JP2001322312A - 複数の光走査ユニットを備える描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 描画対象となる描画パターンに応じて最適な
描画手順を選択し効率的な描画を行うことのできる描画
装置及び描画方法を提供する。 【解決手段】 本発明の描画装置は、第１の光走査ユニ
ットと、主走査方向において移動可能な第２の光走査ユ
ニットを備える。描画装置の有効描画エリアほぼ全体を
占めるような大サイズの描画パターンを描画する場合に
は、第２の光走査ユニットを主走査方方向において移動
させることで、第２の光走査ユニットのみを用いて有効
描画エリア全体に対する描画を行い、小サイズの描画パ
ターンについては、同一の描画パターンを第１及び第２
の光走査ユニットを用いて夫々同時に描画する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームの照
射により、プリント基板、フラット・パネル・ディスプ
レイ等へパターンを描画する描画装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】描画装置は、光走査ユニットが感光材に
対して照射するビームを主走査方向に偏向させるととも
に、感光材を載置する描画テーブルを主走査方向と直交
する副走査方向に移動させることで感光材全体に渡って
の描画を実行する。近年、フラット表示パネルの画面サ
イズの大型化についての要求等を背景として、広い有効
描画エリアを持つ描画装置が提供され始めている。

【０００３】描画装置において、広い有効描画エリアを
得るためには、光走査ユニットの主走査方向におけるビ
ームの有効走査幅を広げることが必要である。このよう
にビームの有効走査幅を広げるには、ポリゴンミラー、
ｆθレンズ、コンデンサレンズ等の走査光学系の部品を
大型化する必要がある。しかし、これらの光学部品の大
型化については、精度の維持、コスト等の面で一定の限
界が生じる。そこで、従来の描画装置は、感光材を載置
する描画テーブルを、光走査ユニットがビームを偏向す
る方向である主走査方向において移動可能とする構造を
採用することにより、さらに主走査方向の有効描画エリ
アの拡大化を図っている。

【０００４】このような描画装置では、描画テーブルを
主走査方向において所定位置で固定させてビームの照射
を開始すると共にビームの主走査に同期させて副走査方
向に描画テーブルを移動させることで、有効描画エリア
の一部に対する描画を行い、その後、ビームの照射を停
止して描画テーブルを主走査方向に移動させ、有効描画
エリアの残りの部分に対する描画を行うという手順によ
って、有効描画エリア全体に対する描画を実行する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このように
広い有効描画エリアを持つ描画装置において描画対象と
なる描画パターンには、大画面のディスプレイパネルの
パターンのように有効描画エリアのかなりの部分を占め
る大サイズの描画パターンだけでなく、小さなディスプ
レイパネルのパターンのような小サイズの描画パターン
も存在する。小サイズの描画パターンについては、有効
描画エリア内に複数の同一の描画パターンを含めさせ、
有効描画エリアに対する１回の描画動作で同時に複数を
描画する（所謂多面取りを行う）ことが可能である。

【０００６】従来の描画装置では、光走査ユニットが一
つであったため、描画対象となる描画パターンの内容に
よらず、常に上述の手順によって描画を行っていた。本
発明は、このような事情に鑑みてなされた。すなわち、
描画対象となる描画パターンに応じて最適な描画手順を
選択し効率的な描画を行うことのできる描画装置及び描
画方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】その為本発明の請求項１
に記載の描画装置は、描画データに基づいて変調された
レーザビームを描画面上において主走査方向に偏向させ
る光走査ユニットを複数備える描画装置であって、少な
くとも何れか一つの光走査ユニットと描画テーブルとの
位置を主走査方向において相対的に移動させる移動手段
を備えて構成される。１つの光走査ユニットと描画テー
ブルの主走査方向の位置を移動させることができるの
で、描画装置の有効描画エリアほぼ全体を占めるような
大サイズの描画パターンを描画する場合には、１つの光
走査ユニットのみを用いて有効描画エリア全体に対する
描画を行うことが可能である。また、小サイズの描画パ
ターンについては、複数の光走査ユニットで同時に描画
することで、同時に複数の描画パターンの描画を行うこ
とが可能である。

