and gelation tends to occur during neutralization at the time of waste liquid. In some cases, waste liquid treatment may be hindered.

【0010】非還元糖と塩基とからなる現像液におい
て、非還元糖とは遊離性のアルデヒド基やケトン基を持
たないために還元性を有しない糖類を意味し、還元基同
士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非
糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖
アルコールに分類される。本発明ではこれらのいずれも
好適に用いることができる。トレハロース型少糖類とし
ては、例えばサッカロースやトレハロースが挙げられ、
前記配糖体としては、例えばアルキル配糖体、フェノー
ル配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。糖アルコ
ールとしては、例えばD,L−アラビット、リビット、
キシリット、D,L−ソルビット、D,L−アンニッ
ト、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシッ
ト、アロズルシットなどが挙げられる。さらには、二糖
類の水素添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素
添加で得られる還元体(還元水あめ)なども好適に挙げ
ることができる。
[0010] In a developer comprising a non-reducing sugar and a base, the non-reducing sugar means a saccharide which does not have a reducing property because it has no free aldehyde group or ketone group. Type oligosaccharides, glycosides in which a reducing group of a saccharide is bonded to a non-saccharide, and sugar alcohols obtained by hydrogenating and reducing a saccharide are classified. In the present invention, any of these can be suitably used. Examples of trehalose-type oligosaccharides include saccharose and trehalose,
Examples of the glycoside include an alkyl glycoside, a phenol glycoside, and a mustard oil glycoside. As sugar alcohols, for example, D, L-arabit, rebit,
Xylit, D, L-sorbit, D, L-unnit, D, L-idit, D, L-tallit, zuricit, allozurcit, and the like. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide, a reductant (reduced starch syrup) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide, and the like can also be preferably mentioned.

【0011】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、D−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に
緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖は
単独でも、二種以上を組み合わせてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.1〜30質量%が好ましく、1
〜20質量%がより好ましい。
Among the above, as the non-reducing sugar, sugar alcohols and saccharose are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose and reduced starch syrup are more preferable because they have a buffering action in an appropriate pH range. These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more, and the ratio in the developer is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1 to 30% by mass.
-20 mass% is more preferable.

【0012】前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖に
は、塩基としてアルカリ剤を従来公知の物の中から適宜
選択して組み合わせることができる。該アルカリ剤とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、
リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無
機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウ
ム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。
The alkali silicate or non-reducing sugar can be combined with an alkali agent as a base by appropriately selecting it from conventionally known ones. Examples of the alkali agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate,
Triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate,
Examples thereof include inorganic alkali agents such as potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate, potassium citrate, tripotassium citrate, and sodium citrate.

【0013】さらにモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も好適に
挙げることができる。これらのアルカリ剤は単独で用い
ても、二種以上を組み合わせてもよい。中でも水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由は、非
還元糖に対する添加量を調整することにより、広いpH
領域においてpH調整が可能となるためである。また、
リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので
好ましい。
Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanol Organic alkali agents such as amine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine and the like can also be suitably mentioned. These alkali agents may be used alone or in combination of two or more. Among them, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred. The reason is that by adjusting the amount added to the non-reducing sugar,
This is because the pH can be adjusted in the region. Also,
Trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are also preferable because they have a buffering action by themselves.

【0014】上述のようなアルカリ水溶液(現像液)中
には、界面活性剤を添加することが必要である。界面活
性剤としては非イオン性界面活性剤、アニオン系界面活
性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤が挙げら
れる。非イオン界面活性としては、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェ
ニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステ
ル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリス
リトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコール
モノ脂肪酸エステル類、
It is necessary to add a surfactant to the above-mentioned alkaline aqueous solution (developer). Examples of the surfactant include a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant, and an amphoteric surfactant. Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, and sorbitan fatty acid moieties. Esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters,

【0015】しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチ
レングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪
酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、
ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、
脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒド
ロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキル
アミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシドなどが好適に挙げられる。
[0015] Sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oils,
Polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters,
Suitable examples include fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, and trialkylamine oxides.

【0016】アニオン界面活性剤としては、例えば脂肪
酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホ
ン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ
琥珀酸エステル塩類、αオレフィンスルホン酸塩類、直
鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸
塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピル
スルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフ
ェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリ
ンナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド
二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、
脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル硫酸エステル塩類、
Examples of the anionic surfactant include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, α-olefinsulfonates, linear alkylbenzenesulfonates, and branched alkylsulfonates. Chain alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyltaurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinate monoamide Sodium salts, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil,
Fatty acid alkyl ester sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates,

【0017】脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エス
テル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテ
ル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン
酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合
物類などが好適に挙げられる。
Fatty acid monoglyceride sulfate salts,
Polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / anhydrous Preferable examples include partially saponified maleic acid copolymers, partially saponified olefin / maleic anhydride copolymers, and formalin condensates of naphthalenesulfonic acid salts.

【0018】カチオン性界面活性剤としては、例えばア
ルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド
等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などが
挙げられる。両性界面活性剤としては、例えばカルボキ
シベタイン類、アルキルアミノカルボン酸類、スルホベ
タイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類など
が挙げられる。以上の界面活性剤のうち、「ポリオキシ
エチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオ
キシプロピレン、ポリオキシブチレン等のポリオキシア
ルキレンに読み替えることもでき、それらもまた前記界
面活性剤に包含される。現像液中における界面活性剤濃
度としては、0.001〜10質量%が好ましく、0.00
5〜1質量%がより好ましく、0.01〜0.5質量%が最
も好ましい。
Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylenepolyamine derivatives. Examples of the amphoteric surfactant include carboxybetaines, alkylaminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfates, and imidazolines. Among the above surfactants, those referred to as `` polyoxyethylene '' can be read as polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, and polyoxybutylene, which are also included in the surfactants. You. The concentration of the surfactant in the developer is preferably 0.001 to 10% by mass, and 0.000 to 10% by mass.
The content is more preferably from 5 to 1% by mass, and most preferably from 0.01 to 0.5% by mass.

【0019】本発明の方法に用いる現像補充液は、一般
的に、補充液用の濃縮原液を水によって希釈し、現像浴
槽へ供給されるものである。本発明では、感光性平版印
刷版の処理量に応じて補充する現像補充液のアルカリ濃
度と、経時に応じて補充する現像補充液のアルカリ濃度
が異なることを特徴とする。すなわち、1種類の補充液
用濃縮原液を用いて、その希釈率を変化させて、一方が
感光性平版印刷版の処理量に応じて補充する補充液とな
り、他方は経時に応じて補充する補充液とすることがで
きる。
The developing replenisher used in the method of the present invention is generally one in which a concentrated stock solution for the replenisher is diluted with water and supplied to a developing bath. The present invention is characterized in that the alkali concentration of the developing replenisher replenished according to the processing amount of the photosensitive lithographic printing plate is different from the alkali concentration of the developing replenisher replenished over time. That is, using one kind of concentrated stock solution for replenisher, changing the dilution ratio, one is a replenisher replenished according to the processing amount of the photosensitive lithographic printing plate, and the other is a replenisher replenished over time. It can be a liquid.

【0020】本発明に使用される感光性平版印刷版の処
理量に応じて補充する補充液と、経時に応じて補充する
補充液とは、ともに、現像開始当初に現像浴槽に仕込ま
れるアルカリ現像液よりもアルカリ強度が高いものであ
る。各補充液は前述した現像液の成分と同様なアルカリ
性性物質の水溶液である。各々の補充液に用いられるア
ルカリ性物質は、現像液に用いられているアルカリ性物
質と同一のものでもよく、異なったものであってもよ
い。また、組成としても同一のものであってもよく異な
ったものであってもよい。各々の補充液間についても同
様である。1種類の補充液用濃縮原液を用いて、その希
釈率を変化させて各補充液とすることができる。あるい
は、各々の補充液は、常法に従ってアルカリ濃度や混合
比率(SiO2/M2O)などを調整したものであってよ
いが、両者のアルカリ濃度は異なっている。本発明の方
法に使用される感光性平版印刷版の処理量に応じて補充
する補充液において、アルカリ性物質の濃度は、1〜1
0質量%が適当であり、好ましくは3〜8質量%であ
る。より好ましくは4〜6質量%である。一方、経時に
応じて補充する補充液におけるアルカリ性物質の濃度
は、1〜10質量%が適当であり、好ましくは1〜6質
量%である。より好ましくは2〜4質量%である。
The replenisher replenished in accordance with the processing amount of the photosensitive lithographic printing plate used in the present invention and the replenisher replenished in accordance with the passage of time are both alkali developing solution charged in a developing bath at the beginning of development. It has a higher alkali strength than the liquid. Each replenisher is an aqueous solution of an alkaline substance similar to the components of the developer described above. The alkaline substance used in each replenisher may be the same as or different from the alkaline substance used in the developer. Further, the composition may be the same or different. The same is true for each replenisher. Each replenisher can be prepared by using one kind of concentrated stock solution for replenisher and changing the dilution ratio. Alternatively, each replenisher may be prepared by adjusting the alkali concentration and the mixing ratio (SiO 2 / M 2 O) according to a conventional method, but the two have different alkali concentrations. In the replenisher replenished according to the processing amount of the photosensitive lithographic printing plate used in the method of the present invention, the concentration of the alkaline substance is 1 to 1
0 mass% is appropriate, and preferably 3 to 8 mass%. More preferably, it is 4 to 6% by mass. On the other hand, the concentration of the alkaline substance in the replenisher replenished with the passage of time is suitably 1 to 10% by mass, and preferably 1 to 6% by mass. More preferably, it is 2 to 4% by mass.

【0021】なお、現像補充液における界面活性剤の濃
度は、当初のアルカリ現像液の濃度よりも高いことが必
要であり、好ましくは1.2〜50倍量であるが、より好
ましくは2〜25倍量であり、さらに好ましくは3〜1
5倍量である。界面活性剤の濃度が当初のアルカリ現像
液の濃度と同等又はそれ未満であると、未露光部の溶解
抑制効果が劣化する。この界面活性剤濃度が現像液の1.
2倍以上となるとき界面活性剤濃度向上の効果が顕著と
なり、また、50倍を超えて濃度を上昇させても効果の
向上は見られず、かえって露光部の現像性が劣化するこ
とがあるため好ましくない。界面活性剤濃度が高い補充
液を用いることで、現像性のバランスを維持するための
界面活性剤が、不溶物や有効成分の溶出物の影響で機能
が低下するのを補い、常に一定の機能を発現することが
できるようにするため、現像性能が良好で、画像部/非
画像部のバランスのよい製版を長期にわたり安定して行
うことができる。
The concentration of the surfactant in the developing replenisher must be higher than the initial concentration of the alkali developing solution, preferably 1.2 to 50 times, more preferably 2 to 50 times. 25 times, more preferably 3 to 1 times.
5 times the amount. If the concentration of the surfactant is equal to or lower than the initial concentration of the alkali developer, the effect of suppressing the dissolution of the unexposed portion is deteriorated. This surfactant concentration is 1.
When the concentration is more than 2 times, the effect of improving the concentration of the surfactant becomes remarkable, and when the concentration is increased more than 50 times, the effect is not improved, and the developability of the exposed portion may be deteriorated. Therefore, it is not preferable. By using a replenisher with a high surfactant concentration, the surfactant to maintain the balance of developability compensates for the deterioration of the function due to the effects of insolubles and elutes of the active ingredient, and always maintains a certain function. Can be developed, and plate making with good developing performance and a good balance of image areas / non-image areas can be stably performed over a long period of time.

【0022】アルカリ現像液及び現像補充液には、さら
に現像性能を高める目的で、以下のような添加剤を加え
ることができる。例えば特開昭58−75152号公報
に記載のNaCl、KCl、KBrなどの中性塩、特開
昭58−190952号公報に記載のEDTA、NTA
などのキレート剤、特開昭59−121336号公報に
記載の[Co(NH36]Cl3、CoCl2・6H2
などの錯体、特開昭50−51324号公報に記載のア
ルキルナフタレンスルホン酸ソーダ、特開昭55−95
946号公報に記載のp−ジメチルアミノメチルポリス
チレンのメチルクロライド4級化合物などのカチオニッ
クポリマー、特開昭56−142528号公報に記載の
ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライドとア
クリル酸ソーダとの共重合体などの両性高分子電解質、
特開昭57−192951号公報に記載の亜硫酸ソーダ
などの還元性無機塩、特開昭58−59444号公報に
記載の塩化リチウムなどの無機リチウム化合物、特開昭
59−84241号公報に記載の有機ホウ素化合物など
が挙げられる。
The following additives can be added to the alkali developing solution and the developing replenisher for the purpose of further improving the developing performance. For example, neutral salts such as NaCl, KCl and KBr described in JP-A-58-75152, EDTA and NTA described in JP-A-58-90952.
Chelating agents such as, [Co (NH 3) 6 ] described in JP-A-59-121336 Cl 3, CoCl 2 · 6H 2 O
Complexes, such as sodium alkylnaphthalenesulfonate described in JP-A-50-51324;
No. 946, a cationic polymer such as a methyl chloride quaternary compound of p-dimethylaminomethyl polystyrene, a copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate described in JP-A-56-142528, and the like. Amphoteric polymer electrolyte,
Reducing inorganic salts such as sodium sulfite described in JP-A-57-192951, inorganic lithium compounds such as lithium chloride described in JP-A-58-59444, and inorganic lithium compounds described in JP-A-59-84241. And organic boron compounds.

【0023】前記現像液及び現像補充液には、現像性の
促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親イン
キ性を高める目的で、必要に応じて種々の有機溶剤など
を添加することもできる。そのような有機溶剤としては
ベンジルアルコールなどが好ましい。さらに必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水
素酸のナトリウム塩若しくはカリウム塩などの無機塩系
還元剤、有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。
Various organic solvents and the like may be added to the developing solution and the developing replenisher as needed for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. You can also. Benzyl alcohol and the like are preferable as such an organic solvent. If necessary, an inorganic salt-based reducing agent such as hydroquinone, resorcinol, sodium or potassium sulfite or bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener can also be added.

【0024】本発明で使用する現像補充液の添加方法
は、従来行われている皿現像に対しても自動現像機によ
る現像にも適用され得る。そして補充液の添加は手作業
によってもよく、機械、装置などの普段を利用して行っ
てもよい。しかし本発明による方法では、使用・消費に
よる系統と経時的系統との二系列による添加であるか
ら、実際には手作業ではかなり面倒さと困難を伴う。従
って添加装置を設計・製作して使用することが好まし
い。この添加装置によれば、皿現像に対しても自動現像
機に対しても好ましく実施できる。添加装置自体は従来
公知である。従って本発明の方法を実施するために所望
の機能を有する装置を設計・製作することは容易である
と思われる。
The method of adding a developing replenisher used in the present invention can be applied to both conventional dish development and development by an automatic developing machine. The addition of the replenisher may be performed manually, or may be performed using a machine, a device, or the like. However, in the method according to the present invention, since the addition is performed in two lines, that is, a system based on use and consumption and a system over time, in practice, manual operations involve considerable trouble and difficulty. Therefore, it is preferable to design and manufacture the addition device before use. According to this addition device, it can be preferably carried out for both dish development and automatic developing machines. The addition device itself is conventionally known. Therefore, it seems easy to design and fabricate a device having the desired function to implement the method of the present invention.

【0025】本発明による、感光性平版印刷版の処理量
に応じて補充する補充液の添加方法としては、例えば自
動現像機を使用する場合には、自動現像機の現像処理す
る感光材料を供給する部分に挿入あるいは走行を検出す
るスイッチを配置し、感光材料が自動現像液中を走行す
るとこのスイッチを押して補充液浴槽から補充液を所定
量だけ現像液浴槽に供給する方式とすることができる。
これは本発明者らの研究から、処理する感光材料の一辺
の長さから補充液の必要かつ十分な添加量を計量するこ
とができるとの発見によるものである。また、他の方法
としては感光材料の現像後の非画像部の面積を光学的に
測定して、その光電変換機構によるアナログ出力を電気
的に処理して補充液の供給機構を電気的に作動させる方
法もある。また、計量カップを用いる場合、例えば皿現
像の場合に皿の内部に感光材料の一辺の長さを測定でき
る目盛りを付けておき、その長さの目盛りに対応した添
加量の目盛りを付けておけば、現像操作ごとに必要かつ
十分な補充液を容易に添加することができる。これは前
記の本発明者らの発見を皿現像に適用してものである。
According to the present invention, as a method of adding a replenisher replenished according to the processing amount of a photosensitive lithographic printing plate, for example, when an automatic developing machine is used, a photosensitive material to be developed by the automatic developing machine is supplied. A switch for detecting insertion or running is arranged at a portion where the photosensitive material travels in the automatic developing solution, and this switch is pressed to supply a predetermined amount of the replenishing solution from the replenishing solution bath to the developing solution bath. .
This is based on the discovery by the present inventors that the necessary and sufficient amount of the replenisher can be measured from the length of one side of the light-sensitive material to be processed. Another method is to optically measure the area of the non-image area after development of the photosensitive material, electrically process the analog output by the photoelectric conversion mechanism, and electrically operate the replenisher supply mechanism. There is also a way to do this. When using a measuring cup, for example, in the case of plate development, a scale for measuring the length of one side of the photosensitive material is provided inside the plate, and a scale for the amount of addition corresponding to the scale of the length is provided. If necessary, it is possible to easily add a necessary and sufficient replenisher for each developing operation. This applies the findings of the present inventors to dish development.

