JP2005107112A - Lithographic printing plate original plate - Google Patents

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JP2005107112A JP2003339785A JP2003339785A JP2005107112A JP 2005107112 A JP2005107112 A JP 2005107112A JP 2003339785 A JP2003339785 A JP 2003339785A JP 2003339785 A JP2003339785 A JP 2003339785A JP 2005107112 A JP2005107112 A JP 2005107112A
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Ippei Nakamura
一平 中村
Kazuo Maemoto
一夫 前本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive lithographic printing plate original plate having excellent printing durability and chemical resistance. <P>SOLUTION: The lithographic printing plate original plate has on a support a recording layer which contains (A) an alkali-soluble vinyl polymer having a ring structure in a principal chain and also having an active imido group and (B) an IR absorbent, and is capable of forming an image under irradiation with IR. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、平版印刷版原版に関し、より詳細には、コンピュータ等のディジタル信号から直接製版できる、所謂ダイレクト製版用のポジ型平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a positive lithographic printing plate precursor for so-called direct plate making that can be directly made from a digital signal of a computer or the like.

近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは、高出力且つ小型の物が容易に入手できるようになっている。平版印刷の分野においては、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常に有用である。   In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared can easily be obtained with high output and small size. In the field of lithographic printing, these lasers are very useful as an exposure light source for making a plate directly from digital data such as a computer.

赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版は、アルカリ可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生するIR染料等とを必須成分とする。このIR染料等が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させる現像抑制剤として働き、露光部(非画像部)では、発生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まり、アルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。   The positive type lithographic printing plate precursor for an infrared laser contains an alkali-soluble binder resin and an IR dye that absorbs light and generates heat as essential components. The IR dye or the like acts as a development inhibitor that substantially reduces the solubility of the binder resin in the developer by interaction with the binder resin in the unexposed area (image area), and in the exposed area (non-image area). The generated heat weakens the interaction between the IR dye and the binder resin and dissolves in an alkaline developer to form a lithographic printing plate.

このような赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版の画像形成能は、記録層表面の赤外線レーザ露光による発熱に依存しているため、支持体近傍では、支持体への熱の拡散により画像形成、即ち、記録層の可溶化に用いられる熱量が少なくなり、低感度となる。したがって、非画像部における記録層の現像抑制能消失効果が充分に得られず、画像部と非画像部との差が小さくなってハイライト再現性が不充分であるという問題があった。   Since the image forming ability of such a positive lithographic printing plate precursor for infrared laser depends on the heat generated by infrared laser exposure on the surface of the recording layer, in the vicinity of the support, image formation is caused by diffusion of heat to the support, That is, the amount of heat used for solubilizing the recording layer is reduced, resulting in low sensitivity. Accordingly, there has been a problem that the effect of disappearing the development suppressing ability of the recording layer in the non-image area is not sufficiently obtained, and the difference between the image area and the non-image area becomes small and the highlight reproducibility is insufficient.

また、上記ハイライト再現性の問題を解決するために、非画像部をより容易に現像し得る、即ち、アルカリ水溶液に対する溶解性がより良好な特性を有する材料からなる記録層を用いることが考えられるが、このような記録層は、画像部領域においても化学的に弱くなり、現像液や印刷中に使用されるインキ洗浄溶剤、プレートクリーナー等によりダメージを受け易くなるなど、耐薬品性に劣るといった問題があり、未露光部領域においては皮膜の耐薬品性や耐久性に優れ、且つ、露光により溶解抑制作用が解除された後は、現像性に優れるという特性を有する樹脂材料が熱望されていた。   In order to solve the above problem of highlight reproducibility, it is considered to use a recording layer made of a material capable of developing a non-image area more easily, i.e., having a better solubility in an alkaline aqueous solution. However, such a recording layer is chemically weak also in the image area, and is inferior in chemical resistance, such as being easily damaged by a developer, an ink washing solvent used during printing, a plate cleaner, and the like. In the unexposed area, the resin material is excellent in chemical resistance and durability of the film, and after the dissolution inhibiting action is released by exposure, the resin material having the characteristics of excellent developability is eagerly desired. It was.

以上の問題を解決するため、ポリビニルフェノール樹脂を含むアルカリ溶解性に優れた下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含み露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が大きく増大する上層と、からなる記録層を設けた平版印刷版原版が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。この平版印刷版原版は、感度の向上には改良がみられるものの、耐薬品性については不十分であった。また、支持体と記録層との密着性も不十分であり、耐刷性に劣るといった問題もあった。
また、同様の目的で種々の改良技術が提案され、例えば、支持体上に、特定モノマーを有する共重合体を含有する下層と、感光性の上層とを積層してなる画像形成材料(例えば、特許文献2参照。)や、親水性支持体上に、アルカリ可溶性樹脂を含有する下層と、赤外線感応性で耐アルカリ現像性の上層とを積層してなる平版印刷版原版を用いた印刷版作製方法(例えば、特許文献3参照。)などが提案されている。前者は感度や耐薬品性には優れるものの、下層に用いられる樹脂の膜強度が不充分で耐刷性になお改良の余地があるという問題があり、後者については用いられるアルカリ可溶性樹脂が耐薬品性に劣るため、プレートクリーナー中に含まれる溶剤成分により記録層が溶出したり、下層の基板界面まで該溶剤成分が浸透することで記録層と基板との密着性が低下し、記録層が剥離しやすくなるなどの問題を有しており、下層の膜強度に依存する耐刷性と、耐薬品性との両立は困難であった。
特開平10−250255号公報 特開平11−218914号公報 特開平11−194483号公報
In order to solve the above problems, it comprises a lower layer excellent in alkali solubility containing a polyvinylphenol resin, and an upper layer that contains a water-insoluble and alkali-soluble resin and an infrared absorber and greatly increases the solubility in an alkaline aqueous solution upon exposure. A lithographic printing plate precursor provided with a recording layer is disclosed (for example, see Patent Document 1). This lithographic printing plate precursor was improved in sensitivity, but was insufficient in chemical resistance. Further, the adhesion between the support and the recording layer is insufficient, and there is a problem that the printing durability is poor.
In addition, various improved techniques have been proposed for the same purpose. For example, an image forming material (for example, an image forming material obtained by laminating a lower layer containing a copolymer having a specific monomer and a photosensitive upper layer on a support (for example, Patent Document 2), and printing plate preparation using a lithographic printing plate precursor obtained by laminating a lower layer containing an alkali-soluble resin and an infrared-sensitive and alkali-resistant upper layer on a hydrophilic support. A method (for example, refer to Patent Document 3) has been proposed. Although the former is excellent in sensitivity and chemical resistance, there is a problem that the film strength of the resin used in the lower layer is insufficient and there is still room for improvement in printing durability. For the latter, the alkali-soluble resin used is chemical resistant. Since the recording layer elutes due to the solvent component contained in the plate cleaner, or the solvent component penetrates to the lower substrate interface, the adhesion between the recording layer and the substrate decreases, and the recording layer peels off. However, it is difficult to achieve both the printing durability depending on the film strength of the lower layer and the chemical resistance.
JP-A-10-250255 JP 11-218914 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-194843

上記従来の技術の欠点を考慮してなされた本発明の目的は、耐刷性及び耐薬品性に優れたポジ型平版印刷版原版を提供することにある。   An object of the present invention, which has been made in consideration of the above-mentioned drawbacks of the prior art, is to provide a positive type lithographic printing plate precursor excellent in printing durability and chemical resistance.

本発明者は鋭意研究を重ねた結果、平版印刷版原版の記録層成分として、特定の構造を有するアルカリ可溶性ビニルポリマーを用いることにより、上記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of extensive research, the present inventor has found that the above object can be achieved by using an alkali-soluble vinyl polymer having a specific structure as a recording layer component of a lithographic printing plate precursor, thereby completing the present invention. It came to.

即ち、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、(A)環構造を主鎖に有し、且つ、活性イミド基を有するアルカリ可溶性ビニルポリマー(以下、適宜「特定ビニルポリマー」と称する)と、(B)赤外線吸収剤と、を含有し、赤外線の照射により画像形成が可能な記録層を有することを特徴とする。
なお、上記(A)特定ビニルポリマーは、その主鎖環構造として、下記一般式(1)及び(2)の少なくとも一方を有することが好ましい。
That is, the lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises (A) an alkali-soluble vinyl polymer having a ring structure in the main chain and an active imide group (hereinafter referred to as “specific vinyl polymer” as appropriate). And (B) an infrared absorber, and has a recording layer capable of forming an image by irradiation with infrared rays.
In addition, it is preferable that the said (A) specific vinyl polymer has at least one of the following general formula (1) and (2) as the principal chain ring structure.

Figure 2005107112
Figure 2005107112

一般式(1)または(2)中、R1およびR2は各々独立に、水素原子又は1価の有機基を表す。 In general formula (1) or (2), R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.

また、本発明の平版印刷版原版の好ましい態様としては、支持体上に、(A)特定ビニルポリマーを含有する下層と、アルカリ可溶性樹脂を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうる上層と、からなる記録層を設け、該記録層の下層及び上層の少なくとも一方に(B)赤外線吸収剤を含有することを特徴とする。なお、上層に含まれるアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂を用いることが好ましい。   Further, as a preferred embodiment of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, on the support, (A) a lower layer containing a specific vinyl polymer, an upper layer containing an alkali-soluble resin and capable of forming an image by infrared irradiation, And (B) an infrared absorber is contained in at least one of the lower layer and the upper layer of the recording layer. In addition, it is preferable to use novolak resin as alkali-soluble resin contained in the upper layer.

本発明の作用は明確ではないが、以下のように推測される。
即ち、本発明の平版印刷版原版の記録層に用いられる(A)特定ビニルポリマーは、環構造を主鎖に有し、且つ、活性イミド基を有することを特徴とする。環構造を主鎖に有するポリマーは、その剛直な構造に起因して、形成された記録層の膜強度に優れるため耐刷性を向上するのに有効であると考えられる。
また、活性イミド基は、高極性であるため記録層の耐薬品性を向上することが可能である。さらに、活性イミド基は、アルカリ可溶性基であるため、赤外線照射領域(非画像部領域)においてはポリマー自体に優れたアルカリ溶解性を発現するが、他の一般的なアルカリ可溶性基と比較して高pKaであることや、酸基(解離性のプロトン)部分が側鎖末端の原子上ではなく、側鎖の中ほど(内部)の原子上にあることから、親油性が高く、インキの着肉性に優れ、上記アルカリ可溶性とのバランスを保つことができるものと考えられる。
Although the operation of the present invention is not clear, it is presumed as follows.
That is, the (A) specific vinyl polymer used for the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is characterized by having a ring structure in the main chain and an active imide group. A polymer having a ring structure in the main chain is considered to be effective in improving the printing durability because of the rigidity of the formed recording layer due to its rigid structure.
Further, since the active imide group has a high polarity, it is possible to improve the chemical resistance of the recording layer. Furthermore, since the active imide group is an alkali-soluble group, the polymer itself exhibits excellent alkali solubility in the infrared irradiation region (non-image area), but compared with other general alkali-soluble groups. Because of the high pKa, and because the acid group (dissociable proton) part is not on the atom at the end of the side chain but on the atom (inside) in the middle of the side chain, it has high lipophilicity and ink adhesion It is thought that it is excellent in meat property and can maintain a balance with the alkali solubility.

また、本発明の好ましい態様である、記録層が重層構造をとった場合には、画像部、即ち、記録層の上層が耐アルカリ現像層として存在する領域では、前記した高い膜強度と耐薬品性が有効に機能し、耐刷性と耐薬品性に優れる。また、非画像部においては上層が除去されると、本来のアルカリ可溶性により、下層がアルカリ現像液に速やかに溶解、分散するものと考えられる。   Further, when the recording layer has a multi-layer structure, which is a preferred embodiment of the present invention, in the image area, that is, in the region where the upper layer of the recording layer exists as an alkali-resistant development layer, the above-described high film strength and chemical resistance are obtained. Works effectively and has excellent printing durability and chemical resistance. In addition, when the upper layer is removed in the non-image area, it is considered that the lower layer quickly dissolves and disperses in the alkali developer due to the original alkali solubility.

本発明によれば、耐刷性及び耐薬品性に優れたポジ型平版印刷版原版を提供することができる。   According to the present invention, a positive lithographic printing plate precursor excellent in printing durability and chemical resistance can be provided.

本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、(A)特定ビニルポリマーと、(B)赤外線吸収剤と、を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうる記録層を有することを特徴とする。なお、記録層のインヒビション(溶解抑制能)を高める目的で、さらに(C)現像抑制剤を含有させることが好ましい。特に、(B)赤外線吸収剤として溶解抑制能を有しないものを使用する場合には、この現像抑制剤は画像部の耐アルカリ性を維持するための重要成分となりうる。
このような記録層としては、その層構成に特に制限はなく、単層構造であっても、構成成分の異なる複数の層からなる重層構造であってもよい。記録層が重層構造の場合には、上記(A)成分、(B)成分はいずれの層に含まれていてもよく、また、同一の層に含まれていても、別々の層に含まれていてもよい。
まず、単層型記録層を有する本発明の平版印刷版原版の各構成について、順次、詳細に説明する。
The lithographic printing plate precursor according to the invention comprises (A) a specific vinyl polymer and (B) an infrared absorber on a support, and has a recording layer capable of forming an image by infrared irradiation. And For the purpose of increasing the inhibition (dissolution suppression ability) of the recording layer, it is preferable to further contain (C) a development inhibitor. Particularly when (B) an infrared absorber having no dissolution inhibiting ability is used, the development inhibitor can be an important component for maintaining the alkali resistance of the image area.
Such a recording layer is not particularly limited in its layer structure, and may be a single layer structure or a multilayer structure composed of a plurality of layers having different constituent components. When the recording layer has a multi-layer structure, the component (A) and the component (B) may be contained in any layer, and even if they are contained in the same layer, they are contained in separate layers. It may be.
First, each configuration of the lithographic printing plate precursor according to the invention having a single-layer recording layer will be described in detail sequentially.

[単層型記録層]
〔(A)特定ビニルポリマー〕
本発明に係る特定ビニルポリマーは、環構造を主鎖に有し、且つ、活性イミド基を有することを特徴とする。
ここで、環構造を主鎖に有するとは、主鎖を構成する原子が環構造の一部となっていることを指し、そのような環構造としては、該環構造を有することでポリマーの剛直性が向上し、形成される皮膜(記録層)の強度が増大するものであれば制限することなく用いることができる。
[Single layer recording layer]
[(A) Specific vinyl polymer]
The specific vinyl polymer according to the present invention is characterized by having a ring structure in the main chain and an active imide group.
Here, having a ring structure in the main chain means that atoms constituting the main chain are part of the ring structure, and as such a ring structure, the polymer has a ring structure. Any material can be used without limitation as long as the rigidity is improved and the strength of the formed film (recording layer) is increased.

中でも、上記環構造の環の員数は4〜6であることが好ましく、員数が5〜6であることが特に好ましい。また、重合性の二重結合の付加重合により形成されるビニルポリマーの特性から環構造は脂環構造であることが好ましく、環員数が5〜6の脂環構造であることがより好ましい。さらに、該脂環構造は、剛直性の向上および極性の増加による皮膜の強度向上が期待できることから、該脂環構造を構成する原子としてヘテロ原子を有していることが好ましく、好ましいヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が挙げられ、酸素原子または窒素原子を有することより好ましい。特に好ましい該脂環構造としては、下記一般式(1)または一般式(2)で示される構造単位が挙げられる。本発明に係る特定ビニルポリマーは、このような構造単位を含むポリマーであることが好ましい。   Especially, it is preferable that the number of rings of the said ring structure is 4-6, and it is especially preferable that the number of members is 5-6. Moreover, it is preferable that a ring structure is an alicyclic structure from the characteristic of the vinyl polymer formed by addition polymerization of a polymerizable double bond, and it is more preferable that it is an alicyclic structure with 5-6 ring members. Further, since the alicyclic structure can be expected to improve rigidity and increase the strength of the film by increasing polarity, it is preferable that the alicyclic structure has a heteroatom as an atom constituting the alicyclic structure. Includes an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, and more preferably has an oxygen atom or a nitrogen atom. Particularly preferred examples of the alicyclic structure include structural units represented by the following general formula (1) or general formula (2). The specific vinyl polymer according to the present invention is preferably a polymer containing such a structural unit.

Figure 2005107112
Figure 2005107112

一般式(1)または(2)中、R1およびR2は各々独立に、水素原子又は1価の有機基を表し、好ましい有機基としては、アルキル基、アリール基が挙げられ、アルキル基またはアリール基である場合は任意の置換基により置換されていても良い。また、R1、R2には、特定ビニルポリマーのもう一つの特徴的構成である、後述の活性イミド基が導入されていてもよい。その場合、R1、R2そのものが活性イミド基であってもよいし、上記アルキル基、アリール基の置換基として活性イミド基を有するものであってもよい。 In general formula (1) or (2), R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and preferred organic groups include an alkyl group and an aryl group. In the case of an aryl group, it may be substituted with any substituent. Further, R 1 and R 2 may be introduced with an active imide group described below, which is another characteristic configuration of the specific vinyl polymer. In that case, R 1 and R 2 themselves may be an active imide group, or may have an active imide group as a substituent of the alkyl group or aryl group.

1及びR2に導入されるアルキル基としては、例えば、炭素数1〜8程度の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が挙げられ、好ましいアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられ、中でも、エチル基、n−プロピル基が特に好ましい。 Examples of the alkyl group introduced into R 1 and R 2 include a linear or branched alkyl group having about 1 to 8 carbon atoms. Preferred alkyl groups include a methyl group, an ethyl group, and isopropyl. Group, n-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, tert-butyl group, hexyl group, 2-ethylhexyl group and the like. Among them, ethyl group and n-propyl group are particularly preferable.

1及びR2に導入されるアリール基としては、例えば、炭素数6〜10程度の単環または縮環のアリール基等が挙げられ、中でも、フェニル基が特に好ましい。 As an aryl group introduce | transduced into R < 1 > and R < 2 >, a C6-C10 monocyclic or condensed aryl group etc. are mentioned, for example, Among these, a phenyl group is especially preferable.

また、上記アルキル基またはアリール基に導入可能な置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、アミノスルホニル基を有する1価の置換機、活性イミド基を有する1価の有機基等が挙げられ、中でも、水酸基、アミノスルホニル基を有する1価の置換機、活性イミド基を有する1価の有機基が特に好ましい。   Examples of the substituent that can be introduced into the alkyl group or aryl group include a monovalent substituent having an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, and an aminosulfonyl group, Examples thereof include monovalent organic groups having an active imide group, and among these, monovalent substituents having a hydroxyl group and an aminosulfonyl group, and monovalent organic groups having an active imide group are particularly preferable.

