JP2001340900A - 脱水装置 - Google Patents
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- Treatment Of Sludge (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】含水汚泥が非定常的に且つ非定量的に供給され
るような場合であっても、円筒ストレーナ内に空気を流
入させることなく含水汚泥を所定の含水率まで脱水でき
るようにすることを技術的課題としている。 【解決手段】円筒ストレーナ（４）の供給口（４in）に
形成したホッパ（７）に供給される含水汚泥の液面位置
を検出するレベルセンサ（８）を設け、その検出信号に
基づき、含水汚泥の液面位置が予め設定されたホッパ
（７）内の下限水位（Ｌ０）まで低下したときにスクリ
ュープレス（５）の回転を停止させるようにした。
るような場合であっても、円筒ストレーナ内に空気を流
入させることなく含水汚泥を所定の含水率まで脱水でき
るようにすることを技術的課題としている。 【解決手段】円筒ストレーナ（４）の供給口（４in）に
形成したホッパ（７）に供給される含水汚泥の液面位置
を検出するレベルセンサ（８）を設け、その検出信号に
基づき、含水汚泥の液面位置が予め設定されたホッパ
（７）内の下限水位（Ｌ０）まで低下したときにスクリ
ュープレス（５）の回転を停止させるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、塗料成分を含む廃
液貯留槽に浮遊する含水率の高い塗料スラッジ等から水
分を除去するための脱水装置に関する。
液貯留槽に浮遊する含水率の高い塗料スラッジ等から水
分を除去するための脱水装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、塗装廃液の一般的な脱水処理設
備を示すものである。まず、塗装ブース４１内で塗料ミ
ストと水を気液接触させて塗料成分を捕捉した廃液は、
凝集槽４２で高分子凝集剤を添加することにより塗料成
分が不溶化されて汚泥状になる。
備を示すものである。まず、塗装ブース４１内で塗料ミ
ストと水を気液接触させて塗料成分を捕捉した廃液は、
凝集槽４２で高分子凝集剤を添加することにより塗料成
分が不溶化されて汚泥状になる。
【０００３】そして、凝集槽４２の液面に浮上した含水
汚泥を汚泥貯留槽４３に蓄えて、これをスラリーポンプ
４４で沈降槽４５に送給し、そこで沈降された含水汚泥
をさらにポンプ４６でスクリュープレス脱水装置４７に
送給し、含水率が７０％程度になるまで圧搾された脱水
汚泥を産業廃棄物として処理するようにしている。
汚泥を汚泥貯留槽４３に蓄えて、これをスラリーポンプ
４４で沈降槽４５に送給し、そこで沈降された含水汚泥
をさらにポンプ４６でスクリュープレス脱水装置４７に
送給し、含水率が７０％程度になるまで圧搾された脱水
汚泥を産業廃棄物として処理するようにしている。
【０００４】この脱水処理設備によれば、凝集槽４２と
脱水装置４７の間に、脱水装置４７に比して極めて大容
積の汚泥貯留槽４３や沈降槽４５が配されているので、
脱水装置４７の運転中にこれらが空になることはなく、
脱水装置４７に対して連続的に且つ安定的に含水汚泥を
供給することができるので、効率良く脱水処理すること
が可能となる。
脱水装置４７の間に、脱水装置４７に比して極めて大容
積の汚泥貯留槽４３や沈降槽４５が配されているので、
脱水装置４７の運転中にこれらが空になることはなく、
脱水装置４７に対して連続的に且つ安定的に含水汚泥を
供給することができるので、効率良く脱水処理すること
が可能となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、汚泥貯
留槽４３や沈降槽４５の設置面積は広大であり、限られ
た工場敷地内にこれらの設備を設けると、その敷地を有
効に利用することができないという問題があった。