【0026】一方、経時に応じて補充する補充液の添加
方法は、感光性平版印刷版の処理量に応じて補充する補
充液の場合より簡単である。それは常に一定流量の補充
液を連続して供給するか、又はある予め定められた量の
補充液を一定時間ごとに添加すればよいからである。こ
れも計量カップでの添加が可能であるが、作業上の面倒
さは避けられず、やはり電気的あるいは機械的な装置を
利用すべきである。精密な計量及び供給は、薬液ポンプ
や計量ポンプを利用すれば容易に実施することができ
る。補充液を供給する装置の設計・製作は従来の技術か
ら容易である。
On the other hand, the method of adding the replenisher replenished with the passage of time is simpler than the replenisher replenished in accordance with the processing amount of the photosensitive lithographic printing plate. This is because a constant flow rate of the replenisher may be continuously supplied, or a predetermined amount of the replenisher may be added at regular intervals. This can also be added in a measuring cup, but it is unavoidable that the operation is troublesome, and an electric or mechanical device should also be used. Precise metering and supply can be easily performed by using a chemical pump or a metering pump. The design and manufacture of the device for supplying the replenisher is easy from the prior art.

【0027】本発明は、現像液の疲労に対して二系列の
補充において各々にアルカリ濃度の異なる補充液を使用
することで、現像液の活性レベルを維持しようとするも
のである。従って本発明の現像処理方法が適用できる感
光性平版印刷版は特に限定されるものではなく、従来の
ポジ型・ネガ型感光性平版印刷版、光重合型感光性平版
印刷版、ポジ型・ネガ型赤外線感応性平版印刷版などに
適用できる。以下、各種感光性平版印刷版、支持体につ
いて説明する。
The present invention is intended to maintain the activity level of the developer by using replenishers having different alkali concentrations in two series of replenishment against the fatigue of the developer. Accordingly, the photosensitive lithographic printing plate to which the developing method of the present invention can be applied is not particularly limited, and a conventional positive / negative photosensitive lithographic printing plate, photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate, positive / negative photosensitive lithographic printing plate can be used. Type infrared sensitive lithographic printing plate. Hereinafter, various photosensitive lithographic printing plates and supports will be described.

【0028】[0028]

【ポジ型・ネガ型感光性平版印刷版】代表的な感光材料
は以下のとおりである。 (A)o−キノンジアジド化合物からなる感光層 ポジ型感光性組成物の感光性化合物としては、o−キノ
ンジアジド化合物が挙げられ、その代表としてo−ナフ
トキノンジアジド化合物が挙げられる。o−ナフトキノ
ンジアジド化合物としては、特公昭43−28403号
公報に記載されている1,2−ジアゾナフトキノンスル
ホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエ
ステルであるものが好ましい。その他の好適なo−キノ
ンジアジド化合物としては、米国特許第3,046,1
20号及び同第3,188,210号明細書中に記載さ
れている1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロラ
イドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル
がある。その他の有用なo−ナフトキノンジアジド化合
物としては、数多くの特許に報告され、知られているも
のが挙げられる。
[Positive- and negative-type photosensitive lithographic printing plates] Representative photosensitive materials are as follows. (A) Photosensitive layer composed of o-quinonediazide compound Examples of the photosensitive compound of the positive photosensitive composition include o-quinonediazide compounds, and representative examples thereof include o-naphthoquinonediazide compounds. The o-naphthoquinonediazide compound is preferably an ester of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin described in JP-B-43-28403. Other suitable o-quinonediazide compounds include U.S. Pat. No. 3,046,1.
There is an ester of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride and a phenol-formaldehyde resin described in JP-A Nos. 20 and 3,188,210. Other useful o-naphthoquinonediazide compounds include those reported and known in numerous patents.

【0029】例えば、特開昭47−5303号、同48
−63802号、同48−63803号、同48−96
575号、同49−38701号、同48−13354
号、特公昭37−18015号、同41−11222
号、同45−9610号、同49−17481号公報、
米国特許第2,797,213号、同第3,454,4
00号、同第3,544,323号、同第3,573,
917号、同第3,674,495号、同第3、78
5、825号、英国特許第1,227,602号、同第
1,251,345号、同第1,267,005号、同
第1,329,888号、同第1,330,932号、
ドイツ特許第854,890号など各明細書中に記載さ
れているものを挙げることができる。
For example, see JP-A-47-5303 and JP-A-48-303.
-63802, 48-63803, 48-96
No. 575, No. 49-38701, No. 48-13354
No., JP-B-37-18015, 41-11222
No. 45-9610, No. 49-17481,
U.S. Pat. Nos. 2,797,213 and 3,454,4
No. 00, No. 3,544,323, No. 3,573
No. 917, No. 3,674,495, No. 3, 78
5,825, British Patent Nos. 1,227,602, 1,251,345, 1,267,005, 1,329,888, and 1,330,932. ,
Examples described in each specification such as German Patent No. 854,890 can be given.

【0030】特に好ましいo−ナフトキノンジアジド化
合物は、分子量 1,000以下のポリヒドロキシ化合物
と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドと
の反応により得られる化合物である。このような化合物
の具体例は、特開昭51−139402号、同58−1
50948号、同58−203434号、同59−16
5053号、同60−121445号、同60−134
235号、同60−163043号、同61−1187
44号、同62−10645号、同62−10646
号、同62−153950号、同62−178562
号、同64−76047号、米国特許第3,102,8
09号、同第3,126,281号、同第3,130,
047号、同第3,148,983号、同第3,18
4,310号、同第3,188,210号、同第4,6
39,406号などの各公報又は明細書に記載されてい
るものを挙げることができる。
Particularly preferred o-naphthoquinonediazide compounds are compounds obtained by reacting a polyhydroxy compound having a molecular weight of 1,000 or less with 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride. Specific examples of such compounds are described in JP-A-51-139402 and JP-A-58-1.
No. 50948, No. 58-203434, No. 59-16
No. 5053, No. 60-112445, No. 60-134
No. 235, No. 60-163430, No. 61-1187
No. 44, No. 62-10645, No. 62-10646
Nos. 62-153950 and 62-178562
No. 64-76047, U.S. Pat. No. 3,102,8
No. 09, No. 3,126,281, No. 3,130,
No. 047, No. 3,148,983, No. 3,18
No. 4,310, No. 3,188,210, No. 4,6
39, 406 and the like, and those described in each gazette or specification.

【0031】これらのo−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを0.2〜1.2当量反応させることが好ましく、0.3
〜1.0当量反応させることが更に好ましい。1,2−ジ
アゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては、1,2
−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリドまた
は、1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸クロ
リドを用いることができる。また、得られるo−ナフト
キノンジアジド化合物は、1,2−ジアゾナフトキノン
スルホン酸エステル基の位置および導入量の種々異なる
ものの混合物となるが、ヒドロキシル基の全てが1,2
−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステルに転換された
化合物が、この混合物中に占める割合(完全にエステル
化された化合物の含有率)は5モル%以上であることが
好ましく、更に好ましくは20〜99モル%である。
When synthesizing these o-naphthoquinonediazide compounds, it is preferable to react 0.2 to 1.2 equivalents of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride with respect to the hydroxyl group of the polyhydroxy compound. .3
More preferably, the reaction is carried out in an amount of up to 1.0 equivalent. 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride includes 1,2
-Diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride or 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride can be used. The obtained o-naphthoquinonediazide compound is a mixture of various compounds having different positions and introduced amounts of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid ester groups.
The proportion of the compound converted to the diazonaphthoquinone sulfonic acid ester in this mixture (the content of the completely esterified compound) is preferably 5 mol% or more, more preferably 20 to 99 mol%. It is.

【0032】またo−ナフトキノンジアジド化合物を用
いずにポジ型に作用する感光性化合物として、例えば特
公昭56−2696号に記載されているo−ニトロカル
ビノールエステル基を有するポリマー化合物も使用する
ことができる。更に光分解により酸を発生する化合物
と、酸により解離する−C−O−C−基又は−C−O−
Si基を有する化合物との組み合わせ系も利用できる。
例えば光分解により酸を発生する化合物とアセタール又
はO,N−アセタール化合物との組み合わせ(特開昭4
8−89003号)、オルトエステル又はアミドアセタ
ール化合物との組み合わせ(特開昭51−120714
号)、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマ
ーとの組み合わせ(特開昭53−133425号)、エ
ノールエーテル化合物との組み合わせ(特開昭55−1
2995号)、N−アシルイミノ炭素化合物との組み合
わせ(特開昭55−126236号)、主鎖にオルトエ
ステル基を有するポリマーとの組み合わせ(特開昭56
−17345号)、シリルエステル化合物との組み合わ
せ(特開昭60−10247号)及びシリルエーテル化
合物との組み合わせ(特開昭60−37549号、特開
昭60−121446号)などが挙げられる。
As a photosensitive compound which acts positively without using an o-naphthoquinonediazide compound, for example, a polymer compound having an o-nitrocarbinol ester group described in JP-B-56-2696 may also be used. Can be. Further, a compound generating an acid by photolysis and a -CO-C- group or -CO-
A combination system with a compound having a Si group can also be used.
For example, a combination of a compound that generates an acid by photolysis and an acetal or an O, N-acetal compound (Japanese Patent Application Laid-Open No.
No. 8-89003), a combination with an orthoester or an amide acetal compound (JP-A-5120720).
No.), a combination with a polymer having an acetal or ketal group in the main chain (JP-A-53-133425), a combination with an enol ether compound (JP-A-55-1)
No. 2995), a combination with an N-acylimino carbon compound (JP-A-55-126236), and a combination with a polymer having an orthoester group in the main chain (JP-A-56-126).
-17345), a combination with a silyl ester compound (JP-A-60-10247) and a combination with a silyl ether compound (JP-A-60-37549, JP-A-60-112446).

【0033】感光層の感光性組成物中に占めるこれらの
ポジ型に作用する感光性化合物(上記のような組み合わ
せを含む)の量は10〜50質量%が適当であり、より
好ましくは15〜40質量%である。o−キノンジアジ
ド化合物は単独でも感光層を構成し得るが、結合剤(バ
インダー)としてのアルカリ水に可溶な樹脂と共に使用
することが好ましい。このようなアルカリ水に可溶性の
樹脂としては、この性質を有するノボラック樹脂があ
り、例えばフェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムア
ルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−又はm
−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド
樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノー
ル変性キシレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハ
ロゲン化ヒドロキシスチレン、特開昭51−34711
号公報に開示されているようなフェノール性水酸基を含
有するアクリル系樹脂、特開平2−866号公報に記載
のスルホンアミド基を有するアクリル系樹脂や、ウレタ
ン系の樹脂など、種々のアルカリ可溶性の高分子化合物
を含有させることができる。これらのアルカリ可溶性高
分子化合物は質量平均分子量が500〜20,000で数
平均分子量が200〜60,000のものが好ましい。
The amount of these positive-acting photosensitive compounds (including the above combinations) in the photosensitive composition of the photosensitive layer is suitably from 10 to 50% by mass, more preferably from 15 to 50% by mass. 40% by mass. Although the o-quinonediazide compound alone can constitute the photosensitive layer, it is preferably used together with a resin soluble in alkaline water as a binder. Examples of such a resin soluble in alkaline water include a novolak resin having this property. Cresol (m-, p- or m
-/ P-mixing) Cresol formaldehyde resin such as mixed formaldehyde resin, phenol-modified xylene resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, JP-A-51-34711
Various alkali-soluble resins such as an acrylic resin containing a phenolic hydroxyl group, an acrylic resin having a sulfonamide group described in JP-A-2-866, a urethane-based resin, and the like, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. A polymer compound can be contained. These alkali-soluble polymer compounds preferably have a mass average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 60,000.

【0034】このようなアルカリ可溶性の高分子化合物
は、全組成物の70質量%以下の添加量で用いられる。
さらに、米国特許第4,123,279号明細書に記載
されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂の
ような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有す
るフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用する
ことは画像の感脂性を向上させる上で好ましい。
Such an alkali-soluble polymer compound is used in an amount of not more than 70% by mass of the total composition.
Further, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, phenol having a C3-8 alkyl group as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin, and formaldehyde are used. It is preferred to use a condensate with the above in order to improve the oil sensitivity of the image.

【0035】感度を高めるために環状酸無水物類、露光
後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤とし
ての染料やその他のフィラーなどを加えることができ
る。環状酸無水物としては米国特許4,115,128
号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エ
ンドオキシ−△4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラ
クロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレ
イン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、
無水ピロメリット酸などが使用できる。これらの環状酸
無水物を全組成物の質量に対して1〜15質量%含有さ
せることによって感度を最大3倍程度に高めることがで
きる。露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤として
は、露光によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成
し得る有機染料の組み合わせを代表として挙げることが
できる。
To enhance the sensitivity, cyclic acid anhydrides, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a dye as an image coloring agent and other fillers can be added. US Pat. No. 4,115,128 discloses cyclic acid anhydrides.
Phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy- ヒ ド ロ4 -tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride described in US Pat. , Α-phenyl maleic anhydride, succinic anhydride,
Pyromellitic anhydride and the like can be used. By containing these cyclic acid anhydrides in an amount of 1 to 15% by mass based on the total mass of the composition, sensitivity can be increased up to about three times. As a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a combination of a photosensitive compound that releases an acid upon exposure and an organic dye capable of forming a salt can be exemplified.

【0036】具体的には、特開昭50−36209号、
同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフ
トキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成
性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同
54−74728号、同60−3626号、同61−1
43748号、同61−151644号および同63−
58440号の各公報に記載されているトリハロメチル
化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができ
る。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾー
ル系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経
時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
Specifically, JP-A-50-36209,
Combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in each publication of JP-A-53-8128, JP-A-53-36223, JP-A-54-74728, and JP-A-53-74828. No. 3626, 61-1
Nos. 43748, 61-151644 and 63-
Combinations of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in each of JP-A-58440 can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0037】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料も用いることができる。塩形成性
有機染料も含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的には、オイルイエ
ロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク
#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、
オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブ
ラックBS、オイルブラックT−505(以上、オリエ
ント化学工業(株) 製)、ビクトリアピュアブルー、ク
リスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイ
オレット(CI42535)、エチルバイオレット、ロ
ーダミンB(CI145170B)、マラカイトグリー
ン(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS,
Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho 62-2
The dyes described in JP 93247 A are particularly preferred.

【0038】感光層の感光性組成物は、上記の各成分を
溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使
用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−
2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテ
ート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルホルムアミド、水、N−メチルピロリドン、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセトン
アルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ジエチレングリコール、ジメチルエーテルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。そ
して、上記成分の溶液中の濃度(固形分)は、2〜50
質量%である。塗布量は用途により異なるが、例えば感
光性平版印刷版についていえば一般的に固形分として0.
5〜3.0g/m2が好ましい。塗布量が薄くなるにつ
れ、感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。感
光性組成物中には、塗布性を良化するための界面活性
剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載され
ているようなフッ素系界面活性剤を添加することができ
る。好ましい添加量は、全感光性組成物中の0.01〜1
質量%、さらに好ましくは0.05〜0.5質量%である。
The photosensitive composition of the photosensitive layer is dissolved in a solvent in which the above-mentioned components are dissolved, and coated on a support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-
2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide, dimethylformamide, water, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl alcohol, acetone, diacetone alcohol , Methanol, ethanol, isopropanol, diethylene glycol, dimethyl ether and the like, and these solvents are used alone or as a mixture. The concentration (solid content) of the above components in the solution is 2 to 50.
% By mass. The amount of application varies depending on the application, but for example, when it comes to photosensitive lithographic printing plates, it is generally 0.
5 to 3.0 g / m 2 is preferred. As the amount of application decreases, the photosensitivity increases, but the physical properties of the photosensitive film decrease. To the photosensitive composition, a surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1 in the entire photosensitive composition.
%, More preferably 0.05 to 0.5% by mass.

