JP2001339170A - Multilayer wiring board - Google Patents

Multilayer wiring board

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JP2001339170A
JP2001339170A JP2000160573A JP2000160573A JP2001339170A JP 2001339170 A JP2001339170 A JP 2001339170A JP 2000160573 A JP2000160573 A JP 2000160573A JP 2000160573 A JP2000160573 A JP 2000160573A JP 2001339170 A JP2001339170 A JP 2001339170A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a multilayer wiring board having parallel wiring groups intersecting perpendicularly to each other in which the effect of EMI noise is reduced along with the effect of crosstalk noise. SOLUTION: A multilayer wiring body comprises a first parallel wiring group L1 formed on a first insulation layer (I3) to direct toward respective intersection side in each specified region, a second parallel wiring group L2 formed on a second insulation layer (I4) which is formed on the first insulation layer (I3) and intersecting respective first parallel wiring groups L1 perpendicularly in each region, and a through wiring group T for connecting them electrically. The first parallel wiring group L1 has respective ground wirings G1 in each region and it is surrounded by an annular ground wiring GR formed on the outer circumferential part of the first insulation layer (I3) wherein the annular ground wiring GR is connected electrically with the ground wirings G1 thus producing a multilayer wiring board. Effect of EMI noise can be reduced by the annular ground wirings GR and the second parallel wiring group L2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子回路基板等に使
用される多層配線基板に関し、より詳細には高速で作動
する半導体素子を搭載する多層配線基板における配線構
造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer wiring board used for an electronic circuit board or the like, and more particularly to a wiring structure in a multilayer wiring board on which a semiconductor element operating at a high speed is mounted.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体集積回路素子等の半導体素
子が搭載され、電子回路基板等に使用される多層配線基
板においては、内部配線用の配線導体の形成にあたっ
て、アルミナ等のセラミックスからなる絶縁層とタング
ステン(W)等の高融点金属からなる配線導体とを交互
に積層して多層配線基板を形成していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a multilayer wiring board on which a semiconductor element such as a semiconductor integrated circuit element is mounted and which is used for an electronic circuit board or the like, an insulating material made of ceramics such as alumina is used for forming a wiring conductor for internal wiring. Layers and wiring conductors made of a refractory metal such as tungsten (W) are alternately laminated to form a multilayer wiring board.

【0003】従来の多層配線基板においては、内部配線
用配線導体のうち信号配線は通常、ストリップ配線構造
とされており、信号配線として形成された配線導体の上
下に絶縁層を介していわゆるベタパターン形状の広面積
の接地(グランド)層または電源層が形成されていた。
In a conventional multilayer wiring board, signal wirings of internal wiring wiring conductors usually have a strip wiring structure, and a so-called solid pattern is formed above and below wiring conductors formed as signal wirings via insulating layers. A ground (ground) layer or a power supply layer having a wide area of the shape was formed.

【0004】また、多層配線基板が取り扱う電気信号の
高速化に伴い、絶縁層を比誘電率が10程度であるアルミ
ナセラミックスに代えて比誘電率が3.5〜5と比較的小
さいポリイミド樹脂やエポキシ樹脂を用いて形成し、こ
の絶縁層上に蒸着法やスパッタリング法等の気相成長法
による薄膜形成技術を用いて銅(Cu)からなる内部配
線用導体層を形成し、フォトリソグラフィ法により微細
なパターンの配線導体を形成して、この絶縁層と配線導
体とを多層化することにより高密度・高機能でかつ半導
体素子の高速作動が可能となる多層配線基板を得ること
も行なわれていた。
Further, with the increase in the speed of electric signals handled by the multilayer wiring board, a polyimide resin or an epoxy resin having a relatively small relative dielectric constant of 3.5 to 5 instead of an alumina ceramic having a relative dielectric constant of about 10 instead of an insulating layer. And a conductive layer for internal wiring made of copper (Cu) is formed on the insulating layer by using a thin film forming technique such as a vapor deposition method such as a vapor deposition method or a sputtering method. By forming a wiring conductor in a pattern and multiplying the insulating layer and the wiring conductor into layers, a multilayer wiring board having a high density, a high function and a high speed operation of a semiconductor element has been obtained.

【0005】一方、多層配線基板の内部配線の配線構造
として、配線のインピーダンスの整合によるリンギング
ノイズの低減や信号配線間のクロストークの低減等を図
り、しかも高密度配線を実現するために、各絶縁層の上
面に平行配線群を形成し、これを多層化して各層の配線
群のうち所定の配線同士をビア導体やスルーホール導体
等の貫通導体を介して電気的に接続する構造が提案され
ている。
On the other hand, the wiring structure of the internal wiring of the multilayer wiring board is designed to reduce ringing noise and reduce crosstalk between signal wirings by matching the impedance of the wirings, and to realize high-density wiring. A structure has been proposed in which a group of parallel wirings is formed on the upper surface of an insulating layer, and this is multi-layered to electrically connect predetermined wirings of the wiring group of each layer via through conductors such as via conductors and through-hole conductors. ing.

【0006】このような平行配線群を有する多層配線基
板においては、この多層配線基板に搭載される半導体素
子等の電子部品とこの多層配線基板が実装される実装ボ
ードとを電気的に接続するために、多層配線基板内で各
平行配線群のうちから適当な配線を選択し、異なる配線
層間における配線同士の接続はビア導体等の貫通導体を
介して行なわれる。
In a multilayer wiring board having such a parallel wiring group, an electronic component such as a semiconductor element mounted on the multilayer wiring board is electrically connected to a mounting board on which the multilayer wiring board is mounted. Then, an appropriate wiring is selected from each parallel wiring group in the multilayer wiring board, and the connection between the wirings between different wiring layers is performed via a through conductor such as a via conductor.

【0007】そして、このような多層配線基板によれ
ば、信号線をストリップ線路で構成する場合に比べて配
線層の層数を削減できるとともに、平行配線群内および
平行配線群間において、信号配線間のクロストークを低
減することができるものである。
[0007] According to such a multilayer wiring board, the number of wiring layers can be reduced as compared with the case where the signal lines are constituted by strip lines, and the signal wirings within the parallel wiring groups and between the parallel wiring groups. The crosstalk between them can be reduced.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の平行配線群を有する多層配線基板においては、搭載
される半導体素子等の電子部品の高速化に伴い、各種電
子機器等から不要な電磁波が放射されることによりこの
電磁波が電子機器内もしくは周辺の他の電気機器に対し
て侵入し、電子回路にノイズとして影響を与え、電子機
器に誤動作を引き起こす原因となるという、EMI(El
ectro-Magnetic Interference:電磁波妨害)ノイズが
問題とされるようになっている。
However, in the conventional multilayer wiring board having a group of parallel wirings, unnecessary electromagnetic waves are radiated from various electronic devices and the like as the speed of electronic components such as semiconductor elements mounted increases. EMI (Electromagnetic Interference) that this electromagnetic wave penetrates into the electronic device or other electric devices in the vicinity, affects the electronic circuit as noise, and causes the electronic device to malfunction.
ectro-Magnetic Interference (Electromagnetic Interference) Noise has become a problem.

【0009】これに対し、本発明者は、特願平11−1964
4号において、第1の絶縁層に形成され、この第1の絶
縁層の中央部に交点を有する2〜4本の直線で中心角が
略等しくなるように区分された各区分領域においてそれ
ぞれ前記交点側に向かう平行配線群から成る第1の配線
層と、前記第1の絶縁層に積層された第2の絶縁層に形
成され、前記各区分領域においてそれぞれ前記第1の配
線層と直交する平行配線群から成る第2の配線層とを貫
通導体群で電気的に接続する積層配線体を具備すること
を特徴とする多層配線基板を提案した。
On the other hand, the present inventor has disclosed in Japanese Patent Application No. 11-1964.
In No. 4, in each of the divided regions formed on the first insulating layer and divided by two to four straight lines having an intersection at the center of the first insulating layer so that the central angles are substantially equal to each other, A first wiring layer composed of a group of parallel wirings directed toward the intersection and a second insulating layer laminated on the first insulating layer, and each of the divided regions are orthogonal to the first wiring layer. There has been proposed a multilayer wiring board including a laminated wiring body for electrically connecting a second wiring layer including a parallel wiring group with a through conductor group.