特定ビニルポリマーに環構造を導入する方法については特に制限はないが、例えば、マレイミド誘導体等のような重合性二重結合が環構造の一部となっている重合性化合物を付加重合することにより導入する方法や、ポリビニルブチラールに代表されるアセタール骨格で変性されたポリビニルアルコール樹脂のように、主鎖に環構造を有していないビニルポリマーに高分子反応により環構造を導入する方法等が挙げられる。本発明に係る特定ビニルポリマーとしては、それらいずれの方法を用いて環構造を導入したポリマーであっても好適に用いることができる。
本発明に係る特定ビニルポリマーは、上記環構造の少なくとも1種を有している必要があり、また、該環構造を2種以上有していても良い。
特定ビニルポリマー中の、上記環構造を有する構造単位の共重合比としては、10〜80モル%であることが好ましく、15〜60モル%であることがより好ましく、20〜50モル%であることが特に好ましい。
The method for introducing a ring structure into the specific vinyl polymer is not particularly limited. For example, by addition polymerization of a polymerizable compound in which a polymerizable double bond is part of the ring structure, such as a maleimide derivative. And a method of introducing a ring structure by a polymer reaction into a vinyl polymer that does not have a ring structure in the main chain, such as a polyvinyl alcohol resin modified with an acetal skeleton typified by polyvinyl butyral. It is done. As the specific vinyl polymer according to the present invention, a polymer having a ring structure introduced by any of these methods can be suitably used.
The specific vinyl polymer according to the present invention needs to have at least one of the above ring structures, and may have two or more of the ring structures.
The copolymerization ratio of the structural unit having the ring structure in the specific vinyl polymer is preferably 10 to 80 mol%, more preferably 15 to 60 mol%, and more preferably 20 to 50 mol%. It is particularly preferred.

本発明の平版印刷版原版に用いられる記録層は、赤外線の照射によりアルカリ現像液への溶解性に変化が生じることで画像を形成するため、記録層の主成分の1つである特定ビニルポリマーはアルカリ現像液に溶解可能なことが必要となる。アルカリ可溶性を発現するために、本発明に係る特定ビニルポリマーは、活性イミド基をアルカリ可溶性基として有することを特徴とする。なお、該活性イミド基は、置換スルホンアミド系酸基とも言い、具体的には、−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R等が挙げられる。 The recording layer used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a specific vinyl polymer that is one of the main components of the recording layer because an image is formed by a change in solubility in an alkaline developer caused by infrared irradiation. Must be soluble in an alkaline developer. In order to express alkali solubility, the specific vinyl polymer according to the present invention has an active imide group as an alkali-soluble group. Incidentally, active imide group, also called substituted sulfonamide-based acid group, specifically, -SO 2 NHCOR, -SO 2 NHSO 2 R, -CONHSO 2 R , and the like.

上記式中、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、そのような炭化水素基としては、炭素数1〜8程度の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、炭素数6〜10程度の単環または縮環のアリール基等が挙げられ、中でも、炭素数3〜8程度の分岐鎖状のアルキル基、フェニル基が特に好ましい。
また、炭化水素基に導入可能な置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられ、好ましい置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
本発明に係る特定ビニルポリマーは、上記活性イミド基の1種あるいは2種以上を有していてもよい。
In the above formula, R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. Examples of such a hydrocarbon group include a linear or branched alkyl group having about 1 to 8 carbon atoms, carbon Examples thereof include a monocyclic or condensed ring aryl group having about 6 to 10 carbon atoms, and among them, a branched alkyl group having about 3 to 8 carbon atoms and a phenyl group are particularly preferable.
Examples of the substituent that can be introduced into the hydrocarbon group include an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, and a nitro group. Preferred examples of the substituent include an alkyl group and a halogen atom. .
The specific vinyl polymer according to the present invention may have one or more of the above active imide groups.

これらの式で表される活性イミド基は、一般的なアルカリ可溶性樹脂のアルカリ可溶性基として用いられるカルボキシ基等に比較して高pKaであることから、特定ビニルポリマーの特徴である高い耐刷性および耐薬品性を維持し、アルカリ可溶性を付与しながら、平版印刷版として重要な画像部の親油性も損なうことがないものと考えられる。また、酸基(解離性のプロトン)部分が側鎖末端の原子上ではなく、側鎖の中ほど(内部)の原子上にあることから、さらなる親油性の向上が達成されるものと考えられる。   Since the active imide group represented by these formulas has a high pKa compared to a carboxy group used as an alkali-soluble group of a general alkali-soluble resin, it has a high printing durability, which is a characteristic of a specific vinyl polymer. In addition, it is considered that the oleophilicity of the image portion important as a lithographic printing plate is not impaired while maintaining chemical resistance and imparting alkali solubility. Further, since the acid group (dissociative proton) part is not on the atom at the end of the side chain but on the atom in the middle (inside) of the side chain, it is considered that further improvement in lipophilicity is achieved. .

このような活性イミド基をポリマー内に導入する方法としては、活性イミド基を有する重合性モノマーを共重合する方法、或いは、該活性イミド基を高分子反応によりビニルポリマー中に後から導入する方法などが挙げられ、導入の方法に特に制限はない。特定ビニルポリマーにおいては、前記環構造および活性イミド基の各々が同一の構造単位内に存在していてもよいし、また、各々が異なる構造単位内に存在し、それらが共重合することで同一のビニルポリマーを形成していてもよい。
また、特定ビニルポリマーは、記録層の耐刷性、耐薬性および親油性を損なわない範囲において前記活性イミド基以外の酸基をアルカリ可溶性基として有していてもよく、そのような酸基としてはフェノール性水酸基、スルホンアミド基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられ、中でも、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、カルボキシ基がより好ましく、フェノール性水酸基、スルホンアミド基が特に好ましい。
As a method of introducing such an active imide group into a polymer, a method of copolymerizing a polymerizable monomer having an active imide group, or a method of introducing the active imide group into a vinyl polymer later by a polymer reaction There are no particular restrictions on the method of introduction. In the specific vinyl polymer, each of the ring structure and the active imide group may be present in the same structural unit, or each is present in a different structural unit and is the same by copolymerization. The vinyl polymer may be formed.
In addition, the specific vinyl polymer may have an acid group other than the active imide group as an alkali-soluble group as long as it does not impair the printing durability, chemical resistance, and lipophilicity of the recording layer. Includes a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, etc. Among them, a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, and a carboxy group are more preferable, and a phenolic hydroxyl group and a sulfonamide group are particularly preferable. .

特定ビニルポリマーに含まれる、活性イミド基及びそれ以外の酸基を含む全アルカリ可溶性基の含有量としては、1.0〜10meq/gが好ましく、1.5〜9.0meq/gがより好ましく、2.0〜8.0meq/gが特に好ましい。
また、全アルカリ可溶性基における、活性イミド基の含有率としては、30%以上であることが好ましく、50%以上であることがより好ましく、75%以上であることが特に好ましい。
The content of all alkali-soluble groups including active imide groups and other acid groups contained in the specific vinyl polymer is preferably 1.0 to 10 meq / g, more preferably 1.5 to 9.0 meq / g. 2.0 to 8.0 meq / g is particularly preferable.
Further, the content of active imide groups in all alkali-soluble groups is preferably 30% or more, more preferably 50% or more, and particularly preferably 75% or more.

さらに、本発明に係る特定ビニルポリマーには、前記環構造を有する構造単位、及び、前記アルカリ可溶性基(活性イミド基、又は、その他の酸基)を有する構造単位以外の構造単位を含んでいてもよい。そのような構造単位は、ビニルポリマー形成時に、以下に挙げるような重合性モノマー(m1)〜(m12)を共重合することで導入することができる。このような重合性モノマーの共重合比は、特定ビニルポリマー中、70モル%以下であることが好ましく、60モル%以下であることがより好ましく、50モル%以下であることが特に好ましい。   Furthermore, the specific vinyl polymer according to the present invention includes a structural unit other than the structural unit having the ring structure and the structural unit having the alkali-soluble group (active imide group or other acid group). Also good. Such a structural unit can be introduced by copolymerizing the polymerizable monomers (m1) to (m12) described below at the time of vinyl polymer formation. The copolymerization ratio of such a polymerizable monomer is preferably 70 mol% or less, more preferably 60 mol% or less, and particularly preferably 50 mol% or less in the specific vinyl polymer.

(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.

(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

以下に、特定ビニルポリマーとして、本発明に好適に用いられるものを例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of the specific vinyl polymer that can be suitably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005107112
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本発明に係る特定ビニルポリマーは、種々の公知の有機合成方法により得ることができるが、代表的な合成方法としては、主鎖に環構造を有するビニルポリマーに高分子反応により活性イミド基を有する有機基を導入する方法、および、環構造を有する重合性単量体と活性イミド基を有する重合性単量体とを共重合する方法が挙げられる。
主鎖に環構造を有するビニルポリマーに高分子反応により活性イミド基を有する有機基を導入する方法で用いられる好ましいビニルポリマーとしては、N−フェニルマレイミド誘導体に代表されるマレイミド類を単量体として用いたビニルポリマー、ポリビニルアルコール類より誘導されるポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール等が挙げられる。これらの主鎖に環構造を有するビニルポリマーには、ポリマー内に存在する水酸基やアミノ基等の官能基が、活性イミド構造を有する有機基と反応することにより、該ポリマー内に活性イミド基が導入される。また、活性イミド基は有機基を導入する反応により形成されるものであってもよい。
一方、環構造を有する重合性単量体と活性イミド基を有する重合性単量体とを共重合する場合は、重合により主鎖に環構造を形成しうる重合性単量体と、活性イミド基を有する重合性単量体と、を種々の重合手段により重合することで特定ビニルポリマーを得ることができる。また、単一の重合性単量体に環構造および活性イミド基の両方を有しているものを用いてもよい。重合して主鎖に環構造を形成しうる重合性単量体の好ましい例としては、N−フェニルマレイミド誘導体に代表されるマレイミド類が挙げられる。
以下に、代表的な合成方法として例示化合物(P−1)の合成方法を示すが、本発明の特定ビニルポリマーの合成方法はこれに限定されるものではない。
The specific vinyl polymer according to the present invention can be obtained by various known organic synthesis methods. As a typical synthesis method, a vinyl polymer having a ring structure in the main chain has an active imide group by polymer reaction. Examples thereof include a method of introducing an organic group, and a method of copolymerizing a polymerizable monomer having a ring structure and a polymerizable monomer having an active imide group.
As a preferred vinyl polymer used in the method of introducing an organic group having an active imide group into a vinyl polymer having a ring structure in the main chain by polymer reaction, maleimides represented by N-phenylmaleimide derivatives are used as monomers. Examples thereof include vinyl polymers used, polyvinyl butyral derived from polyvinyl alcohols, and polyvinyl formal. In these vinyl polymers having a ring structure in the main chain, a functional group such as a hydroxyl group or an amino group present in the polymer reacts with an organic group having an active imide structure, so that an active imide group is present in the polymer. be introduced. The active imide group may be formed by a reaction for introducing an organic group.
On the other hand, when copolymerizing a polymerizable monomer having a ring structure and a polymerizable monomer having an active imide group, a polymerizable monomer capable of forming a ring structure in the main chain by polymerization, and an active imide A specific vinyl polymer can be obtained by polymerizing a polymerizable monomer having a group with various polymerization means. Moreover, you may use what has both the ring structure and the active imide group in the single polymerizable monomer. Preferable examples of the polymerizable monomer that can be polymerized to form a ring structure in the main chain include maleimides represented by N-phenylmaleimide derivatives.
Although the synthesis method of exemplary compound (P-1) is shown below as a typical synthesis method, the synthesis method of the specific vinyl polymer of this invention is not limited to this.

<特定ビニルポリマー(P−1)の合成>
撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた500ml三口フラスコにp−トルエンスルホニルイソシアナート19.7gとジクロロメタン100mlを入れ、撹拌した。この混合物にN−(4−ヒドロキシフェニル)マレイミド18.9gのジクロロメタン溶液200mlを約30分間かけて滴下ロートより滴下した。滴下終了後、加熱、還流を5時間おこなった。反応後、反応溶媒を減圧留去し、残渣をヘキサンで洗った後、ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒により再結晶することで下記構造のモノマー(M−1)を36.4g得た。
<Synthesis of specific vinyl polymer (P-1)>
In a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, and a dropping funnel, 19.7 g of p-toluenesulfonyl isocyanate and 100 ml of dichloromethane were added and stirred. To this mixture, 200 ml of a dichloromethane solution of 18.9 g of N- (4-hydroxyphenyl) maleimide was dropped from a dropping funnel over about 30 minutes. After completion of the dropwise addition, heating and refluxing were performed for 5 hours. After the reaction, the reaction solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was washed with hexane, and then recrystallized with a hexane / ethyl acetate mixed solvent to obtain 36.4 g of a monomer (M-1) having the following structure.

Figure 2005107112
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次に、撹拌機、冷却管を備えた500ml三口フラスコに、ジメチルスルホキシド136gを入れ、窒素気流下、湯水浴により80℃に加熱しながら撹拌した。ここに、前記モノマー(M−1)17.4g、メタクリルアミド1.3g、メタクリル酸メチル4.0g、ジメチルスルホキシド136g及びV−601(和光純薬工業(株)製)0.25gの混合物を2時間30分かけて滴下した。滴下終了後、さらに80℃で4時間撹拌した。反応終了後、メタノール140gを加え、冷却し、水3000mlに撹拌下投入し、60分間撹拌した後、ろ過、水洗、乾燥することにより特定ビニルポリマー(P−1)を得た(収量21.8g)。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定したところ、53,000であった。   Next, 136 g of dimethyl sulfoxide was placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer and a condenser, and stirred while heating to 80 ° C. in a hot water bath under a nitrogen stream. Here, a mixture of 17.4 g of the monomer (M-1), 1.3 g of methacrylamide, 4.0 g of methyl methacrylate, 136 g of dimethyl sulfoxide and 0.25 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) The solution was added dropwise over 2 hours and 30 minutes. After completion of dropping, the mixture was further stirred at 80 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction, 140 g of methanol was added, cooled, poured into 3000 ml of water with stirring, stirred for 60 minutes, filtered, washed with water, and dried to obtain a specific vinyl polymer (P-1) (yield 21.8 g). ). When the weight average molecular weight (polystyrene standard) was measured by gel permeation chromatography, it was 53,000.

本発明に係る特定ビニルポリマーの重量平均分子量は、形成する樹脂層の強度およびアルカリ溶解性の観点から、1,000〜200,000程度であることが好ましく、2,000〜150,000程度であることがより好ましく、5,000〜120,000程度であることが特に好ましい。
また、特定ビニルポリマーは、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
The weight average molecular weight of the specific vinyl polymer according to the present invention is preferably about 1,000 to 200,000, preferably about 2,000 to 150,000, from the viewpoint of the strength and alkali solubility of the resin layer to be formed. More preferably, it is particularly preferably about 5,000 to 120,000.
The specific vinyl polymer may be used alone or in combination of two or more.

本発明の平版印刷版原版の単層型記録層における、特定ビニルポリマーの含有量は、記録層全固形分中、50〜96質量%であることが好ましく、60〜93質量%であることがより好ましく、65〜91質量%であることが特に好ましい。この範囲内において、記録層の耐刷性、耐薬品性および画像形成性に優れる。
また、本発明に係る単層型記録層は、特定ビニルポリマー以外のアルカリ可溶性樹脂を併用してもよい。併用可能なアルカリ可溶性樹脂としては、後述する重層型記録層(上層)に用いられる、一般的なアルカリ可溶性樹脂が挙げられ、中でも、ノボラック樹脂が好ましい。一般的なアルカリ可溶性樹脂を混合する比率としては、全アルカリ可溶性樹脂の40質量%以下が好ましく、更に好ましくは35質量%以下であり、特に好ましくは30質量%以下である。
The content of the specific vinyl polymer in the single-layer recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably 50 to 96% by mass and preferably 60 to 93% by mass in the total solid content of the recording layer. More preferred is 65 to 91% by mass. Within this range, the recording layer is excellent in printing durability, chemical resistance and image formability.
The single-layer recording layer according to the present invention may use an alkali-soluble resin other than the specific vinyl polymer. Examples of the alkali-soluble resin that can be used in combination include general alkali-soluble resins that are used in a multi-layer recording layer (upper layer) described later, and among these, novolak resins are preferable. As a ratio which mixes a general alkali-soluble resin, 40 mass% or less of all the alkali-soluble resins is preferable, More preferably, it is 35 mass% or less, Most preferably, it is 30 mass% or less.

〔(B)赤外線吸収剤〕
本発明に係る単層型記録層には、(B)赤外線吸収剤を添加する必要がある。本発明に用いられる赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収剤として知られる種々の染料を用いることができる。中でも、前記特定ビニルポリマーやノボラック樹脂などのバインダー樹脂と相互作用を形成し、バインダー樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させる機能を有する赤外線吸収剤を用いることが好ましく、例えば、シアニン色素が優れた溶解抑制能を有するものとして挙げられる。
[(B) Infrared absorber]
It is necessary to add (B) an infrared absorber to the single-layer recording layer according to the present invention. The infrared absorbent used in the present invention is not particularly limited as long as it is a dye that absorbs infrared light and generates heat, and various dyes known as infrared absorbents can be used. Among them, it is preferable to use an infrared absorbent that has a function of forming an interaction with a binder resin such as the specific vinyl polymer or novolak resin and substantially reducing the solubility of the binder resin in a developer. May be mentioned as having excellent dissolution inhibiting ability.