留槽４３や沈降槽４５の設置面積は広大であり、限られ
た工場敷地内にこれらの設備を設けると、その敷地を有
効に利用することができないという問題があった。
【０００６】このため本発明者は、図４破線で示すよう
に、凝集槽４２で浮上した含水汚泥を脱水装置４７の供
給口に直接落とし込むようにした脱水処理設備を試作し
た。
に、凝集槽４２で浮上した含水汚泥を脱水装置４７の供
給口に直接落とし込むようにした脱水処理設備を試作し
た。
【０００７】これによれば、汚泥貯留槽４３や沈降槽４
５を省略することができるので、狭いスペースに設置す
ることができるだけでなく、いままで使用していたポン
プ類も不要になるので、設備費及びランニングコストを
大幅に低減することができるというメリットがある。
５を省略することができるので、狭いスペースに設置す
ることができるだけでなく、いままで使用していたポン
プ類も不要になるので、設備費及びランニングコストを
大幅に低減することができるというメリットがある。
【０００８】しかし、含水汚泥は凝集槽４２から脱水装
置４７に対し定量的に落とし込まれるわけではなく、間
歇的に供給される場合がほとんどであって、しかも、そ
の量が多いときもあれば少ないときもある。
置４７に対し定量的に落とし込まれるわけではなく、間
歇的に供給される場合がほとんどであって、しかも、そ
の量が多いときもあれば少ないときもある。
【０００９】このように、含水汚泥を定常的且つ定量的
に供給することができないので、脱水装置４７の運転中
に含水汚泥の供給が途切れると、脱水装置４７内に空気
が入ってしまい、その後に供給された含水汚泥が含水率
の高いまま排出されてしまうという問題があった。
に供給することができないので、脱水装置４７の運転中
に含水汚泥の供給が途切れると、脱水装置４７内に空気
が入ってしまい、その後に供給された含水汚泥が含水率
の高いまま排出されてしまうという問題があった。
【００１０】そこで本発明は、含水汚泥が非定常的に且
つ非定量的に供給されるような場合であっても、空気を
流入させることなく含水汚泥を所定の含水率まで脱水で
きるようにすることを技術的課題としている。
つ非定量的に供給されるような場合であっても、空気を
流入させることなく含水汚泥を所定の含水率まで脱水で
きるようにすることを技術的課題としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、請求項１の発明は、円筒ストレーナの一端側に形成
された供給口から流入する含水汚泥をスクリュープレス
で他端側に形成された排出口に向かって圧搾しながら移
送する脱水装置において、前記供給口に含水汚泥を一時
貯留するホッパが形成され、当該ホッパ内に貯留された
含水汚泥の液面位置を検出するレベルセンサが配され
て、当該レベルセンサの検出信号に基づき、含水汚泥の
液面位置が予め設定されたホッパ内の下限水位まで低下
したときにスクリュープレスの回転を停止させる制御装
置を備えたことを特徴とする。請求項２の発明では、含
水汚泥が前記下限水位より高い位置に設定された基準水
位に達したときに予め設定した基準回転数でスクリュー
プレスが運転され、含水汚泥の液面が前記基準水位を下
回ったときに前記基準回転数より低く設定された回転数
でスクリュープレスが運転される。請求項３の発明は、
スクリュープレスの起動前にホッパ内に供給開始された
含水汚泥が下限水位から基準水位に増えるまでの時間に
基づき単位時間当りの平均汚泥供給量を算出し、その平
均汚泥供給量の含水汚泥を圧搾処理できるスクリュープ
レスの回転数が前記基準回転数として設定される。請求
項４の発明は、含水汚泥が前記基準水位を超えたときに
基準回転数よりも高い回転数でスクリュープレスが運転
される。
に、請求項１の発明は、円筒ストレーナの一端側に形成
された供給口から流入する含水汚泥をスクリュープレス
で他端側に形成された排出口に向かって圧搾しながら移
送する脱水装置において、前記供給口に含水汚泥を一時
貯留するホッパが形成され、当該ホッパ内に貯留された