【0010】これによれば、第2の配線層を構成する平
行配線群の配線は絶縁層の中央部を取り囲むようにほぼ
環状の配線構造をとることとなり、配線間のクロストー
クノイズを低減させることができるとともに、EMIノ
イズ対策としても効果を有するものとなる。特に、第2
の配線層が各区分領域の配線が接続されてなる環状配線
を有し、最外周側の環状配線が接地配線である場合に
は、EMIノイズ対策として非常に有効なものである。
According to this, the wiring of the parallel wiring group forming the second wiring layer has a substantially annular wiring structure so as to surround the central portion of the insulating layer, thereby reducing crosstalk noise between the wirings. In addition to the above, the present invention has an effect as a measure against EMI noise. In particular, the second
In the case where the wiring layer has an annular wiring formed by connecting the wirings of the respective divided regions, and the outermost annular wiring is a ground wiring, it is very effective as a measure against EMI noise.

【0011】しかしながら、この多層配線基板において
も、より完全なEMIノイズ対策を求める際には、第1
の配線層が各区分領域において絶縁層の中央部側に向か
う平行配線群から成るものであり、各平行配線がそれぞ
れ分離して形成されているため、この配線層に対する外
部からのEMIノイズの侵入を完全には抑えきれず、半
導体素子等のさらなる高速化に伴い、高レベルで安定し
た電気特性を維持して良好な動作をさせることが困難と
なる傾向が見られた。
However, even in this multilayer wiring board, when a more complete measure against EMI noise is required, the first
Is composed of a group of parallel wirings directed toward the center of the insulating layer in each of the divided regions. Since the parallel wirings are formed separately from each other, intrusion of EMI noise from outside into the wiring layers. Cannot be completely suppressed, and with the further increase in the speed of semiconductor devices and the like, there has been a tendency that it is difficult to maintain a high level of stable electrical characteristics and perform a good operation.

【0012】本発明は上記問題点に鑑み案出されたもの
であり、その目的は、所定の区分領域で交互に直交させ
て積層された平行配線群で構成され、同一層内および上
下層間における配線間のクロストークを低減させる配線
構造を有しつつ、各区分領域でそれぞれ絶縁層の中央部
側に向かう平行配線群に対してもEMIノイズの影響を
低減させることができる、高速で作動する半導体素子等
の電子部品を搭載する電子回路基板等に好適な多層配線
基板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object the purpose of the present invention to be constituted by a group of parallel wirings which are alternately stacked in a predetermined divisional area so as to be orthogonal to each other. While having a wiring structure for reducing crosstalk between wirings, it can operate at high speed, and can reduce the influence of EMI noise even on a parallel wiring group directed toward the center of the insulating layer in each of the divided regions. An object of the present invention is to provide a multilayer wiring board suitable for an electronic circuit board on which electronic components such as semiconductor elements are mounted.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の多層配線基板
は、第1の絶縁層に形成され、この第1の絶縁層の中央
部に交点を有する2〜4本の直線で中心角が略等しくな
るように区分された各区分領域においてそれぞれ前記交
点側に向かう第1の平行配線群と、前記第1の絶縁層に
積層された第2の絶縁層に形成され、前記各区分領域に
おいてそれぞれ前記第1の平行配線群と直交する第2の
平行配線群と、前記第1および第2の平行配線群を電気
的に接続する貫通導体群とから成る積層配線体を具備し
て成り、前記第1の平行配線群は各区分領域においてそ
れぞれ接地配線を有するとともに前記第1の絶縁層の外
周部に形成した環状接地配線により取り囲まれており、
かつこの環状接地配線に前記接地配線が電気的に接続さ
れていることを特徴とするものである。
A multilayer wiring board according to the present invention is formed on a first insulating layer, and has a center angle of approximately two to four straight lines having an intersection at the center of the first insulating layer. A first parallel wiring group directed toward the intersection and a second insulating layer laminated on the first insulating layer are formed in each of the divided regions so as to be equal to each other. A second parallel wiring group orthogonal to the first parallel wiring group; and a through-conductor group that electrically connects the first and second parallel wiring groups. The first parallel wiring group has a ground wiring in each of the divided regions and is surrounded by an annular ground wiring formed on an outer peripheral portion of the first insulating layer,
In addition, the ground wiring is electrically connected to the annular ground wiring.

【0014】また、本発明の多層配線基板は、上記構成
において、前記第1および第2の平行配線群は、それぞ
れ複数の信号配線と、各信号配線に隣接する電源配線ま
たは接地配線とを有することを特徴とするものである。
Further, in the multilayer wiring board according to the present invention, the first and second parallel wiring groups each have a plurality of signal wirings and a power supply wiring or a ground wiring adjacent to each signal wiring. It is characterized by the following.

【0015】本発明の多層配線基板によれば、第1およ
び第2の平行配線群を各区分領域において互いに直交配
置して上下に積層し、貫通導体群で電気的に接続して成
る積層配線体を具備して成ることから、各平行配線群同
士の配線間におけるクロストークノイズを減少させて最
小とすることができ、第2の配線層を構成する平行配線
群の配線は絶縁層の中央部を取り囲むようにほぼ環状の
配線構造をとることとなり、配線間のクロストークノイ
ズを低減させることができるとともに、EMIノイズ対
策としても効果を有するものとなり、しかも、第1の平
行配線群を第1の絶縁層の外周部に形成した環状接地配
線により取り囲んでこのこの環状接地配線に第1の平行
配線群中の接地配線を電気的に接続したことから、第1
の平行配線群内の各区分領域における接地配線を同一の
接地電位に保つことができるため半導体素子等の作動に
伴う同時スイッチングノイズを低減することが可能とな
るとともに、環状接地配線が電磁的なシールドとしても
機能するので第1の平行配線群に対するEMIノイズの
侵入も効果的に低減させることが可能となる。
According to the multilayer wiring board of the present invention, the first and second parallel wiring groups are arranged perpendicularly to each other in each of the divided regions, stacked vertically, and electrically connected by the through conductor group. The cross-talk noise between the wirings of the parallel wiring groups can be reduced and minimized, and the wirings of the parallel wiring group forming the second wiring layer are located at the center of the insulating layer. In this case, a substantially ring-shaped wiring structure is formed so as to surround the portion, so that crosstalk noise between the wirings can be reduced, and it has an effect as a measure against EMI noise. The first ground wiring in the first parallel wiring group is electrically connected to the annular ground wiring surrounded by the annular ground wiring formed on the outer peripheral portion of the first insulating layer.
Ground wiring in each of the divided regions in the parallel wiring group can be kept at the same ground potential, so that simultaneous switching noise accompanying the operation of the semiconductor element and the like can be reduced, and the circular ground wiring Since it also functions as a shield, it is possible to effectively reduce the penetration of EMI noise into the first parallel wiring group.

【0016】また、第2の平行配線群についても、各区
分領域の平行配線は第2の絶縁層の中央部を取り囲むよ
うにほぼ環状の配線構造をとることとなり、配線間のク
ロストークノイズを低減させることができるとともにE
MIノイズの影響を低減できるものである。特に、第2
の配線層が各区分領域の配線が電気的に接続されてなる
環状配線を有し、さらに最外周側の環状配線を接地配線
とした場合には、EMIノイズの影響を第1の平行配線
群における環状接地配線と同様に有効に低減させること
ができる。
Also, in the second parallel wiring group, the parallel wiring in each of the divided regions has a substantially annular wiring structure so as to surround the center of the second insulating layer. E can be reduced
The effect of the MI noise can be reduced. In particular, the second
In the case where the wiring layer has a ring wiring in which the wirings of the respective divided areas are electrically connected, and the outermost ring wiring is a ground wiring, the influence of the EMI noise is reduced to the first parallel wiring group. Can be effectively reduced in the same manner as in the case of the annular ground wiring.

【0017】これにより、本発明の多層回路基板によれ
ば、積層配線体により配線間のクロストークノイズを低
減させることができるとともに、第1の平行配線群につ
いても接地配線の電位を安定に保つことができて同時ス
イッチングノイズを低減することができ、EMIノイズ
の侵入も効果的に低減することができるので、ノイズ発
生や高周波信号の伝送損失の発生・搭載される半導体素
子等の電子部品の誤動作の発生等を引き起こすことな
く、高速で作動する半導体素子等の電子部品を正確かつ
安定に動作させることができる。
Thus, according to the multilayer circuit board of the present invention, the crosstalk noise between the wirings can be reduced by the laminated wiring body, and the potential of the ground wiring is stably maintained for the first parallel wiring group. It is possible to reduce simultaneous switching noise and effectively reduce the intrusion of EMI noise. An electronic component such as a semiconductor element that operates at a high speed can be accurately and stably operated without causing a malfunction or the like.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の多層配線基板につ
いて添付図面に示す実施例に基づき詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a multilayer wiring board according to the present invention will be described in detail based on an embodiment shown in the accompanying drawings.

