JP2001311096A - 洗米機用殺菌洗浄剤組成物 - Google Patents
洗米機用殺菌洗浄剤組成物Info
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- JP2001311096A JP2001311096A JP2000130277A JP2000130277A JP2001311096A JP 2001311096 A JP2001311096 A JP 2001311096A JP 2000130277 A JP2000130277 A JP 2000130277A JP 2000130277 A JP2000130277 A JP 2000130277A JP 2001311096 A JP2001311096 A JP 2001311096A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 芽胞形成菌やカビに対して高い殺菌洗浄効果
を示す洗米機用の殺菌洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 次亜塩素酸塩及び次亜塩素酸から選ばれ
る１種以上（Ａ）と、両性界面活性剤及び陽イオン界面
活性剤から選ばれる１種以上（Ｂ）と、ｐＨ調整剤
（Ｃ）とを含有する洗米機用殺菌洗浄剤組成物。
を示す洗米機用の殺菌洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 次亜塩素酸塩及び次亜塩素酸から選ばれ
る１種以上（Ａ）と、両性界面活性剤及び陽イオン界面
活性剤から選ばれる１種以上（Ｂ）と、ｐＨ調整剤
（Ｃ）とを含有する洗米機用殺菌洗浄剤組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗米機用殺菌洗浄
剤組成物に関する。
剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】炊飯業の分野では、米の洗浄（洗米）、
炊飯、冷却、包装等の工程を自動化した製造ラインが確
立されており、例えば無菌化包装米飯、おにぎり、す
し、弁当等の加工食品用米飯、給食用米飯等の製造にこ
のラインが用いられている。
炊飯、冷却、包装等の工程を自動化した製造ラインが確
立されており、例えば無菌化包装米飯、おにぎり、す
し、弁当等の加工食品用米飯、給食用米飯等の製造にこ
のラインが用いられている。
【０００３】このような製造ラインにおいて、洗米工程
は芽胞形成菌等の耐熱性菌を除去する唯一の工程であ
り、その管理は極めて重要であるが、一般に洗米に用い
られる洗米機は水給水管から水道水を吐出させ、米から
米ぬか成分を除去する目的で設計されており、耐熱性菌
を十分に除去することができなかった。
は芽胞形成菌等の耐熱性菌を除去する唯一の工程であ
り、その管理は極めて重要であるが、一般に洗米に用い
られる洗米機は水給水管から水道水を吐出させ、米から
米ぬか成分を除去する目的で設計されており、耐熱性菌
を十分に除去することができなかった。
【０００４】このため、洗米工程で効果的に耐熱菌を除
去するための方策が種々提案されている。例えば、有機
酸を含む水で洗米する方法、オゾン水で洗米する方法、
塩化マグネシウム水溶液により洗米した後、有機酸水溶
液による洗米を行う方法等が知られている。また、オゾ
ン水による洗浄工程の前に酸性水で洗浄する穀類洗浄装
置が特開平１１−９０２４１号に記載されている。
去するための方策が種々提案されている。例えば、有機
酸を含む水で洗米する方法、オゾン水で洗米する方法、
塩化マグネシウム水溶液により洗米した後、有機酸水溶
液による洗米を行う方法等が知られている。また、オゾ
ン水による洗浄工程の前に酸性水で洗浄する穀類洗浄装
置が特開平１１−９０２４１号に記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来は
米に対する殺菌洗浄効果を高めることを主眼としてお
り、洗米機の洗浄については十分に検討されていなかっ
た。洗米排水には、微生物の栄養源となるデンプンやタ
ンパク質等が大量に含まれており、洗米後の洗米機内部