含水汚泥の液面位置を検出するレベルセンサが配され
て、当該レベルセンサの検出信号に基づき、含水汚泥の
液面位置が予め設定されたホッパ内の下限水位まで低下
したときにスクリュープレスの回転を停止させる制御装
置を備えたことを特徴とする。請求項２の発明では、含
水汚泥が前記下限水位より高い位置に設定された基準水
位に達したときに予め設定した基準回転数でスクリュー
プレスが運転され、含水汚泥の液面が前記基準水位を下
回ったときに前記基準回転数より低く設定された回転数
でスクリュープレスが運転される。請求項３の発明は、
スクリュープレスの起動前にホッパ内に供給開始された
含水汚泥が下限水位から基準水位に増えるまでの時間に
基づき単位時間当りの平均汚泥供給量を算出し、その平
均汚泥供給量の含水汚泥を圧搾処理できるスクリュープ
レスの回転数が前記基準回転数として設定される。請求
項４の発明は、含水汚泥が前記基準水位を超えたときに
基準回転数よりも高い回転数でスクリュープレスが運転
される。
【００１２】請求項１の発明によれば、円筒ストレーナ
の供給口に形成されたホッパに含水汚泥が供給され、ス
クリュープレスを回転することによりホッパ内の含水汚
泥が円筒ストレーナ内に送り込まれて脱水処理され、含
水汚泥がホッパの下限水位まで低下したときにスクリュ
ープレスが停止される。
の供給口に形成されたホッパに含水汚泥が供給され、ス
クリュープレスを回転することによりホッパ内の含水汚
泥が円筒ストレーナ内に送り込まれて脱水処理され、含
水汚泥がホッパの下限水位まで低下したときにスクリュ
ープレスが停止される。
【００１３】したがって、含水汚泥の供給量が減少した
り供給が停止されたりしても、ホッパ内の含水汚泥を最
後まで脱水処理することがなく、常に含水汚泥がホッパ
低部に残った状態でスクリュープレスが停止され、ホッ
パが空になることがないので、円筒ストレーナ内も常に
含水汚泥で満たされ、空気が混入することがない。
り供給が停止されたりしても、ホッパ内の含水汚泥を最
後まで脱水処理することがなく、常に含水汚泥がホッパ
低部に残った状態でスクリュープレスが停止され、ホッ
パが空になることがないので、円筒ストレーナ内も常に
含水汚泥で満たされ、空気が混入することがない。
【００１４】請求項２の発明によれば、含水汚泥が低水
位と基準水位の間にあるときは、予め設定した基準回転
数より低く設定された回転数でスクリュープレスが回転
される。スクリュープレスは回転数が遅いほど脱水量が
増えるので、含水率を低く抑えることができる。
位と基準水位の間にあるときは、予め設定した基準回転
数より低く設定された回転数でスクリュープレスが回転
される。スクリュープレスは回転数が遅いほど脱水量が
増えるので、含水率を低く抑えることができる。
【００１５】請求項３の発明によれば、単位時間当りの
平均汚泥供給量を算出し、その量の含水汚泥を脱水処理
できる回転数を基準回転数としているので、汚泥の供給
量に応じた最低の回転数で運転される。
平均汚泥供給量を算出し、その量の含水汚泥を脱水処理
できる回転数を基準回転数としているので、汚泥の供給
量に応じた最低の回転数で運転される。
【００１６】請求項４の発明によれば、含水汚泥が前記
基準水位を超えたときに基準回転数よりも高い回転数で
スクリュープレスが運転されるので、容量の小さいホッ
パを用いても、含水汚泥がホッパから溢れることが防止
される。
基準水位を超えたときに基準回転数よりも高い回転数で
スクリュープレスが運転されるので、容量の小さいホッ
パを用いても、含水汚泥がホッパから溢れることが防止
される。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて具体的に説明する。図１は本発明に係る脱水
装置を示す説明図、図２は制御装置の制御手順を示すフ
ローチャート、図３は含水汚泥の液面位置、スクリュー
プレスの回転数及び脱水汚泥の含水率の関係を示す説明
図である。
に基づいて具体的に説明する。図１は本発明に係る脱水
装置を示す説明図、図２は制御装置の制御手順を示すフ
