JP2001308437A - Semiconductor laser device and manufacturing method therefor - Google Patents

Semiconductor laser device and manufacturing method therefor

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JP2001308437A
JP2001308437A JP2000116917A JP2000116917A JP2001308437A JP 2001308437 A JP2001308437 A JP 2001308437A JP 2000116917 A JP2000116917 A JP 2000116917A JP 2000116917 A JP2000116917 A JP 2000116917A JP 2001308437 A JP2001308437 A JP 2001308437A
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support member
frame
laser device
terminal
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Atsushi Tajiri
敦志 田尻
Mitsuharu Matsumoto
光晴 松本
Yasuhiko Nomura
康彦 野村
Masayuki Shono
昌幸 庄野
Minoru Sawada
稔 澤田
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor laser device which is miniaturized and lightened, whose cost is reduced and whose heat radiating property is improved, and to provide the manufacturing method. SOLUTION: A light receiving element 9 is arranged on a support member 1 and a semiconductor laser element 14 is arranged on the light receiving element 9. A plurality of terminals 31, 32 and 33 are arranged on the surface of the support member 1 in parallel so that they confront each other by leaving a prescribed interval. A plurality of terminals 31, 32 and 33 are electrically connected to the semiconductor laser element 14 and the light receiving element 9. A frame body 20 whose plane is in a U shape is formed on the periphery of the semiconductor laser element 1 so that the support member 1 and a plurality of terminals 31, 32 and 33 are integrated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザ素子
を備えた半導体レーザ装置およびその製造方法に関す
る。
The present invention relates to a semiconductor laser device having a semiconductor laser device and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光ピックアップ装置の小型軽量化
および低価格化の要求に伴って、光源として用いられる
半導体レーザ装置の小型化および低価格化が図られてい
る。例えば、従来の丸形キャン(缶)パッケージに代え
てリードフレームおよび樹脂モールドからなるパッケー
ジを用いた半導体レーザ装置が開発されている。このよ
うな半導体レーザ装置は、例えば特開平6−45709
号公報に開示されている。
2. Description of the Related Art In recent years, along with the demand for smaller and lighter optical pickup devices and lower cost, semiconductor laser devices used as light sources have been reduced in size and cost. For example, a semiconductor laser device using a package composed of a lead frame and a resin mold instead of a conventional round can (can) package has been developed. Such a semiconductor laser device is disclosed in, for example, JP-A-6-45709.
No. 6,086,045.

【0003】図6は上記の公報に開示された半導体レー
ザ装置の上面図、図7は図6の半導体レーザ装置のA−
A線断面図、図8は図6の半導体レーザ装置のB−B線
断面図である。
FIG. 6 is a top view of the semiconductor laser device disclosed in the above publication, and FIG.
8 is a cross-sectional view of the semiconductor laser device of FIG. 6 taken along the line BB.

【0004】図6〜図8の半導体レーザ装置52におい
ては、リード51上に受光素子59が載置され、受光素
子59上に半導体レーザ素子64が載置されている。
[0006] In the semiconductor laser device 52 of FIGS. 6 to 8, a light receiving element 59 is mounted on a lead 51, and a semiconductor laser element 64 is mounted on the light receiving element 59.

【0005】リード51は、厚みが0.2mm〜1.0
mmの銅、鉄、またはアルミニウム等の金属材料からな
り、矩形部53および端子部54により構成される。リ
ード51の端面55にはV字状溝からなる凹部56が形
成されている。リード51の端子部54と並列に他のリ
ード57,58が配置されている。他のリード57,5
8も銅等の金属材料からなり、ともにリード51から離
れて対向する位置に設けられている。
The lead 51 has a thickness of 0.2 mm to 1.0 mm.
mm, made of a metal material such as copper, iron, or aluminum, and includes a rectangular portion 53 and a terminal portion 54. A concave portion 56 formed of a V-shaped groove is formed on the end face 55 of the lead 51. Other leads 57 and 58 are arranged in parallel with the terminal portion 54 of the lead 51. Other leads 57,5
8 is also made of a metal material such as copper, and is provided at a position facing away from the lead 51.

【0006】受光素子59は、例えばP−I−N構造を
有するシリコン系結晶により構成され、P型拡散領域
(受光面)63を有する。シリコン系結晶には表面電極
60,61および裏面電極62が設けられ、表面電極6
1はP型拡散領域63とオーミック接触し、裏面電極6
2は銀ペースト等の導電性接着剤を介してリード51上
に固着されている。
The light receiving element 59 is made of, for example, a silicon-based crystal having a PIN structure and has a P-type diffusion region (light receiving surface) 63. The silicon-based crystal is provided with front electrodes 60 and 61 and a back electrode 62,
1 is in ohmic contact with the P-type diffusion region 63,
2 is fixed on the lead 51 via a conductive adhesive such as a silver paste.

【0007】半導体レーザ素子64は、例えば平面状の
活性層とその活性層を挟むクラッド層とからなるGaA
lAs発光層を有する。半導体レーザ素子64の両端は
へき開され、へき開面上に反射膜が形成されている。そ
れにより、半導体レーザ素子64の一方の端面(前面)
がレーザビームを出射する出射面65となる。なお、半
導体レーザ素子64の他方の端面(後面)からはモニタ
用のレーザビームが出射される。
The semiconductor laser device 64 is, for example, a GaAs having a planar active layer and a cladding layer sandwiching the active layer.
It has an As light emitting layer. Both ends of the semiconductor laser element 64 are cleaved, and a reflection film is formed on the cleaved surface. Thereby, one end face (front face) of the semiconductor laser element 64
Becomes an emission surface 65 for emitting a laser beam. A laser beam for monitoring is emitted from the other end surface (rear surface) of the semiconductor laser element 64.

【0008】半導体レーザ素子64は、出射面65がリ
ード51の端面55の近傍に位置するように受光素子5
9の表面電極60上に銀ペーストまたは半田を介して固
着されている。リード51の端子部54は、半導体レー
ザ素子64の光出射方向と逆方向に延びている。
[0008] The semiconductor laser element 64 is arranged such that the light emitting surface 65 is located near the end face 55 of the lead 51.
9 is fixed on the surface electrode 60 via silver paste or solder. The terminal portion 54 of the lead 51 extends in the direction opposite to the light emission direction of the semiconductor laser device 64.

【0009】半導体レーザ素子64の後面近傍から受光
素子59のP型拡散領域63を一体的に覆うように透光
性樹脂69が形成されている。透光性樹脂69は、例え
ばエポキシ樹脂等からなる。このように透光性樹脂69
で覆うことにより、半導体レーザ素子64の後面からの
出射光が透光性樹脂69と大気との界面で反射され、P
型拡散領域63に確実に入射する。それにより、受光量
が増加するので、受光素子59の感度が向上する。
A light-transmitting resin 69 is formed so as to integrally cover the P-type diffusion region 63 of the light-receiving element 59 from near the rear surface of the semiconductor laser element 64. The translucent resin 69 is made of, for example, an epoxy resin. Thus, the translucent resin 69
, Light emitted from the rear surface of the semiconductor laser element 64 is reflected at the interface between the translucent resin 69 and the atmosphere, and P
It surely enters the mold diffusion region 63. Thereby, the amount of received light increases, so that the sensitivity of the light receiving element 59 improves.

【0010】リード51の周辺には絶縁膜70が形成さ
れている。絶縁膜70は、例えばポリカーボネート樹脂
またはエポキシ樹脂等からなり、半導体レーザ素子64
の出射面65が露出するように平面略コ字状にかつリー
ド51,57,58の各上面と下面とを挟むようにトラ
ンスファーモールドによって形成されている。リード5
1の両側部が絶縁膜70の外側に突出することにより側
板部53が形成されている。
An insulating film 70 is formed around the leads 51. The insulating film 70 is made of, for example, a polycarbonate resin or an epoxy resin, or the like.
Are formed in a substantially U-shape in a plane such that the light exit surface 65 is exposed, and is formed by transfer molding so as to sandwich the upper and lower surfaces of the leads 51, 57, 58. Lead 5
The side plate portions 53 are formed by projecting the both side portions of 1 from outside the insulating film 70.

【0011】表面電極60とリード51との間を電気的
に接続するように金属細線66が配線され、半導体レー
ザ素子64の表面電極と他のリード57との間を電気的
に接続するように金属細線67が配線され、表面電極6
1と他のリード58との間を電気的に接続するように金
属細線68が配線されている。
A thin metal wire 66 is arranged so as to electrically connect between the surface electrode 60 and the lead 51, and electrically connects between the surface electrode of the semiconductor laser element 64 and another lead 57. A thin metal wire 67 is wired and the surface electrode 6
A thin metal wire 68 is wired so as to electrically connect between 1 and another lead 58.