【０００８】請求項２に記載の描画装置は、光走査ユニ
ットを主走査方向において移動させる。

【０００９】また、請求項３に描画装置は、感光材を載
置する描画テーブルを主走査方向において移動させる。

【００１０】請求項４に記載の描画装置は、描画対象と
なる描画パターンの主走査方向のサイズと、前記複数の
光走査ユニットの主走査方向における夫々の有効走査幅
とを比較し、その比較結果により最適な描画方法を決定
する描画方法決定手段をさらに備える。描画方法決定手
段により、描画対象となる描画データの主走査方向のサ
イズに応じて、複数の光走査ユニットを用いて同時に同
一の描画データを複数描画を行うか、或いは、１つの光
走査ユニットのみを用いて有効描画エリア全体に対する
描画を行うかを決定することができる。

【００１１】描画方法決定手段は、描画対象となる描画
パターンの主走査方向のサイズが、複数の光走査ユニッ
トの夫々の有効走査幅のうち少なくとも何れか１つより
も大きい場合に、何れか１つの光走査ユニットのみを用
いて該描画パターンの描画を行う用に決定してもよい。
この場合、描画パターンが１つの光走査ユニットによっ
て描画されるので、ビーム強度、ビーム形状等のビーム
特性が同一のビームによって、描画パターン全体が描画
されることになり、描画パターン全体に亘るビームの均
一性が維持される（請求項５）。

【００１２】また、描画方法決定手段は、描画対象とな
る描画パターンの主走査方向のサイズが、複数の光走査
ユニットの夫々の有効走査幅のうち少なくとも何れか２
つに対して、それ以下である場合に、２つ以上の光走査
ユニットを用いて同時に２つ以上の該描画パターンの描
画を行うように決定してもよい。この場合、同一のパタ
ーンが、同時に複数描画されるので、短時間に多くの描
画物が得られ、描画装置における描画効率が向上する
（請求項６）。

【００１３】また、請求項７に記載の描画方法は、描画
データに基づいて変調されたレーザビームを描画面上に
おいて主走査方向に偏向させる光走査ユニットを複数備
える描画装置であって、少なくとも何れか一つの光走査
ユニットと描画テーブルとの位置を主走査方向において
相対的に移動させる移動手段を備える描画装置におい
て、描画対象となる描画パターンの主走査方向のサイズ
と前記複数の光走査ユニットの主走査方向における夫々
の有効走査幅とを比較するステップと、前記サイズが前
記夫々の有効走査幅のうち少なくとも何れか１つよりも
大きい場合には、何れか一つの光走査ユニットのみを用
いて前記描画パターンの描画を行うステップと、前記サ
イズが前記夫々の有効走査幅のうち少なくとも何れか２
つ以下である場合には、２以上の光走査ユニットを用い
同時に２以上の前記描画パターンの描画を行うステップ
とを有することを特徴とする。以上の手順により、描画
対象となる描画パターンのサイズに応じ、大サイズの描
画パターンについては１つの光走査ユニットのみにより
描画を行い、小サイズの描画パターンについては複数の
光走査ユニットを用いて同時に複数の描画パターンを描
画することが可能となる。

【００１４】また、請求項８に記載の描画方法は、描画
データに基づいて変調されたレーザビームを描画面上に
おいて主走査方向に偏向させる第１の光走査ユニット
と、描画データに基づいて変調されたレーザビームを描
画面上において主走査方向に偏向させる光走査ユニット
であって前記第１の光走査ユニットと主走査方向におけ
る有効走査幅が同一である第２の光走査ユニットと、前
記第２の光走査ユニットと描画テーブルの位置を主走査
方向において相対的に移動させる移動手段とを備える描
画装置において、描画対象となる描画パターンの主走査
方向のサイズと前記有効走査幅を比較するステップと、
前記サイズが前記有効走査幅より大きい場合には、第２
の光走査ユニットのみを用いて前記描画パターンの描画
を行うステップと、前記サイズが前記有効走査幅以下で
ある場合には、第１と第２の２つの光走査ユニットを用
い同時に２つ前記描画パターンの描画を行うステップと
を有することを特徴とする。以上の手順により、描画対
象となる描画パターンのサイズに応じ、大サイズの描画
パターンについては第２の光走査ユニットのみにより描
画を行い、小サイズの描画パターンについては第１と第
２の２つの光走査ユニットを用いて同時に２つの描画パ
ターンを描画することが可能となる。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１の実施形態
としての描画装置１００の概略的な構成を示す斜視図で
ある。描画装置１００には、ポリゴンミラー１２、ｆθ
レンズ１４、ターニングミラー１６及び大コンデンサレ
ンズ１８によって構成される第１の光走査ユニット４４
と、ポリゴンミラー３０、ｆθレンズ３２、ターニング
ミラー３４及び大コンデンサレンズ３６によって構成さ
れる第２の光走査ユニット４６が設けられている。

