JP2001308534A - Wiring board and method for manufacturing the same - Google Patents

Wiring board and method for manufacturing the same

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JP2001308534A
JP2001308534A JP2000126518A JP2000126518A JP2001308534A JP 2001308534 A JP2001308534 A JP 2001308534A JP 2000126518 A JP2000126518 A JP 2000126518A JP 2000126518 A JP2000126518 A JP 2000126518A JP 2001308534 A JP2001308534 A JP 2001308534A
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conductive paste
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秀樹 東谷
Daizo Ando
大蔵 安藤
Sadashi Nakamura
禎志 中村
Toshio Sugawa
俊夫 須川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microscopic wiring board which exhibits a high reliability and few variations in connection resistance by realizing a stable inter-layer connection with respect to the wiring board whose several wiring layers separated by electrically insulating base are electrically connected by inner via holes. SOLUTION: The wiring board is provided with an electrically insulating base 401 made of a compressible porous base, wiring patterns 406 placed on both sides of the electrically insulating base 401, via holes 403 formed through the electrically insulating base 401, and conductive paste 404 with which the via holes 403 are filled and whose wiring patterns 406 are electrically connected between both sides of the electrically insulating base 401 by only conductive paste 404. At least one of the wiring patterns 406 is formed by plating, is adhered on the surface of the electrically insulating base 401, and is coupled to conductive particles in the conductive paste 404.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、インナービアホー
ル接続により複数層の配線が電気的に接続された配線基
板およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring board in which a plurality of wiring layers are electrically connected by inner via hole connection, and a method of manufacturing the wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化、高性能化に伴
い、産業用にとどまらず広く民生用機器の分野において
も、LSI等の半導体チップを高密度に実装できる多層
配線回路基板が安価に供給されることが強く要望されて
きている。このような多層配線回路基板では、微細な配
線ピッチで形成された複数層の配線パターン間を、高い
接続信頼性で電気的に接続できることが重要である。
2. Description of the Related Art In recent years, with the miniaturization and high performance of electronic devices, multilayer wiring circuit boards on which semiconductor chips such as LSIs can be mounted at a high density have become inexpensive not only in industrial applications but also in the field of consumer devices. There is a strong demand that it be supplied to In such a multilayer wiring circuit board, it is important that a plurality of wiring patterns formed at a fine wiring pitch can be electrically connected with high connection reliability.

【0003】このような市場の要望に対して、従来の多
層配線基板の層間接続の主流となっていたスルーホール
内壁の金属めっき導体に代えて、多層プリント配線基板
の任意の電極を、任意の配線パターン位置において層間
接続できるインナービアホール接続法、すなわち全層I
VH構造樹脂多層基板と呼ばれるものがある(特開平0
6−268345号公報)。これは、多層プリント配線
基板のビアホール内に導電体を充填して、必要な各層間
のみを接続することが可能であり、部品ランド直下にイ
ンナービアホールを設けることができるために、基板サ
イズの小型化や高密度実装を実現することができる。ま
た、インナービアホールにおける電気的接続は導電性ペ
ーストを用いているために、ビアホールにかかる応力を
緩和することができ、熱衝撃等による寸法変化に対して
安定な電気的接続を実現することができる。
[0003] In response to such a demand in the market, an arbitrary electrode of a multilayer printed wiring board is replaced with an arbitrary electrode in place of the metal plating conductor on the inner wall of the through hole which has been the mainstream of the conventional interlayer connection of the multilayer wiring board. Inner via hole connection method that enables interlayer connection at the wiring pattern position, ie, all layers I
There is a so-called VH structure resin multilayer substrate (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 6-268345). This is because it is possible to fill the via holes of the multilayer printed wiring board with a conductor and connect only the necessary layers, and to provide the inner via holes directly under the component lands. And high-density mounting can be realized. Further, since the electrical connection in the inner via hole uses a conductive paste, the stress applied to the via hole can be reduced, and a stable electrical connection can be realized with respect to a dimensional change due to a thermal shock or the like. .

【0004】この全層IVH構造樹脂多層基板として、
図1(a)〜(h)、図2(a)〜(c)に示すような
工程で製造される構成が従来から提案されている。図1
(a)に示す101は、被圧縮性の多孔質基材よりなる
電気絶縁性基材である。この電気絶縁性基材101の両
側に、図1(b)に示すように、保護フィルム102を
ラミネート加工によって貼り付ける。続いて、図1
(c)に示すように、電気絶縁性基材101と保護フィ
ルム102の全てを貫通するビアホール103を、レー
ザー等によって形成する。次に図1(d)に示すよう
に、ビアホール103に導電性ペースト104を充填し
た後、図1(e)に示すように、両側の保護フィルム1
02を剥離する。この状態で図1(f)に示すように、
両側から箔状の配線材料105を積層し、図1(g)に
示す工程で、配線材料105を加熱加圧することにより
電気絶縁性基材101に接着させる。この時、電気絶縁
性基材101は被圧縮性の特徴を持つため、加熱加圧に
よって厚み方向に収縮することとなる。また、この加熱
加圧工程によって導電性ペースト104は厚み方向に圧
縮される。この圧縮によって導電性ペースト内の導電粒
子が高密度に接触し、同時に配線材料105と導電性ペ
ースト104の電気的接続も実現されることとなる。次
に、図1(h)に示すように、配線材料105をパター
ニングすることによって両面配線基板が完成する。
[0004] As this all-layer IVH structure resin multilayer substrate,
2. Description of the Related Art A configuration manufactured by processes shown in FIGS. 1A to 1H and FIGS. 2A to 2C has been conventionally proposed. FIG.
Reference numeral 101 shown in FIG. 1A denotes an electrically insulating substrate made of a compressible porous substrate. As shown in FIG. 1B, protective films 102 are attached to both sides of the electrically insulating substrate 101 by laminating. Subsequently, FIG.
As shown in (c), a via hole 103 penetrating through the entire electrically insulating substrate 101 and the protective film 102 is formed by a laser or the like. Next, as shown in FIG. 1D, the via holes 103 are filled with a conductive paste 104, and then, as shown in FIG.
02 is peeled off. In this state, as shown in FIG.
A foil-like wiring material 105 is laminated from both sides, and the wiring material 105 is adhered to the electrically insulating base material 101 by heating and pressing in a step shown in FIG. At this time, since the electrically insulating substrate 101 has a compressible characteristic, it contracts in the thickness direction by heating and pressing. In addition, the conductive paste 104 is compressed in the thickness direction by the heating and pressing process. Due to this compression, the conductive particles in the conductive paste come into high-density contact, and at the same time, the electrical connection between the wiring material 105 and the conductive paste 104 is realized. Next, as shown in FIG. 1H, the wiring material 105 is patterned to complete the double-sided wiring board.