ローチャート、図３は含水汚泥の液面位置、スクリュー
プレスの回転数及び脱水汚泥の含水率の関係を示す説明
図である。
【００１８】本例の脱水装置１は、塗装ブース２内で塗
料ミストと水を気液接触させて塗料成分を捕捉した廃液
に高分子凝集剤を添加することにより塗料成分を不溶化
させると共に汚泥状にして浮遊させる凝集槽３から直接
落とし込まれる含水汚泥を脱水するものである。
料ミストと水を気液接触させて塗料成分を捕捉した廃液
に高分子凝集剤を添加することにより塗料成分を不溶化
させると共に汚泥状にして浮遊させる凝集槽３から直接
落とし込まれる含水汚泥を脱水するものである。
【００１９】脱水装置１は、円筒ストレーナ４の一端側
に形成された供給口４inから流入する含水汚泥を、当該
ストレーナ４内に配されたスクリュープレス５で他端側
に形成された排出口４outに向かって移送する。
に形成された供給口４inから流入する含水汚泥を、当該
ストレーナ４内に配されたスクリュープレス５で他端側
に形成された排出口４outに向かって移送する。
【００２０】スクリュープレス５は、円錐状の回転軸５
ａの周面にらせん状のねじ羽根５ｂを形成したもので、
その回転軸５ａが細い方を供給口４in側に向け、太い方
を排出口４outに向けて配されると共に、円筒ストレー
ナ４外に配されたモータ６の回転軸６ａに連結されて回
転されるようになされている。
ａの周面にらせん状のねじ羽根５ｂを形成したもので、
その回転軸５ａが細い方を供給口４in側に向け、太い方
を排出口４outに向けて配されると共に、円筒ストレー
ナ４外に配されたモータ６の回転軸６ａに連結されて回
転されるようになされている。
【００２１】このスクリュープレス５を回転すると、含
水汚泥がねじ羽根５ｂにより押されて軸径の細い方から
太い方へ移送されることにより、軸径の太くなった部分
で圧搾され、その水分が円筒ストレーナ４を通して排出
されると共に、他端まで移送された脱水汚泥が排出口４
outから排出される。
水汚泥がねじ羽根５ｂにより押されて軸径の細い方から
太い方へ移送されることにより、軸径の太くなった部分
で圧搾され、その水分が円筒ストレーナ４を通して排出
されると共に、他端まで移送された脱水汚泥が排出口４
outから排出される。
【００２２】供給口４inには、含水汚泥を一時貯留する
ホッパ７が形成されると共に、ホッパ７の上方には含水
汚泥の液面位置を検出するレベルセンサ８が配されてお
り、このレベルセンサ８が制御装置９に接続されてい
る。
ホッパ７が形成されると共に、ホッパ７の上方には含水
汚泥の液面位置を検出するレベルセンサ８が配されてお
り、このレベルセンサ８が制御装置９に接続されてい
る。
【００２３】制御装置９は、含水汚泥の液面位置が予め
設定されたホッパ７内の下限水位Ｌ０まで低下したとき
にスクリュープレス５の回転を停止させ、前記下限水位
Ｌ０より高い位置に設定された基準水位Ｌaに達したと
きに予め設定した基準回転数Ｒaでスクリュープレス５
を運転し、前記基準水位Ｌaと下限水位Ｌ０の間にある
ときは基準回転数Ｒaより低く設定された回転数でスク
リュープレス５を運転する。
設定されたホッパ７内の下限水位Ｌ０まで低下したとき
にスクリュープレス５の回転を停止させ、前記下限水位
Ｌ０より高い位置に設定された基準水位Ｌaに達したと
きに予め設定した基準回転数Ｒaでスクリュープレス５
を運転し、前記基準水位Ｌaと下限水位Ｌ０の間にある
ときは基準回転数Ｒaより低く設定された回転数でスク
リュープレス５を運転する。
【００２４】なお、下限水位Ｌ０と基準水位Ｌaとの間
のホッパ７内の容量は、スクリュープレス５を１回転し
たときに供給口４inから流入する含水汚泥の体積の数倍
に選定されている。
のホッパ７内の容量は、スクリュープレス５を１回転し
たときに供給口４inから流入する含水汚泥の体積の数倍
に選定されている。
【００２５】図２は制御装置９の処理手順を示すフロー
チャートである。本例の脱水装置１は、含水汚泥の液面
