JPH11119418A - Positive photosensitive composition for infrared laser beams - Google Patents

Positive photosensitive composition for infrared laser beams

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JPH11119418A
JPH11119418A JP28575497A JP28575497A JPH11119418A JP H11119418 A JPH11119418 A JP H11119418A JP 28575497 A JP28575497 A JP 28575497A JP 28575497 A JP28575497 A JP 28575497A JP H11119418 A JPH11119418 A JP H11119418A
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acid
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compound
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alkali
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秀夫 三宅
Ikuo Kawachi
幾生 河内
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photosensitive composition wide in development latitude and capable of forming a printing plate directly from digital information and suitable for forming a lithographic printing plate by incorporating an alkali- soluble polymer compound and a substance absorbing light and generating heat and a specified disulfonyl or sulfonyl compound. SOLUTION: The photosensitive composition contains the alkalisoluble polymer compound and the substance absorbing light and generating heat and the compound represented by formula I: R<1> -SO2 -SO2 -R<2> or formula II: R<1> -SO2 -R<2> . In the formulae I and II, each of R<1> and R<2> is an optionally substituted alkyl or alkenyl or aryl group. When the material containing such a composition is irradiated with laser beams, the exposed parts absorb the light and generate heat to reduce interaction between the compound of the formula I or formula II and the alkali-soluble compound and to increase alkali solubility, thus permitting the difference of the solubilities in an alkaline developing solution between the exposed parts and the unexposed parts to be increased.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

【0002】本発明はオフセット印刷マスターとして使
用できる赤外線レーザー用ポジ型感光性組成物に関する
ものであり、特にコンピュータ等のディジタル信号から
直接製版できるいわゆるダイレクト製版用のポジ型の感
光性平版印刷版に用いるのに適した赤外線レーザー用ポ
ジ型感光性組成物に関する。
The present invention relates to a positive photosensitive lithographic printing plate for infrared laser which can be used as an offset printing master, and more particularly to a positive photosensitive lithographic printing plate for so-called direct plate making which can make a plate directly from a digital signal of a computer or the like. The present invention relates to a positive photosensitive composition for an infrared laser suitable for use.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、コンピュータのディジタルデータ
から直接製版するシステムとしては、 電子写真法によるもの、Arレーザによる露光と後
加熱の組み合わせによる光重合系、感光性樹脂上に銀
塩感材を積層したもの、シルバーマスタータイプのも
の、放電破壊やレーザ光によりシリコーンゴム層を破
壊することによるもの等が知られている。しかしながら
の電子写真法を用いるものは、帯電、露光、現像等処
理が煩雑であり、装置が複雑で大がかりなものになる。
の方法では後加熱工程を要するほか、高感度な版材を
要し、明室での取扱いが難しくなる。、の方法では
銀塩を使用するため処理が煩雑になり、コストが高くな
る欠点がある。またの方法は比較的完成度の高い方法
であるが、版面に残るシリコーン滓の除去に問題点を残
している。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a system for directly making a plate from digital data of a computer, an electrophotographic method, a photopolymerization system using a combination of exposure by an Ar laser and post-heating, and a silver salt photosensitive material laminated on a photosensitive resin are used. Known examples include a silver master type, a silicon master type, and a method in which a silicone rubber layer is broken by a discharge breakdown or a laser beam. However, those using electrophotography require complicated processes such as charging, exposure, and development, and require a complicated and large-scale apparatus.
In the above method, a post-heating step is required, and a high-sensitivity plate material is required, which makes it difficult to handle in a bright room. In the methods (1) and (2), the use of a silver salt complicates the processing and has the disadvantage of increasing the cost. The other method is a method with a relatively high degree of perfection, but has a problem in removing silicone residue remaining on the plate surface.

【0004】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ
・半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手でき
る様になっている。コンピュータ等のディジタルデータ
から直接製版する際の露光光源として、これらのレーザ
は非常に有用である。従来の画像記録材料として、特開
平7−285275号公報には、クレゾール樹脂のよう
な結着剤と光を吸収して熱を発生する物質を、キノンジ
アジドのような熱分解性であり、かつ分解しない状態で
は、前記結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質を含
むポジ型画像記録材料が提案された。しかしながら、こ
れは、パワーの低いレーザーで露光した場合、熱分解性
物質の分解率が低く、現像能力が低い液すなわちアンダ
ー条件での現像性が不足していた。したがって、本発明
の目的は現像液の濃度変化による許容性、即ち現像ラチ
チュードの広い感光性組成物が望まれる。
On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from near infrared to infrared have become easily available in high-output and small-sized ones. These lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. As a conventional image recording material, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-285275 discloses a binder such as a cresol resin and a substance which generates heat by absorbing light, which is thermally decomposable such as quinonediazide and decomposed. If not, a positive image recording material containing a substance that substantially reduces the solubility of the binder has been proposed. However, when exposed to a laser having a low power, the decomposition rate of the thermally decomposable substance is low, and the developability of a liquid having a low developing ability, that is, the developability under an under condition is insufficient. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a photosensitive composition having a wide latitude in development, that is, a composition having a wide latitude.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、現像
ラチチュードの広い感光性組成物、特に従来の処理装置
や印刷装置をそのまま利用でき、コンピューター等のデ
ジタル情報から直接製版、いわゆるダイレクト製版が可
能なポジ型感光性平版印刷版に用いるのに適した赤外線
レーザー用ポジ型感光性組成物を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photosensitive composition having a wide development latitude, in particular, a conventional processing apparatus or a printing apparatus as it is. An object of the present invention is to provide a positive photosensitive composition for an infrared laser suitable for use in a possible positive photosensitive lithographic printing plate.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、アルカリ
可溶性の高分子化合物と相互作用をする化合物を種々検
討した結果、下記構造の化合物を加えることで、現像ラ
チチュードが大幅に広くなることを見いだし、本発明に
至った。即ち、上記目的は、少なくとも、アルカリ可溶
性の高分子化合物と、光を吸収し熱を発生する物質を含
有する赤外線レーザー用ポジ型感光性組成物において、
下記式で示される化合物を含むことを特徴とする前記感
光性組成物を提供することによって解決される。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have studied various compounds that interact with an alkali-soluble polymer compound. And have led to the present invention. That is, the above object, at least, an alkali-soluble polymer compound, a positive photosensitive composition for infrared laser containing a substance that absorbs light and generates heat,
The problem is solved by providing the photosensitive composition, which comprises a compound represented by the following formula.

【化3】R1 −SO2 −SO2 −R2 (I)Embedded image R 1 —SO 2 —SO 2 —R 2 (I)

【化4】R1 −SO2 −R2 (II) 式中、R1 及びR2 は同一でも異なってもよく、置換又
は無置換のアルキル基、アルケニル基、又はアリール基
を表す。
R 1 -SO 2 -R 2 (II) In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and represent a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group or aryl group.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。本発明は上記のごとく、従来より知られている赤外
線感光性組成物、すなわち、アルカリ可溶性の高分子化
合物と、光を吸収し熱を発生する物質を含有する赤外線
感光性組成物にさらに特定のジスルホン化合物又はスル
ホン化合物を添加することを特徴としている。このよう
な組成を有する材料に、レーザーを照射すると露光部で
は光を吸収し熱を発生し、この熱が上記(I)又は(I
I)で示されるジスルホン化合物又はスルホン化合物と
アルカリ可溶性高分子化合物との相互作用を減少させア
ルカリ可溶性を増大させ、一方、未露光部においては熱
が発生しないため、上記ジスルホン化合物又はスルホン
化合物とアルカリ可溶性高分子化合物との相互作用、即
ち、アルカリ現像液への溶解性に対する抑止力が維持さ
れると考えられる。その結果、露光部と未露光部とのア
ルカリ現像液に対する溶解度の差が大きくなり現像ラチ
チュードが広くなると考えられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The present invention, as described above, a more specific infrared photosensitive composition conventionally known, namely, an alkali-soluble polymer compound, and more particularly an infrared photosensitive composition containing a substance that absorbs light and generates heat. It is characterized by adding a disulfone compound or a sulfone compound. When a material having such a composition is irradiated with a laser, the exposed portion absorbs light to generate heat, and the heat is generated by the above (I) or (I).
The interaction between the disulfone compound or the sulfone compound represented by I) and the alkali-soluble polymer compound is reduced to increase the alkali solubility. On the other hand, no heat is generated in the unexposed portion, and thus the disulfone compound or the sulfone compound is mixed with the alkali. It is considered that the interaction with the soluble polymer compound, that is, the deterrent to the solubility in the alkali developer is maintained. As a result, it is considered that the difference in solubility between the exposed portion and the unexposed portion in the alkali developing solution is increased, and the development latitude is widened.

【0008】上記の(II)で示されるスルホン化合物
と、アルカリ可溶性高分子であるノボラック樹脂との相
互作用は、Proc.SPIE,vol.1086,48(1989) においても記
載されている。この文献では上記構造の添加物(II)と
アルカリ可溶性高分子であるノボラックとの相互作用に
ついてのみ述べており、レーザー露光の熱により、上記
相互作用が減少し、画像を得る点については全く示すと
ころはなく、この点は本発明において初めて新規に見出
されたものである。従来より、上記のような赤外線感光
性組成物に、オニウム塩のごとき熱分解性の化合物を添
加し、分解しない状態においてはアルカリ可溶性の高分
子化合物のアルカリ可溶性を抑制し、一方、熱分解した
状態においてはこの抑制力が低下しアルカリ可溶性を高
め、このアルカリ可溶性の差を利用して現像を行うこと
は知られているが、本発明はこのような公知の熱分解性
化合物を使用する場合に比較して更に広い現像ラチチュ
ードを達成することができた。
The interaction between the sulfone compound represented by the above (II) and a novolak resin which is an alkali-soluble polymer is also described in Proc. SPIE, vol. 1086 , 48 (1989). This document describes only the interaction between the additive (II) having the above structure and the novolak which is an alkali-soluble polymer, and shows that the interaction is reduced by the heat of laser exposure to obtain an image. However, this point is newly found for the first time in the present invention. Conventionally, to the infrared-sensitive composition as described above, a thermally decomposable compound such as an onium salt was added, and in a state where it was not decomposed, the alkali solubility of the alkali-soluble polymer compound was suppressed, while thermal decomposition was performed. In this state, it is known that the inhibitory power is reduced, the alkali solubility is increased, and development is performed by utilizing the difference in alkali solubility.However, the present invention relates to the case where such a known thermally decomposable compound is used. A wider development latitude could be achieved as compared to

【0009】本発明の赤外線レーザー用ポジ型感光性組
成物は、アルカリ可溶性の高分子化合物と、光を吸収し
熱を発生する物質を含有する赤外線感光性組成物におい
て、下記式で示される化合物を含むことを特徴とする。
The positive photosensitive composition for an infrared laser according to the present invention is an infrared photosensitive composition containing an alkali-soluble polymer compound and a substance which absorbs light and generates heat. It is characterized by including.

【化5】R1 −SO2 −SO2 −R2 (I)Embedded image R 1 —SO 2 —SO 2 —R 2 (I)

【化6】R1 −SO2 −R2 (II)Embedded image R 1 —SO 2 —R 2 (II)

【0010】式中、R1 及びR2 は同一でも異なっても
よく、置換又は無置換のアルキル基、アルケニル基、又
はアリール基を表す。上記一般式(I)及び(II)のア
ルキル基は、直鎖、分枝又は環状のものであり、好まし
くは、炭素数が1ないし10のものである。具体的に
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、イソプロピル
基、イソブチル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキシ
ル基、シクロヘキシル基、などが挙げられる。また置換
アルキル基には、上記のようなアルキル基に例えば塩素
原子のようなハロゲン原子、例えばメトキシ基のような
炭素数1〜6のアルコキシ基、例えばフェニル基のよう
なアリール基、例えばフェノキシ基のようなアリールオ
キシ基などが置換したものが含まれ、具体的には、モノ
クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル
基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモ
エチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル
基、フェニルメチル基、ナフチルメチル基、フェノキシ
メチル基などが挙げられる。
In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different and represent a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group or aryl group. The alkyl groups of the general formulas (I) and (II) are linear, branched or cyclic, and preferably have 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a 2-ethylhexyl group, a cyclohexyl group, and the like. . The substituted alkyl group includes a halogen atom such as a chlorine atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an aryl group such as a phenyl group, and a phenoxy group. Such as a monochloromethyl group, a dichloromethyl group, a trichloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group, a 2-bromoethyl group, and a 2-methoxyethyl group. , 2-ethoxyethyl, phenylmethyl, naphthylmethyl, phenoxymethyl and the like.

【0011】アルケニル基としては、例えばビニル基が
挙げられ、また置換アルケニル基にはビニル基に例えば
メチル基のようなアルキル基、例えばフェニル基のよう
なアリール基などが置換したものが含まれ、具体的に
は、1−メチルビニル基、2−メチルビニル基、1,2
−ジメチルビニル基、2−フェニルビニル基、2−(p
−メチルフェニル)ビニル基、2−(p−メトキシフェ
ニル)ビニル基、2−(p−クロロフェニル)ビニル
基、2−(o−クロロフェニル)ビニル基などが挙げら
れる。
The alkenyl group includes, for example, a vinyl group, and the substituted alkenyl group includes those in which a vinyl group is substituted with, for example, an alkyl group such as a methyl group, for example, an aryl group such as a phenyl group. Specifically, 1-methylvinyl group, 2-methylvinyl group, 1,2
-Dimethylvinyl group, 2-phenylvinyl group, 2- (p
-Methylphenyl) vinyl group, 2- (p-methoxyphenyl) vinyl group, 2- (p-chlorophenyl) vinyl group, 2- (o-chlorophenyl) vinyl group and the like.