【0039】(B)ジアゾ樹脂とバインダーとからなる
感光層 ネガ作用型感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2,
063,631号及び同第2,667,415号の各明
細書に記載されているジアゾニウム塩とアルドールやア
セタールのような反応性カルボニル基を含有する有機縮
合剤との反応生成物であるジフェニルアミン−p−ジア
ゾニウム塩とホルムアルデヒドとの縮合生成物(所謂感
光性ジアゾ樹脂)が好適に用いられる。この他の有用な
縮合ジアゾ化合物は特公昭49−48001号、同49
−45322号、同49−45323号の各公報等に開
示されている。これらの型の感光性ジアゾ化合物は通常
水溶性無機塩の形で得られ、従って水溶液から塗布する
ことができる。また、これらの水溶性ジアゾ化合物を特
公昭47−1167号公報に開示された方法により1個
又はそれ以上のフェノール性水酸基、スルホン酸基又は
その両者を有する芳香族又は脂肪族化合物と反応させ、
その反応生成物である実質的に水不溶性の感光性ジアゾ
樹脂を使用することもできる。
(B) Photosensitive Layer Consisting of Diazo Resin and Binder A negative working photosensitive diazo compound is disclosed in US Pat.
Diphenylamine which is a reaction product of a diazonium salt described in JP-A Nos. 063,631 and 2,667,415 with an organic condensing agent having a reactive carbonyl group such as aldol or acetal. A condensation product of a p-diazonium salt and formaldehyde (a so-called photosensitive diazo resin) is preferably used. Other useful condensed diazo compounds are disclosed in JP-B-49-48001 and JP-B-49-48001.
-45322 and 49-45323. These types of photosensitive diazo compounds are usually obtained in the form of water-soluble inorganic salts and can therefore be applied from aqueous solutions. Further, these water-soluble diazo compounds are reacted with an aromatic or aliphatic compound having one or more phenolic hydroxyl groups, sulfonic acid groups or both by a method disclosed in Japanese Patent Publication No. 47-1167,
A substantially water-insoluble photosensitive diazo resin, which is the reaction product, can also be used.

【0040】また、特開昭56−121031号公報に
記載されているようにヘキサフルオロリン酸塩又はテト
ラフルオロホウ酸塩との反応生成物として使用すること
もできる。フェノール性水酸基を有する反応物の例とし
ては、ヒドロキシベンゾフェノン、4,4−ビス(4′
−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、レゾルシノール、
又はジレゾルシノールのようなジフェノール酸であっ
て、これらは更に置換基を有していてもよい。ヒドロキ
シフェンゾフェノンには2,4−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノ
ン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベ
ンゾフェノン又は2,2′,4,4′−テトラヒドロキ
シベンゾフェノンが含まれる。好ましいスルホン酸とし
ては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタリ
ン、フェノール、ナルトール及びベンゾフェノン等のス
ルホン酸のような芳香族スルホン酸、又はそれらの可溶
性塩類、例えば、アンモニウム及びアルカリ金属塩が例
示できる。
As described in JP-A-56-121031, it can be used as a reaction product with a hexafluorophosphate or a tetrafluoroborate. Examples of reactants having a phenolic hydroxyl group include hydroxybenzophenone, 4,4-bis (4 '
-Hydroxyphenyl) pentanoic acid, resorcinol,
Or a diphenolic acid such as diresorcinol, which may further have a substituent. Hydroxyfenzophenone includes 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone or 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone Is included. Preferred sulfonic acids include, for example, aromatic sulfonic acids such as sulfonic acids such as benzene, toluene, xylene, naphthalene, phenol, naltol and benzophenone, or soluble salts thereof, for example, ammonium and alkali metal salts.

【0041】スルホン酸基含有化合物は、一般に低級ア
ルキル、ニトロ基、ハロ基、及び/又はもう一つのスル
ホン酸基で置換されていてもよい。このような化合物の
好ましいものとしては、ベンゼンスルホン酸、トルエン
スルホン酸、ナフタリンスルホン酸、2,5−ジメチル
ベンゼンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸ナトリウム、
ナフタリン−2−スルホン酸、1−ナフトール−2(又
は4)−スルホン酸、2,4−ジニトロ−1−ナフトー
ル−7−スルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン−5−スルホン酸、m−(p′−アニリノ
フェニルアゾ)ベンゼンスルホン酸ナトリウム、アリザ
リンスルホン酸、o−トルイジン−m−スルホン酸及び
エタンスルホン酸などが挙げられる。アルコールのスル
ホン酸エステルとその塩類もまた有用である。このよう
な化合物は通常アニオン性界面活性剤として容易に入手
できる。その例としてはラウリルサルフェート、アルキ
ルアリールサルフェート、p−ノニルフェニルサルフェ
ート、2−フェニルエチルサルフェート、イソオクチル
フェノキシジエトキシエチルサルフェートなどのアンモ
ニウム塩又はアルカリ金属塩が挙げられる。
The sulfonic acid group-containing compound may be generally substituted with a lower alkyl, a nitro group, a halo group, and / or another sulfonic acid group. Preferred examples of such a compound include benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, sodium benzenesulfonic acid,
Naphthalene-2-sulfonic acid, 1-naphthol-2 (or 4) -sulfonic acid, 2,4-dinitro-1-naphthol-7-sulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, m -(P'-anilinophenylazo) benzenesulfonic acid sodium, alizarinsulfonic acid, o-toluidine-m-sulfonic acid and ethanesulfonic acid. Also useful are the sulfonic esters of alcohols and their salts. Such compounds are usually readily available as anionic surfactants. Examples thereof include ammonium salts or alkali metal salts such as lauryl sulfate, alkylaryl sulfate, p-nonylphenyl sulfate, 2-phenylethyl sulfate, and isooctylphenoxydiethoxyethyl sulfate.

【0042】これらの実質的に水不溶性の感光性ジアゾ
樹脂は水溶性の感光性ジアゾ樹脂と前記の芳香族又は脂
肪族化合物の水溶液を好ましくはほぼ等量となる量で混
合することによって沈澱として単離される。また、英国
特許第1,312,925号明細書に記載されているジ
アゾ樹脂も好ましい。また、特開平3−253857号
公報に記載されているリンの酸素酸基を含有するジアゾ
樹脂、また特開平04−018559号公報に記載され
ているカルボキシル基含有アルデヒド又はそのアセター
ル化合物で縮合したジアゾ樹脂、また特開平04−21
1253号や特開平05−002273号公報に記載さ
れているフェノキシ酢酸などのカルボキシ基含有芳香族
化合物との共縮合ジアゾ樹脂も好ましい。
These substantially water-insoluble photosensitive diazo resins are formed as a precipitate by mixing the water-soluble photosensitive diazo resin with the above-mentioned aqueous solution of the aromatic or aliphatic compound, preferably in substantially equivalent amounts. Isolated. Further, diazo resins described in British Patent No. 1,312,925 are also preferable. Also, a diazo resin containing an oxygen acid group of phosphorus described in JP-A-3-253857, and a diazo resin condensed with a carboxyl-containing aldehyde or an acetal compound thereof described in JP-A-04-018559. Resin, and JP-A-04-21
Also preferred are co-condensed diazo resins with carboxy group-containing aromatic compounds such as phenoxyacetic acid described in No. 1253 and JP-A-05-002273.

【0043】ジアゾ樹脂の含有量は、感光層中に5〜5
0質量%含まれているのが適当である。ジアゾ樹脂の量
が少なくなれば感光性は当然大になるが、経時安定性が
低下する。最適のジアゾ樹脂の量は約8〜20質量%で
ある。一方、バインダーとしては、種々の高分子化合物
が使用され得るが、ヒドロキシ、アミノ、カルボン酸、
アミド、スルホンアミド、活性メチレン、チオアルコー
ル、エポキシなどの基を含むものが望ましい。このよう
な好ましいバインダーには、英国特許第1,350,5
21号明細書に記載されているシェラック、英国特許第
1,460,978号及び米国特許第4,123,27
6号の各明細書に記載されているようなヒドロキシエチ
ルアクリレート単位又はヒドロキシエチルメタクリレー
ト単位を主なる繰り返し単位として含むポリマー、米国
特許第3,751,257号明細書に記されているポリ
アミド樹脂、英国特許第1,074,392号明細書に
記載されているフェノール樹脂及びポリビニルフォルマ
ール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂のようなポリビニ
ルアセタール樹脂、米国特許第3,660,097号明
細書に記されている線状ポリウレタン樹脂、ポリビニル
アルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノールAとエ
ピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、ポリア
ミノスチレンやポリアルキルアミノ(メタ)アクリレー
トのようなアミノ基を含むポリマー、酢酸セルロース、
セルロースアルキルエーテル、セルロースアセテートフ
タレートなどのセルロース誘導体などが包含される。ジ
アゾ樹脂とバインダーからなる組成物には、更に、英国
特許第1,041,463号明細書に記されているよう
なpH指示薬、米国特許第3,236,646号明細書
に記載されているリン酸、染料などの添加剤を加えるこ
とができる。
The content of the diazo resin is 5 to 5 in the photosensitive layer.
Suitably, it is contained at 0% by mass. When the amount of the diazo resin decreases, the photosensitivity naturally increases, but the stability with time decreases. The optimal amount of diazo resin is about 8-20% by weight. On the other hand, as the binder, various polymer compounds can be used, but hydroxy, amino, carboxylic acid,
Those containing a group such as amide, sulfonamide, active methylene, thioalcohol, epoxy and the like are desirable. Such preferred binders include British Patent 1,350,5.
No. 21,460,978 and U.S. Pat. No. 4,123,27.
6, a polymer containing a hydroxyethyl acrylate unit or a hydroxyethyl methacrylate unit as a main repeating unit, a polyamide resin described in U.S. Pat. No. 3,751,257, Phenolic and polyvinyl formal resins described in GB 1,074,392, polyvinyl acetal resins such as polyvinyl butyral resin, and US Pat. No. 3,660,097. Linear polyurethane resin, phthalated resin of polyvinyl alcohol, epoxy resin condensed from bisphenol A and epichlorohydrin, polymer containing amino group such as polyaminostyrene and polyalkylamino (meth) acrylate, cellulose acetate,
Cellulose derivatives such as cellulose alkyl ether and cellulose acetate phthalate are included. Compositions comprising a diazo resin and a binder further include a pH indicator as described in British Patent 1,041,463 and US Pat. No. 3,236,646. Additives such as phosphoric acid and dyes can be added.

【0044】(C)アジド化合物とバインダー(高分子
化合物)からなる感光層 例えば英国特許第1,235,281号、同第1,49
5,861号の各明細書及び特開昭51−32331
号、同51−36128号公報などに記されているアジ
ド化合物と水溶性又はアルカリ可溶性高分子化合物から
なる組成物の他、特開昭50−5102号、同50−8
4302号、同50−84303号、同53−1298
4号の各公報などに記載されているアジド基を含むポリ
マーとバインダーとしての高分子化合物からなる組成物
が含まれる。
(C) Photosensitive layer comprising azide compound and binder (high molecular compound) For example, British Patent Nos. 1,235,281 and 1,491
5,861 and JP-A-51-32331.
And the compositions comprising an azide compound and a water-soluble or alkali-soluble polymer compound described in JP-A Nos.
No.4302, No.50-84303, No.53-1298
A composition comprising a polymer containing an azide group and a polymer compound as a binder described in each of the publications of No. 4 and the like is included.

【0045】(D)その他の感光性樹脂層 例えば、特開昭52−96696号公報に開示されてい
るポリエステル化合物、英国特許第1,112,277
号、同第1,313,390号、同第1,341,00
4号、同第1,377,747号などの各明細書に記載
のポリビニルシンナメート系樹脂、米国特許第4,07
2,528号及び同第4,072,527号の各明細書
などに記されている光重合フォトポリマー組成物が含ま
れる。
(D) Other photosensitive resin layers For example, polyester compounds disclosed in JP-A-52-96696, British Patent No. 1,112,277
No. 1,313,390 and 1,341,00
No. 4,377,747, etc., polyvinyl cinnamate resin described in each specification, US Pat.
Photopolymerized photopolymer compositions described in the specifications of 2,528 and 4,072,527 are included.

【0046】(E)電子写真感光層 電子写真感光層は、主として光導電性化合物とバインダ
ーからなるが、感度向上、所望の感光波長域を得るなど
の目的のために、必要に応じて公知の顔料、染料、化学
増感剤、その他の添加剤などを使用することができる。
感光層は単層あるいは電荷発生と電荷輸送の機能を分離
した複数の層から構成することができる。平版印刷版
は、公知の電子写真プロセスにより感光層上にトナー画
像を形成し、これをレジスト層として、非画像部の感光
層を除去することにより得ることができる。このような
感光層は、例えば、特公昭37−17162号、同38
−6961号、特開昭56−107246号、同60−
254142号、特公昭59−36259号、同59−
25217号、特開昭56−146145号,同62−
194257号、同57−147656号、同58−1
00862号、同57−161863号をはじめ多数の
刊行物に記載されており、これらはいずれも好適に使用
することができる。
(E) Electrophotographic Photosensitive Layer The electrophotographic photosensitive layer mainly comprises a photoconductive compound and a binder. For the purpose of improving sensitivity and obtaining a desired photosensitive wavelength range, a known electrophotographic photosensitive layer may be used. Pigments, dyes, chemical sensitizers, other additives and the like can be used.
The photosensitive layer can be composed of a single layer or a plurality of layers having separate functions of charge generation and charge transport. A lithographic printing plate can be obtained by forming a toner image on a photosensitive layer by a known electrophotographic process, using this as a resist layer, and removing the photosensitive layer in the non-image area. Such a photosensitive layer is described, for example, in JP-B-37-17162 and JP-B-38.
-6961, JP-A-56-107246, and JP-A-60-107246.
254142, JP-B-59-36259, and 59-
No. 25217, JP-A-56-146145, and JP-A-62-146145.
No. 194257, No. 57-147656, No. 58-1
No. 00862, 57-161863, and many other publications, all of which can be suitably used.

【0047】感光層の膜厚は、0.1〜30μm、より好
ましくは、0.5〜10μmで使用することができる。支
持体上に設けられる感光層の量(固形分)は約0.1〜約
7g/m2、好ましくは0.5〜4g/m2の範囲である。感
光性平版印刷版の感光層の表面には、真空焼き枠を用い
た密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、且つ焼きボ
ケを防ぐため、マット層を設けることが好ましい。具体
的には、特開昭50−125805号、特公昭57−6
582号、同61−28986号の各公報に記載されて
いるようなマット層を設ける方法、特公昭62−623
37号公報に記載されているような固体粉末を熱融着さ
せる方法などが挙げられる。
The photosensitive layer may have a thickness of 0.1 to 30 μm, more preferably 0.5 to 10 μm. The amount of the photosensitive layer provided on the support (solid content) is from about 0.1 to about 7 g / m 2, preferably in the range of 0.5-4 g / m 2. It is preferable to provide a mat layer on the surface of the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate in order to shorten the time of evacuation and prevent baking in the case of close contact exposure using a vacuum printing frame. Specifically, JP-A-50-125805, JP-B-57-66-1
Nos. 582 and 61-28986, a method of providing a mat layer as described in JP-B-62-623.
No. 37, a method of thermally fusing a solid powder, and the like.

【0048】その他の感光材料について以下に記載す
る。
Other photosensitive materials are described below.

【光重合型感光性平版印刷版】代表的なものとして、
(A)エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有す
る付加重合可能な化合物、光重合開始剤及び高分子バイ
ンダーを含有する光重合層、並びに(B)上記重合層の
上に水溶性ビニル重合体を含有する保護層からなるネガ
型感光材料がある。 (A)エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有す
る付加重合可能な化合物、光重合開始剤及び高分子バイ
ンダーを含有する光重合層。光重合層の主な成分は、エ
チレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する付加重
合可能な化合物、光重合開始剤及び高分子バインダーで
あり、必要に応じ、熱重合禁止剤、着色剤、可塑剤等の
種々の化合物を含有することができる。
[Photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate] As a typical one,
(A) an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization layer containing a photopolymerization initiator and a polymer binder, and (B) a water-soluble vinyl polymer on the polymerization layer. There is a negative photosensitive material comprising a protective layer containing a coalescence. (A) A photopolymerizable layer containing an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator, and a polymer binder. The main components of the photopolymerizable layer are an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a polymer binder, and if necessary, a thermal polymerization inhibitor, a coloring agent, Various compounds such as a plasticizer can be contained.

【0049】エチレン性不飽和二重結合を含む付加重合
可能な化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少
なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物の中か
ら任意に選択することができる。これらの化合物には、
例えばモノマー、2量体もしくは3量体などのプレポリ
マー、およびオリゴマー、またはそれらの混合物などの
化学的形態をもつものが包含される。これらの例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、これらの不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合
物とのアミド等などがあげられる。
The compound capable of addition polymerization containing an ethylenically unsaturated double bond can be arbitrarily selected from compounds having at least one, and preferably two or more, terminal ethylenically unsaturated bonds. These compounds include:
For example, those having a chemical form such as a monomer, a prepolymer such as a dimer or a trimer, and an oligomer, or a mixture thereof are included. Examples of these include esters of unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) with aliphatic polyhydric alcohol compounds, these unsaturated carboxylic acids and Examples thereof include amides with aliphatic polyamine compounds.

