JP2001315240A - Electromagnetic wave shielding light pervious laminated film and display panel - Google Patents

Electromagnetic wave shielding light pervious laminated film and display panel

Info

Publication number
JP2001315240A
JP2001315240A JP2000133670A JP2000133670A JP2001315240A JP 2001315240 A JP2001315240 A JP 2001315240A JP 2000133670 A JP2000133670 A JP 2000133670A JP 2000133670 A JP2000133670 A JP 2000133670A JP 2001315240 A JP2001315240 A JP 2001315240A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
electromagnetic wave
wave shielding
infrared cut
laminated film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000133670A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinji Saito
伸二 斉藤
Masato Sugimachi
正登 杉町
Tetsuo Kitano
徹夫 喜多野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bridgestone Corp
Original Assignee
Bridgestone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bridgestone Corp filed Critical Bridgestone Corp
Priority to JP2000133670A priority Critical patent/JP2001315240A/en
Publication of JP2001315240A publication Critical patent/JP2001315240A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shielding light pervious laminated film lightweight and thin, having good electromagnetic shielding capacity and near infrared ray cutting capacity, capable of obtaining a light pervious sharp image, capable of being easily earthed to PDP, and a capable of imparting good electromagnetic shielding capacity, near infrared cutting capacity and light perviouseness only by bonding this laminated film to the front panel of PDP, and a display panel using the electromagnetic wave shielding light pervious laminated film. SOLUTION: The electromagnetic wave shielding light pervious laminated film 1 is obtained by integrating a reflection preventing film 2, a conductive mesh 3 and a near infrared cutting film 4 through adhesive intermediate films 5A, 5B. The protruding edge 3A of the conductive mesh 3 is folded back to be fastened to the reflection preventing film 2 by a conductive pressure-sensitive tape 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過積層フィルムに係り、特に、良好な電磁波シールド
性と近赤外線カット性とを備え、かつ光透過性で、PD
P(プラズマディスプレーパネル)の前面フィルタ等と
して有用な電磁波シールド性光透過積層フィルムに関す
る。また、本発明は、この電磁波シールド性光透過積層
フィルムを貼着したPDP等の表示パネルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding light-transmitting laminated film, and more particularly to a light-transmitting and light-transmitting laminated film having good electromagnetic wave shielding and near-infrared cut properties.
The present invention relates to an electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film useful as a front filter or the like of P (plasma display panel). The present invention also relates to a display panel such as a PDP to which the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film is adhered.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、OA機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of office automation equipment and communication equipment, electromagnetic waves generated from these equipment have become a problem. That is, there is a concern that the electromagnetic waves may affect the human body, and malfunctions of precision equipment due to the electromagnetic waves have become a problem.

【0003】そこで、従来、OA機器のPDPの前面フ
ィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性
の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓
材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護する
ために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材とし
ても利用されている。
Therefore, as a front filter of a PDP of an OA device, a window material having an electromagnetic wave shielding property and a light transmitting property has been conventionally developed and put to practical use. Such a window material is also used as a window material in a place where precision equipment is installed, such as a hospital or a laboratory, in order to protect precision equipment from electromagnetic waves such as mobile phones.

【0004】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。
The conventional electromagnetic wave shielding light transmitting window material has a structure in which a conductive mesh material such as a wire mesh is interposed between transparent substrates such as an acrylic plate.

【0005】本出願人は、このような従来の電磁波シー
ルド性光透過窓材の特性や施工性を改善するものとし
て、2枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させ
て、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド
性光透過窓材を提案した(特開平11−74683号公
報)。
The present applicant has proposed a method of improving the characteristics and workability of such a conventional electromagnetic shielding light transmitting window material by interposing a conductive mesh between two transparent substrates to form a transparent adhesive resin. (Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-74683).

【0006】この電磁波シールド性光透過窓材であれ
ば、良好な電磁波シールド性を有し、かつ光透過性で鮮
明な画像を得ることができ、また、導電性メッシュが介
在することにより破損時の透明基板の飛散も防止され
る。
[0006] With this electromagnetic wave shielding light transmitting window material, a clear image can be obtained with good electromagnetic wave shielding and light transmissivity. Of the transparent substrate is also prevented.

【0007】また、上記従来の電磁波シールド性光透過
窓材では電磁波シールド性を良好なものとするために、
電磁波シールド材、例えば導電性メッシュをPDP本体
に接地(アース)する必要がある。そのためには、2枚
の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出さ
せ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地す
るか、2枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触す
るように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。通常
透明基板は2〜3mmのガラスが用いられ、大画面用の
フィルタではこれらのガラスは重量があり、積層工程に
おける上記作業が大変であるばかりか、確実に積層作業
をすることが難しい。
Further, in the above-mentioned conventional electromagnetic wave shielding light transmitting window material, in order to improve the electromagnetic wave shielding property,
It is necessary to ground an electromagnetic wave shielding material, for example, a conductive mesh, to the PDP body. For this purpose, the electromagnetic wave shielding material is protruded outside from between the two transparent substrates and is routed to the back side of the light transmitting window material laminate to be grounded, or is brought into contact with the electromagnetic wave shielding material between the two transparent substrates. It is necessary to sandwich the conductive adhesive tape so as to perform the operation. Usually, a glass of 2 to 3 mm is used for the transparent substrate, and these glasses are heavy in a filter for a large screen, so that the above operation in the laminating step is not only difficult but also it is difficult to reliably perform the laminating operation.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】2枚の透明基板を用い
た電磁波シールド性光透過窓材は、厚み及び重量がそれ
だけ大きいので、薄型化及び軽量化が望まれている。
Since the electromagnetic wave shielding light transmitting window material using two transparent substrates has a large thickness and a large weight, a reduction in thickness and weight is desired.

【0009】また、このような電磁波シールド性光透過
窓材にあっては、リモコンの誤作動等を防止する目的で
近赤外線カット性能が重要な要求特性とされている。特
に、最近では、PDPの輝度の向上に伴って、近赤外線
の発生量も多くなっていることから、より一層高度な近
赤外線カット性能が必要とされている。
[0009] Further, in such an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, near-infrared ray cut performance is an important required characteristic for the purpose of preventing malfunction of a remote controller and the like. In particular, recently, the amount of near-infrared rays generated has increased along with the improvement in the brightness of PDPs, so that a higher-level near-infrared ray cutoff performance is required.

【0010】従って、本発明は、軽量で薄く、良好な電
磁波シールド性能と近赤外線カット性能とを有し、かつ
光透過性で鮮明な画像を得ることができ、しかも、PD
Pへの接地を容易に行うことができ、PDPの前面パネ
ルに貼着するのみでこれらの電磁波シールド性能と近赤
外線カット性能と良好な光透過性を付与することができ
る電磁波シールド性光透過積層フィルムと、このような
電磁波シールド性光透過積層フィルムを用いた表示パネ
ルを提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention is light and thin, has good electromagnetic wave shielding performance and near-infrared cut performance, and can obtain a clear image with light transmission.
Electromagnetic wave shielding and light-transmitting laminate that can easily provide grounding to P and provide these electromagnetic wave shielding performance, near-infrared cut-off performance, and good light transmission only by sticking to the front panel of PDP It is an object of the present invention to provide a film and a display panel using such an electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明(請求項1)の電
磁波シールド性光透過積層フィルムは、電磁波シールド
材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフ
ィルムとを積層一体化してなり、最裏層として粘着剤層
が設けられた電磁波シールド性光透過積層フィルムであ
って、該電磁波シールド材の縁部を該反射防止フィルム
の縁部からはみ出させて該反射防止フィルムの縁部に沿
って該反射防止フィルムの表面側に折り返し、該電磁波
シールド材の折り返し部を導電性粘着テープで該反射防
止フィルムの表面に留め付けてなることを特徴とする。
The electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film of the present invention (claim 1) is obtained by integrally laminating an electromagnetic wave shielding material, an outermost antireflection film, and a near infrared cut film. An electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film provided with an adhesive layer as the backmost layer, wherein an edge of the electromagnetic wave shielding material is protruded from an edge of the antireflection film to form an edge of the antireflection film. The electromagnetic wave shield material is folded back to the surface side of the antireflection film along the surface thereof, and the folded portion of the electromagnetic wave shielding material is fixed to the surface of the antireflection film with a conductive adhesive tape.

【0012】この電磁波シールド性光透過積層フィルム
において、電磁波シールド材としては金属繊維及び/又
は金属被覆有機繊維のメッシュ或いは透明導電性フィル
ムを好適に使用することができる。
In the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film, a mesh of a metal fiber and / or a metal-coated organic fiber or a transparent conductive film can be suitably used as the electromagnetic wave shielding material.

【0013】本発明(請求項3)の電磁波シールド性光
透過積層フィルムは、電磁波シールド材と、最表層の反
射防止/近赤外線カットフィルムとを積層一体化してな
り、最裏層として粘着剤層が設けられた電磁波シールド
性光透過積層フィルムであって、該電磁波シールド材の
縁部を該反射防止/近赤外線カットフィルムの縁部から
はみ出させて該反射防止/近赤外線カットフィルムの縁
部に沿って該反射防止/近赤外線カットフィルムの表面
側に折り返し、該電磁波シールド材の折り返し部を導電
性粘着テープで該反射防止/近赤外線カットフィルムの
表面に留め付けてなることを特徴とする。
[0013] The electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film of the present invention (Claim 3) is obtained by laminating and integrating an electromagnetic wave shielding material and an antireflection / near-infrared cut film on the outermost layer, and a pressure-sensitive adhesive layer as the backmost layer Wherein the edge of the electromagnetic wave shielding material protrudes from the edge of the anti-reflection / near-infrared cut film to form an edge of the anti-reflection / near-infrared cut film. Along with the anti-reflection / near-infrared cut film, and the folded portion of the electromagnetic wave shielding material is fixed to the surface of the anti-reflection / near-infrared cut film with a conductive adhesive tape.