【0012】また、アリール基は単環あるいは2環のも
のが好ましく、例えばフェニル基、α−ナフチル基、β
−ナフチル基などが挙げられる。置換アリール基には上
記のようなアリール基に、例えばメチル基、エチル基な
どの炭素数1〜6のアルキル基、例えばメトキシ基、エ
トキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基、例えば塩
素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、カ
ルボキシ基、ヒドロキシ基、アミド基、イミド基、シア
ノ基などが置換したものが含まれ、具体的には4−クロ
ロフェニル基、2−クロロフェニル基、4−ブロモフェ
ニル基、4−ニトロフェニル基、4−ヒドロキシフェニ
ル基、4−フェニルフェニル基、4−メチルフェニル
基、2−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4
−メトキシフェニル基、2−メトキシフェニル基、4−
エトキシフェニル基、2−カルボキシフェニル基、4−
シアノフェニル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−
クロロ−1−ナフチル基、5−ニトロ−1−ナフチル
基、5−ヒドロキシ−1−ナフチル基、6−クロロ−2
−ナフチル基、4−ブロモ−2−ナフチル基、5−ヒド
ロキシ−2−ナフチル基などが挙げられる。
The aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group such as phenyl, α-naphthyl, β
-Naphthyl group and the like. Examples of the substituted aryl group include, in addition to the above-mentioned aryl groups, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, for example, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group, for example, a chlorine atom Such as those substituted by a halogen atom, a nitro group, a phenyl group, a carboxy group, a hydroxy group, an amide group, an imide group, a cyano group, etc., specifically, a 4-chlorophenyl group, a 2-chlorophenyl group, Bromophenyl group, 4-nitrophenyl group, 4-hydroxyphenyl group, 4-phenylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2-methylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4
-Methoxyphenyl group, 2-methoxyphenyl group, 4-
Ethoxyphenyl group, 2-carboxyphenyl group, 4-
Cyanophenyl group, 4-methyl-1-naphthyl group, 4-
Chloro-1-naphthyl group, 5-nitro-1-naphthyl group, 5-hydroxy-1-naphthyl group, 6-chloro-2
-Naphthyl group, 4-bromo-2-naphthyl group, 5-hydroxy-2-naphthyl group and the like.

【0013】本発明で用いられる一般式(I)で表され
るジスルホン化合物は、ジー.シー.デンサー,ジュニ
アら著「ジャーナル オブ オルガニックケミストリ
ー」(G.C.Denser,Jr ら著、「Journal of Organic Ch
emistry 」31、3418〜3419(1966)記載
の方法、テー.ピー.ヒルドイッチ著「ジャーナル オ
ブ ザ ケミカル ソサイアテイ」(T.P.Hilditch 著
「Journal of the Chemical Society 」)93、152
4〜1527(1908)記載の方法、あるいはオー.
ヒンズベルク著「ベリヒテ デア ドイチエン ヘミシ
エ ゲゼルシャフト」(O.Hinsberg 著、「Berichte d
er Deutschen Chemischen Gesellschaft」)49、25
93〜2594(1916)記載の方法等に従い合成で
きる。すなわち、硫酸水溶液中において、硫酸コバルト
を用い、一般式(III )で示されるスルフィン酸より合
成する方法、キサントゲン酸エチルを用い、一般式(I
V)で示されるスルホン酸クロリドより合成する方法、
あるいは塩基性条件下、一般式(III )で示されるスル
フィン酸と一般式(IV)で示されるスルホン酸クロリド
とを反応させる方法などが挙げられる。
The disulfone compound represented by the general formula (I) used in the present invention is a compound represented by the formula: C. "Journal of Organic Chemistry" by Denser, Jr. et al. (GCDenser, Jr et al., "Journal of Organic Ch."
emistry " 31 , 3418-3419 (1966); P. Hilditch, "Journal of the Chemical Society" (TPHilditch, "Journal of the Chemical Society") 93 , 152
4 to 1527 (1908);
Hinsberg, "Berichte der Deutschen Hemisier Geserschaft" (O. Hinsberg, "Berichte d
er Deutschen Chemischen Gesellschaft ") 49 , 25
93-2594 (1916). That is, in a sulfuric acid aqueous solution, a method of synthesizing from a sulfinic acid represented by the general formula (III) using cobalt sulfate, and a method of synthesizing a compound represented by the general formula (I
V) a method of synthesizing from sulfonic acid chloride represented by
Alternatively, a method of reacting a sulfinic acid represented by the general formula (III) with a sulfonic acid chloride represented by the general formula (IV) under basic conditions may be used.

【0014】[0014]

【化7】R1 −SO2 H (III )Embedded image R 1 —SO 2 H (III)

【化8】R2 −SO2 Cl (IV) (ここで、R1 及びR2 は一般式(I)で定義されたR
1 及びR2 と同一の意味を有する。)
Embedded image R 2 —SO 2 Cl (IV) (wherein R 1 and R 2 represent R 1 defined by the general formula (I))
It has the same meaning as 1 and R 2. )

【0015】以下に、本発明に使用される一般式(I)
で示されるジスルホン化合物の具体例を示す。
The general formula (I) used in the present invention will be described below.
Specific examples of the disulfone compound represented by are shown below.

【化9】 Embedded image

【0016】[0016]

【化10】 Embedded image

【0017】[0017]

【化11】 Embedded image

【0018】[0018]

【化12】 Embedded image

【0019】[0019]

【化13】 Embedded image

【0020】[0020]

【化14】 Embedded image

【0021】[0021]

【化15】 Embedded image

【0022】[0022]

【化16】 Embedded image

【0023】[0023]

【化17】 Embedded image

【0024】[0024]

【化18】 Embedded image

【0025】一方、本発明で用いられる一般式(II)で
表されるスルホン化合物は、一般的に、相当するスルフ
ィド化合物を定法により酸化することによって得られ
る。以下に本発明に使用される一般式(II)で表される
スルホン化合物の具体例を挙げる。
On the other hand, the sulfone compound represented by the general formula (II) used in the present invention is generally obtained by oxidizing a corresponding sulfide compound by a conventional method. Specific examples of the sulfone compound represented by the general formula (II) used in the present invention are described below.

【0026】[0026]

【化19】 Embedded image

【0027】[0027]

【化20】 Embedded image

【0028】[0028]

【化21】 Embedded image

【0029】[0029]

【化22】 Embedded image

【0030】[0030]

【化23】 Embedded image

【0031】[0031]

【化24】 Embedded image

【0032】[0032]

【化25】 Embedded image

【0033】[0033]

【化26】 Embedded image

【0034】[0034]

【化27】 Embedded image

【0035】[0035]

【化28】 Embedded image

【0036】[0036]

【化29】 Embedded image

【0037】[0037]

【化30】 Embedded image

【0038】本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂と
しては、フェノール性水酸基やカルボキシ基等の酸基を
有する樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を有する
樹脂としてはレゾ−ル型フェノール樹脂、ノボラック型
フェノール樹脂などが挙げられるが、そのなかでもノボ
ラック樹脂が好ましい。本発明に好適に使用できるノボ
ラック樹脂としては、例えば、フェノールホルムアルデ
ヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,
o−及びm−/p−,m−/o−,o−/p−混合のい
ずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂のようなクレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。レゾール
型のフェノール樹脂類も好適に用いられ、フェノール/
クレゾール(m−,p−,o−及びm−/p−,m−/
o−,o−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムア
ルデヒド樹脂が好ましく、特に特開昭61−21703
4号公報に記載されているフェノール樹脂類が好まし
い。
Examples of the alkali-soluble resin used in the present invention include resins having an acid group such as a phenolic hydroxyl group and a carboxy group. Examples of the resin having a phenolic hydroxyl group include a resole type phenol resin and a novolak type phenol resin. Among them, the novolak resin is preferable. Novolak resins that can be suitably used in the present invention include, for example, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-
Cresol formaldehyde resin, o-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-,
o- and m- / p-, m- / o- and o- / p-mixtures), and cresol formaldehyde resins such as mixed formaldehyde resins. Resol type phenolic resins are also preferably used, and phenol /
Cresol (m-, p-, o- and m- / p-, m- /
o- or o- / p-mixtures). Mixed formaldehyde resins are preferred.
Phenol resins described in JP-A-4 are preferred.

【0039】アルカリ可溶性の高分子化合物として本発
明において使用される他の高分子化合物としては、例え
ばカルボキシ基を含む共重合体が挙げられる。例えば、
1分子中にカルボキシ基(COOH基)と重合可能な不
飽和結合を少なくとも1つ以上有するモノマーとの共重
合体が好ましい。カルボキシ基を有するモノマーとして
はメタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸等が挙げられ
るが、それ以外にも以下の一般式(V)ないし(VII )
に示すようなモノマーも好適に用いられる。
Other polymer compounds used in the present invention as alkali-soluble polymer compounds include, for example, copolymers containing a carboxy group. For example,
A copolymer of a monomer having at least one polymerizable unsaturated bond with a carboxy group (COOH group) in one molecule is preferable. Examples of the monomer having a carboxy group include methacrylic acid, acrylic acid, and itaconic acid. In addition, the following general formulas (V) to (VII)
The following monomers are also preferably used.

【0040】[0040]

【化31】 Embedded image

【0041】[0041]

【化32】 Embedded image

【0042】[0042]

【化33】 Embedded image

【0043】R1 、R3 、R5 は水素、又はメチル基
を、R2 、R4 、R6 、R7 はそれぞれ置換基を有して
いてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアル
キレン基、アリーレン基、又はアラルキレン基を表し、
Xは−O−又は−NR8 −を表し、Yは単結合又は−C
O−基を表す。R8 は水素原子、置換基を有していても
よい炭素数〜12のアルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基、又はアラルキル基を表す。具体的にはN−
(4−カルボキシフェニル)−メタクリルアミド、N−
(2−カルボキシフェニル)−アクリルアミド、N−
(4−クロロ−2−カルボキシフェニル)−メタクリル
アミド、4−カルボキシフェニルエチルメタクリレー
ト、4−カルボキシスチレン、2−カルボキシフェニロ
キシエチルアクリレート等が挙げられる。
R 1 , R 3 , and R 5 are hydrogen or a methyl group; R 2 , R 4 , R 6 , and R 7 are each an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms; Represents a cycloalkylene group, an arylene group, or an aralkylene group,
X is -O- or -NR 8 -, Y represents a single bond or -C
Represents an O- group. R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group having from 12 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. Specifically, N-
(4-carboxyphenyl) -methacrylamide, N-
(2-carboxyphenyl) -acrylamide, N-
(4-chloro-2-carboxyphenyl) -methacrylamide, 4-carboxyphenylethyl methacrylate, 4-carboxystyrene, 2-carboxyphenyloxyethyl acrylate, and the like.

【0044】上記のカルボキシ基を有するモノマー以外
の高分子化合物にアルカリ可溶性を付与するモノマーと
しては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの水
素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽
和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からまる
モノマーが好ましい。その中でも、アクリロイル基、ア
リル基、又はビニロキシ基と、無置換或いはモノ置換ア
ミノスルホニル基又は置換スルホニルアミノ基とを有す
る低分子化合物からなるモノマーが好ましい。このよう
な化合物としては、例えば、下記一般式(VIII)ないし
(XII )で示される化合物が挙げられる。
As a monomer for imparting alkali solubility to a polymer compound other than the above-mentioned monomer having a carboxy group, one molecule can be polymerized with a sulfonamide group having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom. Monomers consisting of low molecular compounds each having at least one unsaturated bond are preferred. Among them, a monomer composed of a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and an unsubstituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylamino group is preferable. Examples of such a compound include compounds represented by the following general formulas (VIII) to (XII).

【0045】[0045]

【化34】 Embedded image

【0046】[0046]

【化35】 Embedded image

【0047】[0047]

【化36】 Embedded image

【0048】[0048]

【化37】 Embedded image

【0049】[0049]

【化38】 Embedded image

【0050】式中、X1 、X2 はそれぞれ−O−又は−
NR17−を表す。R1 、R4 はそれぞれ水素原子又は−
CH3 を表す。R2 、R5 、R8 、R11、R15はそれぞ
れ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、又はアラル
キレン基を表す。R3 、R17、R12は水素原子、置換基
を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
また、R6 、R16は、置換基を有していてもよい炭素数
1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、又はアラルキル基を表す。R7 、R9 、R13は、水
素原子又は−CH3 を表す。R10、R14はそれぞれ単結
合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアル
キレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、又はア
ラルキレン基を表す。Y1 、Y2 はそれぞれ単結合又は
−CO−を表す。
In the formula, X 1 and X 2 each represent -O- or-
NR 17 - represents a. R 1 and R 4 are each a hydrogen atom or-
Represents CH 3 . R 2 , R 5 , R 8 , R 11 and R 15 each represent an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. R 3 , R 17 and R 12 represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
R 6 and R 16 each represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. R 7, R 9, R 13 represents a hydrogen atom or -CH 3. R 10, R 14 are each a single bond or optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group, or aralkylene group. Y 1 and Y 2 each represent a single bond or —CO—.

【0051】具体的には、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニ
ル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used.

【0052】また上記(VIII)ないし(XII )以外の他
のモノマーとしては、1分子中に、−CO−NH−SO
2 −で表される活性イミノ基と、重合可能な不飽和結合
をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなるモノマ
ーも好ましい。このような化合物としては、具体的に
は、N−(m−アミノスルホニル)メタクリルアミド、
N−(p−アミノスルホニル)メタクリルアミド、N−
(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に
使用することができる。また、フェノール性水酸基を有
するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレ
ンからなるモノマーも他のモノマーとして好ましく用い
られる。このような化合物としては具体的にはN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−、p
−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−、m−、p−
ヒドロキシスチレン等が挙げられる。
The other monomer other than the above (VIII) to (XII) includes -CO-NH-SO in one molecule.
A monomer composed of a low-molecular compound having an active imino group represented by 2- and one or more polymerizable unsaturated bonds is also preferable. Specific examples of such a compound include N- (m-aminosulfonyl) methacrylamide,
N- (p-aminosulfonyl) methacrylamide, N-
(P-Toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used. Further, a monomer composed of acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate or hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group is also preferably used as another monomer. As such a compound, specifically, N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m-, p
-Hydroxyphenyl acrylate, o-, m-, p-
Hydroxystyrene and the like.