本発明に係る赤外線吸収剤としては、市販の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明において、これらの染料のうち赤外光、若しくは近赤外光を吸収するものが、赤外光若しくは近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。   As the infrared absorber according to the present invention, commercially available dyes and known ones described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

そのような赤外光、若しくは近赤外光を吸収する染料としては例えば特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of dyes that absorb such infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc., JP-A-58-112793, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Examples thereof include squarylium dyes described in 58-112792 and cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、染料として米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のEpolight III−178、Epolight III−130、Epolight III−125等が、特に好ましく用いられる。
また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
Further, near-infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used as dyes, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium described in US Pat. No. 3,881,924. Salts, trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59 -84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyrylium compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes, U.S. Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salt described in No. 5 and the pyrylium compound disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 Commercially available products, Eporin Co. Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 and the like are particularly preferably used.
Another particularly preferable example of the dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

また、これらの赤外線吸収剤は記録層と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。別の層とする場合、記録層に隣接する層へ添加するのが望ましい。
更に、赤外線吸収剤が溶解抑制能を有する化合物である場合には、前記特定ビニルポリマーと同一の層に添加することで、該赤外線吸収剤が光熱変換機能のみならず、現像抑制剤としても機能するため好ましい。
These infrared absorbers may be added to the same layer as the recording layer, or another layer may be provided and added thereto. In the case of a separate layer, it is desirable to add it to a layer adjacent to the recording layer.
Furthermore, when the infrared absorber is a compound having dissolution inhibiting ability, the infrared absorber functions not only as a photothermal conversion function but also as a development inhibitor when added to the same layer as the specific vinyl polymer. Therefore, it is preferable.

赤外線吸収剤の添加量としては、感度や記録層の耐久性(膜性)等の観点から、単層型記録層全固形分中、約0.01〜50質量%添加することが好ましく、約0.1〜10質量%添加することが更に好ましい。   The addition amount of the infrared absorber is preferably about 0.01 to 50% by mass in the total solid content of the single-layer recording layer from the viewpoint of sensitivity and recording layer durability (film properties). It is more preferable to add 0.1 to 10% by mass.

〔(C)現像抑制剤〕
本発明に係る記録層には、そのインヒビション(溶解抑制能)を高める目的で、(C)現像抑制剤を含有させることが好ましい。特に、前記赤外線吸収剤として溶解抑制能を有しないものを使用する場合には、この現像抑制剤は画像部の耐アルカリ性を維持するための重要成分となりうる。
本発明に用いられる現像抑制剤としては、前記特定ビニルポリマー又はその他のアルカリ可溶性樹脂と相互作用を形成し、未露光部において該アルカリ可溶性樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させ、且つ、露光部においては該相互作用が弱まり、現像液に対して可溶となり得るものであれば特に限定はされないが、特に4級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール系化合物等が好ましく用いられる。また後述する画像着色剤のなかにも現像抑制剤として機能する化合物があり、それらもまた好ましく挙げられる。
[(C) Development inhibitor]
The recording layer according to the present invention preferably contains (C) a development inhibitor for the purpose of enhancing its inhibition (dissolution inhibiting ability). In particular, when an infrared absorber that does not have dissolution inhibiting ability is used, this development inhibitor can be an important component for maintaining the alkali resistance of the image area.
The development inhibitor used in the present invention forms an interaction with the specific vinyl polymer or other alkali-soluble resin, substantially lowers the solubility of the alkali-soluble resin in the developer in the unexposed area, and The exposed portion is not particularly limited as long as the interaction is weakened and can be soluble in the developer, but quaternary ammonium salts, polyethylene glycol compounds and the like are particularly preferably used. Among the image colorants described below, there are compounds that function as a development inhibitor, and these are also preferred.

4級アンモニウム塩としては、特に限定されないが、テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルアリールアンモニウム塩、ジアルキルジアリールアンモニウム塩、アルキルトリアリールアンモニウム塩、テトラアリールアンモニウム塩、環状アンモニウム塩、二環状アンモニウム塩が挙げられる。
具体的には、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラペンチルアンモニウムブロミド、テトラヘキシルアンモニウムブロミド、テトラオクチルアンモニウムブロミド、テトララウリルアンモニウムブロミド、テトラフェニルアンモニウムブロミド、テトラナフチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラステアリルアンモニウムブロミド、ラウリルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド、ベヘニルトリメチルアンモニウムブロミド、ラウリルトリエチルアンモニウムブロミド、フェニルトリメチルアンモニウムブロミド、3−トリフルオロメチルフェニルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ジベンジルジメチルアンモニウムブロミド、ジステアリルジメチルアンモニウムブロミド、トリステアリルメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ヒドロキシフェニルトリメチルアンモニウムブロミド、N−メチルピリジニウムブロミド等が挙げられる。特に特願2001−226297号、特願2001−370059、特願2001−398047明細書記載の4級アンモニウム塩が好ましい。
Although it does not specifically limit as a quaternary ammonium salt, A tetraalkyl ammonium salt, a trialkyl aryl ammonium salt, a dialkyl diaryl ammonium salt, an alkyl triaryl ammonium salt, a tetraaryl ammonium salt, a cyclic ammonium salt, and a bicyclic ammonium salt are mentioned. .
Specifically, tetrabutylammonium bromide, tetrapentylammonium bromide, tetrahexylammonium bromide, tetraoctylammonium bromide, tetralaurylammonium bromide, tetraphenylammonium bromide, tetranaphthylammonium bromide, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium iodide , Tetrastearyl ammonium bromide, lauryl trimethyl ammonium bromide, stearyl trimethyl ammonium bromide, behenyl trimethyl ammonium bromide, lauryl triethyl ammonium bromide, phenyl trimethyl ammonium bromide, 3-trifluoromethylphenyl trimethyl ammonium bromide, benzyl trimethyl ammonium bromide De, dibenzyl dimethyl ammonium bromide, distearyl dimethyl ammonium bromide, tristearyl methyl ammonium bromide, benzyl triethyl ammonium bromide, hydroxyphenyl trimethyl ammonium bromide, N- methyl pyridinium bromide, and the like. In particular, quaternary ammonium salts described in Japanese Patent Application Nos. 2001-226297, 2001-370059, and 2001-398047 are preferable.

4級アンモニウム塩の添加量は、現像抑制効果や前記アルカリ可溶性樹脂の製膜性等の観点から、単層型記録層全固形分に対して0.1〜25質量%であることが好ましく、0.5〜15質量%であることがより好ましい。   The addition amount of the quaternary ammonium salt is preferably 0.1 to 25% by mass with respect to the total solid content of the single-layer recording layer, from the viewpoint of the development inhibiting effect and the film forming property of the alkali-soluble resin. More preferably, it is 0.5-15 mass%.

また、ポリエチレングリコール化合物としては、特に限定されないが、下記一般式(I)で表される構造のものが挙げられる。
1−{−O−(R3−O−)m−R2n ・・・一般式(I)
上記一般式(I)中、R1は多価アルコール残基又は多価フェノール残基を表し、R2は水素原子、置換基を有していても良い炭素原子数1〜25のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキロイル基、アリール基又はアリーロイル基を表す。R3は置換基を有しても良いアルキレン残基を表し、mは平均で10以上、nは1以上4以下の整数を表す。
Moreover, it does not specifically limit as a polyethyleneglycol compound, The thing of the structure represented with the following general formula (I) is mentioned.
R 1 - {- O- (R 3 -O-) m -R 2} n ··· general formula (I)
In the general formula (I), R 1 represents a polyhydric alcohol residue or a polyhydric phenol residue, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent, An alkenyl group, an alkynyl group, an alkylyl group, an aryl group or an aryloyl group is represented. R 3 represents an alkylene residue which may have a substituent, m represents an integer of 10 or more on average, and n represents an integer of 1 to 4.

上記一般式(I)で表されるポリエチレングリコール化合物の例としては、ポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコール類、ポリエチレングリコールアルキルエーテル類、ポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、ポリエチレングリコールアリールエーテル類、ポリプロピレングリコールアリールエーテル類、ポリエチレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリプロピレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレングリコールグリセリンエステル、ポリプロピレングリコールグリセリンエステル類、ポリエチレンソルビトールエステル類、ポリプロピレングリコールソルビトールエステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリプロピレングリコール脂肪酸エステル類、ポリエチレングリコール化エチレンジアミン類、ポリプロピレングリコール化エチレンジアミン類、ポリエチレングリコール化ジエチレントリアミン類、ポリプロピレングリコール化ジエチレントリアミン類が挙げられる。   Examples of the polyethylene glycol compound represented by the general formula (I) include polyethylene glycols, polypropylene glycols, polyethylene glycol alkyl ethers, polypropylene glycol alkyl ethers, polyethylene glycol aryl ethers, polypropylene glycol aryl ethers, Polyethylene glycol alkyl aryl ethers, polypropylene glycol alkyl aryl ethers, polyethylene glycol glycerol esters, polypropylene glycol glycerol esters, polyethylene sorbitol esters, polypropylene glycol sorbitol esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polypropylene glycol fatty acid esters, polyethylene glycol Lumpur ethylenediamines, polypropylene glycolated ethylenediamines, polyethylene glycolated diethylenetriamine, and polypropylene glycol diethylenetriamines.

更にこれらの具体例としては、ポリエチレングリコール1000、ポリエチレングリコール2000、ポリエチレングリコール4000、ポリエチレングリコール10000、ポリエチレングリコール20000、ポリエチレングリコール5000、ポリエチレングリコール100000、ポリエチレングリコール200000、ポリエチレングリコール500000、ポリプロピレングリコール1500、ポリプロピレングリコール3000、ポリプロピレングリコール4000、ポリエチレングリコールメチルエーテル、ポリエチレングリコールエチルエーテル、ポリエチレングリコールフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジエチルエーテル、ポリエチレングリコールジフェニルエーテル、ポリエチレングリコールラウリルエーテル、ポリエチレングリコールジラウリルエーテル、ポリエチレングリコールノニルエーテル、ポリエチレングリコールセチルエーテル、ポリエチレングリコールステアリルエーテル、ポリエチレングリコールジステアリルエーテル、ポリエチレングリコールベヘニルエーテル、ポリエチレングリコールジベヘニルエーテル、ポリプロピレングリコールメチルエーテル、ポリプロピレングリコールエチルエーテル、ポリプロピレングリコールフェニルエーテル、ポリプロピレングリコールジメチルエーテル、ポリプロピレングリコールジエチルエーテル、ポリプロピレングリコールジフェニルエーテル、ポリプロピレングリコールラウリルエーテル、ポリプロピレングリコールジラウリルエーテル、ポリプロピレングリコールノニルエーテル、ポリエチレングリコールアセチルエステル、ポリエチレングリコールジアセチルエステル、ポリエチレングリコール安息香酸エステル、ポリエチレングリコールラウリルエステル、ポリエチレングリコールジラウリルエステル、ポリエチレングリコールノニル酸エステル、ポリエチレングリコールセチル酸エステル、ポリエチレングリコールステアロイルエステル、ポリエチレングリコールジステアロイルエステル、ポリエチレングリコールベヘン酸エステル、ポリエチレングリコールジベヘン酸エステル、ポリプロピレングリコールアセチルエステル、ポリプロピレングリコールジアセチルエステル、ポリプロピレングリコール安息香酸エステル、ポリプロピレングリコールジ安息香酸エステル、ポリプロピレングリコールラウリル酸エステル、ポリプロピレングリコールジラウリル酸エステル、ポリプロピレングリコールノニル酸エステル、ポリエチレングリコールグリセリンエーテル、ポリプロピレングリコールグリセリンエーテル、ポリエチレングリコールソルビトールエーテル、ポリプロピレングリコールソルビトールエーテル、ポリエチレングリコール化エチレンジアミン、ポリプロピレングリコール化エチレンジアミン、ポリエチレングリコール化ジエチレントリアミン、ポリプロピレングリコール化ジエチレントリアミン、ポリエチレングリコール化ペンタメチレンヘキサミンが挙げられる。   Specific examples thereof include polyethylene glycol 1000, polyethylene glycol 2000, polyethylene glycol 4000, polyethylene glycol 10000, polyethylene glycol 20000, polyethylene glycol 5000, polyethylene glycol 100000, polyethylene glycol 200000, polyethylene glycol 500000, polypropylene glycol 1500, polypropylene glycol. 3000, polypropylene glycol 4000, polyethylene glycol methyl ether, polyethylene glycol ethyl ether, polyethylene glycol phenyl ether, polyethylene glycol dimethyl ether, polyethylene glycol diethyl ether, polyethylene glycol diphenyl ether Polyethylene glycol lauryl ether, polyethylene glycol dilauryl ether, polyethylene glycol nonyl ether, polyethylene glycol cetyl ether, polyethylene glycol stearyl ether, polyethylene glycol distearyl ether, polyethylene glycol behenyl ether, polyethylene glycol dibehenyl ether, polypropylene glycol methyl ether, Polypropylene glycol ethyl ether, polypropylene glycol phenyl ether, polypropylene glycol dimethyl ether, polypropylene glycol diethyl ether, polypropylene glycol diphenyl ether, polypropylene glycol lauryl ether, polypropylene glycol dilauryl ether Polypropylene glycol nonyl ether, polyethylene glycol acetyl ester, polyethylene glycol diacetyl ester, polyethylene glycol benzoate ester, polyethylene glycol lauryl ester, polyethylene glycol dilauryl ester, polyethylene glycol nonyl acid ester, polyethylene glycol cetylate ester, polyethylene glycol stearoyl ester, polyethylene Glycol distearoyl ester, polyethylene glycol behenate ester, polyethylene glycol dibehenate ester, polypropylene glycol acetyl ester, polypropylene glycol diacetyl ester, polypropylene glycol benzoate ester, polypropylene glycol dibenzoate ester , Polypropylene glycol laurate, polypropylene glycol dilaurate, polypropylene glycol nonyl ester, polyethylene glycol glycerol ether, polypropylene glycol glycerol ether, polyethylene glycol sorbitol ether, polypropylene glycol sorbitol ether, polyethylene glycolated ethylenediamine, polypropylene glycolated ethylenediamine, Examples thereof include polyethylene glycolized diethylenetriamine, polypropylene glycolated diethylenetriamine, and polyethylene glycolated pentamethylenehexamine.

ポリエチレングリコール系化合物の添加量は、現像抑制効果や画像形成性等の観点から、単層型記録層全固形分に対して1〜25質量%であることが好ましく、3〜15質量%であることがより好ましい。   The addition amount of the polyethylene glycol-based compound is preferably 1 to 25% by mass, and 3 to 15% by mass with respect to the total solid content of the single-layer recording layer, from the viewpoint of the development inhibiting effect and image forming property. It is more preferable.

また、このようなインヒビション(溶解抑制能)を高めるための施策を行った場合、感度の低下が生じるが、この場合、記録層中にラクトン化合物を添加することが感度低下の抑制に有効である。このラクトン化合物は、露光部、即ち、インヒビションが解除された領域の記録層中に現像液が浸透する際、現像液とラクトン化合物が反応し、新たにカルボン酸化合物が発生して、露光部領域の記録層の溶解を促進させることにより感度が向上するものと考えられる。なお、未露光部では、このラクトン化合物はアルカリ可溶性樹脂中の極性基、例えば、ノボラック樹脂中の水酸基と相互作用を形成しており、また、環を有する嵩高な構造とあいまって膜中に安定に存在するため、未露光部表面においてはアルカリ現像液が接触しても、現像処理中におけるラクトン環の急激な開環反応が抑制されているため、当該領域の耐現像性が低下することはない。この相互作用は露光或いは加熱により、前記現像抑制剤による抑制作用よりも更に容易に解除されるため、露光部におけるラクトン化合物の開環反応は速やかに行われる。
このようなラクトン化合物としては、特に限定されないが、下記一般式(L−I)及び一般式(L−II)で表される化合物が挙げられる。
In addition, when measures are taken to increase such inhibition (dissolution suppression ability), the sensitivity decreases. In this case, it is effective to add a lactone compound to the recording layer to suppress the sensitivity decrease. It is. The lactone compound reacts with the lactone compound when the developer penetrates into the exposed area, that is, the recording layer in the area where the inhibition is released. It is considered that the sensitivity is improved by promoting the dissolution of the recording layer in the partial area. In the unexposed area, this lactone compound forms an interaction with a polar group in the alkali-soluble resin, for example, a hydroxyl group in the novolak resin, and is stable in the film together with a bulky structure having a ring. Therefore, even when an alkaline developer is contacted with the surface of the unexposed area, the rapid opening of the lactone ring during the development process is suppressed, so that the development resistance of the region is reduced. Absent. Since this interaction is more easily released by exposure or heating than the suppression effect by the development inhibitor, the ring-opening reaction of the lactone compound in the exposed area is performed quickly.
Such a lactone compound is not particularly limited, and examples thereof include compounds represented by the following general formula (LI) and general formula (L-II).

Figure 2005107112
Figure 2005107112

一般式(L−I)及び一般式(L−II)において、X1、X2、X3及びX4は、環を構成する2価の非金属原子又は非金属原子団であって、それぞれ同じでも異なっていてもよい。また、これらはそれぞれ独立に置換基を有していてもよい。更に、一般式(L−I)におけるX1、X2及びX3の少なくとも一つ、及び、一般式(L−II)におけるX1、X2、X3及びX4の少なくとも一つは、電子吸引性置換基又は電子吸引性基で置換された置換基であることが好ましい。 In general formula (LI) and general formula (L-II), X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are divalent nonmetallic atoms or nonmetallic atomic groups constituting the ring, It can be the same or different. Moreover, these may each independently have a substituent. Furthermore, at least one of X 1 , X 2 and X 3 in the general formula (LI) and at least one of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 in the general formula (L-II) is: The substituent is preferably an electron-withdrawing substituent or a substituent substituted with an electron-withdrawing group.

好ましい非金属原子又は非金属原子団は、メチレン基、スルフィニル基、カルボニル基、チオカルボニル基、スルホニル基、硫黄原子、酸素原子及びセレニウム原子から選ばれる原子又は原子団であって、より好ましくは、メチレン基、カルボニル基及びスルホニル基から選ばれる原子団である。   A preferred nonmetallic atom or nonmetallic atomic group is an atom or atomic group selected from a methylene group, a sulfinyl group, a carbonyl group, a thiocarbonyl group, a sulfonyl group, a sulfur atom, an oxygen atom, and a selenium atom, and more preferably, It is an atomic group selected from a methylene group, a carbonyl group and a sulfonyl group.