【0019】本発明の多層配線基板の実施の形態の一例
を図1〜図6に示す。図1〜図6はそれぞれ本発明の多
層配線基板の実施の形態の一例における各絶縁層毎の上
面図であり、図1は上面に集積回路素子が搭載される第
1層目の絶縁層の上面図、図2はその下の第2層目の絶
縁層の上面図、図3は第3層目の絶縁層の上面図、図4
は第4層目の絶縁層の上面図、図5は第5層目の絶縁層
の上面図、図6は第5層目の絶縁層の下面図を示してい
る。
One embodiment of a multilayer wiring board according to the present invention is shown in FIGS. 1 to 6 are top views of respective insulating layers in an example of a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a first insulating layer on which an integrated circuit element is mounted. FIG. 2 is a top view of a second insulating layer thereunder, FIG. 3 is a top view of a third insulating layer below, FIG.
5 is a top view of the fourth insulating layer, FIG. 5 is a top view of the fifth insulating layer, and FIG. 6 is a bottom view of the fifth insulating layer.

【0020】これらの図において、I1〜I5はそれぞ
れ第1層目〜第5層目の絶縁層であり、この例では、第
1層目の絶縁層I1は多層配線基板の最上層となり、第
5層目の絶縁層I5は最下層となっている。また、Mは
第1層目の絶縁層I1の上面、すなわちこの多層配線基
板の上面側の表面の中央部に設けられた集積回路素子等
の半導体素子の搭載領域である。
In these figures, I1 to I5 are first to fifth insulating layers, respectively. In this example, the first insulating layer I1 is the uppermost layer of the multilayer wiring board. The fifth insulating layer I5 is the lowermost layer. M is an upper surface of the first insulating layer I1, that is, a mounting region of a semiconductor element such as an integrated circuit element provided at the center of the upper surface of the multilayer wiring board.

【0021】Cは搭載領域Mの下部で第3層目および第
5層目の絶縁層I3・I5の上面に配設されたストリッ
プ線路部の線路導体である。この例では、第3層目の絶
縁層I3上の線路導体Cは、第2層目の絶縁層I2の表
面に形成された接地導体層GLと、第4層目の絶縁層I
4の表面に形成された電源導体層PLとによりストリッ
プ線路部を形成している。また、複数の線路導体Cはそ
れぞれ接続用の貫通導体群TCを介して多層配線基板表
面の搭載領域Mに導出され、搭載される半導体素子の各
端子電極に電気的に接続される。なお、図1〜図6中に
おいて、接続用の貫通導体群TCを始めとする各貫通導
体はいずれも丸印で示している。
C is a line conductor of a strip line portion disposed below the mounting area M and on the upper surfaces of the third and fifth insulating layers I3 and I5. In this example, the line conductor C on the third insulating layer I3 includes a ground conductor layer GL formed on the surface of the second insulating layer I2 and a fourth insulating layer I2.
A strip line portion is formed by the power supply conductor layer PL formed on the surface of No. 4. Further, the plurality of line conductors C are respectively led out to the mounting area M on the surface of the multilayer wiring board via the through-hole conductor group TC for connection, and are electrically connected to the respective terminal electrodes of the mounted semiconductor element. In FIGS. 1 to 6, each through conductor including the through conductor group TC for connection is indicated by a circle.

【0022】GLは第2の絶縁層I2の表面に形成され
た接地導体層である。この接地導体層GLは、半導体素
子を第1の平行配線群L1に線路導体Cを介して効率よ
く電気的に接続するための再配列を可能にするととも
に、搭載されるデバイスの周波数に応じた接地導体層の
面積を最適化し、デバイスへの電位の供給を安定化させ
ることにより電磁ノイズに対するシールド効果を有する
ものである。この接地導体層GLは、多層配線基板にお
いて第2層目の導体層I2の上面に、下方に形成される
各線路導体Cおよび各平行配線群L1・L2の仕様に応
じて適宜形成される。このような接地導体層GLを形成
することにより、半導体素子と第1の平行配線群L1と
の間で接地配線を効率的に接続できるように再配列させ
ることができ、また電磁ノイズに対して良好なシールド
効果を有する多層配線基板を得ることができる。
GL is a ground conductor layer formed on the surface of the second insulating layer I2. The ground conductor layer GL enables rearrangement for efficiently electrically connecting the semiconductor element to the first parallel wiring group L1 via the line conductor C, and also corresponds to the frequency of the mounted device. By optimizing the area of the ground conductor layer and stabilizing the supply of the potential to the device, the device has a shielding effect against electromagnetic noise. This ground conductor layer GL is appropriately formed on the upper surface of the second conductor layer I2 in the multilayer wiring board in accordance with the specifications of each line conductor C and each parallel wiring group L1, L2 formed below. By forming such a ground conductor layer GL, the ground wiring can be rearranged so that the ground wiring can be efficiently connected between the semiconductor element and the first parallel wiring group L1. A multilayer wiring board having a good shielding effect can be obtained.

【0023】また、PLは第4層目の絶縁層I4の表面
に形成された電源導体層である。この電源導体層PL
は、接地導体層GLと同様に、電源配線を半導体素子か
ら第1の平行配線群L1に効率よく電気的に接続するた
めの再配列を可能とするものである。この電源配線層P
Lは、接地導体層GLと同様に、多層配線基板の仕様に
応じて適宜形成されるものであり、このような電源導体
層PLを形成することにより、半導体素子と第1の平行
配線群L1との間で電源配線を効率的に接続できるよう
に再配列させることができる。
Further, PL is a power supply conductor layer formed on the surface of the fourth insulating layer I4. This power supply conductor layer PL
As in the case of the ground conductor layer GL, the rearrangement for efficiently electrically connecting the power supply wiring from the semiconductor element to the first parallel wiring group L1 is enabled. This power supply wiring layer P
L is appropriately formed according to the specification of the multilayer wiring board, similarly to the ground conductor layer GL. By forming such a power supply conductor layer PL, the semiconductor element and the first parallel wiring group L1 are formed. Can be rearranged so that the power supply wiring can be connected efficiently.

【0024】これら接地導体層GLおよび電源導体層P
Lは、必要に応じて格子状としてもよく、また電源と接
地とを入れ替えて用いてもよいものである。これら各層
を接地または電源のいずれに設定するかは多層配線基板
の仕様に応じて適宜選択すればよい。
The ground conductor layer GL and the power supply conductor layer P
L may be in the form of a lattice if necessary, or may be used by exchanging the power supply and the ground. Whether each of these layers is set to the ground or the power supply may be appropriately selected according to the specifications of the multilayer wiring board.

【0025】なお、接続用の貫通導体群TCはこの接地
導体層GLとは電気的に絶縁されてこれらの層を貫通し
ている。
The through conductor group TC for connection penetrates through these layers while being electrically insulated from the ground conductor layer GL.

【0026】次に、L1およびL2はそれぞれ第3〜第
5の絶縁層I3〜I5の上面に形成された第1および第
2の平行配線群である。この例では、第3および第5の
絶縁層I3・I5の上面に第1の平行配線群L1が、第
4の絶縁層I4の上面に第2の平行配線群L2が形成さ
れて、交互に積層されている。また、P1およびP2は
それぞれ第1および第2の平行配線群L1・L2中の電
源配線、G1およびG2はそれぞれ第1および第2の平
行配線群L1・L2中の接地配線、S1およびS2はそ
れぞれ第1および第2の平行配線群L1・L2中の信号
配線を示している。
Next, L1 and L2 are first and second parallel wiring groups formed on the upper surfaces of the third to fifth insulating layers I3 to I5, respectively. In this example, the first parallel wiring group L1 is formed on the upper surface of the third and fifth insulating layers I3 and I5, and the second parallel wiring group L2 is formed on the upper surface of the fourth insulating layer I4. It is laminated. P1 and P2 are power supply wires in the first and second parallel wiring groups L1 and L2, G1 and G2 are ground wires in the first and second parallel wiring groups L1 and L2, respectively, and S1 and S2 are The signal wirings in the first and second parallel wiring groups L1 and L2 are shown.