【0014】この電磁波シールド性光透過積層フィルム
において、電磁波シールド材としては透明導電性フィル
ムを好適に用いることができる。
In the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film, a transparent conductive film can be suitably used as the electromagnetic wave shielding material.

【0015】この電磁波シールド性光透過積層フィルム
は、電磁波シールド材と、反射防止フィルム及び近赤外
線カットフィルム或いは反射防止/近赤外線カットフィ
ルムとで主に構成されるため、軽量で薄い。そして、最
裏層に粘着剤層を有するため、この粘着剤層によりPD
Pの前面パネル等に容易に貼着することができ、貼着す
るのみで、良好な電磁波シールド性能と近赤外線カット
性能と光透過性のもとに、鮮明な画像を得ることができ
る。
This electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film is lightweight and thin because it is mainly composed of an electromagnetic wave shielding material, an antireflection film and a near-infrared cut film or an anti-reflection / near-infrared cut film. And since it has a pressure-sensitive adhesive layer on the bottom layer, the pressure-sensitive adhesive layer
It can be easily adhered to the front panel of P, etc., and a clear image can be obtained based on good electromagnetic wave shielding performance, near-infrared cut-off performance, and light transmittance only by attaching.

【0016】しかも、電磁波シールド材が最表層の表面
側に折り返され、この折り返し部が導電性粘着テープで
最表層の表面に留め付けられているため、電磁波シール
ド材と導電性粘着テープとが確実に導通され、この導電
性粘着テープをアース引き出し用電極として電磁波シー
ルド材のPDPへの接地を容易かつ確実に行うことがで
きる。
Further, the electromagnetic wave shielding material is folded back to the surface of the outermost layer, and the folded portion is fixed to the surface of the outermost layer with a conductive adhesive tape. The conductive adhesive tape is used as an electrode for grounding, and the electromagnetic shielding material can be easily and reliably grounded to the PDP.

【0017】本発明の電磁波シールド性光透過積層フィ
ルムは、具体的には、各フィルム及び電磁波シールド材
を透明接着剤で接合一体化するのが好ましい。
Specifically, in the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film of the present invention, it is preferable that each film and the electromagnetic wave shielding material are joined and integrated with a transparent adhesive.

【0018】この透明接着剤に紫外線吸収剤を含有させ
ることにより、電磁波シールド性光透過積層フィルムが
一段と優れた紫外線カット性も有するものとなる。
By including an ultraviolet absorber in this transparent adhesive, the electromagnetic wave shielding light-transmitting laminated film has a further excellent ultraviolet cut property.

【0019】本発明の表示パネルは、このような本発明
の電磁波シールド性光透過積層フィルムを表示パネルの
前面に貼着したものである。
The display panel of the present invention is obtained by sticking such an electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film of the present invention on the front surface of the display panel.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過積層フィルム及び表示パネルの実
施の形態を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film and the display panel of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0021】図1〜3は本発明の実施の形態に係る電磁
波シールド性光透過積層フィルム1,1A,1Bを示す
模式的な断面図、図4(a)〜(d)は近赤外線カット
層を示す模式的な断面図である。図5は本発明の電磁波
シールド性光透過積層フィルムを貼着したPDPの前面
パネルを示す図であって、図5(a)は平面図、図5
(b)は図5(a)のB−B線に沿う断面図である。
FIGS. 1 to 3 are schematic sectional views showing the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated films 1, 1A and 1B according to the embodiment of the present invention, and FIGS. 4 (a) to 4 (d) show near infrared cut layers. FIG. FIG. 5 is a view showing a front panel of a PDP to which the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film of the present invention is adhered, FIG. 5 (a) is a plan view, and FIG.
FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

【0022】図1の電磁波シールド性光透過積層フィル
ム1は、最表層の反射防止フィルム2、導電性メッシュ
3及び近赤外線カットフィルム4が接着剤となる接着用
中間膜5A,5Bを用いて積層一体化されてなり、近赤
外線カットフィルム4の外面には最裏層としての粘着剤
層6が設けられている。
The electromagnetic-shielding light-transmitting laminated film 1 of FIG. 1 is laminated using an intermediate film 5A, 5B for bonding, in which an anti-reflection film 2, a conductive mesh 3, and a near-infrared cut film 4 as an outermost layer serve as an adhesive. An adhesive layer 6 is provided on the outer surface of the near-infrared cut film 4 as an innermost layer.

【0023】また、導電性メッシュ3の縁部3Aは反射
防止フィルム2及び近赤外線カットフィルム4の積層面
よりもはみ出して、反射防止フィルム2の縁部に沿って
反射防止フィルム2の表面側に折り返され、この折り返
し部3Bが導電性粘着テープ7で反射防止フィルム2の
表面に留め付けられている。
The edge 3A of the conductive mesh 3 protrudes from the laminated surface of the anti-reflection film 2 and the near-infrared cut film 4, and extends along the edge of the anti-reflection film 2 on the front side of the anti-reflection film 2. The folded portion 3B is fastened to the surface of the antireflection film 2 with a conductive adhesive tape 7.

【0024】なお、このはみ出し縁部3A及び折り返し
部3Bは、導電性メッシュ3の全周に設けても良く、1
辺のみ又は対向する2辺のみに設けても良い。
The protruding edge portion 3A and the folded portion 3B may be provided on the entire periphery of the conductive mesh 3.
It may be provided only on the side or only two opposing sides.

【0025】図2の電磁波シールド性光透過積層フィル
ム1Aは、最表層の反射防止フィルム2、近赤外線カッ
トフィルム4及び透明導電性フィルム8が接着剤となる
接着用中間膜5A,5Bを用いて積層一体化されてな
り、透明導電性フィルム8の外面には最裏層としての粘
着剤層6が設けられている。
The electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film 1A shown in FIG. 2 is formed by using the intermediate films 5A and 5B for bonding, in which the outermost antireflection film 2, the near infrared cut film 4 and the transparent conductive film 8 serve as an adhesive. The pressure-sensitive adhesive layer 6 is provided on the outer surface of the transparent conductive film 8 as a rearmost layer.

【0026】また、透明導電性フィルム8の縁部8Aは
反射防止フィルム2及び近赤外線カットフィルム4の積
層面よりもはみ出して、反射防止フィルム2の縁部に沿
って反射防止フィルム2の表面側に折り返され、この折
り返し部8Bが導電性粘着テープ7で反射防止フィルム
2の表面に留め付けられている。
The edge 8A of the transparent conductive film 8 protrudes from the laminated surface of the antireflection film 2 and the near-infrared cut film 4, and extends along the edge of the antireflection film 2 on the front side of the antireflection film 2. The folded portion 8B is fastened to the surface of the antireflection film 2 with the conductive adhesive tape 7.

【0027】なお、このはみ出し縁部8A及び折り返し
部8Bは、透明導電性フィルム8の全周に設けても良
く、1辺のみ又は対向する2辺のみに設けても良い。
The protruding edge portion 8A and the folded portion 8B may be provided on the entire periphery of the transparent conductive film 8, or may be provided on only one side or only two opposing sides.

【0028】図3の電磁波シールド性光透過積層フィル
ム1Bは、最表層の反射防止/近赤外線カットフィルム
9と透明導電性フィルム8とが接着剤となる接着用中間
膜5Aを用いて積層一体化されてなり、透明導電性フィ
ルム8の外面には最裏層としての粘着剤層6が設けられ
ている。
The electromagnetic-shielding light-transmitting laminated film 1B shown in FIG. 3 is integrated by laminating an antireflection / near-infrared cut film 9 on the outermost layer and a transparent conductive film 8 using an adhesive intermediate film 5A serving as an adhesive. An adhesive layer 6 is provided on the outer surface of the transparent conductive film 8 as a rearmost layer.

【0029】この電磁波シールド性光透過積層フィルム
1Bにおいても、透明導電性フィルム8の縁部8Aは反
射防止/近赤外線カットフィルム9の縁部よりもはみ出
して、反射防止/近赤外線カットフィルム9の縁部に沿
って反射防止/近赤外線カットフィルム9の表面側に折
り返され、この折り返し部8Bが導電性粘着テープ7で
反射防止/近赤外線カットフィルム9の表面に留め付け
られている。このはみ出し縁部8A及び折り返し部8B
も、透明導電性フィルム8の全周に設けても良く、1辺
のみ又は対向する2辺のみに設けても良い。
Also in this electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film 1B, the edge 8A of the transparent conductive film 8 protrudes from the edge of the anti-reflection / near infrared cut film 9 to form the anti-reflection / near infrared cut film 9. The antireflection / near-infrared cut film 9 is folded along the edge to the front side of the antireflection / near-infrared cut film 9, and the folded portion 8 </ b> B is fixed to the surface of the antireflection / near-infrared cut film 9 with a conductive adhesive tape 7. The protruding edge portion 8A and the folded portion 8B
May be provided on the entire periphery of the transparent conductive film 8 or may be provided only on one side or only two opposing sides.