【００１６】光源２から射出されるレーザビームは、ビ
ームベンダ３，４を介してビームスプリッタ６に導かれ
る。ビームスプリッタ６で反射された一方のビームは、
電子シャッタ８に導かれる。電子シャッタ８は、例え
ば、ＡＯ（Ａｃｏｕｓｔｏ−Ｏｐｔｉｃ）変調器であ
り、描画データに応じてビームをＯＮ／ＯＦＦ変調す
る。さらに、電子シャッタ８で変調されたビームは、ポ
リゴンミラー１２の１つの分割平面に導かれる。ポリゴ
ンミラー１２は一定速度で回転運動しており、この回転
運動に伴って、ポリゴンミラー１２で反射されたビーム
は描画面上において主走査方向に偏向される。

【００１７】ポリゴンミラー１２で反射されるとともに
偏向されるビームは、ｆθレンズ１４を通過し、ターニ
ングミラー１６によって描画面方向に向きを変えられた
後、基台４１に開けられた開口を通過し大コンデンサレ
ンズ１８を介して描画面上に集光され、描画面上におい
て有効走査幅４４ａの範囲を走査する。また、感光材が
載置される描画テーブル４２は、基台４３に備え付けら
れたレール２０ａ，２０ｂに沿って、図示しない駆動機
構により、副走査方向（図のＸ軸方向）に移動できるよ
うに構成されている。すなわち、第１の光走査ユニット
４４は、有効描画エリアのうち主走査方向の幅が有効走
査幅４４ａである描画領域Ａを描画する。

【００１８】一方、ビームスプリッタ６を透過したビー
ムはビームベンダ２１で反射されて電子シャッタ２２に
導かれ、描画データに基づいてＯＮ／ＯＦＦ変調された
後、ポリゴンミラー３０の１つの分割面に導かれる。ポ
リゴンミラー３０は一定速度で回転運動しており、この
回転運動に伴い、ポリゴンミラー３０で反射されたビー
ムは描画面上において主走査方向に偏向される。

【００１９】ポリゴンミラー３０で反射されるとともに
偏向されるビームは、ｆθレンズ３２を通過後、ターニ
ングミラー３４によって描画面方向に光路を向けられ、
テーブル４０及び基台４１に設けられた開口部を通過
後、大コンデンサレンズ３６を介して描画面上に集光さ
れ、描画面上において有効走査幅４６ａで示す範囲を走
査する。すなわち、第２の光走査ユニット４６は、有効
描画領域のうち主走査方向の幅が有効走査幅４６ａであ
る描画領域Ｂを描画する。

【００２０】なお、第２の光走査ユニット４６を構成す
るポリゴンミラー３０、ｆθレンズ３２、ターニングミ
ラー３４及び大コンデンサレンズ３６等の光学部品は、
テーブル４０上に設けられている。また、テーブル４０
は、図示しない駆動機構により、基台４１に備え付けら
れたレール４５ａ，４５ｂ上で、主走査方向（図のＹ軸
方向）に褶動自在に設けられている。図１は、テーブル
４０が、Ｙ軸の正方向の限界まで移動された状態であ
る。なお、描画装置１００において、第１の光走査ユニ
ット４４による有効走査幅４４ａと第２の光走査ユニッ
ト４６による有効走査幅４６ａは等しく、描画テーブル
４２上の描画面の中心線ｌ_０で２つに分割された描画領
域Ａと描画領域Ｂの夫々の面積は等しい。

【００２１】なお、２つの描画領域Ａ，Ｂの境目部分
（中心線ｌ_０の部分）において、描画データを重複して
描画する重複描画領域を設けることで、２つの描画領域
のつなぎ目におけるパターンの不均一を目立たなくする
ことが可能である。