また、本明細書において電子吸引性置換基とは、ハメットの置換基定数σpが正の価を取る基を指す。ハメットの置換基定数に関しては、Journal of Medicinal Chemistry,1973,Vol.16,No.11,1207−1216等を参考にすることができる。ハメットの置換基定数σpが正の価を取る電子吸引性基としては、例えばハロゲン原子[フッ素原子(σp値:0.06)、塩素原子(σp値:0.23)、臭素原子(σp値:0.23)、ヨウ素原子(σp値:0.18)]、トリハロアルキル基[トリブロモメチル(σp値:0.29)、トリクロロメチル(σp値:0.33)、トリフルオロメチル(σp値:0.54)]、シアノ基(σp値:0.66)、ニトロ基(σp値:0.78)、脂肪族・アリール若しくは複素環スルホニル基[例えば、メタンスルホニル(σp値:0.72)]、脂肪族・アリール若しくは複素環アシル基[例えば、アセチル(σp値:0.50)、ベンゾイル(σp値:0.43)]、アルキニル基[例えば、C≡CH(σp値:0.23)]、脂肪族・アリール若しくは複素環オキシカルボニル基[例えば、メトキシカルボニル(σp値:0.45)、フェノキシカルボニル(σp値:0.44)]、カルバモイル基(σp値:0.36)、スルファモイル基(σp値:0.57)、スルホキシド基、ヘテロ環基、オキソ基、ホスホリル基等が挙げられる。   In this specification, the electron-withdrawing substituent refers to a group in which Hammett's substituent constant σp takes a positive value. For Hammett's substituent constants, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, no. 11, 1207-1216 etc. can be referred to. Examples of electron-withdrawing groups in which Hammett's substituent constant σp takes a positive valence include halogen atoms [fluorine atoms (σp value: 0.06), chlorine atoms (σp value: 0.23), bromine atoms (σp value). : 0.23), iodine atom (σp value: 0.18)], trihaloalkyl group [tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl (σp value: 0.33), trifluoromethyl (σp Value: 0.54)], cyano group (σp value: 0.66), nitro group (σp value: 0.78), aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group [for example, methanesulfonyl (σp value: 0. 72)], aliphatic / aryl or heterocyclic acyl groups [for example, acetyl (σp value: 0.50), benzoyl (σp value: 0.43)], alkynyl groups [for example, C≡CH (σp value: 0) .23)], Aliphatic Ali Or a heterocyclic oxycarbonyl group [for example, methoxycarbonyl (σp value: 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)], carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value: 0.57), sulfoxide groups, heterocyclic groups, oxo groups, phosphoryl groups and the like.

また、好ましい電子吸引性基としては、アミド基、アゾ基、ニトロ基、炭素数1〜5のフルオロアルキル基、ニトリル基、炭素数1〜5のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜5のアシル基、炭素数1〜9のアルキルスルホニル基、炭素数6〜9のアリールスルホニル基、炭素数1〜9のアルキルスルフィニル基、炭素数6〜9のアリールスルフィニル基、炭素数6〜9のアリールカルボニル基、チオカルボニル基、炭素数1〜9の含フッ素アルキル基、炭素数6〜9の含フッ素アリール基、炭素数3〜9の含フッ素アリル基、オキソ基及びハロゲン元素から選ばれる基が挙げられ、より好ましくは、ニトロ基、炭素数1〜5のフルオロアルキル基、ニトリル基、炭素数1〜5のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜5のアシル基、炭素数6〜9のアリールスルホニル基、炭素数6〜9のアリールカルボニル基、オキソ基及びハロゲン元素から選ばれる基である。
以下に、一般式(L−I)及び一般式(L−II)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
Preferred electron withdrawing groups include amide groups, azo groups, nitro groups, fluoroalkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, nitrile groups, alkoxycarbonyl groups having 1 to 5 carbon atoms, and acyl groups having 1 to 5 carbon atoms. , An alkylsulfonyl group having 1 to 9 carbon atoms, an arylsulfonyl group having 6 to 9 carbon atoms, an alkylsulfinyl group having 1 to 9 carbon atoms, an arylsulfinyl group having 6 to 9 carbon atoms, and an arylcarbonyl group having 6 to 9 carbon atoms , A thiocarbonyl group, a fluorine-containing alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, a fluorine-containing aryl group having 6 to 9 carbon atoms, a fluorine-containing allyl group having 3 to 9 carbon atoms, an oxo group, and a group selected from a halogen element. More preferably, a nitro group, a fluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a nitrile group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms, an acyl group having 1 to 5 carbon atoms, a carbon number 6 9 arylsulfonyl group, an arylcarbonyl group having 6 to 9 carbon atoms, an oxo group, and a halogen element.
Specific examples of the compounds represented by formulas (LI) and (L-II) are shown below, but the present invention is not limited to these compounds.

Figure 2005107112
Figure 2005107112

Figure 2005107112
Figure 2005107112

一般式(L−I)及び一般式(L−II)で表される化合物の添加量は、添加の有効性や画像形成性の効果の観点から、単層型記録層全固形分に対して0.1〜10質量%が好ましく、更には、0.2〜6質量%がより好ましい。
本発明に用いられるラクトン化合物は、いずれか1種を用いても、2種以上を併用してもよい。また2種類以上の一般式(L−I)の化合物、又は2種類以上の一般式(L−II)の化合物を用いる場合、合計添加量が上記範囲内であれば任意の比率で併用することができる。
The addition amount of the compound represented by the general formula (LI) and the general formula (L-II) is based on the total solid content of the single-layer recording layer from the viewpoint of the effectiveness of the addition and the effect of image formation. 0.1-10 mass% is preferable, Furthermore, 0.2-6 mass% is more preferable.
Any one lactone compound may be used in the present invention, or two or more lactone compounds may be used in combination. In addition, when two or more compounds of the general formula (LI) or two or more compounds of the general formula (L-II) are used, they should be used in any ratio as long as the total addition amount is within the above range. Can do.

そのほか、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の、熱分解性であり、且つ、分解しない状態では、アルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが画像部の現像液へのインヒビションの向上を図る点で好ましい。   In addition, substances that are thermally decomposable, such as onium salts, o-quinonediazide compounds, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, and that substantially reduce the solubility of alkali-soluble resins when not decomposed. Is preferably used from the viewpoint of improving the inhibition of the image portion in the developer.

本発明において用いられるオニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げられ、特に好適なものとしては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Balet al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、   Examples of the onium salt used in the present invention include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts, and the like. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Balet al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and JP-A-3-140140. Ammonium salts described in the specification, D.I. C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056,

J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivelloet al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、   J. et al. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salts, J.M. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. , 14, 279 (1985),

J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、   J. et al. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,604 The sulfonium salt described in No. 580 and No. 3,604,581,

J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
このようなオニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平5−158230号公報記載のものが挙げられる。
J. et al. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).
Of these onium salts, a diazonium salt is particularly preferable. Particularly suitable diazonium salts include those described in JP-A-5-158230.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

好適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により現像抑制剤としてのインヒビションを失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により上層の溶解性を助ける。
そのようなo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1、2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide assists the solubility of the upper layer by both the effect of losing the inhibition as a development inhibitor due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance.
Examples of such o-quinonediazide compounds include J. Org. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-Sensitive Systems” (John Wiley & Sons. Inc.) by Korser can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2-diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5 described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

更にナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂或いはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。   Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin, Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17474, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267, No. 005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

o−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは単層型記録層全固形分に対し、0.1〜8質量%、より好ましくは0.2〜5質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
また特開平11−288089号記載の少なくとも一部がエステル化されたアルカリ可溶性樹脂を含んでも良い。
The addition amount of the o-quinonediazide compound is preferably in the range of 0.1 to 8% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass, based on the total solid content of the single-layer recording layer. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.
Moreover, you may include the alkali-soluble resin by which at least one part of Unexamined-Japanese-Patent No. 11-288089 was esterified.

また、記録層表面のインヒビションの強化とともに表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開2000−187318号に記載されているような、分子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することが好ましい。
添加量としては、単層型記録層全固形分に対し、0.5〜15質量%が好ましく、より好ましくは1〜10質量%の範囲である。
Further, for the purpose of enhancing the inhibition of the surface of the recording layer and the scratch resistance of the surface, the perfluoroalkyl having 3 to 20 carbon atoms in the molecule as described in JP-A-2000-187318 is also disclosed. It is preferable to use a polymer having a (meth) acrylate monomer having 2 or 3 groups as a polymerization component.
The addition amount is preferably 0.5 to 15% by mass, more preferably 1 to 10% by mass, based on the total solid content of the single-layer recording layer.

〔その他の添加剤〕
本発明に係る単層型記録層を形成するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
[Other additives]
In forming the single-layer recording layer according to the present invention, various additives can be further added as necessary in addition to the above essential components as long as the effects of the present invention are not impaired.

<現像促進剤>
本発明に係る単層型記録層には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加してもよい。
酸無水物類としては環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては無水酢酸などが挙げられる。
<Development accelerator>
For the purpose of improving sensitivity, acid anhydrides, phenols, and organic acids may be added to the single-layer recording layer according to the present invention.
As the acid anhydrides, cyclic acid anhydrides are preferable. Specific examples of the cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and hexahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128. Acid, 3,6-endooxy-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. Examples of the acyclic acid anhydride include acetic anhydride.

フェノール類としては、ビスフェノールA、2,2’−ビスヒドロキシスルホン、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。   Examples of phenols include bisphenol A, 2,2′-bishydroxysulfone, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4- Examples include hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 ″ -trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3 ″, 4 ″ -tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane. .

有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の単層型記録層全固形分に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。
Examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid , P-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like.
The proportion of the acid anhydride, phenols and organic acids in the total solid content of the single-layer recording layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0. .1 to 10% by mass.

<界面活性剤>
本発明に係る単層型記録層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開昭62−170950号公報、特開平11−288093号公報、特願2001−247351に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
<Surfactant>
In order to improve the coating property and to improve the stability of the processing with respect to the developing conditions, the single layer type recording layer according to the present invention is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 62-251740 and 3-208514. Nonionic surfactants as described, amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149, and siloxanes as described in EP950517 Fluorine-containing monomer copolymers as described in JP-A-62-170950, JP-A-11-288093, and Japanese Patent Application No. 2001-247351 can be added.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両性活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of amphoteric activators include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.).

シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224、DBE−621、DBE−712、DBP−732、DBP−534、独Tego社製、Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることが出来る。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の単層型記録層全固形分に占める割合は、0.01〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5.0質量%、更に好ましくは0.5〜2.0質量%である。
As the siloxane compound, a block copolymer of dimethylsiloxane and polyalkylene oxide is preferable. Specific examples include DBE-224, DBE-621, DBE-712, DBP-732, DBP-534, manufactured by Chisso Corporation. And polyalkylene oxide-modified silicones such as Tego Glide 100 manufactured by Tego, Germany.
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the total solid content of the single-layer recording layer is preferably 0.01 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5.0% by mass, and still more preferably. Is 0.5-2.0 mass%.

<焼出し剤/着色剤>
本発明に係る単層型記録層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
<Bake-out agent / colorant>
To the single-layer recording layer according to the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
A representative example of the printing-out agent is a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644, and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレットラクトン、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。
これらの染料は、単層型記録層の全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で添加することができる。
As the image colorant, other dyes can be used in addition to the aforementioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (above Orient Chemical Industry) Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet Lactone, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. it can. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred.
These dyes can be added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the single-layer recording layer.

<可塑剤>
本発明に係る単層型記録層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加しても良い。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
これらの可塑剤は、単層型記録層全固形分に対し、0.5〜10質量%、好ましくは1.0〜5質量%の割合で添加することができる。
<Plasticizer>
A plasticizer may be added to the single-layer recording layer according to the present invention in order to impart flexibility and the like of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.
These plasticizers can be added in a proportion of 0.5 to 10% by mass, preferably 1.0 to 5% by mass, based on the total solid content of the single-layer recording layer.

<WAX剤>
本発明に係る単層型記録層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許第6,117,913号明細書、或いは本願出願人が先に提案した特願2001−261627号、特願2002−032904号、特願2002−165584号の各明細書に記載されているいるような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることが出来る。
添加量としては、単層型記録層全固形分中に占める割合が0.1〜10質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがより好ましい。
<WAX agent>
In the single-layer recording layer according to the present invention, a compound that lowers the static friction coefficient of the surface can be added for the purpose of imparting scratch resistance. Specifically, US Pat. No. 6,117,913 or Japanese Patent Application Nos. 2001-261627, 2002-032904, and 2002-165854 previously proposed by the applicant of the present application. And compounds having an ester of a long-chain alkyl carboxylic acid as described in the above.
As the amount added, the proportion of the total solid content of the single-layer recording layer is preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass.

[重層型記録層]
次に、本発明の平版印刷版原版の記録層が重層構造をとった場合、即ち、それぞれ構成成分の異なる複数の層からなる記録層を有する平版印刷版原版について述べる。
本発明における記録層の必須成分である前記(A)特定ビニルポリマーおよび(B)赤外線吸収剤は、同一の層に含まれていても、別々の層に含まれていてもよいが、特に本発明において好ましい態様である重層構造の記録層を有する平版印刷版原版としては、(A)特定ビニルポリマーを含有する下層と、アルカリ可溶性樹脂を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうる上層と、からなる記録層を設け、該記録層の下層及び上層の少なくとも一方に(B)赤外線吸収剤を含有するものが挙げられる。以下、このような好ましい重層型記録層について詳細に説明する。
[Multilayer recording layer]
Next, a planographic printing plate precursor having a recording layer composed of a plurality of layers each having a different constituent component will be described when the recording layer of the planographic printing plate precursor of the present invention has a multilayer structure.
The (A) specific vinyl polymer and (B) infrared absorber, which are essential components of the recording layer in the present invention, may be contained in the same layer or in separate layers. The lithographic printing plate precursor having a multilayered recording layer which is a preferred embodiment in the invention includes (A) a lower layer containing a specific vinyl polymer, an upper layer containing an alkali-soluble resin and capable of forming an image by infrared irradiation. And a recording layer containing (B) an infrared absorber in at least one of the lower layer and the upper layer of the recording layer. Hereinafter, such a preferable multilayer recording layer will be described in detail.

〔(A)特定ビニルポリマーを含有する下層〕
本発明に係る下層は、上述した(A)特定ビニルポリマーを含有することを特徴とする。ここで用いられる特定ビニルポリマーとしては、上述したように、環構造を主鎖に有し、且つ、活性イミド基を有するものであれば特に制限はない。
このような重層型記録層の下層における、特定ビニルポリマーの含有量は、下層記録層全固形分中、50〜100質量%であることが好ましく、60〜98質量%であることがより好ましく、65〜95質量%であることが特に好ましい。この範囲において、記録層の耐刷性、耐薬品性、及び、画像形成性に優れる。
[(A) Lower layer containing specific vinyl polymer]
The lower layer according to the present invention is characterized by containing the above-mentioned (A) specific vinyl polymer. The specific vinyl polymer used here is not particularly limited as long as it has a ring structure in the main chain and an active imide group as described above.
The content of the specific vinyl polymer in the lower layer of such a multilayer recording layer is preferably 50 to 100% by mass, more preferably 60 to 98% by mass in the total solid content of the lower recording layer, It is particularly preferably 65 to 95% by mass. Within this range, the printing layer is excellent in printing durability, chemical resistance, and image formability.

重層型記録層の下層には、バインダー樹脂として、このような特定ビニルポリマーのみを用いてもよいが、膜性向上の観点から、前記特定ビニルポリマーに加えて、本発明の効果を損なわない範囲で他の樹脂を併用することができる。下層自体は、特に非画像部領域において、アルカリ可溶性を発現することを要するため、この特性を損なわない樹脂を選択する必要がある。この観点から、併用可能な樹脂としては、前記特定ビニルポリマー以外のアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。特定ビニルポリマーと併用可能なアルカリ可溶性樹脂については、上層の成分として後述する一般的なアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。中でも、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ基を含有する樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリウレタン樹脂等を好ましく挙げることができる。
一般的なアルカリ可溶性樹脂を混合する比率としては、下層に含まれる全アルカリ可溶性樹脂の40質量%以下が好ましく、35質量%以下がより好ましく、30質量%以下であることが特に好ましい。
In the lower layer of the multi-layer recording layer, only such a specific vinyl polymer may be used as a binder resin, but from the viewpoint of improving film properties, in addition to the specific vinyl polymer, a range that does not impair the effects of the present invention. Other resins can be used in combination. Since the lower layer itself needs to express alkali solubility, particularly in the non-image area, it is necessary to select a resin that does not impair this property. From this viewpoint, examples of the resin that can be used in combination include alkali-soluble resins other than the specific vinyl polymer. As for the alkali-soluble resin that can be used in combination with the specific vinyl polymer, a general alkali-soluble resin described later can be used as an upper layer component. Among these, for example, polyamide resins, resins containing epoxy groups, polyvinyl acetal resins, acrylic resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyurethane resins and the like can be preferably exemplified.
As a ratio which mixes general alkali-soluble resin, 40 mass% or less of all the alkali-soluble resins contained in a lower layer is preferable, 35 mass% or less is more preferable, It is especially preferable that it is 30 mass% or less.

また、本発明に係る下層に含まれる成分としては、更に必要に応じて、赤外線吸収剤、及びその他の添加剤を用いることができる。その他の添加剤としては、例えば、現像促進剤、界面活性剤、焼出し剤/着色剤、可塑剤、及びWAX剤、等が挙げられる。これらの成分についての詳細は、後述する上層の成分として記載されるものと同様である。   Moreover, as a component contained in the lower layer based on this invention, an infrared absorber and another additive can be further used as needed. Examples of other additives include development accelerators, surfactants, printout / coloring agents, plasticizers, and WAX agents. The details of these components are the same as those described as components of the upper layer described later.

〔アルカリ可溶性樹脂を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうる上層〕
本発明に係る上層は、アルカリ可溶性樹を含有し、赤外線の照射により画像を形成しうることを特徴とする。
[Upper layer containing an alkali-soluble resin and capable of forming an image by infrared irradiation]
The upper layer according to the present invention contains an alkali-soluble tree and can form an image by irradiation with infrared rays.

(アルカリ可溶性樹脂)
本発明における上層に使用可能なアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び/又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体、又はこれらの混合物であることが好ましい。また、上述の特定ビニルポリマーを上層に添加することもできる。
このような酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、特に、(1)フェノール性水酸基、(2)スルホンアミド基、(3)活性イミド基、(4)カルボン酸基、(5)リン酸基のいずれかの官能基を分子内に有する高分子化合物が挙げられ、中でも、(1)フェノール性水酸基、(2)スルホンアミド基、(3)活性イミド基を有する高分子化合物が特に好ましい。そのような高分子化合物としては、例えば、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(Alkali-soluble resin)
The alkali-soluble resin that can be used for the upper layer in the present invention is not particularly limited as long as it has a property of dissolving when contacted with an alkaline developer, but an acidic group is present on the main chain and / or side chain in the polymer. It is preferably a homopolymer to be contained, a copolymer thereof, or a mixture thereof. Moreover, the above-mentioned specific vinyl polymer can also be added to the upper layer.
Examples of the alkali-soluble resin having such an acidic group include (1) phenolic hydroxyl group, (2) sulfonamide group, (3) active imide group, (4) carboxylic acid group, and (5) phosphoric acid group. Examples thereof include polymer compounds having any functional group in the molecule, and among them, a polymer compound having (1) a phenolic hydroxyl group, (2) a sulfonamide group, and (3) an active imide group is particularly preferable. Examples of such a polymer compound include the following, but the present invention is not limited thereto.