【0050】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等があげられる。
Specific examples of the monomer of the ester of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate , So Bi penta acrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomers and the like.

【0051】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等があげられる。
Examples of the methacrylic acid ester include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloxy-2-hi Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane, and the like.

【0052】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
げられる。クロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジクロトネート、テトラメチレングリコールジク
ロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソ
ルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロト
ン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロ
トネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、
ソルビトールテトライソクロトネート等があげられる。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
Examples thereof include 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, and sorbitol tetritaconate. The crotonic acid ester includes ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, sorbitol tetradicrotonate and the like. As isocrotonic acid esters, ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate,
Sorbitol tetraisocrotonate and the like.

【0053】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等があげられる。さらに、前述のエステル
モノマーの混合物もあげることができる。また、脂肪族
多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノ
マーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミ
ド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサ
メチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレ
ンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリ
スアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キ
シリレンビスメタクリルアミド等があげられる。その他
の例としては、特公昭48−41708号公報中に記載
されている1分子中に2個以上のイソシアネート基を有
するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式で示さ
れる水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた1
分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウ
レタン化合物等があげられる。 一般式 CH2=C(R)COOCH2CH(R ′)OH (ただし、RおよびR′はH又はCH3 を示す。)
The maleic acid ester includes ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, sorbitol tetramaleate and the like. Furthermore, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned. Further, specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis -Methacrylamide, diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like. As another example, a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-B-48-41708 is added with a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following general formula. 1 added
Examples include vinyl urethane compounds having two or more polymerizable vinyl groups in the molecule. General formula CH 2 CC (R) COOCH 2 CH (R ′) OH (where R and R ′ represent H or CH 3 )

【0054】また、特開昭51−37193号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−
64183号、特公昭49−43191号、特公昭52
−30490号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートをあげることができる。さ
らに日本接着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜30
8ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリ
ゴマーとして紹介されているものも使用することができ
る。なお、これらの使用量は、光重合層の全固形分に対
して5〜70質量%(以下%と略称する)、好ましくは
10〜50%である。
Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193,
64183, JP-B-49-43191, JP-B-52
And polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in JP-A-30490. In addition, Journal of the Adhesion Society of Japan vol. 20, No. 7, 300-30
Those introduced as photocurable monomers and oligomers on page 8 (1984) can also be used. The amount of these used is 5 to 70% by mass (hereinafter abbreviated as%), preferably 10 to 50%, based on the total solid content of the photopolymerizable layer.

【0055】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始系)を適
宜選択して使用することができる。例えば400nm以下
の紫外光を光源として用いる場合、ベンジル、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーズケトン、アントラキノン、アク
リジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が広く使用され
ている。また、400nm以下の可視光線、アルゴンレー
ザー、YAG−SHGレーザーを光源とする場合にも、
種々の光開始系が提案されており、例えば、米国特許第
2, 850, 445号に記載のある種の感光性染料、染
料とアミンの複合開始系(特公昭44−20189
号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤
と染料との併用系(特公昭45−37377号)、ヘキ
サアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベン
ジリデンケトンの系(特公昭47−2528号、特開昭
54−155292号)、環状シス−α−ジカルボニル
化合物と染料の系(特開昭48−84183号)、環状
トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−15
1024号)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭
52−112681号、特開昭58−15503号)、
ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系(特開
昭59−140203号)、有機過酸化物と色素の系
(特開昭59−140203号、特開昭59−1893
40号)、ローダニン骨格の色素とラジカル発生剤の系
(特開平2−244050号)、チタノセンと3−ケト
クマリン色素の系(特開昭63−221110号)、チ
タノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレ
タン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を
組み合わせた系(特開平4−221958号、特開平4
−219756号)、チタノセンと特定のメロシアニン
色素の系(特開平6−295061号)等を挙げること
ができる。これらの光重合開始剤の使用量は、エチレン
性不飽和化合物100質量部に対し、0. 05〜100
質量部、好ましくは0. 1〜70質量部、更に好ましく
は0. 2〜50質量部の範囲で用いることができる。
Examples of the photopolymerization initiator include various photoinitiators known in patents and literatures depending on the wavelength of the light source used.
Alternatively, a combination system (photoinitiating system) of two or more photoinitiators can be appropriately selected and used. For example, when ultraviolet light of 400 nm or less is used as a light source, benzyl, benzoin ether, Michler's ketone, anthraquinone, acridine, phenazine, benzophenone, and the like are widely used. Also, when using visible light of 400 nm or less, an argon laser, and a YAG-SHG laser as a light source,
Various photoinitiating systems have been proposed, for example, certain photosensitive dyes and complex starting systems of dyes and amines described in U.S. Pat. No. 2,850,445 (JP-B-44-20189).
No.), a combination system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (JP-B-45-37377), and a system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (JP-B-47-2528; No. 54-155292), a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye (JP-A-48-84183), a system of a cyclic triazine and a merocyanine dye (JP-A-54-15).
1024), a system of 3-ketocoumarin and an activator (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 52-112681 and 58-15503),
System of biimidazole, styrene derivative, thiol (JP-A-59-140203), system of organic peroxide and dye (JP-A-59-140203, JP-A-59-1893)
No. 40), a system of a dye having a rhodanine skeleton and a radical generator (JP-A-2-244050), a system of a titanocene and a 3-ketocoumarin dye (JP-A-63-221110), a titanocene and a xanthene dye, and an amino group or urethane Systems in which an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound containing a group is combined (JP-A-4-221958, JP-A-4-221958)
No. 219756) and a system of titanocene and a specific merocyanine dye (JP-A-6-295061). The amount of the photopolymerization initiator used is 0.05 to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the ethylenically unsaturated compound.
It can be used in an amount of from 0.1 to 70 parts by mass, more preferably from 0.2 to 50 parts by mass.

【0056】上述した光重合層は、通常、バインダーと
して線状有機高分子重合体を含有するが、このような線
状有機高分子重合体としては、光重合可能なエチレン性
不飽和化合物と相溶性を有している線状有機高分子重合
体である限り、どれを使用してもかまわない。好ましく
は水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とする水あるい
は弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機高分子
重合体が選択される。線状有機高分子重合体は、該組成
物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或
は有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用され
る。例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現
像が可能になる。この様な線状有機高分子重合体として
は、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特
開昭59−44615号、特公昭54−34327号、
特公昭58−12577号、特公昭54−25957
号、特開昭54−92723号、特開昭59−5383
6号、特開昭59−71048号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。
The above-mentioned photopolymerized layer usually contains a linear organic high molecular polymer as a binder. Any one may be used as long as it is a linear organic high molecular polymer having solubility. Preferably, a water- or weakly alkaline water-soluble or swellable linear organic high molecular polymer that enables water development or weakly alkaline water development is selected. The linear organic high molecular polymer is selected and used not only as a film-forming agent of the composition but also as a developer for water, weakly alkaline water or an organic solvent. For example, when a water-soluble organic high molecular polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic high molecular polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in a side chain, for example, JP-A-59-44615, JP-B-54-34327,
JP-B-58-12577, JP-B-54-25957
JP-A-54-92723 and JP-A-59-5383.
No. 6, JP-A-59-71048, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, There are esterified maleic acid copolymers and the like.

【0057】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレー
ト/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)ア
クリレート(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。こ
の他に水溶性線状有機高分子として、ポリビニルピロリ
ドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬
化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミ
ドや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロ
パンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用であ
る。これらの線状有機高分子重合体は光重合層の全固形
分に任意な量を混和させることができる。しかし90質
量%を超える場合には形成される画像強度等の点で好ま
しい結果を与えない。好ましくは30〜85%である。
また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と線状有機高
分子重合体は、質量比で1/9〜7/3の範囲とするの
が好ましい。より好ましい範囲は2/8〜6/4であ
る。
Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful. Particularly, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid / optionally Other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymers are preferred. In addition, polyvinyl pyrrolidone and polyethylene oxide are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, an alcohol-soluble polyamide, a polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful. These linear organic high molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount with the total solid content of the photopolymerizable layer. However, if the content exceeds 90% by mass, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably it is 30 to 85%.
Further, the mass ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the linear organic high molecular polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3. A more preferred range is 2/8 to 6/4.

【0058】また、光重合層は以上の基本成分の他に感
光材料の製造中あるいは保存中において重合可能なエチ
レン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少
量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱
重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェ
ノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロー
ル、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−
チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミ
ン第一セリウム塩等があげられる。熱重合防止剤の添加
量は、光重合層の全固形分の質量に対して約0.01%
〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重
合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのよ
うな高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過
程で光重合層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約10%が好
ましい。
The photopolymerizable layer may contain a small amount of a thermal polymerization inhibitor in addition to the above basic components in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photosensitive material. It is desirable to add. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-
Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol),
2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxylamine and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is about 0.01% based on the total solid content of the photopolymerization layer.
~ 5% is preferred. Also, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photopolymerization layer in a drying process after coating. Good. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% to about 10% of the whole composition.

【0059】更に光重合層の着色を目的として、着色剤
を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシ
アニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チ
タンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイ
オレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン
系染料がある。染料および顔料の添加量は全固形分の約
0. 5%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性
を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレー
ト、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等
の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は
光重合層の全固形分の10%以下が好ましい。
Further, a coloring agent may be added for the purpose of coloring the photopolymerizable layer. Examples of the coloring agent include phthalocyanine pigments, azo pigments, pigments such as carbon black and titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of dyes and pigments added is preferably about 0.5% to about 5% of the total solids. In addition, additives such as an inorganic filler and a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate and tricresyl phosphate may be added in order to improve the physical properties of the cured film. The addition amount of these is preferably 10% or less of the total solid content of the photopolymerization layer.

【0060】上記光重合層は、通常支持体上に塗布して
使用される。支持体上に塗布する際には種々の有機溶剤
を使用することができる。ここで使用する有機溶剤とし
ては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,
N−ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド、γ
−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがあ
る。これらの溶剤は、単独あるいは混合して使用するこ
とができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2
〜50質量%が好ましい。
The above photopolymerized layer is usually used after being coated on a support. When coating on a support, various organic solvents can be used. As the organic solvent used herein, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether , Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N,
N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ
-Butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate and the like. These solvents can be used alone or as a mixture. And the concentration of solids in the coating solution is 2
~ 50 mass% is preferred.

【0061】光重合層には、塗布面質を向上するために
界面活性剤を添加することができる。その被覆量は乾燥
後の質量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が好
ましく、0.5〜5g/m2がより好ましい。
A surfactant can be added to the photopolymerizable layer in order to improve the coated surface quality. The coating amount of the mass range of from about 0.1 g / m 2 ~ about 10 g / m 2 by preferably after drying, 0.5 to 5 g / m 2 is more preferable.

【0062】(B)溶性ビニル重合体を含有する保護層 次に上記光重合層上に塗布する水溶性ビニル重合体を含
有する保護層について説明する。保護層に含まれる水溶
性ビニル重合体としては、ポリビニルアルコール、その
部分エステルもしくはエーテル、およびポリビニルアセ
タールなどがあげられる。また、その他有用な重合体と
してポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴ
ムなどがあげられ、これらは単独または併用して用いて
も良い。更にまた、水溶性を付与するのに実質的に必要
な量の未置換ビニルアルコール単位を含有する上記重合
体の共重合体があげられる。
(B) Protective Layer Containing Soluble Vinyl Polymer Next, the protective layer containing a water-soluble vinyl polymer applied on the photopolymerizable layer will be described. Examples of the water-soluble vinyl polymer contained in the protective layer include polyvinyl alcohol, a partial ester or ether thereof, and polyvinyl acetal. Other useful polymers include polyvinylpyrrolidone, gelatin and gum arabic, and these may be used alone or in combination. Still further, a copolymer of the above polymer containing an unsubstituted vinyl alcohol unit in an amount substantially necessary for imparting water solubility may be mentioned.

【0063】ポリビニルアルコールとしては、71〜1
00%加水分解され、重合度が300〜2400の範囲
のものが好ましい。具体的には株式会社クラレ製 PVA-
105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-
120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST,
PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-2
10, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-21
7EE, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-2
17E, PVA- 220E, PVA- 224E, PVA- 405, PV
A-420, PVA-613, L-8等があげられる。上記の共
重合体としては、88〜100%加水分解されたポリビ
ニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオネー
ト、ポリビニルホルマールおよびポリビニルアセタール
およびそれらの共重合体があげられる。感光材料におい
ては、その保護層中、これらの水溶性ビニル重合体を保
護層の全固形分に対して、30〜99%の割合、好まし
くは50〜99%の割合で含有する。
As the polyvinyl alcohol, 71 to 1
Those having a hydrolysis degree of 00% and a degree of polymerization in the range of 300 to 2400 are preferred. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-
105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-
120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST,
PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-2
10, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-21
7EE, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-2
17E, PVA- 220E, PVA- 224E, PVA- 405, PV
A-420, PVA-613, L-8 and the like. Examples of the above-mentioned copolymer include polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polyvinyl formal and polyvinyl acetal hydrolyzed by 88 to 100%, and copolymers thereof. In the light-sensitive material, the water-soluble vinyl polymer is contained in the protective layer at a ratio of 30 to 99%, preferably 50 to 99%, based on the total solid content of the protective layer.

【0064】保護層の乾燥塗布質量としては、通常0.
5〜10g/m2であり、好ましくは1.0〜5.0g
/m2である。保護層の塗布方法は、特に制限されるも
のではなく、米国特許第3458311号又は特開昭5
5−49729号に記載されている方法を適用すること
ができる。また、塗布する際の溶剤としては、水が使用
される。保護層にはさらに塗布性を向上させるための界
面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可塑剤
等の公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑剤とし
てはたとえばプロピオンアミド、シクロヘキサンジオー
ル、グリセリン、ソルビトール等がある。また、水溶性
の(メタ)アクリル系ポリマーなどを添加しても良い。
保護層は光重合層と良好な接着性を有し、かつ水溶性で
酸素遮断性を有するものである。また、活性光線に対し
て透明である。
The dry coating weight of the protective layer is usually 0.1.
5 to 10 g / m 2 , preferably 1.0 to 5.0 g
/ M 2 . The method of applying the protective layer is not particularly limited, and is disclosed in U.S. Pat.
The method described in 5-49729 can be applied. Water is used as a solvent at the time of coating. Known additives such as a surfactant for improving coating properties and a water-soluble plasticizer for improving physical properties of the film may be added to the protective layer. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, and sorbitol. Further, a water-soluble (meth) acrylic polymer or the like may be added.
The protective layer has good adhesion to the photopolymerizable layer, is water-soluble, and has oxygen barrier properties. It is transparent to actinic rays.

【0065】[0065]

【赤外線感光性平版印刷版】赤外線吸収剤を含む画像形
成層を有する平版印刷版は、支持体上に画像形成層を有
し、さらに必要に応じて他の層を有してなり、前記画像
形成層には(A)赤外線吸収剤を有し、さらに少なくと
も(B)アルカリ可溶性高分子化合物、(C)アルカリ
可溶性高分子化合物と相溶させて該アルカリ可溶性高分
子化合物のアルカリ水溶液への溶解性を低下させるとと
もに、加熱により該溶解性低下作用が減少する化合物を
含有して構成される。また、ネガ型の平版印刷用原版の
場合には、露光部が硬化して画像部となるため、画像形
成層にさらに(D)熱により酸を発生する化合物と、
(E)酸により架橋する架橋剤とを含有して構成され
る。以下に、各構成成分について簡単に説明する。
[Infrared-sensitive lithographic printing plate] A lithographic printing plate having an image-forming layer containing an infrared absorber has an image-forming layer on a support, and further has other layers as necessary. The forming layer has (A) an infrared absorbing agent, and is further compatible with at least (B) an alkali-soluble polymer compound and (C) an alkali-soluble polymer compound to dissolve the alkali-soluble polymer compound in an aqueous alkali solution. And a compound that reduces the solubility lowering effect by heating. In the case of a negative type lithographic printing plate precursor, since the exposed portion is cured to form an image portion, the image forming layer further comprises (D) a compound which generates an acid by heat,
(E) a crosslinking agent that is crosslinked by an acid. Hereinafter, each component will be briefly described.

【0066】−(A)赤外線吸収剤− 赤外線吸収剤(以下、「(A)「成分」ということがあ
る。)は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有す
る。使用可能な赤外線吸収剤としては、波長700nm以
上の領域に、好ましくは波長750nm〜1200nmの波
長領域に赤外線を高効率に吸収しうる染料又は顔料が好
ましく、波長760nm〜1200nmの領域に吸収極大を
有する染料又は顔料がより好ましい。
-(A) Infrared Absorber- An infrared absorber (hereinafter sometimes referred to as "(A)" component) has a function of converting absorbed infrared rays into heat. As the infrared absorbing agent that can be used, a dye or a pigment capable of highly efficiently absorbing infrared rays in a wavelength region of 700 nm or more, preferably in a wavelength region of 750 nm to 1200 nm, is preferable. Dyes or pigments are more preferred.