【0030】いずれの電磁波シールド性光透過積層フィ
ルム1,1A,1Bにあっても、導電性メッシュ3又は
透明導電性フィルム8の折り返し部3B,8Bを留め付
ける導電性粘着テープ7において、確実にかつ良好な導
通を図ることができ、著しく優れた電磁波シールド性能
を得ることができる。また、反射防止フィルム2と近赤
外線カットフィルム4或いは反射防止/近赤外線カット
フィルム9を備えるため、反射防止性能と近赤外線カッ
ト性能に優れる。
Regardless of the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film 1, 1A, 1B, the conductive mesh 3 or the conductive adhesive tape 7 for fastening the folded portions 3B, 8B of the transparent conductive film 8 can be reliably used. In addition, good conduction can be achieved, and extremely excellent electromagnetic wave shielding performance can be obtained. Further, since the antireflection film 2 and the near-infrared cut film 4 or the anti-reflection / near-infrared cut film 9 are provided, the antireflection performance and the near-infrared cut performance are excellent.

【0031】本発明において、反射防止フィルム2とし
ては、PET,PC,PMMA等のベースフィルム(厚
さは例えば25〜250μm程度)上に下記(1)の単
層膜や、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜、
例えば、下記(2)〜(5)のような積層構造の積層膜
を形成したものが挙げられる。 (1) 電磁波シールド性光透過積層フィルムを貼着す
るパネルの構成材料よりも屈折率の低い透明膜を一層積
層したもの (2) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を1層ずつ合
計2層に積層したもの (3) 高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を2層ずつ交
互に合計4層積層したもの (4) 中屈折率透明膜/高屈折率透明膜/低屈折率透
明膜の順で1層ずつ、合計3層に積層したもの (5) 高屈折率透明膜/低屈折率透明膜の順で各層を
交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの 高屈折率透明膜としては、ITO(スズインジウム酸化
物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO
SnO、ZrO等の屈折率1.6以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。高屈折
率透明膜は、これらの微粒子をアクリルやポリエステル
のバインダーに分散させた薄膜でもよい。また、低屈折
率透明膜としてはSiO、MgF、Al等の
屈折率が1.6以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形成
することができる。低屈折率透明膜としては、シリコン
系、フッ素系の有機材料からなる薄膜も好適である。こ
れらの膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げる
ため、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが4
層構造の場合、パネル貼着側の第1層(高屈折率透明
膜)が5〜50nm、第2層(低屈折率透明膜)が5〜
50nm、第3層(高屈折率透明膜)が50〜100n
m、第4層(低屈折率透明膜)が50〜150nm程度
の膜厚で形成される。
In the present invention, as the antireflection film 2, a monolayer film of the following (1) or a high refractive index transparent film is formed on a base film (thickness is, for example, about 25 to 250 μm) of PET, PC, PMMA or the like. And a low-refractive-index transparent film,
For example, there may be mentioned those in which a laminated film having a laminated structure as shown in (2) to (5) below is formed. (1) One layer of a transparent film having a lower refractive index than the constituent material of the panel to which the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film is adhered. (2) One high refractive index transparent film and one low refractive index transparent film are added. (3) Two high-refractive-index transparent films and two low-refractive-index transparent films are alternately laminated, each of which is a total of four layers (4) Medium-refractive-index transparent film / High-refractive-index transparent film / Low-refractive index One layer in the order of the transparent film and three layers in total (5) High refractive index transparent film / Low refractive index transparent film in the order of three layers alternately laminated in a total of six layers High refractive index As the transparent film, ITO (tin indium oxide), ZnO, Al-doped ZnO, TiO 2 ,
A thin film having a refractive index of 1.6 or more, such as SnO 2 or ZrO, preferably a transparent conductive thin film can be formed. The high refractive index transparent film may be a thin film in which these fine particles are dispersed in an acrylic or polyester binder. Further, as the low-refractive-index transparent film, a thin film made of a low-refractive-index material such as SiO 2 , MgF 2 , or Al 2 O 3 having a refractive index of 1.6 or less can be formed. As the low refractive index transparent film, a thin film made of a silicon-based or fluorine-based organic material is also suitable. These film thicknesses differ depending on the film configuration, film type, and center wavelength in order to reduce the reflectance in the visible light region due to light interference.
In the case of a layer structure, the first layer (high-refractive-index transparent film) on the panel sticking side has a thickness of 5 to 50 nm, and the second layer (low-refractive-index transparent film) has a thickness of 5 to 50 nm.
50 nm, third layer (high refractive index transparent film) 50 to 100 n
m, a fourth layer (low-refractive-index transparent film) is formed with a thickness of about 50 to 150 nm.

【0032】また、このような反射防止フィルム2の上
に更に汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高める
ようにしてもよい。この場合、汚染防止膜としては、フ
ッ素系薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚1〜100
nm程度の薄膜が好ましい。
Further, an anti-contamination film may be further formed on the anti-reflection film 2 so as to enhance the surface's anti-staining property. In this case, as the contamination prevention film, a film thickness of 1 to 100 made of a fluorine-based thin film, a silicon-based thin film, or the like
A thin film of about nm is preferred.

【0033】本発明の電磁波シールド性光透過積層フィ
ルムでは、近赤外線カットフィルム4は、ベースフィル
ムと、近赤外線カット層として2層以上の近赤外線カッ
ト層、好ましくは2種以上の近赤外線カット材料の層と
の組み合せにより構成されたものが、近赤外の幅広い波
長域において著しく良好な近赤外線吸収性能を得ること
ができる点で好ましい。
In the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film of the present invention, the near-infrared cut film 4 comprises a base film and two or more near-infrared cut layers as near-infrared cut layers, preferably two or more near-infrared cut materials. The combination of the above layer and the above layer is preferable in that extremely good near-infrared absorption performance can be obtained in a wide near-infrared wavelength region.

【0034】本発明において、この近赤外線カット層
は、次のような構成とすることができる。 ベースフィルムに第1の近赤外線カット材料のコー
ティング層を設けた第1の近赤外線カットフィルムと、
ベースフィルムに該第1の近赤外線カット材料とは異な
る第2の近赤外線カット材料のコーティング層を設けた
第2の近赤外線カットフィルムとの組み合せ ベースフィルムの一方の面に第1の近赤外線カット
材料のコーティング層を設けると共に、他方の面に該第
1の近赤外線カット材料とは異なる第2の近赤外線カッ
ト材料のコーティング層を設けた近赤外線カットフィル
ム ベースフィルムに第1の近赤外線カット材料のコー
ティング層と該第1の近赤外線カット材料とは異なる第
2の近赤外線カット材料のコーティング層とを積層して
設けた近赤外線カットフィルム 近赤外線カットフィルム4としては、ベースフィルム上
に、銅系、フタロシアン系、酸化亜鉛、銀、ITO(酸
化インジウム錫)等の透明導電性材料、ニッケル錯体
系、ジイモニウム系等の近赤外線カット材料のコーティ
ング層を設けたものを用いることができる。このベース
フィルムとしては、好ましくは、PET、PC、PMM
A等よりなるフィルムを用いることができる。このフィ
ルムは、得られる電磁波シールド性光透過積層フィルム
の厚さを過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性
を確保する上で10μm〜1mm程度とするのが好まし
い。また、このベースフィルム上に形成される近赤外線
カットコーティング層の厚さは、通常の場合、0.5〜
50μm程度である。
In the present invention, this near-infrared cut layer can have the following structure. A first near-infrared cut film in which a base film is provided with a coating layer of a first near-infrared cut material,
Combination with a second near-infrared cut film in which a base film is provided with a coating layer of a second near-infrared cut material different from the first near-infrared cut material, a first near-infrared cut on one surface of the base film A near-infrared cut film in which a coating layer of a material is provided and a coating layer of a second near-infrared cut material different from the first near-infrared cut material is provided on the other surface. A near-infrared cut film provided by laminating a coating layer of a second near-infrared cut material different from the first near-infrared cut material as the near-infrared cut material. , Phthalocyanine, zinc oxide, silver, ITO (indium tin oxide) and other transparent conductive materials, nickel complex, Can be used in which a coating layer of the near infrared cutting material immonium-based, or the like. The base film is preferably made of PET, PC, PMM
A film made of A or the like can be used. This film is preferably about 10 μm to 1 mm in order to ensure handleability and durability without excessively increasing the thickness of the obtained electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film. The thickness of the near-infrared cut coating layer formed on the base film is usually 0.5 to
It is about 50 μm.

【0035】本発明においては、上記近赤外線カット材
料のうちの好ましくは2種以上の材料を用いた近赤外線
カット層を設けても良く、2種以上のコーティング層を
混合したり、積層したり、ベースフィルムの両面に分け
てコーティングしたり、2種以上の近赤外線カットフィ
ルムを積層しても良い。
In the present invention, a near-infrared cut layer using preferably two or more kinds of the above-mentioned near-infrared cut materials may be provided, and two or more kinds of coating layers may be mixed or laminated. The base film may be coated on both sides separately, or two or more near-infrared cut films may be laminated.

【0036】近赤外線カットフィルム4としては、例え
ば図4(a)〜(d)で示すものを用いることができ
る。なお、次の図4(a)〜(d)のうちでも、フィル
ムが1枚であり、且つコーティング層が外面に露出しな
いところから図4(c)又は(d)のものが好適であ
る。
As the near-infrared cut film 4, for example, those shown in FIGS. 4A to 4D can be used. 4 (a) to 4 (d), the one shown in FIG. 4 (c) or (d) is preferable because there is only one film and the coating layer is not exposed on the outer surface.