【0005】図2(f)〜(h)は、図1(f)〜
(h)のビアホール近傍を拡大して示した図である。図
2には、配線材料105を加熱加圧によって電気絶縁性
基材101に接着する際、導電性ペースト104が圧縮
され、導電性ペースト104内の導電粒子が高密度に接
触する様子が示されている。
FIGS. 2F to 2H show FIGS. 1F to 1F.
It is the figure which expanded and showed the via hole vicinity of (h). FIG. 2 shows a state in which the conductive paste 104 is compressed and the conductive particles in the conductive paste 104 come into high-density contact when the wiring material 105 is bonded to the electrically insulating base material 101 by heating and pressing. ing.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述のような従来の構
成および製造方法において、ビアホール103の径を小
さくすると、ビアホール103の面積に反比例して、配
線材料105と導電性ペースト104内の導電粒子との
接触点が減少する。実際、配線材料105と導電性ペー
スト104の界面における電気的接続は、配線材料10
5と導電性ペースト104内の導電粒子の接触によって
確保されており、接触点が減少することによって、初期
の接続抵抗値が高い部分が発生し、初期の接続抵抗値の
ばらつきが大きくなるという問題が生じる。また、初期
の接続抵抗値が高い部分については、温度サイクル試験
やプレッシャークッカー試験などの信頼性試験で、接続
抵抗値が変動する現象が見られる。
In the above-described conventional structure and manufacturing method, when the diameter of the via hole 103 is reduced, the wiring material 105 and the conductive particles in the conductive paste 104 are inversely proportional to the area of the via hole 103. The number of contact points with is reduced. Actually, the electrical connection at the interface between the wiring material 105 and the conductive paste 104 is
5 and the conductive particles in the conductive paste 104 are secured by contact with each other. When the number of contact points is reduced, a portion where the initial connection resistance value is high occurs, and the variation in the initial connection resistance value increases. Occurs. Further, in a portion where the initial connection resistance value is high, a phenomenon that the connection resistance value fluctuates in a reliability test such as a temperature cycle test or a pressure cooker test is observed.

【0007】本発明は、上記の問題を解決し、電気絶縁
性基材によって隔てられた複数層の配線をインナービア
ホールにより電気的に接続した構成の配線基板におい
て、安定した層間接続を実現することにより、微細で信
頼性が高く、接続抵抗値にばらつきの少ない配線基板を
提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problem and realize a stable interlayer connection in a wiring board having a configuration in which a plurality of wiring layers separated by an electrically insulating base material are electrically connected by inner via holes. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a fine and highly reliable wiring board having a small variation in connection resistance value.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の配線基板は、被圧縮性の多孔質基材より
なる電気絶縁性基材と、前記電気絶縁性基材の両面に配
置された配線と、前記電気絶縁性基材を貫通して形成さ
れたビアホールと、前記ビアホールに充填された導電性
ペーストとを備え、前記配線を前記電気絶縁性基材の両
面間で前記導電性ペーストによってのみ電気的に接続し
た配線基板において、少なくとも一方の前記配線が、前
記電気絶縁性基材表面に付着するとともに前記導電性ペ
ースト内の導電粒子と結合しためっき配線であることを
特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a wiring board according to the present invention comprises: an electrically insulating base made of a compressible porous base; And a via hole formed through the electrically insulating base material, and a conductive paste filled in the via hole, wherein the wiring is formed between both surfaces of the electrically insulating base material. In a wiring board electrically connected only by a conductive paste, at least one of the wirings is a plating wiring attached to a surface of the electrically insulating base material and combined with conductive particles in the conductive paste. And

【0009】上記の構成によれば、配線を導電性ペース
ト内の導電粒子と結合しためっき配線にすることによっ
て、導電性ペーストと配線の界面での結合が強固なもの
となる。また、この構成では導電性ペーストと配線の界
面では金属的に強固な結合を実現するものの、ビアホー
ルの内部では導電性ペースト内の樹脂成分が応力緩衝の
役割を果たすこととなり、熱衝撃等による寸法変化に対
して安定した層間接続を実現する配線基板を提供ことが
可能となる。
According to the above configuration, by forming the wiring as a plated wiring bonded to the conductive particles in the conductive paste, the bonding at the interface between the conductive paste and the wiring becomes strong. Further, in this configuration, although a strong metallic bond is realized at the interface between the conductive paste and the wiring, the resin component in the conductive paste plays a role of buffering the stress inside the via hole, and the dimension due to thermal shock or the like is increased. It is possible to provide a wiring board that realizes stable interlayer connection against changes.

【0010】上記構成の配線基板において、被圧縮性の
多孔質基材よりなる電気絶縁性基材を、両面に接着層が
形成された電気絶縁性基材に代えてもよい。その場合
も、導電性ペーストと配線の界面の結合を強固なものと
することによって、安定した層間接続を実現する配線基
板を提供ことが可能となる。
In the wiring board having the above structure, the electrically insulating base made of a compressible porous base may be replaced with an electrically insulating base having adhesive layers formed on both surfaces. Also in this case, it is possible to provide a wiring substrate that realizes stable interlayer connection by strengthening the bond between the interface between the conductive paste and the wiring.

【0011】上記構成の配線基板において、前記導電性
ペーストと前記めっき配線の界面には複数の凹凸が設け
られていることが好ましい。この構成によれば、導電性
ペーストと配線の接触面積を実質的に広げることとな
り、結果としてめっき配線と導電性ペースト内の導電粒
子との結合面積を広げることができ、より抵抗値のばら
つきが小さく安定した層間接続を実現する配線基板を提
供ことができる。
In the wiring board having the above structure, it is preferable that a plurality of irregularities are provided at an interface between the conductive paste and the plating wiring. According to this configuration, the contact area between the conductive paste and the wiring is substantially increased, and as a result, the bonding area between the plated wiring and the conductive particles in the conductive paste can be increased, and the variation in resistance value can be further reduced. It is possible to provide a wiring board which realizes a small and stable interlayer connection.

【0012】本発明の多層基板は、上記いずれかの構成
にかかる配線基板を少なくとも一層含む構成を有する。
この構成によれば、安定した層間接続を実現する多層配
線基板を提供することが可能となる。
A multilayer board according to the present invention has a configuration including at least one wiring board according to any of the above configurations.
According to this configuration, it is possible to provide a multilayer wiring board that realizes stable interlayer connection.

【0013】上記の多層配線基板において、前記導電性
ペースト内の導電粒子と結合しためっき配線が少なくと
も一方の最外層に設けられていることが好ましい。この
構成によれば、応力集中が発生しやすい最外層の配線と
導電性ペーストの結合を強固にすることができるため、
実装ストレスに対して接続安定性が変動しない配線基板
を提供することができる。
[0013] In the above-mentioned multilayer wiring board, it is preferable that plated wiring bonded to conductive particles in the conductive paste is provided in at least one outermost layer. According to this configuration, the bond between the outermost wiring and the conductive paste where stress concentration is likely to occur can be strengthened.
It is possible to provide a wiring board whose connection stability does not fluctuate due to mounting stress.