【0012】この半導体レーザ装置52を光ピックアッ
プ装置に取り付けるためには一点鎖線で示す支持具72
を用いる。支持具72には、リード51の端面55の凹
部56に対応する凸部77が形成されている。支持具7
2の凸部77とリード51の凹部56とが嵌まり合うよ
うに、半導体レーザ装置52が支持具72に固定され
る。支持具72はアルミニウム合金等からなり、半導体
レーザ素子64において発生した熱は、リード51およ
び絶縁膜70の外側に突出した側板部53を通って支持
部72から放出される。
In order to attach the semiconductor laser device 52 to the optical pickup device, a support 72 shown by a chain line is required.
Is used. The support member 72 is formed with a convex portion 77 corresponding to the concave portion 56 of the end surface 55 of the lead 51. Support 7
The semiconductor laser device 52 is fixed to the support member 72 such that the second convex portion 77 and the concave portion 56 of the lead 51 are fitted. The support member 72 is made of an aluminum alloy or the like, and heat generated in the semiconductor laser element 64 is released from the support portion 72 through the leads 51 and the side plate portions 53 protruding outside the insulating film 70.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】このような従来の半導
体レーザ装置52のリード51,57,58の作製は、
1枚の金属板をエッチング法または金型プレス法により
パターニングし、リード51,57,58が一体につな
がったフレームを形成することにより行われる。
The production of the leads 51, 57, 58 of such a conventional semiconductor laser device 52 is as follows.
This is performed by patterning one metal plate by an etching method or a mold pressing method to form a frame in which the leads 51, 57, 58 are integrally connected.

【0014】しかしながら、一般に、エッチング法で
は、金属板の表面に垂直な方向(厚さ方向)と同時に水
平な方向にもエッチングが進行し、マスクパターンの領
域よりもエッチング領域が広がってしまう。そのため、
金属板の除去される領域の最小幅を金属板の厚さよりも
小さくすることはできない。
However, in general, in the etching method, the etching proceeds in the direction perpendicular to the surface of the metal plate (thickness direction) as well as in the horizontal direction, so that the etching region becomes wider than the mask pattern region. for that reason,
The minimum width of the removed area of the metal plate cannot be smaller than the thickness of the metal plate.

【0015】また、金属プレス法では、細長いリード状
のパターンを形成しようとする場合、金属板の残す部分
であるリードの最小幅が金属板の厚みよりも小さいと、
プレス時にリードにねじれが発生し、樹脂成型や金属細
線の取り付け等の後工程で不具合が生じる。そのため、
金属板の残す部分であるリードの最小幅を金属板の厚さ
よりも小さくすることはできない。
In the metal pressing method, when forming an elongated lead-like pattern, if the minimum width of the lead, which is a portion left by the metal plate, is smaller than the thickness of the metal plate,
The lead is twisted at the time of pressing, which causes a problem in a post-process such as resin molding or mounting of a thin metal wire. for that reason,
The minimum width of the lead, which is a portion left by the metal plate, cannot be smaller than the thickness of the metal plate.

【0016】これらの結果、リード51,57,58を
互いに電気的に分離するためのリード51,57,58
間の間隔を各リード51,57,58の厚さよりも小さ
くすることはできない。
As a result, the leads 51, 57, 58 for electrically separating the leads 51, 57, 58 from each other.
The spacing between them cannot be smaller than the thickness of each of the leads 51, 57, 58.

【0017】ところで、一般に、半導体レーザ装置にお
いては、信頼性を確保するために半導体レーザ素子で発
生する熱を効率良く外部へ逃がすことが重要である。特
に、赤色光を発生する半導体レーザ素子(以下、赤色半
導体レーザ素子と呼ぶ)は熱伝導率が低く、高出力用途
の半導体レーザ素子(以下、高出力半導体レーザ素子と
呼ぶ)は発熱量が大きい。
In general, in a semiconductor laser device, it is important to efficiently release heat generated by the semiconductor laser element to the outside in order to ensure reliability. In particular, a semiconductor laser device that generates red light (hereinafter, referred to as a red semiconductor laser device) has a low thermal conductivity, and a semiconductor laser device for high-power use (hereinafter, referred to as a high-power semiconductor laser device) generates a large amount of heat. .

【0018】そのため、赤色半導体レーザ素子や高出力
半導体レーザ素子を用いる場合、半導体レーザ装置を放
熱効率の高い構造にする必要がある。その1つの構造と
して、半導体レーザ素子が取り付けられるリードの厚さ
を厚くすることが、放熱効果を高めるために有効であ
る。この場合、リードの厚さを厚くすることにより、リ
ードの断面積が大きくなる。それにより、リードの熱抵
抗が小さくなり、熱が外部へ逃げやすくなる。
Therefore, when using a red semiconductor laser device or a high-power semiconductor laser device, the semiconductor laser device needs to have a structure with high heat radiation efficiency. As one of the structures, increasing the thickness of the lead to which the semiconductor laser element is attached is effective to enhance the heat radiation effect. In this case, increasing the thickness of the lead increases the cross-sectional area of the lead. As a result, the thermal resistance of the lead is reduced, and the heat is easily released to the outside.

【0019】一方、市場より半導体レーザ装置に小型化
が要求されている。放熱効率を高めようとすると、上記
のように厚いリードを用いる必要があるが、リード間の
間隔およびリードの幅が共に大きくなり、半導体レーザ
装置の横幅が大きくなってしまう。
On the other hand, the market demands miniaturization of semiconductor laser devices. To increase the heat radiation efficiency, it is necessary to use thick leads as described above. However, both the intervals between the leads and the width of the leads increase, and the lateral width of the semiconductor laser device increases.

【0020】このため、半導体レーザ素子の温度特性お
よび上記の横幅の制約を勘案して、CD(Compact Dis
c;コンパクトディスク)ドライブ用またはCD−RO
M(Compact Disc-Read Only Memory )ドライブ用の再
生専用半導体レーザ装置として、0.3〜0.4mmの
厚さのリードを用いた半導体レーザ装置が実用化されて
いるのみである。
For this reason, in consideration of the temperature characteristics of the semiconductor laser device and the above-mentioned restrictions on the width, the CD (Compact Discharge) is used.
c; for compact disc) drive or CD-RO
As a read-only semiconductor laser device for an M (Compact Disc-Read Only Memory) drive, only a semiconductor laser device using a lead having a thickness of 0.3 to 0.4 mm has been put to practical use.

【0021】近年、半導体レーザ装置が用いられる光デ
ィスク装置において、CDまたはCD−ROM等の再生
のみならず、CD−R(Compact Disc-Recordable )、
CD−RW(Compact Disc-Rewritable )等の記録可能
な光ディスク用の光ディスク装置への需要が高まり、そ
れに伴って高出力半導体レーザ素子を用いた半導体レー
ザ装置が要求されている。また、DVD(Digital Vers
atile Disc)等の出現により、赤色半導体レーザ素子を
用いた半導体レーザ装置への需要も高まっている。
In recent years, in an optical disk device using a semiconductor laser device, not only reproduction of a CD or CD-ROM, but also CD-R (Compact Disc-Recordable),
The demand for optical disk devices for recordable optical disks such as CD-RWs (Compact Disc-Rewritable) has been increasing, and accordingly, semiconductor laser devices using high-power semiconductor laser elements have been required. DVD (Digital Vers
With the advent of atile discs and the like, demand for semiconductor laser devices using red semiconductor laser elements has been increasing.

【0022】これらの高出力半導体レーザ素子または赤
色半導体レーザ素子を用いた半導体レーザ装置では、半
導体レーザ素子での発熱量が大きいため、上記のような
従来のフレーム構造では十分な放熱効果が得られず、フ
レーム化による小型軽量化および低価格化が困難であ
る。
In a semiconductor laser device using such a high-power semiconductor laser device or a red semiconductor laser device, since the heat generated by the semiconductor laser device is large, a sufficient heat radiation effect can be obtained with the above-described conventional frame structure. Therefore, it is difficult to reduce the size and weight and reduce the cost by using a frame.

【0023】本発明の目的は、小型軽量化、低価格化お
よび放熱性の向上が図られた半導体レーザ装置およびそ
の製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide a semiconductor laser device which is reduced in size and weight, reduced in cost and improved in heat dissipation, and a method of manufacturing the same.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段および発明の効果】本発明
に係る半導体レーザ装置は、主面を有する板状の支持部
材と、支持部材の主面上に配置され、レーザ光を出射す
る半導体レーザ素子と、支持部材とは別体に形成され、
支持部材の主面と略平行に配置されるとともに半導体レ
ーザ素子に電気的に接続される1または複数の第1の端
子と、支持部材と第1の端子とを一体化するように設け
られた枠体とを備え、第1の端子は支持部材よりも小さ
な厚さを有するものである。
A semiconductor laser device according to the present invention has a plate-like support member having a main surface, and a semiconductor laser which is disposed on the main surface of the support member and emits laser light. The element and the support member are formed separately,
One or more first terminals arranged substantially parallel to the main surface of the support member and electrically connected to the semiconductor laser device, and the support member and the first terminal are provided so as to be integrated. A first terminal having a thickness smaller than that of the support member.

【0025】本発明に係る半導体レーザ装置において
は、半導体レーザ素子において発生した熱が支持部材を
通して外部に放出される。特に、半導体レーザ素子に電
気的に接続される第1の端子が支持部材とは別体に形成
され、支持部材よりも小さな厚さを有する。そのため、
支持部材の放熱性を確保しつつ第1の端子の幅を小さく
することができる。したがって、第1の端子の幅方向に
おいて半導体レーザ装置の幅を小さくすることができ
る。その結果、小型軽量化、低価格化および放熱性の向
上が図られる。
In the semiconductor laser device according to the present invention, heat generated in the semiconductor laser element is released to the outside through the support member. In particular, the first terminal electrically connected to the semiconductor laser element is formed separately from the support member and has a smaller thickness than the support member. for that reason,
The width of the first terminal can be reduced while ensuring the heat dissipation of the support member. Therefore, the width of the semiconductor laser device can be reduced in the width direction of the first terminal. As a result, reduction in size and weight, reduction in cost, and improvement in heat dissipation are achieved.