【0067】前記染料材としては、市販の染料又は文献
(例えば、「染料便覧」、有機合成化学協会編集、昭和
45年刊)に記載の公知のものが挙げられ、例えば、ア
ゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフ
トキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染
料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
Examples of the dye material include commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, “Dye Handbook”, edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970). Dyes such as dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squalylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes and the like can be mentioned.

【0068】中でも、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭59−202
829号、特開昭60−78787号等に記載のシアニ
ン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−1
81690号、特開昭58−194595号等に記載の
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載のナフトキノン染料、特
開昭58−112792号等に記載のスクワリリウム色
素、英国特許434,875号明細書に記載のシアニン
染料、米国特許5,380,635号明細書に記載のジ
ヒドロペリミジンスクアリリウム染料等が好適に挙げら
れる。
Among them, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-12524
No. 6, JP-A-59-84356, JP-A-59-202
No. 829, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, JP-A-58-1.
Methine dyes described in JP-A-81690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-112793, and
Naphthoquinone dyes described in JP-A-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, and JP-A-58-112792. The squarylium dye described in US Pat. No. 4,434,875, and the dihydroperimidine squarylium dye described in US Pat. No. 5,380,635 are preferred.

【0069】また、米国特許第5,156,938号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、米国特許第
3,881,924号明細書に記載の置換されたアリー
ルベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1426
45(米国特許第4,327,169号明細書)に記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
のピリリウム系化合物、特開昭59−216146号に
記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号
明細書に記載のペンタメチンチオピリウム塩等、特公平
5−13514号、同5−19702号に記載のピリリ
ウム化合物、市販品としては、Epolight III-178、E
polight III-130、Epolight III-125、Epolight
IV−62A(エポリン社製)等も好ましい。
Further, a near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferable, and a substituted aryl benzo (thiol) described in US Pat. No. 3,881,924 is preferable. ) Pyrylium salts, JP-A-57-1426
No. 45 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063 and 59-146061; pyrylium compounds described in JP-A-59-216146; cyanine dyes described in JP-A-59-216146; U.S. Pat. Nos. 283,475 and pentamethine thiopyrium salts, and the pyrylium compounds described in JP-B-5-13514 and 5-19702; commercially available products include Epolight III-178, E
polight III-130, Epolight III-125, Epolight
IV-62A (Eporin) and the like are also preferable.

【0070】さらに、米国特許第4,756,993 号明細書に
記載の式(I)、(II)で表される近赤外線吸収染料も
好適なものとして挙げることができる。上記のうち、シ
アニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッ
ケルチオレート錯体がより好ましい。
Further, near infrared absorbing dyes represented by formulas (I) and (II) described in US Pat. No. 4,756,993 can also be mentioned as suitable ones. Among the above, a cyanine dye, a squarylium dye, a pyrylium salt, and a nickel thiolate complex are more preferable.

【0071】前記顔料としては、市販の顔料又はカラー
インデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日
本顔料技術協会編)、1977年刊)、「最新顔料応用
技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)に記載の顔料が挙げ
られ、たとえば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他ポリマー結合色素が
挙げられる。
Examples of the pigment include commercially available pigments or Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association), published in 1977, “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). And pigments described in “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984), for example, black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, Examples include fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bound dyes.

【0072】具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、ア
ゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタ
ロシナニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。中でも、
カーボンブラックが好ましい。
Specifically, for example, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalosinine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, Isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments,
Examples include inorganic pigments and carbon black. Among them,
Carbon black is preferred.

【0073】前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよ
いし、表面処理を施した後に用いてもよい。表面処理の
方法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シ
ランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネ
ート等)を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。
これらの表面処理の方法は、「金属石鹸の性質と応用」
(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、198
4年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、19
86年刊)に記載されている。
The pigment may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. As a method of surface treatment, a method of surface coating a resin or wax,
Examples include a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate) to the pigment surface.
These surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soaps"
(Koshobo), "Printing ink technology" (CMC Publishing, 198)
4th year) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 19
1986).

【0074】前記顔料の粒径としては、0.01μm 〜1
0μm が好ましく、0.05μm 〜1μm がより好まし
く、0.1μm 〜1μm が最も好ましい。前記粒径が、0.
01μm 未満であると、感光層塗布液等の分散液を調製
したときの分散物の安定性が劣化することがあり、10
μm を超えると、画像形成層の均一性が悪化することが
ある。
The particle size of the pigment is 0.01 μm to 1 μm.
The thickness is preferably 0 μm, more preferably 0.05 μm to 1 μm, and most preferably 0.1 μm to 1 μm. The particle size is 0.
When the thickness is less than 01 μm, the stability of the dispersion when a dispersion such as a photosensitive layer coating solution is prepared may be deteriorated.
If it exceeds μm, the uniformity of the image forming layer may be deteriorated.

【0075】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に汎用の分散機等、公知の分散技術から
適宜選択することができる。前記分散機としては、超音
波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、ス
ーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、
KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミ
ル、加圧ニーダー等が挙げられる。その詳細について
は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)に記載がある。
The method for dispersing the pigment can be appropriately selected from known dispersing techniques such as a general-purpose dispersing machine for ink production and toner production. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser,
Examples include a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. The details are described in “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986).

【0076】前記染料又は顔料の含有量としては、画像
形成層の全固形分質量に対して0.01〜50質量%が好
ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、さらに染料
の場合には、0.5〜10質量%が最も好ましく、顔料の
場合には、3.1〜10質量%が最も好ましい。前記含有
量が0.01質量%未満であると、感度が低くなることが
あり、50質量%を超えると、画像形成層の均一性が低
下し、その耐久性が劣化することがある。
The content of the dye or pigment is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content of the image forming layer. Is most preferably 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, 3.1 to 10% by mass is most preferred. If the content is less than 0.01% by mass, the sensitivity may be lowered. If the content is more than 50% by mass, the uniformity of the image forming layer may be reduced and the durability thereof may be deteriorated.

【0077】前記染料又は顔料は、他の成分と同一層に
添加してもよいし、別の層を設けてそこに添加してもよ
い。別の層とする場合は、後述の(C)成分を含有する
層に隣接する層に添加することが好ましい。また、染料
又は顔料と、アルカリ可溶性高分子化合物とは同一の層
に含有することが好ましいが、別の層にそれぞれ含有さ
せても構わない。
The dye or pigment may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided. In the case of forming another layer, it is preferable to add it to a layer adjacent to a layer containing the component (C) described later. The dye or pigment and the alkali-soluble polymer compound are preferably contained in the same layer, but may be contained in different layers.

【0078】−(B)アルカリ可溶性高分子化合物− 使用可能なアルカリ可溶性高分子化合物(以下、
「(B)成分」ということがある。)としては、下記
(1)〜(3)の酸性基を主鎖及び/又は側鎖の構造中
に有するアルカリ水可溶性の高分子化合物を用いること
ができる。 (1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。)〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO
2R、−CONHSO2R〕 前記(1)〜(3)中、Arは置換基を有していてもよ
い2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有して
いてもよい炭化水素基を表す。以下に、その具体例を示
すが、これらに限定されるものではない。
-(B) Alkali-soluble polymer compound- A usable alkali-soluble polymer compound (hereinafter referred to as "
It may be referred to as “component (B)”. As), an alkali water-soluble polymer compound having the following acidic groups (1) to (3) in the structure of the main chain and / or the side chain can be used. (1) phenol group (-Ar-OH) (2) sulfonamide group (-SO 2 NH-R) ( 3) substituted sulfonamide-based acid group [(hereinafter, referred to as "active imide group".) - SO 2 NHCOR , -SO 2 NHSO
During 2 R, -CONHSO 2 R] wherein (1) ~ (3), Ar represents a divalent aryl connecting group which may have a substituent, R may have a substituent Represents a hydrocarbon group. Hereinafter, specific examples will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0079】(1)フェノール基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、フェノールとホルム
アルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムア
ルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m
−、p−又はm−/p−混合のいずれでもよい。)とホ
ルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂又はピ
ロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができ
る。さらに、フェノール基を側鎖に有するモノマーを重
合させた高分子化合物を挙げることもできる。
(1) Examples of the alkali-soluble polymer compound having a phenol group include a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, and a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde. , A condensation polymer of m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol and cresol (m
Any of-, p- or m- / p- mixture may be used. ) And formaldehyde, and a novolak resin or a condensation polymer of pyrogallol and acetone. Further, a polymer compound obtained by polymerizing a monomer having a phenol group in a side chain can also be used.

【0080】側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽
和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる
重合性モノマーを単独重合、或いは、該重合性モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。フェノール基を側鎖に有するモノマ
ーとしては、フェノール基を側鎖に有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
As the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer comprising a low molecular compound having at least one unsaturated bond capable of polymerizing with the phenolic hydroxyl group may be homopolymerized, or the polymerizable monomer may be used. A polymer compound obtained by copolymerizing a monomer with another polymerizable monomer is exemplified. Examples of the monomer having a phenol group in the side chain include acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate or hydroxystyrene having a phenol group in the side chain.

【0081】具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニル
アクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレ
ン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ン、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリ
レート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタク
リレート等を好適に挙げることができる。
Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl)
Acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate , M-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2 -Hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydro Shifeniru) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate can be preferably exemplified.

【0082】前記フェノール基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物の質量平均分子量としては、5.0×102
〜2.0×105 のものが、数平均分子量としては、2.0
×102 〜1.0×105 のものが、画像形成性の点で好
ましい。
The weight average molecular weight of the alkali-soluble polymer compound having a phenol group is 5.0 × 10 2
~ 2.0 × 10 5 has a number average molecular weight of 2.0
Those having a size of × 10 2 to 1.0 × 10 5 are preferable in view of image forming properties.

【0083】また、フェノール基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物は、単独での使用のみならず、2種類以
上を組合わせて使用してもよい。組合わせる場合には、
米国特許第4123279号明細書に記載されているよ
うな、t−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの
縮重合体のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体を併用してもよい。これらの縮重合体も、質量平均分
子量が5.0×102 〜2.0×105 のもの、数平均分子
量が2.0×102 〜1.0×105 のものが好ましい。
The alkali-soluble polymer having a phenol group may be used alone or in combination of two or more. When combining,
As described in U.S. Pat. No. 4,123,279, an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as a condensation polymer of t-butylphenol and formaldehyde or a condensation polymer of octylphenol and formaldehyde. May be used together with a condensation polymer of phenol and formaldehyde. These condensed polymers also preferably have a mass average molecular weight of 5.0 × 10 2 to 2.0 × 10 5 and a number average molecular weight of 2.0 × 10 2 to 1.0 × 10 5 .

【0084】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド
基を有する化合物を主たるモノマー構成単位とする重合
体、即ち、単独重合体又は前記モノマー構成単位に他の
重合性モノマーを共重合させた共重合体を挙げることが
できる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとし
ては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基−SO2 −NH−と、
重合可能な不飽和結合とを、それぞれ1以上有する低分
子化合物からなるモノマーが挙げられる。中でも、アク
リロイル基、アリル基又はビニロキシ基と、置換或いは
モノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ
基と、を有する低分子化合物が好ましい。前記低分子化
合物としては、例えば、下記一般式(a)〜(e)で表
される化合物が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
(2) Examples of the alkali-soluble polymer compound having a sulfonamide group include, for example, a polymer having a compound having a sulfonamide group as a main monomer constituent unit, that is, a homopolymer or other monomer-containing unit. A copolymer obtained by copolymerizing a polymerizable monomer can be used. As a polymerizable monomer having a sulfonamide group, in one molecule, a sulfonamide group —SO 2 —NH— having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom;
Examples of the monomer include a low-molecular compound having at least one polymerizable unsaturated bond. Among them, a low molecular weight compound having an acryloyl group, an allyl group or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable. Examples of the low molecular compound include compounds represented by the following general formulas (a) to (e), but are not limited thereto.

【0085】[0085]

【化1】 Embedded image

【0086】式中、X1、X2は、それぞれ独立に酸素原
子又はNR7 を表す。R1、R4は、それぞれ独立に水素
原子又はCH3を表す。R2、R5、R9、R12、R16は、
それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜1
2のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基
又はアラルキレン基を表す。R3、R7、R13は、それぞ
れ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1
〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又
はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、それぞれ
独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基
を表す。R8、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子
又はCH3を表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結
合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラ
ルキレン基を表す。Y1、Y2はそれぞれ独立に単結合又
はCOを表す。
In the formula, X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or NR 7 . R 1 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 are
Each independently having 1 to 1 carbon atoms which may have a substituent
2 represents an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. R 3 , R 7 and R 13 each independently represent a hydrogen atom or a carbon atom 1 which may have a substituent.
To 12 alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups or aralkyl groups. R 6 and R 17 each independently represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or CH 3 . R 11 and R 15 each independently represent a single bond or an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO.

【0087】中でもm−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
Among them, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0088】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有す
る化合物を主たるモノマー構成単位とする重合体を挙げ
ることができる。活性イミド基を有する化合物を主たる
モノマー構成単位とする重合体としては、1分子中に、
下記式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和結
合とをそれぞれ1以上有する低分子化合物からなるモノ
マーを単独重合、或いは、該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げること
ができる。
(3) Examples of the alkali-soluble polymer compound having an active imide group include a polymer having a compound having an active imide group as a main monomer constituent unit. As a polymer having a compound having an active imide group as a main monomer structural unit, in one molecule,
An active imide group represented by the following formula and a monomer composed of a low-molecular compound having at least one polymerizable unsaturated bond are homopolymerized, or obtained by copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer. High molecular compounds can be mentioned.

【0089】[0089]

【化2】 Embedded image

【0090】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に挙げることができる。
As such a compound, specifically,
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably mentioned.

【0091】さらに、上記のほか、前記フェノール基を
有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合
性モノマー、及び活性イミド基を有する重合性モノマー
のうちいずれか2種類以上を重合させた高分子化合物、
或いは、これら2種以上の重合性モノマーにさらに他の
重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物も
好適に挙げられる。
Further, in addition to the above, a polymer compound obtained by polymerizing two or more of the above-mentioned polymerizable monomers having a phenol group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, and a polymerizable monomer having an active imide group. ,
Alternatively, a polymer compound obtained by copolymerizing two or more polymerizable monomers with another polymerizable monomer is also preferably used.

【0092】フェノール基を有する重合性モノマー(M
1)に、スルホンアミド基を有する重合性モノマー(M
2)及び/又は活性イミド基を有する重合性モノマー
(M3)を共重合させる場合の配合比(M1:M2及び
/又はM3;質量比)としては、50:50〜5:95
が好ましく、40:60〜10:90がより好ましい。
A polymerizable monomer having a phenol group (M
In 1), a polymerizable monomer having a sulfonamide group (M
The mixing ratio (M1: M2 and / or M3; mass ratio) when copolymerizing the polymerizable monomer (M3) having 2) and / or an active imide group is from 50:50 to 5:95.
Is preferred, and 40:60 to 10:90 is more preferred.

【0093】アルカリ可溶性高分子化合物が、前記酸性
基(1)〜(3)より選ばれるいずれかを有するモノマ
ー構成単位と、他の重合性モノマーの構成単位とから構
成される共重合体である場合、該共重合体中に、前記酸
性基(1)〜(3)より選ばれるいずれかを有するモノ
マー構成単位を10モル%以上含むことが好ましく、2
0モル%以上含むことがより好ましい。前記モノマー構
成単位の含有量が、10モル%未満であると、十分なア
ルカリ可溶性が得られずに、現像ラチチュードが狭くな
ることがある。
The alkali-soluble polymer compound is a copolymer comprising a monomer structural unit having any one of the acidic groups (1) to (3) and a structural unit of another polymerizable monomer. In this case, the copolymer preferably contains at least 10 mol% of a monomer structural unit having any one selected from the acidic groups (1) to (3).
More preferably, the content is 0 mol% or more. When the content of the monomer constitutional unit is less than 10 mol%, sufficient alkali solubility cannot be obtained, and the development latitude may be narrow.

【0094】前記共重合体の合成方法としては、従来よ
り公知のグラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダ
ム共重合法等を用いることができる。
As a method for synthesizing the copolymer, a conventionally known graft copolymerization method, block copolymerization method, random copolymerization method and the like can be used.

【0095】前記酸性基(1)〜(3)より選ばれるい
ずれかを有するモノマーを構成単位とする重合性モノマ
ーと共重合させる。他の重合性モノマーとしては、例え
ば、下記(a)〜(1)に挙げるモノマーを挙げること
ができるが、本発明においては、これらに限定されるも
のではない。
The copolymer is copolymerized with a polymerizable monomer having a monomer having any one of the acidic groups (1) to (3) as a constituent unit. As other polymerizable monomers, for example, the following monomers (a) to (1) can be exemplified, but the present invention is not limited thereto.