【００２２】テーブル４０を主走査方向（Ｙ軸方向）に
おいて任意の位置に移動させ、描画を行うことで、第２
の光走査ユニット４６による描画領域Ｂを主走査方向に
おいて任意の位置に移動させて描画を行うことが可能で
ある。テーブル４０をＹ軸の負の方向に限界まで移動さ
せた場合、第２の光走査ユニット４６による描画領域Ｂ
は第１の光走査ユニット４４による描画領域Ａと一致す
る状態となる。

【００２３】図２は、描画装置１００の制御系を概略的
に示すブロック図である。図２において、図１で示した
部品と同一部品については同一の符号を用いており、図
１を参照して説明した部品と同一のものについては説明
を省略する。

【００２４】描画装置１００は、Ｉ／Ｆ（インタフェー
ス）５２を介してネットワークケーブル５１に接続され
ており、描画対象となる描画データは、図示しない入力
手段によって直接或いはネットワークケーブル５１に接
続されたワークステーションからＩ／Ｆ５２を介して、
メモリ５３に入力される。図２において、第１の走査ユ
ニットの描画クロック発生部５６は、第１の光走査ユニ
ットで描画する描画データを制御するための画素単位の
クロック信号を発生する。すなわち、描画データ制御部
５４は、第１の走査ユニットの描画クロック発生部５６
からのクロック信号に基づいて、電子シャッタ８を変調
制御する。第２の走査ユニットの描画クロック発生部５
６’は、第２の光走査ユニットで描画する描画データを
制御するための画素単位のクロック信号を発生する。す
なわち、描画データ制御部５４は、第２の走査ユニット
の描画クロック発生部５６’からのクロック信号に基づ
いて、電子シャッタ２２を変調制御する。ＣＰＵ５０
は、メモリ５３に入力された描画データが例えば図３
（ａ）に示す描画データ６５である場合には、描画デー
タ６５の主走査方向のサイズ６５ａを確認し、それが有
効走査幅４４ａ以下のサイズである場合には、描画に先
立って、Ｘ方向駆動部５８を制御して、描画テーブル４
２の原点Ｓ_０が第１の光走査ユニット４４によるビーム
の走査開始点Ｐ_{１ １}と一致する位置まで描画テーブル４
２を副走査方向において移動させ、また、Ｙ方向駆動部
６０を制御して第２の光走査ユニット４６をＹ軸正方向
の限界位置にまで移動させる。

【００２５】続いて、描画データ制御部５４は、メモリ
５３に保持されている描画データ６５を読み出し、読み
出されたデータに基づいて電子シャッタ８及び電子シャ
ッタ２２を同時に制御してビームのＯＮ／ＯＦＦ変調を
行う。すなわち、描画データ制御部５４は、同一の描画
データを用いて電子シャッタ８及び電子シャッタ２２を
夫々制御しビームのＯＮ／ＯＦＦ変調を行う。さらに、
ＣＰＵ５０は、第１及び第２の光走査ユニットのビーム
の主走査に同期して、描画テーブル４２をＸ軸の負の方
向に移動させる。以上の動作により、メモリ５３に保持
される描画データ６５が、図３（ａ）に示すように描画
領域Ａ及び描画領域Ｂに同時に２つ描画される。

【００２６】図３（ｂ）には、図３（ａ）に示した描画
データ６５よりも大きなサイズの描画データ６７が示さ
れている。描画データ６７は、主走査方向のサイズ６７
ａが第２の光走査ユニット４６の有効走査幅４６ａを超
えるサイズであり、描画装置１００の有効描画エリアの
ほぼ全体を占めるものである。メモリ５３に描画データ
６７が入力され、描画開始指示が行われた場合、ＣＰＵ
５０は、メモリ５３に入力された描画データ６７の主走
査方向のサイズ６７ａを確認し、それが有効走査幅４６
ａを超えるサイズである場合には、描画に先立って、Ｙ
方向駆動部６０を制御してテーブル４０をＹ軸の負の方
向に限界位置まで移動させ、その後Ｘ方向駆動部５８を
制御して、描画テーブル４２の原点Ｓ_０が第２の光走査
ユニット４６のビームの走査の開始点Ｐ_２１に一致する
ように、描画テーブル４２を副走査方向において移動さ
せる。