【0014】また、本発明の配線基板の製造方法は、熱
硬化性樹脂を含む電気絶縁性基材にビアホールを形成す
る工程と、前記ビアホールに導電粒子と熱硬化性樹脂か
らなる導電性ペーストを充填する工程と、前記電気絶縁
性基材と前記導電性ペーストを加熱加圧し硬化する熱プ
レス工程と、前記導電性ペーストと電気的に接続される
配線を形成する工程とを含み、前記配線を形成する工程
において、前記電気絶縁性基材に付着するとともに導電
性ペースト内の導電粒子と結合するめっき配線を少なく
とも一方に形成することを特徴とする。この製造方法に
よれば、応力集中が発生しやすい配線と導電性ペースト
の界面での接合強度を向上させることができ、熱衝撃等
による寸法変化に対して安定した層間接続を実現する配
線基板を提供することができる。
Further, in the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, a step of forming a via hole in an electrically insulating base material containing a thermosetting resin, and a step of forming a conductive paste comprising conductive particles and a thermosetting resin in the via hole. A filling step, a hot pressing step of heating and pressurizing the electrically insulating base material and the conductive paste and curing, and a step of forming a wiring electrically connected to the conductive paste, In the forming step, at least one of the plating wirings that adheres to the electrically insulating base material and bonds to the conductive particles in the conductive paste is formed. According to this manufacturing method, it is possible to improve the bonding strength at the interface between the wiring and the conductive paste where stress concentration is likely to occur, and to realize a wiring board that realizes stable interlayer connection against dimensional changes due to thermal shock and the like. Can be provided.

【0015】上記の製造方法は、前記熱プレス工程にお
いて、電気絶縁性基材のめっき配線を形成する面に、導
電性ペースト内の導電粒子と異なる材料の金属箔を積層
し、加熱加圧によって電気絶縁性基材と導電性ペースト
を硬化させることが好ましい。この製造方法によれば、
前記金属箔のみを選択的にエッチングによって除去する
ことが可能となり、ビアホール内の導電性ペーストに機
械的なストレスを加えることなく、導電性ペーストを露
出させることができる。この結果、工程中に導電性ペー
ストにかかるダメージを抑制することとなり、安定した
層間接続を実現する配線基板を提供することが可能とな
る。
In the above-described manufacturing method, in the hot pressing step, a metal foil made of a material different from conductive particles in the conductive paste is laminated on the surface of the electrically insulating substrate on which the plating wiring is to be formed. It is preferable to cure the electrically insulating substrate and the conductive paste. According to this manufacturing method,
Only the metal foil can be selectively removed by etching, so that the conductive paste can be exposed without applying mechanical stress to the conductive paste in the via hole. As a result, damage to the conductive paste during the process is suppressed, and a wiring board that realizes stable interlayer connection can be provided.

【0016】上記の製造方法において、前記金属箔の少
なくとも電気絶縁層と接触する面が粗化されていること
が好ましい。この製造方法によれば、導電性ペーストの
露出面積を広げることができるので、めっき配線形成の
際の結合面積を広げ、層間接続の安定性を高めることが
できる。また、アンカー効果によって密着力の高いめっ
き配線を有する配線基板を提供することが可能となる。
In the above-described manufacturing method, it is preferable that at least a surface of the metal foil that is in contact with the electric insulating layer is roughened. According to this manufacturing method, the exposed area of the conductive paste can be increased, so that the bonding area in forming the plated wiring can be increased, and the stability of interlayer connection can be enhanced. Further, it is possible to provide a wiring board having plated wiring with high adhesion due to the anchor effect.

【0017】上記の製造方法において、感光性パラジウ
ム触媒を用いた無電解めっきによって配線パターンを形
成することが好ましい。この製造方法によれば、めっき
配線形成工程を簡略化することができ、生産性に優れた
配線基板を提供することが可能となる。
In the above manufacturing method, it is preferable to form a wiring pattern by electroless plating using a photosensitive palladium catalyst. According to this manufacturing method, the plating wiring forming step can be simplified, and a wiring substrate excellent in productivity can be provided.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。 (実施の形態1)実施の形態1の配線基板について、図
を用いて説明する。図3に示すように、本実施形態にか
かるプリント配線基板は、電気絶縁性基材301の両面
にめっき配線302a、302bが形成された構成の、
いわゆる両面プリント配線基板である。めっき配線30
2aとめっき配線302bとは、電気絶縁性基材301
を貫通して設けられた導電体である導電性ペースト30
3を介して電気的に接続され、導電性ペースト303内
の導電粒子と結合している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Embodiment 1) A wiring board according to Embodiment 1 will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 3, the printed wiring board according to the present embodiment has a configuration in which plated wirings 302 a and 302 b are formed on both surfaces of an electrically insulating base material 301.
This is a so-called double-sided printed wiring board. Plating wiring 30
2a and the plated wiring 302b
Paste 30 which is a conductor provided to penetrate through
3 and is electrically connected to the conductive particles in the conductive paste 303.

【0019】ここで、本プリント配線基板の製造工程に
ついて、図4(a)〜(i)を参照しながら説明する。
Here, the manufacturing process of the present printed wiring board will be described with reference to FIGS.

【0020】まず、図4(a)に示した電気絶縁性基材
401は、被圧縮性の多孔質基材である特徴を備えたも
のである。つまり、この電気絶縁性基材401の厚み方
向に圧縮を加えることでその寸法が収縮する。収縮の程
度については、電気絶縁性基材401中に形成する空孔
を制御することで調整することができる。電気絶縁性基
材401の材料としては、織布・不織布等の繊維のペー
パーに樹脂を含浸させたものを用いることができ、含浸
の際に空孔も同時に形成されることとなる。ペーパーと
してアラミド繊維を主成分とする不織布ペーパーを用
い、樹脂としてエポキシを主成分とする熱硬化性樹脂を
用いれば、電気絶縁性基材401内の空孔を均一に効率
良く形成することができ、被圧縮性の高い絶縁性基材を
得ることができる。
First, the electrically insulating substrate 401 shown in FIG. 4A is characterized by being a compressible porous substrate. That is, by applying compression in the thickness direction of the electrically insulating base material 401, its size is reduced. The degree of shrinkage can be adjusted by controlling the holes formed in the electrically insulating substrate 401. As the material of the electrically insulating substrate 401, a material obtained by impregnating a resin with fiber paper such as a woven fabric or a nonwoven fabric can be used, and pores are also formed at the time of the impregnation. If non-woven paper containing aramid fiber as a main component is used as the paper and a thermosetting resin containing epoxy as a main component is used as the resin, the pores in the electrically insulating base material 401 can be uniformly and efficiently formed. Thus, an insulating substrate having high compressibility can be obtained.