【0096】(a)2−ヒドロキエチルアクリレート又
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類。 (b)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (c)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。
(A) Acrylic esters and methacrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (B) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylates such as acrylates; (C) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl methacrylates such as methacrylate.

【0097】(d)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリ
ルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリるアミド、N−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミド、又はメタクリルアミ
ド。 (e)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 (f)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (g)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等とスチレン類。
(D) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide , Acrylamide such as N-ethyl-N-phenylacrylamide, or methacrylamide. (E) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (F) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate. (G) Styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene and the like and styrenes.

【0098】、(h)メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。 (i)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (j)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (k)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、
N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタ
クリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリ
ルアミド等の不飽和イミド。 (l)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。
(H) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone. (I) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (J) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (K) maleimide, N-acryloylacrylamide,
Unsaturated imides such as N-acetyl methacrylamide, N-propionyl methacrylamide and N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide; (L) unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid;

【0099】前記アルカリ水可溶性高分子化合物として
は、単独重合体、共重合体に関わらず、膜強度の点で、
質量平均分子量が2000以上、数平均分子量が500
以上のものが好ましく、質量平均分子量が5000〜3
00000、数平均分子量が800〜250000であ
り、分散度(質量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜
10のものがより好ましい。また、前記アルカリ可溶性
高分子化合物が、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、
クレゾール−アルデヒド樹脂等である場合には、質量平
均分子量が500〜20000であって、数平均分子量
が200〜10000のものが好ましい。
Regarding the alkali water-soluble polymer compound, irrespective of a homopolymer or a copolymer, in terms of film strength,
Mass average molecular weight of 2,000 or more, number average molecular weight of 500
The above is preferable, and the weight average molecular weight is 5000 to 3
00000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (mass average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to
Ten are more preferred. Further, the alkali-soluble polymer compound is a phenol-formaldehyde resin,
In the case of a cresol-aldehyde resin or the like, those having a mass average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000 are preferred.

【0100】前記アルカリ水可溶性高分子化合物の含有
量としては、画像形成層の全固形分質量に対して30〜
99質量%が好ましく、40〜95質量%がより好まし
く、50〜90質量%が最も好ましい。前記含有量が、
30質量%未満であると、画像形成層の耐久性が低下す
ることがあり、99質量%を越えると、感度、耐久性が
低下することがある。また、前記高分子化合物は、1種
類のみを用いても、2種類以上を組合わせて用いてもよ
い。
The content of the alkali water-soluble polymer compound is preferably from 30 to 30% by mass of the total solid content of the image forming layer.
99 mass% is preferable, 40-95 mass% is more preferable, and 50-90 mass% is most preferable. The content is
If the amount is less than 30% by mass, the durability of the image forming layer may decrease. If the amount exceeds 99% by mass, the sensitivity and the durability may decrease. The polymer compound may be used alone or in combination of two or more.

【0101】−(C)前記アルカリ可溶性高分子化合物
と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ
水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該
溶解性低下作用が減少する化合物− この(C)成分は、分子内に存在する水素結合性の官能
基の働きにより、前記(B)アルカリ可溶性高分子化合
物との相溶性が良好であり、均一な画像形成層用塗布液
を形成しうるとともに、アルカリ可溶性高分子化合物と
の相互作用により、該アルカリ可溶性高分子化合物のア
ルカリ可溶性を抑制する機能(溶解性抑制作用)を有す
る化合物を指す。
-(C) a compound which is compatible with the alkali-soluble polymer compound to reduce the solubility of the alkali-soluble polymer compound in an aqueous alkali solution and reduces the solubility lowering effect by heating. The component (C) has good compatibility with the alkali-soluble polymer compound (B) due to the function of a hydrogen-bonding functional group present in the molecule, and can form a uniform coating solution for an image forming layer. In addition, it refers to a compound having a function of suppressing the alkali solubility of the alkali-soluble polymer compound through interaction with the alkali-soluble polymer compound (solubility suppressing action).

【0102】また、加熱によりアルカリ可溶性高分子化
合物に対する前記溶解性抑制作用は消滅するが、この赤
外線吸収剤自体が加熱により分解する化合物である場合
には、分解に十分なエネルギーが、レーザー出力や照射
時間等の諸条件により付与されないと、アルカリ可溶性
高分子化合物の溶解性抑制作用を十分に低下させること
ができず、感度が低下するおそれがある。このため、
(C)成分の熱分解温度としては、150°C以上が好
ましい。
Further, the above-mentioned action of suppressing the solubility of the alkali-soluble polymer compound is eliminated by heating. However, when the infrared absorbing agent itself is a compound that can be decomposed by heating, sufficient energy for the decomposition can be obtained by the laser output or the like. If it is not given by various conditions such as irradiation time, the action of suppressing the solubility of the alkali-soluble polymer compound cannot be sufficiently reduced, and the sensitivity may be lowered. For this reason,
The thermal decomposition temperature of the component (C) is preferably 150 ° C. or higher.

【0103】(C)成分としては、前記(B)アルカリ
可溶性高分子化合物との相互作用を考慮して、例えば、
スルホン化合物、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ア
ミド化合物等の前記アルカリ可溶性高分子化合物と相互
作用しうる化合物の中から適宜選択することができる。
特に、例えば、前記(B)成分として、ノボラック樹脂
を単独で用いる場合には、後述する「(A+C)成分」
が好ましく、以下に例示するシアニン染料A等がより好
ましい。(A+C)成分については後述する。
As the component (C), for example, in consideration of the interaction with the (B) alkali-soluble polymer compound, for example,
It can be appropriately selected from compounds that can interact with the alkali-soluble polymer compound, such as a sulfone compound, an ammonium salt, a phosphonium salt, and an amide compound.
In particular, for example, when a novolak resin is used alone as the component (B), the “(A + C) component” described below is used.
Is preferable, and the cyanine dye A exemplified below is more preferable. The (A + C) component will be described later.

【0104】(C)成分と前記(B)アルカリ可溶性高
分子化合物との配合比(C/B)としては、一般に1/
99〜25/75が好ましい。前記混合比が、1/99
未満、即ち、(C)成分が少なすぎると、アルカリ可溶
性高分子化合物との相互作用が不十分となり、アルカリ
可溶性を低下させることができず、良好に画像形成する
ことができないことがあり、25/75を超える、即
ち、(C)成分が多すぎると、相互作用が過大となり、
感度が著しく低下することがある。
The mixing ratio (C / B) of the component (C) and the alkali-soluble polymer compound (B) is generally 1 /
99 to 25/75 is preferred. The mixing ratio is 1/99
When the amount is less than the above, that is, when the amount of the component (C) is too small, the interaction with the alkali-soluble polymer compound becomes insufficient, so that the alkali-solubility cannot be reduced and the image cannot be formed well. If the ratio exceeds / 75, that is, if the component (C) is too large, the interaction becomes excessive,
Sensitivity may be significantly reduced.

【0105】−(A+C)成分− 前記(A)成分及び(C)成分に代えて、これら双方の
特性を有する化合物((A+C)成分)を用いることが
できる。前記(A+C)成分は、光を吸収して熱を発生
する性質(即ち、(A)成分の特性)を有し、しかも7
00〜1200nmの波長領域に吸収域を持つと共に、さ
らにアルカリ可溶性高分子化合物と良好に相溶しうる塩
基性染料である。(A+C)成分は、その分子内にアン
モニウム基、イミニウム基等のアルカリ可溶性高分子化
合物と相互作用する基を有する(即ち、(C)成分の特
性)ため、前記高分子化合物と相互作用して、そのアル
カリ可溶性を抑制することができる。前記(A+C)成
分としては、例えば、下記一般式(Z)で表される化合
物を挙げることができる。
-Component (A + C)-In place of the components (A) and (C), a compound having both properties ((A + C) component) can be used. The component (A + C) has a property of absorbing light to generate heat (that is, the characteristic of the component (A)),
It is a basic dye which has an absorption range in the wavelength region of 00 to 1200 nm and is further compatible with an alkali-soluble polymer compound. The component (A + C) has, in its molecule, a group that interacts with an alkali-soluble polymer compound such as an ammonium group or an iminium group (that is, the property of the component (C)). And its alkali solubility can be suppressed. Examples of the component (A + C) include compounds represented by the following general formula (Z).

【0106】[0106]

【化3】 Embedded image

【0107】前記一般式(Z)中、R21〜R24は、それ
ぞれ独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭
素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基を表し、R21
22、R23とR24はそれぞれ結合して環構造を形成して
いてもよい。R21〜R24としては、例えば、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよ
い。ここで、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。
In the general formula (Z), R 21 to R 24 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl, alkenyl, alkoxy or cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Represents an alkyl group or an aryl group, and R 21 and R 22 , and R 23 and R 24 may be bonded to each other to form a ring structure. R 21 to R 24 include, for example, a hydrogen atom,
Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, and a cyclohexyl group, and these groups may further have a substituent. Here, examples of the substituent include a halogen atom,
Carbonyl group, nitro group, nitrile group, sulfonyl group,
Examples thereof include a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester.

【0108】式中、R25〜R30は、それぞれ独立に置換
基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基を表
し、前記R25〜R30としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル
基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これら
の基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置
換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、
ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル
基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。
In the formula, R 25 to R 30 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, and R 25 to R 30 include, for example, a methyl group, Examples include an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, and a cyclohexyl group, and these groups may further have a substituent. Here, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group,
Examples include a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester.

【0109】式中、R31〜R33は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R32は、前記R31又は
33と結合して環構造を形成していてもよく、m>2の
場合は、複数のR32同士が結合して環構造を形成してい
てもよい。前記R31〜R33としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、R32同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。また、mは1〜8の整数を表し、中でも1〜3が好
ましい。
[0109] In the formula, R 31 to R 33 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, wherein R 32, said R 31 or may be bonded to R 33 to form a ring structure, m> 2, the general may be bonded multiple R 32 together form a ring structure. Examples of R 31 to R 33 include a chlorine atom, a cyclohexyl group, and a cyclopentyl ring and a cyclohexyl ring formed by bonding R 32 to each other, and these groups may further have a substituent. . Here, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group,
Carboxylic acid esters, sulfonic acid esters and the like can be mentioned. M represents an integer of 1 to 8, and preferably 1 to 3.

【0110】式中、R34〜R35は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R34は、R35と結合し
て環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複数
のR34同士が結合して環構造を形成していてもよい。前
記R34〜R35としては、例えば、塩素原子、シクロヘキ
シル基、R34同士が結合してなるシクロペンチル環、シ
クロヘキシル環等が挙げられ、これらの基は、さらに置
換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、例
えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリ
ル基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エス
テル、スルホン酸エステル等が挙げられる。また、m
は、1〜8の整数を表し、中でも、1〜3が好ましい。
[0110] In the formula, R 34 to R 35 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, wherein R 34 is a R 35 A bond may form a ring structure, and when m> 2, a plurality of R 34 may bond with each other to form a ring structure. Examples of R 34 to R 35 include a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring and a cyclohexyl ring formed by bonding R 34 to each other, and these groups may further have a substituent. . Here, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester. Also, m
Represents an integer of 1 to 8, and among them, 1 to 3 is preferable.

【0111】式中、X-は、アニオンを表し、例えば、
過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−O−トル
エンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベン
ゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−
クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スル
ホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイ
ル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等
が挙げられる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。
In the formula, X represents an anion.
Perchloric acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-O-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,4 6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-
Chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid and para Toluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are preferable.

【0112】前記一般式(Z)で表される化合物は、一
般にシアニン染料と呼ばれる化合物であり、具体的に
は、以下に示す化合物が好適に用いられるが、これらに
限られるものではない。
The compound represented by the general formula (Z) is a compound generally called a cyanine dye, and specifically, the following compounds are suitably used, but not limited thereto.

【0113】[0113]

【化4】 Embedded image

【0114】上述の(A)成分及び(C)成分に代え
て、これら双方の特性を有する前記(A+C)成分を用
いる場合、該(A+C)成分と前記(B)成分との使用
量比〔(A+C)/(B)〕としては、1/99〜30
/70が好ましく、1/99〜25/75がより好まし
い。
When the component (A + C) having both of these characteristics is used instead of the component (A) and the component (C), the usage ratio of the component (A + C) to the component (B) [ (A + C) / (B)] is 1/99 to 30
/ 70 is preferred, and 1/99 to 25/75 is more preferred.

【0115】以下は、ネガ型平版印刷版の記録層を構成
する成分である。 −(D)熱により酸を発生する化合物− 画像形成材料がネガ型の場合、加熱時に酸を発生する化
合物(以下、「酸発生剤」という。)を併用する。この
酸発生剤は、100°C以上に加熱することにより分解
して酸を発生する化合物を増す。発生する酸としては、
スルホン酸、塩酸等の pKa が2以下の強酸であること
が好ましい。前記酸発生剤としては、特願平11−66
733号に記載のものが挙げられる。
The following are the components constituting the recording layer of the negative type lithographic printing plate. — (D) Compound that Generates Acid by Heat— When the image forming material is a negative type, a compound that generates an acid when heated (hereinafter, referred to as “acid generator”) is used in combination. The acid generator increases the number of compounds that decompose when heated to 100 ° C. or more to generate an acid. As the generated acid,
It is preferably a strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid and hydrochloric acid. Examples of the acid generator include Japanese Patent Application No. 11-66.
No. 733.

【0116】前記酸発生剤の添加量としては、画像形成
層の全固形分質量に対し0.01〜50質量%が好まし
く、0.1〜40質量%がより好ましく、0.5〜30質量
%が最も好ましい。
The amount of the acid generator is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 40% by mass, and more preferably 0.5 to 30% by mass based on the total solid content of the image forming layer. % Is most preferred.

【0117】−(E)酸により架橋する架橋剤− 平版印刷用原版がネガ型である場合、酸により架橋する
架橋剤(以下、単に「架橋剤」という場合がある。)を
併用する。前記架橋剤としては、以下のものを挙げるこ
とができる。 (i)アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置
換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基又はN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 さらに、特願平10−53788号に記載のものやフェ
ノール誘導体等も挙げることができる。
-(E) Crosslinking Agent Crosslinked by Acid-When the lithographic printing plate precursor is of a negative type, a crosslinking agent crosslinked by an acid (hereinafter sometimes simply referred to as "crosslinking agent") is used in combination. Examples of the crosslinking agent include the following. (I) an aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group (ii) a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group (iii) an epoxy compound Nos. 10-53788 and phenol derivatives.

【0118】前記架橋剤の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し5〜80質量%が好ましく、10
〜75質量%がより好ましく、20〜70質量%が最も
好ましい。前記フェノール誘導体を架橋剤として使用す
る場合、該フェノール誘導体の添加量としては、画像形
成材料の全固形分質量に対し5〜70質量%が好まし
く、10〜50質量%がより好ましい。上記の各種化合
物の詳細については、特願平11−66733号に記載
されている。
The amount of the crosslinking agent to be added is preferably from 5 to 80% by mass based on the total mass of the solid content of the image forming layer.
-75 mass% is more preferable, and 20-70 mass% is most preferable. When the phenol derivative is used as a cross-linking agent, the amount of the phenol derivative to be added is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, based on the total solid content of the image forming material. Details of the above various compounds are described in Japanese Patent Application No. 11-66733.

【0119】−その他の成分− アルカリ現像処理液を適用するのに好適な平版印刷用原
版の画像形成層には、必要に応じて、さらに種々の添加
剤を添加することができる。例えば、感度を向上させる
目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類、ス
ルホニル化合物類等の公知の添加剤を併用することもで
きる。前記他の環状酸無水物、フェノール類、有機酸類
又はスルホニル化合物類の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し、0.05〜20質量%が好まし
く、0.1〜15質量%がより好ましく、0.1〜10質量
%が最も好ましい。
-Other Components- Various additives can be further added to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor suitable for applying the alkali developing solution, if necessary. For example, known additives such as cyclic acid anhydrides, phenols, organic acids, and sulfonyl compounds can be used in combination for the purpose of improving sensitivity. The amount of the other cyclic acid anhydride, phenol, organic acid or sulfonyl compound to be added is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the image forming layer. % Is more preferable, and 0.1 to 10% by mass is most preferable.

【0120】また、現像条件に対する処理性の安定性を
拡げる目的で、特開昭62−251740号公報、特開
平3−208514号公報等に記載の非イオン界面活性
剤、特開昭59−121044号、特開平4−1314
9号公報等に記載の両性界面活性剤を添加することがで
きる。前記非イオン界面活性剤又は両性界面活性剤の使
用量としては、画像形成層の全固形分質量に対し、0.0
5〜15質量%が好ましく、0.1質量%がより好まし
い。
For the purpose of expanding the stability of processability under development conditions, nonionic surfactants described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514, and JP-A Nos. 59-121044. No., JP-A-4-1314
An amphoteric surfactant described in JP-A No. 9 and the like can be added. The amount of the nonionic surfactant or amphoteric surfactant used is 0.0 with respect to the total solid content of the image forming layer.
It is preferably from 5 to 15% by mass, more preferably 0.1% by mass.