【0027】なお、同じ平面に配設された複数の信号配
線S1・S2はそれぞれ異なる信号を伝送するものとし
てもよく、同じ平面に配設された複数の電源配線P1・
P2はそれぞれ異なる電源を供給するものとしてもよ
い。
The plurality of signal lines S1 and S2 arranged on the same plane may transmit different signals, respectively, and the plurality of power lines P1 and S1 arranged on the same plane may be used.
P2 may supply different powers.

【0028】また、外部電気回路との接続は、第2の平
行配線群L2または第1の平行配線群L1の各配線から
外部接続用の貫通導体群TCLを介してそれぞれ電気的
に接続された、第5層目の絶縁層I5の下面に配設され
た接続ランドCLに、それぞれ半田バンプ等の接続導体
を取着し、これらを外部電気回路の接続電極に電気的に
接続することによって行なわれる。なお、これら多数の
接続ランドCLのうちCLPは電源配線P1またはP2
が接続された電源用接続ランドを、CLGは接地配線G
1またはG2が接続された接地用接続ランドを、CLS
は信号配線S1またはS2が接続された信号用接続ラン
ドを示している。また、接続ランドCLには必要に応じ
て接地導体層GL・電源導体層PL・線路導体C等もそ
れぞれ貫通導体を介して電気的に接続される。
Further, the connection with the external electric circuit is electrically connected from each of the second parallel wiring group L2 or the first parallel wiring group L1 via the through conductor group TCL for external connection. A connection conductor such as a solder bump is attached to each connection land CL disposed on the lower surface of the fifth insulating layer I5, and these are electrically connected to connection electrodes of an external electric circuit. It is. CLP of these many connection lands CL is the power supply wiring P1 or P2.
Are connected to the power supply connection land, and CLG is the ground wiring G.
1 or G2 is connected to the ground connection land by CLS.
Indicates a signal connection land to which the signal wiring S1 or S2 is connected. In addition, the ground conductor layer GL, the power supply conductor layer PL, the line conductor C, and the like are also electrically connected to the connection lands CL via the through conductors as necessary.

【0029】第3層目および第5層目の絶縁層I3・I
5上の第1の平行配線群L1は、各絶縁層I3・I5の
中央部に対応する搭載領域M内に交点を有する、図3・
図5中に一点鎖線で示した2本の直線で中心角が略等し
くなるように区分された各区分領域において、それぞれ
交点側すなわち各絶縁層I3・I5の中央部の搭載領域
M側に向かう平行配線群で構成されている。ここでは、
略正方形状の各絶縁層I3・I5の対角線に沿った、交
点が搭載領域M内に位置する2本の直線で中心角が約90
度になるように区分された4つの区分領域を設定した場
合の例を示している。
Third and fifth insulating layers I3 and I3
5 has an intersection in a mounting area M corresponding to the center of each of the insulating layers I3 and I5.
In each of the divided areas divided by two straight lines indicated by alternate long and short dash lines in FIG. 5 so that the center angles are substantially equal, each of the divided areas is directed toward the intersection, that is, toward the mounting area M in the center of each of the insulating layers I3 and I5. It is composed of parallel wiring groups. here,
The two intersections along the diagonal of each of the substantially square insulating layers I3 and I5 are located in the mounting area M, and have a center angle of about 90.
An example is shown in which four divided areas are set so as to be different degrees.

【0030】また、第4層目の絶縁層I4上に形成され
た第2の平行配線群L2は、この各区分領域(図4中に
も一点鎖線で示す)においてそれぞれ第1の平行配線群
L1の平行配線群と直交する平行配線群で構成されてい
る。そして、ここでは、第2の平行配線群L2のうち各
区分領域の平行配線群の電源配線P2および接地配線G
2が接続されて、略正方形状の第4層目の絶縁層I4の
各辺に平行な配線を有する略正方形状の環状配線を形成
している場合の例を示している。
The second parallel wiring group L2 formed on the fourth insulating layer I4 has a first parallel wiring group in each of the divided regions (indicated by a dashed line in FIG. 4). It is composed of a parallel wiring group orthogonal to the parallel wiring group of L1. Here, in the second parallel wiring group L2, the power supply wiring P2 and the ground wiring G
2 is connected to form a substantially square ring wiring having wiring parallel to each side of the substantially square fourth insulating layer I4.

【0031】そして、これら第1の平行配線群L1と第
2の平行配線群L2とは、第3層目および第4層目の絶
縁層I3・I4に形成された貫通導体群Tにより対応す
る配線同士が適当な箇所において電気的に接続されてお
り、これにより各区分領域毎に直交する平行配線群が形
成された積層配線体である平行配線部を構成している。
The first parallel wiring group L1 and the second parallel wiring group L2 correspond to the through conductor group T formed on the third and fourth insulating layers I3 and I4. Wirings are electrically connected at appropriate places, thereby forming a parallel wiring portion which is a laminated wiring body in which a group of parallel wirings orthogonal to each of the divided regions is formed.

【0032】また、この例では第1および第2の平行配
線群L1・L2は、信号配線S1・S2に電源配線P1
・P2または接地配線G1・G2がそれぞれ隣接するよ
うに配設されている。これにより、同じ絶縁層I3〜I
5上の信号配線S1・S2間を電磁気的に遮断して、同
じ平面上の左右の信号配線S1・S2間のクロストーク
ノイズを良好に低減することができる。
In this example, the first and second parallel wiring groups L1 and L2 are connected to the signal wirings S1 and S2 by the power supply wiring P1.
P2 or ground wirings G1 and G2 are arranged adjacent to each other. Thereby, the same insulating layers I3 to I3
5 between the signal lines S1 and S2 on the same plane is electromagnetically cut off, so that crosstalk noise between the left and right signal lines S1 and S2 on the same plane can be reduced favorably.

【0033】なお、信号配線S1・S2の配置は、この
平行配線群L1・L2内に所望の配線回路を構成するよ
うに、多層配線基板の仕様に応じて適宜設定される。
The arrangement of the signal wirings S1 and S2 is appropriately set according to the specifications of the multilayer wiring board so that a desired wiring circuit is formed in the parallel wiring groups L1 and L2.

【0034】また、この例では第2の平行配線群L2の
信号配線S2の一部に対しては、それに隣接する電源配
線として電源導体層PLを利用しており、本発明の多層
配線基板は、平行配線群とストリップ線路部とを備える
場合には、このように変形してもよい。
In this example, the power supply conductor layer PL is used as a power supply wiring adjacent to a part of the signal wiring S2 of the second parallel wiring group L2. In the case where a group of parallel wirings and a strip line portion are provided, such a modification may be made.

【0035】さらに、信号配線S1・S2に必ず電源配
線P1・P2または接地配線G1・G2を隣接させるこ
とで、信号配線S1・S2間のクロストークノイズを遮
断して効果的に低減させることができる。また、同じ平
面上の電源配線P1・P2と信号配線S1・S2、なら
びに接地配線G1・G2と信号配線S1・S2との相互
結合が最大となり、信号配線S1・S2の電流経路を最
短にできる。このため、信号配線S1・S2から電源配
線P1・P2および接地配線G1・G2へ至るインダク
タンス値を減少させることができ、デバイスのスイッチ
ング時の電源ノイズおよび接地ノイズを効果的に低減す
ることができる。
Further, by always making the power supply lines P1 and P2 or the ground lines G1 and G2 adjacent to the signal lines S1 and S2, crosstalk noise between the signal lines S1 and S2 can be cut off and effectively reduced. it can. Further, the mutual coupling between the power supply wirings P1 and P2 and the signal wirings S1 and S2 and the ground wirings G1 and G2 and the signal wirings S1 and S2 on the same plane is maximized, and the current path of the signal wirings S1 and S2 can be minimized. . For this reason, the inductance value from the signal wirings S1 and S2 to the power supply wirings P1 and P2 and the ground wirings G1 and G2 can be reduced, and power supply noise and ground noise at the time of device switching can be effectively reduced. .

【0036】なお、このことは、第1の平行配線群L1
の下方または第2の平行配線群L2をさらに積層して多
層化した場合には、これらの配線層についても同様に該
当するものである。
This is because the first parallel wiring group L1
Below or the second parallel wiring group L2 is further laminated to form a multi-layer structure, these wiring layers also apply.