位置が下限水位Ｌ０まで低下したときにスクリュープレ
ス５の回転が停止されるので、前回の運転を終了した時
点で含水汚泥の液面位置は下限水位Ｌ０にある。
チャートである。本例の脱水装置１は、含水汚泥の液面
位置が下限水位Ｌ０まで低下したときにスクリュープレ
ス５の回転が停止されるので、前回の運転を終了した時
点で含水汚泥の液面位置は下限水位Ｌ０にある。
【００２６】ここで、凝集槽３から含水汚泥が脱水装置
１のホッパ７内に供給開始されるのと同時に、制御装置
９をオンすると、まずステップSTP１でストップウォッ
チが起動され、次いで、ステップSTP２でレベルセンサ
８の検出信号に基づいて液面位置が基準水位Ｌaに達し
たと判断されたときに、ステップSTP３〜STP５でスクリ
ュープレス５の基準回転数Ｒaが設定され、ステップSTP
６で運転開始される。
１のホッパ７内に供給開始されるのと同時に、制御装置
９をオンすると、まずステップSTP１でストップウォッ
チが起動され、次いで、ステップSTP２でレベルセンサ
８の検出信号に基づいて液面位置が基準水位Ｌaに達し
たと判断されたときに、ステップSTP３〜STP５でスクリ
ュープレス５の基準回転数Ｒaが設定され、ステップSTP
６で運転開始される。
【００２７】すなわち、ステップSTP３ではストップウ
ォッチを停止させて、含水汚泥が所定体積分溜まったと
きの時間が計測され、これに基づきステップSTP４で、
凝集槽３から脱水装置１への単位時間あたりの平均汚泥
供給量Ｑが算出される。
ォッチを停止させて、含水汚泥が所定体積分溜まったと
きの時間が計測され、これに基づきステップSTP４で、
凝集槽３から脱水装置１への単位時間あたりの平均汚泥
供給量Ｑが算出される。
【００２８】ここで、下限水位Ｌ０と基準水位Ｌaとの
間のホッパ７内の容量Ｖ Ｈが、スクリュープレス５を１
回転したときに供給口４inから流入する含水汚泥の体積
ＶＳの３倍（ＶＨ＝３ＶＳ）に選定されており、含水汚
泥が溜まるまでの時間Ｔが１分だとすると、ステップST
P４で平均汚泥供給量Ｑ＝ＶＨ／Ｔ＝３Ｖ Ｓ（ｍ３／mi
n）が算出される。
間のホッパ７内の容量Ｖ Ｈが、スクリュープレス５を１
回転したときに供給口４inから流入する含水汚泥の体積
ＶＳの３倍（ＶＨ＝３ＶＳ）に選定されており、含水汚
泥が溜まるまでの時間Ｔが１分だとすると、ステップST
P４で平均汚泥供給量Ｑ＝ＶＨ／Ｔ＝３Ｖ Ｓ（ｍ３／mi
n）が算出される。
【００２９】そして、この値に基づきステップSTP５で
スクリュープレス５の基準回転数Ｒaが設定される。ス
クリュープレス５は１回転で体積ＶＳの含水汚泥を処理
できるので、基準回転数Ｒa＝Ｑ／ＶＳ＝３（ｒｐｍ）
となり、ステップSTP６で基準回転数Ｒaでスクリュープ
レス５を回転させるようにモータ６を起動させる。
スクリュープレス５の基準回転数Ｒaが設定される。ス
クリュープレス５は１回転で体積ＶＳの含水汚泥を処理
できるので、基準回転数Ｒa＝Ｑ／ＶＳ＝３（ｒｐｍ）
となり、ステップSTP６で基準回転数Ｒaでスクリュープ
レス５を回転させるようにモータ６を起動させる。
【００３０】即ち、凝集槽３から脱水装置１に対し含水
汚泥が平均汚泥供給量Ｑで供給される限り、ホッパ７内
の含水汚泥の液面位置は基準水位Ｌaに維持されたまま
脱水処理されることになる。
汚泥が平均汚泥供給量Ｑで供給される限り、ホッパ７内
の含水汚泥の液面位置は基準水位Ｌaに維持されたまま
脱水処理されることになる。
【００３１】運転開始後は、ステップSTP７〜STP１０に
よりホッパ７内の含水汚泥の液面位置に応じて回転数制
御が成される。即ち、ステップSTP７でレベルセンサ８
の検出信号に基づき含水汚泥の液面位置がモニタされ、
ステップSTP８で液面位置−回転数変換テーブルを参照
して回転数が設定される。
よりホッパ７内の含水汚泥の液面位置に応じて回転数制
御が成される。即ち、ステップSTP７でレベルセンサ８
の検出信号に基づき含水汚泥の液面位置がモニタされ、
ステップSTP８で液面位置−回転数変換テーブルを参照