【0121】前記画像形成層には、露光による加熱後、
直ちに可視像を得るための焼き出し剤や画像着色剤とし
ての染料や顔料を加えることができる。前記焼き出し剤
としては、例えば、露光による加熱によって酸を発生す
る化合物と塩を形成しうる有機染料との組合せが挙げら
れる。具体的には、特開昭50−36209号、特開昭
53−8128号の各公報に記載の、o−ナフトキノン
ジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染
料との組合せ、特開昭53−36223号、特開昭54
−74728号、特開昭60−3626号、特開昭61
−143748号、特開昭61−151644号及び特
開昭63−58440号の各公報に記載の、トリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せ、が挙げられ
る。前記トリハロメチル化合物として、オキサゾール系
化合物とトリアジン系化合物があり、いずれも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。前記画像着色
剤としては、例えば、前記塩形成性有機染料以外に、他
の染料を用いることができ、例えば、油溶性染料、塩基
性染料が好適に挙げられる。
After heating by exposure, the image forming layer
A dye or pigment as a printing-out agent or an image coloring agent for immediately obtaining a visible image can be added. Examples of the printing-out agent include a combination of a compound that generates an acid by heating upon exposure and an organic dye that can form a salt. Specifically, a combination of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 53-36223, JP-A-54
-74728, JP-A-60-3626, JP-A-61
And combinations of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in JP-A-143748, JP-A-61-151644 and JP-A-63-58440. The trihalomethyl compound includes an oxazole-based compound and a triazine-based compound, all of which have excellent stability over time and give clear print-out images. As the image colorant, for example, other dyes can be used in addition to the salt-forming organic dye, and for example, an oil-soluble dye and a basic dye are preferable.

【0122】具体的には、オイルイエロー#101、オ
イルイエロー#103、オイルピンク#312、オイル
グリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#6
03、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイ
ルブラックT−505(以上、オリエント化学工業
(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイ
オレット(C.I.42555)、メチルバイオレット
(C.I.42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(C.I.145170B)、マラカイトグリー
ン(C.I.42000)、メチレンブルー(C.I.
52015)等を挙げることができる。また、特開昭6
2−293247号公報に記載の染料は、特に好まし
い。前記各種染料の添加量としては、画像形成層の全固
形分質量に対し、0.01〜10質量%が好ましく、0.1
〜3質量%がより好ましい。
More specifically, oil yellow # 101, oil yellow # 103, oil pink # 312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 6
03, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI. 42555), Methyl Violet (CI. 42535) , Ethyl violet, rhodamine B (CI. 145170B), malachite green (CI. 42000), methylene blue (CI.
52015) and the like. In addition, Japanese Unexamined Patent Publication
The dyes described in JP-A-2-293247 are particularly preferred. The amount of the various dyes to be added is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.1 to 10% by mass based on the total solid content of the image forming layer.
~ 3 mass% is more preferred.

【0123】また、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等
を付与する目的で、可塑剤を添加することもできる。可
塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル難ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマーな
どが挙げられる。
A plasticizer may be added, if necessary, for the purpose of imparting flexibility or the like to the coating film. As the plasticizer, for example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic Examples include oligomers and polymers of acid or methacrylic acid.

【0124】さらに必要に応じて、以下の種々添加剤を
添加することができる。例えば、オニウム塩、o−キノ
ンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スル
ホン酸エステル化合物等の、熱分解性で、未分解状態で
はアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低
下させる化合物を併用することができる。該化合物の添
加は、画像部の現像液への溶解阻止能の向上を図る点で
好ましい。前記オニウム塩、o−キノンジアジド化合
物、芳香族スルホン酸エステル等の添加量としては、画
像形成層の全固形分質量に対し、0.1〜50質量%が好
ましく、0.5〜30質量%がより好ましく、0.5〜20
質量%が最も好ましい。
Further, the following various additives can be added as required. For example, onium salts, o-quinonediazide compounds, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, and other compounds that are thermally decomposable and substantially reduce the solubility of an alkali water-soluble polymer compound in an undecomposed state. Can be used together. The addition of the compound is preferred from the viewpoint of improving the ability to inhibit the dissolution of the image area in the developer. The amount of the onium salt, o-quinonediazide compound, aromatic sulfonic acid ester or the like to be added is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, based on the total solid content of the image forming layer. More preferably, 0.5 to 20
% By weight is most preferred.

【0125】以下に感光性平版印刷版における支持体に
ついて記載する。感光層は、寸度的に安定な板状物であ
る支持体上に塗布されて感光性平版印刷版となる。かか
る支持体としては紙、プラスチックス(例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネ
ートされた紙、例えば、アルミニウム(アルミニウム合
金も含む)、亜鉛、鉄、銅などの金属板、例えば、二酢
酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロ
ース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、
ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタールなどのプラスチックフィルム、上記
の金属をラミネート、もしくは蒸着された紙もしくはプ
ラスチックフィルムおよびガラス板などが用いられる。
The support in the photosensitive lithographic printing plate will be described below. The photosensitive layer is coated on a support which is a dimensionally stable plate-like material to form a photosensitive lithographic printing plate. As such a support, paper, paper laminated with plastics (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), for example, a metal plate of aluminum (including aluminum alloy), zinc, iron, copper, etc., for example, cellulose diacetate , Cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene,
Plastic films such as polystyrene, polypropylene, polycarbonate, and polyvinyl acetal, and paper or plastic films and glass plates on which the above metals are laminated or deposited are used.

【0126】基本的には支持体としてアルミニウム板が
用いられる。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしく
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々10質量%以下である。好適なアルミニウムは、純ア
ルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬
技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有する
ものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定され
るものではなく、従来より公知公用の素材のものを適宜
利用することが出来る。アルミニウム板の厚みは、およ
そ0.1mm〜0.6mm程度である。
Basically, an aluminum plate is used as a support. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by mass or less. The preferred aluminum is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining techniques and may therefore contain slightly foreign elements. The composition of the aluminum plate is not specified, and a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate is about 0.1 mm to 0.6 mm.

【0127】アルミニウム板は表面の保水性や感光層と
の密着性を向上するために粗面化されるが、それに先立
ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば
界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによ
る脱膜処理が行われる。尚、感光性平版印刷版は、片面
のみ使用できるものであっても、両面とも同様な処理に
よって使用できる感光性平版印刷版を作製する場合は同
様な処理を両面に施せばよい。まず、アルミニウム板の
表面は粗面化処理されるが、その方法としては、機械的
に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する
方法および化学的に表面を選択溶解させる方法がある。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブ
ラスト研磨法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法
を用いることが出来る。また、電気化学的な粗面化法と
しては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により
行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報
に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用
することが出来る。
The aluminum plate is roughened in order to improve the water retention of the surface and the adhesion to the photosensitive layer. Prior to the roughening, if necessary, for example, a surfactant or organic solvent for removing the rolling oil on the surface is used. A film removal treatment using a solvent or an alkaline aqueous solution is performed. The photosensitive lithographic printing plate can be used on only one side, but when preparing a photosensitive lithographic printing plate that can be used on both sides by the same processing, the same processing may be performed on both sides. First, the surface of an aluminum plate is subjected to a surface roughening treatment, which includes a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. There is a way.
As a mechanical method, a known method called a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, a buff polishing method, or the like can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

【0128】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極
酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に
用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するも
のならばいかなるものでも使用することができ、一般に
は硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸
が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類に
よって適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電
解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般
的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜
70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100
V、電解時間10秒〜5分の範囲にあれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、よ
り好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化
皮膜が1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であった
り、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷
時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。
The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, any electrolyte that forms a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally. In general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by mass, and the solution temperature is 5 to 5.
70 ° C., current density 5 to 60 A / dm 2 , voltage 1 to 100
V, the electrolysis time is suitably in the range of 10 seconds to 5 minutes.
The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, and the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing, so-called “ "Scratch dirt" easily occurs.

【0129】[親水化処理]上述の処理を施した支持体
に必須ではないが用いてもよい処理としては、従来より
知られている親水化処理がある。このような親水化処理
としては、米国特許第2,714,066号、第3,1
81,461号、第3,280,734号、第3,90
2,734号に開示されているようなアルカリ金属珪酸
塩(例えば珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法
においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬処
理されるか又は電解処理される。あるいは、特公昭36
−22063号公報に開示されている弗化ジルコン酸カ
リウム及び米国特許第3,276,868号、第4,1
53,461号、第4,689,272号に開示されて
いる様なポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用
いられる。これらの中で、特に好ましい親水化処理は珪
酸塩処理である。珪酸塩処理について以下に説明する。
[Hydrophilic treatment] As a treatment which is not essential but may be used for the support which has been subjected to the above treatment, there is a conventionally known hydrophilization treatment. Examples of such a hydrophilic treatment include U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,1.
No. 81,461, No. 3,280,734, No. 3,90
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in US Pat. No. 2,734. In this method, the support is immersed or electrolytically treated in an aqueous solution of sodium silicate. Or, Tokubiko Sho36
Potassium Fluoride Zirconate as disclosed in U.S. Pat.
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in JP-A-53,461 and JP-A-4,689,272 is used. Among these, a particularly preferred hydrophilization treatment is a silicate treatment. The silicate treatment will be described below.

【0130】(珪酸塩処理)上述の如き処理を施したア
ルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が
0.001〜30質量%、好ましくは0.01〜10質量%
であり、25℃でのpHが10〜13である水溶液に、
例えば15〜80℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカ
リ金属珪酸塩水溶液のpHが10より低いと液はゲル化
し13.0より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。アル
カリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属珪酸
塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物と
しては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金
属塩もしくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカ
リ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロン
チウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸
塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ
酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩と
して、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリ
ウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタ
ン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキ
シ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げる
ことができる。アルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族
金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用することがで
きる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質
量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%で
ある。珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上の親水
性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非画像部
に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。
(Silica treatment) The alkali metal silicate was applied to the anodic oxide film on the aluminum plate that had been treated as described above.
0.001 to 30% by mass, preferably 0.01 to 10% by mass
In an aqueous solution having a pH of 10 to 13 at 25 ° C,
For example, immersion is performed at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds. If the pH of the alkali metal silicate aqueous solution is lower than 10, the solution gels, and if it is higher than 13.0, the oxide film is dissolved. As the alkali metal silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. Hydroxides used to increase the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. In addition, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above-mentioned processing solution. Examples of the alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. No. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium titanium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, and the like. Can be. Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and the more preferred range is 0.05 to 5.0% by mass. Since the silicate treatment further improves the hydrophilicity on the aluminum plate surface, the ink hardly adheres to the non-image area during printing, and the stain performance is improved.

【0131】[有機下塗層]支持体には感光層を塗布す
る前に必要に応じて有機下塗層が設けられる。かかる有
機下塗層に用いられる有機化合物としては特開平4−2
82637号公報、特願平8−225335号公報、特
願平9−89646号公報、特願平9−106068号
公報、特願平9−127232号公報に記載の化合物が
好適に用いられる。
[Organic undercoat layer] The support is provided with an organic undercoat layer if necessary before coating the photosensitive layer. The organic compound used in such an organic undercoat layer is disclosed in
Compounds described in JP-A-82637, JP-A-8-225335, JP-A-9-89646, JP-A-9-106068 and JP-A-9-127232 are preferably used.

【0132】[バックコート]支持体の裏面には、必要
に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコー
トとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高
分子化合物および特開平6−35174号公報記載の有
機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて
得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられ
る。これらの被覆層のうち、Si(OCH34、Si
(OC254、Si(OC374 、Si(OC
494 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し
易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性
に優れており特に好ましい。
[Backcoat] On the back surface of the support, a backcoat is provided if necessary. Examples of the back coat include a coating comprising a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Layers are preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 , Si
(OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC
Alkoxy compounds of silicon such as 4 H 9 ) 4 are inexpensive and readily available, and a coating layer of a metal oxide provided therefrom is particularly preferred because of its excellent development resistance.

【0133】[0133]

【露光・現像・後処理】紫外・可視光線感光性平版印刷
版は、透明原画を通して、例えば、水銀灯、メタルハラ
イドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、タング
ステンランプ、カーボンアーク灯などにより露光された
後、本発明の現像処理方法により現像され、その後、任
意に水洗、リンス液による処理、不感脂化処理などが施
される。赤外線感光性平版印刷版は、近赤外から赤外領
域に発光波長を持つレーザーを搭載したプレートセッタ
ーなどにより露光される。かかるレーザーとしては波長
760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ
ー及び半導体レーザーが好ましい。本発明においては、
レーザー照射後すぐに現像処理をおこなっても良いが、
レーザー照射工程と現像工程の間に加熱処理を行うこと
が好ましい。加熱処理の条件は、80℃〜150℃の範
囲内で10秒〜5分間行うことが好ましい。この加熱処
理により、レーザー照射時、記録に必要なレーザーエネ
ルギーを減少させることができる。必要に応じて加熱処
理を行った後、本発明の現像処理方法にて現像処理さ
れ、次いで、任意に水洗、リンス液による処理、不感脂
化処理などが施される。また、光重合型感光性平版印刷
版はアルゴンレーザー、YAGレーザーで走査露光され
た後、必要により加熱処理を行って、本発明の現像処理
方法にて現像処理され、次いで、任意に水洗、リンス液
による処理、不感脂化処理などが施される。
[Exposure, development and post-processing] UV / visible light-sensitive lithographic printing plates are exposed through transparent originals, for example, with a mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, chemical lamp, tungsten lamp, carbon arc lamp, etc. After being developed by the developing method of the invention, it is optionally subjected to washing with water, treatment with a rinsing solution, desensitization treatment, and the like. The infrared-sensitive lithographic printing plate is exposed by a plate setter equipped with a laser having an emission wavelength in the near infrared to infrared region. As such a laser, a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm is preferable. In the present invention,
Development processing may be performed immediately after laser irradiation,
Heat treatment is preferably performed between the laser irradiation step and the developing step. The heat treatment is preferably performed in a range of 80 ° C. to 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced. After performing a heat treatment as needed, it is subjected to a development treatment according to the development treatment method of the present invention, and is then optionally subjected to a washing with water, a treatment with a rinsing solution, a desensitization treatment and the like. Further, the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate is subjected to a scanning treatment with an argon laser and a YAG laser, and then, if necessary, subjected to a heating treatment, and is developed by the developing treatment method of the present invention, and then optionally washed with water and rinsed. A treatment with a liquid, a desensitization treatment, and the like are performed.

【0134】[0134]

【発明の効果】本発明の方法によれば、現像処理の多少
にかかわらずに、現像液の現像活性を一定に保持しなが
ら現像処理を実施することができる。更に具体的に、平
版印刷版において非画像部の残膜や画像部の欠陥を発生
させずに、延いては良好な印刷物を提供できる。
According to the method of the present invention, the development processing can be carried out while maintaining the developing activity of the developer constant regardless of the degree of the development processing. More specifically, a good printed matter can be provided without causing a residual film in a non-image part or a defect in an image part in a lithographic printing plate.

【0135】[0135]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、
実施例中の「%」は全て「質量%」を表す。 <平版印刷版用原版の作成>0.3mm厚のアルミニウ
ム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱
脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−
水懸濁液を用い、この表面を砂目立てし、水でよく洗浄
した。洗浄後、このアルミニウム板を45℃の25%水
酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行
い、水洗した後、さらに20%硝酸水溶液に20秒間浸
漬し、再度水洗した。このときの砂目立て表面のエッチ
ング量は、約3g/m 2であった。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.
However, the present invention is not limited to these. In addition,
All “%” in the examples represent “% by mass”. <Preparation of a lithographic printing plate precursor> 0.3 mm thick aluminum
Wash the plate (material 1050) with trichlorethylene and remove
After grease, nylon brush and 400 mesh pumice-
Using a water suspension, grain this surface and wash it well with water
did. After washing, the aluminum plate was washed with 45% water at 45 ° C.
Etch for 9 seconds in an aqueous solution of sodium oxide
After washing with water, immerse in a 20% nitric acid aqueous solution for 20 seconds.
Pickled and washed again with water. Etching of the grained surface at this time
Approximately 3 g / m TwoMet.

【0136】次に、このアルミニウム板を7%硫酸を電
解液として、電流密度15A/dm 2の直流電流で3g
/m2の陽極酸化被膜を設けた後、水洗、乾燥した。こ
れを、30℃の珪酸ナトリウム2.5%水溶液で10秒
処理し、下記下塗り層用塗布液を塗布し、80℃下で1
5秒間乾燥して支持体を得た。乾燥後の下塗り層の乾燥
塗布量は、15mg/m2であった。
Next, the aluminum plate was charged with 7% sulfuric acid.
As a lysate, current density 15A / dm Two3g with direct current
/ MTwoAfter providing an anodic oxide film, the substrate was washed with water and dried. This
This was treated with a 2.5% aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C for 10 seconds.
And apply the following undercoat layer coating solution,
The support was obtained by drying for 5 seconds. Drying of the undercoat layer after drying
Application amount is 15mg / mTwoMet.