【0053】上記モノマーの共重合成分としては、例え
ば、下記(1)ないし(11)に挙げるモノマーを用い
ることができるし、下記モノマーを2成分以上含んでも
よい。 (1)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート又は
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エ
ステル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸2−クロロエチル、グリシジルアク
リレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート、等
のアルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート、等のアルキルメタクリレ
ート。
As the copolymerization component of the above monomer, for example, the following monomers (1) to (11) can be used, or two or more of the following monomers may be contained. (1) Acrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, and methacrylic esters. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate , Such as alkyl acrylates. (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl methacrylates such as methacrylate;

【0054】(4)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリ
ルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミ
ド。 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル、等のビニルエー
テル類。 (6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン、等のスチレン類。 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン、等のビニル
ケトン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、等。 (11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド、等の不飽和イミド。
(4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N Acrylamide or methacrylamide such as -ethyl-N-phenylacrylamide. (5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate. (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene. (8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, and the like. (11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide and the like.

【0055】これらのアルカリ可溶性樹脂の重量平均分
子量は500〜200,000、数平均分子量は200
〜60,000であることが好ましい。かかるアルカリ
可溶性樹脂は単独で又は2種類以上を組み合わせて使用
してもよく、画像記録材料全固形分中、5〜99重量
%、好ましくは10〜95重量%、特に好ましくは20
〜90重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性樹
脂の添加量が5重量%未満であると記録層の耐久性が悪
化し、また、99重量%を越えると感度、耐久性の両面
で好ましくない。
The weight average molecular weight of these alkali-soluble resins is 500 to 200,000, and the number average molecular weight is 200
Preferably it is ~ 60,000. These alkali-soluble resins may be used alone or in combination of two or more, and are 5 to 99% by weight, preferably 10 to 95% by weight, particularly preferably 20% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
It is used in an amount of up to 90% by weight. If the addition amount of the alkali-soluble resin is less than 5% by weight, the durability of the recording layer is deteriorated, and if it exceeds 99% by weight, it is not preferable in terms of both sensitivity and durability.

【0056】また、本発明に使用される他のバインダー
には、ウレタン樹脂も挙げられる。中でも、カルボキシ
基或いはスルホンアミド基を有するウレタン樹脂が好ま
しい。即ち、本発明に好適に使用されるポリウレタン樹
脂は、ジイソシアナート化合物と、N上に少なくとも1
つのH原子が結合したスルホンアミド基を含有するジオ
ール化合物との反応生成物を基本骨格とするポリウレタ
ン樹脂である。
Other binders used in the present invention include urethane resins. Among them, urethane resins having a carboxy group or a sulfonamide group are preferred. That is, the polyurethane resin suitably used in the present invention comprises a diisocyanate compound and at least one
It is a polyurethane resin having a basic skeleton as a reaction product with a diol compound containing a sulfonamide group to which two H atoms are bonded.

【0057】本発明で好適に使用されるジイソシアナー
ト化合物としては、2,4−トリレンジイソシアナー
ト、2,4−トリレンジイソシアナートの二量体、2,
6−トリレンジイソシアナート、p−キシリレンジイソ
シアナート、m−キシリレンジイソシアナート、4,
4’−ジフェニルメタンジイソシアナート、1,5−ナ
フチレンジイソシアナート、3,3’−ジメチルビフェ
ニル−4,4’−ジイソシアナート等の如き芳香族ジイ
ソシアナート化合物;ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート、リジ
ンジイソシアナート、ダイマー酸ジイソシアナート等の
如き脂肪酸ジイソシアナート化合物;イソホロンジイソ
シアナート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシル
イソシアナート)、メチルシクロヘキサン−2,4(又
は2,6)ジイソシアナート、1,3−(イソシアナー
トメチル)シクロヘキサン等の如き脂環族ジイソシアナ
ート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリ
レンジイソシアナート2モルとの付加体等の如きジオー
ルとジイソシアナートとの反応物であるジイソシアナー
ト化合物等が挙げられる。
The diisocyanate compound preferably used in the present invention includes 2,4-tolylene diisocyanate, a dimer of 2,4-tolylene diisocyanate,
6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,
Aromatic diisocyanate compounds such as 4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate; hexamethylene diisocyanate, trimethyl Fatty acid diisocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate and dimer acid diisocyanate; isophorone diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) alicyclic diisocyanate compounds such as diisocyanate and 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane; adducts of 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate; Of diols and diisocyanates A diisocyanate compound which is a reactant is exemplified.

【0058】また、N上に少なくとも1つのH原子が結
合したスルホンアミド基を含有するジオール化合物とし
ては、p−(1,1−ジヒドロキシメチルエチルカルボ
ニルアミノ)ベンゼンスルホンアミド、p−(1,1−
ジヒドロキシメチルエチルカルボニルアミノ)ベンゼン
スルホンアミドのN−エチル体、N−(m−メチルスル
ホニルアミノフェニル)−2,2−ジヒドロキシメチル
プロパンアミド、N−(p−メチルスルホニルアミノフ
ェニル)−2,2−ジヒドロキシメチルプロパンアミ
ド、N−(m−エチルスルホニルアミノフェニル)−
2,2−ジヒドロキシメチルプロパンアミド、N−(p
−エチルスルホニルアミノフェニル)−2,2−ジヒド
ロキシメチルプロパンアミド、N−(2,2−(ジヒド
ロキシエチルアミノカルボニル)エチル)メタンスルホ
ンアミド、N−(2,2−(ジヒドロキシエチルアミノ
カルボニル)エチルベンゼンスルホンアミド、N−
(2,2−(ジヒドロキシエチルアミノカルボニル)エ
チル−p−トルエンスルホンアミド等が挙げられる。
Examples of diol compounds containing a sulfonamide group having at least one H atom bonded to N include p- (1,1-dihydroxymethylethylcarbonylamino) benzenesulfonamide, p- (1,1 −
N-ethyl form of dihydroxymethylethylcarbonylamino) benzenesulfonamide, N- (m-methylsulfonylaminophenyl) -2,2-dihydroxymethylpropanamide, N- (p-methylsulfonylaminophenyl) -2,2- Dihydroxymethylpropanamide, N- (m-ethylsulfonylaminophenyl)-
2,2-dihydroxymethylpropanamide, N- (p
-Ethylsulfonylaminophenyl) -2,2-dihydroxymethylpropanamide, N- (2,2- (dihydroxyethylaminocarbonyl) ethyl) methanesulfonamide, N- (2,2- (dihydroxyethylaminocarbonyl) ethylbenzenesulfone Amide, N-
(2,2- (dihydroxyethylaminocarbonyl) ethyl-p-toluenesulfonamide and the like.

【0059】これらのスルホンアミド基を含有するジオ
ール化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて使用す
ることができる。また更に、スルホンアミド基を有せ
ず、イソシアナートと反応しない他の置換基を有してい
てもよいジオール化合物をスルホンアミド基を有するジ
オール化合物と併用することもできる。このようなジオ
ール化合物としては、エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリ
コール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブチレング
リコール、1,6−ヘキサンジオール、2−ブチル−
1,4−ジオール、2,2,4−トリメチル−l,3−
ペンタンジオール、1,4−ビス−β−ヒドロキシエト
キシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、ト
リシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、
水添ビスフェノールF、ビスフェノールAのエチレンオ
キサイド付加体、ビスフェノールAのプロピレンオキサ
イド付加体、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付
加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加
体、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加
体、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加
体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、p−キ
シリレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビ
ス(2−ヒドロキシエチル)−2,4−トリレンジカル
バメート、2,4−トリレン−ビス(2−ヒドロキシエ
チルカルバミド)、ビス(2−ヒドロキシエチル)−m
−キシリレンジカルバメート、ビス(2−ヒドロキシエ
チル)イソフタレート、3,5−ジヒドロキシ安息香
酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、
2,2−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピオン酸、
2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン
酸、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)ペンタン酸、酒石酸等が挙げられる。
These diol compounds containing a sulfonamide group can be used alone or in combination of two or more. Further, a diol compound having no sulfonamide group and optionally having another substituent which does not react with isocyanate can be used in combination with a diol compound having a sulfonamide group. Examples of such diol compounds include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-butylene glycol, and 1,6-hexane. Diol, 2-butyl-
1,4-diol, 2,2,4-trimethyl-1,3-
Pentanediol, 1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane, cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, hydrogenated bisphenol A,
Hydrogenated bisphenol F, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, ethylene oxide adduct of bisphenol F, propylene oxide adduct of bisphenol F, ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A propylene oxide adduct, hydroquinone dihydroxyethyl ether, p-xylylene glycol, dihydroxyethylsulfone, bis (2-hydroxyethyl) -2,4-tolylenedicarbamate, 2,4-tolylene-bis (2-hydroxyethyl Carbamide), bis (2-hydroxyethyl) -m
-Xylylenedicarbamate, bis (2-hydroxyethyl) isophthalate, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid,
2,2-bis (2-hydroxyethyl) propionic acid,
Examples thereof include 2,2-bis (3-hydroxypropyl) propionic acid, bis (hydroxymethyl) acetic acid, bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, and tartaric acid.

【0060】本発明に使用可能なポリウレタン樹脂は上
記ジイソシアナート化合物及びジオール化合物を非プロ
トン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知な
触媒を添加し、加熱することにより合成される。使用す
るジイソシアナート及びジオール化合物のモル比は好ま
しくは0.8:1〜1.2:1、より好ましくは0.8
5:1.1〜1.1:1であり、ポリマー末端にイソシ
アネート基が残存した場合、この末端をアルコール類又
はアミン類等で処理することにより、最終的にイソシア
ナート基が残存しないポリウレタン樹脂が合成される。
The polyurethane resin usable in the present invention is synthesized by adding the above-mentioned diisocyanate compound and diol compound to an aprotic solvent, adding a known catalyst having an activity corresponding to the respective reactivity, and heating. . The molar ratio of diisocyanate and diol compound used is preferably 0.8: 1 to 1.2: 1, more preferably 0.8: 1.
5: 1.1 to 1.1: 1, and when an isocyanate group remains at the polymer terminal, this terminal is treated with an alcohol, an amine, or the like, so that a polyurethane resin having no isocyanate group finally remaining Are synthesized.

【0061】本発明に使用可能なウレタン樹脂の重量平
均分子量は2,000以上が好ましく、より好ましくは
5,000〜30万である。また、数平均分子量は1,
000以上が好ましく、より好ましくは2,000〜2
5万の範囲である。また多分散度(重量平均分子量/数
平均分子量)は1以上が好ましく、より好ましくは1.
1〜10の範囲である。
The urethane resin usable in the present invention preferably has a weight average molecular weight of 2,000 or more, more preferably 5,000 to 300,000. The number average molecular weight is 1,
2,000 or more, more preferably 2,000 to 2,
The range is 50,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably 1.
It is in the range of 1-10.

【0062】また、本発明に使用可能なバインダー中に
は、未反応の単量体が含まれていてもよい。この場合、
単量体のバインダー中に占める割合は15重量%以下が
望ましい。以上挙げたアルカリ可溶性高分子は単独でも
用いることができるが、1種以上混合することも好まし
い。中でもノボラック樹脂と他に挙げたバインダーを混
合して用いることが好ましい。
The binder usable in the present invention may contain an unreacted monomer. in this case,
The proportion of the monomer in the binder is desirably 15% by weight or less. The alkali-soluble polymers mentioned above can be used alone, but it is also preferable to mix one or more kinds. Among them, it is preferable to use a mixture of the novolak resin and other binders.

【0063】本発明において、光を吸収し熱を発生する
物質としては種々の顔料もしくは染料を用いる事ができ
る。顔料としては、市販の顔料およびカラーインデック
ス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術
協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CM
C出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が利用でき
る。
In the present invention, as the substance that absorbs light and generates heat, various pigments or dyes can be used. Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CM
C Publishing, 1986) and "Printing Ink Technology", CMC Publishing, 1984) can be used.

【0064】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。
The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments,
Quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dye lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.

【0065】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)およ
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。
These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
"Printing ink technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986)
It is described in.

【0066】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in a photosensitive layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the photosensitive layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, pearl mills, super mills,
Examples include a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, see “Latest Pigment Application Technology”
(CMC Publishing, 1986).

【0067】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, "Dye Handbook" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these pigments or dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0068】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭59−202829号、特開昭
60−78787号等に記載されているシアニン染料、
特開昭58−173696号、特開昭58−18169
0号、特開昭58−194595号等に記載されている
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載されているナフトキノン
染料、 特開昭58−112792号等に記載されてい
るスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載
のシアニン染料等を挙げることができる。
As such a pigment absorbing infrared light or near infrared light, carbon black is preferably used. Dyes that absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-125246.
-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787 and the like.
JP-A-58-173696, JP-A-58-18169
0, methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, and JP-A-58-112793.
Naphthoquinone dyes described in JP-A-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like; And the cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

【0069】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Epolig
ht III−178、Epolight III−130、E
polight III−125等は特に好ましく用いられ
る。
As a dye, US Pat. No. 5,156,
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salts and the like, and pyrilium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702;
ht III-178, Epollight III-130, E
Pollite III-125 and the like are particularly preferably used.

【0070】また、染料として特に好ましい別の例とし
て米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、印
刷版材料全固形分に対し0.01〜50重量%、好まし
くは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは
0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1
〜10重量%の割合で印刷版材料中に添加することがで
きる。顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未満
であると感度が低くなり、また50重量%を越えると感
光層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。こ
れらの染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加し
てもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。別の
層とする場合、本発明の熱分解性でありかつ分解しない
状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質を
含む層に隣接する層へ添加するのが望ましい。また、染
料もしくは顔料と結着樹脂は同一の層が好ましいが、別
の層でも構わない。
Another particularly preferred example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. These pigments or dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight, in the case of dyes, Particularly preferred is 3.1.
It can be added to the printing plate material at a ratio of 10 to 10% by weight. If the amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered. If the amount exceeds 50% by weight, the uniformity of the photosensitive layer is lost and the durability of the recording layer is deteriorated. These dyes or pigments may be added to the same layer as other components, or a separate layer may be provided and added thereto. If it is a separate layer, it is desirable to add it to a layer adjacent to the layer containing a substance which substantially reduces the solubility of the binder when it is thermally decomposable and does not decompose. The dye or pigment and the binder resin are preferably in the same layer, but may be in different layers.