【0026】第1の端子は、支持部材の主面に間隔を隔
てて対向するように配置されてもよい。この場合、支持
部材と第1の端子との間の電気的な短絡を防止しつつ支
持部材の面積を確保することができる。したがって、放
熱性がより向上する。
The first terminal may be arranged so as to face the main surface of the support member at an interval. In this case, the area of the support member can be secured while preventing an electrical short circuit between the support member and the first terminal. Therefore, heat dissipation is further improved.

【0027】支持部材は切り欠き部を有し、第1の端子
は支持部材の切り欠き部の領域に配置されてもよい。こ
の場合、第1の端子を支持部材から厚さ方向において離
間させることなく、第1の端子と支持部材との間の電気
的な短絡を防止することができる。それにより、半導体
レーザ装置を薄型化することができる。
[0027] The support member may have a notch, and the first terminal may be arranged in a region of the notch of the support member. In this case, an electrical short circuit between the first terminal and the support member can be prevented without separating the first terminal from the support member in the thickness direction. Thus, the thickness of the semiconductor laser device can be reduced.

【0028】枠体は、支持部材の主面と反対側の裏面が
露出するように設けられてもよい。この場合、半導体レ
ーザ素子において発生する熱が支持部材の裏面からも外
部に放出されるので、放熱性がさらに向上する。
The frame may be provided such that the back surface opposite to the main surface of the support member is exposed. In this case, the heat generated in the semiconductor laser element is also radiated to the outside from the back surface of the support member, so that the heat dissipation is further improved.

【0029】支持部材は孔部を有し、孔部に枠体を構成
する材料が充填されて枠体と一体化されてもよい。この
場合、支持部材の孔部に枠体を構成する材料が充填され
ることにより、支持部材から枠体が離脱することが防止
される。
[0029] The support member may have a hole, and the hole may be filled with a material constituting the frame to be integrated with the frame. In this case, the material forming the frame is filled in the hole of the support member, thereby preventing the frame from detaching from the support member.

【0030】支持部材を構成する材料の熱伝導率は、第
1の端子を構成する材料の熱伝導率以上であることが好
ましい。それにより、支持部材の放熱性が高くなる。
It is preferable that the thermal conductivity of the material forming the support member is equal to or higher than the thermal conductivity of the material forming the first terminal. Thereby, the heat dissipation of the support member is enhanced.

【0031】第1の端子を構成する材料の硬度は、支持
部材を構成する材料の硬度以上であることが好ましい。
その場合、第1の端子の強度を維持しつつ第1の端子の
厚さを小さくすることができる。それにより、第1の端
子の幅をより小さくすることが可能となり、第1の端子
の幅方向において半導体レーザ装置をより小型化するこ
とが可能となる。
The hardness of the material forming the first terminal is preferably higher than the hardness of the material forming the support member.
In that case, the thickness of the first terminal can be reduced while maintaining the strength of the first terminal. Thus, the width of the first terminal can be further reduced, and the size of the semiconductor laser device can be further reduced in the width direction of the first terminal.

【0032】支持部材上に配置された受光素子と、支持
部材とは別体に形成され、支持部材の主面と略平行に配
置されるとともに受光素子に電気的に接続される第2の
端子とをさらに備え、第2の端子は支持部材よりも小さ
な厚さを有し、枠体は、支持部材、第1の端子および第
2の端子を一体化するように設けられてもよい。
A light receiving element disposed on the support member and a second terminal formed separately from the support member, disposed substantially parallel to the main surface of the support member, and electrically connected to the light receiving element. And the second terminal has a smaller thickness than the support member, and the frame may be provided so as to integrate the support member, the first terminal, and the second terminal.

【0033】この場合、受光素子に電気的に接続される
第2の端子が支持部材とは別体に形成され、支持部材よ
りも小さな厚さを有する。それにより、支持部材の放熱
性を確保しつつ第2の端子の幅を小さくすることができ
るとともに、第1の端子と第2の端子との間隔も小さく
することができる。したがって、第1の端子および第2
の端子の幅方向において半導体レーザ装置の幅をより小
さくすることができる。したがって、小型軽量化、低価
格化および放熱性の向上が図られる。
In this case, the second terminal electrically connected to the light receiving element is formed separately from the support member and has a smaller thickness than the support member. This makes it possible to reduce the width of the second terminal while securing the heat radiation of the support member, and also to reduce the distance between the first terminal and the second terminal. Therefore, the first terminal and the second terminal
The width of the semiconductor laser device in the width direction of the terminal can be further reduced. Therefore, reduction in size and weight, reduction in cost, and improvement in heat dissipation can be achieved.

【0034】枠体は、半導体レーザ素子の光出射面を除
いて半導体レーザ素子の周囲を取り囲みかつ第1の端子
の一部が内側に露出するとともに他の一部が外側に露出
するように設けられてもよい。それにより、組み立て時
に半導体レーザ素子に指等が接触することが防止される
とともに、第1の端子への配線が容易になる。
The frame surrounds the periphery of the semiconductor laser device except for the light emitting surface of the semiconductor laser device, and is provided so that a part of the first terminal is exposed inside and another part is exposed outside. You may be. This prevents a finger or the like from contacting the semiconductor laser element during assembly and facilitates wiring to the first terminal.

【0035】支持部材は、半導体レーザ素子の光出射方
向に対して両側方に枠体から突出する突出部を有しても
よい。この場合、半導体レーザ素子において発生した熱
は支持部材を伝わり、枠体から突出する突出部から外部
に放出される。したがって、放熱性がさらに向上する。
The support member may have protrusions protruding from the frame on both sides with respect to the light emitting direction of the semiconductor laser device. In this case, the heat generated in the semiconductor laser element is transmitted to the supporting member, and is released to the outside from a protruding portion protruding from the frame. Therefore, heat dissipation is further improved.

【0036】本発明に係る半導体レーザ装置の製造方法
は、主面を有する板状の複数の支持部材が第1のフレー
ムに連結されてなる第1のフレーム部材を形成する工程
と、複数の支持部材よりも小さな厚さを有するとともに
複数の支持部材にそれぞれ対応する複数の端子が第2の
フレームに連結されてなる第2のフレーム部材を形成す
る工程と、各支持部材の所定箇所に対応する端子が位置
するように第1のフレーム部材上に第2のフレーム部材
を重ね合わせる工程と、第1のフレーム部材の各支持部
材と第2のフレーム部材の対応する端子とを一体化する
ように複数の枠体を形成する工程と、複数の支持部材上
にそれぞれ半導体レーザ素子を配置する工程と、複数の
半導体レーザ素子の配置前または配置後に複数の枠体に
よりそれぞれ一体化された複数の支持部材および複数の
端子を第1のフレームおよび第2のフレームから切り離
す工程とを備えたものである。
In the method of manufacturing a semiconductor laser device according to the present invention, a step of forming a first frame member in which a plurality of plate-shaped support members having a main surface are connected to a first frame; Forming a second frame member in which a plurality of terminals each having a thickness smaller than the member and respectively corresponding to the plurality of support members are connected to the second frame, and corresponding to a predetermined position of each support member; Superimposing the second frame member on the first frame member so that the terminals are located; and integrating each support member of the first frame member with the corresponding terminal of the second frame member. A step of forming a plurality of frames, a step of arranging the semiconductor laser elements on the plurality of support members, and a step of forming the plurality of semiconductor laser elements before or after arranging the plurality of semiconductor laser elements, respectively. A plurality of support members and a plurality of terminals which are those in which a step of disconnecting the first and second frames.

【0037】本発明に係る半導体レーザ装置の製造方法
によれば、第1のフレーム部材および第2のフレーム部
材を重ね合わせた状態で第1のフレーム部材の各支持部
材と第2のフレーム部材の対応する端子とが一体化され
るように複数の枠体が形成される。その後、複数の支持
部材上にそれぞれ半導体レーザ素子が配置される。複数
の半導体レーザ素子の配置前または配置後に複数の枠体
によりそれぞれ一体化された複数の支持部材および複数
の端子が第1フレームおよび第2のフレームから切り離
される。それにより、複数の半導体レーザ装置が製造さ
れる。
According to the method of manufacturing a semiconductor laser device according to the present invention, each of the support members of the first frame member and the second frame member are placed in a state where the first frame member and the second frame member are overlapped. A plurality of frames are formed such that the corresponding terminals are integrated. After that, the semiconductor laser devices are respectively arranged on the plurality of support members. The plurality of support members and the plurality of terminals respectively integrated by the plurality of frames before or after the arrangement of the plurality of semiconductor laser elements are separated from the first frame and the second frame. Thereby, a plurality of semiconductor laser devices are manufactured.

【0038】このようにして製造された半導体レーザ装
置においては、半導体レーザ素子において発生した熱が
支持部材を通して外部に放出される。特に、端子が支持
部材とは別体に形成され、支持部材よりも小さな厚さを
有する。そのため、支持部材の放熱性を確保しつつ端子
の幅を小さくすることができる。したがって、端子の幅
方向において半導体レーザ装置の幅を小さくすることが
できる。その結果、小型軽量化、低価格化および放熱性
の向上が図られる。
In the semiconductor laser device manufactured as described above, heat generated in the semiconductor laser element is released to the outside through the support member. In particular, the terminal is formed separately from the support member and has a smaller thickness than the support member. Therefore, the width of the terminal can be reduced while ensuring the heat radiation of the support member. Therefore, the width of the semiconductor laser device can be reduced in the width direction of the terminal. As a result, reduction in size and weight, reduction in cost, and improvement in heat dissipation are achieved.