【００２７】続いて、描画制御部５４は、メモリ５３か
ら、図３（ｂ）に示す描画データ６７の左半分の描画デ
ータ６７ｃを画素単位のクロックに同期して読み出すと
ともに、読み出された画素単位のデータに基づいて電子
シャッタ２２を制御してビームをＯＮ／ＯＦＦ変調す
る。このときＣＰＵ５０は、第２の光走査ユニット４６
によるビームの主走査に同期して描画テーブル４２をＸ
軸の負の方向に移動させる。この動作によって、図３
（ｂ）に示す左半分の描画データ６７ｃについての描画
が完了し、第２の光走査ユニット４６によるビームの照
射が停止される。

【００２８】次に、ＣＰＵ５０は、テーブル４０をＹ軸
の正の方向に限界位置まで移動させ、描画テーブル４２
の点Ｓ_１（描画テーブルの辺４２ａと中心線ｌ_０が交わ
る点）が第２の光走査ユニット４６のビームの主走査の
開始点Ｐ_２１と一致するように描画テーブル４２を副走
査方向において移動させる。描画テーブル４２及びテー
ブル４０の移動が完了すると第２の光走査ユニット４６
によるビーム照射が再び開始される。続いて、描画デー
タ制御部５４は、メモリ５３から、図３（ｂ）の右半分
の描画データ６７ｄを画素単位の描画クロックに同期し
て読み出すとともに、読み出された画素単位のデータに
基づいて電子シャッタ２２を制御して、ビームをＯＮ／
ＯＦＦ変調する。

【００２９】このときＣＰＵ５０は、第２の光走査ユニ
ット４６によるビームの主走査に同期して描画テーブル
４２をＸ軸の負の方向に移動させる。以上の動作によっ
て、図３（ｂ）に示す右半分の描画データについての描
画が実行され、描画パターン６７全ての描画が完了す
る。描画データ６７について以上のように描画を行うこ
とで、図３（ｂ）に示す左半分の描画データ６７ｃと右
半分の描画データ６７ｄが第２の光走査ユニット４６の
ビームのよって夫々描画されることとなる。すなわち、
描画データ６７ｃ及び６７ｄを描画するために用いられ
るビームの強度、ビーム形状が同じであるので、描画さ
れた描画パターン６７のつなぎ目部分（中心線ｌ_０部
分）においてパターンの均一性が失われて、つなぎ目部
分が目立つこととなる現象が回避される。

【００３０】図４は、以上で説明を行った描画装置１０
０の描画動作をフローチャートとして表したものであ
る。外部のワークステーションから或いは図示しない入
力手段によりメモリ５３内部に描画対象となる描画デー
タが入力され、さらに、外部のワークステーション或い
はユーザインタフェース５７から描画開始指示が与えら
れると、描画装置１００は図４に示す動作を開始する。
図４に示す動作が開始されると、始めに、ＣＰＵ５０に
よって、メモリ５３内部に保持されている描画データの
主走査方向のサイズと第２の光走査ユニットの有効走査
幅４６ａとの比較が行われる（Ｓ３０１）。

【００３１】描画データの主走査方向のサイズが有効走
査幅４６ａ以下である場合には（Ｓ３０２：ＹＥＳ）、
ＣＰＵ５０は、描画データ制御部５４がメモリ５３から
読み出される描画データに基づいて電子シャッタ８及び
電子シャッタ２２を同時に制御するように指示を与え
る。また、ＣＰＵ５０は、描画開始に先立って、描画テ
ーブル４２及びテーブル４０の位置を所定の開始位置に
移動させ、描画実行中は第１及び第２の光走査ユニット
によるビームの主走査に同期して描画テーブル４２を副
走査方向において移動させる（Ｓ３０３）。以上のＳ３
０３の描画動作により、描画データが第１と第２の光走
査ユニットにより夫々同時に描画される。

【００３２】一方、Ｓ３０２において、描画データの主
走査方向のサイズが有効走査幅４６ａより大きいと判断
された場合には（Ｓ３０２：ＮＯ）、ＣＰＵ５０は、描
画データ制御部５４が、メモリ５３から読み出された描
画データに基づいて電子シャッタ２２のみを制御するよ
うに指示を与える。また、ＣＰＵ５０は、描画開始に先
立って、描画テーブル４２及びテーブル４０の位置を所
定の開始位置に移動させ、描画実行中は、第２の光走査
ユニット４６によるビームの主走査に同期して、描画テ
ーブル４２を副走査方向において移動させる（Ｓ３０
４）。さらに、Ｓ３０４では、第２の光走査ユニット４
６をＹ軸の正の方向の限界位置まで移動させた後同様に
描画が行われる。以上のＳ３０４の描画動作により、描
画データが第２の光走査ユニット４６のみにより描画さ
れる。