の洗浄が不十分であると、耐熱性菌が繁殖する可能性が
ある。一般に、洗米後の洗米機の内部は、過酸化水素水
を用いて発生する酸素成分により汚れを剥離させる方法
や、水酸化ナトリウムのようなアルカリ剤を入れて汚れ
を分解させる方法等で洗浄されるが、更に殺菌洗浄効果
を高めることが要望される。
米に対する殺菌洗浄効果を高めることを主眼としてお
り、洗米機の洗浄については十分に検討されていなかっ
た。洗米排水には、微生物の栄養源となるデンプンやタ
ンパク質等が大量に含まれており、洗米後の洗米機内部
の洗浄が不十分であると、耐熱性菌が繁殖する可能性が
ある。一般に、洗米後の洗米機の内部は、過酸化水素水
を用いて発生する酸素成分により汚れを剥離させる方法
や、水酸化ナトリウムのようなアルカリ剤を入れて汚れ
を分解させる方法等で洗浄されるが、更に殺菌洗浄効果
を高めることが要望される。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、次亜塩素酸塩
及び次亜塩素酸から選ばれる１種以上（Ａ）〔以下、
（Ａ）成分という〕と、両性界面活性剤及び陽イオン界
面活性剤から選ばれる１種種以上（Ｂ）〔以下、（Ｂ）
成分という〕と、ｐＨ調整剤（Ｃ）〔以下、（Ｃ）成分
という〕とを含有する洗米機用殺菌洗浄剤組成物に関す
る。
及び次亜塩素酸から選ばれる１種以上（Ａ）〔以下、
（Ａ）成分という〕と、両性界面活性剤及び陽イオン界
面活性剤から選ばれる１種種以上（Ｂ）〔以下、（Ｂ）
成分という〕と、ｐＨ調整剤（Ｃ）〔以下、（Ｃ）成分
という〕とを含有する洗米機用殺菌洗浄剤組成物に関す
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】（Ａ）成分の次亜塩素酸塩として
は、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム等の次
亜塩素酸アルカリ金属塩や次亜塩素酸カルシウム、次亜
塩素酸マグネシウム等の次亜塩素酸アルカリ土類金属塩
等が挙げられ、次亜塩素酸アルカリ金属塩が好ましく、
特に次亜塩素酸ナトリウムが好ましい。（Ａ）成分は、
組成物の有効塩素濃度が好ましくは１〜５０００ｐｐ
ｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍ、更に好まし
くは５０〜５００ｐｐｍとなるように配合される。
は、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム等の次
亜塩素酸アルカリ金属塩や次亜塩素酸カルシウム、次亜
塩素酸マグネシウム等の次亜塩素酸アルカリ土類金属塩
等が挙げられ、次亜塩素酸アルカリ金属塩が好ましく、
特に次亜塩素酸ナトリウムが好ましい。（Ａ）成分は、
組成物の有効塩素濃度が好ましくは１〜５０００ｐｐ
ｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍ、更に好まし
くは５０〜５００ｐｐｍとなるように配合される。
【０００８】（Ｂ）成分の両性界面活性剤としては、ア
ルキルジメチルアミンオキシド等のアミンオキシド、ア
ルキルジメチルアミノ脂肪酸ベタイン、アルキルカルボ
キシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタイン等
のベタインなどが挙げられる。なかでも、炭素数８〜１
８のアルキル基を有するアルキルジメチルアミンオキシ
ドが好ましい。また、（Ｂ）成分の陽イオン界面活性剤
としては、第１級アミン塩、第２級アミン塩、第３級ア
ミン塩、第４級アンモニウム塩が挙げられるが、このう
ち第４級アンモニウム塩が特に好ましい。第４級アンモ
ニウム塩としては、４つの置換基の少なくとも１つが総
炭素数８〜２８のアルキル又はアルケニル基であり、残
余がベンジル基、炭素数１〜５のアルキル基及び炭素数
１〜５のヒドロキシアルキル基から選ばれる基である化
合物が挙げられる。総炭素数８〜２８のアルキル又はア
ルケニル基は、この炭素数の範囲で、アルコキシル基、
アルケニルオキシ基、アルカノイルアミノ基、アルケノ
イルアミノ基、アルカノイルオキシ基又はアルケノイル