して回転数が設定される。
【００３２】この液面位置と回転数の関係は、図３に示
すように、下限水位Ｌ０のときに０ｒｐｍ、基準水位Ｌ
aのときに基準回転数Ｒaを通るように、比例的（実線図
示）に、または、曲線的（破線図示）に設定されてい
る。
すように、下限水位Ｌ０のときに０ｒｐｍ、基準水位Ｌ
aのときに基準回転数Ｒaを通るように、比例的（実線図
示）に、または、曲線的（破線図示）に設定されてい
る。
【００３３】これによればいずれの場合も、基準水位Ｌ
aを下回ったときは基準回転数Ｒaよりも低い回転数運転
されるので排出口４outから排出される脱水汚泥の含水
率を低く抑えることができ、また、含水汚泥の供給量が
一時的に増えて基準水位Ｌaを超えたときは基準回転数
Ｒaよりも高い回転数運転されるので、含水汚泥がホッ
パ７から溢れることがない。
aを下回ったときは基準回転数Ｒaよりも低い回転数運転
されるので排出口４outから排出される脱水汚泥の含水
率を低く抑えることができ、また、含水汚泥の供給量が
一時的に増えて基準水位Ｌaを超えたときは基準回転数
Ｒaよりも高い回転数運転されるので、含水汚泥がホッ
パ７から溢れることがない。
【００３４】そして、ステップSTP９では回転数が０ｒ
ｐｍとなったか否か、即ち、含水汚泥の液面位置が下限
水位Ｌ０まで低下したか否かが判断される。そして、下
限水位Ｌ０まで低下してないときはステップSTP７に戻
って処理を継続し、下限水位Ｌ０まで低下したときはス
テップSTP１０に移行してスイッチがオフされたか否か
判断され、オフされないときはステップSTP７に戻り、
オフされたときは処理を終了する。
ｐｍとなったか否か、即ち、含水汚泥の液面位置が下限
水位Ｌ０まで低下したか否かが判断される。そして、下
限水位Ｌ０まで低下してないときはステップSTP７に戻
って処理を継続し、下限水位Ｌ０まで低下したときはス
テップSTP１０に移行してスイッチがオフされたか否か
判断され、オフされないときはステップSTP７に戻り、
オフされたときは処理を終了する。
【００３５】以上が本発明の構成であって、次にその作
用について説明する。まず、凝集槽３から含水汚泥が供
給開始されたときに、その供給量に見合った基準回転数
Ｒａが設定されるので、供給量に変動がなければ、ホッ
パ７内の含水汚泥が減ることも増えることもなく連続的
に脱水処理することができる。
用について説明する。まず、凝集槽３から含水汚泥が供
給開始されたときに、その供給量に見合った基準回転数
Ｒａが設定されるので、供給量に変動がなければ、ホッ
パ７内の含水汚泥が減ることも増えることもなく連続的
に脱水処理することができる。
【００３６】ところが実際は、凝集槽３からの含水汚泥
の供給は間歇的であり、供給量も変動するので、供給量
が減少して基準水位Ｌaより下回ったときにはスクリュ
ープレス５の回転数を基準回転数Ｒaより低下させるこ
とにより含水率をより低下させ、供給量が増加して基準
水位Ｌaより上回ったときにはスクリュープレス５の回
転数を基準回転数Ｒaより上昇させることにより処理量
を増やして含水汚泥がホッパ７から溢れないようにす
る。
の供給は間歇的であり、供給量も変動するので、供給量
が減少して基準水位Ｌaより下回ったときにはスクリュ
ープレス５の回転数を基準回転数Ｒaより低下させるこ
とにより含水率をより低下させ、供給量が増加して基準
水位Ｌaより上回ったときにはスクリュープレス５の回
転数を基準回転数Ｒaより上昇させることにより処理量
を増やして含水汚泥がホッパ７から溢れないようにす
る。
【００３７】これにより、含水汚泥の供給量に応じた最
低の回転数でスクリュープレス５を運転することができ
るので、含水汚泥を、必要最大の処理量で脱水処理し、
且つ、最低の含水率の脱水汚泥として排出させることが
できる。
低の回転数でスクリュープレス５を運転することができ
るので、含水汚泥を、必要最大の処理量で脱水処理し、
且つ、最低の含水率の脱水汚泥として排出させることが
できる。
【００３８】そして、凝集槽３からの含水汚泥の供給が