(1)フェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を有する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物を用いることが好ましい。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合とをそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。   (1) Examples of the polymer compound having a phenolic hydroxyl group include phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p Any of-or m- / p-mixing) may be used. Examples thereof include novolak resins such as mixed formaldehyde resins and pyrogallol acetone resins. In addition to this, a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain is preferably used as the polymer compound having a phenolic hydroxyl group. As a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer comprising a low molecular compound having at least one phenolic hydroxyl group and at least one polymerizable unsaturated bond is homopolymerized, or other polymerization is performed on the monomer. And a high molecular compound obtained by copolymerizing a functional monomer.

フェノール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的にはN−(2−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート等を好適に使用することができる。かかるフェノール性水酸基を有する樹脂は、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。更に、米国特許4,123,279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの共重合体を併用してもよい。   Examples of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group. Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3- Hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxy Phenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) Preferable are til acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, etc. Can be used. Such resins having a phenolic hydroxyl group may be used in combination of two or more. Furthermore, as described in US Pat. No. 4,123,279, phenol and formaldehyde having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin, These copolymers may be used in combination.

(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、スルホンアミド基を有する重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとしては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの水素原子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2−と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。 (2) Examples of the alkali-soluble resin having a sulfonamide group include polymer compounds obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer having a sulfonamide group or copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer. The polymerizable monomer having a sulfonamide group includes one or more sulfonamide groups —NH—SO 2 — in which at least one hydrogen atom is bonded on a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule. And a polymerizable monomer comprising a low molecular weight compound. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group, and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable.

(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂は、活性イミド基を分子内に有するものが好ましく、この高分子化合物としては、1分子中に活性イミド基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。
このような化合物としては、具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
(3) The alkali-soluble resin having an active imide group is preferably one having an active imide group in the molecule, and the polymer compound has one unsaturated bond polymerizable with the active imide group in each molecule. Examples thereof include a polymer compound obtained by homopolymerizing a polymerizable monomer comprising the above-described low molecular weight compound, or copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer.
As such a compound, specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。   (4) As an alkali-soluble resin having a carboxylic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one carboxylic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.

(5)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。   (5) As an alkali-soluble resin having a phosphoric acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one phosphoric acid group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.

本発明に係る上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合性モノマーのうち2種類以上を重合させた高分子化合物であることが好ましい。上記重合性モノマーの共重合比、及び重合性モノマーの組み合わせに制限はないが、特にフェノール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミド基を有する重合性モノマー及び/又は活性イミド基を有する重合性モノマーを共重合させる場合には、これら成分の配合重合比は50:50から5:95の範囲にあることが好ましく、40:60から10:90の範囲にあることが特に好ましい。   As the alkali-soluble resin used in the upper layer according to the present invention, two or more kinds of the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, and the polymerizable monomer having an active imide group are polymerized. It is preferable to be a high molecular compound. Although there is no restriction | limiting in the copolymerization ratio of the said polymerizable monomer, and the combination of a polymerizable monomer, Especially the polymerizable monomer which has a sulfonamide group in the polymerizable monomer which has a phenolic hydroxyl group, and / or the polymerizable property which has an active imide group When monomers are copolymerized, the compounding polymerization ratio of these components is preferably in the range of 50:50 to 5:95, and particularly preferably in the range of 40:60 to 10:90.

更に、上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、上記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーから選択される1種或いは2種類以上の重合性モノマーの他に、他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物であることが好ましい。この場合の共重合比としては、現像性の観点から、アルカリ可溶性を付与するモノマーを10モル%以上含むことが好ましく、20モル%以上含むものがより好ましい。
ここで使用可能な他の重合性モノマーとしては、下記(m1)〜(m12)に挙げる化合物を例示することができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Furthermore, as the alkali-soluble resin used in the upper layer, one or more kinds selected from the polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, or the polymerizable monomer having an active imide group are used. In addition to the polymerizable monomer, a polymer compound obtained by copolymerizing another polymerizable monomer is preferable. As a copolymerization ratio in this case, it is preferable that the monomer which provides alkali solubility is included 10 mol% or more from a viewpoint of developability, and what contains 20 mol% or more is more preferable.
Examples of other polymerizable monomers that can be used here include the compounds listed in the following (m1) to (m12), but the present invention is not limited thereto.

(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.

(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

本発明に係る上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂が、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体の場合、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が800〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。
特に、本発明に係る上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂が、フェノールホルムアルデヒド樹脂、又は、クレゾールアルデヒド樹脂等である場合には、重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000のものが好ましい。
The alkali-soluble resin used in the upper layer according to the present invention is a homopolymer or copolymer of a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, or a polymerizable monomer having an active imide group. In this case, those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more are preferred. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. .
In particular, when the alkali-soluble resin used in the upper layer according to the present invention is a phenol formaldehyde resin or a cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to 20,000 and the number average molecular weight is 200 to 10 1,000 is preferred.

上層に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、未露光部において強い水素結合性を生起し、露光部において一部の水素結合が容易に解除されるといった点から、フェノール性水酸基を有する樹脂が望ましく、フェノール性水酸基を有する樹脂の中でも特に好ましくはノボラック樹脂である。
また、本発明においては、アルカリ性水溶液に対し溶解速度の異なる2種類以上のアルカリ可溶性樹脂を混合して用いてもよく、その場合の混合比は自由である。なお、該フェノール性水酸基を有する樹脂と混合するのに好適なアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基を有する樹脂と相溶性が低いことから、アクリル樹脂であることが好ましく、更に好ましくはスルホアミド基を有するアクリル樹脂である。
As the alkali-soluble resin used for the upper layer, a resin having a phenolic hydroxyl group is desirable because it causes strong hydrogen bonding in the unexposed area and some hydrogen bonds are easily released in the exposed area. Among the resins having a functional hydroxyl group, a novolak resin is particularly preferable.
In the present invention, two or more kinds of alkali-soluble resins having different dissolution rates in an alkaline aqueous solution may be mixed and used, and the mixing ratio in that case is arbitrary. The alkali-soluble resin suitable for mixing with the resin having a phenolic hydroxyl group is preferably an acrylic resin because of its low compatibility with a resin having a phenolic hydroxyl group, and more preferably a sulfoamide group. It is an acrylic resin.

上層の全固形分中に対するアルカリ可溶性樹脂の含有量は、記録層の耐久性や、感度等の観点から、併せて50〜98質量%の添加量で用いられることが好ましい。   The content of the alkali-soluble resin relative to the total solid content of the upper layer is preferably used in an addition amount of 50 to 98% by mass from the viewpoints of durability and sensitivity of the recording layer.

((B)赤外線吸収剤)
本発明の重層型記録層を有する平版印刷版原版には、該記録層の下層及び上層の少なくとも一方に、赤外線吸収剤を添加する必要がある。そのような赤外線吸収剤としては、前記単層型記録層で使用したものと同様の赤外線吸収剤を使用することができる。
これらの赤外線吸収剤は、下層に添加しても上層に添加しても、上下層双方に添加してもよいが、感度の観点から記録層の上層或いはその近傍に添加することが好ましい。特に、上層において、溶解抑制能を有する赤外線吸収剤を前記アルカリ可溶性樹脂と同一の層に添加することで、高感度化と同時に、未露光部に耐アルカリ溶解性を持たせることができるため好ましい。
一方、下層に添加した場合には、更なる高感度化を実現することが可能である。上層と下層の双方に赤外線吸収剤を添加する場合には、互いに同じ化合物を用いてもよく、また異なる化合物を用いてもよい。
また、これらの赤外線吸収剤は上下記録層と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けてそこへ添加してもよい。別の層とする場合、記録層に隣接する層へ添加するのが望ましい。
((B) infrared absorber)
In the lithographic printing plate precursor having the multilayer type recording layer of the present invention, it is necessary to add an infrared absorber to at least one of the lower layer and the upper layer of the recording layer. As such an infrared absorber, the same infrared absorber as that used in the single-layer recording layer can be used.
These infrared absorbers may be added to the lower layer, the upper layer, or both the upper and lower layers, but are preferably added to the upper layer of the recording layer or the vicinity thereof from the viewpoint of sensitivity. In particular, it is preferable to add an infrared absorber having dissolution inhibiting ability to the same layer as the alkali-soluble resin in the upper layer, so that the unexposed area can have alkali solubility resistance at the same time as high sensitivity. .
On the other hand, when added to the lower layer, it is possible to realize further higher sensitivity. When an infrared absorber is added to both the upper layer and the lower layer, the same compound may be used, or different compounds may be used.
These infrared absorbers may be added to the same layer as the upper and lower recording layers, or may be added to another layer provided. In the case of a separate layer, it is desirable to add it to a layer adjacent to the recording layer.

赤外線吸収剤の添加量としては、上層に添加する場合、感度や記録層の耐久性(膜性)等の観点から、上層全固形分に対し0.01〜30質量%、好ましくは0.1〜20質量%、特に好ましくは1.0〜10質量%の割合で添加することができる。   As the addition amount of the infrared absorber, from the viewpoint of sensitivity and durability (film properties) of the recording layer when added to the upper layer, it is 0.01 to 30% by mass, preferably 0.1%, based on the total solid content of the upper layer. It can be added at a ratio of ˜20% by mass, particularly preferably 1.0 to 10% by mass.

一方、下層に添加する場合、下層全固形分に対し0〜20質量%、好ましくは0〜10質量%、特に好ましくは0〜5質量%の割合で添加することができる。下層に赤外線吸収剤を添加する場合、溶解抑制能を有する赤外線吸収剤を用いると下層の溶解性が低下するが、一方、赤外線吸収剤が赤外線レーザ露光時に発熱し、熱による下層の溶解性向上が期待できるため、これらのバランスを考慮して添加する化合物及び添加量を選択すべきである。なお、支持体近傍の0.2〜0.3μmの領域では露光時に発生した熱が支持体に拡散するなどして、熱による溶解性向上効果が得難く、赤外吸収染料添加による下層の溶解性低下が感度を低下させる要因となる場合がある。従って、先に示した添加量の範囲の中においても、下層の現像液(25℃〜30℃)に対する溶解速度が30nm/secを下回る如き添加量は好ましくない。   On the other hand, when adding to a lower layer, it is 0-20 mass% with respect to a lower layer total solid, Preferably it is 0-10 mass%, Most preferably, it can add in the ratio of 0-5 mass%. When an infrared absorber is added to the lower layer, the solubility of the lower layer decreases if an infrared absorber having dissolution inhibiting ability is used. On the other hand, the infrared absorber generates heat during infrared laser exposure, and the solubility of the lower layer is improved by heat. Therefore, the compound to be added and the addition amount should be selected in consideration of these balances. In the region of 0.2 to 0.3 μm in the vicinity of the support, it is difficult to obtain the effect of improving the solubility due to heat, for example, the heat generated during exposure diffuses to the support. In some cases, the decrease in sensitivity may cause a decrease in sensitivity. Therefore, even within the range of the addition amount shown above, such an addition amount that the dissolution rate in the lower layer developer (25 ° C. to 30 ° C.) is lower than 30 nm / sec is not preferable.

((C)現像抑制剤)
本発明に係る上層には、そのインヒビション(溶解抑制能)を高める目的で、現像抑制剤を含有させることが好ましい。特に、前記赤外線吸収剤として溶解抑制能を有しないものを使用する場合には、この現像抑制剤は画像部の耐アルカリ性を維持するための重要成分となりうる。
重層型記録層に用いられる現像抑制剤としては、前記単層型記録層の成分で挙げた(C)現像抑制剤と同様のものを用いることができる。例えば、4級アンモニウム塩、ポリエチレングリコール系化合物等が好ましく用いられる。また後述する画像着色剤のなかにも現像抑制剤として機能する化合物があり、それらもまた好ましく挙げられる。
((C) Development inhibitor)
The upper layer according to the present invention preferably contains a development inhibitor for the purpose of enhancing its inhibition (dissolution inhibiting ability). In particular, when an infrared absorber that does not have dissolution inhibiting ability is used, this development inhibitor can be an important component for maintaining the alkali resistance of the image area.
As the development inhibitor used for the multi-layer recording layer, the same development inhibitor as the component (C) described above as the component of the single-layer recording layer can be used. For example, quaternary ammonium salts, polyethylene glycol compounds and the like are preferably used. Among the image colorants described below, there are compounds that function as a development inhibitor, and these are also preferred.

4級アンモニウム塩としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げた4級アンモニウム塩と同様のものを用いることができる。
4級アンモニウム塩の添加量は、現像抑制効果や前記アルカリ可溶性樹脂の製膜性等の観点から、上層全固形分に対して0.1〜50質量%であることが好ましく、1〜30質量%であることがより好ましい。
As the quaternary ammonium salt, those similar to the quaternary ammonium salts mentioned as the development inhibitor for the single-layer recording layer can be used.
The addition amount of the quaternary ammonium salt is preferably 0.1 to 50% by mass and 1 to 30% by mass with respect to the total solid content of the upper layer from the viewpoint of the development inhibiting effect and the film forming property of the alkali-soluble resin. % Is more preferable.

ポリエチレングリコール化合物としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたポリエチレングリコール化合物と同様のものを用いることができる。
ポリエチレングリコール系化合物の添加量は、現像抑制効果や画像形成性等の観点から、上層全固形分に対して0.1〜50質量%であることが好ましく、1〜30質量%であることがより好ましい。
As the polyethylene glycol compound, those similar to the polyethylene glycol compounds mentioned as the development inhibitor for the single-layer recording layer can be used.
The addition amount of the polyethylene glycol compound is preferably from 0.1 to 50% by mass, and preferably from 1 to 30% by mass, based on the total solid content of the upper layer, from the viewpoints of development inhibition effect and image forming property. More preferred.

また、ラクトン化合物についても、前記単層型記録層における効果と同様の効果を得るために有効であり、前記単層型記録層で挙げたものと同様の化合物を用いることができる。
このようなラクトン化合物の中でも、特に好ましく用いられる前記一般式(L−I)及び一般式(L−II)で表される化合物の添加量としては、添加の有効性や画像形成性の効果の観点から、上層全固形分に対して0.1〜50質量%が好ましく、更には、1〜30質量%がより好ましい。
The lactone compound is also effective for obtaining the same effect as that of the single-layer recording layer, and the same compounds as those mentioned for the single-layer recording layer can be used.
Among such lactone compounds, the addition amount of the compounds represented by the general formula (LI) and the general formula (L-II) that are particularly preferably used includes the effectiveness of addition and the effect of image forming properties. From a viewpoint, 0.1-50 mass% is preferable with respect to the upper-layer total solid, Furthermore, 1-30 mass% is more preferable.

そのほか、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の、熱分解性であり、且つ、分解しない状態では、アルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが画像部の現像液へのインヒビションの向上を図る点で好ましい。
オニウム塩としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたオニウム塩と同様のものを用いることができる。
o−キノンジアジド類としては、前記単層型記録層の現像抑制剤として挙げたo−キノンジアジド類と同様のものを用いることができる。
o−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは上層全固形分に対し、1〜50質量%、更に好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜30質量%の範囲である。
In addition, substances that are thermally decomposable, such as onium salts, o-quinonediazide compounds, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, and that substantially reduce the solubility of alkali-soluble resins when not decomposed. Is preferably used from the viewpoint of improving the inhibition of the image portion in the developer.
As the onium salt, those similar to the onium salts mentioned as the development inhibitor for the single-layer recording layer can be used.
As the o-quinonediazides, those similar to the o-quinonediazides mentioned as the development inhibitor for the single-layer recording layer can be used.
The addition amount of the o-quinonediazide compound is preferably in the range of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass with respect to the total solid content of the upper layer.

また、記録層表面のインヒビションの強化とともに表面のキズに対する抵抗力を強化する目的で、特開2000−187318号に記載されているような、分子中に炭素数3〜20のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用することが好ましい。
添加量としては、上層全固形分に対し、0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%である。
Further, for the purpose of enhancing the inhibition of the surface of the recording layer and the scratch resistance of the surface, the perfluoroalkyl having 3 to 20 carbon atoms in the molecule as described in JP-A-2000-187318 is also disclosed. It is preferable to use a polymer having a (meth) acrylate monomer having 2 or 3 groups as a polymerization component.
As addition amount, 0.1-10 mass% is preferable with respect to upper layer total solid, More preferably, it is 0.5-5 mass%.

(その他の添加剤)
重合型記録層の下層及び上層を形成するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。以下に挙げる添加剤は下層のみに添加してもよいし、上層のみに添加してもよいし、両方の層に添加してもよい。
(Other additives)
In forming the lower layer and the upper layer of the polymerization type recording layer, in addition to the above essential components, various additives can be further added as necessary as long as the effects of the present invention are not impaired. The additives listed below may be added only to the lower layer, may be added only to the upper layer, or may be added to both layers.

<現像促進剤>
本発明に係る記録層である上層及び/又は下層には、感度を向上させる目的で、現像促進剤を添加してもよい。そのような現像促進剤としては、前記単層型記録層の現像促進剤として挙げた、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を用いることができる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の下層或いは上層の全固形分に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。
<Development accelerator>
A development accelerator may be added to the upper layer and / or the lower layer as the recording layer according to the present invention for the purpose of improving sensitivity. As such a development accelerator, the acid anhydrides, phenols, and organic acids mentioned as the development accelerator for the single-layer recording layer can be used.
The proportion of the acid anhydride, phenols, and organic acids in the total solid content of the lower or upper layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0. 1 to 10% by mass.

<界面活性剤>
本発明に係る記録層である上層及び/又は下層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、界面活性剤を添加することができる。そのような界面活性剤としては、前記単層型記録層の界面活性剤として挙げた非イオン界面活性剤、両性界面活性剤を用いることができる。
非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の下層或いは上層の全固形分に占める割合は、0.01〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5.0質量%、更に好ましくは0.5〜2.0質量%である。
<Surfactant>
A surfactant can be added to the upper layer and / or the lower layer, which are recording layers according to the present invention, in order to improve the coating properties and to increase the stability of the processing with respect to the development conditions. As such a surfactant, the nonionic surfactants and amphoteric surfactants exemplified as the surfactant for the single-layer recording layer can be used.
The ratio of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant to the total solid content of the lower layer or upper layer is preferably 0.01 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5.0% by mass, and still more preferably 0. .5 to 2.0% by mass.