オキシ基で置換されていてもよい本発明の組成物は、
（Ｂ）成分を１ｐｐｍ〜５重量％、更に５ｐｐｍ〜１重
量％、特に１０〜５０００ｐｐｍ含有することが好まし
い。
ルキルジメチルアミンオキシド等のアミンオキシド、ア
ルキルジメチルアミノ脂肪酸ベタイン、アルキルカルボ
キシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタイン等
のベタインなどが挙げられる。なかでも、炭素数８〜１
８のアルキル基を有するアルキルジメチルアミンオキシ
ドが好ましい。また、（Ｂ）成分の陽イオン界面活性剤
としては、第１級アミン塩、第２級アミン塩、第３級ア
ミン塩、第４級アンモニウム塩が挙げられるが、このう
ち第４級アンモニウム塩が特に好ましい。第４級アンモ
ニウム塩としては、４つの置換基の少なくとも１つが総
炭素数８〜２８のアルキル又はアルケニル基であり、残
余がベンジル基、炭素数１〜５のアルキル基及び炭素数
１〜５のヒドロキシアルキル基から選ばれる基である化
合物が挙げられる。総炭素数８〜２８のアルキル又はア
ルケニル基は、この炭素数の範囲で、アルコキシル基、
アルケニルオキシ基、アルカノイルアミノ基、アルケノ
イルアミノ基、アルカノイルオキシ基又はアルケノイル
オキシ基で置換されていてもよい本発明の組成物は、
（Ｂ）成分を１ｐｐｍ〜５重量％、更に５ｐｐｍ〜１重
量％、特に１０〜５０００ｐｐｍ含有することが好まし
い。
【０００９】また、本発明の組成物は、（Ａ）成分と
（Ｂ）成分の重量比が、（Ａ）／（Ｂ）＝１０／１〜１
／１０であることが好ましく、より好ましくは５／１〜
１／５、特に好ましくは５／１〜１／２である。
（Ｂ）成分の重量比が、（Ａ）／（Ｂ）＝１０／１〜１
／１０であることが好ましく、より好ましくは５／１〜
１／５、特に好ましくは５／１〜１／２である。
【００１０】（Ｃ）成分としては、アルカリ金属の水酸
化物、アルカリ土類金属の水酸化物、無機酸又はその
塩、有機酸又はその塩等が挙げられる。アルカリ金属の
水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等が
挙げられる。無機酸又はその塩としては、塩酸、硫酸、
硫酸ナトリウム、硝酸ナトリウム、塩化ナトリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、硫酸マグネシウム、硝酸マグネ
シウム、塩化マグネシウム、炭酸マグネシウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸水素二ナトリ
ウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素ナトリウ
ム、リン酸二水素カリウム、ポリリン酸ナトリウム等が
挙げられる。有機酸又はその塩としては、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸等の飽和
二塩基酸又はその塩や、フマル酸、マレイン酸等の不飽
和二塩基酸又はその塩等が挙げられる。好ましくは飽和
二塩基酸又はその塩、より好ましくは炭素数３〜１０の
飽和二塩基酸又はその塩であり、特にコハク酸又はその
塩が好ましい。
化物、アルカリ土類金属の水酸化物、無機酸又はその
塩、有機酸又はその塩等が挙げられる。アルカリ金属の
水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等が
挙げられる。無機酸又はその塩としては、塩酸、硫酸、
硫酸ナトリウム、硝酸ナトリウム、塩化ナトリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、硫酸マグネシウム、硝酸マグネ
シウム、塩化マグネシウム、炭酸マグネシウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸水素二ナトリ
ウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素ナトリウ
ム、リン酸二水素カリウム、ポリリン酸ナトリウム等が