【0037】本発明の多層配線基板によれば、このよう
に区分領域を設定し、各区分領域においてそれぞれ互い
に直交する平行配線群が形成された積層配線体を具備す
るものとすることにより、第2の平行配線群L2を構成
する平行配線群の電源配線P2および接地配線G2は第
4層目の絶縁層I4の中央部を取り囲むようにほぼ環状
の配線構造をとることとなり、さらに環状に配置される
電源配線P2および接地配線G2を最適化することによ
り外部からのEMIノイズの侵入や外部への不要な電磁
波ノイズの放射をシールドする効果を有するものとな
り、信号配線間のクロストークノイズを低減させること
ができるとともに、EMI対策としても効果を有するも
のとなる。
According to the multilayer wiring board of the present invention, the divided regions are set as described above, and the laminated wiring body in which parallel wiring groups orthogonal to each other are formed in each of the divided regions is provided. The power supply wiring P2 and the ground wiring G2 of the parallel wiring group constituting the second parallel wiring group L2 have a substantially ring-shaped wiring structure so as to surround the center of the fourth insulating layer I4, and are further disposed in a ring shape. By optimizing the power supply wiring P2 and the grounding wiring G2, an effect of shielding the intrusion of EMI noise from the outside and the radiation of unnecessary electromagnetic wave noise to the outside is obtained, and the crosstalk noise between the signal wirings is reduced. In addition to this, it is effective as an EMI measure.

【0038】さらに、この第2の平行配線群L2は、図
4に示すようにその配線層中の最外周側の環状配線が接
地配線G2である場合には、この環状の接地配線G2の
面積や貫通導体群との接続を最適化することにより、よ
り効果的にEMIノイズに対してシールド効果を有する
ものとなり、有効なEMI対策を施すことができる。
Further, as shown in FIG. 4, when the outermost peripheral annular wiring in the wiring layer is the ground wiring G2 as shown in FIG. 4, the area of the annular ground wiring G2 is By optimizing the connection with the through conductor group and the through conductor group, a more effective shielding effect against EMI noise can be obtained, and effective EMI countermeasures can be taken.

【0039】これら第1の平行配線群L1は第3層目お
よび第5層目の絶縁層I3・I5上に、すなわちストリ
ップ線路部の複数の線路導体Cと同一面内に形成されて
おり、例えばそのうちの信号配線S1が、信号配線であ
る複数の線路導体Cのそれぞれとその面内で搭載領域M
の周辺において接続されている。また、第2の平行配線
群L2は第4層目の絶縁層I4上に形成されており、第
1の平行配線群L1とは貫通導体群Tで電気的に接続さ
れている。これにより、搭載領域Mに搭載される半導体
素子の各端子電極と第1または第2の平行配線群L1・
L2とが、ストリップ線路部を介して電気的に接続され
ている。
The first parallel wiring group L1 is formed on the third and fifth insulating layers I3 and I5, that is, in the same plane as the plurality of line conductors C of the strip line portion. For example, one of the signal wirings S1 is a plurality of line conductors C, which are signal wirings, and a mounting area M
Are connected around. Further, the second parallel wiring group L2 is formed on the fourth insulating layer I4, and is electrically connected to the first parallel wiring group L1 by the through conductor group T. Thereby, each terminal electrode of the semiconductor element mounted in the mounting area M and the first or second parallel wiring group L1.
L2 is electrically connected via a strip line section.

【0040】このような配線構造とした本発明の多層配
線基板によれば、狭ピッチで極めて高密度に配設された
半導体素子の入出力電極に接続された配線をストリップ
線路部において線路導体Cの配線ピッチ(配線間隔)を
拡げ、また信号配線・電源配線・接地配線を再配列し
て、平行配線群に適した広ピッチの配線に展開し再配列
して接続することができるので、平行配線群が有する優
れた電気的特性を活かしつつ高密度化された入出力電極
を有する半導体素子と効率よく電気的接続を行なうこと
ができる。しかも、ストリップ線路部により、さらには
信号配線がすべて展開されるまでこのストリップ線路部
を複数積層して設けてそれぞれに対応した平行配線群を
併設することにより、半導体素子からの信号配線・電源
配線・接地配線を効率よく再配列してその周囲の平行配
線群との接続に最適な配線に設定して平行配線群に展開
することができるので、半導体素子の高密度化に対応し
て多層化を図る場合にも、配線設計を最適化してその積
層数を低減させることが可能となる。
According to the multi-layer wiring board of the present invention having such a wiring structure, the wiring connected to the input / output electrodes of the semiconductor elements arranged at a very small pitch and extremely high density is connected to the line conductor C in the strip line portion. The wiring pitch (wiring interval) can be expanded, and the signal wiring, power supply wiring, and ground wiring can be rearranged and expanded into wide-width wiring suitable for the parallel wiring group. Electrical connection can be efficiently performed with a semiconductor element having input / output electrodes of high density while utilizing the excellent electrical characteristics of the wiring group. In addition, a plurality of the strip line portions are stacked and provided until all the signal wires are unfolded, and parallel wiring groups corresponding to the strip line portions are provided in parallel.・ Efficient rearrangement of ground wiring, setting of optimal wiring for connection with surrounding parallel wiring group, and development of parallel wiring group enable multi-layering in response to higher density of semiconductor elements In this case, it is possible to optimize the wiring design and reduce the number of layers.

【0041】そして、本発明の多層配線基板において
は、第3層目および第5層目の絶縁層I3・I5の外周
部に環状接地配線GRを形成して第1の平行配線群L1
を取り囲み、この環状接地配線GRに第1の平行配線群
L1の接地配線G1を電気的に接続している。
In the multilayer wiring board of the present invention, the annular ground wiring GR is formed on the outer periphery of the third and fifth insulating layers I3 and I5 to form the first parallel wiring group L1.
, And the ground wiring G1 of the first parallel wiring group L1 is electrically connected to the annular ground wiring GR.

【0042】これにより、多層配線基板に搭載される半
導体素子等の電子部品の同時スイッチングにより、電源
配線および接地配線の電位が変動してしまうことによっ
て、第1の平行配線群L1中の電源配線P1および接地
配線G1の端部において電源配線P1と接地配線G1間
の電磁気的な結合からの高周波電流によるEMI(Elec
tro-Magnetic Interference:電磁波妨害)ノイズの自
由空間への放射、いわゆる高周波電流の縁飾りの発生に
よるEMIノイズの自由空間への放射を環状接地配線G
Rによってシールドすることができるとともに、第1の
平行配線群L1中の接地配線G1を貫通導体群Tを介す
ることなく外周部において電気的に接続することができ
るため、貫通導体群Tによる電位降下等の影響を受ける
ことなく第1の平行配線群L1の電位を安定な状態に保
つことができる。この結果、多層配線基板の周辺部から
発生し放射されるEMIノイズを大幅に低減させること
が可能となるとともにEMIノイズの侵入も効果的に低
減することもでき、第1の平行配線群L1についても接
地配線G1の電位を安定に保つことができて同時スイッ
チングノイズを低減することができ、搭載される電子部
品について高レベルで安定した電気特性を維持して良好
な動作をさせることができるものとなる。
As a result, the potentials of the power supply wiring and the ground wiring fluctuate due to the simultaneous switching of electronic components such as semiconductor elements mounted on the multilayer wiring board, and the power supply wiring in the first parallel wiring group L1 is changed. EMI (Elec) due to high-frequency current from the electromagnetic coupling between the power supply wiring P1 and the ground wiring G1 at the ends of P1 and the ground wiring G1.
tro-Magnetic Interference: Radiation of noise to free space, that is, radiation of EMI noise to free space due to generation of so-called fringe of high-frequency current, is applied to annular ground wiring G.
R can be shielded, and the ground wiring G1 in the first parallel wiring group L1 can be electrically connected at the outer peripheral portion without passing through the through conductor group T, so that the potential drop due to the through conductor group T The potential of the first parallel wiring group L1 can be maintained in a stable state without being affected by the above. As a result, EMI noise generated and radiated from the periphery of the multilayer wiring board can be significantly reduced, and the penetration of EMI noise can also be effectively reduced. Can also keep the potential of the ground wiring G1 stable, reduce simultaneous switching noise, and maintain high-level and stable electric characteristics of mounted electronic components and perform good operation. Becomes

【0043】このように、環状接地配線GRを形成する
場合、第1の平行配線群L1の周囲を取り囲むように第
3および第5の絶縁層I3・I5の外周部に配置し、特
に第2の平行配線群L2の最外周部の配線が環状の接地
配線G2の場合であれば、これに大体重なり合うように
配置するとよい。また、第2の平行配線群L2の最外周
部の配線が環状の電源配線P1の場合手あれば、これに
対して第1の平行配線群L1と第2の平行配線群L2間
の間隔の2倍以上外側に環状接地配線GRが位置するよ
うに配置するとよい。これにより、電源配線P1と接地
配線G1間における高周波電流の縁飾りの発生によるE
MIノイズの自由空間への放射をより効果的に防止する
ことができる。
As described above, when the annular ground wiring GR is formed, it is arranged on the outer peripheral portions of the third and fifth insulating layers I3 and I5 so as to surround the first parallel wiring group L1. In the case where the outermost wiring of the parallel wiring group L2 is an annular ground wiring G2, it is preferable to arrange the wiring so as to have a large weight. If the outermost peripheral wiring of the second parallel wiring group L2 is a ring-shaped power supply wiring P1, if the wiring is available, the distance between the first parallel wiring group L1 and the second parallel wiring group L2 is two. It is preferable to arrange the annular ground wiring GR so as to be at least twice as large. As a result, the high frequency current border between the power supply wiring P1 and the ground wiring G1 causes E
It is possible to more effectively prevent the emission of the MI noise into the free space.