【0039】第2のフレーム部材を形成する工程は、複
数の端子が厚さ方向において第2のフレームと異なる高
さに位置するように複数の端子を第2のフレームに対し
て屈曲させることを含んでもよい。
The step of forming the second frame member includes bending the plurality of terminals with respect to the second frame so that the plurality of terminals are located at different heights in the thickness direction from the second frame. May be included.

【0040】この場合、第1のフレーム部材上に第2の
フレーム部材を重ね合わせた際に、端子が支持部材の表
面に間隔を隔てて対向するように配置される。そのた
め、支持部材と端子との間の電気的な短絡を容易に防止
しつつ支持部材の面積を確保することにより放熱性をよ
り向上させることができる。
In this case, when the second frame member is overlaid on the first frame member, the terminals are arranged so as to face the surface of the support member at intervals. Therefore, heat dissipation can be further improved by securing the area of the support member while easily preventing an electrical short circuit between the support member and the terminal.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施の形態
における半導体レーザ装置を示す図であり、(a)は上
面図、(b)は前面図、(c)は後面図、(d)は側面
図である。
FIG. 1 is a view showing a semiconductor laser device according to a first embodiment of the present invention, in which (a) is a top view, (b) is a front view, (c) is a rear view, (D) is a side view.

【0042】図1において、半導体レーザ装置2は平板
状の支持部材1を備える。支持部材1上には、一方の端
面5の近傍に位置するように受光素子9が載置され、受
光素子9上に半導体レーザ素子14が載置されている。
In FIG. 1, the semiconductor laser device 2 has a flat supporting member 1. The light receiving element 9 is mounted on the support member 1 so as to be located near the one end face 5, and the semiconductor laser element 14 is mounted on the light receiving element 9.

【0043】支持部材1は、厚さが0.5mm〜3.0
mmの導電性材料からなる。支持部材1の材料として
は、より熱伝導率の高い材料を用いることが好ましく、
本実施の形態では、端子31,32,33の材料と同じ
熱伝導率または端子31,32,33よりも高い熱伝導
率を有する材料を用いる。それにより、放熱性をより向
上させることができる。例えば、支持部材1の材料とし
て、熱伝導性が高い銅、鉄、リン青銅等の金属材料を用
いる。これらの中で、熱伝導率が最も高い銅を用いるこ
とが好ましい。
The support member 1 has a thickness of 0.5 mm to 3.0 mm.
mm of a conductive material. As a material of the support member 1, it is preferable to use a material having higher thermal conductivity,
In this embodiment, a material having the same thermal conductivity as the material of the terminals 31, 32, and 33 or having a higher thermal conductivity than the terminals 31, 32, and 33 is used. Thereby, heat dissipation can be further improved. For example, as the material of the support member 1, a metal material having high thermal conductivity, such as copper, iron, and phosphor bronze, is used. Among them, it is preferable to use copper having the highest thermal conductivity.

【0044】支持部材1の他方の端面側に凹部(切り欠
き部)23が設けられている。支持部材1の凹部23の
領域において、リードとして棒状の複数の端子31,3
2,33が所定間隔で互いに並列かつ平行に配置されて
いる。端子31は、半導体レーザ素子14への電力供給
用に用いられ、端子33は、受光素子9からの信号取り
出し用に用いられ、端子32は、半導体レーザ素子14
および受光素子9に共通(接地用)に用いられる。本実
施の形態では、図1(d)に示すように、各端子31,
32,33の下面24,25,26と支持部材1の上面
34とは同一平面に位置する。
A concave portion (notch portion) 23 is provided on the other end surface side of the support member 1. In the region of the concave portion 23 of the support member 1, a plurality of rod-shaped terminals 31 and 3 are used as leads.
2, 33 are arranged at predetermined intervals in parallel and parallel to each other. The terminal 31 is used for supplying power to the semiconductor laser element 14, the terminal 33 is used for extracting a signal from the light receiving element 9, and the terminal 32 is used for the semiconductor laser element 14.
And the light receiving element 9 (commonly used for grounding). In the present embodiment, as shown in FIG.
The lower surfaces 24, 25, 26 of 32, 33 and the upper surface 34 of the support member 1 are located on the same plane.

【0045】各端子31,32,33は、厚みが0.1
mm〜0.4mm程度の導電性材料からなる。端子3
1,32,33の材料としては、より硬度の高い材料を
用いることが好ましく、本実施の形態では、支持部材1
の材料と同じ硬度または支持部材1よりも高い硬度を有
する材料を用いる。それにより、各端子31,32,3
3の強度を確保しつつ各端子31,32,33の厚さお
よび幅を小さくすることができる。例えば、各端子3
1,32,33の材料として、鉄、銅、リン青銅等の金
属材料を用いる。これらの中で、安価で高い硬度を有す
る鉄またはリン青銅を用いることが好ましい。
Each terminal 31, 32, 33 has a thickness of 0.1
It is made of a conductive material of about mm to 0.4 mm. Terminal 3
It is preferable to use a material having higher hardness as the material of 1, 32, and 33. In the present embodiment, the support member 1
A material having the same hardness as that of the material or a hardness higher than that of the support member 1 is used. Thereby, each terminal 31, 32, 3
3, the thickness and width of each terminal 31, 32, 33 can be reduced. For example, each terminal 3
Metal materials such as iron, copper, and phosphor bronze are used as the materials of 1, 32, and 33. Among these, it is preferable to use iron or phosphor bronze which is inexpensive and has high hardness.

【0046】例えば、端子31,32,33の厚さが
0.4mmの場合、各端子31,32,33の幅および
端子31,32,33間の間隔は最小0.4mmに形成
することができる。端子31,33と支持部材1の凹部
23の側面との間の隙間を0.4mmとすると、3本の
端子31,32,33の幅の合計および4箇所の隙間の
合計から凹部23の幅は最小2.8mmとなる。端子3
1,32,33は、支持部材1とは別体に形成されてい
るので、支持部材1の厚さが厚い場合でも、半導体レー
ザ装置2の横幅は大きくならない。
For example, when the thickness of the terminals 31, 32, 33 is 0.4 mm, the width of each of the terminals 31, 32, 33 and the interval between the terminals 31, 32, 33 may be formed to be a minimum of 0.4 mm. it can. Assuming that the gap between the terminals 31, 33 and the side surface of the concave portion 23 of the support member 1 is 0.4 mm, the width of the concave portion 23 is obtained from the total width of the three terminals 31, 32, 33 and the total of the four gaps. Is a minimum of 2.8 mm. Terminal 3
Since the members 1, 32, and 33 are formed separately from the support member 1, even when the thickness of the support member 1 is large, the lateral width of the semiconductor laser device 2 does not increase.

【0047】受光素子9は、例えばP−I−N構造を有
するシリコン系結晶からなり、P型拡散領域(受光面)
13を有する。シリコン系結晶の表面に表面電極10,
11が設けられ、裏面に裏面電極12が設けられてい
る。表面電極11はP型拡散領域13とオーミック接触
し、裏面電極12は銀ペースト等の導電性接着剤を介し
て支持部材1上に固着されている。
The light receiving element 9 is made of, for example, a silicon-based crystal having a PIN structure and has a P-type diffusion region (light receiving surface).
13. A surface electrode 10 on the surface of the silicon-based crystal;
11 is provided, and a back surface electrode 12 is provided on the back surface. The front surface electrode 11 is in ohmic contact with the P-type diffusion region 13, and the back surface electrode 12 is fixed on the support member 1 via a conductive adhesive such as silver paste.

【0048】半導体レーザ素子14は、例えば平面状の
活性層とその活性層を挟むクラッド層とからなるGaA
lAs、GaAlInP、またはGaInN等の発光層
を備える。半導体レーザ素子14の両端にはへき開等の
方法により光反射面が形成され、その光反射面上に反射
膜が形成されている。それにより、半導体レーザ素子1
4の一方の端面(前面)がレーザビームを出射する出射
面15となる。なお、半導体レーザ素子14の他方の端
面(後面)からはモニタ用のレーザビームが出射され
る。端子31,32,33は、半導体レーザ素子14の
光出射方向と逆方向に延びている。
The semiconductor laser element 14 is, for example, a GaAs having a planar active layer and a cladding layer sandwiching the active layer.
It has a light emitting layer such as lAs, GaAlInP, or GaInN. A light reflecting surface is formed at both ends of the semiconductor laser element 14 by a method such as cleavage, and a reflecting film is formed on the light reflecting surface. Thereby, the semiconductor laser device 1
One end face (front face) of the laser beam 4 becomes an emission face 15 for emitting a laser beam. A laser beam for monitoring is emitted from the other end surface (rear surface) of the semiconductor laser device 14. The terminals 31, 32, and 33 extend in a direction opposite to the light emission direction of the semiconductor laser device.