挙げられる。有機酸又はその塩としては、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸等の飽和
二塩基酸又はその塩や、フマル酸、マレイン酸等の不飽
和二塩基酸又はその塩等が挙げられる。好ましくは飽和
二塩基酸又はその塩、より好ましくは炭素数３〜１０の
飽和二塩基酸又はその塩であり、特にコハク酸又はその
塩が好ましい。
【００１１】本発明の組成物は、ｐＨ（２０℃）が３〜
８、更に５〜８、特に５〜７であることが好ましい。
（Ｃ）成分はｐＨをこの範囲にする量で用いられること
が好ましい。
８、更に５〜８、特に５〜７であることが好ましい。
（Ｃ）成分はｐＨをこの範囲にする量で用いられること
が好ましい。
【００１２】また、本発明の組成物は、更に次亜塩素酸
及び／又はその塩と安定な配合が可能で、洗浄効果を高
めるために、陰イオン界面活性剤（Ｄ）〔以下、（Ｄ）
成分という〕を含有することができる。陰イオン界面活
性剤としては、高級脂肪酸塩、高級アルコール硫酸エス
テル塩、高級アルコールスルホン酸塩、硫酸化脂肪酸
塩、スルホン化脂肪酸塩、リン酸エステル塩、脂肪酸エ
ステルの硫酸エステル塩、脂肪酸エステルのスルホン酸
エステル塩、高級アルコールエーテルの硫酸エステル
塩、高級アルコールエーテルのスルホン酸エステル塩、
高級アルコールエーテル置換の酢酸塩、脂肪酸とアミノ
酸の縮合物、脂肪酸アミドのアルキロール化硫酸エステ
ル塩、脂肪酸アミドのアルキル化スルホン酸塩、スルホ
コハク酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、
アルキルフェノールスルホン酸塩、アルキルナフタレン
スルホン酸塩、アルキルベンゾイミダゾールスルホン酸
塩、アミドエーテルカルボン酸又はその塩、エーテルカ
ルボン酸又はその塩、Ｎ−アシル−Ｎ−メチルタウリン
又はその塩、アミドエーテル硫酸又はその塩、Ｎ−アシ
ルグルタミン酸又はその塩、Ｎ−アミドエチル−Ｎ−ヒ
ドロキシエチル酢酸又はその塩、アシルオキシエタンス
ルホン酸又はその塩、Ｎ−アシル−β−アラニン又はそ
の塩、Ｎ−アシル−Ｎ−カルボキシエチルタウリン又は
その塩、Ｎ−アシル−Ｎ−カルボキシエチルグリシン又
はその塩、及びアルキル又はアルケニルアミノカルボニ
ルメチル硫酸又はその塩等が挙げられる。陰イオン界面
活性剤の配合量は、組成物中に１ｐｐｍ〜５重量％、更
に１０ｐｐｍ〜０．５重量％、特に５０〜５００ｐｐｍ
が好ましい。
及び／又はその塩と安定な配合が可能で、洗浄効果を高
めるために、陰イオン界面活性剤（Ｄ）〔以下、（Ｄ）
成分という〕を含有することができる。陰イオン界面活
性剤としては、高級脂肪酸塩、高級アルコール硫酸エス
テル塩、高級アルコールスルホン酸塩、硫酸化脂肪酸
塩、スルホン化脂肪酸塩、リン酸エステル塩、脂肪酸エ
ステルの硫酸エステル塩、脂肪酸エステルのスルホン酸
エステル塩、高級アルコールエーテルの硫酸エステル
塩、高級アルコールエーテルのスルホン酸エステル塩、
高級アルコールエーテル置換の酢酸塩、脂肪酸とアミノ
酸の縮合物、脂肪酸アミドのアルキロール化硫酸エステ
ル塩、脂肪酸アミドのアルキル化スルホン酸塩、スルホ
コハク酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、
アルキルフェノールスルホン酸塩、アルキルナフタレン
スルホン酸塩、アルキルベンゾイミダゾールスルホン酸
塩、アミドエーテルカルボン酸又はその塩、エーテルカ
ルボン酸又はその塩、Ｎ−アシル−Ｎ−メチルタウリン
又はその塩、アミドエーテル硫酸又はその塩、Ｎ−アシ
ルグルタミン酸又はその塩、Ｎ−アミドエチル−Ｎ−ヒ
ドロキシエチル酢酸又はその塩、アシルオキシエタンス
ルホン酸又はその塩、Ｎ−アシル−β−アラニン又はそ
の塩、Ｎ−アシル−Ｎ−カルボキシエチルタウリン又は
その塩、Ｎ−アシル−Ｎ−カルボキシエチルグリシン又
はその塩、及びアルキル又はアルケニルアミノカルボニ
ルメチル硫酸又はその塩等が挙げられる。陰イオン界面
活性剤の配合量は、組成物中に１ｐｐｍ〜５重量％、更
に１０ｐｐｍ〜０．５重量％、特に５０〜５００ｐｐｍ
が好ましい。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、通常の洗米機の洗浄剤