【0044】本発明の多層配線基板においては、平行配
線部を構成する各区分領域の設定として上述の例の他に
も、第3層目および第5層目の絶縁層I3・I5の中央
部に対応する搭載領域M内に交点を有する、略正方形状
の各絶縁層I3・I5の辺のほぼ中央を通る辺に平行な
直線に沿った2本の直線で中心角が約90度になるように
区分された4つの区分領域を設定してもよく、3本の直
線で中心角が約60度と略等しくなるように区分された6
つの区分領域を設定してもよく、さらに、4本の直線で
中心角が約45度と略等しくなるように区分された8つの
区分領域を設定してもよい。
In the multilayer wiring board according to the present invention, in addition to the above-described example, the central areas of the third and fifth insulating layers I3 and I5 may be set for the respective divided areas constituting the parallel wiring section. And two central lines having a point of intersection in the mounting region M corresponding to the two substantially straight lines parallel to the sides passing through substantially the center of the sides of the insulating layers I3 and I5, and have a central angle of about 90 degrees. 4 divided areas may be set as described above, and three straight lines may be set so that the central angle is substantially equal to about 60 degrees.
One divided area may be set, and eight divided areas divided by four straight lines so that the central angle is substantially equal to about 45 degrees may be set.

【0045】これらいずれの場合であっても、上述の例
と同様に、同じ平面上の左右の信号配線S1・S2間だ
けでなく上下層の平行配線群が直交しているため上下層
間のクロストークノイズを良好に低減することができ、
信号配線S1・S2の電流経路を最短にできる。このた
め、信号配線S1・S2から電源配線P1・P2および
接地配線G1・G2へのインダクタンス値を減少させる
ことができ、デバイスのスイッチング時電源ノイズおよ
び接地ノイズを効果的に低減することができる。また、
第1の平行配線群L1に対して環状接地配線GRを設け
ることによって同時スイッチングノイズの低減やEMI
ノイズの影響の低減が行なえるとともに、第2の平行配
線群L2を構成する平行配線群の電源配線P2および接
地配線G2がそれらが形成された絶縁層の中央部を取り
囲むように環状の配線構造をとっている場合には、これ
ら電源配線P2および接地配線G2を最適化することに
より外部からのEMIノイズの侵入や外部への不要な電
磁波ノイズの放射をシールドする効果を有し、信号配線
間のクロストークノイズを低減させることができるとと
もに、EMI対策としても効果を有する。
In any of these cases, as in the above example, not only between the left and right signal wirings S1 and S2 on the same plane but also the upper and lower parallel wiring groups are orthogonal, so that the Talk noise can be reduced well,
The current path of the signal lines S1 and S2 can be minimized. Therefore, the inductance value from the signal lines S1 and S2 to the power lines P1 and P2 and the ground lines G1 and G2 can be reduced, and the power supply noise and the ground noise at the time of switching of the device can be effectively reduced. Also,
By providing the annular ground wiring GR for the first parallel wiring group L1, simultaneous switching noise can be reduced and EMI can be reduced.
In addition to reducing the influence of noise, an annular wiring structure is formed such that the power supply wiring P2 and the ground wiring G2 of the parallel wiring group forming the second parallel wiring group L2 surround the center of the insulating layer on which they are formed. In this case, by optimizing the power supply wiring P2 and the grounding wiring G2, it has an effect of shielding the intrusion of EMI noise from the outside and the radiation of unnecessary electromagnetic wave noise to the outside. Can be reduced, and it is also effective as a measure against EMI.

【0046】この第2の平行配線群L2の最外周側の環
状配線を接地配線G2としたときには、この環状の接地
配線G2の面積や貫通導体群との接続を最適化すること
によりさらに効果的にEMIノイズに対してシールド効
果を有するものとなり、有効なEMI対策を施すことが
できる。
When the outermost peripheral annular wiring of the second parallel wiring group L2 is the ground wiring G2, the area of the annular ground wiring G2 and the connection with the through conductor group are optimized to be more effective. In addition, it has a shielding effect against EMI noise, and effective EMI countermeasures can be taken.

【0047】このような本発明の多層配線基板には、例
えばその表面にMPU(Micro Processing Unit)・A
SIC(Application Specific Integrated Circuit)
・DSP(Digital Signal Processor)のような半導体
素子等の電子部品が搭載される。そして、半導体素子収
納用パッケージ等の電子部品収納用パッケージや電子部
品搭載用基板、多数の半導体集積回路素子が搭載される
いわゆるマルチチップモジュールやマルチチップパッケ
ージ、あるいはマザーボード等として使用される。これ
らの電子部品は、例えばいわゆるバンプ電極によりこの
多層配線基板の表面に実装されて、あるいは接着剤・ろ
う材等により搭載部に取着されるとともにボンディング
ワイヤ等を介して、貫通導体等により第1または第2の
平行配線群L1・L2と電気的に接続される。なお、外
部電気回路との接続部ならびに搭載される半導体素子等
の電子部品との接続部は図示していない。
In such a multilayer wiring board of the present invention, for example, an MPU (Micro Processing Unit)
SIC (Application Specific Integrated Circuit)
An electronic component such as a semiconductor device such as a DSP (Digital Signal Processor) is mounted. It is used as a package for storing electronic components such as a package for storing semiconductor devices, a substrate for mounting electronic components, a so-called multi-chip module or multi-chip package on which a large number of semiconductor integrated circuit devices are mounted, or a motherboard. These electronic components are mounted on the surface of the multilayer wiring board by, for example, so-called bump electrodes, or are attached to the mounting portion by an adhesive, a brazing material, or the like, and are also connected to the mounting portion by bonding wires or the like, and through a through conductor or the like. It is electrically connected to the first or second parallel wiring group L1, L2. A connection portion with an external electric circuit and a connection portion with an electronic component such as a semiconductor element to be mounted are not shown.

【0048】貫通導体群Tは、ここでは例えば絶縁層I
3・I4を貫通して上下の配線同士を、あるいは配線と
半導体素子または多層配線基板の表面に形成される外部
接続端子等とを電気的に接続するものであり、通常はス
ルーホール導体やビア導体等が用いられ、接続に必要な
箇所に形成される。
Here, the through conductor group T is, for example, an insulating layer I
3 and I4 to electrically connect the upper and lower wirings, or the wirings and external connection terminals formed on the surface of the semiconductor element or the multilayer wiring board. A conductor or the like is used and is formed at a location required for connection.

【0049】本発明の多層配線基板においては、積層配
線体の上下には種々の配線構造の多層配線部を積層して
多層配線基板を構成することができる。例えば、積層配
線体と同様に平行配線群を直交させて積層した構成の配
線構造、あるいはストリップ線路構造の配線構造、その
他、マイクロストリップ線路構造・コプレーナ線路構造
等を多層配線基板に要求される仕様等に応じて適宜選択
して用いることができる。
In the multilayer wiring board of the present invention, a multilayer wiring board can be formed by stacking multilayer wiring portions having various wiring structures above and below the multilayer wiring body. For example, a wiring structure of a configuration in which parallel wiring groups are orthogonally stacked like a multilayer wiring body, a wiring structure of a strip line structure, and other specifications required for a multilayer wiring board such as a microstrip line structure and a coplanar line structure. It can be appropriately selected and used according to the conditions.