停止されるなどして、ホッパ７内の液面位置が下限水位
Ｌ０まで低下したときは、ホッパ７内に含水汚泥を残し
た状態でスクリュープレス５が停止され、脱水装置１の
円筒ストレーナ４内も常に含水汚泥で満たされているの
で、円筒ストレーナ４内に空隙が形成されることがな
い。
停止されるなどして、ホッパ７内の液面位置が下限水位
Ｌ０まで低下したときは、ホッパ７内に含水汚泥を残し
た状態でスクリュープレス５が停止され、脱水装置１の
円筒ストレーナ４内も常に含水汚泥で満たされているの
で、円筒ストレーナ４内に空隙が形成されることがな
い。
【００３９】
【発明の効果】以上述べたように、請求項１の発明によ
れば、含水汚泥がホッパ低部に残った状態でスクリュー
プレスが停止され、ホッパが空になることがないので、
円筒ストレーナ内も常に含水汚泥で満たされ、空隙の形
成による脱水効率の低下を招くことがないという大変優
れた効果を奏する。
れば、含水汚泥がホッパ低部に残った状態でスクリュー
プレスが停止され、ホッパが空になることがないので、
円筒ストレーナ内も常に含水汚泥で満たされ、空隙の形
成による脱水効率の低下を招くことがないという大変優
れた効果を奏する。
【００４０】また、請求項２の発明によれば、含水汚泥
が低水位と基準水位の間にあるときは、予め設定した基
準回転数より低く設定された回転数でスクリュープレス
が回転されるので、含水率を低く抑えることができると
いう効果がある。
が低水位と基準水位の間にあるときは、予め設定した基
準回転数より低く設定された回転数でスクリュープレス
が回転されるので、含水率を低く抑えることができると
いう効果がある。
【００４１】さらに、請求項３の発明によれば、平均汚
泥供給量の含水汚泥を脱水処理できる回転数を基準回転
数としているので、含水汚泥を、必要最大の処理量で脱
水処理し、且つ、最低の含水率の脱水汚泥として排出さ
せることができるという効果がある。
泥供給量の含水汚泥を脱水処理できる回転数を基準回転
数としているので、含水汚泥を、必要最大の処理量で脱
水処理し、且つ、最低の含水率の脱水汚泥として排出さ
せることができるという効果がある。
【００４２】さらにまた、請求項４の発明によれば、含
水汚泥が前記基準水位を超えたときに基準回転数よりも
高い回転数でスクリュープレスが運転されるので、比較
的容量の小さいホッパを用いても、含水汚泥がホッパか
ら溢れることを防止することができるという効果を奏す
る。
水汚泥が前記基準水位を超えたときに基準回転数よりも
高い回転数でスクリュープレスが運転されるので、比較
的容量の小さいホッパを用いても、含水汚泥がホッパか
ら溢れることを防止することができるという効果を奏す
る。
【図１】本発明に係る脱水装置を示す説明図。
【図２】制御装置の制御手順を示すフローチャート。
【図３】含水汚泥の液面位置、回転数及び含水率の関係
を示す説明図。
を示す説明図。
【図４】従来の設備を示す説明図。
１………脱水装置 ４………円筒ストレ
ーナ ４in……供給口 ４out……排出口 ５………スクリュープレス ７………ホッパ ８………レベルセンサ ９………制御装置 Ｌ０………下限水位 Ｌa………基準水位
ーナ ４in……供給口 ４out……排出口 ５………スクリュープレス ７………ホッパ ８………レベルセンサ ９………制御装置 Ｌ０………下限水位 Ｌa………基準水位
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川 井 正 武 神奈川県横浜市鶴見区矢向五丁目９番34号 トリニティ工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4D059 AA30 BE26 EA03 EB16 EB20
Claims (4)
- 【請求項１】円筒ストレーナ（４）の一端側に形成され
た供給口（４in）から流入する含水汚泥をスクリュープ
レス（５）で他端側に形成された排出口（４out）に向