【0071】本発明のポジ型感光性組成物には更に必要
に応じて、種々の添加剤を添加することができる。例え
ばオニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スル
ホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分
解性であり、分解しない状態ではアルカリ水可溶性高分
子化合物の溶解性を実質的に低下させる物質を併用する
ことは、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点
では、好ましい。オニウム塩としてはジアゾニウム塩、
アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、ス
ルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙
げる事ができる。
Various additives can be added to the positive photosensitive composition of the present invention, if necessary. For example, a thermally decomposable substance such as an onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, an aromatic sulfonic acid ester compound, and a substance that substantially lowers the solubility of an alkali water-soluble polymer compound when not decomposed is used in combination. This is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibiting property of the image area in the developer. As onium salts, diazonium salts,
Examples thereof include ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like.

【0072】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Co
nf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニ
ウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. P
olymer Sci., Polymer Chem.Ed., 22, 1789 (1984) 、
J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5) 、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5)
,1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sc
i., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許
第370,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,44
2 号、米国特許第4,933,377 号、同3,902,114 号、同41
0,201 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,44
4 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,
604,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、
J. V. Crivello et al, Macromorecules, 10(6), 1307
(1977)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Pol
ymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウ
ム塩、C. S. Wen et al, Teh,Proc. Conf. Rad. Curing
ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム
塩等があげられる。
Suitable onium salts used in the present invention include, for example, SI Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), TS Bal et a
1, Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230
No. 4,069,055 diazonium salt described in U.S. Pat.
No. 4,069,056, ammonium salt described in the specification of JP-A-3-140140, DC Necker et al, Macromolecul
es, 17, 2468 (1984), CS Wen et al, Teh, Proc. Co.
nf.Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056, phosphonium salts described in JVCrivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31.
(1988), EP 104,143, U.S. Patent 339,049
No. 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-2-2965
Iodonium salt described in No. 14, JVCrivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985), JV Crivello et al. J.
Org.Chem., 43, 3055 (1978), WR Watt et al, J. P.
olymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984),
JV Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (198
5), JV Crivello et al, Macromorecules, 14 (5)
, 1141 (1981), JV Crivello et al, J. Polymer Sc
i., Polymer Chem.Ed., 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 233,567, 297,443, 297,44
No. 2, U.S. Pat.Nos. 4,933,377, 3,902,114, 41
0,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,44
No. 4, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,
Nos. 604,580 and 3,604,581, sulfonium salts,
JV Crivello et al, Macromorecules, 10 (6), 1307
(1977), JV Crivello et al, J. Polymer Sci., Pol
selenonium salt described in ymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979), CS Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

【0073】本発明において、ジアゾニウム塩が特に好
ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開
平5−158230号公報記載のものがあげられる。好
適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合
物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノ
ンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジア
ジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性
を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることが
できる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結
着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自
身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果
により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo
−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサ
ー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wil
ey & Sons. Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が
使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物
あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジ
アジドのスルホン酸エステルまたはスルホン酸アミドが
好適である。また、特公昭43−28403 号公報に記載され
ているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホ
ン酸クロライドまたはナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセ
トン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120 号および
同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノン−
(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフ
トキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロ
ライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステ
ルも好適に使用される。
In the present invention, diazonium salts are particularly preferred. Particularly preferred diazonium salts include those described in JP-A-5-158230. Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and can be a compound having various structures. In other words, o-quinonediazide helps the solubility of the light-sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the fact that o-quinonediazide itself changes to an alkali-soluble substance. O used in the present invention
Examples of the quinonediazide compound include: "Wright-Sensitive Systems" by Coser (John Wil
ey & Sons. Inc.) pp. 339-352 can be used. Particularly, sulfonic esters or sulfonic amides of o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds can be used. It is suitable. Also, benzoquinone (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403. Esters of the benzoquinones described in U.S. Patents 3,046,120 and 3,188,210
Esters of (1,2) -diazidesulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride with a phenol-formaldehyde resin are also suitably used.

【0074】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特
開昭48−63802 号、特開昭48−63803 号、特開昭48−96
575 号、特開昭49−38701 号、特開昭48−13354 号、特
公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481
号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、同
第3,544,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,227,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号などの各明
細書中に記載されているものをあげることができる。
Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazide-
Esters of 4-sulfonic acid chloride with pyrogallol-acetone resin are likewise preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96
No. 575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, JP-B-41-11222, JP-B-45-9610, JP-B-49-17481
U.S. Pat.Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, and 3,674,495
No. 3,785,825; British Patent No. 1,227,602;
Nos. 1,251,345, 1,267,005, 1,329,888,
No. 1,330,932, and German Patent No. 854,890, etc. can be mentioned.

【0075】o−キノンジアジド化合物の添加量は好ま
しくは印刷版材料全固形分に対し、1〜50重量%、更
に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは10〜3
0重量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用で
きるが、数種の混合物として使用してもよい。
The addition amount of the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 3% by weight, based on the total solids of the printing plate material.
The range is 0% by weight. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

【0076】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。
The counter ions of the onium salts include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid,
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Benzoyl-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.

【0077】o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の
添加量は、好ましくは1〜50重量%、更に好ましくは
5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%であ
る。本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させるこ
とが好ましい。
The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and particularly preferably 10 to 30% by weight. It is preferable that the additive and the binder of the present invention are contained in the same layer.

【0078】更に感度を向上させる目的で、環状酸無水
物類、フェノール類、有機酸類を併用することもでき
る。環状酸無水物としては、米国特許第4,115,1
28号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6
−エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テ
トラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水
マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク
酸、無水ピロメリット酸等が使用できる。フェノール類
としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、
p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキ
シベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,
4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,
3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−
テトラメチルトリフェニルメタン等が挙げられる。更
に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特
開平2−96755号公報等に記載されている、スルホ
ン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸
類、リン酸エステル類及びカルボン酸類等があり、具体
的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フ
ェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェ
ニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、ア
ジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸等が挙げられる。
For the purpose of further improving the sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids can be used in combination. US Patent No. 4,115,1 discloses cyclic acid anhydrides.
No. 28, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6
-Endoxy-Δ 4 -tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol,
p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ',
4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ',
3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-
Tetramethyltriphenylmethane and the like can be mentioned. Further, examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphoric esters, carboxylic acids and the like described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. There are specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, Adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-
Examples thereof include 1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid.

【0079】上記の環状酸無水物、フェノール類及び有
機酸類の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜2
0重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量
%、最も好ましくは0.1〜10重量%である。また、
本発明における画像記録材料中には、現像条件に対する
処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740
号公報や特開平3−208514号公報に記載されてい
るような非イオン界面活性剤、特開昭59−12104
4号公報、特開平4−13149号公報に記載されてい
るような両性界面活性剤を添加することができる。
The proportion of the above-mentioned cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids in the image recording material is 0.05 to 2%.
It is preferably 0% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, most preferably 0.1 to 10% by weight. Also,
In the image recording material of the present invention, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-251740 is used in order to increase the stability of processing under development conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-208104 and JP-A-3-208514.
No. 4, JP-A-4-13149 can be added.

【0080】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上
記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像記録材
料中に占める割合は、0.05〜15重量%が好まし
く、より好ましくは0.1〜5重量%である。本発明に
おける画像記録材料中には、露光による加熱後直ちに可
視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染
料や顔料を加えることができる。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether and the like. Specific examples of the surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N
-Tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo KK) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image recording material is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. In the image recording material of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, and a dye or pigment as an image coloring agent can be added.

【0081】焼き出し剤としては、露光による加熱によ
って酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得
る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。
具体的には、特開昭50−36209号、同53−81
28号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の
組合せや、特開昭53−36223号、同54−747
28号、同60−3626号、同61−143748
号、同61−151644号及び同63−58440号
の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形
成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるト
リハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物と
トリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優
れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid upon exposure to light (photoacid releasing agent) and an organic dye capable of forming a salt.
Specifically, JP-A-50-36209 and JP-A-53-81
Combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A Nos. 28-28, and JP-A-53-36223 and JP-A-54-747.
No. 28, No. 60-3626, No. 61-143748
And combinations of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in JP-A Nos. 61-151644 and 63-58440. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0082】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。好適な染
料としては、塩形成性有機染料の他に、油溶性染料と塩
基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエ
ロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク
#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、
オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブ
ラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエン
ト化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリ
スタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオ
レット(CI42535)、エチルバイオレット、ロー
ダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)等を挙げることができる。また、特開昭62−29
3247号公報に記載されている染料は画像の着色剤と
して特に好ましい。これらの染料は、画像記録材料全固
形分に対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1
〜3重量%の割合で画像記録材料中に添加することがで
きる。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes include oil-soluble dyes and basic dyes, in addition to salt-forming organic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS,
Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, JP-A-62-29
The dye described in Japanese Patent No. 3247 is particularly preferred as a colorant for an image. These dyes are used in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
It can be added to the image recording material at a ratio of about 3% by weight.

【0083】更に本発明の画像記録材料中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用い
られる。本発明の画像記録材料は、通常上記各成分を溶
媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより製
造することができる。ここで使用する溶媒としては、エ
チレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチル
ケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2
−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−
メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチル
ウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン等を挙
げることができるがこれに限定されるものではない。
Further, a plasticizer may be added to the image recording material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate,
Tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers and polymers of acrylic acid or methacrylic acid, and the like are used. The image recording material of the present invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2
-Propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-
Methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene And the like, but not limited thereto.

【0084】これらの溶媒は単独で又は混合して使用さ
れる。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃
度は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾
燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途に
よって異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に
0.5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布方法として
は、種々の方法を用いることができるが、例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。本発明における記
録層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例え
ば特開昭62−170950号公報に記載されているよ
うなフッ素系界面活性剤を添加することができる。添加
量は、好ましくは全画像記録材料の0.01〜1重量
%、より好ましくは0.05〜0.5重量%である。
These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferred for a photosensitive printing plate. As the coating method, various methods can be used, for example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating,
Roll coating and the like can be mentioned. In the recording layer of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 can be added. The addition amount is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight of the whole image recording material.

【0085】本発明に使用される支持体は、寸度的に安
定な板状物である。かかる支持体としては、例えば、
紙、プラスチックス(例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、アル
ミニウム(アルミニウム合金も合む)、亜鉛、鉄、銅等
の金属板等が用いられるが、アルミニウム板等の金属板
が効果の点から好ましい。好適なアルミニウム板は、純
アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の
異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネ
ート又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。ア
ルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マ
ンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、
ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は
l0重量%以下である。本発明に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有してもよい。このように本発明に適用されるアルミ
ニウム板としては、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材を適宜利用することができ
る。本発明に用いられるアルミニウム板の厚みは、およ
そ0.lmm〜0.6mmである。
The support used in the present invention is a dimensionally stable plate. As such a support, for example,
Paper, plastics (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, aluminum (including aluminum alloys), zinc, iron, copper, etc. metal plates, etc. are used. Is preferred from the viewpoint of the effect. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The different elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth,
There are nickel, titanium, and the like. The content of the foreign element in the alloy is 10% by weight or less. Aluminum suitable for the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1. It is 1 mm to 0.6 mm.

【0086】支持体としてアルミニウム板を使用する場
合には、アルミニウム板とこの上に塗布される層との接
着性を高めるために、アルミニウム板を粗面化する。ア
ルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面
の圧延油を除去するための例えば、界面活性剤、有機溶
剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の粗面化方法としては、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法がある。機械的方法
としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨
法、バフ研磨法等と称せられる公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流を利用する方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。
When an aluminum plate is used as the support, the aluminum plate is roughened in order to increase the adhesion between the aluminum plate and the layer applied thereon. Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed.
Methods for roughening the aluminum plate include a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively melting the surface. As the mechanical method, a known method called a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, a buff polishing method, or the like can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of utilizing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte.
Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used.

【0087】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を
形成するものならばいかなるものでも使用することがで
き、一般には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸又はそれら
の混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の
種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用
いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ない
が、一般的には電解質の濃度がl〜80重量%溶液、液
温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2 、電圧1
〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲である。
The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment if necessary to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. You. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, any electrolyte that forms a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified unconditionally. Generally, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm. 2 , voltage 1
-100V, electrolysis time 10 seconds-5 minutes.

【0088】陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2 以上が
好適であるが、より好ましくは2.0〜6.0g/m2
の範囲である。陽極酸化皮膜が1.0g/m2 より少な
いと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部
に傷が付き易くなっで、印刷時に傷の部分にインキが付
着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処
理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化
処理が施される。本発明に好適に使用される親水化処理
としては、米国特許第2,714,066号、第3,1
81,461号、第3,280,734号及び第3,9
02,734号に開示されているようなアルカリ金属珪
酸塩(例えば、珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この
方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液中で浸
漬処理されるか又は電解処理される。他に、特公昭36
−22063号公報に開示されている弗化ジルコン酸カ
リウム、並びに米国特許第3,276,868号、第
4,153,461号及び第4,689,272号に関
示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方
法等が用いられる。
The amount of the anodic oxide film is preferably 1.0 g / m 2 or more, more preferably 2.0 to 6.0 g / m 2.
Range. When the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched, and the ink adheres to the scratched area during printing. "Scratch dirt" easily occurs. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. Examples of the hydrophilic treatment preferably used in the present invention include U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,1.
Nos. 81,461, 3,280,734 and 3,9
There is an alkali metal silicate (for example, an aqueous solution of sodium silicate) as disclosed in Japanese Patent No. 02,734. In this method, the support is immersed or electrolytically treated in an aqueous solution of sodium silicate. In addition,
Potassium fluorozirconate disclosed in U.S. Pat. No. 2,220,632, and polyvinyl as disclosed in U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272. A method of treating with phosphonic acid is used.

【0089】本発明の感光性平版印刷版には感光層を塗
設する前に有機下塗層を設けることが非画像部の感光層
残りを減らす上で好ましい。かかる有機下塗層に用いら
れる有機化合物としては、例えば、カルボキシメチルセ
ルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエ
チルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類、置
換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホス
ホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メ
チレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸等の有機
ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナ
フチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸等の
有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及び
グリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸、グリシン
やβ−アラニン等のアミノ酸類、並びにトリエタノール
アミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩
酸塩等から選ばれる。これらは単独で使用しても、二種
以上混合して用いてもよい。
It is preferable to provide an organic undercoat layer on the photosensitive lithographic printing plate of the present invention before coating the photosensitive layer, in order to reduce the remaining photosensitive layer in the non-image area. As the organic compound used in the organic undercoat layer, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, organic phosphinic acid such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloride of triethanolamine A having a hydroxyl group such as Selected from emissions hydrochloride salt. These may be used alone or as a mixture of two or more.