【0050】また、例えば、ポリイミド絶縁層と銅蒸着
による導体層といったものを積層して、電子回路を構成
してもよい。また、チップ抵抗・薄膜抵抗・コイルイン
ダクタ・クロスコンデンサ・チップコンデンサ・電解コ
ンデンサといったものを取着して半導体素子収納用パッ
ケージを構成してもよい。
Further, for example, an electronic circuit may be formed by laminating a polyimide insulating layer and a conductor layer formed by copper vapor deposition. Further, a package for semiconductor element accommodation may be configured by attaching a chip resistor, a thin film resistor, a coil inductor, a cross capacitor, a chip capacitor, and an electrolytic capacitor.

【0051】また、各絶縁層の形状は、図示したような
略正方形状のものに限られるものではなく、長方形状や
菱形状・多角形状等の形状であってもよい。
The shape of each insulating layer is not limited to a substantially square shape as shown, but may be a rectangular shape, a rhombic shape, a polygonal shape, or the like.

【0052】なお、第1および第2の平行配線群L1・
L2は、各絶縁層の表面に形成するものに限られず、そ
れぞれの絶縁層の内部に形成したものであってもよい。
The first and second parallel wiring groups L1.
L2 is not limited to that formed on the surface of each insulating layer, and may be formed inside each insulating layer.

【0053】本発明の多層配線基板において、第3層目
〜第5層目の絶縁層I3〜I5を始めとする各絶縁層
は、例えばセラミックグリーンシート積層法によって、
酸化アルミニウム質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体
・炭化珪素質焼結体・窒化珪素質焼結体・ムライト質焼
結体・ガラスセラミックス等の無機絶縁材料を使用し
て、あるいはポリイミド・エポキシ樹脂・フッ素樹脂・
ポリノルボルネン・ベンゾシクロブテン等の有機絶縁材
料を使用して、あるいはセラミックス粉末等の無機絶縁
物粉末をエポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂で結合して成
る複合絶縁材料等の電気絶縁材料を使用して形成され
る。
In the multilayer wiring board of the present invention, each of the insulating layers including the third to fifth insulating layers I3 to I5 is formed by, for example, a ceramic green sheet laminating method.
Using inorganic insulating materials such as aluminum oxide sintered body, aluminum nitride sintered body, silicon carbide based sintered body, silicon nitride based sintered body, mullite sintered body, glass ceramic, or polyimide / epoxy Resin, fluororesin,
Use an organic insulating material such as polynorbornene / benzocyclobutene, or use an electrical insulating material such as a composite insulating material obtained by combining an inorganic insulating powder such as a ceramic powder with a thermosetting resin such as an epoxy resin. Formed.

【0054】これら絶縁層は、それぞれの絶縁層の特性
に応じて、グリーンシート積層法やビルドアップ法等の
方法により所望の多層配線基板を構成するように形成す
ればよい。これら絶縁層の厚みとしては、使用する材料
の特性に応じて、また要求される仕様に対応する機械的
強度や電気的特性・貫通導体群の形成の容易さ等の条件
を満たすように適宜設定される。
These insulating layers may be formed so as to form a desired multilayer wiring board by a method such as a green sheet laminating method or a build-up method according to the characteristics of each insulating layer. The thickness of these insulating layers is appropriately set according to the characteristics of the material used, and to satisfy conditions such as mechanical strength and electrical characteristics corresponding to required specifications and ease of forming a through conductor group. Is done.

【0055】第1および第2の平行配線群L1・L2や
環状接地配線GR、その他の配線層ならびに貫通導体群
T等は、例えばタングステンやモリブデン・モリブデン
−マンガン・銅・銀・銀−パラジウム等の金属粉末メタ
ライズ、あるいは銅・銀・ニッケル・クロム・チタン・
金・ニオブやそれらの合金等の金属材料の薄膜等から成
る。
The first and second parallel wiring groups L1 and L2, the annular ground wiring GR, other wiring layers and the through conductor group T are made of, for example, tungsten, molybdenum, molybdenum-manganese, copper, silver, silver-palladium, etc. Metallized metal powder, or copper, silver, nickel, chromium, titanium,
It is made of a thin film of a metal material such as gold, niobium, or an alloy thereof.

【0056】これら配線導体および貫通導体は、それぞ
れの材料の特性や絶縁層への形成方法に従って、例えば
厚膜印刷法により、あるいはスパッタリング法・真空蒸
着法またはメッキ法により金属層を形成した後フォトリ
ソグラフィ法により、所定のパターン形状・大きさに設
定されて形成され、各絶縁層に配設される。
These wiring conductors and through conductors are formed by forming a metal layer by a thick film printing method, for example, by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or a plating method according to the characteristics of the respective materials and the method of forming the insulating layer. It is formed in a predetermined pattern shape and size by a lithography method, and is provided on each insulating layer.

【0057】第1および第2の平行配線群L1・L2の
各配線の幅および配線間の間隔は、使用する材料の特性
に応じて、要求される仕様に対応する電気的特性や各絶
縁層への配設の容易さ等の条件を満たすように適宜設定
される。
The width of each wiring and the distance between the wirings of the first and second parallel wiring groups L1 and L2 are determined according to the characteristics of the material to be used. It is set as appropriate so as to satisfy conditions such as ease of disposition in the device.

【0058】なお、各平行配線群L1・L2の厚みは1
〜20μm程度とすることが好ましい。この厚みが1μm
未満となると配線の抵抗が大きくなるため、配線群によ
る半導体素子への良好な電源供給や安定したグランドの
確保・良好な信号の伝搬が困難となる傾向が見られる。
他方、20μmを超えるとその上に積層される絶縁層によ
る被覆が不十分となって絶縁不良となる場合がある。
The thickness of each of the parallel wiring groups L1 and L2 is 1
It is preferably about 20 μm. This thickness is 1 μm
If it is less than 1, the resistance of the wiring increases, and it tends to be difficult to provide a good power supply to the semiconductor element by the wiring group, secure a stable ground, and propagate a good signal.
On the other hand, if it exceeds 20 μm, the insulation layer laminated thereon may be insufficiently covered, resulting in poor insulation.

【0059】貫通導体群Tの各貫通導体は、横断面形状
が円形のものの他にも楕円形や正方形・長方形等の矩
形、その他の異形状のものを用いてもよい。その位置や
大きさは、使用する材料の特性に応じて、要求される仕
様に対応する電気的特性や絶縁層への形成・配設の容易
さ等の条件を満たすように適宜設定される。
Each of the through conductors of the through conductor group T may have a cross-sectional shape other than a circle, an elliptical shape, a rectangular shape such as a square or a rectangle, or any other shape. The position and size are appropriately set according to the characteristics of the material to be used, so as to satisfy conditions such as electrical characteristics corresponding to required specifications and easiness of formation and arrangement on the insulating layer.

【0060】例えば、絶縁層にガラスセラミックスを用
い、平行配線群に銅を主成分とする導体材料を用いた場
合であれば、絶縁層の厚みを100μmとし、配線の線幅
を100μm、配線間の間隔を100μm、貫通導体の径を10
0μmとすることによって、信号配線のインピーダンス
を50Ωとし、上下の平行配線群間を高周波信号の反射を
抑えた接続をすることができる。
For example, when glass ceramics is used for the insulating layer and a conductor material mainly containing copper is used for the parallel wiring group, the thickness of the insulating layer is 100 μm, the line width of the wiring is 100 μm, and the distance between the wirings is 100 μm. Is 100 μm and the diameter of the through conductor is 10
By setting the thickness to 0 μm, the impedance of the signal wiring is set to 50Ω, and the connection between the upper and lower parallel wiring groups can be performed while suppressing the reflection of the high-frequency signal.

【0061】なお、本発明は以上の実施の形態の例に限
定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で種々の変更を加えることは何ら差し支えない。例え
ば、上述の実施例では本発明を半導体素子を搭載する多
層配線基板として説明したが、これを半導体素子を収容
する半導体素子収納用パッケージや、あるいはマルチチ
ップモジュールに適用するものとしてもよい。また、絶
縁層として放熱を考慮した窒化アルミニウム質焼結体・
炭化珪素質焼結体や、低誘電率を考慮したガラスセラミ
ックス質焼結体を用いたものとしてもよい。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and that various changes may be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above-described embodiment, the present invention has been described as a multilayer wiring board on which a semiconductor element is mounted. However, the present invention may be applied to a semiconductor element housing package for housing a semiconductor element or a multi-chip module. In addition, as an insulating layer, aluminum nitride sintered body considering heat dissipation
A silicon carbide based sintered body or a glass ceramic based sintered body in consideration of a low dielectric constant may be used.