【0021】電気絶縁性基材401の両面に、図4
(b)に示すように、保護フィルム402を形成する。
保護フィルム402は、PETやPENを主成分とする
フィルムを、ラミネートによって電気絶縁性基材401
の両面に貼り付けるのが、簡便で生産性のよい製造方法
である。
As shown in FIG.
As shown in (b), a protective film 402 is formed.
The protective film 402 is formed by laminating a film containing PET or PEN as a main component by laminating the film.
Is a simple and highly productive manufacturing method.

【0022】次に図4(c)に示すように、保護フィル
ム402、電気絶縁性基材401を貫通するビアホール
403を形成する。ビアホール403はパンチ加工、ド
リル加工、レーザー加工によって形成することができる
が、炭酸ガスレーザーやYAGレーザーを用いれば、小
径のビアホールを短時間で形成することができ、生産性
に優れた加工を実現できる。
Next, as shown in FIG. 4C, a via hole 403 penetrating the protective film 402 and the electrically insulating substrate 401 is formed. The via hole 403 can be formed by punching, drilling, or laser processing, but if a carbon dioxide gas laser or a YAG laser is used, a small-diameter via hole can be formed in a short time, realizing processing with excellent productivity. it can.

【0023】続いて図4(d)に示すように、ビアホー
ル403に導電性ペースト404を充填する。導電性ペ
ースト404は、銅、銀、等の金属導電粒子と樹脂成分
から構成される。このとき、保護フィルム402は、導
電性ペースト404が電気絶縁性基材401表面に付着
するのを防ぐ保護の役割と、導電性ペーストの充填量を
確保する役割を果たす。導電性ペースト404は印刷に
よる充填が可能なため、生産性に優れているという利点
も有する。
Subsequently, as shown in FIG. 4D, a conductive paste 404 is filled in the via hole 403. The conductive paste 404 includes metal conductive particles of copper, silver, or the like and a resin component. At this time, the protective film 402 has a role of protecting the conductive paste 404 from adhering to the surface of the electrically insulating substrate 401 and a role of ensuring the filling amount of the conductive paste. Since the conductive paste 404 can be filled by printing, it also has an advantage of excellent productivity.

【0024】保護フィルム402を剥離することで、図
4(e)に示す状態を得る。導電性ペースト404は保
護フィルム402によって充填量を確保している。つま
り、導電性ペースト404は、保護フィルム402の厚
み程度の高さ分だけ、電気絶縁性基材401の表面より
突出した状態となっている。
By peeling off the protective film 402, the state shown in FIG. 4E is obtained. The filling amount of the conductive paste 404 is ensured by the protective film 402. That is, the conductive paste 404 is in a state of protruding from the surface of the electrically insulating substrate 401 by a height corresponding to the thickness of the protective film 402.

【0025】保護フィルム402を剥離した後図4
(f)に示すように、電気絶縁性基材401の両面にプ
レスシート405を介して加熱加圧を加え、導電性ペー
スト404を圧縮する。加熱加圧後は図4(g)に示す
ように、電気絶縁性基材401が厚み方向に寸法収縮す
ることになる。この様子をビアホール近傍を拡大して示
したのが図5(f)、(g)である。それぞれが、図4
(f)、(g)に対応する。図5(f)に示すように、
充填後の導電性ペースト404は導電性ペースト内の導
電粒子間に樹脂成分が多く存在し、充分な電気的接続が
確保されていない。これに対してプレスシート405を
介して加熱加圧工程加えることで、図5(g)に示すよ
うに、電気絶縁性基材401の厚みが収縮し、その結
果、導電性ペースト404に圧縮が加わり、導電性ペー
スト404内の導電粒子が密に接触することとなり導電
性ペースト404内の電気的接続を確保することができ
る。
After peeling off the protective film 402, FIG.
As shown in (f), heat and pressure are applied to both surfaces of the electrically insulating base material 401 via the press sheet 405 to compress the conductive paste 404. After the heating and pressing, as shown in FIG. 4 (g), the dimension of the electrically insulating substrate 401 shrinks in the thickness direction. FIGS. 5F and 5G show this state in an enlarged manner in the vicinity of the via hole. Fig. 4
(F) and (g). As shown in FIG.
The filled conductive paste 404 has a large amount of resin components between conductive particles in the conductive paste, and does not ensure sufficient electrical connection. On the other hand, by applying a heating / pressing step via the press sheet 405, the thickness of the electrically insulating base material 401 shrinks as shown in FIG. In addition, the conductive particles in the conductive paste 404 come into close contact with each other, so that electrical connection in the conductive paste 404 can be secured.

【0026】次に図4(h)に示すように、両側のプレ
スシート405を除去する。プレスシート405として
は、耐熱フィルムの表面にリケイ処理を施したフィルム
を用いることができる。この場合はプレスシート405
を機械的に剥離することになる。また、プレスシート4
05として、導電性ペースト404内の導電粒子とは異
なる材料の金属箔を用いることができる。この場合は金
属箔のみをエッチングによって除去することが可能とな
る。金属箔をエッチングする薬品を選ぶことによって、
導電性ペースト内の導電粒子を浸食することなくプレス
シート405を除去することができる。また、プレスシ
ート405を化学的に除去することで、導電性ペースト
に機械的ストレスを付与しないので、工程中に導電性ペ
ースト内の導電状態を劣化させることがない。
Next, as shown in FIG. 4H, the press sheets 405 on both sides are removed. As the press sheet 405, a film obtained by subjecting the surface of a heat-resistant film to a silicate treatment can be used. In this case, press sheet 405
Is mechanically peeled off. Press sheet 4
As 05, a metal foil of a material different from the conductive particles in the conductive paste 404 can be used. In this case, only the metal foil can be removed by etching. By choosing a chemical that etches the metal foil,
The press sheet 405 can be removed without eroding the conductive particles in the conductive paste. Further, by chemically removing the press sheet 405, no mechanical stress is applied to the conductive paste, so that the conductive state in the conductive paste does not deteriorate during the process.

【0027】引き続き図4(i)に示すように、露出さ
れた導電性ペースト404と結合するめっき配線を形成
する。めっきによる配線形成は無電解めっき、電解めっ
きが用いられる。無電解めっきによって配線形成する際
は、電気絶縁性基材401に触媒処理を施した後パター
ンめっきを行っても良いし、全面に無電解めっきによっ
て配線材料を形成した後にエッチングによってパターニ
ングしても良い。全面に無電解めっきを施す際に、電解
めっきを併用すると短時間で厚膜形成することが可能と
なる。
Subsequently, as shown in FIG. 4I, a plated wiring to be bonded to the exposed conductive paste 404 is formed. Electroless plating and electrolytic plating are used for forming the wiring by plating. When wiring is formed by electroless plating, pattern plating may be performed after subjecting the electrically insulating substrate 401 to a catalytic treatment, or patterning may be performed by etching after forming a wiring material on the entire surface by electroless plating. good. When electroless plating is used in combination with electroless plating over the entire surface, a thick film can be formed in a short time.