【００３３】図５は、本発明の第２の実施形態としての
描画装置２００の概略構成を示す斜視図である。図５で
は、図１で示した描画装置１００と同一の部品について
は同一の符号を用いている。描画装置２００では、第２
の光走査ユニット４６´が基台４１上に固定して設けら
れており、光走査ユニット４６´は移動することができ
ない構造となっている。また、描画テーブル４２がテー
ブル４８上に設けられ、テーブル４８は、基台４３上に
備え付けられたレール４７ａ，４７ｂ上で主走査方向に
褶動自在となっている。なお、描画装置２００の制御系
の構成は図２で示した描画装置１００の制御系と同様で
あり、描画装置２００の場合、Ｙ方向駆動部６０はテー
ブル４０を主走査方向に移動させるのではなく、テーブ
ル４８（すなわち、描画テーブル４２）を主走査方向に
移動させる。

【００３４】描画装置２００において図３（ａ）で示し
た描画データ６５を描画する場合、始めに、描画テーブ
ル４２の原点Ｓ_０と第１の光走査ユニット４４´のビー
ムの走査の開始点Ｑ_１１が一致するように描画テーブル
４２及びテーブル４８が移動され、描画データ６５が第
１の光走査ユニット４４´及び第２の光走査ユニット４
６´によって夫々同時に描画される。

【００３５】描画装置２００において図３（ｂ）に示す
描画データ６７を描画する場合、始めに、描画テーブル
４２の原点Ｓ_０と第２の光走査ユニット４６´のビーム
の走査の開始点Ｑ_２１が一致するように描画テーブル４
２及びテーブル４８が移動され、第２の光走査ユニット
４４´によって図３（ｂ）の左半分の描画データ６７ｃ
の描画が行われる。図３（ｂ）の左半分の描画データ６
７ｃの描画が終了すると、描画テーブル４２の原点Ｓ_０
から主走査方向に延びる直線と描画テーブル４２の中心
線ｌ_０が交わる点であるＳ_１と、第２の光走査ユニット
４６´のビームの開始点Ｑ_２１が一致するように、描画
テーブル４２及びテーブル４８が移動され、第２の光走
査ユニット４６´によって図３（ｂ）に示す右半分のデ
ータ６７ｄが描画される。以上の動作により、描画デー
タ６７の描画が完了する。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように本発明の描画装置
は、複数の光走査ユニットを同時に動作させて１つの描
画データを複数描画するか、或いは１つの光走査ユニッ
トにより１つの描画データを描画するかを、描画対象と
なる描画データのサイズに応じて決定することができ
る。すなわち、描画データの主走査方向のサイズが複数
設けられた光走査ユニットの夫々の走査幅以下である場
合には、描画データが複数の光走査ユニットによって夫
々同時に描画されるので、単位時間に多くの描画を行う
ことが可能である。また、描画データの主走査方向のサ
イズが光走査ユニットのビームの走査幅より大きい場合
には、１つの光走査ユニットによって描画が行われ、１
つの描画データを複数の描画領域に分割し夫々の描画領
域を複数の光走査ユニットにより描画する場合よりも高
い精度で描画を行うことが可能である。

【００３７】描画データの主走査方向のサイズと光走査
ユニットのビームの走査幅との比較が描画装置内部のＣ
ＰＵによって行われるので、本発明の描画装置は、描画
対象となる描画データを描画するために最適な描画方法
を自ら決定して描画を行うことが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態である描画装置の概略
構成を示す斜視図である。

【図２】本発明の第１の実施形態である描画装置の制御
系のブロック図である。

【図３】本発明の描画装置によって描画される描画デー
タの例を示す図である。

【図４】本発明による描画装置の描画動作を表すフロー
チャートである。

【図５】本発明の第２の実施形態である描画装置の概略
構成を示す斜視図である。

【符号の説明】

２ 光源 ８ 電子シャッタ １２ ポリゴンミラー １４ ｆθレンズ １６ ターニングミラー １８ 大コンデンサレンズ ４２ 描画テーブル ４４ 第１の光走査ユニット ４６ 第２の光走査ユニット １００ 描画装置 ５０ ＣＰＵ ５１ ネットワークケーブル ５２ Ｉ／Ｆ ５３ メモリ ５４ 描画データ制御部 ５６ 第１の走査ユニットの描画クロック発生部 ５６’ 第２の走査ユニットの描画クロック発生部 ５８ Ｘ方向駆動部 ６０ Ｙ方向駆動部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 BA48 BA49 BA50 BA68 BA70 BB37 BB40 CB43 CB48 CB62 CB71 2H045 AA01 BA02 BA22 BA34 5C072 AA03 BA03 DA02 DA03 DA04 DA21 HA02 HA06 HA13 HB06 NA04