と同様に用いることで、優れた洗浄力を示し、且つ、通
常の操作よりも低温、短時間の処理でも芽胞形成菌やカ
ビに対して優れた殺菌力を示す洗米機用殺菌洗浄剤組成
物が得られる。
と同様に用いることで、優れた洗浄力を示し、且つ、通
常の操作よりも低温、短時間の処理でも芽胞形成菌やカ
ビに対して優れた殺菌力を示す洗米機用殺菌洗浄剤組成
物が得られる。
【００１４】
【実施例】実施例１〜５及び比較例１〜３ 表１に示す組成の成分からなる組成物を用いて、以下の
試験を行った。結果を表１に示す。なお、表１中の有効
塩素濃度は、ＪＩＳ Ｋ−０１０１“ヨウ素法”により
測定したものである。
試験を行った。結果を表１に示す。なお、表１中の有効
塩素濃度は、ＪＩＳ Ｋ−０１０１“ヨウ素法”により
測定したものである。
【００１５】なお、各組成物は、次亜塩素酸ナトリウム
水溶液（有効塩素濃度６００００ｐｐｍ）と（Ｂ）成分
又は（Ｄ）成分を所定量混合し得られたものを最終配合
濃度の２倍までイオン交換水で希釈したものとコハク酸
を最終配合濃度の２倍までイオン交換水で希釈したもの
を等量混合して得たものである。
水溶液（有効塩素濃度６００００ｐｐｍ）と（Ｂ）成分
又は（Ｄ）成分を所定量混合し得られたものを最終配合
濃度の２倍までイオン交換水で希釈したものとコハク酸
を最終配合濃度の２倍までイオン交換水で希釈したもの
を等量混合して得たものである。
【００１６】以下の各試験では、表１の組成物を、表１
の有効塩素濃度となるように希釈した試験水溶液を用い
た。
の有効塩素濃度となるように希釈した試験水溶液を用い
た。
【００１７】（１）洗浄力 米ぬか汚れのモデル汚れを作製後、リーナツ試験改良法
でそれぞれの洗浄力を評価した。
でそれぞれの洗浄力を評価した。
【００１８】プラスチック製容器に米５合と水２０００
ｃｃを入れ、米を水道水で十分に洗浄後、上澄み液を採
り、米ぬか汚れ液とする。清浄なステンレススチール
（ＳＵＳ）板（７６ｍｍ×２６ｍｍ×１ｍｍ）を６枚１
組とし、１ｍｇまでそれぞれの質量を測定しておく。２
５±１℃の米ぬか汚れ液中にＳＵＳ板を１枚ずつ約５５
ｍｍのところまで約２秒間浸し、油汚れを付着させた後
取り出す。ＳＵＳ板の下部に付着した油汚れのたまりは
清浄なガーゼ等の布や濾紙を用いて吸い取らせ、２５±
１℃で風乾する。更に浸漬、風乾を２回繰り返し、汚れ
の付着を均一な状態にして、２５±１℃で風乾する。更
に同様の操作を２回行い、最後に５０±１℃で１２時間
風乾後、質量を測定する。最終風乾後、１時間以上２時
間以内にモデル汚れＳＵＳ板を試験に用いる。
ｃｃを入れ、米を水道水で十分に洗浄後、上澄み液を採
り、米ぬか汚れ液とする。清浄なステンレススチール
（ＳＵＳ）板（７６ｍｍ×２６ｍｍ×１ｍｍ）を６枚１
組とし、１ｍｇまでそれぞれの質量を測定しておく。２
５±１℃の米ぬか汚れ液中にＳＵＳ板を１枚ずつ約５５
ｍｍのところまで約２秒間浸し、油汚れを付着させた後
取り出す。ＳＵＳ板の下部に付着した油汚れのたまりは
清浄なガーゼ等の布や濾紙を用いて吸い取らせ、２５±
１℃で風乾する。更に浸漬、風乾を２回繰り返し、汚れ
の付着を均一な状態にして、２５±１℃で風乾する。更
に同様の操作を２回行い、最後に５０±１℃で１２時間
風乾後、質量を測定する。最終風乾後、１時間以上２時
間以内にモデル汚れＳＵＳ板を試験に用いる。
【００１９】このモデル汚れガラス片６組を、２５℃±
２℃で５分間、リーナツ改良洗浄機を用いて洗浄し、イ
オン交換水で２５±２℃で３０秒間すすぐ。すすぎが終
了したガラス片は、一昼夜風乾させる。洗浄力の評価
は、モデル汚れガラス片の洗浄前後の重量より算出す
る。即ち、洗浄前と洗浄後の重量差を求め、次式により
洗浄率（％）を算出する。 洗浄率（％）＝（洗浄前重量−洗浄後重量）／汚れ付着
量×１００ ６枚のガラス片についてそれぞれの洗浄率を求め、最大
値と最小値を除いた４枚の洗浄率の平均値を求めた。１
つの組成物につき上記の洗浄試験を２回行い、２つの洗
浄率を算出し、それを更に平均したものを組成物の洗浄
率とした。
２℃で５分間、リーナツ改良洗浄機を用いて洗浄し、イ
オン交換水で２５±２℃で３０秒間すすぐ。すすぎが終