【0028】上記めっき配線を形成する簡便な製造方法
として、図9(a)〜(e)に示す製造方法を用いるこ
ともできる。図9(a)には、電気絶縁性基材901に
導電性ペースト902を充填し、加熱加圧によって圧縮
を加えた後の状態を示す。この状態は図4(h)に対応
する。次に図9(b)に示すように、電気絶縁性基材9
01の両側に感光性パラジウム触媒903を塗布する。
この触媒は紫外線を照射することによって活性化する性
質を備えたものである。次に図9(c)に示すように、
フォトマスク906を介して紫外光線904を照射す
る。それにより、紫外光線904が照射された部分の感
光性パラジウム触媒905が活性化することになる。こ
こで、図に示すように紫外光線904として平行光を用
い、フォトマスク906と電気絶縁性基材901の間に
ギャップを設ければ、フォトマスク906の表面へのご
み付着等の汚染を抑制することができ、繰り返し露光を
行う際に、安定した工程を実現できる。
As a simple manufacturing method for forming the plated wiring, the manufacturing method shown in FIGS. 9A to 9E can be used. FIG. 9A shows a state after the electrically conductive base material 901 is filled with the conductive paste 902 and compressed by heating and pressing. This state corresponds to FIG. Next, as shown in FIG.
01 is coated with a photosensitive palladium catalyst 903.
This catalyst has a property of being activated by irradiation with ultraviolet rays. Next, as shown in FIG.
Irradiation with ultraviolet light 904 is performed through a photomask 906. As a result, the photosensitive palladium catalyst 905 in the portion irradiated with the ultraviolet ray 904 is activated. Here, if parallel light is used as the ultraviolet ray 904 and a gap is provided between the photomask 906 and the electrically insulating substrate 901 as shown in the figure, contamination such as adhesion of dust to the surface of the photomask 906 is suppressed. When performing repeated exposure, a stable process can be realized.

【0029】引続き、無電解めっきを行うことによっ
て、図9(d)に示すように、感光性パラジウム触媒が
活性化した箇所にのみ選択的にめっき配線907が形成
されることとなる。次に、活性化されていない部分の感
光性パラジウム触媒を除去し、図9(e)に示すような
両面プリント配線基板を得ることができる。この様な製
造工程を用いることによって、フォトレジストを用いる
ことなく配線パターン形成が可能となり、生産性に優れ
たプリント配線基板を提供することができる。
Subsequently, by performing the electroless plating, as shown in FIG. 9D, the plating wiring 907 is selectively formed only at the portion where the photosensitive palladium catalyst is activated. Next, the photosensitive palladium catalyst in the unactivated portion is removed to obtain a double-sided printed wiring board as shown in FIG. By using such a manufacturing process, a wiring pattern can be formed without using a photoresist, and a printed wiring board excellent in productivity can be provided.

【0030】上述のように導電性ペースト内の導電粒子
と結合するように形成されためっき配線は、結合界面で
の強度に優れ、配線上に電子部品が実装されるなど機械
的なストレスが働いた際でも、導電性ペーストとの結合
界面で亀裂を生じにくい特徴がある。つまり、導電性ペ
ースト内の導電粒子同士の結合強度より配線と導電性ペ
ーストの結合強度を強くすることで、応力が発生した際
の緩和を導電性ペースト内部で実現することができる。
導電性ペースト内部では導電粒子が立体的に高密度に接
触しているため、応力によって導電粒子の位置が変化し
たとしても電気的接続の状態を劣化させることがない。
この結果として、安定した層間接続を実現する配線基板
を提供することができる。
As described above, the plated wiring formed so as to bond with the conductive particles in the conductive paste has excellent strength at the bonding interface, and is subjected to mechanical stress such as mounting of electronic components on the wiring. In this case, cracks are less likely to occur at the bonding interface with the conductive paste. That is, by making the bonding strength between the wiring and the conductive paste stronger than the bonding strength between the conductive particles in the conductive paste, the relaxation when stress occurs can be realized inside the conductive paste.
Since the conductive particles are three-dimensionally densely contacted inside the conductive paste, the state of the electrical connection is not deteriorated even if the position of the conductive particles changes due to stress.
As a result, it is possible to provide a wiring board that realizes stable interlayer connection.

【0031】また、図4の(f)〜(i)の工程は、図
6(a)〜(d)に示すような工程とすることもでき
る。この例は、プレスシート601である金属箔の表面
に凹凸を設けることで、電気絶縁性基材602の表面に
容易に凹凸形状を形成するものである。
The steps (f) to (i) in FIG. 4 may be steps as shown in FIGS. 6 (a) to (d). In this example, irregularities are easily formed on the surface of the electrically insulating base material 602 by providing irregularities on the surface of the metal foil as the press sheet 601.

【0032】図6(a)に示すように、プレスシート6
01は、電気絶縁性基材と接触する面に凹凸が形成され
ている。凹凸を形成するには、表面をエッチング処理に
よって粗化する方法や、こぶ状粒子をめっきによって付
着させ凹凸を形成する方法、機械的に粗化する方法を用
いることができる。図6(b)に示すように、この凹凸
は加熱加圧工程中に電気絶縁性基材602の表面に転写
される。次に図6(c)に示すように、両側のプレスシ
ート601を除去する。引き続き図6(d)に示すよう
に、露出された導電性ペースト604と結合するめっき
配線603を形成する。
As shown in FIG. 6A, the press sheet 6
In No. 01, irregularities are formed on the surface that comes into contact with the electrically insulating substrate. In order to form the unevenness, a method of roughening the surface by an etching treatment, a method of forming bumpy particles by attaching bump-like particles by plating, or a method of mechanically roughening the surface can be used. As shown in FIG. 6B, the irregularities are transferred to the surface of the electrically insulating substrate 602 during the heating and pressing step. Next, as shown in FIG. 6C, the press sheets 601 on both sides are removed. Subsequently, as shown in FIG. 6D, a plated wiring 603 to be bonded to the exposed conductive paste 604 is formed.

【0033】こぶ処理によって凹凸を形成した場合は、
めっき配線603と電気絶縁性基材602の間により強
固なアンカー効果が得られ強い密着を実現することがで
きる。またこの凹凸によって導電性ペースト604の露
出面積を広く確保することができるとともに、めっき配
線603と導電性ペースト604の密着力も向上するこ
ととなる。
When unevenness is formed by the bump processing,
A stronger anchor effect can be obtained between the plating wiring 603 and the electrically insulating base material 602, and strong adhesion can be realized. In addition, a large exposed area of the conductive paste 604 can be secured by the unevenness, and the adhesion between the plating wiring 603 and the conductive paste 604 can be improved.