【0049】半導体レーザ素子14の表面に表面電極3
5が設けられ、裏面に裏面電極36が設けられている。
半導体レーザ素子14の出射面15が支持部材1の端面
5の近傍に位置するように、半導体レーザ素子14の裏
面電極36が受光素子9の表面電極10上に銀ペースト
または半田を介して固着されている。
The surface electrode 3 is formed on the surface of the semiconductor laser element 14.
5 is provided, and a back surface electrode 36 is provided on the back surface.
The back electrode 36 of the semiconductor laser element 14 is fixed on the front electrode 10 of the light receiving element 9 via silver paste or solder so that the emission surface 15 of the semiconductor laser element 14 is located near the end face 5 of the support member 1. ing.

【0050】また、半導体レーザ素子14の周囲に、支
持部材1および複数の端子31,32,33を一体化す
るように枠体20が形成されている。支持部材1の両側
部は、枠体20の側面から外側に突出するように延びて
放熱フィンとして働く側板部3となっている。各側板部
3に位置決め固定用の略半円形状の切り欠き21が形成
されている。
A frame 20 is formed around the semiconductor laser element 14 so as to integrate the support member 1 and the plurality of terminals 31, 32, 33. Both side portions of the support member 1 are side plate portions 3 extending so as to protrude outward from the side surfaces of the frame body 20 and functioning as radiation fins. A substantially semicircular notch 21 for positioning and fixing is formed in each side plate portion 3.

【0051】枠体20は、例えば絶縁性のエポキシ樹脂
またはPPS(ポリフェニレンサルファイド;polyphen
ylene sulfide )樹脂等の樹脂からなり、半導体レーザ
素子14の出射面15が露出するように平面略コ字状に
かつ支持部材1および端子31,32,33の各上面と
下面とを挟むとともに支持部材1および端子31,3
2,33を一体化するように形成されている。支持部材
1および枠体20がパッケージを構成する。
The frame 20 is made of, for example, an insulating epoxy resin or PPS (polyphenylene sulfide; polyphen).
It is made of a resin such as ylene sulfide resin, and has a substantially U-shaped plane so that the emission surface 15 of the semiconductor laser element 14 is exposed. The support member 1 and the terminals 31, 32, 33 sandwich and support the upper and lower surfaces of each of the terminals. Member 1 and terminals 31 and 3
2, 33 are formed integrally. The support member 1 and the frame 20 constitute a package.

【0052】受光素子9の表面電極10と支持部材1と
の間を電気的に接続するように金属細線16が配線さ
れ、半導体レーザ素子14の表面電極35と端子31と
の間を電気的に接続するように金属細線17が配線さ
れ、支持部材1と端子32との間を電気的に接続するよ
うに金属細線29が配線され、受光素子14の表面電極
11と端子33との間を電気的に接続するように金属細
線18が配線されている。
A thin metal wire 16 is wired so as to electrically connect between the surface electrode 10 of the light receiving element 9 and the support member 1, and electrically connects between the surface electrode 35 of the semiconductor laser element 14 and the terminal 31. A thin metal wire 17 is wired for connection, a thin metal wire 29 is wired for electrically connecting between the support member 1 and the terminal 32, and an electrical connection is made between the surface electrode 11 of the light receiving element 14 and the terminal 33. The thin metal wires 18 are wired so as to be electrically connected.

【0053】端子31,32から半導体レーザ素子14
に金属細線16,17,29を介して電力を供給したと
きに出射面15からレーザビームが出射されるととも
に、出射面15と反対側の端面からもレーザビームが出
射される。出射面15と反対側の端面から出射されたレ
ーザビームの一部は受光素子9のP型拡散領域13に入
射し、入射光の光量に対応した電気信号が受光素子9の
表面電極11から取り出され、金属細線18を介して端
子33から出力される。この電気信号を外部回路で演算
することにより半導体レーザ素子14に供給される電力
を精度良く制御することができる。
From the terminals 31 and 32, the semiconductor laser element 14
When power is supplied through the thin metal wires 16, 17, and 29 to the laser beam, a laser beam is emitted from the emission surface 15, and a laser beam is emitted from the end surface opposite to the emission surface 15. Part of the laser beam emitted from the end face opposite to the emission face 15 enters the P-type diffusion region 13 of the light receiving element 9, and an electric signal corresponding to the amount of incident light is extracted from the surface electrode 11 of the light receiving element 9. The signal is output from the terminal 33 via the thin metal wire 18. The electric power supplied to the semiconductor laser element 14 can be controlled with high precision by calculating this electric signal by an external circuit.

【0054】図1の半導体レーザ装置2では、半導体レ
ーザ素子14において発生した熱が受光素子9および支
持部材1を伝わり、側板部3から外部に放出される。こ
のように、熱が半導体レーザ装置2の内部に留まること
なく効率良く外部に放出されるので、信頼性が向上す
る。
In the semiconductor laser device 2 shown in FIG. 1, the heat generated in the semiconductor laser element 14 is transmitted through the light receiving element 9 and the support member 1 and is released from the side plate 3 to the outside. As described above, heat is efficiently emitted to the outside without staying inside the semiconductor laser device 2, so that reliability is improved.

【0055】また、半導体レーザ装置2の全ての端子3
1,32,33が並列に配置されているので、外部回路
への接続が容易である。
Further, all the terminals 3 of the semiconductor laser device 2
Since 1, 32 and 33 are arranged in parallel, connection to an external circuit is easy.

【0056】さらに、端子31,32,33が支持部材
1とは別体に形成されているので、支持部材1の放熱性
を維持しつつ端子31,32,33の厚さを薄く形成す
ることができる。それにより、端子31,32,33を
エッチング法または金型プレス法により作製する際に、
端子31,32,33間の間隔を小さくすることができ
る。この場合、端子31,32,33の厚さが支持部材
1の厚さと等しい場合に比べて半導体レーザ装置2の横
幅を小さくすることができる。
Furthermore, since the terminals 31, 32, and 33 are formed separately from the support member 1, the thickness of the terminals 31, 32, and 33 can be reduced while maintaining the heat radiation of the support member 1. Can be. Accordingly, when the terminals 31, 32, and 33 are manufactured by the etching method or the die pressing method,
The spacing between the terminals 31, 32, 33 can be reduced. In this case, the lateral width of the semiconductor laser device 2 can be reduced as compared with the case where the thicknesses of the terminals 31, 32, and 33 are equal to the thickness of the support member 1.

【0057】次に、図1の半導体レーザ装置2の製造方
法について説明する。図2は図1の半導体レーザ装置2
の製造方法を示す図である。
Next, a method of manufacturing the semiconductor laser device 2 shown in FIG. 1 will be described. FIG. 2 shows the semiconductor laser device 2 of FIG.
It is a figure showing the manufacturing method of.

【0058】図2(a)は複数の支持部材1を備えた支
持部材リードフレーム101の平面図、図2(b)は複
数組の端子31,32,33を備えた端子リードフレー
ム301の平面図である。
FIG. 2A is a plan view of a support member lead frame 101 provided with a plurality of support members 1, and FIG. 2B is a plan view of a terminal lead frame 301 provided with a plurality of sets of terminals 31, 32, and 33. FIG.

【0059】図2(a)の支持部材リードフレーム10
1は、フレーム102内に複数の支持部材1がタイバー
(連結棒)103を介して連結されてなる。この支持部
材リードフレーム101は、エッチング法により金属板
の所定領域を除去するかまたは金型プレス装置を用いて
金属板の所定領域を打ち抜くことにより形成される。な
お、支持部材1の厚さは半導体レーザ素子14の発熱量
に応じて選択することができる。
The support member lead frame 10 shown in FIG.
Reference numeral 1 denotes a frame 102 in which a plurality of support members 1 are connected via tie bars (connection bars) 103. The support member lead frame 101 is formed by removing a predetermined region of the metal plate by an etching method or by punching out a predetermined region of the metal plate by using a mold press. Note that the thickness of the support member 1 can be selected according to the heat value of the semiconductor laser element 14.

【0060】図2(b)の端子リードフレーム301
は、フレーム302内に複数組の端子31,32,33
が連結されてなる。この端子リードフレーム301は、
支持部材リードフレーム101と同様に、エッチング法
により金属板の所定領域を除去するかまたは金型プレス
装置を用いて金属板の所定領域を打ち抜くことにより形
成される。図2(b)の端子リードフレーム301の厚
さが図2(a)の支持部材リードフレーム101の厚さ
よりも薄くなるように、金属板の材料の厚さを選定す
る。
The terminal lead frame 301 shown in FIG.
Are provided in the frame 302 with a plurality of sets of terminals 31, 32, 33.
Are connected. This terminal lead frame 301
Similarly to the supporting member lead frame 101, the supporting member is formed by removing a predetermined region of the metal plate by an etching method or by punching out a predetermined region of the metal plate by using a mold pressing device. The thickness of the material of the metal plate is selected so that the thickness of the terminal lead frame 301 in FIG. 2B is smaller than the thickness of the support member lead frame 101 in FIG.

【0061】図2(c)に示すように、支持部材リード
フレーム101上の所定位置に端子リードフレーム30
1を重ね合わせ、各支持部材1と接触しないように各組
の端子31,32,33を支持部材1の凹部23の領域
上に配置する。
As shown in FIG. 2C, the terminal lead frame 30 is placed at a predetermined position on the support member lead frame 101.
The terminals 1, 32, and 33 of each set are arranged on the region of the concave portion 23 of the support member 1 so as not to come into contact with each support member 1.