【0037】図4(a)の近赤外線カット層フィルム
は、ベースフィルム10に近赤外線カット材料11のコ
ーティング層を形成した近赤外線カットフィルム4A
と、ベースフィルム10に近赤外線カット材料11とは
異なる近赤外線カット材料12のコーティング層を形成
したフィルム4Bとを併用したものである。
The near-infrared cut layer film shown in FIG. 4A is a near-infrared cut film 4A in which a coating layer of a near-infrared cut material 11 is formed on a base film 10.
And a film 4B in which a coating layer of a near infrared cut material 12 different from the near infrared cut material 11 is formed on the base film 10.

【0038】図4(b)の近赤外線カット層フィルム4
Cは、ベースフィルム10の一方の面に近赤外線カット
材料11のコーティング層を形成し、他方の面に近赤外
線カット材料11とは異なる近赤外線カット材料12の
コーティング層を形成したものである。
The near-infrared cut layer film 4 shown in FIG.
C has a coating layer of a near-infrared cut material 11 formed on one surface of the base film 10 and a coating layer of a near-infrared cut material 12 different from the near infrared cut material 11 on the other surface.

【0039】図4(c)に示す近赤外線カット層フィル
ム4Dは、ベースフィルム10の一方の面に近赤外線カ
ット材料11のコーティング層と近赤外線カット12の
コーティング層とを積層形成したものである。
The near-infrared cut layer film 4D shown in FIG. 4C is obtained by laminating a coating layer of a near-infrared cut material 11 and a near infrared cut 12 on one surface of a base film 10. .

【0040】なお、近赤外線カット材料は、3種以上用
いてもよく、また、図4(a)〜(c)に示す近赤外線
カットフィルムを複数個組み合わせて用いてもよい。
It should be noted that three or more kinds of near-infrared cut materials may be used, or a plurality of near-infrared cut films shown in FIGS. 4A to 4C may be used in combination.

【0041】図4(d)に示す近赤外線カット層フィル
ム4Eはベースフィルム10の一方の面に近赤外線カッ
ト材料13のコーティング層を形成したものであり、好
ましくは2種以上の近赤外線カット材料を混合してコー
ティング層を形成する。
The near-infrared cut layer film 4E shown in FIG. 4D is obtained by forming a coating layer of the near-infrared cut material 13 on one surface of the base film 10, and preferably comprises two or more kinds of near-infrared cut materials. Are mixed to form a coating layer.

【0042】特に、本発明では、近赤外線カット材料と
して、次のような近赤外線カットタイプの異なる2種以
上の近赤外線カット材料を組み合わせて用いるのが、透
明性を損なうことなく、良好な近赤外線カット性能(例
えば850〜1250nmなど近赤外の幅広い波長域に
おいて、近赤外線を十分に吸収する性能)を得る上で好
ましい。 (a) 厚さ100〜5000ÅのITOのコーティン
グ層 (b) 厚さ100〜10000ÅのITOと銀の交互
積層体によるコーティング層 (c) 厚さ0.5〜50ミクロンのニッケル錯体系と
イモニウム系の混合材料を適当な透明バインダーを用い
て膜としたコーティング層 (d) 厚さ10〜10000ミクロンの2価の銅イオ
ンを含む銅化合物を適当な透明バインダーを用いて膜と
したコーティング層 (e) 厚さ0.5〜50ミクロンの有機色素系コーテ
ィング層 が好適であるが、何らこれらに限定されるものではな
い。
In particular, in the present invention, a combination of two or more kinds of near-infrared cut materials having different near-infrared cut types as described below is used as the near-infrared cut material, without impairing the transparency. It is preferable to obtain infrared cut performance (for example, a performance of sufficiently absorbing near infrared rays in a wide wavelength range of near infrared rays such as 850 to 1250 nm). (A) ITO coating layer having a thickness of 100 to 5000 ((b) Coating layer formed by alternating lamination of ITO and silver having a thickness of 100 to 10000 ((c) Nickel complex system and immonium system having a thickness of 0.5 to 50 μm (D) Coating layer formed by using a suitable transparent binder with a copper compound containing divalent copper ions having a thickness of 10 to 10000 microns (e). An organic dye-based coating layer having a thickness of 0.5 to 50 microns is suitable, but not limited thereto.

【0043】本発明においては、例えば近赤外線カット
フィルムと共に、更に後述の透明導電性フィルムを積層
してもよい。
In the present invention, for example, a transparent conductive film described later may be further laminated together with a near-infrared cut film.

【0044】図1の電磁波シールド性光透過積層フィル
ム1で用いられる導電性メッシュ3としては、金属繊維
及び/又は金属被覆有機繊維よりなるものを用いるが、
本発明では、光透過性の向上、モアレ現象の防止を図る
上で、例えば、線径1μm〜1mm、開口率40〜95
%のものが好ましい。この導電性メッシュにおいて、線
径が1mmを超えると開口率が下がるか、電磁波シール
ド性が下がり、両立させることができない。1μm未満
ではメッシュとしての強度が下がり、取り扱いが非常に
難しくなる。また、開口率は95%を超えるとメッシュ
として形状を維持することが難しく、40%未満では光
透過性が低く、ディスプレイからの光線量が低減されて
しまう。より好ましい線径は10〜500μm、開口率
は50〜90%である。
The conductive mesh 3 used in the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film 1 of FIG. 1 is made of a metal fiber and / or a metal-coated organic fiber.
In the present invention, in order to improve the light transmittance and prevent the moire phenomenon, for example, the wire diameter is 1 μm to 1 mm, and the aperture ratio is 40 to 95.
% Is preferred. In this conductive mesh, if the wire diameter exceeds 1 mm, the aperture ratio is reduced or the electromagnetic wave shielding property is reduced, so that the compatibility cannot be achieved. If it is less than 1 μm, the strength as a mesh decreases, and handling becomes extremely difficult. On the other hand, if the aperture ratio exceeds 95%, it is difficult to maintain the shape as a mesh, and if it is less than 40%, the light transmittance is low, and the amount of light from the display is reduced. A more preferable wire diameter is 10 to 500 μm, and an opening ratio is 50 to 90%.

【0045】導電性メッシュの開口率とは、当該導電性
メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合
を言う。
The aperture ratio of the conductive mesh means the ratio of the area occupied by the openings in the projected area of the conductive mesh.

【0046】導電性メッシュ3を構成する金属繊維及び
金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、ア
ルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、
鉛、鉄、銀、クロム、炭素或いはこれらの合金、好まし
くは銅、ニッケル、ステンレス、アルミニウムが用いら
れる。
Metals constituting the conductive mesh 3 and metals of the metal-coated organic fibers include copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, and the like.
Lead, iron, silver, chromium, carbon or alloys thereof, preferably copper, nickel, stainless steel or aluminum are used.

【0047】金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポ
リエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビ
ニロン、セルロース等が用いられる。
As the organic material of the metal-coated organic fiber, polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.

【0048】本発明においては、特に、上記開口率及び
線径を維持する上で、メッシュ形状の維持特性に優れた
金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシュを用いるのが
好ましい。
In the present invention, in order to maintain the above-mentioned aperture ratio and wire diameter, it is preferable to use a conductive mesh made of a metal-coated organic fiber having excellent mesh shape maintaining characteristics.

【0049】電磁波シールド材料としては、上記の導電
性メッシュの代わりに、エッチングメッシュ又は導電印
刷メッシュを用いることもできる。
As the electromagnetic wave shielding material, an etching mesh or a conductive printing mesh can be used instead of the above-mentioned conductive mesh.

【0050】エッチングメッシュとしては、金属膜をフ
ォトリソグラフィーの手法で格子状やパンチングメタル
状などの任意の形状にエッチング加工したものを用いる
ことができる。この金属膜としては、PET、PC、P
MMAなどの透明基板上に、銅、アルミ、ステンレス、
クロムなどの金属膜を、蒸着やスパッタリングにより形
成したもの、又はこれらの金属箔を接着剤によって透明
基板に貼り合わせたものを用いることができる。この接
着剤としては、エポキシ系、ウレタン系、EVA系など
が好ましい。
As the etching mesh, a metal film obtained by etching a metal film into an arbitrary shape such as a lattice shape or a punching metal shape by a photolithography technique can be used. As the metal film, PET, PC, P
On a transparent substrate such as MMA, copper, aluminum, stainless steel,
A metal film of chromium or the like formed by vapor deposition or sputtering, or a film in which these metal foils are bonded to a transparent substrate with an adhesive can be used. As the adhesive, an epoxy-based, urethane-based, EVA-based adhesive, or the like is preferable.

【0051】これらの金属膜は予め、片面又は両面に黒
色の印刷を施しておくことが好ましい。フォトリソグラ
フィーの手法を用いることで、導電部分の形状や線径な
どを自由に設計することができるため、前記導電メッシ
ュに比較して開口率を高くすることができる。
It is preferable that these metal films are previously black-printed on one or both surfaces. By using the photolithography technique, the shape and the wire diameter of the conductive portion can be freely designed, so that the aperture ratio can be made higher than that of the conductive mesh.