【0034】上記の実施の形態では電気絶縁性基材とし
て、被圧縮性の多孔質基材の例について示したが、電気
絶縁性基材として両面に接着層が形成されている電気絶
縁性基材を用いてもよい。少なくとも片側の接着層に配
線を埋め込むことによって、導電性ペーストに圧縮を加
え、ペースト内部の導電粒子の電気的接続を確保するこ
とができる。特に片側からのみ配線を埋め込む場合は、
導電粒子と結合するめっき配線を、埋め込まれていない
側の配線に適用することで、安定した接続状態を確保す
ることができる。
In the above embodiment, an example of a compressible porous substrate has been described as an electrically insulating substrate, but an electrically insulating substrate having an adhesive layer formed on both surfaces as an electrically insulating substrate. A material may be used. By embedding the wiring in at least one of the adhesive layers, the conductive paste can be compressed, and the electrical connection of the conductive particles inside the paste can be secured. Especially when embedding wiring only from one side,
A stable connection state can be ensured by applying the plating wiring that is bonded to the conductive particles to the wiring on the side where no plating is embedded.

【0035】接着層で導電性ペーストの圧縮を確保する
構造の場合は、電気絶縁性材料として有機フィルム基材
・ガラスエポキシ基材等を用いることができる。有機フ
ィルム基材を用いれば屈曲性のあるプリント配線基板を
提供することができ、ガラスエポキシ基材を用いれば安
価なプリント配線基板を提供することができる。
In the case of a structure in which the compression of the conductive paste is ensured by the adhesive layer, an organic film substrate, a glass epoxy substrate or the like can be used as the electrically insulating material. A flexible printed wiring board can be provided by using an organic film base, and an inexpensive printed wiring board can be provided by using a glass epoxy base.

【0036】その場合の製造工程について、図8を参照
しながら、簡単に説明する。図8(a)に示した電気絶
縁性基材801の両側には、接着層802が形成されて
いる。接着層としては、熱硬化性のエポキシ樹脂、熱硬
化性のポリイミド樹脂等が用いられる。接着層802
は、導電性ペーストを圧縮するという観点から、配線の
埋め込みを実現しつつ、流れ性の小さいものが好まし
い。図8(b)に示すように、この電気絶縁性基材80
1の両側に保護フィルム803をラミネートによって貼
り付ける。次に、図8(c)に示すように、電気絶縁性
基材801と保護フィルム803を貫通するビアホール
804を形成し、図8(d)に示すように、ビアホール
804に導電性ペースト805を充填する。引き続き両
面の保護フィルム803を除去し、電気絶縁性基材80
1の表面から導電性ペースト805が突出した図8
(e)の状態を得る。次に図8(f)に示すように、既
に配線806が形成された支持基材807とプレスシー
ト808を積層し加熱加圧を加える。ここで、図8
(g)に示すように、配線806が接着層802に埋め
込まれることで、導電性ペースト805に圧縮が加わる
こととなる。次に図8(h)に示すように、プレスシー
ト808を除去し、図8(i)に示すように、導電性ペ
ースト805と結合するめっき配線809を形成する。
引き続き支持基材807を除去することで、図8(j)
に示す両面プリント配線基板を得ることができる。支持
基材807の除去は、工程中に配線の欠け・汚れ等のダ
メージが加わるのを避ける効果を考慮して、できるだけ
後の工程で行うのが好ましい。
The manufacturing process in that case will be briefly described with reference to FIG. Adhesive layers 802 are formed on both sides of the electrically insulating substrate 801 shown in FIG. As the adhesive layer, a thermosetting epoxy resin, a thermosetting polyimide resin, or the like is used. Adhesive layer 802
From the viewpoint of compressing the conductive paste, it is preferable that the material has a small flowability while embedding the wiring. As shown in FIG. 8B, this electrically insulating substrate 80
A protective film 803 is stuck on both sides of 1 by lamination. Next, as shown in FIG. 8C, a via hole 804 penetrating the electrically insulating base material 801 and the protective film 803 is formed, and as shown in FIG. 8D, a conductive paste 805 is applied to the via hole 804. Fill. Subsequently, the protective films 803 on both sides are removed, and the electrically insulating base material 80 is removed.
8 where the conductive paste 805 protrudes from the surface of FIG.
The state of (e) is obtained. Next, as shown in FIG. 8F, the support base 807 on which the wiring 806 is already formed and the press sheet 808 are laminated and heated and pressed. Here, FIG.
As shown in (g), when the wiring 806 is embedded in the adhesive layer 802, the conductive paste 805 is compressed. Next, as shown in FIG. 8 (h), the press sheet 808 is removed, and as shown in FIG. 8 (i), a plating wiring 809 to be bonded to the conductive paste 805 is formed.
Subsequently, by removing the supporting base material 807, FIG.
Can be obtained. The removal of the support base material 807 is preferably performed in a later process as much as possible in consideration of the effect of avoiding damage such as chipping or contamination of the wiring during the process.

【0037】なお、本実施例では片側より配線を埋め込
むことによって導電性ペーストを圧縮する構造を説明し
たが、両側から圧縮を加える構造でも同様の効果が実現
できるのは言うまでもない。
Although the structure in which the conductive paste is compressed by embedding the wiring from one side has been described in the present embodiment, it is needless to say that the same effect can be realized by a structure in which the compression is performed from both sides.

【0038】(実施の形態2)本発明の他の実施形態に
ついて、図7を参照しながら説明する。図7に、本発明
にかかる多層プリント配線基板の一例として、6層プリ
ント配線基板の製造段階における構成を示す。なお、多
層プリント配線基板の層数は6層に限定されるものでは
なく、以下に説明する製造工程に準じて製造することが
できる。
(Embodiment 2) Another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 shows a configuration in a manufacturing stage of a six-layer printed wiring board as an example of the multilayer printed wiring board according to the present invention. Note that the number of layers of the multilayer printed wiring board is not limited to six, and can be manufactured according to the manufacturing process described below.