【0137】<下塗り層用塗布液> 下記共重合体P(分子量28000) 0.3g メタノール 100g 水 1g<Coating solution for undercoat layer> The following copolymer P (molecular weight: 28,000) 0.3 g methanol 100 g water 1 g

【0138】 [0138]

【0139】<特定の共重合体の合成> 合成例(特定の共重合体1) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三つ口
フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モル)、
クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及びアセ
トニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合
物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36.4
g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で3
0分間混合物を攪拌した。この反応混合物にp-アミノベ
ンゼンスルホンアミド51.7g(0.30モル)を加
え、油浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌し
た。反応終了後、この混合物を水1リットルにこの水を
攪拌しながら投入し、30分間得られた混合物を攪拌し
た。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水
500mlでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、
得られた固体を乾燥することにより、N-(p-アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られ
た(収量46.9g)
<Synthesis of Specific Copolymer> Synthesis Example (Specific Copolymer 1) 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid was placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling in an ice water bath. To this mixture was added triethylamine 36.4.
g (0.36 mol) was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After dropping, remove the ice-water bath and allow
The mixture was stirred for 0 minutes. To the reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove a precipitate, which was slurried with 500 ml of water, and then the slurry was filtered.
By drying the obtained solid, a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was obtained (yield 46.9 g).

【0140】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三つ口フラスコにN-(p-アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド4.61g、(0.0192モ
ル)、メタクリル酸エチル2.94g(0.0258モ
ル)、アクリロニトリル0.80g(0.015モル)
及びN,N-ジメチルアセトアミド20gを入れ、湯水浴に
より65℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合
物に「V-65」(和光純薬(株)製)0.15gを加
え、65℃に保ちながら窒素気流下2時間混合物を攪拌
した。この反応混合物にさらにN-(p-アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド4.61g、メタクリル酸
エチル2.94g、アクリロニトリル0.80g、N,N-
ジメチルアセトアミド及び「V−65」0.15gの混
合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終
了後、さらに65℃で2時間得られた混合物を攪拌し
た。反応終了後、メタノール40gを混合物に加え、冷
却し、得られた混合物を水2リットルにこの水を攪拌し
ながら投入し、30分間混合物を攪拌した後、析出物を
ろ過により取り出し、乾燥することにより15gの白色
固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
により、この特定の共重合体の重量平均分子量(ポリス
チレン標準)を測定したところ、53,000であっ
た。
Next, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, (0.0192 mol) and 2.94 g of ethyl methacrylate were placed in a 20 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel. 0.0258 mol), 0.80 g (0.015 mol) of acrylonitrile
And 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. 0.15 g of "V-65" (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to the mixture, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 65 ° C. To this reaction mixture, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, 2.94 g of ethyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, N, N-
A mixture of dimethylacetamide and 0.15 g of “V-65” was added dropwise by a dropping funnel over 2 hours. After the addition was completed, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, methanol (40 g) was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was poured into 2 liters of water while stirring the water. The mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was removed by filtration and dried. Gave 15 g of a white solid. The weight average molecular weight (polystyrene standard) of this specific copolymer was measured to be 53,000 by gel permeation chromatography.

【0141】得られた支持体上に下記画像形成層塗布液
を、乾燥塗布量が、1.8g/m2となるように塗布
し、ポジ型の平版印刷用原版を得た。 <画像形成層用塗布液> 上記特定の共重合体1[(B)成分] 0.4g m,p−クレゾールノボラック[(B)成分] 0.6g (m/p比=6/4、重量平均分子量8000、 未反応クレゾールを0.5%含有) シアニン染料A[(A+C)成分] 0.1g 無水フタル酸[(D)成分] 0.05g p−トルエンスルホン酸 0.002g エチルバイオレット 0.02g (対イオン:6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸) ナフトキノン1,2−ジアジド−5−スルホニルクロイドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 0.01g フッ素系界面活性剤 0.05g (商品名:メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 8g 1−メトキシ−2−プロパノール 4g
The following image forming layer coating solution was applied on the obtained support so that the dry coating amount was 1.8 g / m 2 , to obtain a positive type lithographic printing original plate. <Coating liquid for image forming layer> Specific copolymer 1 [component (B)] 0.4 g m, p-cresol novolak [component (B)] 0.6 g (m / p ratio = 6/4, weight) Average molecular weight 8000, contains 0.5% of unreacted cresol) Cyanine dye A [(A + C) component] 0.1 g Phthalic anhydride [(D) component] 0.05 g p-Toluenesulfonic acid 0.002 g Ethyl violet 0. 02g (counter ion: 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid) Esterified product of naphthoquinone 1,2-diazide-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin 0.01 g Fluorine surfactant 0.05 g (trade name: Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Methyl ethyl ketone 8 g 1-methoxy-2-propanol 4 g

【0142】[0142]

【実施例1】非還元糖含有のアルカリ現像処理液の調製 非還元糖と塩基とを組み合わせたD−ソルビット/酸化
カリウムK2OよりなるD−ソルビットカリウム塩50
%水溶液1リットルにポリエチレングリコール100を
1.0%添加して更にKOHを添加してpHを13.0
に調整したものを現像処理液とした。また、D−ソルビ
ットカリウム塩30.0%水溶液1リットルにポリエチ
レングリコール1000を50%添加して更にKOHを
添加してpHを14.0に調整したものを現像補充液用
原液とした。
Example 1 Preparation of alkaline developing solution containing non-reducing sugar D-sorbite potassium salt 50 comprising D-sorbite / potassium oxide K 2 O in combination of non-reducing sugar and base
% Aqueous solution (1 liter), 1.0% of polyethylene glycol 100 was added, and KOH was further added to adjust the pH to 13.0.
Was adjusted to a developing solution. A stock solution for developing replenisher was prepared by adding 50% of polyethylene glycol 1000 to 1 liter of a 30.0% aqueous solution of potassium D-sorbite and further adjusting the pH to 14.0 by adding KOH.

【0143】上記より得られた平版印刷用原版に出力5
00mW、波長830nmビーム径17μm(1/
2)の半導体レーザーを用いて主走査速度5m/秒に
て露光し、25℃に保持した。この平版印刷用原版を、
上記現像処理液を満たした自動現像機PS900NP
(富士写真フイルム(株)製)により、現像処理した。 [補充条件] (1)プレート処理量に応じて、上記現像補充液原液を、
原液:水=1:2(容量)に希釈して得た希釈液を30m
l/m2で補充する。 (2)経時に応じて、上記現像補充液原液を、原液:水=
1:5(容量)に希釈して得た希釈液を100ml/時間
で補充する。1日に平均10m2処理する条件にて、1
2、50m2、100m2、200m 2、400m2、6
00m2、800m2、1000m2処理時の平版印刷版
を得た。
Output 5 to the lithographic printing original plate obtained above
00 mW, wavelength 830 nm, beam diameter 17 μm (1 /
eTwo) Main scanning speed of 5m / sec using semiconductor laser
And kept at 25 ° C. This lithographic printing plate is
Automatic developing machine PS900NP filled with the above developing solution
(Developed by Fuji Photo Film Co., Ltd.). [Replenishment conditions] (1) Depending on the plate processing amount,
Undiluted solution: 30 m of diluted solution obtained by diluting 1: 2 (volume) with water
l / mTwoReplenish with. (2) Depending on the time, the above-mentioned stock solution of the developing replenisher was replaced with stock solution: water =
100 ml / hour of diluted solution obtained by diluting 1: 5 (volume)
Replenish with. Average 10m / dayTwoUnder processing conditions, 1
mTwo, 50mTwo, 100mTwo, 200m Two, 400mTwo, 6
00mTwo, 800mTwo, 1000mTwoLithographic printing plate during processing
I got

【0144】<画像部/非画像部のバランスの評価> (非画像部の現像性の評価)上記のようにして得た、1
2、50m2、100m2、200m2、400m2、6
00m2、800m2、1000m2処理時での平版印刷
版の、「非画像部の残膜の有無」を下記基準に従い、目視
により観察し官能評価を行った。また、印刷物の評価も
行った。結果を表1に示す。 −基準− ○:十分に現像され、非画像部上の画像形成層の残存は
認められなかった。印刷部物上の汚れはなかった。 △:非画像部上に画像形成層が若干残存していたが、印
刷物上の汚れはなかった。 ×:現像不良が認められ、非画像部に画像形成層が残存
していた。印刷物にも汚れが発生した。
<Evaluation of Balance of Image / Non-Image Area> (Evaluation of Developability of Non-Image Area)
m 2 , 50 m 2 , 100 m 2 , 200 m 2 , 400 m 2 , 6
The lithographic printing plate after the processing of 00 m 2 , 800 m 2 , and 1000 m 2 was visually observed for “the presence or absence of a residual film in a non-image portion” according to the following criteria, and was subjected to a sensory evaluation. The printed matter was also evaluated. Table 1 shows the results. -Criterion- A: sufficiently developed, no residual image-forming layer on non-image area observed. There were no stains on the prints. Δ: The image forming layer slightly remained on the non-image portion, but there was no stain on the printed matter. C: Defective development was observed, and the image forming layer remained in the non-image area. The printed matter was also stained.

【0145】(画像部の膜べりの評価)上記のようにして
得た、1m2、50m2、100m2、200m2、400
2、600m2、800m2、1000m2処理時での平
版印刷版の「画像部の欠陥」を下記基準に従い、目視に
より観察し、官能評価を行った。また、印刷物の評価も
行った。結果を表1に示す。 −基準− ○:画像部に欠陥は認められなかった。印刷物上の画像
部に白ぬけはなかった。 △:画像部濃度が若干低下し、一部に欠陥が認められ
た。印刷物上の画像部に白ぬけはなかった。 ×:画像部濃度が大幅に低下し、画像部に欠陥した部分
有り。印刷物上の画像部に白ぬけが発生した。
(Evaluation of film thinning in image area) 1 m 2 , 50 m 2 , 100 m 2 , 200 m 2 , 400 obtained as described above
according to the following criteria to "defect image" of the planographic printing plate in m 2, 600m 2, 800m 2 , at 1000 m 2 treatment, it was visually observed, the sensory evaluation was conducted. The printed matter was also evaluated. Table 1 shows the results. -Criteria- A: No defect was observed in the image area. There was no whitening in the image area on the printed matter. Δ: Image density slightly decreased, and some defects were observed. There was no whitening in the image area on the printed matter. X: The density of the image portion was significantly reduced, and there were defective portions in the image portion. White spots occurred on the image area on the printed matter.

【0146】[0146]

【実施例2】1日に平均100m2処理する条件にて、
1m2、50m2、100m2、200m2、400m2
600m2、800m2、1000m2処理時の平版印刷
版を得る以外は、実施例1と同様に製版処理を行い、実
施例1と同様な評価を行った。結果を表1に示す。
[Example 2] Under the condition of processing 100 m 2 on average per day,
1m 2 , 50m 2 , 100m 2 , 200m 2 , 400m 2 ,
Except to obtain 600m 2, 800m 2, 1000m 2 planographic printing plate during the treatment, carried out in the same manner as in plate-making process as in Example 1, was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0147】[0147]

【比較例1】実施例1と同様の現像補充液原液を用いて
以下の補充条件を採用すること以外は、実施例1と同様
に製版処理を行い、実施例1と同様な評価を行った。 [補充条件] (1)プレート処理量に応じて、現像補充液原液を、原
液:水=1:3(容量)に希釈して得た希釈液を40ml
/m2で補充する。 (2)経時に応じて、現像補充液原液を、原液:水=1:
3(容量)に希釈して得た希釈液を60ml/時間で補充
する。結果を表1に示す。
Comparative Example 1 A plate-making process was performed in the same manner as in Example 1 except that the following replenishment conditions were employed using the same stock solution of the developing replenisher, and the same evaluation as in Example 1 was performed. . [Replenishment conditions] (1) 40 ml of a diluent obtained by diluting a stock solution of development replenisher to a stock solution: water = 1: 3 (volume) according to the plate processing amount
/ M 2 . (2) Depending on the time, a stock solution of the developing replenisher was prepared by adding stock solution: water = 1:
The diluted solution obtained by diluting to 3 (volume) is replenished at 60 ml / hour. Table 1 shows the results.

【0148】[0148]

【比較例2】実施例1と同様の現像補充液原液を用いて
以下の補充条件を採用すること以外は、実施例2と同様
に製版処理を行い、実施例2と同様な評価を行った。 [補充条件] (1)プレート処理量に応じて、現像補充液原液を、原
液:水=1:3(容量)に希釈して得た希釈液を40ml
/m2で補充する。 (2)経時に応じて、現像補充液原液を、原液:水=1:
3(容量)に希釈して得た希釈液を60ml/時間で補充
する。結果を表1に示す。
Comparative Example 2 A plate making process was carried out in the same manner as in Example 2, except that the following replenishment conditions were employed using the same undiluted developing solution as in Example 1, and the same evaluation as in Example 2 was carried out. . [Replenishment conditions] (1) 40 ml of a diluent obtained by diluting a stock solution of development replenisher to a stock solution: water = 1: 3 (volume) according to the plate processing amount
/ M 2 . (2) Depending on the time, a stock solution of the developing replenisher was prepared by adding stock solution: water = 1:
The diluted solution obtained by diluting to 3 (volume) is replenished at 60 ml / hour. Table 1 shows the results.

【0149】[0149]

【表1】 [Table 1]

フロントページの続き (72)発明者 笹山 洋行 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H096 AA07 GA08 GA09 GA13 Continuation of the front page (72) Inventor Hiroyuki Sasayama 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture Fujisha Shin Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H096 AA07 GA08 GA09 GA13

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光性平版印刷版の処理による現像液の
活性度の低下を補う現像補充液と、経時による現像液の
活性度の低下を補う現像補充液とのアルカリ濃度が異な
る現像補充液を用いて補充することにより、現像液の活
性度を一定に保つことを特徴とする、感光性平版印刷版
の現像処理方法。
1. A developing replenisher having a different alkali concentration between a developing replenisher which compensates for a decrease in the activity of a developer due to processing of a photosensitive lithographic printing plate and a developing replenisher which compensates for a decrease in the activity of the developer over time. A method for developing a photosensitive lithographic printing plate, characterized in that the activity of the developing solution is kept constant by replenishing with a lithographic printing plate.
【請求項2】 請求項1記載の現像処理方法において、
処理による活性度の低下及び経時による活性度の低下を
補充するための補充液の濃縮原液は同一であるが、希釈
比率が異なる現像補充液を補充することを特徴とする感
光性平版印刷版の現像処理方法。
2. The developing method according to claim 1, wherein
A concentrated lithographic printing plate comprising replenishing a developing replenisher having the same concentration of a replenisher for replenishing the decrease in activity due to processing and the decrease in activity over time, but having a different dilution ratio. Development processing method.
JP2000161849A 2000-05-31 2000-05-31 Development processing method for photosensitive planographic printing plate Abandoned JP2001343758A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000161849A JP2001343758A (en) 2000-05-31 2000-05-31 Development processing method for photosensitive planographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000161849A JP2001343758A (en) 2000-05-31 2000-05-31 Development processing method for photosensitive planographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001343758A true JP2001343758A (en) 2001-12-14

Family

ID=18665807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000161849A Abandoned JP2001343758A (en) 2000-05-31 2000-05-31 Development processing method for photosensitive planographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001343758A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6423467B1 (en) Photosensitive resin composition
JP4295418B2 (en) Negative type planographic printing plate precursor
JP4050854B2 (en) Image forming method
JP4156784B2 (en) Negative-type image recording material and image forming method
WO2011037005A1 (en) Lithographic printing original plate
JP4048134B2 (en) Planographic printing plate precursor
US7037636B2 (en) Presensitized plate for preparing lithographic printing plate
EP1510337B1 (en) Infrared-sensitive photosensitive composition
JP2003082426A (en) Supporting body for lithographic printing plate and lithographic printing original plate
JP3841397B2 (en) Infrared sensitive composition
EP1516725B1 (en) Lithographic printing plate precursor
JP4137367B2 (en) Image recording material
EP1552954B1 (en) Dummy plate precursor for planographic printing
JP2003080857A (en) Support for lithographic printing plate and original plate for lithographic printing plate
JP2001343758A (en) Development processing method for photosensitive planographic printing plate
JP4146058B2 (en) Preparation method of negative planographic printing plate
JP4299550B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP3832813B2 (en) Infrared sensitive composition
JP4054244B2 (en) Image recording material
JP2004118070A (en) Original plate for planographic printing plate
JP2001175006A (en) Image forming method
JP2001356494A (en) Processing method for photosensitive planographic printing plate
JP4359525B2 (en) Plate making method
JP2004109887A (en) Original plate for lithographic printing plate
JPH11119418A (en) Positive photosensitive composition for infrared laser beams

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20050916

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20061206

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20080908

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A762 Written abandonment of application

Effective date: 20081028

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762