了したガラス片は、一昼夜風乾させる。洗浄力の評価
は、モデル汚れガラス片の洗浄前後の重量より算出す
る。即ち、洗浄前と洗浄後の重量差を求め、次式により
洗浄率（％）を算出する。 洗浄率（％）＝（洗浄前重量−洗浄後重量）／汚れ付着
量×１００ ６枚のガラス片についてそれぞれの洗浄率を求め、最大
値と最小値を除いた４枚の洗浄率の平均値を求めた。１
つの組成物につき上記の洗浄試験を２回行い、２つの洗
浄率を算出し、それを更に平均したものを組成物の洗浄
率とした。
【００２０】（２）殺菌力 芽胞形成菌である枯草菌（Bacillus subtilis ATCC663
3）をＳＣＤ寒天培地（日本製薬（株）製）に前培養し
た菌を一白金耳かきとり、１ｍｌの滅菌水に懸濁し、６
５℃、３０分間の熱処理後、２回遠心分離洗浄を行った
ものを試験に用いた（１０5cell／ｍｌ）。
3）をＳＣＤ寒天培地（日本製薬（株）製）に前培養し
た菌を一白金耳かきとり、１ｍｌの滅菌水に懸濁し、６
５℃、３０分間の熱処理後、２回遠心分離洗浄を行った
ものを試験に用いた（１０5cell／ｍｌ）。
【００２１】この試験用芽胞形成菌液の０．５ｍｌを、
上記（１）洗浄力の試験と同様に調製したＳＵＳ板に接
種後、風乾し、殺菌試験用ＳＵＳ板を得た。得られた殺
菌試験用ＳＵＳ板を試験用水溶液１００ｍｌを入れたビ
ーカーに３分間浸漬し、取り出し、すぐに滅菌水ですす
いだ。
上記（１）洗浄力の試験と同様に調製したＳＵＳ板に接
種後、風乾し、殺菌試験用ＳＵＳ板を得た。得られた殺
菌試験用ＳＵＳ板を試験用水溶液１００ｍｌを入れたビ
ーカーに３分間浸漬し、取り出し、すぐに滅菌水ですす
いだ。
【００２２】滅菌綿棒によりＳＵＳ板の所定面積（２０
ｍｍ×２０ｍｍ）を拭き取り、それを１ｍｌの滅菌水に
懸濁し、その液の１０倍希釈を繰り返し、各液２５μｌ
を後培養用ＳＣＤＬＰ培地（チオ硫酸ナトリウム３．３
％含有）０．２ｍｌの入ったミクロシャーレ（CORNING
社製、96-Cell Wells）へ接種した。３０℃で４８時間
培養し、ミクロシャーレ上で菌が生育しているかどうか
を肉眼で観察し、菌の育成がない場合を「◎」、ある場
合を「×」とした。
ｍｍ×２０ｍｍ）を拭き取り、それを１ｍｌの滅菌水に
懸濁し、その液の１０倍希釈を繰り返し、各液２５μｌ
を後培養用ＳＣＤＬＰ培地（チオ硫酸ナトリウム３．３
％含有）０．２ｍｌの入ったミクロシャーレ（CORNING
社製、96-Cell Wells）へ接種した。３０℃で４８時間
培養し、ミクロシャーレ上で菌が生育しているかどうか
を肉眼で観察し、菌の育成がない場合を「◎」、ある場
合を「×」とした。
【００２３】
【表１】
【００２４】（１）：（ ）内は有効塩素濃度を示す。 （２）：アンヒトール２０Ｎ（花王（株）製、有効分３
５％）を用いて有効分濃度が表１の数値となるようにし
た。 （３）：サニゾールＣ（花王（株）製、有効分５０％）
を用いて有効分濃度が表１の数値となるようにした。 （４）：エマール２０Ｃ（花王（株）製、有効分２５
％）を用いて有効分濃度が表１の数値となるようにし
た。 （５）：エマルゲン１０６（花王（株）製）を用いて有
効分濃度が表１の数値となるようにした。
５％）を用いて有効分濃度が表１の数値となるようにし
た。 （３）：サニゾールＣ（花王（株）製、有効分５０％）
を用いて有効分濃度が表１の数値となるようにした。 （４）：エマール２０Ｃ（花王（株）製、有効分２５
％）を用いて有効分濃度が表１の数値となるようにし
た。 （５）：エマルゲン１０６（花王（株）製）を用いて有
効分濃度が表１の数値となるようにした。
【００２５】実施例６、比較例４ 隔膜方式で得られたいわゆる電解酸化水のうち、陽極側
に発生した次亜塩素酸水（ｐＨ（２５℃）２．７、有効
塩素濃度５０ｐｐｍ）を用い、０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸
化ナトリウム水溶液でｐＨ１１に調整し、表２の比較例
４の組成物を得た。また、上記の次亜塩素酸水を、１ｍ
ｏｌ／Ｌのコハク酸二ナトリウム水溶液でｐＨ５に調整
後、ラウリルジメチルアミンオキシド（実施例１と同じ