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明の多層回路基板によれば、第1お
よび第2の平行配線群を各区分領域において互いに直交
配置して上下に積層し、貫通導体群で電気的に接続して
成る積層配線体を具備して成ることから、各平行配線群
同士の配線間におけるクロストークノイズを減少させて
最小とすることができ、第2の配線層を構成する平行配
線群の配線は絶縁層の中央部を取り囲むようにほぼ環状
の配線構造をとることとなり、配線間のクロストークノ
イズを低減させることができるとともに、EMIノイズ
対策としても効果を有するものとなり、しかも、第1の
平行配線群を第1の絶縁層の外周部に形成した環状接地
配線により取り囲んでこのこの環状接地配線に第1の平
行配線群中の接地配線を電気的に接続したことから、第
1の平行配線群内の各区分領域における接地配線を同一
の接地電位に保つことができるため半導体素子等の作動
に伴う同時スイッチングノイズを低減することが可能と
なるとともに、環状接地配線が電磁的なシールドとして
も機能するので第1の平行配線群に対するEMIノイズ
の侵入も効果的に低減させることが可能となる。
According to the multi-layer circuit board of the present invention, the first and second parallel wiring groups are vertically arranged in each of the divided regions, stacked vertically, and electrically connected by the through conductor group. Since the multilayer wiring body is provided, the crosstalk noise between the wirings of the respective parallel wiring groups can be reduced and minimized, and the wiring of the parallel wiring group forming the second wiring layer is formed of an insulating layer. Has a substantially annular wiring structure so as to surround the central portion of the first parallel wiring group, it is possible to reduce crosstalk noise between the wirings, and it is effective as a measure against EMI noise. Is surrounded by an annular ground wiring formed on the outer peripheral portion of the first insulating layer, and the ground wiring in the first parallel wiring group is electrically connected to this annular ground wiring. Since the ground wiring in each of the divided areas can be maintained at the same ground potential, it is possible to reduce simultaneous switching noise due to the operation of the semiconductor element and the like, and the annular ground wiring also functions as an electromagnetic shield. Intrusion of EMI noise into the first parallel wiring group can be effectively reduced.

【0063】また、第2の平行配線群についても、各区
分領域の平行配線は第2の絶縁層の中央部を取り囲むよ
うにほぼ環状の配線構造をとることとなり、配線間のク
ロストークノイズを低減させることができるとともにE
MIノイズの影響を低減できるものである。特に、第2
の配線層が各区分領域の配線が電気的に接続されてなる
環状配線を有し、さらに最外周側の環状配線を接地配線
とした場合には、EMIノイズの影響を第1の平行配線
群における環状接地配線と同様に有効に低減させること
ができる。
Also, with respect to the second parallel wiring group, the parallel wiring in each of the divided regions has a substantially ring-shaped wiring structure so as to surround the central portion of the second insulating layer. E can be reduced
The effect of the MI noise can be reduced. In particular, the second
In the case where the wiring layer has a ring wiring in which the wirings of the respective divided areas are electrically connected, and the outermost ring wiring is a ground wiring, the influence of the EMI noise is reduced to the first parallel wiring group. Can be effectively reduced in the same manner as in the case of the annular ground wiring.

【0064】以上により、本発明によれば、所定の区分
領域で交互に直交させて積層された平行配線群で構成さ
れ、同一層内および上下層間における配線間のクロスト
ークを低減させる配線構造を有しつつ、各区分領域でそ
れぞれ絶縁層の中央部側に向かう平行配線群に対しても
EMIノイズの影響を低減させることができる、高速で
作動する半導体素子等の電子部品を搭載する電子回路基
板等に好適な多層配線基板を提供することができた。
As described above, according to the present invention, there is provided a wiring structure constituted by a group of parallel wirings alternately and orthogonally stacked in a predetermined divided region and reducing crosstalk between wirings in the same layer and between upper and lower layers. An electronic circuit mounted with electronic components such as a semiconductor element that operates at high speed and that can reduce the influence of EMI noise even in a parallel wiring group heading toward the center of the insulating layer in each of the divided regions. A multilayer wiring board suitable for a board or the like could be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の多層配線基板の実施の形態の一例を示
す、第1層目の絶縁層の上面図である。
FIG. 1 is a top view of a first insulating layer, showing an example of an embodiment of a multilayer wiring board of the present invention.

【図2】本発明の多層配線基板の実施の形態の一例を示
す、第2層目の絶縁層の上面図である。
FIG. 2 is a top view of a second insulating layer, showing an example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.

【図3】本発明の多層配線基板の実施の形態の一例を示
す、第3層目の絶縁層の上面図である。
FIG. 3 is a top view of a third insulating layer, showing an example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.

【図4】本発明の多層配線基板の実施の形態の一例を示
す、第4層目の絶縁層の上面図である。
FIG. 4 is a top view of a fourth insulating layer, showing an example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.

【図5】本発明の多層配線基板の実施の形態の一例を示
す、第5層目の絶縁層の上面図である。
FIG. 5 is a top view of a fifth insulating layer, showing an example of the embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.

【図6】本発明の多層配線基板の実施の形態の一例を示
す、第5層目の絶縁層の下面図である。
FIG. 6 is a bottom view of a fifth insulating layer, showing an example of an embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

I1〜I5・・・・第1層目〜第5層目の絶縁層 L1、L2・・・・第1、第2の平行配線群 P1、P2・・・・第1、第2の電源配線 G1、G2・・・・第1、第2の接地配線 S1、S2・・・・第1、第4の信号配線 T・・・・・・・・貫通導体群 GR・・・・・・・環状接地配線 I1 to I5... First to fifth insulating layers L1, L2... First and second parallel wiring groups P1, P2. G1, G2: first and second ground wirings S1, S2: first and fourth signal wirings T: through conductor group GR: Ring ground wiring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E338 AA03 CC01 CC04 CC06 CD02 CD11 CD13 CD32 EE13 5E346 AA02 AA04 AA12 AA15 AA29 AA32 AA43 BB02 BB03 BB04 BB06 BB07 BB12 BB13 BB15 BB16 BB20 CC02 CC10 CC17 CC18 CC19 CC21 CC32 CC35 CC36 CC37 CC38 CC39 DD16 DD17 EE22 EE32 FF23 FF27 GG02 HH04 HH05 HH06  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 5E338 AA03 CC01 CC04 CC06 CD02 CD11 CD13 CD32 EE13 5E346 AA02 AA04 AA12 AA15 AA29 AA32 AA43 BB02 BB03 BB04 BB06 BB07 BB12 BB13 BB15 BB16 BB20 CC02 CC19 CC37 CC38 CC39 DD16 DD17 EE22 EE32 FF23 FF27 GG02 HH04 HH05 HH06

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の絶縁層に形成され、該第1の絶縁
層の中央部に交点を有する2〜4本の直線で中心角が略
等しくなるように区分された各区分領域においてそれぞ
れ前記交点側に向かう第1の平行配線群と、前記第1の
絶縁層に積層された第2の絶縁層に形成され、前記各区
分領域においてそれぞれ前記第1の平行配線群と直交す
る第2の平行配線群と、前記第1および第2の平行配線
群を電気的に接続する貫通導体群とから成る積層配線体
を具備して成り、前記第1の平行配線群は各区分領域に
おいてそれぞれ接地配線を有するとともに前記第1の絶
縁層の外周部に形成した環状接地配線により取り囲まれ
ており、かつ該環状接地配線に前記接地配線が電気的に
接続されていることを特徴とする多層配線基板。
1. A method according to claim 1, wherein each of the first and second insulating layers is formed by dividing two to four straight lines having an intersection at the center of the first insulating layer so that the center angles are substantially equal. A second parallel wiring group that is formed on a first parallel wiring group heading toward the intersection and a second insulating layer laminated on the first insulating layer and that is orthogonal to the first parallel wiring group in each of the divided regions. And a through-hole conductor group that electrically connects the first and second parallel wiring groups. The first parallel wiring group is provided in each of the divided regions. A multilayer wiring having a ground wiring, being surrounded by an annular ground wiring formed on an outer peripheral portion of the first insulating layer, wherein the ground wiring is electrically connected to the annular ground wiring. substrate.
【請求項2】 前記第1および第2の平行配線群は、そ
れぞれ複数の信号配線と、各信号配線に隣接する電源配
線または接地配線とを有することを特徴とする請求項1
記載の多層配線基板。
2. The device according to claim 1, wherein each of the first and second parallel wiring groups has a plurality of signal wirings and a power supply wiring or a ground wiring adjacent to each signal wiring.
The multilayer wiring board as described in the above.
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