【0090】さらに下記の一般式(XIII)で示される構
造単位を有する有機高分子化合物群から選ばれる少なく
とも1種の化合物を含む有機下塗層も好ましい。
Further, an organic undercoat layer containing at least one compound selected from the group of organic polymer compounds having a structural unit represented by the following general formula (XIII) is also preferable.

【化39】 1 は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、
2 及びR3 はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、
ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、−OR4 、−COOR5 、−CO
NHR6 、−COR7 若しくは−CNを表すか、又はR
2 及びR3 が結合して環を形成してもよく、R4 〜R7
はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、
Xは水素原子、金属原子、NR8 9 1011を表し、
8 〜R11はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基若しくは置換アリール
基を表すか、又はR8 及びR9 が結合して環を形成して
もよく、mは1〜3の整数を表す。
Embedded image R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group;
R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group,
Halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, -OR 4, -COOR 5, -CO
Represents NHR 6 , —COR 7 or —CN, or R
2 and R 3 may combine to form a ring, and R 4 to R 7
Each independently represents an alkyl group or an aryl group,
X represents a hydrogen atom, a metal atom, NR 8 R 9 R 10 R 11 ;
R 8 to R 11 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, or R 8 and R 9 may combine to form a ring; Represents an integer of 1 to 3.

【0091】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトン等の有機溶剤又はそれらの混合溶剤
に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板
上に塗布し、塗膜を乾燥させる方法と、水、若しくはメ
タノール、エタノール若しくはメチルエチルケトン等の
有機溶剤又はそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶
解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化
合物を吸着させた後、このアルミニウム板を水等によっ
て洗浄し、乾燥させる方法である。前者の方法では、上
記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液
を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗
布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布等のいずれ
の方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の
濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5
重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは2
5〜50℃であり、浸潰時間は0.1秒〜20分、好ま
しくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、pH1
〜12の範囲で使用することができる。pHは、アンモ
ニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物
質や、塩酸、リン酸等の酸性物質により調節することが
できる。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のた
めに黄色染料を溶液に添加することもできる。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or methanol, ethanol,
A method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum plate, and the coating film is dried, and water, or an organic solvent such as methanol, ethanol or methyl ethyl ketone, or a method thereof. A method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in a mixed solvent of the above to adsorb the organic compound, and then the aluminum plate is washed with water or the like and dried. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.
% By weight and an immersion temperature of 20 to 90 ° C., preferably 2 to 90 ° C.
5 ° C. to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is pH 1
It can be used in the range of ~ 12. The pH can be adjusted with a basic substance such as ammonia, triethylamine and potassium hydroxide, and an acidic substance such as hydrochloric acid and phosphoric acid. Further, a yellow dye can be added to the solution for improving the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate.

【0092】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜20
0mg/m2 が適当であり、好ましくは5〜100mg
/m2 である。上記の被覆量が2mg/m2 より少ない
と十分な耐刷性能が得られない。また、200mg/m
2 より大きくても同様である。支持体の裏面には、必要
に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコー
トとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高
分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機
又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られ
る金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。こ
れらの被覆層のうち、Si(OCH3 4 、Si(OC
2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC
4 9 4 等の珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し
易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液
性に優れているため、特に好ましい。
The coating amount of the organic undercoat layer after drying is from 2 to 20.
0 mg / m 2 is suitable, preferably 5 to 100 mg.
/ M 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. In addition, 200mg / m
The same applies even if it is larger than 2 . A back coat is provided on the back surface of the support as necessary. Examples of such a back coat include a coating composed of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Layers are preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC
2 H 5) 4, Si ( OC 3 H 7) 4, Si (OC
An alkoxy compound of silicon such as 4 H 9 ) 4 is particularly preferable because it is inexpensive and easily available, and a metal oxide coating layer obtained therefrom has excellent developer resistance.

【0093】像露光に用いられる活性光線の光源として
は、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。
放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外
線等がある。またg線、i線、Deep−UV光、高密度エ
ネルギービーム(レーザービーム)も使用される。レー
ザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アルゴ
ンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミウ
ムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられる。
本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長を持
つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好
ましい。
Examples of the light source of the actinic ray used for image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, and a carbon arc lamp.
The radiation includes an electron beam, an X-ray, an ion beam, a far infrared ray, and the like. In addition, g-line, i-line, Deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) are also used. Examples of the laser beam include a helium-neon laser, an argon laser, a krypton laser, a helium-cadmium laser, and a KrF excimer laser.
In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0094】次に本発明において用いられる現像液につ
いて説明する。なお、本明細書中において、特にことわ
りのない限り、現像液は現像開始液(狭義の現像液)と
現像補充液とを意味する。本発明の感光性平版印刷版の
現像液として好ましいものは、実質的に有機溶剤を含ま
ないアルカリ性の水溶液である。具体的には、珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、第3リン酸ナトリウム、第2リ
ン酸ナトリウム、第2リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、アンモニア水などのような水溶液が適当であ
る。更に好ましくは、(a)非還元糖から選ばれる少な
くとも一種の糖類、及び(b)少なくとも一種の塩基を
含有し、pHが9.0〜13.5の範囲にある現像液で
ある。
Next, the developer used in the present invention will be described. In this specification, unless otherwise specified, the developing solution means a developing solution (a developing solution in a narrow sense) and a developing replenisher. Preferred as a developer for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is an alkaline aqueous solution containing substantially no organic solvent. Specifically, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium tertiary phosphate, dibasic sodium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium carbonate, bicarbonate Aqueous solutions such as sodium, potassium carbonate, aqueous ammonia and the like are suitable. More preferably, the developer contains (a) at least one saccharide selected from non-reducing sugars, and (b) at least one base, and has a pH in the range of 9.0 to 13.5.

【0095】本発明において好適に用いられる現像液で
ある非還元糖について説明すると、非還元糖とは、有利
のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない
糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖
類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体及び糖類に
水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも
本発明に好適に用いられる。トレハロース型少糖類に
は、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体として
は、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖
体等が挙げられる。また糖アルコールとしては、D,L
−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビ
ット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L
−タリット、ズシリット及びアロズルシット等が挙げら
れる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトール及
びオリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)
が好適に用いられる。これらの中で特に好ましい非還元
糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にD−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に
緩衝作用があることと、低価格であることから好まし
い。これらの非還元糖は、単独で又は二種以上を組み合
わせて使用でき、それらの現像液中に占める割合は0.
1〜30重量%が好ましく、より好ましくは1〜20重
量%である。この割合が0.1重量%未満だと十分な緩
衝作用が得られず、また30重量%を越えると、高濃縮
化し難く、また原価が高くなる。尚、還元糖を塩基と組
み合わせて使用した場合、経時的に褐色に変色し、pH
も徐々に下がり、よって現像性が低下するという問題点
がある。
The non-reducing sugar, which is a developer preferably used in the present invention, will be described. The non-reducing sugar is a saccharide that does not have an advantageous aldehyde group or ketone group and does not exhibit reducing properties. Are classified as trehalose-type oligosaccharides, glycosides in which a reducing group of a saccharide is bonded to a non-saccharide, and sugar alcohols obtained by hydrogenating and reducing saccharides, all of which are suitably used in the present invention. Trehalose-type oligosaccharides include saccharose and trehalose, and examples of glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. As sugar alcohols, D, L
-Arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-idit, D, L
-Tallit, zusilit, allozurshit and the like. Reductants obtained by hydrogenation of maltitol and oligosaccharides obtained by hydrogenation of disaccharides (reduced water syrup)
Is preferably used. Among these, non-reducing sugars which are particularly preferred are sugar alcohols and saccharose, and D-sorbitol, saccharose and reduced starch syrup are particularly preferred since they have a buffering action in an appropriate pH range and are inexpensive. These non-reducing sugars can be used alone or in combination of two or more, and their ratio in the developer is 0.1%.
It is preferably from 1 to 30% by weight, more preferably from 1 to 20% by weight. If this ratio is less than 0.1% by weight, a sufficient buffering effect cannot be obtained. When a reducing sugar is used in combination with a base, the color changes to brown over time,
Is also gradually lowered, and thus the developing property is deteriorated.

【0096】非還元糖に組み合わせる塩基としては従来
より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、燐
酸三ナトリウム、燐酸三カリウム、燐酸三アンモニウ
ム、燐酸二ナトリウム、燐酸二カリウム、燐酸二アンモ
ニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水
素アンモニウム、棚酸ナトリウム、棚酸カリウム、棚酸
アンモニウム等の無機アルカリ剤が挙げられる。また、
モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミ
ン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパ
ノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピ
リジン等の有機アルカリ剤も用いられる。これらのアル
カリ剤は単独で又は二種以上を組み合わせて用いられ
る。これらの中で好ましいのは水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムである。その理由は、非還元糖に対するこれ
らの量を調整することにより広いpH領域でpH調整が
可能となるためである。また、燐酸三ナトリウム、燐酸
三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等もそれ自
身に緩衝作用があるので好ましい。これらのアルカリ剤
は現像液のpHを9.0〜13.5の範囲になるように
添加され、その添加量は所望のpH、非還元糖の種類と
添加量によって決められるが、より好ましいpH範囲は
l0.0〜13.2である。
As the base to be combined with the non-reducing sugar, conventionally known alkaline agents can be used. For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate And inorganic alkali agents such as potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, sodium sulphate, potassium sulphate and ammonium sulphate. Also,
Monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine And organic alkali agents such as ethylenediamine and pyridine. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred. The reason is that by adjusting these amounts with respect to the non-reducing sugar, the pH can be adjusted in a wide pH range. Also, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable since they themselves have a buffering action. These alkaline agents are added so that the pH of the developing solution is in the range of 9.0 to 13.5, and the amount of addition is determined depending on the desired pH, the type and the amount of non-reducing sugar, but more preferable pH The range is from 10.0 to 13.2.

【0097】現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基
からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液
として用いられる弱酸としては、解離定数(pKa)が
10.0〜13.2のものが好ましい。このような弱酸
は、Pergamon Press社発行のIONIS
ATION CONSTANTS OF ORGANl
C ACIDS IN AQUEOUS SOLUTI
ON等に記載されているものから選ばれ、例えば、2,
2,3,3−テトラフルオロプロパノール−1(pKa
12.74)、トリフルオロエタノール(同12.3
7)、トリクロロエタノール(同12.24)等のアル
コール類、ピリジン−2−アルデヒド(同12.6
8)、ピリジン−4−アルデヒド(同12.05)等の
アルデヒド類、サリチル酸(同l3.0)、3−ヒドロ
キシ−2−ナフトエ酸(同12.84)、カテコール
(同12.6)、没食子酸(同12.4)、スルホサリ
チル酸(同11.7)、3,4−ジヒドロキシスルホン
酸(同12.2)、3,4−ジヒドロキシ安息香酸(同
11.94)、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン
(同11.82)、ハイドロキノン(同11.56)、
ピロガロール(同11.34)、o−クレゾール(同1
0.33)、レゾルシノール(同11.27)、P−ク
レゾール(同10.27)、m−クレゾール(同10.
09)等のフェノール性水酸基を有する化合物、2−ブ
タノンオキシム(同12.45)、アセトキシム(同1
2.42)、1,2−シクロヘプタンジオンジオキシム
(同12.3)、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキ
シム(同12.10)、ジメチルグリオキシム(同1
1.9)、エタンジアミドジオキシム(同11.3
7)、アセトフェノンオキシム(同11.35)等のオ
キシム類、アデノシン(同12.56)、イノシン(同
12.5)、グアニン(同12.3)、シトシン(同1
2.2)、ヒポキサンチン(同12.1)、キサンチン
(同11.9)等の核酸関連物質、他に、ジエチルアミ
ノメチルホスホン酸(同12.32)、1−アミノ−
3,3,3−トリフルオロ安息香酸(同12.29)、
イソプロピリデンジホスホン酸(同12.10)、1,
1−エチリデンジホスホン酸(同11.54)、1.1
−エチリデンジホスホン酸1−ヒドロキシ(同11.5
2)、ベンズイミダゾール(同12.86)、チオベン
ズアミド(同12.8)、ピコリンチオアミド(同1
2.55)、バルビツル酸(同12.5)等の弱酸が挙
げられる。
Further, an alkaline buffer consisting of a weak acid other than saccharides and a strong base can be used in combination with the developer. The weak acid used as such a buffer is preferably one having a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2. Such a weak acid can be obtained from IONIS issued by Pergamon Press.
ATTION CONSTANTS OF ORGANl
C ACIDS IN AQUEOUS SOLUTI
ON, etc., for example, 2,
2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (pKa
12.74), trifluoroethanol (12.3)
7), alcohols such as trichloroethanol (12.24) and pyridine-2-aldehyde (12.6).
8), aldehydes such as pyridine-4-aldehyde (12.05), salicylic acid (13.0), 3-hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), Gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7), 3,4-dihydroxysulfonic acid (12.2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,2 4-trihydroxybenzene (11.82), hydroquinone (11.56),
Pyrogallol (11.34), o-cresol (1)
0.33), resorcinol (11.27), P-cresol (10.27), m-cresol (10.
09) and other compounds having a phenolic hydroxyl group, 2-butanone oxime (12.45) and acetoxime (1).
2.42), 1,2-cycloheptanedione dioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (1)
1.9), ethanediamide dioxime (11.3)
7), oximes such as acetophenone oxime (11.35), adenosine (12.56), inosine (12.5), guanine (12.3), cytosine (1)
2.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9) and other nucleic acid-related substances, as well as diethylaminomethylphosphonic acid (12.32), 1-amino-
3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.29);
Isopropylidene diphosphonic acid (12.10), 1,
1-ethylidene diphosphonic acid (11.54), 1.1
1-hydroxyethylidene diphosphonic acid (11.5
2), benzimidazole (12.86), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (1)
2.55) and barbituric acid (12.5).