<焼出し剤/着色剤>
本発明に係る記録層である上層及び/又は下層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
そのような焼き出し剤または画像着色剤としては、前記単層型記録層で挙げたものと同様の焼き出し剤または画像着色剤を用いることができる。
これらの染料は、下層或いは上層の全固形分に対し、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で添加することができる。
<Bake-out agent / colorant>
To the upper layer and / or the lower layer, which is the recording layer according to the present invention, a print-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
As such a print-out agent or image colorant, the same print-out agents or image colorants as those mentioned for the single-layer recording layer can be used.
These dyes can be added in a proportion of 0.01 to 10% by mass, preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the lower layer or upper layer.

<可塑剤>
本発明に係る記録層である上層及び/又は下層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加しても良い。そのような可塑剤としては、前記単層型記録層で挙げたものと同様の可塑剤を用いることができる。
これらの可塑剤は、下層或いは上層の全固形分に対し、0.5〜10質量%、好ましくは1.0〜5質量%の割合で添加することができる。
<Plasticizer>
A plasticizer may be added to the upper layer and / or the lower layer, which are recording layers according to the present invention, in order to impart flexibility of the coating film. As such a plasticizer, the same plasticizers as those mentioned for the single-layer recording layer can be used.
These plasticizers can be added in a proportion of 0.5 to 10% by mass, preferably 1.0 to 5% by mass, based on the total solid content of the lower layer or the upper layer.

<WAX剤>
本発明に係る上層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。このような化合物としては、前記単層型記録層で挙げたWAX剤と同様のものを用いることができる。添加量として好ましいのは、上層中に占める割合が0.1〜10質量%、より好ましくは0.5〜5質量%である。
<WAX agent>
In the upper layer according to the present invention, for the purpose of imparting resistance to scratches, a compound that reduces the static friction coefficient of the surface can be added. As such a compound, those similar to the WAX agent exemplified in the single-layer recording layer can be used. The addition amount is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass in the upper layer.

〔記録層の形成〕
本発明の平版印刷版原版の記録層(単層型記録層、或いは、重層型記録層の下層又は上層)は、通常上記各成分を溶剤に溶かして、記録層塗布液とし、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶剤は単独或いは混合して使用される。
[Formation of recording layer]
The recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention (single layer type recording layer or lower layer or upper layer of the multi-layer type recording layer) is usually prepared by dissolving the above-mentioned components in a solvent to form a recording layer coating solution. It can form by apply | coating on.
Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, and toluene. It is not limited. These solvents are used alone or in combination.

特に、重層型記録層においては、下層及び上層を、原則的に2つの層を分離して形成することが好ましい。
2つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げられる。
以下、これらの方法について詳述するが、2つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
In particular, in the multilayer recording layer, it is preferable that the lower layer and the upper layer are formed by separating the two layers in principle.
As a method for forming the two layers separately, for example, a method using a difference in solvent solubility between a component contained in the lower layer and a component contained in the upper layer, or after applying the upper layer, a solvent is rapidly used. For example, a method of drying and removing.
Hereinafter, although these methods are explained in full detail, the method of apply | coating two layers separately is not limited to these.

下層に含まれる成分と上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法としては、上層用塗布液を塗布する際に、下層に含まれる成分のいずれもが不溶な溶剤系を用いるものである。これにより、二層塗布を行っても、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、下層成分として、上層成分であるアルカリ可溶性樹脂を溶解するメチルエチルケトンや1−メトキシ−2−プロパノール等の溶剤に不溶な成分を選択し、該下層成分を溶解する溶剤系を用いて下層を塗布・乾燥し、その後、アルカリ可溶性樹脂を主体とする上層成分をメチルエチルケトンや1−メトキシ−2−プロパノール等で溶解し、塗布・乾燥することにより二層化が可能になる。   As a method of utilizing the difference in solvent solubility between the component contained in the lower layer and the component contained in the upper layer, a solvent system in which any of the components contained in the lower layer is insoluble is used when the upper layer coating solution is applied. Is. Thereby, even if it carries out 2 layer application | coating, it becomes possible to isolate | separate each layer clearly and to make a coating film. For example, as the lower layer component, a component insoluble in a solvent such as methyl ethyl ketone or 1-methoxy-2-propanol that dissolves the alkali-soluble resin that is the upper layer component is selected, and the lower layer is applied using a solvent system that dissolves the lower layer component. -It is possible to form two layers by drying and then dissolving the upper layer component mainly composed of alkali-soluble resin with methyl ethyl ketone, 1-methoxy-2-propanol, etc., and applying and drying.

次に、2層目(上層)を塗布後に、極めて速く溶剤を乾燥させる方法としては、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつける方法や、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール(加熱ロール)よりウェブの下面から伝導熱として熱エネルギーを与える方法、或いはそれらの方法の組み合わせを挙げることができる。   Next, after applying the second layer (upper layer), as a method of drying the solvent very quickly, a method of blowing high-pressure air from a slit nozzle installed substantially perpendicular to the running direction of the web, heating with steam, etc. The method of giving thermal energy as conduction heat from the lower surface of the web from the roll (heating roll) supplied inside the medium, or a combination of these methods can be mentioned.

また、新たな機能を付与するために、本発明の効果を充分に発揮する範囲において、積極的に上層及び下層の部分相溶を行う場合もある。そのような方法としては、上記溶剤溶解性の差を利用する方法、2層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾燥させる方法何れにおいても、その程度を調整する事によって可能となる。   Moreover, in order to provide a new function, the upper layer and the lower layer may be partially miscible in a range where the effects of the present invention are sufficiently exhibited. Such a method can be achieved by adjusting the degree of any of the above methods using the difference in solvent solubility and the method of drying the solvent very quickly after coating the second layer.

支持体上に塗布される記録層塗布液中の、溶剤を除いた前記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
特に、重層型記録層における上層の塗布時は、下層へのダメージを防ぐため、上層塗布方法は非接触式である事が望ましい。また接触型ではあるが溶剤系塗布に一般的に用いられる方法としてバーコーター塗布を用いる事も可能であるが、下層へのダメージを防止するために順転駆動で塗布する事が望ましい。
The concentration of the above-described components (total solid content including additives) in the recording layer coating solution coated on the support is preferably 1 to 50% by mass.
Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
In particular, when applying the upper layer in the multilayer recording layer, it is desirable that the upper layer application method is a non-contact type in order to prevent damage to the lower layer. Further, although it is a contact type, it is possible to use bar coater coating as a method generally used for solvent-based coating, but it is desirable to perform coating by forward rotation in order to prevent damage to the lower layer.

単層型記録層における、記録層成分の乾燥後の塗布量は、感度や耐刷性等の観点から、0.7〜4.0g/m2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは0.8〜3.0g/m2の範囲である。 In the single-layer recording layer, the coating amount of the recording layer component after drying is preferably in the range of 0.7 to 4.0 g / m 2 , more preferably 0, from the viewpoint of sensitivity and printing durability. The range is from 8 to 3.0 g / m 2 .

重層型記録層における、下層成分の乾燥後の塗布量は、感度や耐刷性等の観点から、0.5〜4.0g/m2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは0.6〜2.5g/m2の範囲である。
また、上層成分の乾燥後の塗布量は、感度、現像ラチチュード、及び耐傷性等の観点から、0.05〜1.0g/m2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは0.08〜0.7g/m2の範囲である。
下層及び上層を合わせた乾燥後の塗布量としては、感度、画像再現性、及び耐刷性等の観点から、0.6〜4.0g/m2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは0.7〜2.5g/m2の範囲である。
In the multi-layer recording layer, the coating amount of the lower layer component after drying is preferably in the range of 0.5 to 4.0 g / m 2 , more preferably 0.6, from the viewpoint of sensitivity and printing durability. It is in the range of ˜2.5 g / m 2 .
The coating amount of the upper layer component after drying is preferably in the range of 0.05 to 1.0 g / m 2 , and more preferably 0.08 to 0.08 from the viewpoint of sensitivity, development latitude, scratch resistance, and the like. The range is 0.7 g / m 2 .
The coating amount after drying combining the lower layer and the upper layer is preferably in the range of 0.6 to 4.0 g / m 2 , more preferably from the viewpoint of sensitivity, image reproducibility, printing durability, and the like. in the range of 0.7 to 2.5 g / m 2.

〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
[Support]
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate having the required strength and durability. For example, paper, plastic (for example, Paper laminated with polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc., metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with a metal as described above, or vapor-deposited paper, or a plastic film.

中でも、本発明においては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。   Among them, in the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass.

本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.
Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and used aluminum plates can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

このようなアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行なってもよい。以下、このような表面処理について簡単に説明する。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
以上のように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
Such an aluminum plate may be subjected to surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment, if necessary. Hereinafter, such a surface treatment will be briefly described.
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.
The aluminum plate roughened as described above is subjected to an alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to an anodizing treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。
The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. When the amount of the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged part during printing. So-called “scratch dirt” is likely to occur.
After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary.

本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。   The hydrophilization treatment used in the present invention is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate (such as aqueous sodium silicate) methods. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, it is disclosed in potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid is used.

(下塗り層)
本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて支持体と記録層との間に下塗り層を設けることができる。
下塗り層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
(Undercoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer can be provided between the support and the recording layer, if necessary.
Various organic compounds are used as the undercoat layer component. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloride of triethanolamine Hydroxy groups such as Selected from hydrochloride of the amine to be, but may be used by mixing two or more.

また、下塗り層にはオニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物は、特開2000−10292公報、同2000−108538公報等に詳述されている。その他、ポリ(p−ビニル安息香酸)などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる化合物を用いることもできる。これらの高分子化合物として、より具体的には、p−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、p−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などが挙げられる。   The undercoat layer preferably contains a compound having an onium group. The compounds having an onium group are described in detail in JP-A Nos. 2000-10292 and 2000-108538. In addition, a compound selected from the group of polymer compounds having a structural unit represented by poly (p-vinylbenzoic acid) in the molecule can also be used. Specific examples of these polymer compounds include a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltriethylammonium salt, a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltrimethylammonium chloride, and the like. .

この有機下塗り層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗り層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
有機下塗り層の被覆量は、耐刷性能の観点から、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。
上記のようにして作製された平版印刷版原版は、画像様に露光され、その後、現像処理を施される。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in the above organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, followed by washing with water or the like and drying to provide an organic undercoat layer. In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by mass of the organic compound can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to a pH range of 1 to 12 with basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the image recording material.
The coverage of the organic undercoat layer, from the viewpoint of printing durability, 2 to 200 mg / m 2 are suitable, and preferably from 5 to 100 mg / m 2.
The lithographic printing plate precursor produced as described above is imagewise exposed and then developed.

(バックコート層)
本発明の平版印刷版原版の支持体裏面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。かかるバックコート層としては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Si(OCH34、Si(OC254、Si(OC374、Si(OC494などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
(Back coat layer)
A back coat layer is provided on the back surface of the support of the lithographic printing plate precursor according to the invention, if necessary. Such a back coat layer comprises a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. A coating layer is preferably used. Among these coating layers, silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , and Si (OC 4 H 9 ) 4 are available at a low price. The coating layer of the metal oxide obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent developer resistance.

〔露光〕
本発明の平版印刷版原版の像露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
〔exposure〕
The actinic ray light source used for image exposure of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is preferably a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferred.

〔現像処理〕
本発明の平版印刷版原版の現像処理に適用することのできる現像液は、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは12.0〜13.5の範囲にある現像液である。現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
[Development processing]
The developer that can be applied to the development processing of the lithographic printing plate precursor according to the invention is a developer having a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably in the range of 12.0 to 13.5. A conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer (hereinafter referred to as developer including the replenisher). For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記のアルカリ水溶液のうち、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは、塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シリケート現像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液であり、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」である。   Among the above alkaline aqueous solutions, one of the developers exhibiting the effect of the present invention contains one containing an alkali silicate as a base, or an alkali silicate mixed with a silicon compound in a base, The so-called “silicate developer” is an aqueous solution having a pH of 12 or more, and another more preferable developer does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base. “Non-silicate developer”.

前者においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔SiO2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含有量が1〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4質量%であり、且つ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。 In the former, the aqueous solution of alkali metal silicate is represented by the ratio of silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate to alkali metal oxide M 2 O (generally expressed as a molar ratio of [SiO 2 ] / [M 2 O]. ) And the density, the developing property can be adjusted. For example, as disclosed in JP-A-54-62004, the molar ratio of SiO 2 / Na 2 O is 1.0 to 1.5 (that is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and an aqueous solution of sodium silicate having a SiO 2 content of 1 to 4 mass% is disclosed in JP-B-57-7427. As described, [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (ie, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), and SiO 2 The developer is based on gram atoms of all alkali metals present in the developer. A manner containing potassium at least 20%, aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used.

また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」も、本発明の平版印刷版原版の現像に適用するのに好ましい。この現像液を用いて、平版印刷版原版の現像処理を行うと、記録層の表面を劣化させることがなく、且つ記録層の着肉性をより良好な状態に維持することができる。   A so-called “non-silicate developer” that does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base is also preferable for application to the development of the lithographic printing plate precursor according to the invention. When the development processing of the lithographic printing plate precursor is performed using this developer, the surface of the recording layer is not deteriorated and the thickness of the recording layer can be maintained in a better state.

この現像液は、その主成分が、非還元糖から選ばれる少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種の塩基からなり、液のpHが9.0〜13.5の範囲であることが好ましい。かかる非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも好適に用いられる。トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしてはD,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット及びアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトール及びオリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)が好適に用いられる。これらの中で特に好ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にD−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に緩衝作用があることと、低価格であることで好ましい。   The main component of the developer is preferably composed of at least one compound selected from non-reducing sugars and at least one base, and the pH of the solution is in the range of 9.0 to 13.5. Such non-reducing sugars are saccharides that do not have a free aldehyde group or ketone group and do not exhibit reducing properties, and are trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded to each other, and glycosides in which a reducing group of saccharides and non-saccharides are bonded. It is classified into sugar alcohols reduced by hydrogenating the body and saccharides, and any of them is preferably used. Trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, mustard oil glycosides, and the like. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit and allozulcit. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide and a reduced form (reduced water candy) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide are preferably used. Among these, sugar alcohol and saccharose are particularly preferred non-reducing sugars, and D-sorbite, saccharose, and reduced syrup are particularly preferred because they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.

これらの非還元糖は、単独若しくは二種以上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める割合は、緩衝作用の効果や現像性の観点から、0.1〜30質量%が好ましく、更に好ましくは、1〜20質量%である。   These non-reducing sugars can be used singly or in combination of two or more, and the proportion of the non-reducing sugar in the developer is preferably 0.1 to 30% by mass from the viewpoint of buffering effect and developability, Preferably, it is 1-20 mass%.

非還元糖に組み合わせる塩基としては従来より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。   A conventionally known alkaline agent can be used as the base to be combined with the non-reducing sugar. For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, Examples include inorganic alkali agents such as ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.

これらのアルカリ剤は単独若しくは二種以上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいのは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである、その理由は、非還元糖に対するこれらの量を調整することにより広いpH領域でpH調整が可能となるためである。また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。
これらのアルカリ剤は現像液のpHを9.0〜13.5の範囲になるように添加され、その添加量は所望のpH、非還元糖の種類と添加量によって決められるが、より好ましいpH範囲は10.0〜13.2である。
These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable because the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting these amounts relative to the non-reducing sugar. Further, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable because they have a buffering action.
These alkali agents are added so that the pH of the developer is in the range of 9.0 to 13.5, and the addition amount is determined by the desired pH, the type and addition amount of the non-reducing sugar, and more preferable pH. The range is 10.0 to 13.2.

現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液として用いられる弱酸としては、解離定数(pKa)が10.0〜13.2のものが好ましい。
このような弱酸としては、Pergamon Press社発行のIONISATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTIONなどに記載されているものから選ばれ、例えば2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール−1(PKa12.74)、トリフルオロエタノール(同12.37)、トリクロロエタノール(同12.24)などのアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド(同12.68)、ピリジン−4−アルデヒド(同12.05)などのアルデヒド類、サリチル酸(同13.0)、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(同12.84)、カテコール(同12.6)、没食子酸(同12.4)、スルホサリチル酸(同11.7)、3,4−ジヒドロキシスルホン酸(同12.2)、3,4−ジヒドロキシ安息香酸(同11.94)、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン(同11.82)、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール(同11.34)、o−クレゾール(同10.33)、レゾルシノール(同11.27)、p−クレゾール(同10.27)、m−クレゾール(同10.09)などのフェノール性水酸基を有する化合物、2−ブタノンオキシム(同12.45)、アセトキシム(同12.42)、1,2−シクロヘプタンジオンジオキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグリオキシム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム(同11.37)、アセトフェノンオキシム(同11.35)などのオキシム類、アデノシン(同12.56)、イノシン(同12.5)、グアニン(同12.3)、シトシン(同12.2)、ヒポキサンチン(同12.1)、キサンチン(同11.9)などの核酸関連物質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸(同12.32)、1−アミノ−3,3,3−トリフルオロ安息香酸(同12.29)、イソプロピリデンジホスホン酸(同12.10)、1,1−エチリデンジホスホン酸(同11.54)、1,1−エチリデンジホスホン酸1−ヒドロキシ(同11.52)、ベンズイミダゾール(同12.86)、チオベンズアミド(同12.8)、ピコリンチオアミド(同12.55)、バルビツル酸(同12.5)などの弱酸が挙げられる。
Further, an alkaline buffer composed of a weak acid other than sugars and a strong base can be used in combination with the developer. As the weak acid used as such a buffer, one having a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2 is preferable.
Such a weak acid is selected from those described in IONATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION published by Pergamon Press, for example, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (PKa12.74) , Alcohols such as trifluoroethanol (12.37) and trichloroethanol (12.24), aldehydes such as pyridine-2-aldehyde (12.68) and pyridine-4-aldehyde (12.05) , Salicylic acid (13.0), 3-hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicylic acid (11.7) 3,4-dihydroxysulfonic acid (12) 2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,4-trihydroxybenzene (11.82), hydroquinone (11.56), pyrogallol (11.34), o -Compounds having phenolic hydroxyl groups such as cresol (10.33), resorcinol (11.27), p-cresol (10.27), m-cresol (10.09), 2-butanone oxime ( 12.45), acetoxime (12.42), 1,2-cycloheptanedione dioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (11.9) ), Ethanediamide dioxime (11.37), oximes such as acetophenone oxime (11.35), adenosine (12.5 6) Nucleic acid-related substances such as inosine (12.5), guanine (12.3), cytosine (12.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9), etc. Diethylaminomethylphosphonic acid (12.32), 1-amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.29), isopropylidenediphosphonic acid (12.10), 1,1-ethylidene Diphosphonic acid (11.54), 1,1-ethylidene diphosphonic acid 1-hydroxy (11.52), benzimidazole (12.86), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (same as above) Weak acids such as 12.55) and barbituric acid (12.5).

これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホサリチル酸、サリチル酸である。これらの弱酸に組み合わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムが好適に用いられる。これらのアルカリ剤は単独若しくは二種以上を組み合わせて用いられる。上記の各種アルカリ剤は濃度及び組み合わせによりpHを好ましい範囲内に調整して使用される。   Of these weak acids, sulfosalicylic acid and salicylic acid are preferred. As the base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium are preferably used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. The above various alkali agents are used by adjusting the pH within a preferable range by the concentration and combination.

現像液には、現像性の促進や現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。   Various surfactants and organic solvents can be added to the developer as necessary for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.

界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水レイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホべタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含される。   Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan Fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, poly Glycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acids Nonionic surfactants such as ethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxy Alkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene Alkylsulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated tallow oil Fatty acid alkyl ester sulfate ester salt, alkyl sulfate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester salt, fatty acid monoglyceride sulfate ester salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate ester salt, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salt, alkyl phosphorus Acid ester salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid ester salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphoric acid ester salts, partially saponified products of styrene / leic anhydride copolymer, partial saponification of olefin / maleic anhydride copolymer Products, anionic surfactants such as naphthalenesulfonate formalin condensates, alkylamine salts, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, Examples thereof include cationic surfactants such as reoxyethylene alkylamine salts and polyethylene polyamine derivatives, and amphoteric surfactants such as carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines. Among the surfactants listed above, those having polyoxyethylene can be read as polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene and polyoxybutylene, and these surfactants are also included.

更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤である。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチオン型及びパーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の界面活性剤は、単独若しくは2種以上を組み合わせて使用することができ、現像液中に0.001〜10質量%、より好ましくは0.01〜5質量%の範囲で添加される。   A more preferred surfactant is a fluorosurfactant containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, anionic types such as perfluoroalkyl phosphates, amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines, and perfluoroalkyltrimethylammonium salts. Cationic and perfluoroalkyl amine oxides, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups Nonionic types such as group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, and lipophilic group-containing urethanes can be mentioned. Said surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, and is added in 0.001-10 mass% in a developing solution, More preferably, it is added in 0.01-5 mass%.

現像液には、種々の現像安定化剤を用いることができる。それらの好ましい例として、特開平6−282079号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩及びジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭50−51324号公報記載のアニオン界面活性剤又は両性界面活性剤、また特開昭55−95946号公報記載の水溶性カチオニックポリマー、特開昭56−142528号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質を挙げることができる。   Various development stabilizers can be used in the developer. Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. A salt is a preferred example. Furthermore, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are described. And water-soluble amphoteric polymer electrolytes that have been used.

更に、特開昭59−84241号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭60−111246号公報記載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭60−129750号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭61−215554号公報記載の重量平均分子量300以上のポリエチレングリコール、特開昭63−175858号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平2−39157号公報の酸又はアルコールに4モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。   Furthermore, an organic boron compound to which an alkylene glycol is added as described in JP-A-59-84241, a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant as described in JP-A-60-111246, An alkylenediamine compound substituted with polyoxyethylene / polyoxypropylene disclosed in JP-A-60-129750, a polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more described in JP-A-61-215554, and a cation described in JP-A-63-175858 And a fluorine-containing surfactant having a functional group, a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol disclosed in JP-A-2-39157, and a water-soluble polyalkylene compound.

現像液には更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が約10質量%以下のものが適しており、好ましくは5質量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニル−1−プロパノール、4−フェニル−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタノール、2−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシクロヘキサノール及び4−メチルシクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミン及びN−フェニルジエタノールアミンなどを挙げることができる。
有機溶剤の含有量は使用液の総質量に対して0.1〜5質量%である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
If necessary, an organic solvent is further added to the developer. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by mass or less are suitable, and are preferably selected from those having 5% by mass or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2- Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples thereof include amines and N-phenyldiethanolamine.
Content of the organic solvent is 0.1-5 mass% with respect to the total mass of a use liquid. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because the amount of the surfactant is small, and if the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, and therefore it is impossible to expect good developability.

現像液には更に還元剤を加えることができる。これは印刷版の汚れを防止するものである。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、2−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸及び亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げることができる。
これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、0.05〜5質量%の範囲で含有される。
A reducing agent can be further added to the developer. This prevents the printing plate from being stained. Preferable organic reducing agents include phenol compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, metol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin, and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. More preferable inorganic reducing agents include sodium, potassium and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, hydrogen phosphite, dihydrogen phosphite, thiosulfuric acid and dithionite. A salt etc. can be mentioned.
Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the antifouling effect. These reducing agents are preferably contained in the range of 0.05 to 5% by mass with respect to the developing solution at the time of use.

現像液には更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸及びステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数8〜12のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒドロシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。   An organic carboxylic acid can also be added to the developer. Preferred organic carboxylic acids are aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include caproic acid, enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. . Further, it may be an unsaturated fatty acid having a double bond in the carbon chain or a branched carbon chain. The aromatic carboxylic acid is a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring or the like, and specifically includes o-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p- Hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydrobenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3, There are 5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid and the like. Naphthoic acid is particularly effective.

上記脂肪族及び芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩又はアンモニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はないが、0.1質量%より低いと効果が十分でなく、また10質量%以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して0.1〜10質量%であり、より好ましくは0.5〜4質量%である。   The aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as sodium salts, potassium salts or ammonium salts in order to enhance water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if it is less than 0.1% by mass, the effect is not sufficient, and if it is 10% by mass or more, the effect cannot be further improved. In addition, dissolution may be hindered when other additives are used in combination. Therefore, the preferable addition amount is 0.1 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 4% by mass with respect to the developing solution at the time of use.

現像液には、更に必要に応じて、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤及び硬水軟化剤などを含有させることもできる。硬水軟化剤としては例えば、ポリリン酸及びそのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸及び1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸及びそれらのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)及び1−ヒドロキシタエン−1,1−ジホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩を挙げることができる。   If necessary, the developer may further contain a preservative, a colorant, a thickener, an antifoaming agent, a hard water softening agent, and the like. Examples of water softeners include polyphosphoric acid and its sodium, potassium and ammonium salts, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetra Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylene Phosphonic acid), triethylenetetramine hexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and 1-hydro The lower edge 1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts.

このような硬水軟化剤はそのキレート化と使用される硬水の硬度及び硬水の量によって最適値が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲である。この範囲より少ない添加量では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさない程度が適当である。   The optimum value of such a hard water softener varies depending on its chelation and the hardness of the hard water used and the amount of hard water. %, More preferably in the range of 0.01 to 0.5 mass%. If the addition amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved. If the addition amount is more than this range, adverse effects on the image area such as color loss will occur. The remaining component of the developer is water. It is advantageous in terms of transportation that the developer is a concentrated solution having a water content less than that in use and is diluted with water when in use. In this case, the degree of concentration is appropriate such that each component does not cause separation or precipitation.

本発明に用いられる現像液としてはまた、特開平6−282079号公報記載の現像液も使用できる。これは、SiO2/M2O(Mはアルカリ金属を示す)のモル比が0.5〜2.0の珪酸アルカリ金属塩と、水酸基を4以上有する糖アルコールに5モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物を含有する現像液である。糖アルコールは糖のアルデヒド基及びケトン基を還元してそれぞれ第一、第二アルコール基としたものに相当する多価アルコールである。糖アルコールの貝体的な例としては、D,L−トレイット、エリトリット、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズルシット、アロズルシットなどであり、更に糖アルコールを縮合したジ、トリ、テトラ、ペンタ及びヘキサグリセリンなども挙げられる。上記水溶性エチレンオキシド付加化合物は上記糖アルコール1モルに対し5モル以上のエチレンオキシドを付加することにより得られる。更にエチレンオキシド付加化合物には必要に応じてプロピレンオキシドを溶解性が許容できる範囲でブロック共重合させてもよい。これらのエチレンオキシド付加化合物は単独若しくは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの水溶性エチレンオキシド付加化合物の添加量は現像液(使用液)に対して0.001〜5質量%が適しており、より好ましくは0.001〜2質量%である。
The developer described in JP-A-6-282079 can also be used as the developer used in the present invention. This is because 5 mol or more of ethylene oxide is added to an alkali metal silicate having a molar ratio of SiO 2 / M 2 O (M represents an alkali metal) of 0.5 to 2.0 and a sugar alcohol having 4 or more hydroxyl groups. A developer containing a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained in this manner. Sugar alcohols are polyhydric alcohols corresponding to those obtained by reducing aldehyde groups and ketone groups of sugars to form primary and secondary alcohol groups, respectively. Examples of sugar alcohol shells include D, L-trait, erythritol, D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, dulcite, allozulcit, and the like, and di-, tri-, tetra-, penta-, and hexaglycerin condensed with a sugar alcohol are also included. The water-soluble ethylene oxide addition compound can be obtained by adding 5 mol or more of ethylene oxide to 1 mol of the sugar alcohol. Further, propylene oxide may be block-copolymerized to the ethylene oxide addition compound as required within a range where solubility is acceptable. These ethylene oxide addition compounds may be used alone or in combination of two or more.
0.001-5 mass% is suitable for the addition amount of these water-soluble ethylene oxide addition compounds with respect to a developing solution (use liquid), More preferably, it is 0.001-2 mass%.

この現像液には更に、現像性の促進や現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。   The developer may further contain the above-described various surfactants and organic solvents as needed for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving ink affinity of the printing plate image area.

かかる組成の現像液で現像処理された平版印刷版原版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明の平版印刷版原版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   A lithographic printing plate precursor developed with a developer having such a composition is subjected to post-treatment with a washing water, a rinse solution containing a surfactant, a finisher mainly composed of gum arabic or starch derivatives, or a protective gum solution. The These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention.

近年、型版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、PS版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、PS版を搬送する装置と、各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みのPS版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像及び後処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによってPS版を浸漬搬送させて現像処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水を版面に供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈水としで再利用する方法も知られている。   In recent years, automatic developing machines for PS plates have been widely used in the stencil and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for conveying the PS plate, each processing liquid tank and a spray device, and the exposed PS plate is pumped up while being transported horizontally. Each processing solution is sprayed from a spray nozzle to develop and post-process. In addition, recently, a PS plate is immersed and transported in a processing solution tank filled with a processing solution by a guide roll in the solution, and a small amount of washing water after development is supplied to the plate surface for washing. A method is also known in which the waste water is reused as dilution water for the developer stock solution.

このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼動時間等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。   In such automatic processing, each processing solution can be processed while being replenished with each replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

本発明の平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行なう方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   In the lithographic printing plate precursor according to the invention, image portions unnecessary for the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming (for example, film edge marks of the original film, etc.) ), Unnecessary image portions are erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. As described in JP-A-59-174842, a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber can also be used.

以上のようにして本発明の平版印刷版原版より得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、或いは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained from the lithographic printing plate precursor of the present invention as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitizing gum if desired, but lithographic printing with a higher printing durability. If you want to make a plate, you will be burned. In the case of burning a lithographic printing plate, before burning, an adjustment as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to treat with a surface liquid.
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed and applied in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.

整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。 In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass). The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting liquid is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. In this case, the heating temperature and time are in the range of 180 to 300 ° C. and preferably in the range of 1 to 20 minutes, although depending on the type of components forming the image.

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。   The lithographic printing plate that has been burned can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound is used. In such a case, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such processing is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to an Example, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

〔実施例1〜4〕
[支持体の作製]
<アルミニウム板>
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.025質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理及びろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作製した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmに仕上げ、JIS 1050材のアルミニウム板を得た。なお、得られたアルミニウムの平均結晶粒径の短径は50μm、長径は300μmであった。このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理に供した。
[Examples 1 to 4]
[Production of support]
<Aluminum plate>
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.025 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: It contains 0.03% by mass, and the balance is prepared by using an aluminum alloy of Al and inevitable impurities. After the molten metal treatment and filtration, an ingot having a thickness of 500 mm and a width of 1200 mm is obtained by a DC casting method. Produced. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, it was kept soaked at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Furthermore, after performing heat processing using a continuous annealing machine at 500 degreeC, it finished by cold rolling to 0.24 mm in thickness, and obtained the aluminum plate of JIS1050 material. The obtained aluminum had an average crystal grain size with a minor axis of 50 μm and a major axis of 300 μm. After making this aluminum plate width 1030mm, it used for the surface treatment shown below.

<表面処理>
表面処理は、以下の(a)〜(k)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後には、ニップローラーで液切りを行った。
(a)機械的粗面化処理
比重1.12の研磨剤(パミス)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。研磨剤の平均粒径は30μm、最大粒径は100μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は45mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
<Surface treatment>
In the surface treatment, the following various treatments (a) to (k) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.
(A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of a polishing agent (pumice) having a specific gravity of 1.12 and water as a polishing slurry liquid to the surface of the aluminum plate, mechanical roughening is performed by a rotating nylon brush. Surface treatment was performed. The average particle size of the abrasive was 30 μm, and the maximum particle size was 100 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 45 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を10g/m2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above was subjected to an etching treatment by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 2.6% by mass, an aluminum ion concentration of 6.5% by mass and a temperature of 70 ° C. / M 2 dissolved. Then, water washing by spraying was performed.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a process of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間が0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 10.5 g / L aqueous solution of nitric acid (containing 5 g / L of aluminum ions and 0.007% by mass of ammonium ions) at a liquid temperature of 50 ° C. AC power supply waveform is 0.8 msec until the current value reaches the peak from zero, duty ratio is 1: 1, and trapezoidal rectangular wave alternating current is used to perform electrochemical surface roughening treatment with the carbon electrode as the counter electrode. went. Ferrite was used for the auxiliary anode.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.50g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) Alkaline etching treatment The aluminum plate was subjected to etching treatment at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass to dissolve the aluminum plate by 0.50 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.

(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(F) Desmut treatment Desmut treatment was performed by spraying with a 15% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used in the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in the nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸5.0g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間が0.8msec、duty比1:1、台形の炬形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 5.0 g / L aqueous solution (containing 5 g / L of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform is subjected to electrochemical surface roughening using a carbon electrode as a counter electrode, using a trapezoidal trapezoidal wave alternating current with a time until the current value reaches a peak from zero for 0.8 msec, a duty ratio of 1: 1. went. Ferrite was used for the auxiliary anode.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkaline etching treatment An aluminum plate was subjected to an etching treatment at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and the aluminum plate was dissolved at 0.10 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening treatment was performed using alternating current in the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(I) Desmutting treatment A desmutting treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(j)陽極酸化処理
陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
(J) Anodizing treatment Anodizing treatment is performed using an anodizing apparatus (first and second electrolysis section length 6 m, first and second feeding section length 3 m, first and second feeding section length 2.4 m each). It was. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

(k)アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理槽中へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行い、表面シリケート親水化処理された支持体を得た。上記のようにして得られたアルカリ金属珪酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は12mg/m2であった。
(K) Alkali metal silicate treatment An aluminum support obtained by anodizing treatment was immersed in a treatment tank of a 1% by mass aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds. Acid salt treatment (silicate treatment) was performed. Thereafter, washing with water using well water was performed to obtain a support subjected to a surface silicate hydrophilization treatment. On the aluminum support after the alkali metal silicate treatment obtained as described above, an undercoat solution having the following composition was applied and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film. The coating amount of the coating film after drying was 12 mg / m 2 .

<下塗り液組成>
・下記化合物 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
<Undercoat liquid composition>
・ The following compound 0.3g
・ Methanol 100g
・ Water 1g

Figure 2005107112
Figure 2005107112

[記録層(重層)の形成]
得られた下塗り済みの支持体に下記組成の下層用塗布液1を乾燥後の塗布量が0.85g/m2になるようバーコーターで塗布したのち160℃で44秒間乾燥し、直ちに17〜20℃の冷風で支持体の温度が35℃になるまで冷却した。
その後、下記組成の上層用塗布液1を乾燥後の塗布量が0.25g/m2になるようバーコーター塗布したのち、148℃で25秒間乾燥し、更に20〜26℃の風で徐冷し、実施例1〜4の平版印刷版原版を作製した。
[Formation of recording layer (multilayer)]
The lower layer coating solution 1 having the following composition was coated on the obtained undercoated support with a bar coater so that the coating amount after drying was 0.85 g / m 2 , and then dried at 160 ° C. for 44 seconds, and immediately after 17 to The support was cooled to 20 ° C. with cold air at 20 ° C.
Thereafter, the coating liquid 1 for the upper layer having the following composition was coated on a bar coater so that the coating amount after drying was 0.25 g / m 2 , dried at 148 ° C. for 25 seconds, and further slowly cooled with air at 20 to 26 ° C. Then, lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 4 were produced.

<下層用塗布液1>
・下記表1に記載の特定ビニルポリマー 2.133g
・シアニン染料A(下記構造) 0.134g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.032g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの 0.0781g
・ポリマー1(下記構造) 0.035g
・メチルエチルケトン 25.41g
・1−メトキシ−2−プロパノール 12.97g
・γ−ブチロラクトン 13.18g
<Lower layer coating solution 1>
・ Specific vinyl polymer 2.133g listed in Table 1 below
・ Cyanine dye A (the following structure) 0.134 g
・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.126g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine
Hexafluorophosphate 0.032g
・ The ethyl violet counter ion is changed to 6-hydroxynaphthalenesulfonic acid 0.0781 g
・ Polymer 1 (the following structure) 0.035g
・ Methyl ethyl ketone 25.41g
・ 1-methoxy-2-propanol 12.97g
・ Γ-butyrolactone 13.18g

Figure 2005107112
Figure 2005107112

<上層用塗布液1>
・m,p−クレゾールノボラック 0.348g
(m/p比=6/4、重量平均分子量4700、
未反応クレゾール0.8質量%含有)
・ポリマー3(下記構造 MEK30%溶液) 0.1403g
・シアニン染料A(上記構造) 0.0192g
・ポリマー1(上記構造) 0.015g
・ポリマー2(下記構造) 0.00328g
・1−(4−メチルベンジル)−1−フェニルピペリジニウムの
5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ
−2−メトキシベンゼンスルホン酸塩 0.004g
・界面活性剤(ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル
HLB8.5、日光ケミカルズ(株)製 GO−4) 0.008g
・メチルエチルケトン 6.79g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.07g
<Upper layer coating solution 1>
・ M, p-cresol novolak 0.348g
(M / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4700,
Contains 0.8% by mass of unreacted cresol)
-Polymer 3 (the following structure MEK 30% solution) 0.1403g
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.0192 g
・ Polymer 1 (the above structure) 0.015 g
-Polymer 2 (the following structure) 0.00328g
1- (4-Methylbenzyl) -1-phenylpiperidinium 5-benzoyl-4-hydroxy
2-methoxybenzenesulfonate 0.004g
・ Surfactant (polyoxyethylene sorbite fatty acid ester HLB8.5, GO-4 manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.) 0.008 g
・ Methyl ethyl ketone 6.79g
・ 1-methoxy-2-propanol 13.07 g

Figure 2005107112
Figure 2005107112

〔比較例1〕
実施例1における下層用塗布液1を、特定ビニルポリマーを含有しない下記組成の下層用塗布液2に変更した以外は実施例1と同様にして比較例1の平版印刷版原版を作製した。
[Comparative Example 1]
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lower layer coating solution 1 in Example 1 was changed to a lower layer coating solution 2 having the following composition not containing a specific vinyl polymer.