【0052】導電印刷メッシュとしては、銀、銅、アル
ミ、ニッケル等の金属粒子又はカーボン等の非金属導電
粒子を、エポキシ系、ウレタン系、EVA系、メラニン
系、セルロース系、アクリル系等のバインダーに混合し
たものを、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン
印刷などにより、PET、PC、PMMA等の透明基板
上に格子状等のパターンで印刷したものを用いることが
できる。
As the conductive printing mesh, metal particles such as silver, copper, aluminum, nickel or the like or non-metallic conductive particles such as carbon can be used as binders such as epoxy-based, urethane-based, EVA-based, melanin-based, cellulose-based and acrylic-based binders. Can be used by gravure printing, offset printing, screen printing, or the like, and printed on a transparent substrate such as PET, PC, PMMA, or the like in a lattice-like pattern.

【0053】図2,3の電磁波シールド性光透過積層フ
ィルム1A,1Bに用いられる透明導電性フィルム8と
しては、導電性粒子を分散させた樹脂フィルム、又はベ
ースフィルムに透明導電性層を形成したものを用いるこ
とができる。
As the transparent conductive film 8 used for the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated films 1A and 1B shown in FIGS. 2 and 3, a transparent conductive layer is formed on a resin film in which conductive particles are dispersed or on a base film. Can be used.

【0054】フィルム中に分散させる導電性粒子として
は、導電性を有するものであればよく特に制限はない
が、例えば、次のようなものが挙げられる。 (i) カーボン粒子ないし粉末 (ii) ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウ
ム、すず、カドミウム、銀、プラチナ、アルミ、銅、チ
タン、コバルト、鉛等の金属又は合金或いはこれらの導
電性酸化物の粒子ないし粉末 (iii) ポリスチレン、ポリエチレン等のプラスチック粒
子の表面に上記(i),(ii)の導電性材料のコーティング層
を形成したもの (iv) ITOと銀の交互積層体 これらの導電性粒子の粒径は、過度に大きいと光透過性
や透明導電性フィルムの厚さに影響を及ぼすことから、
0.5mm以下であることが好ましい。好ましい導電性
粒子の粒径は0.01〜0.5mmである。
The conductive particles to be dispersed in the film are not particularly limited as long as they have conductivity, and examples thereof include the following. (i) Carbon particles or powder (ii) Nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, aluminum, copper, titanium, cobalt, lead and other metals or alloys or conductive oxides thereof Particles or powder (iii) Plastic particles such as polystyrene, polyethylene, etc. on the surface of which a coating layer of the conductive material of (i) or (ii) is formed (iv) Alternating laminate of ITO and silver These conductive particles Since the particle size of the excessively large affects the light transmission and the thickness of the transparent conductive film,
It is preferably 0.5 mm or less. The preferred particle size of the conductive particles is 0.01 to 0.5 mm.

【0055】また、透明導電性フィルム中の導電性粒子
の混合割合は、過度に多いと光透過性が損なわれ、過度
に少ないと電磁波シールド性が不足するため、透明導電
性フィルムの樹脂に対する重量割合で0.1〜50重量
%、特に0.1〜20重量%、とりわけ0.5〜20重
量%程度とするのが好ましい。
When the mixing ratio of the conductive particles in the transparent conductive film is too large, the light transmittance is impaired, and when the mixing ratio is too small, the electromagnetic wave shielding property is insufficient. The proportion is preferably about 0.1 to 50% by weight, particularly about 0.1 to 20% by weight, especially about 0.5 to 20% by weight.

【0056】導電性粒子の色、光沢は、目的に応じ適宜
選択されるが、表示パネルのフィルタとしての用途か
ら、黒、茶等の暗色で無光沢のものが好ましい。この場
合は、導電性粒子がフィルタの光線透過率を適度に調整
することで、画面が見やすくなるという効果もある。
The color and gloss of the conductive particles are appropriately selected according to the purpose. However, for use as a filter for a display panel, a dark and matte color such as black or brown is preferred. In this case, by adjusting the light transmittance of the filter appropriately by the conductive particles, there is also an effect that the screen becomes easy to see.

【0057】ベースフィルムに透明導電性層を形成した
ものとしては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、CVD等により、スズインジウム酸化物、亜鉛
アルミ酸化物等の透明導電層を形成したものが挙げられ
る。この場合、透明導電層の厚さが0.01μm未満で
は、電磁波シールドのための導電性層の厚さが薄過ぎ、
十分な電磁波シールド性を得ることができず、5μmを
超えると光透過性が損なわれる恐れがある。
Examples of the base film having a transparent conductive layer formed thereon include a transparent conductive layer formed of tin indium oxide, zinc aluminum oxide, or the like formed by vapor deposition, sputtering, ion plating, CVD, or the like. . In this case, if the thickness of the transparent conductive layer is less than 0.01 μm, the thickness of the conductive layer for shielding electromagnetic waves is too thin,
Sufficient electromagnetic wave shielding properties cannot be obtained, and if it exceeds 5 μm, light transmittance may be impaired.

【0058】なお、透明導電性フィルムのマトリックス
樹脂又はベースフィルムの樹脂としては、ポリエステ
ル、PET、ポリブチレンテレフタレート、PMMA、
アクリル板、PC、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、PET、PC、PMMAが挙げられ
る。
As the matrix resin of the transparent conductive film or the resin of the base film, polyester, PET, polybutylene terephthalate, PMMA,
Acrylic plate, PC, polystyrene, triacetate film, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, etc. Preferably, PET, PC and PMMA are mentioned.

【0059】このような透明導電性フィルムの厚さは、
通常の場合、1μm〜5mm程度とされる。
The thickness of such a transparent conductive film is
Usually, it is about 1 μm to 5 mm.

【0060】また、図3の電磁波シールド性光透過積層
フィルム1Bで用いられる反射防止/近赤外線カットフ
ィルム9としては、前述のベースフィルム上に、前述の
近赤外線カット層を形成し、更にこの上に前述の反射防
止層を積層形成したものが用いられる。
As the anti-reflection / near-infrared cut film 9 used in the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film 1B of FIG. 3, the above-mentioned near-infrared cut layer is formed on the above-mentioned base film, and further on this base film. The anti-reflection layer described above is laminated.

【0061】各フィルム等を接着する接着用中間膜5
A,5Bを構成する接着樹脂としては、透明で弾性のあ
るもの、例えば、通常、合せガラス用接着剤として用い
られているものが好ましい。
Adhesive intermediate film 5 for adhering each film etc.
As the adhesive resin constituting A and 5B, a transparent and elastic resin, for example, a resin usually used as an adhesive for laminated glass is preferable.

【0062】このような弾性を有した膜の樹脂として
は、具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)
アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エ
チル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共
重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸
共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カ
ルボキシルエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン
−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重合体等のエチ
レン系共重合体が挙げられる(なお、「(メタ)アクリ
ル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。)。その
他、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポ
リエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができる
が、性能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体(EVA)である。また、耐衝
撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合
せガラスで用いられているPVB樹脂も好適である。
Specific examples of the resin of the film having such elasticity include ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene- (meth)
Acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl (meth) acrylate copolymer, ethylene-methyl (meth) acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene-vinyl acetate Copolymer, carboxylethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-
Ethylene-based copolymers such as (meth) acryl-maleic anhydride copolymer and ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer may be mentioned ("(meth) acryl" means "acryl or methacryl"). Shown). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, acrylic resin, phenol resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, etc. can also be used, but the most balanced in terms of performance and the easy-to-use one is ethylene-vinyl acetate It is a copolymer (EVA). Further, PVB resins used in laminated glass for automobiles are also suitable in terms of impact resistance, penetration resistance, adhesiveness, transparency and the like.

【0063】接着用中間膜5A,5Bの厚さは、例えば
10〜1000μm程度が好ましい。なお、近赤外線カ
ット層は熱に弱く加熱架橋温度(130〜150℃)に
耐えられないため、近赤外線カットフィルム4や反射防
止/近赤外線カットフィルム9は粘着剤を用いて積層し
ても良い。ただし、低温架橋型EVA(架橋温度70〜
130℃程度)であればこの近赤外線カットフィルム4
や反射防止/近赤外線カットフィルム9の接着に使用す
ることができる。
The thickness of the bonding intermediate films 5A and 5B is preferably, for example, about 10 to 1000 μm. Since the near-infrared cut layer is weak to heat and cannot withstand the heat crosslinking temperature (130 to 150 ° C.), the near-infrared cut film 4 and the antireflection / near-infrared cut film 9 may be laminated using an adhesive. . However, low-temperature crosslinking EVA (crosslinking temperature 70 to
130 ° C), this near infrared cut film 4
And anti-reflection / near infrared cut film 9 can be used for bonding.

【0064】なお、接着用中間膜5A,5Bは、その
他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加
工助剤を少量含んでいてもよく、また、フィルター自体
の色合いを調整するために染料、顔料などの着色剤、カ
ーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充
填剤を適量配合してもよい。
The bonding interlayers 5A and 5B may further contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antioxidant, and a coating processing aid, and may adjust the color of the filter itself. Colorants such as dyes and pigments, and fillers such as carbon black, hydrophobic silica, and calcium carbonate may be added in appropriate amounts.

【0065】また、接着性改良の手段として、シート化
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。
As means for improving the adhesiveness, means such as corona discharge treatment, low-temperature plasma treatment, electron beam irradiation, and ultraviolet light irradiation on the surface of the adhesive intermediate film formed into a sheet are also effective.