【0039】図7(a)〜(d)を用いて、多層プリン
ト配線基板の製造工程について簡単に説明する。まず図
7(a)に示すように、4層プリント配線基板703の
両側に、導電性ペースト704が充填された電気絶縁性
基材702を介してプレスシート701を配置する。図
7では電気絶縁性基材として被圧縮性の多孔質基材を用
いた例を示しているが、両面に接着層を有する電気絶縁
性基材を用いても同様の効果が得られる。電気絶縁性基
材702は、4層プリント配線基板703にアライメン
トされ積層されることとなる。4層プリント基板703
としては、全層IVH構造樹脂多層基板の例を示してい
るが、多層プリント配線基板の構造はこれに限定される
ものではない。
With reference to FIGS. 7A to 7D, the steps of manufacturing a multilayer printed wiring board will be briefly described. First, as shown in FIG. 7A, a press sheet 701 is arranged on both sides of a four-layer printed wiring board 703 via an electrically insulating base material 702 filled with a conductive paste 704. FIG. 7 shows an example in which a compressible porous substrate is used as the electrically insulating substrate, but the same effect can be obtained by using an electrically insulating substrate having an adhesive layer on both surfaces. The electrically insulating base material 702 is aligned and laminated on the four-layer printed wiring board 703. 4-layer printed circuit board 703
Shows an example of an all-layer IVH structure resin multilayer substrate, but the structure of the multilayer printed wiring board is not limited to this.

【0040】続いて図7(b)に示すように両側から加
熱加圧を加え、導電性ペースト704を圧縮する。次に
図7(c)に示すようにプレスシート701を除去し、
図7(d)に示すように、露出した導電性ペースト70
4と結合するめっき配線705を形成して、6層プリン
ト配線基板が得られる。この例では、6層プリント配線
基板の最外層の配線と導電性ペーストがめっきによる結
合である例を示しているが、この結合が多層プリント配
線基板の内層配線にも適用されていれば、多層基板の内
部でも安定した層間接続が実現されることになる。
Subsequently, as shown in FIG. 7B, heat and pressure are applied from both sides to compress the conductive paste 704. Next, the press sheet 701 is removed as shown in FIG.
As shown in FIG. 7D, the exposed conductive paste 70
By forming the plating wiring 705 to be combined with the wiring 4, a six-layer printed wiring board is obtained. In this example, the wiring of the outermost layer of the six-layer printed wiring board and the conductive paste are bonded by plating. However, if this bonding is also applied to the inner wiring of the multilayer printed wiring board, Stable interlayer connection is realized even inside the substrate.

【0041】一方、多層プリント配線基板の最外層には
部品を実装する配線部が存在し、最外層の配線と導電性
ペーストとの結合を強固なものとすることによって、多
層プリント配線基板の接続信頼性を効果的に向上させる
ことができる。つまり、多層プリント配線基板に曲げス
トレスが加わった際、内層よりも、最外層の配線と導電
性ペーストの界面に応力集中が発生しやすいので、最外
層の配線と導電性ペースト間の結合を強固にすること
で、効果的に多層プリント配線基板の接続安定性を向上
させることができる。
On the other hand, there is a wiring portion for mounting components on the outermost layer of the multilayer printed wiring board, and the connection between the wiring of the outermost layer and the conductive paste is strengthened, thereby connecting the multilayer printed wiring board. Reliability can be effectively improved. In other words, when bending stress is applied to the multilayer printed wiring board, stress concentration is more likely to occur at the interface between the outermost layer wiring and the conductive paste than at the inner layer, so that the bond between the outermost layer wiring and the conductive paste is strengthened. By doing so, the connection stability of the multilayer printed wiring board can be effectively improved.

【0042】また、最外層の配線と導電性ペースト間に
応力集中が発生するのは、部品を実装した際でも同様で
ある。
Further, the occurrence of stress concentration between the outermost wiring and the conductive paste is the same even when components are mounted.

【0043】特に、応力集中する配線層がシミュレーシ
ョン等によって明らかな場合は、上記製造方法に準じて
その界面を強化するように多層プリント配線基板を構成
をすることで、効果的な接続安定性の向上を実現でき
る。
In particular, when a wiring layer on which stress is concentrated is evident by simulation or the like, a multilayer printed wiring board is formed so as to strengthen the interface according to the above-described manufacturing method, thereby achieving effective connection stability. Improvement can be realized.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明によれば、応力集中が発生する層
の配線と導電性ペーストの結合を強化することができ
る。この結果安定した層間接続を実現する配線基板を提
供することが可能となる。
According to the present invention, it is possible to enhance the bonding between the conductive paste and the wiring in the layer where stress concentration occurs. As a result, it is possible to provide a wiring board that realizes stable interlayer connection.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 従来例のプリント配線基板の製造方法を、主
要な製造工程毎に示す断面図
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a conventional method of manufacturing a printed wiring board for each of main manufacturing steps.

【図2】 図1の製造方法における工程(f)〜(h)
における構成を、ビアホール付近を拡大して示した断面
FIG. 2 shows steps (f) to (h) in the manufacturing method of FIG.
Cross-sectional view showing the configuration in FIG.

【図3】 実施の形態1にかかるプリント配線基板の構
成を示す断面図
FIG. 3 is a sectional view showing the configuration of the printed wiring board according to the first embodiment;

【図4】 実施の形態1にかかるプリント配線基板の製
造方法を、主要な工程毎に示す断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a main step of the method for manufacturing a printed wiring board according to the first embodiment;

【図5】 図4の製造方法における要部の構成を、ビア
ホール付近を拡大して示した断面図
FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing a configuration of a main part in the manufacturing method of FIG. 4 in the vicinity of a via hole;

【図6】 図4の製造方法における工程(f)、(g)
の他の構成を、ビアホール付近を拡大して示した図
FIG. 6 shows steps (f) and (g) in the manufacturing method of FIG.
Figure showing an enlarged view of the vicinity of the via hole showing another configuration of

【図7】 実施の形態2にかかる多層プリント配線基板
の製造方法を、主要な製造工程毎に示す断面図
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing the multilayer printed wiring board according to the second embodiment for each of main manufacturing steps.

【図8】 本発明の実施の形態における、他の構成の電
気絶縁性基材を用いた製造方法を、主要な工程毎に示す
断面図
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a manufacturing method using an electrically insulating base material having another configuration according to the embodiment of the present invention for each of main steps.