かって圧搾しながら移送する脱水装置において、 前記供給口（４in）に含水汚泥を一時貯留するホッパ
（７）が形成され、当該ホッパ（７）内に貯留された含
水汚泥の液面位置を検出するレベルセンサ（８）が配さ
れて、当該レベルセンサ（８）の検出信号に基づき、含
水汚泥の液面位置が予め設定されたホッパ（７）内の下
限水位（Ｌ０）まで低下したときにスクリュープレス
（５）の回転を停止させる制御装置（９）を備えたこと
を特徴とする脱水装置。 - 【請求項２】前記制御装置（９）は、含水汚泥が前記下
限水位（Ｌ０）より高い位置に設定された基準水位（Ｌ
a）に達したときに予め設定した基準回転数（Ｒa）でス
クリュープレス（５）を運転し、含水汚泥の液面が前記
基準水位（Ｌa）を下回ったときに前記基準回転数（Ｒ
a）より低く設定された回転数でスクリュープレス
（５）を運転するように成された請求項１記載の脱水装
置。 - 【請求項３】前記制御装置（９）で、スクリュープレス
（５）の起動前にホッパ（７）内に供給開始された含水
汚泥が前記下限水位（Ｌ０）から基準水位（Ｌa）に増
えるまでの時間に基づき単位時間当りの平均汚泥供給量
を算出し、その平均汚泥供給量の含水汚泥を圧搾処理で
きるスクリュープレス（５）の回転数が前記基準回転数
（Ｒa）として設定する請求項２記載の脱水装置。 - 【請求項４】前記制御装置（９）は、含水汚泥が前記基
準水位（Ｌa）を超えたときに前記基準回転数（Ｒa）よ
りも高い回転数でスクリュープレス（５）を運転するよ
うに成された請求項２又は３記載の脱水装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000161245A JP3760083B2 (ja) | 2000-05-30 | 2000-05-30 | 脱水装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000161245A JP3760083B2 (ja) | 2000-05-30 | 2000-05-30 | 脱水装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001340900A true JP2001340900A (ja) | 2001-12-11 |
| JP3760083B2 JP3760083B2 (ja) | 2006-03-29 |
Family
ID=18665300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000161245A Expired - Fee Related JP3760083B2 (ja) | 2000-05-30 | 2000-05-30 | 脱水装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3760083B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023085448A1 (ko) * | 2021-11-09 | 2023-05-19 | (주)리엔텍엔지니어링 | 슬러지 건조시스템 |
| JP7502532B2 (ja) | 2020-04-01 | 2024-06-18 | 水ｉｎｇ株式会社 | スクリュープレスの運転方法 |
-
2000
- 2000-05-30 JP JP2000161245A patent/JP3760083B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO2023085448A1 (ko) * | 2021-11-09 | 2023-05-19 | (주)리엔텍엔지니어링 | 슬러지 건조시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3760083B2 (ja) | 2006-03-29 |
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