もの）濃度が２５ｐｐｍになるように添加し、表２の実
施例６の組成物を得た。それらを用いて実施例１と同様
に殺菌力の試験を行い、菌の育成がない場合を「◎」、
ある場合を「×」とした。結果を表２に示す。
に発生した次亜塩素酸水（ｐＨ（２５℃）２．７、有効
塩素濃度５０ｐｐｍ）を用い、０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸
化ナトリウム水溶液でｐＨ１１に調整し、表２の比較例
４の組成物を得た。また、上記の次亜塩素酸水を、１ｍ
ｏｌ／Ｌのコハク酸二ナトリウム水溶液でｐＨ５に調整
後、ラウリルジメチルアミンオキシド（実施例１と同じ
もの）濃度が２５ｐｐｍになるように添加し、表２の実
施例６の組成物を得た。それらを用いて実施例１と同様
に殺菌力の試験を行い、菌の育成がない場合を「◎」、
ある場合を「×」とした。結果を表２に示す。
【００２６】
【表２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１１Ｄ 1/29 Ｃ１１Ｄ 1/29 1/62 1/62 1/75 1/75 3/04 3/04 3/20 3/20 17/08 17/08 (72)発明者 岡野 哲也 和歌山県和歌山市湊1334 花王株式会社研 究所内 (72)発明者 田村 成 和歌山県和歌山市湊1334 花王株式会社研 究所内 Ｆターム(参考） 4H003 AB31 AC15 AE05 BA12 DA12 DA17 EB07 ED02 EE08 FA28 FA34 4H011 AA02 AA03 BA01 BA05 BA06 BB04 BB18 BC06 BC18 DA13 DA14 DD07 DE17 DG16
Claims (5)
- 【請求項１】 次亜塩素酸塩及び次亜塩素酸から選ばれ
る１種以上（Ａ）と、両性界面活性剤及び陽イオン界面
活性剤から選ばれる１種以上（Ｂ）と、ｐＨ調整剤
（Ｃ）とを含有する洗米機用殺菌洗浄剤組成物。 - 【請求項２】 有効塩素濃度が１〜５０００ｐｐｍであ
る請求項１記載の洗米機用殺菌洗浄剤組成物。 - 【請求項３】 ｐＨ調整剤（Ｃ）が有機酸及びその塩か
ら選ばれる１種以上である請求項１又は２記載の洗米機
用殺菌洗浄剤組成物。 - 【請求項４】 更に陰イオン界面活性剤（Ｄ）を含有す
る請求項１〜３の何れか１項記載の洗米機用殺菌洗浄剤
組成物。 - 【請求項５】 （Ｂ）成分としてアミンオキシドを含有
する請求項１〜４の何れか１項記載の洗米機用殺菌洗浄
剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000130277A JP2001311096A (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 洗米機用殺菌洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000130277A JP2001311096A (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 洗米機用殺菌洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001311096A true JP2001311096A (ja) | 2001-11-09 |
Family
ID=18639414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000130277A Pending JP2001311096A (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | 洗米機用殺菌洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001311096A (ja) |
-
2000
- 2000-04-28 JP JP2000130277A patent/JP2001311096A/ja active Pending
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