<下層用塗布液2>
・アクリロニトリル/メチルメタクリレート/
メタクリル酸共重合ポリマー 2.133g
(35/45/20:重量平均分子量50,000、
酸価2.65meq/g)
・シアニン染料A(前記構造) 0.134g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.032g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの 0.0781g
・ポリマー1(前記構造) 0.035g
・メチルエチルケトン 25.41g
・1−メトキシ−2−プロパノール 12.97g
・γ−ブチロラクトン 13.18g
<Lower layer coating solution 2>
・ Acrylonitrile / Methyl methacrylate /
Methacrylic acid copolymer 2.133 g
(35/45/20: weight average molecular weight 50,000,
Acid value 2.65 meq / g)
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.134 g
・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.126g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine
Hexafluorophosphate 0.032g
・ The ethyl violet counter ion is changed to 6-hydroxynaphthalenesulfonic acid 0.0781 g
・ Polymer 1 (the above structure) 0.035 g
・ Methyl ethyl ketone 25.41g
・ 1-methoxy-2-propanol 12.97g
・ Γ-butyrolactone 13.18g

〔比較例2〕
実施例1における下層用塗布液1を、特定ビニルポリマーを含有しない下記組成の下層用塗布液3に変更した以外は実施例1と同様にして比較例2の平版印刷版原版を作製した。
[Comparative Example 2]
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lower layer coating solution 1 in Example 1 was changed to the lower layer coating solution 3 having the following composition not containing a specific vinyl polymer.

<下層用塗布液3>
・下記の樹脂(P−C) 2.133g
・シアニン染料A(前記構造) 0.124g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン
ヘキサフルオロホスフェート 0.032g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの 0.0781g
・ポリマー1(前記構造) 0.035g
・メチルエチルケトン 25.41g
・1−メトキシ−2−プロパノール 12.97g
・γ−ブチロラクトン 13.18g
<Lower layer coating solution 3>
・ The following resin (PC) 2.133 g
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.124 g
・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.126g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine
Hexafluorophosphate 0.032g
・ The ethyl violet counter ion is changed to 6-hydroxynaphthalenesulfonic acid 0.0781 g
・ Polymer 1 (the above structure) 0.035 g
・ Methyl ethyl ketone 25.41g
・ 1-methoxy-2-propanol 12.97g
・ Γ-butyrolactone 13.18g

Figure 2005107112
Figure 2005107112

〔平版印刷版原版の評価〕
(耐刷性の評価)
実施例1〜4の平版印刷版原版及び比較例1、2の平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter VXにて露光エネルギーを変えて、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2(希釈して、電導度43mS/cmとしたもの)を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサーLP940Hを用い、現像温度30℃、現像時間12秒で現像を行った。これを、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて連続して印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。枚数が多いほど耐刷性に優れるものと評価する。結果を以下の表1に示す。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
(Evaluation of printing durability)
The test patterns were drawn in the form of images by changing the exposure energy of the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 4 and the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 and 2 using a Trendsetter VX manufactured by Creo. Thereafter, development was performed at a developing temperature of 30 ° C. using a PS processor LP940H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. charged with a developer DT-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. (diluted to a conductivity of 43 mS / cm). Development was performed in 12 seconds. This was continuously printed using a printer Lithron manufactured by Komori Corporation. At this time, the number of sheets that can be printed while maintaining a sufficient ink density was measured visually to evaluate the printing durability. The larger the number, the better the printing durability. The results are shown in Table 1 below.

(耐薬品性の評価)
実施例1〜4の平版印刷版原版及び比較例1、2の平版印刷版原版を、上記耐刷性の評価と同様にして露光・現像及び印刷を行った。この際、5,000枚印刷する毎に、クリーナー(富士写真フイルム社製、マルチクリーナー)で版面を拭く工程を加え、耐薬品性を評価した。枚数が多いほど耐薬品性に優れるものと評価する。結果を以下の表1に示す。
(Evaluation of chemical resistance)
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 4 and the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 and 2 were exposed, developed and printed in the same manner as in the evaluation of printing durability. At this time, every time 5,000 sheets were printed, a process of wiping the plate surface with a cleaner (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., multi-cleaner) was added to evaluate chemical resistance. The larger the number, the better the chemical resistance. The results are shown in Table 1 below.

(インキ着肉性の評価)
前記耐薬品性の評価において、50,000枚印刷を行った時点での版面清浄作業後、さらに水拭きを行い、印刷を再開した。印刷再開から画像部にインキが供給され、安定な印物が得られるまでの刷りだし枚数によりインキ着肉性を評価した。結果を下記表1に示す。
(Evaluation of ink fillability)
In the chemical resistance evaluation, after the plate surface cleaning operation at the time when 50,000 sheets were printed, further wiping was performed, and printing was resumed. From the restart of printing, ink was supplied to the image area, and the ink inking property was evaluated by the number of printed sheets until a stable printed matter was obtained. The results are shown in Table 1 below.

Figure 2005107112
Figure 2005107112

上記表1の結果によれば、下層成分に、本発明の特徴的成分である(A)特定ビニルポリマーを用いた平版印刷版原版の実施例1〜4は、(A)特定ビニルポリマーを用いなかった比較例1、2の平版印刷版原版と比べ、耐刷性、耐薬品性、及び、インキ着肉性に優れていることが分かった。   According to the results of Table 1 above, Examples 1 to 4 of the lithographic printing plate precursor using the specific vinyl polymer (A), which is a characteristic component of the present invention, as the lower layer component use (A) the specific vinyl polymer. It was found that compared to the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 and 2 that were not present, the printing durability, chemical resistance, and ink landing property were excellent.

〔実施例5〜7〕
[支持体の作製]
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質:JIS A 1050)を苛性ソーダ濃度30g/l、アルミニウムイオン濃度10g/l、液温60℃で10秒間エッチング処理を行い、流水で水洗し、10g/l硝酸で中和洗浄後、水洗した。これを印加電圧Va=20Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、塩化水素濃度15g/l、アルミニウムイオン濃度10g/l、液温30℃の水溶液中で、500C/dm2の電気量で電気化学的な粗面化処理を行い水洗後、苛性ソーダ濃度30g/l、アルミニウムイオン濃度10g/l、液温40℃で10秒間エッチング処理を行い、流水で水洗した。次に、硫酸濃度15質量%、液温30℃の硫酸水溶液中でデスマット処理を行い水洗した。更に、液温20℃の10質量%硫酸水溶液中、直流にて電流密度6A/dm2の条件下で、陽極酸化皮膜量が2.5g/m2相当となるように陽極酸化処理し、水洗、乾燥した。その後、珪酸ナトリウム2.5質量%水溶液で30℃において10秒間処理し、基板を作製した。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.48μmであった。上記のようにして得られた珪酸塩処理後のアルミニウム基板上に、下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は17mg/m2であった。
[Examples 5 to 7]
[Production of support]
An aluminum plate (material: JIS A 1050) having a thickness of 0.3 mm is etched for 10 seconds at a caustic soda concentration of 30 g / l, an aluminum ion concentration of 10 g / l, a liquid temperature of 60 ° C., washed with running water, and washed with 10 g / l nitric acid. After neutralizing and washing with water. Using an alternating current of a sine wave under the condition of applied voltage Va = 20 V, an electric current of 500 C / dm 2 in an aqueous solution having a hydrogen chloride concentration of 15 g / l, an aluminum ion concentration of 10 g / l, and a liquid temperature of 30 ° C. The surface was subjected to an electrochemical surface roughening treatment in an amount and washed with water, followed by an etching treatment for 10 seconds at a caustic soda concentration of 30 g / l, an aluminum ion concentration of 10 g / l and a liquid temperature of 40 ° C., and then washed with running water. Next, it was desmutted in a sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 15% by mass and a liquid temperature of 30 ° C., and washed with water. Furthermore, in a 10% by mass sulfuric acid aqueous solution at a liquid temperature of 20 ° C., an anodizing treatment was performed under a condition of a current density of 6 A / dm 2 by direct current so that the amount of the anodized film was 2.5 g / m 2 , and washing with water. , Dried. Then, it processed for 10 second at 30 degreeC with 2.5 mass% sodium silicate aqueous solution, and produced the board | substrate. The centerline average roughness (Ra) of the substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.48 μm. On the silicate-treated aluminum substrate obtained as described above, an undercoat solution having the following composition was applied and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film. The coating amount of the coating film after drying was 17 mg / m 2 .

<下塗り液組成>
・下記化合物 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
<Undercoat liquid composition>
・ The following compound 0.3g
・ Methanol 100g
・ Water 1g

Figure 2005107112
Figure 2005107112

[記録層(単層)の形成]
上記で得られた支持体上に、下記組成の記録層(単層)用塗布液1を乾燥後の塗布量が1.45g/m2になるよう塗布、乾燥して記録層を形成し、実施例5〜7の平版印刷版原版を得た。
[Formation of recording layer (single layer)]
On the support obtained above, the recording layer (single layer) coating liquid 1 having the following composition was applied and dried so that the coating amount after drying was 1.45 g / m 2 to form a recording layer. The planographic printing plate precursors of Examples 5 to 7 were obtained.

<記録層(単層)用塗布液1>
・ノボラック樹脂 0.5g
(m/p−クレゾール(6/4)、重量平均分子量7,000、
未反応クレゾール0.5質量%)
・表2に記載の特定ビニルポリマー 1.0g
・シアニン染料A(前記構造) 0.15g
・無水フタル酸 0.05g
・p−トルエンスルホン酸 0.002g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.02g
・フッ素系ポリマー 0.015g
(メガファックF−176(固形分20%)、
大日本インキ化学工業(株)製)
・フッ素系ポリマー 0.035g
(メガファックMCF−312(固形分30%)、
大日本インキ化学工業(株)製)
・ラウリルステアレート 0.03g
・γ−ブチロラクトン 8.5g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
<Recording layer (single layer) coating solution 1>
・ Novolak resin 0.5g
(M / p-cresol (6/4), weight average molecular weight 7,000,
Unreacted cresol 0.5% by mass)
・ 1.0 g of specific vinyl polymers listed in Table 2
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.15 g
・ Phthalic anhydride 0.05g
・ 0.002 g of p-toluenesulfonic acid
・ Ethyl violet counter ion made into 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid 0.02 g
・ Fluorine polymer 0.015g
(Megafuck F-176 (solid content 20%),
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Fluoropolymer 0.035g
(Megafuck MCF-312 (solid content 30%),
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Lauryl stearate 0.03g
・ Γ-Butyrolactone 8.5g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol

〔比較例3〕
[記録層の形成]
実施例5と同様の下塗り済支持体に、下記組成の記録層(単層)用塗布液2を乾燥後の塗布量が1.6g/m2になるよう塗布、乾燥して記録層を形成し、比較例3の平版印刷版原版を得た。
[Comparative Example 3]
[Formation of recording layer]
A recording layer is formed by applying and drying a recording layer (single layer) coating liquid 2 having the following composition on an undercoated support similar to that of Example 5 so that the coating amount after drying is 1.6 g / m 2. Thus, a planographic printing plate precursor of Comparative Example 3 was obtained.

<記録層(単層)用塗布液2>
・ノボラック樹脂 0.5g
(m/p−クレゾール(6/4)、重量平均分子量7,000、
未反応クレゾール0.5質量%)
・アクリロニトリル/エチルアクリレート/
メタクリル酸共重合ポリマー 1.0g
(35/55/10:重量平均分子量50,000、酸価2.65meq/g)
・シアニン染料A(前記構造) 0.15g
・無水フタル酸 0.05g
・p−トルエンスルホン酸 0.002g
・エチルバイオレット対イオンを
6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.02g
・フッ素系ポリマー 0.015g
(メガファックF−176(固形分20%)、
大日本インキ化学工業(株)製)
・フッ素系ポリマー 0.035g
(メガファックMCF−312(固形分30%)、
大日本インキ化学工業(株)製)
・ラウリルステアレート 0.03g
・γ−ブチロラクトン 8.5g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
<Recording layer (single layer) coating solution 2>
・ Novolak resin 0.5g
(M / p-cresol (6/4), weight average molecular weight 7,000,
Unreacted cresol 0.5% by mass)
・ Acrylonitrile / ethyl acrylate /
Methacrylic acid copolymer 1.0 g
(35/55/10: weight average molecular weight 50,000, acid value 2.65 meq / g)
・ Cyanine dye A (the above structure) 0.15 g
・ Phthalic anhydride 0.05g
・ 0.002 g of p-toluenesulfonic acid
-Ethyl violet counter ion converted to 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid 0.02 g
・ Fluorine polymer 0.015g
(Megafuck F-176 (solid content 20%),
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Fluoropolymer 0.035g
(Megafuck MCF-312 (solid content 30%),
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Lauryl stearate 0.03g
・ Γ-Butyrolactone 8.5g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol

〔平版印刷版原版(耐刷性・耐薬品性・インキ着肉性)の評価〕
実施例5〜7及び比較例3の平版印刷版原版を実施例1と同様にして露光、現像及び印刷を行った。更に同様にして耐刷性、耐薬品性およびインキ着肉性の評価を行った。結果を以下の表2に示す。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor (printing durability, chemical resistance, ink deposition)]
The lithographic printing plate precursors of Examples 5 to 7 and Comparative Example 3 were exposed, developed and printed in the same manner as in Example 1. Furthermore, printing durability, chemical resistance, and ink landing property were evaluated in the same manner. The results are shown in Table 2 below.

Figure 2005107112
Figure 2005107112

上記表2の結果によれば、下層成分に、本発明の特徴的成分である(A)特定ビニルポリマーを用いた平版印刷版原版の実施例5〜7は、(A)特定ビニルポリマーを用いなかった比較例3の平版印刷版原版と比べ、耐刷性、耐薬品性、及び、インキ着肉性に優れていることが分かった。   According to the results in Table 2 above, Examples 5 to 7 of the lithographic printing plate precursor using the specific vinyl polymer (A), which is a characteristic component of the present invention, as the lower layer component use (A) the specific vinyl polymer. It was found that compared with the lithographic printing plate precursor of Comparative Example 3 that was not present, the printing durability, chemical resistance, and ink landing property were excellent.

〔実施例8〕
実施例1の支持体の作製において、陽極酸化処理を施した後、シリケート処理を行わなかった以外は、実施例1と同様の下塗り、記録層(下層・上層)を設け、実施例8の平版印刷版原版を作製した。
Example 8
In the production of the support of Example 1, the same undercoating and recording layer (lower layer / upper layer) as those of Example 1 were provided except that the silicate treatment was not performed after the anodic oxidation treatment. A printing plate precursor was prepared.

(耐刷性および耐薬品性の評価)
得られた実施例8の平版印刷版原版に実施例1と同様の方法で露光を行い、下記アルカリ現像液Aを仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサーLP940Hを用い、現像温度を28℃に保ち、現像時間30秒で現像を行った。その後、実施例1と同様の方法で、耐刷性及び耐薬品性の評価を行った。
(Evaluation of printing durability and chemical resistance)
The resulting lithographic printing plate precursor of Example 8 was exposed in the same manner as in Example 1, and the development temperature was 28 ° C. using a PS processor LP940H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., charged with the following alkaline developer A. Development was carried out at a development time of 30 seconds. Thereafter, printing durability and chemical resistance were evaluated in the same manner as in Example 1.

<アルカリ現像液A組成>
・SiO2・K2O 4.0質量%
(K2O/SiO2=1/1(モル比))
・クエン酸 0.5質量%
・ポリエチレングリコール変性ソルビトール 1.0質量%
(平均30ユニット付加体)
・水 50.0質量%
<Alkali developer A composition>
・ SiO 2 / K 2 O 4.0 mass%
(K 2 O / SiO 2 = 1/1 (molar ratio))
・ Citric acid 0.5% by mass
・ Polyethylene glycol modified sorbitol 1.0% by mass
(Average 30 unit adduct)
・ Water 50.0 mass%

結果は、耐刷性16万枚、耐薬品性15.5万枚であり、実施例1と同様の印刷枚数が得られた。このことにより、シリケート処理基板を用いた平版印刷版原版を非シリケート現像液で現像した実施例1と同様に、シリケートによる親水化処理を施さない基板を用いた平版印刷版原版をシリケート現像液で現像した実施例8においても、優れた耐刷性及び耐薬品性が得られることが確認された。   As a result, the printing durability was 160,000 sheets, and the chemical resistance was 150,000 sheets. The same number of printed sheets as in Example 1 was obtained. Thus, the lithographic printing plate precursor using the substrate not subjected to the hydrophilization treatment with the silicate was treated with the silicate developer as in Example 1 in which the lithographic printing plate precursor using the silicate-treated substrate was developed with a non-silicate developer. In developed Example 8, it was confirmed that excellent printing durability and chemical resistance were obtained.

Claims (1)

支持体上に、(A)環構造を主鎖に有し、且つ、活性イミド基を有するアルカリ可溶性ビニルポリマーと、(B)赤外線吸収剤と、を含有し、赤外線の照射により画像形成が可能な記録層を有する平版印刷版原版。 On the support, it contains (A) an alkali-soluble vinyl polymer having a ring structure in the main chain and an active imide group, and (B) an infrared absorber, and image formation is possible by infrared irradiation. A lithographic printing plate precursor having a flexible recording layer.
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