【0062】次に、互いに重ね合わされた支持部材リー
ドフレーム101および端子リードフレーム301を金
型の内部に設置し、図2(d)に示すように、各支持部
材1と各組の端子31,32,33とを一体化するよう
に枠体20を樹脂成型により形成する。
Next, the supporting member lead frame 101 and the terminal lead frame 301 which are superimposed on each other are set inside the mold, and as shown in FIG. 2D, each supporting member 1 and each set of terminals 31, The frame body 20 is formed by resin molding so as to integrate the frames 32 and 33.

【0063】その後、各支持部材1上に図1に示した受
光素子9および半導体レーザ素子14を取り付け、金属
細線16,17,18,29を接続する。
Thereafter, the light receiving element 9 and the semiconductor laser element 14 shown in FIG. 1 are mounted on each support member 1, and the thin metal wires 16, 17, 18, and 29 are connected.

【0064】さらに、図2(e)に示すように、プレス
カッター等の工具を用いて各支持部材1のタイバー10
3および各組の端子31,32,33を切断し、フレー
ム102から支持部材1を切り離すとともにフレーム3
02から端子31,32,33を切り離す。それによ
り、複数の半導体レーザ装置2が製造される。
Further, as shown in FIG. 2E, a tie bar 10 of each support member 1 is
3 and each set of terminals 31, 32, 33 are cut off, the support member 1 is separated from the frame 102, and the frame 3
Separate the terminals 31, 32, 33 from 02. Thereby, a plurality of semiconductor laser devices 2 are manufactured.

【0065】なお、上記のタイバー103および端子3
1,32,33の切断後に、各支持部材1上に受光素子
9および半導体レーザ素子14の取り付けおよび金属細
線16,17,18,29の接続を行ってもよい。
The tie bar 103 and the terminal 3
After cutting 1, 32, and 33, the light receiving element 9 and the semiconductor laser element 14 may be mounted on each support member 1 and the thin metal wires 16, 17, 18, and 29 may be connected.

【0066】このように、厚さの異なる支持部材リード
フレーム101および端子リードフレーム301を重ね
合わせて樹脂成型により枠体20を形成することにより
各支持部材1および端子31,32,33を一体化して
いるので、端子31,32,33の厚さを薄くしつつ、
放熱効果が必要な支持部材1の厚さを厚くすることがで
きる。したがって、支持部材1による放熱効果が向上す
る。また、端子31,32,33の厚さを薄くすること
により、端子31,32,33の幅および端子31,3
2,33間の間隔を小さくすることができる。したがっ
て、半導体レーザ装置2の小型軽量化を図ることができ
る。
As described above, the supporting member 1 and the terminals 31, 32, 33 are integrated by forming the frame 20 by resin molding by superposing the supporting member lead frame 101 and the terminal lead frame 301 having different thicknesses. Therefore, while reducing the thickness of the terminals 31, 32, 33,
The thickness of the support member 1 that requires a heat radiation effect can be increased. Therefore, the heat radiation effect by the support member 1 is improved. Also, by reducing the thickness of the terminals 31, 32, 33, the width of the terminals 31, 32, 33 and the terminals 31, 3
The interval between 2 and 33 can be reduced. Therefore, the size and weight of the semiconductor laser device 2 can be reduced.

【0067】また、各支持部材1に凹部23が形成され
ているので、支持部材リードフレーム101および端子
リードフレーム301を重ね合わせたときに支持部材1
と端子31,32,33とが接触しない。そのため、支
持部材リードフレーム101および端子リードフレーム
301を単純に重ねて合わせ樹脂成型により枠体20を
形成することにより、容易に半導体レーザ装置2を製造
することができる。
Further, since the recess 23 is formed in each support member 1, when the support member lead frame 101 and the terminal lead frame 301 are overlapped, the support member 1
And the terminals 31, 32, 33 do not contact. Therefore, the semiconductor laser device 2 can be easily manufactured by simply overlapping the support member lead frame 101 and the terminal lead frame 301 and forming the frame body 20 by resin molding.

【0068】上記の製造方法により製造された図1の半
導体レーザ装置2においては、光源となる半導体レーザ
素子14において発生した熱を半導体レーザ装置2の全
体の横幅を大きくすることなく効率良く外部に放出する
ことができる。したがって、半導体レーザ素子14とし
て赤色半導体レーザ素子、高出力半導体レーザ素子等の
発熱量の大きな半導体レーザ素子を用いた場合でも、リ
ードフレーム構造を採用することができ、小型軽量化お
よび低価格化が可能となる。
In the semiconductor laser device 2 of FIG. 1 manufactured by the above-described manufacturing method, heat generated in the semiconductor laser element 14 serving as a light source is efficiently transferred to the outside without increasing the overall width of the semiconductor laser device 2. Can be released. Therefore, even when a semiconductor laser element having a large heat value such as a red semiconductor laser element or a high-power semiconductor laser element is used as the semiconductor laser element 14, the lead frame structure can be adopted, and the size, weight and cost can be reduced. It becomes possible.

【0069】なお、本実施の形態では、端子31,3
2,33の下面24,25,26と支持部材1の上面3
4とが同一平面上に位置しているが、端子31,32,
33の一部または全体が支持部材1の凹部23内に位置
してもよい。この場合、図2(c)の工程で支持部材リ
ードフレーム101上に端子リードフレーム301を重
ね合わせた際に端子リードフレーム301の端子31,
32,33が支持部材リードフレーム101の支持部材
1の凹部23内に位置するように、予め端子リードフレ
ーム301の端子31,32,33をフレーム302に
対して屈曲させておく。
In this embodiment, the terminals 31, 3
2, 33, lower surface 24, 25, 26 and support member 1 upper surface 3
4 are located on the same plane, but terminals 31, 32,
A part or the whole of 33 may be located in the concave portion 23 of the support member 1. In this case, when the terminal lead frame 301 is overlaid on the support member lead frame 101 in the step of FIG.
The terminals 31, 32, and 33 of the terminal lead frame 301 are bent in advance with respect to the frame 302 so that the terminals 32 and 33 are located in the concave portions 23 of the support member 1 of the support member lead frame 101.

【0070】図3は本発明の第2の実施の形態における
半導体レーザ装置を示す図であり、(a)は上面図、
(b)は前面図、(c)は後面図、(d)は側面図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a semiconductor laser device according to a second embodiment of the present invention, wherein FIG.
(B) is a front view, (c) is a rear view, and (d) is a side view.

【0071】図3の半導体レーザ装置2aが図1の半導
体レーザ装置2と異なるのは次の点である。図3の半導
体レーザ装置2aにおいては、支持部材1に図1の支持
部材1の凹部23が設けられていない。また、端子3
1,32,33は、支持部材1上に支持部材1の上面3
4に対して平行に配置されている。端子31,32,3
3の下面24,25,26と支持部材1の上面34とは
所定間隔を隔てて対向している。
The semiconductor laser device 2a of FIG. 3 differs from the semiconductor laser device 2 of FIG. 1 in the following points. In the semiconductor laser device 2a of FIG. 3, the support member 1 is not provided with the concave portion 23 of the support member 1 of FIG. Terminal 3
1, 32, 33 are provided on the upper surface 3 of the support member 1 on the support member 1.
4 are arranged in parallel with each other. Terminals 31, 32, 3
The lower surfaces 24, 25, and 26 of the support member 3 and the upper surface 34 of the support member 1 face each other at a predetermined interval.

【0072】次に、図3の半導体レーザ装置2aの製造
方法について説明する。図4は図3の半導体レーザ装置
2aの製造方法を示す断面図である。
Next, a method of manufacturing the semiconductor laser device 2a shown in FIG. 3 will be described. FIG. 4 is a sectional view showing a method for manufacturing the semiconductor laser device 2a of FIG.

【0073】図4(a)は複数の支持部材1を備えた支
持部材リードフレーム101aの断面図、図4(b)は
複数組の端子31,32,33を備えた端子リードフレ
ーム301aの断面図である。なお、図4(b)には端
子32のみが示される。
FIG. 4A is a sectional view of a support member lead frame 101a provided with a plurality of support members 1, and FIG. 4B is a sectional view of a terminal lead frame 301a provided with a plurality of sets of terminals 31, 32, and 33. FIG. FIG. 4B shows only the terminal 32.

【0074】図4(a)の支持部材リードフレーム10
1aは、図2(a)の支持部材リードフレーム101と
同様に、フレーム102内に複数の支持部材1がタイバ
ー103を介して連結されてなる。ただし、図4(a)
の支持部材リードフレーム101aの各支持部材1には
図2(a)の凹部23は設けられていない。この支持部
材リードフレーム101aの形成方法は、図2(a)の
支持部材リードフレーム101の形成方法と同様であ
る。
The support member lead frame 10 shown in FIG.
2A, a plurality of support members 1 are connected via a tie bar 103 in a frame 102, similarly to the support member lead frame 101 of FIG. However, FIG.
The supporting member 1 of the supporting member lead frame 101a is not provided with the concave portion 23 shown in FIG. The method for forming the support member lead frame 101a is the same as the method for forming the support member lead frame 101 in FIG.