【0066】この接着用中間膜は、接着樹脂と上述の添
加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後カレン
ダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の成膜
法により所定の形状にシート成形することにより製造さ
れる。成膜に際してはブロッキング防止、圧着時の脱気
を容易にするためエンボスが付与される。
This adhesive intermediate film is prepared by mixing an adhesive resin and the above-mentioned additives, kneading the mixture with an extruder, a roll, or the like, and then forming the mixture into a predetermined shape by a film forming method such as calendar, roll, T-die extrusion, or inflation. It is manufactured by forming a sheet. At the time of film formation, embossing is applied to prevent blocking and facilitate degassing during pressure bonding.

【0067】このようなEVA樹脂以外にも、前記の通
りPVB樹脂も好適に用いることができる。このPVB
樹脂は、ポリビニルアセタール単位が70〜95重量
%、ポリ酢酸ビニル単位が1〜15重量%で、平均重合
度が200〜3000、好ましくは300〜2500で
あるものが好ましく、PVB樹脂は可塑剤を含む樹脂組
成物として使用される。
In addition to the EVA resin, a PVB resin can be suitably used as described above. This PVB
The resin is preferably such that the polyvinyl acetal unit is 70 to 95% by weight, the polyvinyl acetate unit is 1 to 15% by weight, and the average degree of polymerization is 200 to 3000, preferably 300 to 2500, and the PVB resin is a plasticizer. It is used as a resin composition containing.

【0068】本発明の電磁波シールド性光透過積層フィ
ルムの最裏層の粘着剤層6の粘着剤(感圧接着剤)とし
ては、アクリル系、SBS、SEBS等の熱可塑性エラ
ストマー系などが好適に用いられる。これらの粘着剤に
は、タッキファイヤー、紫外線吸収剤、着色顔料、着色
染料、老化防止剤、接着付与剤等を適宜添加することが
できる。この粘着剤層6の厚みは10〜1000μm程
度が良い。
As the pressure-sensitive adhesive (pressure-sensitive adhesive) of the pressure-sensitive adhesive layer 6 as the rearmost layer of the electromagnetic wave shielding light-transmitting laminated film of the present invention, acrylic elastomers, thermoplastic elastomers such as SBS, SEBS and the like are preferably used. Used. To these pressure-sensitive adhesives, tackifiers, ultraviolet absorbers, coloring pigments, coloring dyes, antioxidants, adhesion-imparting agents, and the like can be appropriately added. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 6 is preferably about 10 to 1000 μm.

【0069】導電性粘着テープ7としては、図示の如
く、金属箔7Aの一方の面に、導電性粒子を分散させた
粘着層7Bを設けたものであって、この粘着層7Bに
は、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキ
シ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用い
ることができる。
As shown in the figure, the conductive adhesive tape 7 is provided with an adhesive layer 7B in which conductive particles are dispersed on one surface of a metal foil 7A. It is possible to use a resin, rubber-based, silicone-based pressure-sensitive adhesive, or an epoxy-based, phenol-based resin mixed with a curing agent.

【0070】粘着層7Bに分散させる導電性粒子として
は、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使
用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金
属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミッ
ク粉体等を使用することができる。また、その形状につ
いても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレ
ット状等の任意の形状をとることができる。
As the conductive particles dispersed in the adhesive layer 7B, various types of conductive particles may be used as long as they are electrically good conductors. For example, metal powder such as copper, silver, and nickel, resin or ceramic powder coated with such a metal can be used. There is no particular limitation on the shape, and any shape such as a scale shape, a tree shape, a granular shape, and a pellet shape can be adopted.

【0071】この導電性粒子の配合量は、粘着層7Bを
構成するポリマーに対し0.1〜15容量%であること
が好ましく、また、その平均粒径は0.1〜100μm
であることが好ましい。このように、配合量及び粒径を
規定することにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良
好な導電性を得ることができるようになる。
The amount of the conductive particles is preferably 0.1 to 15% by volume based on the polymer constituting the adhesive layer 7B, and the average particle size is 0.1 to 100 μm.
It is preferred that As described above, by defining the blending amount and the particle size, it is possible to prevent the conductive particles from condensing and obtain good conductivity.

【0072】導電性粘着テープ7の基材となる金属箔7
Aとしては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステン
レス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場
合、1〜100μm程度とされる。
Metal foil 7 serving as base material of conductive adhesive tape 7
As A, a foil of copper, silver, nickel, aluminum, stainless steel or the like can be used, and its thickness is usually about 1 to 100 μm.

【0073】粘着層7Bは、この金属箔7Aに、前記粘
着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合したもの
をロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マ
イカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター
等により塗工することにより容易に形成することができ
る。
The adhesive layer 7B is prepared by uniformly mixing the above-mentioned adhesive and conductive particles at a predetermined ratio on the metal foil 7A, using a roll coater, a die coater, a knife coater, a my cover coater, a flow coater, and a sprayer. It can be easily formed by coating with a coater or the like.

【0074】この粘着層7Bの厚さは通常の場合5〜1
00μm程度とされる。
The thickness of the adhesive layer 7B is usually 5 to 1
It is about 00 μm.

【0075】図1に示す電磁波シールド性光透過積層フ
ィルム1を製造するには、反射防止フィルム2と、導電
性メッシュ3と、近赤外線カットフィルム4と、接着用
中間膜5A,5B及び導電性粘着テープ7を準備し、反
射防止フィルム2、接着用中間膜5A、導電性メッシュ
3、接着用中間膜5B及び近赤外線カットフィルム4を
積層し、導電性メッシュ3のはみ出し部3Aを反射防止
フィルム2の表面側へ折り返し、この折り返し部3Bを
導電性粘着テープ7で留め付ける。
In order to manufacture the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film 1 shown in FIG. 1, an antireflection film 2, a conductive mesh 3, a near-infrared cut film 4, adhesive intermediate films 5A and 5B and a conductive The adhesive tape 7 is prepared, and the antireflection film 2, the bonding intermediate film 5A, the conductive mesh 3, the bonding intermediate film 5B, and the near-infrared cut film 4 are laminated, and the protrusion 3A of the conductive mesh 3 is formed as an antireflection film. 2, and the folded portion 3B is fastened with a conductive adhesive tape 7.

【0076】しかる後、加熱又は光照射して架橋し、積
層体を一体化させる。この場合、接着用中間膜5A,5
B、テープ7の粘着層7Bの架橋をすべてまとめて行う
ことができる。その後、積層体の近赤外線カットフィル
ム4の表面に粘着剤層6を形成する。この粘着剤層6に
は、適当な剥離紙(フィルム)を接着しておく。
Thereafter, the laminate is crosslinked by heating or irradiation with light to integrate the laminate. In this case, the bonding intermediate films 5A, 5A
B. The cross-linking of the adhesive layer 7B of the tape 7 can be performed all at once. Thereafter, an adhesive layer 6 is formed on the surface of the near-infrared cut film 4 of the laminate. An appropriate release paper (film) is bonded to the pressure-sensitive adhesive layer 6.

【0077】図2の電磁波シールド性光透過積層フィル
ム1Aを製造するには、反射防止フィルム2、接着用中
間膜5A、近赤外線カットフィルム4、接着用中間膜5
B、透明導電性フィルム8を積層し、透明導電性フィル
ム8のはみ出し部8Aを反射防止フィルム2の表面側へ
折り返し、この折り返し部8Bを導電性粘着テープ7で
留め付け、その後、上記と同様にして架橋一体化し、最
後に粘着剤層6を形成する。
To manufacture the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film 1A of FIG. 2, the antireflection film 2, the bonding intermediate film 5A, the near infrared cut film 4, the bonding intermediate film 5
B, the transparent conductive film 8 is laminated, the protruding portion 8A of the transparent conductive film 8 is folded back to the surface side of the antireflection film 2, and the folded portion 8B is fastened with the conductive adhesive tape 7, and then the same as above. Then, the pressure-sensitive adhesive layer 6 is formed.

【0078】図3の電磁波シールド性光透過積層フィル
ム1Bを製造するには、反射防止/近赤外線カットフィ
ルム9、接着用中間膜5A、透明導電性フィルム8を積
層し、透明導電性フィルム8のはみ出し部8Aを反射防
止/近赤外線カットフィルム9の表面側へ折り返し、こ
の折り返し部8Bを導電性粘着テープ7で留め付け、そ
の後、上記と同様にして架橋一体化し、最後に粘着剤層
6を形成する。
In order to manufacture the electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film 1B shown in FIG. 3, an antireflection / near infrared cut film 9, an adhesive intermediate film 5A and a transparent conductive film 8 are laminated. The protruding portion 8A is folded back to the front side of the anti-reflection / near-infrared cut film 9, the folded portion 8B is fastened with a conductive adhesive tape 7, and then crosslinked and integrated in the same manner as described above. Form.

【0079】なお、導電性メッシュ3又は透明導電性フ
ィルム8に予め導電性粘着テープ7を付着させてから、
積層し、一体化しても良い。
After the conductive adhesive tape 7 is attached to the conductive mesh 3 or the transparent conductive film 8 in advance,
They may be laminated and integrated.

【0080】図1〜3のいずれにおいても、接着用中間
膜5A,5Bの一部又は全部の代わりに、粘着剤を用い
ても良い。
In any of FIGS. 1 to 3, an adhesive may be used instead of part or all of the bonding intermediate films 5A and 5B.