【0098】これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホ
サリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合
わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化アンモ
ニウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムが好適に用
いられる。これらのアルカリ剤は単独で又は二種以上を
組み合わせて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度
及び組み合わせによりpHを好ましい範囲内に調整して
使用される。現像液には、現像性の促進や現像カスの分
散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に
応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好まし
い界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニ
オン系及び両性界面活性剤が挙げられる。
Preferred among these weak acids are sulfosalicylic acid and salicylic acid. As a base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide are preferably used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. The above-mentioned various alkaline agents are used by adjusting the pH within a preferred range depending on the concentration and combination. Various surfactants and organic solvents can be added to the developer as needed for the purpose of accelerating the developability, dispersing the development residue, and enhancing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.

【0099】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド等の非イ
オン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒ
ドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸
塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アル
キルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼン
スルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、
アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホ
ン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニル
エーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナト
リウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナト
リウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂防酸
アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エ
ステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ
ーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン/無氷マレイン酸共重合
体の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合
体の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類等のアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アン
モニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩
類、ポリエチレンポリアミン誘導体等のカチオン性界面
活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、
スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリ
ン類等の両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面
活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオ
キシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチ
レン等のポリオキシアルキレンに読み替えることもで
き、それらの界面活性剤もまた包含される。
Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, and glycerin fatty acid partial esters. , Sorbitan fatty acid partial esters,
Pentaerythritol fatty acid partial ester, propylene glycol monofatty acid ester, sucrose fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial ester, polyethylene glycol fatty acid ester, polyglycerin fatty acid partial ester , Polyoxyethylenated castor oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides,
Nonionic surfactants such as N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts , Alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate salts, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates,
Alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil Sulfuric acid salts of fatty acid-resistant alkyl esters, alkyl sulfate salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfate salts, fatty acid monoglyceride sulfate salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate salts, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate salts , Alkyl phosphate salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphate salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphate salts, Partially saponified products of Tylene / ice-free maleic acid copolymer, partially saponified products of olefin / maleic anhydride copolymer, anionic surfactants such as naphthalene sulfonate formalin condensates, alkylamine salts, tetrabutyl Quaternary ammonium salts such as ammonium bromide, polyoxyethylene alkylamine salts, cationic surfactants such as polyethylene polyamine derivatives, carboxybetaines, aminocarboxylic acids,
Examples include amphoteric surfactants such as sulfobetaines, aminosulfates, and imidazolines. Among the surfactants mentioned above, the term "polyoxyethylene" can be read as a polyoxyalkylene such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, or polyoxybutylene, and these surfactants are also included.

【0100】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオ
ン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型、パー
フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオ
ン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフ
ルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロ
アルキル基及び親水性基含有オリゴマー、パーフルオロ
アルキル基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロ
アルキル基、親水性基及び親油性基含有オリゴマー、パ
ーフルオロアルキル基及び親油性基含有ウレタン等の非
イオン型が挙げられる。上記の界面括性剤は、単独で又
は2種以上を組み合わせて使用することができ、現像液
中に0.001〜10重量%、好ましくは0.01〜5
重量%の範囲で添加される。
Further preferred surfactants are fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorine-based surfactants include anionic types such as perfluoroalkylcarboxylates, perfluoroalkylsulfonates, and perfluoroalkylphosphates; amphoteric types such as perfluoroalkylbetaines; and perfluoroalkyltrimethylammonium salts. Perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl group, hydrophilic group and lipophilic Non-ionic types such as a group-containing oligomer, a perfluoroalkyl group and a lipophilic group-containing urethane are exemplified. The above-mentioned surface consolidating agents can be used alone or in combination of two or more kinds.
It is added in the range of weight%.

【0101】現像液には、種々の現像安定化剤が用いら
れる。それらの好ましい例として、特開平6−2820
79号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコー
ル付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド等の
テトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニ
ウムブロマイド等のホスホニウム塩及びジフェニルヨー
ドニウムクロライド等のヨードニウム塩が好ましい例と
して挙げられる。更には、特開昭50−51324号公
報記載のアニオン界面活性剤又は両性界面活性剤、また
特開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオニッ
クポリマー、特開昭56−142528号公報に記載さ
れている水溶性の両性高分子電解質がある。更に、特開
昭59−84241号公報のアルキレングリコールが付
加された有機ホウ素化合物、特開昭60−ll1246
号公報記載のポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレ
ンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭60−1
29750号公報のポリオキシエチレン、ポリオキシプ
ロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭
61−215554号公報記載の重量平均分子量300
以上のポリエチレングリコール、特開昭63−1758
58号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性
剤、特開平2−39157号公報の酸又はアルコールに
4モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶
性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレ
ン化合物等が挙げられる。
Various developing stabilizers are used in the developing solution. Preferred examples thereof are described in JP-A-6-2820.
Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-79, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium salts such as diphenyliodonium chloride. Further, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are described. There are water-soluble amphoteric polyelectrolytes that have been used. Further, an organic boron compound to which an alkylene glycol is added as disclosed in JP-A-59-84241, JP-A-60-111246
JP-A-60-1 discloses a polyoxyethylene-polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant described in
No. 29750, polyoxyethylene, an alkylenediamine compound substituted with polyoxypropylene, and a weight average molecular weight of 300 described in JP-A No. 61-215554.
The above polyethylene glycol, JP-A-63-1758
No. 58, a fluorine-containing surfactant having a cationic group, a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol described in JP-A-2-39157, and a water-soluble polyalkylene compound And the like.

【0102】本発明の現像液は実質的に有機溶剤を含ま
ないものであるが、必要により有機溶剤が加えられる。
かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が約10重
量%以下のものが適しており、好ましくは5重量%以下
のものから選ばれる。例えば、l−フェニルエタノー
ル、2−フェニルエタノール、3−フェニル−1−プロ
パノール、4−フェニル−1−ブタノール、4−フェニ
ル−2−ブタノール、2−フェニル−1−ブタノール、
2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノ
ール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシ
ベンジルアルコール、p−メトキンベンジルアルコー
ル、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メ
チルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノー
ル、4−メチルシクロヘキサノール、N−フェニルエタ
ノールアミン及びN−フェニルジエタノールアミン等を
挙げることができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重
量に対して0.1〜5重量%である。その使用量は界面
活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増
すにつれ、界面活性剤の量を増加させることが好まし
い。これは界面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多
く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な
現像性の確保が期待できなくなるからである。
Although the developing solution of the present invention does not substantially contain an organic solvent, an organic solvent is added if necessary.
As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and preferably selected from those having a solubility of 5% by weight or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol,
2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methokinebenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol, 4-methyl Cyclohexanol, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine and the like can be mentioned. The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the used solution. The amount used is closely related to the amount used of the surfactant, and it is preferable to increase the amount of the surfactant as the amount of the organic solvent increases. This is because when the amount of the surfactant is small and the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, and therefore, it is impossible to expect good developing property.

【0103】現像液には更に還元剤を加えることができ
る。これは印刷版の汚れを防止するものであり、特に感
光性ジアゾニウム塩化合物を含むネガ型画像記録材料を
現像する際に有効である。好ましい有機還元剤として
は、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メト
キシキノン、レゾルシン、2−メチルレゾルシン等のフ
ェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラ
ジン等のアミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機
の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、
亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸及び亜ジ
チオン酸等の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アン
モニウム塩等を挙げることができる。これらの還元剤の
うち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩であ
る。これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましく
は、0.05〜5重量%の範囲で含有される。
A reducing agent can be further added to the developer. This is to prevent the printing plate from being stained, and is particularly effective when developing a negative image recording material containing a photosensitive diazonium salt compound. Preferred organic reducing agents include phenolic compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, methol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin; and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. More preferred inorganic reducing agents include sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid,
Examples thereof include sodium salts, potassium salts, and ammonium salts of inorganic acids such as hydrogen phosphite, dihydrophosphite, thiosulfate, and dithionite. Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the stain prevention effect. These reducing agents are preferably contained in a range of 0.05 to 5% by weight with respect to the developing solution at the time of use.

【0104】現像液には更に有機カルボン酸を加えるこ
ともできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数6〜
20の脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸である。
脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、
エナンチル酸、カプリル酸ラウリン酸、ミリスチン酸、
パルミチン酸及びステアリン酸等があり、特に好ましい
のは炭素数8〜12のアルカン酸である。また炭素鎖中
に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭
素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸としては、ベン
ゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等にカルボキシ
ル基が置換された化合物、具体的には、o−クロロ安息
香酸、p−クロロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、
p−ヒドロキシ安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−ア
ミノ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5
−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香
酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロ
キシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフト
エ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキ
シ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸
等があるが、ヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。
The developing solution may further contain an organic carboxylic acid. Preferred organic carboxylic acids have 6 to 6 carbon atoms.
20 aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids.
Specific examples of aliphatic carboxylic acids include caproic acid,
Enantylic acid, caprylic lauric acid, myristic acid,
There are palmitic acid, stearic acid and the like, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. Further, unsaturated fatty acids having a double bond in the carbon chain or branched fatty acids may be used. As the aromatic carboxylic acid, a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, or the like, specifically, o-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid,
p-hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5
-Dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, There are 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid and the like, and hydroxynaphthoic acid is particularly effective.

【0105】上記脂肪族及び芳香族カルボン酸は水溶性
を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩又はアンモニ
ウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる現像
液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はないが、
0.1重量%より低いと効果が十分でなく、また10重
量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかり
か、別の添加剤を併用する時にその溶解を妨げることが
ある。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対し
て0.1〜10重量%であり、より好ましくは0.5〜
4重量%である。現像液には、更に必要に応じて、防腐
剤、着色剤、増粘剤、消泡剤及び硬水軟化剤等を含有さ
せることもできる。硬水軟化剤としては、例えば、ポリ
燐酸及びそのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウ
ム塩;エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリア
ミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、
ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロ
トリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸
及び1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸等
のアミノポリカルボン酸及びそれらのナトリウム塩、カ
リウム塩及びアンモニウム塩;アミノトリ(メチレンホ
スホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホ
ン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホ
ン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ(メチレンホス
ホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ(メ
チレンホスホン酸)及び1−ヒドロキシエタン−l,1
−ジホスホン酸及びそれらのナトリウム塩、カリウム塩
及びアンモニウム塩を挙げることができる。
The above aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as a sodium salt, a potassium salt or an ammonium salt in order to increase the water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited,
If the amount is less than 0.1% by weight, the effect is not sufficient. If the amount is more than 10% by weight, the effect cannot be further improved, and dissolution may be hindered when another additive is used in combination. Therefore, the preferable addition amount is 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, based on the developer used.
4% by weight. The developer may further contain a preservative, a colorant, a thickener, an antifoaming agent, a water softener, and the like, if necessary. Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium and ammonium salts; ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid,
Aminopolycarboxylic acids such as hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts; aminotri (methylene Phosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid), triethylenetetraminehexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1-hydroxyethane-1,1
-Diphosphonic acids and their sodium, potassium and ammonium salts.

【0106】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度及び硬水の量によって最適値が
変化するが、一般的な使用量は、使用時の現像液に0.
01〜5重量%、より好ましくは0.01〜0.5重量
%の範囲である。使用量が0.01重量%より少ないと
所期の目的が十分に達成されず、0.5重量%より多い
場合は、色抜け等、画像部への悪影響がでてくる。現像
液の残余の成分は水である。現像液は、使用時よりも水
の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で
希釈することが運搬上有利である。この場合の濃縮度
は、各成分が分離や析出を起こさない程度が適当であ
る。本発明の画像記録材料の現像液としてはまた、特開
平6−282079号公報記載の現像液も使用できる。
これは、SiO2 /M2 O(Mはアルカリ金属を示す)
のモル比が0.5〜2.0の珪酸アルカリ金属塩と、水
酸基を4以上有する糖アルコールに5モル以上のエチレ
ンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド
付加化合物を含有する現像液である。糖アルコールは糖
のアルデヒド基及びケトン基を還元してそれぞれ第一、
第二アルコール基としたものに相当する多価アルコール
である。糖アルコールの具体的な例としては、D,L−
トレイット、エリトリット、D,L−アラビット、リビ
ット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マン
ニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズルシ
ット、アロズルシット等であり、更に糖アルコールを縮
合したジ、トリ、テトラ、ペンタ及びヘキサグリセリン
等も挙げられる。上記水溶性エチレンオキシド付加化合
物は上記糖アルコール1モルに対し5モル以上のエチレ
ンオキシドを付加することにより得られる。さらにエチ
レンオキソド付加化合物には必要に応じてプロピレンオ
キシドを溶解性が許容できる範囲でブロック共重合させ
てもよい。これらのエチレンオキシド付加化合物は単独
で又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの
水溶性エチレンオキシド付加化合物の添加量は現像液
(使用液)に対して0.001〜5重量%が適してお
り、より好ましくは0.001〜2重量%である。
The optimum value of such a water softening agent varies depending on the chelating power, the hardness of the hard water used and the amount of the hard water.
The range is from 0.01 to 5% by weight, more preferably from 0.01 to 0.5% by weight. If the amount is less than 0.01% by weight, the intended purpose is not sufficiently achieved, and if the amount is more than 0.5% by weight, adverse effects on the image portion such as color omission appear. The remaining component of the developer is water. It is advantageous from the viewpoint of transportation that the developing solution is a concentrated solution in which the content of water is smaller than that at the time of use, and is diluted with water at the time of use. In this case, the concentration is suitably such that the components do not separate or precipitate. As the developer for the image recording material of the present invention, the developer described in JP-A-6-282079 can also be used.
This is SiO 2 / M 2 O (M represents an alkali metal)
Is a developer containing an alkali metal silicate having a molar ratio of 0.5 to 2.0 and a water-soluble ethylene oxide adduct obtained by adding 5 mol or more of ethylene oxide to a sugar alcohol having 4 or more hydroxyl groups. Sugar alcohol reduces the aldehyde group and ketone group of the sugar to the first,
It is a polyhydric alcohol corresponding to a secondary alcohol group. Specific examples of sugar alcohols include D, L-
Trait, erythritol, D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-idit, D, L-tallit, zulcit, allozulcit, and the like. Also included are condensed di, tri, tetra, penta and hexaglycerin. The water-soluble ethylene oxide adduct is obtained by adding 5 mol or more of ethylene oxide to 1 mol of the sugar alcohol. Further, propylene oxide may be block-copolymerized with the ethylene oxod adduct as needed, as long as the solubility is acceptable. These ethylene oxide addition compounds may be used alone or in combination of two or more. The addition amount of these water-soluble ethylene oxide addition compounds is suitably from 0.001 to 5% by weight, more preferably from 0.001 to 2% by weight, based on the developer (working solution).