【図9】 本発明の実施の形態におけるめっき配線を形
成する方法の一例を、主要な工程毎に示す断面図
FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of a method for forming a plated wiring in each embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 電気絶縁性基材 102 保護フィルム 103 ビアホール 104 導電性ペースト 105 配線材料 301 電気絶縁性基材 302a めっき配線 302b めっき配線 303 導電性ペースト 401 電気絶縁性基材 402 保護フィルム 403 ビアホール 404 導電性ペースト 405 プレスシート 406 めっき配線 601 プレスシート 602 電気絶縁性基材 603 めっき配線 604 導電性ペースト 701 プレスシート 702 電気絶縁性基材 703 4層プリント配線基板 704 導電性ペースト 705 めっき配線 801 電気絶縁性基材 802 接着層 803 保護フィルム 804 ビアホール 805 導電性ペースト 806 配線 807 支持基材 808 プレスシート 809 めっき配線 901 電気絶縁性基材 902 導電性ペースト 903 感光性パラジウム触媒 904 紫外光線 905 感光性パラジウム触媒 906 フォトマスク 907 めっき配線 Reference Signs List 101 electric insulating base material 102 protective film 103 via hole 104 conductive paste 105 wiring material 301 electric insulating base material 302a plating wiring 302b plating wiring 303 conductive paste 401 electric insulating base material 402 protective film 403 via hole 404 conductive paste 405 Press sheet 406 Plating wiring 601 Press sheet 602 Electric insulating base material 603 Plating wiring 604 Conductive paste 701 Press sheet 702 Electric insulating base material 703 Four-layer printed wiring board 704 Conductive paste 705 Plating wiring 801 Electric insulating base material 802 Adhesive layer 803 Protective film 804 Via hole 805 Conductive paste 806 Wiring 807 Supporting base 808 Press sheet 809 Plating wiring 901 Electrically insulating base 902 Conductive Paste 903 photosensitive palladium catalyst 904 ultraviolet light 905 photosensitive palladium catalyst 906 photomask 907 plated wiring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 禎志 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 須川 俊夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E317 AA21 AA24 CC25 CC31 CC51 CD21 CD25 CD27 CD32 GG11 5E346 AA43 CC05 CC09 DD12 DD23 EE02 FF18 GG15 HH07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Satoshi Nakamura 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Pref. Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Terms (reference) 5E317 AA21 AA24 CC25 CC31 CC51 CD21 CD25 CD27 CD32 GG11 5E346 AA43 CC05 CC09 DD12 DD23 EE02 FF18 GG15 HH07

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被圧縮性の多孔質基材よりなる電気絶縁
性基材と、前記電気絶縁性基材の両面に配置された配線
と、前記電気絶縁性基材を貫通して形成されたビアホー
ルと、前記ビアホールに充填された導電性ペーストとを
備え、前記配線を前記電気絶縁性基材の両面間で前記導
電性ペーストによってのみ電気的に接続した配線基板に
おいて、少なくとも一方の前記配線が、前記電気絶縁性
基材表面に付着するとともに前記導電性ペースト内の導
電粒子と結合しためっき配線であることを特徴とする配
線基板。
1. An electric insulating base material comprising a compressible porous base material, wirings arranged on both surfaces of the electric insulating base material, and formed through the electric insulating base material. In a wiring board including a via hole and a conductive paste filled in the via hole, and the wiring is electrically connected only between the two surfaces of the electrically insulating base material by the conductive paste, at least one of the wirings is A wiring substrate, wherein the wiring substrate is a plated wiring attached to the surface of the electrically insulating substrate and bonded to conductive particles in the conductive paste.
【請求項2】 両面に接着層が形成された電気絶縁性基
材と、前記電気絶縁性基材の両面に配置された配線と、
前記電気絶縁性基材を貫通して形成されたビアホール
と、前記ビアホールに充填された導電性ペーストとを備
え、前記配線を前記電気絶縁性基材の両面間で前記導電
性ペーストによってのみ電気的に接続した配線基板にお
いて、少なくとも一方の前記配線が、前記電気絶縁性基
材表面に付着するとともに前記導電性ペースト内の導電
粒子と結合しためっき配線であることを特徴とする配線
基板。
2. An electrically insulating base material having an adhesive layer formed on both surfaces thereof, and wirings arranged on both surfaces of the electrically insulating base material,
A via hole formed through the electrically insulating substrate, and a conductive paste filled in the via hole, wherein the wiring is electrically connected only by the conductive paste between both surfaces of the electrically insulating substrate. Wherein at least one of the wirings is a plating wiring attached to the surface of the electrically insulating base material and bonded to conductive particles in the conductive paste.
【請求項3】 前記導電性ペーストと前記めっき配線の
界面に複数の凹凸が設けられていることを特徴とする請
求項1または請求項2に記載の配線基板。
3. The wiring board according to claim 1, wherein a plurality of irregularities are provided at an interface between the conductive paste and the plating wiring.
【請求項4】 請求項1または請求項2に記載の配線基
板を少なくとも一層含むことを特徴とする多層配線基
板。
4. A multilayer wiring board comprising at least one wiring board according to claim 1 or 2.
【請求項5】 前記導電性ペースト内の導電粒子と結合
しためっき配線が少なくとも一方の最外層に設けられて
いることを特徴とする請求項4に記載の多層配線基板。
5. The multilayer wiring board according to claim 4, wherein a plated wiring bonded to conductive particles in the conductive paste is provided on at least one outermost layer.
【請求項6】 熱硬化性樹脂を含む電気絶縁性基材にビ
アホールを形成する工程と、前記ビアホールに導電粒子
と熱硬化性樹脂からなる導電性ペーストを充填する工程
と、前記電気絶縁性基材と前記導電性ペーストを加熱加
圧し硬化する熱プレス工程と、前記導電性ペーストと電
気的に接続される配線を形成する工程とを含み、前記配
線を形成する工程において、前記電気絶縁性基材に付着
するとともに前記導電性ペースト内の前記導電粒子と結
合するめっき配線を少なくとも一方に形成することを特
徴とする配線基板の製造方法。
6. A step of forming a via hole in an electrically insulating base material containing a thermosetting resin, a step of filling the via hole with a conductive paste composed of conductive particles and a thermosetting resin, A hot pressing step of heating and pressing the material and the conductive paste for curing, and a step of forming a wiring electrically connected to the conductive paste, wherein the step of forming the wiring comprises: A method of manufacturing a wiring board, comprising: forming a plated wiring attached to a material and bonded to the conductive particles in the conductive paste on at least one side.
【請求項7】 前記熱プレス工程において、前記電気絶
縁性基材の前記めっき配線を形成する面に、導電性ペー
スト内の導電粒子と異なる材料の金属箔を積層し、加熱
加圧によって前記電気絶縁性基材と前記導電性ペースト
を硬化させることを特徴とする請求項6に記載の配線基
板の製造方法。
7. In the hot pressing step, a metal foil made of a material different from conductive particles in a conductive paste is laminated on a surface of the electrically insulating substrate on which the plating wiring is formed, and the electric foil is heated and pressurized. 7. The method according to claim 6, wherein the insulating base and the conductive paste are cured.
【請求項8】 前記金属箔の少なくとも電気絶縁層と接
触する面が粗化されていることを特徴とする請求項7に
記載の配線基板の製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein at least a surface of the metal foil that is in contact with the electrical insulating layer is roughened.
【請求項9】 前記配線を形成する工程において、感光
性パラジウム触媒を用いた無電解めっきによって配線パ
ターンを形成することを特徴とする請求項6に記載の配
線基板の製造方法。
9. The method according to claim 6, wherein in the step of forming the wiring, a wiring pattern is formed by electroless plating using a photosensitive palladium catalyst.
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