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 描画データに基づいて変調されたレーザ
   ビームを描画面上において主走査方向に偏向させる光走
   査ユニットを複数備える描画装置であって、 少なくとも何れか一つの光走査ユニットと描画テーブル
   との位置を主走査方向において相対的に移動させる移動
   手段を備えること、を特徴とする描画装置。
2. 【請求項２】 前記移動手段は、少なくとも何れか一つ
   の光走査ユニットを主走査方向において移動させるこ
   と、を特徴とする請求項１に記載の描画装置。
3. 【請求項３】 前記移動手段は、描画テーブルを主走査
   方向において移動させること、を特徴とする請求項１に
   記載の描画装置。
4. 【請求項４】 描画対象となる描画パターンの主走査方
   向のサイズと、前記複数の光走査ユニットの主走査方向
   における夫々の有効走査幅とを比較し、その比較結果に
   より最適な描画方法を決定する描画方法決定手段をさら
   に備えること、を特徴とする請求項１から請求項３のい
   ずれかに記載の描画装置。
5. 【請求項５】 前記描画方法決定手段は、前記サイズが
   前記夫々の有効走査幅のうち少なくとも何れか１つより
   も大きい場合には、何れか１つの光走査ユニットのみを
   用いて前記描画パターンの描画を行わせること、を特徴
   とする請求項４に記載の描画装置。
6. 【請求項６】 前記描画方法決定手段は、前記サイズが
   前記夫々の有効走査幅のうち少なくとも何れか２つに対
   して、それ以下である場合には、２つ以上の光走査ユニ
   ットを用いて同時に２つ以上の前記描画パターン描画を
   行わせること、を特徴とする請求項４に記載の描画装
   置。
7. 【請求項７】 描画データに基づいて変調されたレーザ
   ビームを描画面上において主走査方向に偏向させる光走
   査ユニットを複数備える描画装置であって、少なくとも
   何れか一つの光走査ユニットと描画テーブルとの位置を
   主走査方向において相対的に移動させる移動手段を備え
   る描画装置において、 描画対象となる描画パターンの主走査方向のサイズと前
   記複数の光走査ユニットの主走査方向における夫々の有
   効走査幅とを比較するステップと、 前記サイズが前記夫々の有効走査幅のうち少なくとも何
   れか１つよりも大きい場合には、何れか一つの光走査ユ
   ニットのみを用いて前記描画パターンの描画を行うステ
   ップと、 前記サイズが前記夫々の有効走査幅のうち少なくとも何
   れか２つ以下である場合には、２以上の光走査ユニット
   を用い同時に２以上の前記描画パターンの描画を行うス
   テップとを有すること、を特徴とする描画装置における
   描画方法。
8. 【請求項８】 描画データに基づいて変調されたレーザ
   ビームを描画面上において主走査方向に偏向させる第１
   の光走査ユニットと、 描画データに基づいて変調されたレーザビームを描画面
   上において主走査方向に偏向させる光走査ユニットであ
   って前記第１の光走査ユニットと主走査方向における有
   効走査幅が同一である第２の光走査ユニットと、 前記第２の光走査ユニットと描画テーブルの位置を主走
   査方向において相対的に移動させる移動手段とを備える
   描画装置において、 描画対象となる描画パターンの主走査方向のサイズと前
   記有効走査幅を比較するステップと、 前記サイズが前記有効走査幅より大きい場合には、第２
   の光走査ユニットのみを用いて前記描画パターンの描画
   を行うステップと、 前記サイズが前記有効走査幅以下である場合には、第１
   と第２の２つの光走査ユニットを用い同時に２つ前記描
   画パターンの描画を行うステップとを有すること、を特
   徴とする描画装置における描画方法。