【0081】導電性粘着テープ7に架橋型導電性粘着テ
ープを用いる場合、その貼り付けに際しては、その粘着
層7Bの粘着性を利用して積層体に貼り付ける。(この
仮り留めは、必要に応じて、貼り直しが可能である。)
この粘着層7は、必要に応じて圧力をかけながら加熱又
は紫外線照射することにより強固な付着層を形成する。
この紫外線照射時には併せて加熱を行ってもよい。な
お、この加熱又は光照射を局部的に行うことで、架橋型
導電性粘着テープの一部分のみを接着させるようにする
こともできる。
When a cross-linked conductive pressure-sensitive adhesive tape is used as the conductive pressure-sensitive adhesive tape 7, the pressure-sensitive adhesive is adhered to the laminate by utilizing the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer 7B. (This temporary fastening can be reattached if necessary.)
The adhesive layer 7 forms a strong adhesion layer by heating or irradiating with ultraviolet rays while applying pressure as necessary.
Heating may be performed at the same time as the ultraviolet irradiation. In addition, by locally performing the heating or the light irradiation, it is possible to adhere only a part of the cross-linkable conductive adhesive tape.

【0082】加熱接着は、一般的なヒートシーラーで容
易に行うことができ、また、加圧加熱方法としては、架
橋型導電性粘着テープを貼り付けた積層体を真空袋中に
入れ脱気後加熱する方法でもよく、接着はきわめて容易
に行える。
The heat bonding can be easily performed by a general heat sealer. As a method of heating under pressure, a laminate having a cross-linked conductive pressure-sensitive adhesive tape adhered thereto is placed in a vacuum bag and degassed. The method of heating may be used, and the bonding can be performed very easily.

【0083】この接着条件としては、熱架橋の場合は、
用いる架橋剤(有機過酸化物)の種類に依存するが、通
常70〜150℃、好ましくは70〜130℃で、通常
10秒〜120分、好ましくは20秒〜60分である。
The bonding conditions are as follows in the case of thermal crosslinking:
Although it depends on the type of the crosslinking agent (organic peroxide) to be used, it is usually 70 to 150 ° C, preferably 70 to 130 ° C, and usually 10 seconds to 120 minutes, preferably 20 seconds to 60 minutes.

【0084】また、光架橋の場合、光源としては紫外〜
可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高
圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンラン
プ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カ
ーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等が挙げられる。
照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概に
は決められないが、通常数十秒〜数十分程度である。架
橋促進のために、予め40〜120℃に加熱した後、こ
れに紫外線を照射してもよい。
In the case of photocrosslinking, the light source is ultraviolet to
Many light sources that emit light in the visible region can be used, and examples thereof include ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, xenon lamps, halogen lamps, mercury halogen lamps, carbon arc lamps, incandescent lamps, and laser light.
The irradiation time is not generally determined depending on the type of the lamp and the intensity of the light source, but is usually several tens seconds to several tens of minutes. After heating to 40 to 120 ° C. in advance to promote cross-linking, this may be irradiated with ultraviolet rays.

【0085】また、接着時の加圧力についても適宜選定
され、通常5〜50kg/cm、特に10〜30kg
/cmの加圧力とすることが好ましい。
The pressure at the time of bonding is also appropriately selected, and is usually 5 to 50 kg / cm 2 , particularly 10 to 30 kg / cm 2 .
/ Cm 2 is preferable.

【0086】このようにして製造された電磁波シールド
性光透過積層フィルム1,1A,1Bは、図5に示す如
く、単にPDPの前面板(PDPパネル)20に粘着剤
層6により貼り付けるのみで容易に取り付けることがで
き、これを単に筐体にはめ込むのみで極めて簡便かつ確
実に筐体に組み込み、導電性粘着テープ7を介して導電
性メッシュ又は透明導電性フィルムと筐体との良好な導
通をその周縁部において均一にとることができる。この
ため、良好な電磁波シールド効果が得られる。また、近
赤外線カットフィルムにより、良好な近赤外線カット性
能が得られる。さらに、フィルム状であるため、薄く軽
量である。
As shown in FIG. 5, the thus manufactured electromagnetic wave shielding light transmitting laminated films 1, 1A, 1B are simply attached to the front panel (PDP panel) 20 of the PDP with the adhesive layer 6. It can be easily attached, and it is very simply and reliably incorporated into the housing simply by fitting it into the housing, and good conduction between the conductive mesh or the transparent conductive film and the housing via the conductive adhesive tape 7. At the peripheral edge thereof. Therefore, a good electromagnetic wave shielding effect can be obtained. Further, good near-infrared cut performance can be obtained by the near-infrared cut film. Furthermore, since it is a film, it is thin and lightweight.

【0087】このような本発明の電磁波シールド性光透
過積層フィルムは、PDPパネルに貼着する電磁波シー
ルド性光透過積層フィルムとして、或いは、病院や研究
室等の精密機器設置場所の窓材に貼着する電磁波シール
ド性光透過積層フィルム等としてきわめて好適である。
Such an electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film of the present invention is applied as an electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film to be adhered to a PDP panel, or to a window material at a place where precision equipment is installed, such as a hospital or a laboratory. It is very suitable as an electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film or the like to be attached.

【0088】[0088]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、軽
量で薄く、良好な電磁波シールド性能と近赤外線カット
性能とを有し、かつ光透過性で鮮明な画像を得ることが
でき、しかも、PDPへの接地を容易に行うことがで
き、PDPの前面パネルに貼着するのみでこれらの電磁
波シールド性能と近赤外線カット性能と良好な光透過性
を付与することができる電磁波シールド性光透過積層フ
ィルムと、このような電磁波シールド性光透過積層フィ
ルムを用いた表示パネルが提供される。
As described above in detail, according to the present invention, it is possible to obtain a light and thin image having good electromagnetic wave shielding performance and near-infrared ray cutting performance, and a light-transmitting and clear image. Moreover, the electromagnetic wave shielding light can easily be grounded to the PDP, and can provide these electromagnetic wave shielding performance, near-infrared cut-off performance and good light transmittance only by sticking to the front panel of the PDP. A transmission laminated film and a display panel using such an electromagnetic wave shielding light transmission laminated film are provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施の形態に係る電磁波シールド性光透
過積層フィルムを示す模式的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film according to a first embodiment.

【図2】第2の実施の形態に係る電磁波シールド性光透
過積層フィルムを示す模式的な断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film according to a second embodiment.

【図3】第3の実施の形態に係る電磁波シールド性光透
過積層フィルムを示す模式的な断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing an electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film according to a third embodiment.

【図4】近赤外線カット層の構成を示す模式的な断面図
である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a configuration of a near-infrared cut layer.

【図5】本発明の表示パネルの実施の形態を示す図であ
って、(a)図は平面図、(b)図は(a)図のB−B
線に沿う断面図である。
5A and 5B are diagrams showing an embodiment of the display panel of the present invention, wherein FIG. 5A is a plan view and FIG. 5B is a view taken along line BB of FIG.
It is sectional drawing which follows a line.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1A,1B 電磁波シールド性光透過積層フィルム 2 反射防止フィルム 3 導電性メッシュ 4 近赤外線カットフィルム 5A,5B 接着用中間膜 6 粘着剤層 7 導電性粘着テープ 7A 金属箔 7B 粘着層 8 透明導電性フィルム 9 反射防止/近赤外線カットフィルム 20 PDPパネル 1, 1A, 1B Electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film 2 Antireflection film 3 Conductive mesh 4 Near infrared cut film 5A, 5B Adhesive intermediate film 6 Adhesive layer 7 Conductive adhesive tape 7A Metal foil 7B Adhesive layer 8 Transparent conductive Film 9 Anti-reflection / Near-infrared cut film 20 PDP panel

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 9/00 H05K 9/00 V Fターム(参考) 2H048 CA12 CA24 CA27 4F100 AA25 AA28 AA33 AB01A AB17 AB24 AK01A AK17 AK25 AK42 AK52 AR00A AR00B AR00C AR00D BA04 BA07 BA10A BA10D CA07G CB05 CB05D DB07A DB07B DB07C DG01A DG07A EH51A GB41 GB90 JD08 JD08A JD09 JD10C JD12 JD20C JL03 JL13D JN01A JN01G JN06B JN08 5E321 AA04 BB23 BB25 BB41 BB44 CC16 GG05 GH01 5G435 AA00 AA18 GG00 GG33 HH01 KK05 LL07 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat II (reference) H05K 9/00 H05K 9/00 VF term (reference) 2H048 CA12 CA24 CA27 4F100 AA25 AA28 AA33 AB01A AB17 AB24 AK01A AK17 AK25 AK42 AK52 AR00A AR00B AR00C AR00D BA04 BA07 BA10A BA10D CA07G CB05 CB05D DB07A DB07B DB07C DG01A DG07A EH51A GB41 GB90 JD08 JD08A JD09 JD10C JD12 JD20C JL03 JL13D JN01A JN01G JN06B JN08 5E321 AA04 BB23 BB25 BB41 BB44 CC16 GG05 GH01 5G435 AA00 AA18 GG00 GG33 HH01 KK05 LL07