【0075】図4(b)の端子リードフレーム301a
は、図2(b)の端子リードフレーム301と同様に、
フレーム302内に複数組の端子31,32,33が連
結されてなる。ただし、図4(b)の端子リードフレー
ム301aにおいては、端子31,32,33が厚さ方
向においてフレーム302と異なる高さに位置するよう
に端子31,32,33がフレーム302に対して屈曲
している。
The terminal lead frame 301a shown in FIG.
Is similar to the terminal lead frame 301 in FIG.
A plurality of sets of terminals 31, 32, 33 are connected in a frame 302. However, in the terminal lead frame 301a of FIG. 4B, the terminals 31, 32, and 33 are bent with respect to the frame 302 so that the terminals 31, 32, and 33 are located at different heights from the frame 302 in the thickness direction. are doing.

【0076】この端子リードフレーム301aは、金型
プレス装置を用いて金属板の所定領域を打ち抜くと同時
に端子31,32,33をフレーム302に対して屈曲
させることにより形成される。この場合には、プレス時
に端子31,32,33がフレーム302に対して屈曲
するような金型を用いる。また、図4(b)の端子リー
ドフレーム301aの厚さが図4(a)の支持部材リー
ドフレーム101aの厚さよりも薄くなるように、金属
板の材料の厚さを選定する。
The terminal lead frame 301a is formed by punching out a predetermined area of a metal plate using a die pressing device and simultaneously bending the terminals 31, 32, and 33 with respect to the frame 302. In this case, a mold is used in which the terminals 31, 32, and 33 are bent with respect to the frame 302 during pressing. Further, the thickness of the material of the metal plate is selected so that the thickness of the terminal lead frame 301a in FIG. 4B is smaller than the thickness of the support member lead frame 101a in FIG. 4A.

【0077】図4(c)に示すように、支持部材リード
フレーム101a上の所定位置に端子リードフレーム3
01aを重ね合わせ、各組の端子31,32,33を支
持部材1上に配置する。この場合、端子31,32,3
3が屈曲しているので、これらの端子31,32,33
が支持部材1に対して所定間隔を隔てて対向する。以後
の工程は、図2(d),(e)に示した工程と同様であ
る。
As shown in FIG. 4C, the terminal lead frame 3 is positioned at a predetermined position on the support member lead frame 101a.
01a are overlapped, and the terminals 31, 32, 33 of each set are arranged on the support member 1. In this case, the terminals 31, 32, 3
3 are bent, so that these terminals 31, 32, 33
Faces the support member 1 at a predetermined interval. Subsequent steps are the same as the steps shown in FIGS.

【0078】なお、図4に示した支持部材リードフレー
ム101aおよび端子リードフレーム301aを用いる
代わりに図2に示した支持部材リードフレーム101お
よび端子リードフレーム301を用いてもよい。この場
合には、図2(c)の工程で支持部材リードフレーム1
01と端子リードフレーム301とをスペーサまたは治
具等を用いて互いに離した状態で重ね合わせ、図2
(d)の工程で樹脂成型により枠体20を形成する。
Instead of using the support member lead frame 101a and the terminal lead frame 301a shown in FIG. 4, the support member lead frame 101 and the terminal lead frame 301 shown in FIG. 2 may be used. In this case, in the step of FIG.
2 and the terminal lead frame 301 are separated from each other by using a spacer or a jig or the like, and are overlapped with each other.
In the step (d), the frame 20 is formed by resin molding.

【0079】図3の半導体レーザ装置2aにおいては、
支持部材1に端子31,32,33との電気的な短絡を
防ぐための凹部23を設ける必要がないので、半導体レ
ーザ素子14において発生した熱が伝わる支持部材1の
面積を大きくすることができる。そのため、第1の実施
の形態の半導体レーザ装置2に比べてより高い放熱効果
を得ることができる。
In the semiconductor laser device 2a shown in FIG.
Since there is no need to provide the support member 1 with the concave portion 23 for preventing an electrical short circuit with the terminals 31, 32, 33, the area of the support member 1 to which the heat generated in the semiconductor laser element 14 is transmitted can be increased. . Therefore, a higher heat radiation effect can be obtained as compared with the semiconductor laser device 2 of the first embodiment.

【0080】本実施の形態では、端子31,32,33
の上面の高さを半導体レーザ素子14の表面電極35の
高さにほぼ一致させると、配線が容易になる。
In this embodiment, the terminals 31, 32, 33
When the height of the upper surface of the semiconductor laser device 14 is approximately equal to the height of the surface electrode 35 of the semiconductor laser device 14, the wiring becomes easier.

【0081】図5は本発明の第3の実施の形態における
半導体レーザ装置を示す図であり、(a)は上面図、
(b)は前面図、(c)は後面図、(d)は側面図であ
る。
FIG. 5 is a view showing a semiconductor laser device according to a third embodiment of the present invention, wherein FIG.
(B) is a front view, (c) is a rear view, and (d) is a side view.

【0082】図5の半導体レーザ装置2bが図1の半導
体レーザ装置2と異なるのは次の点である。図5の半導
体レーザ装置2bにおいては、支持部材1が枠体20の
下面に沿って露出している。また、支持部材1に下面か
ら上方向に漸次径小となる円錐状の丸孔28が設けられ
ている。この丸孔28の内部には、枠体20の樹脂成型
時に樹脂が充填され、枠体20と一体化される。それに
より、支持部材1が枠体20の下面から脱離することが
防止される。
The semiconductor laser device 2b of FIG. 5 differs from the semiconductor laser device 2 of FIG. 1 in the following points. In the semiconductor laser device 2b of FIG. 5, the support member 1 is exposed along the lower surface of the frame 20. Further, the support member 1 is provided with a conical round hole 28 whose diameter gradually decreases upward from the lower surface. The inside of the round hole 28 is filled with a resin during the resin molding of the frame 20, and is integrated with the frame 20. This prevents the support member 1 from detaching from the lower surface of the frame 20.

【0083】図5の半導体レーザ装置2bにおいては、
側板部3および支持部材1の下面の両方から外部に放熱
することができるので、より高い放熱効果が得られる。
In the semiconductor laser device 2b shown in FIG.
Since heat can be radiated to the outside from both the side plate portion 3 and the lower surface of the support member 1, a higher heat radiation effect can be obtained.

【0084】図5の半導体レーザ装置2bにおいても、
図3の半導体レーザ装置2aと同様に、支持部材1と端
子31,32,33とを異なる平面上に互いに離して配
置してもよい。この場合、支持部材1に端子31,3
2,33との電気的な短絡を防ぐための凹部23を設け
る必要がない。それにより、半導体レーザ素子14にお
いて発生した熱の伝わる面積を大きくすることができ
る。したがって、より高い放熱効果を得ることができ
る。
In the semiconductor laser device 2b shown in FIG.
Similar to the semiconductor laser device 2a in FIG. 3, the support member 1 and the terminals 31, 32, and 33 may be arranged separately on different planes. In this case, the terminals 31 and 3 are attached to the support member 1.
There is no need to provide a recess 23 for preventing an electrical short circuit with the second and the third. Thus, the area to which the heat generated in the semiconductor laser device 14 is transmitted can be increased. Therefore, a higher heat radiation effect can be obtained.

【0085】上記第1〜第3の実施の形態においては、
半導体レーザ装置2,2a,2bに半導体レーザ素子1
4への電力供給用の端子31、共通の端子32および受
光素子9からの信号取り出し用の端子33の3本を設け
た場合について説明したが、半導体レーザ装置の用途に
よっては1本または2本の端子を設けてもよい。この場
合、支持部材1が共通の端子を兼ねるかまたは受光素子
9からの信号取り出しを省略する。
In the first to third embodiments,
A semiconductor laser element 1 for the semiconductor laser devices 2, 2a and 2b;
Although the description has been given of the case where three terminals, ie, a terminal 31 for supplying power to the power supply 4, a common terminal 32, and a terminal 33 for extracting a signal from the light receiving element 9 are provided, one or two terminals may be provided depending on the application of the semiconductor laser device. May be provided. In this case, the support member 1 also serves as a common terminal, or signal extraction from the light receiving element 9 is omitted.

【0086】さらに、支持部材1上に2個以上の半導体
レーザ素子が配置される場合など、多くの電気配線が必
要となる場合には、4本以上の端子を設ける。このよう
な場合においても、上記第1〜第3の実施の形態と同様
の効果が得られる。
Further, when many electric wires are required, for example, when two or more semiconductor laser devices are arranged on the support member 1, four or more terminals are provided. In such a case, the same effects as those of the first to third embodiments can be obtained.

【0087】また、上記第1〜第3の実施の形態におい
て、受光素子9の表面電極10を金属細線により直接端
子32に電気的に接続してもよい。この場合、支持部材
1を導電率の低い導電性材料や絶縁性材料により形成す
ることができる。
In the first to third embodiments, the surface electrode 10 of the light receiving element 9 may be electrically connected directly to the terminal 32 by a thin metal wire. In this case, the support member 1 can be formed of a conductive material having low conductivity or an insulating material.

【0088】さらに、上記第1〜第3の実施の形態にお
いては、支持部材1に位置決め固定用の切り欠き21を
設けているが、この切り欠き21を設けなくてもよい。
その場合には、板ばね等を用いて半導体レーザ装置を光
ピックアップ装置内に固定する。
Furthermore, in the first to third embodiments, the support member 1 is provided with the notch 21 for positioning and fixing, but the notch 21 may not be provided.
In that case, the semiconductor laser device is fixed in the optical pickup device using a leaf spring or the like.