【0107】この現像液にはさらに、現像性の促進や現
像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目
的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶剤
を添加できる。かかる組成の現像液で現像処理された画
像記録材料は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニ
ッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明の画
像記録材料の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせ
て用いることができる。近年、製版・印刷業界では製版
作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機
が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像
部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置、各処理
液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水
平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプ
レーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法
も知られている。このような自動処理においては、各処
理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しなが
ら処理することができる。また、実質的に未使用の処理
液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
The above-mentioned various surfactants and organic solvents can be further added to the developer, if necessary, for the purpose of accelerating the developability, dispersing the developing residue, and increasing the ink affinity of the printing plate image area. . The image recording material developed with a developer having such a composition is subjected to post-treatment with washing water, a rinsing solution containing a surfactant or the like, a finisher containing a gum arabic or a starch derivative, or a protective gum solution as a main component. . In the post-processing of the image recording material of the present invention, these processings can be used in various combinations. In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally comprises a developing section and a post-processing section, and comprises a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and each of which is pumped up while pumping an exposed printing plate horizontally. The developing process is performed by spraying a processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method is also known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0108】本発明の画像記録材料を感光性平版印刷版
として使用する場合について説明する。画像露光し、現
像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得
られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば、原画フィ
ルムのフィルムエッジ跡等)がある場合には、その不必
要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例
えば特公平2−13293号公報に記載されているよう
な消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間
放置したのちに水洗することにより行なう方法が好まし
いが、特開平59−174842号公報に記載されてい
るようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を
不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用でき
る。以上のようにして得られた平版印刷版は所望により
不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することが
できるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場
合にはバーニング処理が施される。平版印刷版をバーニ
ングする場合には、バーニング前に特公昭61−251
8号、同55−28062号、特開昭62−31859
号、同61−159655号の各公報に記載されている
ような整面液で処理することが好ましい。
The case where the image recording material of the present invention is used as a photosensitive lithographic printing plate will be described. If the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming has an unnecessary image portion (for example, a film edge mark of the original film), the unnecessary image portion may be removed. The necessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing liquid as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-129393 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined period of time, and then rinsing with water. A method described in JP-A-59-174842, in which active light guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed, can be used. The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired, but if a lithographic printing plate with higher printing durability is desired, a burning treatment is required. Is applied. When burning a lithographic printing plate, before burning, the Japanese Patent Publication No. 61-251
No. 8, No. 55-28062, JP-A-62-31859.
And JP-A-61-159655.

【0109】その方法としては、スポンジや脱脂綿を用
いて該整面液を平版印刷版上に塗布するか、整面液を満
たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自
動コーターによる塗布等が適用される。また、塗布した
後でスキージ又はスキージローラーで、その塗布量を均
一にすることは、より好ましい結果を与える。整面液の
塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2 (乾燥重量)
が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要で
あれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例え
ば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニ
ングプロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱さ
れる。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成して
いる成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で
1〜20分の範囲が好ましい。バーニング処理された平
版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従
来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶
性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合に
はガム引き等のいわゆる不感脂化処理を省略することが
できる。このような処理によって得られた平版印刷版は
オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いら
れる。
As the method, a method of applying the surface-regulating liquid on a lithographic printing plate using a sponge or absorbent cotton, or a method of immersing the printing plate in a vat filled with the surface-regulating liquid and applying the liquid, or an automatic coater Is applied. Further, it is preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application. The application amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry weight).
Is appropriate. The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then heated to a high temperature by a burning processor (for example, a burning processor: BP-1300 sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). . The heating temperature and time in this case depend on the type of the components forming the image, but are preferably in the range of 180 to 300 ° C. and 1 to 20 minutes. The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary, but a surface conditioning liquid containing a water-soluble polymer compound or the like is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0110】[0110]

【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。合成例1(高分子化合物1) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ
口フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モ
ル)、クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及
びアセトニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しな
がら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン
36.4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロー
トにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室
温下で30分間混合物を攪拌した。この反応混合物に、
p−アミノベンゼンスルホンアミド51.7g(0.3
0モル)を加え、油浴にて70℃に温めながら混合物を
1時間攪拌した。反応終了後、この混合物を水1リット
ルにこの水を攪拌しながら投入し、30分間得られた混
合物を攪拌した。この混合物をろ過して析出物を取り出
し、これを水500mlでスラリーにした後、このスラ
リーをろ過し、得られた固体を乾燥することによりN−
(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドの
白色固体が得られた(収量46.9g)。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The scope of the present invention is not limited to these examples. Synthesis Example 1 (Polymer Compound 1) 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid, 39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile were placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel. And the mixture was stirred while cooling in an ice-water bath. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After the addition, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. In this reaction mixture,
51.7 g of p-aminobenzenesulfonamide (0.3
0 mol) and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove a precipitate, which was then slurried with 500 ml of water. The slurry was filtered, and the obtained solid was dried to obtain N-.
A white solid of (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was obtained (yield 46.9 g).

【0111】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド4.61g(0.01
92モル)、メタクリル酸エチル2.94g(0.02
58モル)、アクリロニトリル0.80g(0.015
モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物にV−65(和光純薬(株)製)0.1
5gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間混合物
を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−アミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g、メ
タクリル酸エチル2.94g、アクリロニトリル0.8
0g、N,N−ジメチルアセトアミド及びV−65
0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴
下した。滴下終了後さらに65℃で2時間得られた混合
物を攪拌した。反応終了後メタノール40gを混合物に
加え、冷却し、得られた混合物を水2リットルにこの水
を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌した後、析
出物をろ過により取り出し、乾燥することにより15g
の白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィーによりこの高分子化合物の重量平均分子量(ポリ
スチレン標準)を測定したところ53,000であっ
た。
Next, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 20 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
92 mol), and 2.94 g (0.02 g) of ethyl methacrylate.
58 mol), 0.80 g (0.015 g) of acrylonitrile
Mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. To this mixture, V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.1
5 g was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 65 ° C. To this reaction mixture, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, 2.94 g of ethyl methacrylate, and 0.8 of acrylonitrile were further added.
0 g, N, N-dimethylacetamide and V-65
0.15 g of the mixture was added dropwise from the dropping funnel over 2 hours. After the addition was completed, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 40 g of methanol was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was poured into 2 liters of water while stirring the water, and the mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was taken out by filtration and dried. 15g
A white solid was obtained. The weight average molecular weight of this polymer compound (polystyrene standard) was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000.

【0112】合成例2(高分子化合物2) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ
口フラスコにアクリル酸25.9g(0.36モル)、
クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及びアセ
トニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混
合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36.
4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロートによ
り滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室温下で
30分間混合物を攪拌した。この反応混合物に、p−ア
ミノベンゼンスルホンアミド51.7g(0.30モ
ル)を加え、油浴にて70℃に温めながら混合物を1時
間攪拌した。反応終了後、この混合物を水1リットルに
この水を攪拌しながら投入し、30分間得られた混合物
を攪拌した。この混合物をろ過して析出物を取り出し、
これを水500mlでスラリーにした後、このスラリー
をろ過し、得られた固体を乾燥することによりN−(p
−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミドの白色固
体が得られた(収量42.3g)。
Synthesis Example 2 (Polymer compound 2) 25.9 g (0.36 mol) of acrylic acid was placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling in an ice water bath. To this mixture was added triethylamine.
4 g (0.36 mol) was added dropwise over about 1 hour using a dropping funnel. After the addition, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture is filtered to remove the precipitate,
This was slurried with 500 ml of water, the slurry was filtered, and the obtained solid was dried to obtain N- (p
A white solid of (-aminosulfonylphenyl) acrylamide was obtained (yield 42.3 g).

【0113】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)アクリルアミド5.08g(0.022
4モル)、メタクリル酸メチル1.96g(0.020
モル)、アクリロニトリル0.96g(0.018モ
ル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入れ、
湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌した。
この混合物にV−65(和光純薬(株)製)0.15g
を加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間混合物を攪
拌した。この反応混合物にさらにN−(p−アミノスル
ホニルフェニル)アクリルアミド5.08g、メタクリ
ル酸メチル1.96g、アクリロニトリル0.96g、
N,N−ジメチルアセトアミド及びV−65 0.15
gの混合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。
滴下終了後さらに65℃で2時間得られた混合物を攪拌
した。反応終了後メタノール40gを混合物に加え、冷
却し、得られた混合物を水2リットルにこの水を攪拌し
ながら投入し、30分混合物を攪拌した後、析出物をろ
過により取り出し、乾燥することにより15gの白色固
体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーに
よりこの高分子化合物の重量平均分子量(ポリスチレン
標準)を測定したところ47,000であった。
Next, 5.08 g (0.022 g) of N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide was placed in a 20 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
4 mol), 1.96 g (0.020 g) of methyl methacrylate
Mol), 0.96 g (0.018 mol) of acrylonitrile and 20 g of N, N-dimethylacetamide,
The mixture was stirred while being heated to 65 ° C. by a water bath.
0.15 g of V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to this mixture.
Was added and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 65 ° C. The reaction mixture was further charged with 5.08 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, 1.96 g of methyl methacrylate, 0.96 g of acrylonitrile,
N, N-dimethylacetamide and V-65 0.15
g of the mixture was dropped by a dropping funnel over 2 hours.
After the addition was completed, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 40 g of methanol was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was added to 2 liters of water while stirring the water, and the mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was taken out by filtration and dried. 15 g of a white solid was obtained. The weight average molecular weight of this polymer compound (polystyrene standard) was measured by gel permeation chromatography and found to be 47,000.

【0114】合成例3(高分子化合物3) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた20ml三ツ口
フラスコに、N−(p−トルエンスルホニル)−メタク
リルアミド8.6g(0.036モル)、メタクリル酸
メチル1.20g(0.012モル)、アクリロニトリ
ル0.64g(0.012モル)及びN,N−ジメチル
アセトアミド20gを入れ、湯水浴により65℃に加熱
しながら混合物を攪拌した。この混合物にV−65(和
光純薬(株)製)0.15gを加え65℃に保ちながら
窒素気流下2時間混合物を攪拌した。この反応混合物に
さらにN−(p−トルエンスルホニル)−メタクリルア
ミド8.6g、メタクリル酸メチル1.20g、アクリ
ロニトリル0.64g、N,N−ジメチルアセトアミド
20g及びV−65 0.15gの混合物を2時間かけ
て滴下ロートにより滴下した。滴下終了後さらに65℃
で2時間得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノ
ール40gを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を
水2リットルにこの水を攪拌しながら投入し、30分混
合物を攪拌した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥
することにより15gの白色固体を得た。ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィーによりこの高分子化合物の
重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定したところ
55,000であった。
Synthesis Example 3 (Polymer compound 3) 8.6 g (0.036 mol) of N- (p-toluenesulfonyl) -methacrylamide and methacrylic acid were placed in a 20 ml three- necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel. 1.20 g (0.012 mol) of methyl, 0.64 g (0.012 mol) of acrylonitrile and 20 g of N, N-dimethylacetamide were added, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. 0.15 g of V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to the mixture, and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 2 hours while maintaining the temperature at 65 ° C. To this reaction mixture was further added a mixture of 8.6 g of N- (p-toluenesulfonyl) -methacrylamide, 1.20 g of methyl methacrylate, 0.64 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide and 0.15 g of V-65. The solution was dropped with a dropping funnel over time. 65 ° C after completion of dropping
The resulting mixture was stirred for 2 hours. After completion of the reaction, 40 g of methanol was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was added to 2 liters of water while stirring the water, and the mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was taken out by filtration and dried. 15 g of a white solid was obtained. The weight average molecular weight (polystyrene standard) of the polymer compound measured by gel permeation chromatography was 55,000.

【0115】(実施例1〜5)厚み0.3mmのアルミ
ニウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパ
ミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく
洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水
溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さら
に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂
目立て表面のエッチング量は約3g/m 2 であった。次
にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/d
2 で3g/m2 の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗
し、乾燥し、基板Aを得た。基板Aに下記下塗り液を塗
布し、塗膜を90℃で1分乾燥し基板Bを得た。乾燥後
の塗膜の塗布量は10mg/m2 であった。下塗り液 β−アラニン 0.5g メタノール 95g 水 5g 基板Aを珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液で30℃で
10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗膜を80℃で
15秒間乾燥し基板Cを得た。乾燥後の塗膜の被覆量は
15mg/m2 であった。下塗り液 分子量2.8万の下記共重合体 0.3g メタノール 100g 水 1g こうして得られた基板Bに以下の感光液1〜4を塗布量
が1.8g/m2 になるよう塗布し、平版印刷版B1〜
4を得た。
(Examples 1 to 5) Aluminum having a thickness of 0.3 mm
Washing of aluminum plate (material 1050) with trichlorethylene
And degrease, then use a nylon brush and 400 mesh
Mis-grain this surface with a water suspension and wash well with water.
Washed. This plate was washed at 25 ° C with 25% aqueous sodium hydroxide.
Immerse in the solution for 9 seconds to perform etching, wash with water,
Was immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. Sand at this time
The amount of etching on the dressing surface is about 3 g / m TwoMet. Next
This plate was subjected to a current density of 15 A / d using 7% sulfuric acid as an electrolyte.
mTwo3g / mTwoAfter the DC anodic oxide coating of
And dried to obtain a substrate A. Substrate A is coated with the following undercoat liquid
Cloth was applied and the coating film was dried at 90 ° C. for 1 minute to obtain a substrate B. After drying
10mg / mTwoMet.Undercoat liquid β-alanine 0.5 g methanol 95 g water 5 g Substrate A was treated with a 2.5 wt% aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C.
Treat for 10 seconds, apply the following undercoat liquid, and coat the film at 80 ° C.
After drying for 15 seconds, a substrate C was obtained. The coating amount of the coating after drying is
15mg / mTwoMet.Undercoat liquid The following copolymer having a molecular weight of 28,000 0.3 g Methanol 100 g Water 1 g Coating amount of the following photosensitive liquids 1 to 4 on the obtained substrate B
Is 1.8 g / mTwoLithographic printing plate B1
4 was obtained.