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電磁波シールド材と、最表層の反射防止
フィルムと、近赤外線カットフィルムとを積層一体化し
てなり、最裏層として粘着剤層が設けられた電磁波シー
ルド性光透過積層フィルムであって、 該電磁波シールド材の縁部を該反射防止フィルムの縁部
からはみ出させて該反射防止フィルムの縁部に沿って該
反射防止フィルムの表面側に折り返し、 該電磁波シールド材の折り返し部を導電性粘着テープで
該反射防止フィルムの表面に留め付けてなることを特徴
とする電磁波シールド性光透過積層フィルム。
An electromagnetic wave shielding light-transmitting laminated film comprising an electromagnetic wave shielding material, an outermost antireflection film, and a near-infrared cut film laminated and integrated, and provided with an adhesive layer as a rearmost layer. The edge of the electromagnetic wave shielding material protrudes from the edge of the anti-reflection film and is folded back along the edge of the anti-reflection film toward the surface of the anti-reflection film. An electromagnetic wave shielding light-transmitting laminated film, which is fixed to the surface of the antireflection film with a conductive adhesive tape.
【請求項2】 請求項1において、該電磁波シールド材
が金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維のメッシュ或い
は透明導電性フィルムよりなることを特徴とする電磁波
シールド性光透過積層フィルム。
2. The electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding material is made of a mesh of a metal fiber and / or a metal-coated organic fiber or a transparent conductive film.
【請求項3】 電磁波シールド材と、最表層の反射防止
/近赤外線カットフィルムとを積層一体化してなり、最
裏層として粘着剤層が設けられた電磁波シールド性光透
過積層フィルムであって、 該電磁波シールド材の縁部を該反射防止/近赤外線カッ
トフィルムの縁部からはみ出させて該反射防止/近赤外
線カットフィルムの縁部に沿って該反射防止/近赤外線
カットフィルムの表面側に折り返し、 該電磁波シールド材の折り返し部を導電性粘着テープで
該反射防止/近赤外線カットフィルムの表面に留め付け
てなることを特徴とする電磁波シールド性光透過積層フ
ィルム。
3. An electromagnetic wave shielding light-transmitting laminated film in which an electromagnetic wave shielding material and an antireflection / near-infrared cut film on the outermost layer are laminated and integrated, and an adhesive layer is provided as a rearmost layer. The edge of the electromagnetic wave shielding material protrudes from the edge of the anti-reflection / near-infrared cut film, and is folded back along the edge of the anti-reflection / near-infrared cut film toward the front side of the anti-reflection / near-infrared cut film. An electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film, wherein a folded portion of the electromagnetic wave shielding material is fixed to the surface of the antireflection / near infrared cut film with a conductive adhesive tape.
【請求項4】 請求項3において、該電磁波シールド材
が透明導電性フィルムであることを特徴とする電磁波シ
ールド性光透過積層フィルム。
4. The electromagnetic wave shielding light-transmitting laminated film according to claim 3, wherein the electromagnetic wave shielding material is a transparent conductive film.
【請求項5】 請求項1ないし4のいずれか1項におい
て、透明接着剤によって積層一体化されていることを特
徴とする電磁波シールド性光透過積層フィルム。
5. The electromagnetic wave shielding light-transmitting laminated film according to claim 1, wherein the laminated film is integrated with a transparent adhesive.
【請求項6】 請求項5において、該透明接着剤が紫外
線吸収剤を含有することを特徴とする電磁波シールド性
光透過積層フィルム。
6. An electromagnetic wave shielding light transmitting laminated film according to claim 5, wherein said transparent adhesive contains an ultraviolet absorber.
【請求項7】 前面に請求項1ないし6のいずれか1項
の電磁波シールド性光透過積層フィルムを貼着した表示
パネル。
7. A display panel having the electromagnetic-shielding light-transmitting laminated film according to claim 1 attached to a front surface thereof.
JP2000133670A 2000-05-02 2000-05-02 Electromagnetic wave shielding light pervious laminated film and display panel Pending JP2001315240A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000133670A JP2001315240A (en) 2000-05-02 2000-05-02 Electromagnetic wave shielding light pervious laminated film and display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000133670A JP2001315240A (en) 2000-05-02 2000-05-02 Electromagnetic wave shielding light pervious laminated film and display panel

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001315240A true JP2001315240A (en) 2001-11-13

Family

ID=18642109

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000133670A Pending JP2001315240A (en) 2000-05-02 2000-05-02 Electromagnetic wave shielding light pervious laminated film and display panel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001315240A (en)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003311907A (en) * 2002-04-26 2003-11-06 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film for displaying
JP2005101595A (en) * 2003-09-03 2005-04-14 Bridgestone Corp Plasma display panel filter
JP2007250641A (en) * 2006-03-14 2007-09-27 Asahi Glass Co Ltd Protective board for plasma display, manufacturing method therefore, and plasma display device
JP2009242497A (en) * 2008-03-28 2009-10-22 Arisawa Mfg Co Ltd Photosensitive resin composition, hard coat film using it, and reflection preventing film
JP2015203863A (en) * 2014-04-16 2015-11-16 ソニー株式会社 Image pickup element and imaging device
US10642087B2 (en) 2014-05-23 2020-05-05 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US10901125B2 (en) 2014-05-23 2021-01-26 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US10955697B2 (en) 2018-11-28 2021-03-23 Eyesafe Inc. Light emission modification
US10971660B2 (en) 2019-08-09 2021-04-06 Eyesafe Inc. White LED light source and method of making same
US11126033B2 (en) 2018-11-28 2021-09-21 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11592701B2 (en) 2018-11-28 2023-02-28 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11810532B2 (en) 2018-11-28 2023-11-07 Eyesafe Inc. Systems for monitoring and regulating harmful blue light exposure from digital devices

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003311907A (en) * 2002-04-26 2003-11-06 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film for displaying
JP2005101595A (en) * 2003-09-03 2005-04-14 Bridgestone Corp Plasma display panel filter
JP2007250641A (en) * 2006-03-14 2007-09-27 Asahi Glass Co Ltd Protective board for plasma display, manufacturing method therefore, and plasma display device
JP2009242497A (en) * 2008-03-28 2009-10-22 Arisawa Mfg Co Ltd Photosensitive resin composition, hard coat film using it, and reflection preventing film
JP2015203863A (en) * 2014-04-16 2015-11-16 ソニー株式会社 Image pickup element and imaging device
US10317593B2 (en) 2014-04-16 2019-06-11 Sony Corporation Image device and imaging apparatus
US10901125B2 (en) 2014-05-23 2021-01-26 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US10871671B2 (en) 2014-05-23 2020-12-22 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US10642087B2 (en) 2014-05-23 2020-05-05 Eyesafe, Llc Light emission reducing compounds for electronic devices
US11686968B2 (en) 2014-05-23 2023-06-27 Eyesafe Inc. Light emission reducing compounds for electronic devices
US11947209B2 (en) 2014-05-23 2024-04-02 Eyesafe Inc. Light emission reducing compounds for electronic devices
US10955697B2 (en) 2018-11-28 2021-03-23 Eyesafe Inc. Light emission modification
US11126033B2 (en) 2018-11-28 2021-09-21 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11347099B2 (en) 2018-11-28 2022-05-31 Eyesafe Inc. Light management filter and related software
US11592701B2 (en) 2018-11-28 2023-02-28 Eyesafe Inc. Backlight unit with emission modification
US11810532B2 (en) 2018-11-28 2023-11-07 Eyesafe Inc. Systems for monitoring and regulating harmful blue light exposure from digital devices
US10971660B2 (en) 2019-08-09 2021-04-06 Eyesafe Inc. White LED light source and method of making same
US10998471B2 (en) 2019-08-09 2021-05-04 Eyesafe Inc. White LED light source and method of making same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001175185A (en) Electromagnetic wave shielding light-transmitting window material and display device
KR100939747B1 (en) Electromagnetic wave shielding light-transmitting window member, its manufacturing method, and display panel
JP2004140283A (en) Thin electromagnetic wave shield layered product for display and method for manufacturing the same
JP2001315240A (en) Electromagnetic wave shielding light pervious laminated film and display panel
JP4491929B2 (en) Electromagnetic wave shielding light transmissive laminate, method for producing the same, and method for mounting the same
JP2001320193A (en) Mounting member of display panel
JP4352488B2 (en) Electromagnetic shielding light transmitting window material
JP2001319602A (en) Electromagnetic-wave shielding transparent panel with light-transmission sheet
JP2001189589A (en) Electromagnetic shielding film, electromagnetic shielding translucent window material, and display
JP2001142406A (en) Light transmitting window material having electromagnetic wave shielding property, and display device
JP2001134198A (en) Light transmitting window material having electromagnetic wave shielding property and display device
US6063479A (en) Light transmitting electromagnetic-wave shielding plate
JP4470443B2 (en) PDP filter
JP2002341781A (en) Display panel
JP2005129576A (en) Electromagnetic-wave shielding member and pdp filter
JP2001202025A (en) Electromagnetic wave shieldable light transparent window material and display device
JP2008292745A (en) Front glass filter for plasma display and method for manufacturing the filter
JP2008249880A (en) Composite filter for display
JP2002344193A (en) Method for manufacturing electromagnetic wave shielding high transmissive window material
JP4300595B2 (en) Display panel
JPH1184041A (en) Light transmission window material with electromagnetic wave shielding property
JP2002341780A (en) Light transmitting window material with shielding property against electromagnetic wave
JP2000036687A (en) Light transmission window material with electromagnetic wave shield property
JP2000340986A (en) Electromagnetic wave shielding light-transmitting window material and laminated panel material
JPH1197878A (en) Electromagnetic wave shielding light-transmitting window material