【0089】また、上記第1〜第3の実施の形態におい
ても、半導体レーザ素子14の後面側に図6〜図8に示
した透光性樹脂69を設けてもよい。
Also in the first to third embodiments, the light transmitting resin 69 shown in FIGS. 6 to 8 may be provided on the rear surface side of the semiconductor laser element 14.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態における半導体レー
ザ装置の上面図、前面図、後面図および側面図である。
FIG. 1 is a top view, a front view, a rear view, and a side view of a semiconductor laser device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体レーザ装置の製造方法を示す平面
図である。
FIG. 2 is a plan view illustrating a method for manufacturing the semiconductor laser device of FIG.

【図3】本発明の第2の実施の形態における半導体レー
ザ装置の上面図、前面図、後面図および側面図である。
FIG. 3 is a top view, a front view, a rear view, and a side view of a semiconductor laser device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図3の半導体レーザ装置の製造方法を示す断面
図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the semiconductor laser device of FIG. 3;

【図5】本発明の第3の実施の形態における半導体レー
ザ装置の上面図、前面図、後面図および側面図である。
FIG. 5 is a top view, a front view, a rear view, and a side view of a semiconductor laser device according to a third embodiment of the present invention.

【図6】従来の半導体レーザ装置の上面図である。FIG. 6 is a top view of a conventional semiconductor laser device.

【図7】図6の半導体レーザ装置のA−A線断面図であ
る。
FIG. 7 is a sectional view taken along line AA of the semiconductor laser device of FIG. 6;

【図8】図6の半導体レーザ装置のB−B線断面図であ
る。
FIG. 8 is a sectional view taken along line BB of the semiconductor laser device of FIG. 6;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持部材 2,2a,2b 半導体レーザ装置 3 側板部 9 受光素子 14 半導体レーザ素子 20 枠体 23 凹部 28 丸孔 31,32,33 端子 101 支持部材リードフレーム 102,302 フレーム 103 タイバー 301 端子リードフレーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support member 2, 2a, 2b Semiconductor laser device 3 Side plate part 9 Light receiving element 14 Semiconductor laser element 20 Frame 23 Depression 28 Round hole 31, 32, 33 Terminal 101 Support member lead frame 102, 302 Frame 103 Tie bar 301 Terminal lead frame

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野村 康彦 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 庄野 昌幸 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 澤田 稔 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 Fターム(参考) 5F073 BA04 CA05 CB02 EA28 FA02 FA23 FA27 FA28  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Yasuhiko Nomura 2-5-5 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Masayuki Shono 2-chome, Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka No. 5 Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Minoru Sawada 2-5-5 Keihanhondori, Moriguchi-shi, Osaka F-term in Sanyo Electric Co., Ltd. 5F073 BA04 CA05 CB02 EA28 FA02 FA23 FA27 FA28

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 主面を有する板状の支持部材と、 前記支持部材の前記主面上に配置され、レーザ光を出射
する半導体レーザ素子と、 前記支持部材とは別体に形成され、前記支持部材の前記
主面と略平行に配置されるとともに前記半導体レーザ素
子に電気的に接続される1または複数の第1の端子と、 前記支持部材と前記第1の端子とを一体化するように設
けられた枠体とを備え、 前記第1の端子は前記支持部材よりも小さな厚さを有す
ることを特徴とする半導体レーザ装置。
A plate-shaped support member having a main surface; a semiconductor laser device that is disposed on the main surface of the support member and emits a laser beam; and the support member is formed separately. One or more first terminals arranged substantially parallel to the main surface of the support member and electrically connected to the semiconductor laser element; and the support member and the first terminal are integrated. Wherein the first terminal has a smaller thickness than the support member.
【請求項2】 前記第1の端子は、前記支持部材の前記
主面に間隔を隔てて対向するように配置されたことを特
徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein said first terminal is disposed so as to face said main surface of said support member at a distance.
【請求項3】 前記支持部材は切り欠き部を有し、前記
第1の端子は前記支持部材の前記切り欠き部の領域に配
置されたことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ
装置。
3. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein said support member has a notch, and said first terminal is arranged in a region of said notch of said support member.
【請求項4】 前記枠体は、前記支持部材の前記主面と
反対側の裏面が露出するように設けられたことを特徴と
する請求項1〜3のいずれかに記載の半導体レーザ装
置。
4. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein said frame is provided such that a back surface of said support member opposite to said main surface is exposed.
【請求項5】 前記支持部材は孔部を有し、前記孔部に
前記枠体を構成する材料が充填されて前記枠体と一体化
されたことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載
の半導体レーザ装置。
5. The frame according to claim 1, wherein the support member has a hole, and the hole is filled with a material forming the frame, and is integrated with the frame. A semiconductor laser device according to any one of the above.
【請求項6】 前記支持部材を構成する材料の熱伝導率
は、前記第1の端子を構成する材料の熱伝導率以上であ
ることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の半
導体レーザ装置。
6. The thermal conductivity of a material forming the support member is equal to or higher than a thermal conductivity of a material forming the first terminal. Semiconductor laser device.
【請求項7】 前記第1の端子を構成する材料の硬度
は、前記支持部材を構成する材料の硬度以上であること
を特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の半導体レ
ーザ装置。
7. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein a hardness of a material forming the first terminal is higher than a hardness of a material forming the support member.
【請求項8】 前記支持部材上に配置された受光素子
と、 前記支持部材とは別体に形成され、前記支持部材の前記
主面と略平行に配置されるとともに前記受光素子に電気
的に接続される第2の端子とをさらに備え、 前記第2の端子は前記支持部材よりも小さな厚さを有
し、 前記枠体は、前記支持部材、前記第1の端子および前記
第2の端子を一体化するように設けられたことを特徴と
する請求項1〜7のいずれかに記載の半導体レーザ装
置。
8. A light-receiving element disposed on the support member, and formed separately from the support member, disposed substantially parallel to the main surface of the support member, and electrically connected to the light-receiving element. A second terminal to be connected, wherein the second terminal has a smaller thickness than the support member, and the frame body includes the support member, the first terminal, and the second terminal. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser device is provided so as to be integrated.
【請求項9】 前記枠体は、前記半導体レーザ素子の光
出射面を除いて前記半導体レーザ素子の周囲を取り囲み
かつ前記第1の端子の一部が内側に露出するとともに他
の一部が外側に露出するように設けられたことを特徴と
する請求項1〜8のいずれかに記載の半導体レーザ装
置。
9. The frame body surrounds the periphery of the semiconductor laser device except for the light emitting surface of the semiconductor laser device, and a part of the first terminal is exposed inside and another part is outside. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser device is provided so as to be exposed to light.
【請求項10】 前記支持部材は、前記半導体レーザ素
子の光出射方向に対して両側方に前記枠体から突出する
突出部を有することを特徴とする請求項9記載の半導体
レーザ装置。
10. The semiconductor laser device according to claim 9, wherein said support member has a protrusion protruding from said frame body on both sides in a light emitting direction of said semiconductor laser element.
【請求項11】 主面を有する板状の複数の支持部材が
第1のフレームに連結されてなる第1のフレーム部材を
形成する工程と、 前記複数の支持部材よりも小さな厚さを有するとともに
前記複数の支持部材にそれぞれ対応する複数の端子が第
2のフレームに連結されてなる第2のフレーム部材を形
成する工程と、 各支持部材の所定箇所に対応する端子が位置するように
前記第1のフレーム部材上に前記第2のフレーム部材を
重ね合わせる工程と、 前記第1のフレーム部材の各支持部材と前記第2のフレ
ーム部材の対応する端子とを一体化するように複数の枠
体を形成する工程と、 前記複数の支持部材上にそれぞれ半導体レーザ素子を配
置する工程と、 前記複数の半導体レーザ素子の配置前または配置後に前
記複数の枠体によりそれぞれ一体化された前記複数の支
持部材および前記複数の端子を前記第1のフレームおよ
び前記第2のフレームから切り離す工程とを備えたこと
を特徴とする半導体レーザ装置の製造方法。
11. A step of forming a first frame member in which a plurality of plate-shaped support members having a main surface are connected to a first frame, wherein the first frame member has a smaller thickness than the plurality of support members. Forming a second frame member in which a plurality of terminals respectively corresponding to the plurality of support members are connected to a second frame; and forming the second frame member such that the terminal corresponding to a predetermined position of each support member is located. Superimposing the second frame member on one frame member; and a plurality of frame members for integrating each support member of the first frame member with a corresponding terminal of the second frame member. Forming a plurality of semiconductor laser elements on the plurality of support members; and integrating the plurality of semiconductor laser elements by the plurality of frames before or after the plurality of semiconductor laser elements are arranged. The method of manufacturing a semiconductor laser device characterized by comprising the step of separating the plurality of supporting members and said plurality of terminals from said first frame and said second frame.
【請求項12】 前記第2のフレーム部材を形成する工
程は、前記複数の端子が厚さ方向において前記第2のフ
レームと異なる高さに位置するように前記複数の端子を
前記第2のフレームに対して屈曲させることを含むこと
を特徴とする請求項11記載の半導体レーザ装置の製造
方法。
12. The step of forming the second frame member includes the step of: connecting the plurality of terminals to the second frame so that the plurality of terminals are located at a different height from the second frame in a thickness direction. The method of manufacturing a semiconductor laser device according to claim 11, further comprising bending the semiconductor laser device.
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