【化40】 Embedded image

【0116】感光液1 高分子化合物1 0.7g m,p−クレゾールノボラック(m,p比=6/4、重量平均分子量3,50 0、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.3g スルホン化合物(II−1) 0.08g p−トルエンスルホン酸 0.003g テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g シアニン染料A 0.017g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニオ ンにした染料 0.015g メガファックF−177 (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤)0.05g γ−ブチルラクトン 2g メチルエチルケトン 20g 1−メトキシ−2−プロパノール 1g Photosensitive solution 1 Polymer compound 1 0.7 g m, p-cresol novolak (m, p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,500, unreacted cresol 0.5% by weight) 0.3 g Sulfone compound (II-1) 0.08 g p-toluenesulfonic acid 0.003 g tetrahydrophthalic anhydride 0.03 g cyanine dye A 0.017 g Victoria pure blue BOH dye having a counter ion of 1-naphthalenesulfonic acid anion 0 0.015 g Megafac F-177 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) 0.05 g γ-butyl lactone 2 g methyl ethyl ketone 20 g 1-methoxy-2-propanol 1 g

【化41】 Embedded image

【0117】[0117]

【化42】 Embedded image

【0118】感光液2 高分子化合物2 0.3g m,p−クレゾールノボラック(m,p比=6/4、重量平均分子量3,50 0、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.7g スルホン化合物(II−4) 0.26g p−トルエンスルホン酸 0.003g テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g シアニン染料B 0.017g エチルバイオレット(オリエント化学工業(株)製)の対イオンを1−ナフタ レンスルホン酸アニオンにした染料 0.015g メガファックF−177 (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) 0.05g γ−ブチルラクトン 2g メチルエチルケトン 20g 1−メトキシ−2−プロパノール 1g Photosensitive solution 2 Polymer compound 2 0.3 g m, p-cresol novolak (m, p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,500, unreacted cresol 0.5% by weight) 0.7 g Sulfone compound (II-4) 0.26 g p-toluenesulfonic acid 0.003 g tetrahydrophthalic anhydride 0.03 g cyanine dye B 0.017 g Sulfonate anion dye 0.015 g Megafax F-177 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) 0.05 g γ-butyl lactone 2 g methyl ethyl ketone 20 g 1-methoxy-2-propanol 1 g

【0119】[0119]

【化43】 Embedded image

【0120】[0120]

【化44】 Embedded image

【0121】感光液3 高分子化合物3 0.9g m,p−クレゾールノボラック(m,p比=6/4、重量平均分子量3,50 0、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.1g スルホン化合物(II−14) 0.16g p−トルエンスルホン酸 0.003g テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g シアニン染料C 0.008g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニオ ンにした染料 0.015g メガファックF−177 (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) 0.05g γ−ブチルラクトン 2g メチルエチルケトン 20g 1−メトキシ−2−プロパノール 1g Photosensitive solution 3 Polymeric compound 3 0.9 g m, p-cresol novolak (m, p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,500, unreacted cresol 0.5% by weight) 0.1 g Sulfone compound (II-14) 0.16 g p-Toluenesulfonic acid 0.003 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.03 g Cyanine dye C 0.008 g Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is 1-naphthalenesulfonic acid anion 0 .015 g Megafax F-177 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., fluorine-based surfactant) 0.05 g γ-butyl lactone 2 g methyl ethyl ketone 20 g 1-methoxy-2-propanol 1 g

【0122】[0122]

【化45】 Embedded image

【0123】[0123]

【化46】 Embedded image

【0124】感光液4 ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体 0.9g (モル比72:28、重量平均分子量70,000) p−クレゾール/フェノール/ホルムアルデヒド ノボラック樹脂(p−クレ ゾール/フェノール=5/5、重量平均分子量7,000、未反応クレゾール及 びフェノール0.5重量%含有) 0.1g ジスルホン化合物(I−3) 0.05g p−トルエンスルホン酸 0.003g テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g シアニン染料D 0.017g 4−(p−ヒドロキシベンゾイルアミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロ ロメチル)−s−トリアジン 0.01g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニオ ンにした染料 0.015g メガファックF−177 (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) 0.05g γ−ブチルラクトン 2g メチルエチルケトン 20g 1−メトキシ−2−プロパノール 1g Photosensitive solution 4 Copolymer of benzyl methacrylate and methacrylic acid 0.9 g (molar ratio 72:28, weight average molecular weight 70,000) p-cresol / phenol / formaldehyde novolak resin (p-cresol / phenol = 5) / 5, weight average molecular weight 7,000, unreacted cresol and phenol 0.5% by weight) 0.1 g disulfone compound (I-3) 0.05 g p-toluenesulfonic acid 0.003 g tetrahydrophthalic anhydride 0. 03g Cyanine dye D 0.017g 4- (p-Hydroxybenzoylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 0.01g The counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to anion of 1-naphthalenesulfonic acid. Dye 0.015g Megafac F-177 (Fluorine surfactant, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g γ-butyl lactone 2 g Methyl ethyl ketone 20 g 1-methoxy-2-propanol 1 g

【0125】[0125]

【化47】 Embedded image

【0126】[0126]

【化48】 Embedded image

【0127】(比較例1)および(比較例2) 基板Bに以下の感光液5及び6を塗布量が1.8g/m
2 になるよう塗布し、平版印刷版B5及びB6を得た。感光液5 高分子化合物1 0.7g m,p−クレゾールノボラック(m,p比=6/4、重量平均分子量3,50 0、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.3g p−トルエンスルホン酸 0.003g テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g シアン染料A 0.017g ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニオ ンにした染料 0.015g メガファックF−177 (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) 0.05g γ−ブチルラクトン 2g メチルエチルケトン 20g 1−メトキシ−2−プロパノール 1g
(Comparative Example 1) and (Comparative Example 2) The following photosensitive liquids 5 and 6 were applied to the substrate B at an amount of 1.8 g / m 2.
Then , lithographic printing plates B5 and B6 were obtained. Photosensitive solution 5 Polymer compound 1 0.7 g m, p-cresol novolak (m, p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,500, unreacted cresol 0.5% by weight) 0.3 g p-toluene Sulfonic acid 0.003 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.03 g Cyan dye A 0.017 g Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalenesulfonic acid anion 0.015 g Megafac F-177 (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.05 g g-butyl lactone 2 g methyl ethyl ketone 20 g 1-methoxy-2-propanol 1 g

【0128】感光液6 ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロリドと 0.45g ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 (米国特許第3,635,709号明細書実施例1に記載されているもの) N−(p−アミノスルフォニルフェニル)メタクリルアミド 1.10g とメタクリル酸メチルの共重合体 (ヨーロッパ特許第330,239(A2 )号明細書の合成例1に記載 されているもの) 2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス 0.02g (トリクロロメチル)−s−トリアジン オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製) 0.01g 2,6−ジ−t−ブチル−4−[5−(2,6−ジ− 0.01422g t−ブチル−4H−チオピラン−4−イリデン)− ペンタ−1,3−ジエニル]チオピリリウム テトラフルオロボレート (米国特許第4,283,475号明細書に記載の化合物) メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 10g メチルセロソルブ 10g Photosensitive solution 6 Esterified product of naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonyl chloride and 0.45 g pyrogallol-acetone resin (described in Example 1 of US Pat. No. 3,635,709) Copolymer of 1.10 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide and methyl methacrylate (described in Synthesis Example 1 in EP 330,239 (A 2 )) 2 -(P-methoxyphenyl) -4,6-bis 0.02 g (trichloromethyl) -s-triazine oil blue # 603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) 0.01 g 2,6-di-t-butyl- 4- [5- (2,6-di-0.01422 g t-butyl-4H-thiopyran-4-ylidene) -penta-1,3-dienyl] Opyrilium tetrafluoroborate (compound described in U.S. Pat. No. 4,283,475) Megafac F-177 0.06 g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Methyl ethyl ketone 10 g Methyl cellosolve 10g

【0129】得られた本発明の平版印刷版B−1〜B−
4及び比較例の平版印刷版B−5およびB−6を出力5
00mW、波長830nm、ビーム径17μm(l/e
2 )の半導体レーザーを用いて主走査速度5m/秒にて
露光した後、富士写真フイルム(株)製現像液DP−4
及びリンス液FR−3(1:7で希釈したもの)を仕込
んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー900
VRを用いて現像した。その際、DP−4は1:8で希
釈したものと1:12で希釈したものの二水準を使用
し、それぞれの現像液にて画像形成に要する露光量を測
定し、その差(現像ラチチュード)を記録した。表に示
した数値が小さい程現像ラチチュードが良好であり、2
0mJ/cm2 以下であれば、実用可能なレベルであ
る。
The obtained planographic printing plates B-1 to B- of the present invention
Output 5 and lithographic printing plates B-5 and B-6 of Comparative Example 5
00 mW, wavelength 830 nm, beam diameter 17 μm (l / e
2 ) After exposure using a semiconductor laser at a main scanning speed of 5 m / sec, a developer DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
And a PS processor 900 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., which contains a rinse liquid FR-3 (diluted 1: 7).
Developed using VR. At that time, DP-4 was used in two levels, one diluted 1: 8 and one diluted 1:12, and the exposure amount required for image formation was measured with each developer, and the difference (development latitude) was measured. Was recorded. The smaller the numerical value shown in the table, the better the development latitude.
If it is 0 mJ / cm 2 or less, it is at a practical level.

【0130】[0130]

【表1】 [Table 1]

【0131】表1からジスルホン又はスルホン化合物を
用いた平版印刷版B−1〜B−4では、B−5およびB
−6と比べ、現像ラチチュードが優れており、実用可能
なレベルであることがわかる。 (実施例5〜8、比較例3〜4)基板Bを基板Cに変え
た他は、実施例1〜4及び比較例1〜2と同様にして平
版印刷版C−1〜C−6を得た。得られた本発明の平版
印刷版C−1〜C−4及び比較例の平版印刷版C−5及
びC−6を出力500mW、波長830nm、ビーム径
17μm(l/e2 )の半導体レーザーを用いて主走査
速度5m/秒にて露光した後、下記組成の希釈率の異な
る二種類の現像液(現像液1、現像液2)及びリンス液
FR−3(1:7で希釈したもの)を仕込んだ富士写真
フイルム(株)製PSプロセッサー900VRを用いて
現像した。その際、それぞの現像液にて画像形成に要す
る露光量を測定し、その差(現像ラチチュード)を記録
した。
From Table 1, the planographic printing plates B-1 to B-4 using the disulfone or the sulfone compound show B-5 and B
As compared with −6, the developing latitude was excellent, and it can be seen that the developing latitude was at a practical level. (Examples 5 to 8, Comparative Examples 3 to 4) Except that the substrate B was changed to the substrate C, lithographic printing plates C-1 to C-6 were prepared in the same manner as in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2. Obtained. The lithographic printing plates C-1 to C-4 of the present invention and the lithographic printing plates C-5 and C-6 of the comparative example were obtained by using a semiconductor laser having an output of 500 mW, a wavelength of 830 nm, and a beam diameter of 17 μm (l / e 2 ). After exposure at a main scanning speed of 5 m / sec, two types of developing solutions (developing solution 1 and developing solution 2) and a rinsing solution FR-3 (diluted 1: 7) having the following composition and different dilution ratios were used. Was developed using PS Processor 900VR manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. At that time, the exposure amount required for image formation was measured with each developing solution, and the difference (development latitude) was recorded.

【0132】現像液1 D−ソルビトール 5.1重量部 水酸化ナトリウム 1.1重量部 トリエタノールアミン・エチレンオキサイド付加物(30モル) 0.03重量部 水 93.9重量部現像液2 D−ソルビトール 5.1重量部 水酸化ナトリウム 1.1重量部 トリエタノールアミン・エチレンオキサイド付加物(30モル) 0.03重量部 水 140.7重量部 Developer 1 D-sorbitol 5.1 parts by weight Sodium hydroxide 1.1 parts by weight Triethanolamine / ethylene oxide adduct (30 mol) 0.03 parts by weight Water 93.9 parts by weight Developer 2 D- Sorbitol 5.1 parts by weight Sodium hydroxide 1.1 parts by weight Triethanolamine / ethylene oxide adduct (30 mol) 0.03 parts by weight Water 140.7 parts by weight

【0133】[0133]

【表2】 [Table 2]

【0134】表2からジスルホン又はスルホン化合物を
用いた平版印刷版C−1〜C−4では、比較例の印刷版
C−5およびC−6と比べ、現像ラチチュードが優れて
いることがわかる。
From Table 2, it can be seen that the lithographic printing plates C-1 to C-4 using the disulfone or the sulfone compound have excellent development latitude as compared with the printing plates C-5 and C-6 of the comparative examples.

【0135】[0135]

【本発明の効果】本発明は、従来の処理装置や印刷装置
をそのまま利用でき、コンピュータ等のディジタルデー
タから直接製版可能で、かつ現像ラチチュードの広い画
像記録材料を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide an image recording material which can use a conventional processing device or printing device as it is, can make a plate directly from digital data of a computer or the like, and has a wide development latitude.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも、アルカリ可溶性高分子化合
物と、光を吸収し熱を発生する物質を含有する赤外線レ
ーザー用ポジ型感光性組成物において、下記式で示され
る化合物(I)又は(II)を含むことを特徴とする前記
感光性組成物。 【化1】R1 −SO2 −SO2 −R2 (I) 【化2】R1 −SO2 −R2 (II) 式中、R1 及びR2 は同一でも異なってもよく、置換又
は無置換のアルキル基、アルケニル基、又はアリール基
を表す。
1. A positive photosensitive composition for an infrared laser containing at least an alkali-soluble polymer compound and a substance that absorbs light and generates heat, wherein the compound (I) or (II) represented by the following formula: The photosensitive composition as described above, comprising: ## STR1 R 1 -SO 2 -SO 2 -R 2 (I) ## STR2 ## R 1 -SO 2 -R 2 (II ) formula, R 1 and R 2 may be the same or different, substituted Or an unsubstituted alkyl group, alkenyl group, or aryl group.
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