JP2001304849A - 感光体の膜厚減少量予測方法および画像形成方法 - Google Patents
感光体の膜厚減少量予測方法および画像形成方法Info
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- JP2001304849A JP2001304849A JP2000124756A JP2000124756A JP2001304849A JP 2001304849 A JP2001304849 A JP 2001304849A JP 2000124756 A JP2000124756 A JP 2000124756A JP 2000124756 A JP2000124756 A JP 2000124756A JP 2001304849 A JP2001304849 A JP 2001304849A
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- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】画像形成速度を複数段階に切り換え可能な画像
形成装置において、感光体の膜厚減少量を正確に予測す
ることによって感光体の感度補正や作像条件の正しい制
御を可能とする。 【解決手段】感光体の回転周速をパラメータとして感光
体の回転時間と膜厚減少量との関係をプロットして複数
の第１の近似曲線を求め、該複数の第１の近似曲線の各
々の変化率を単位回転時間当たりの膜圧減少量として、
この変化率と感光体の回転周速との関係をプロットして
第２の近似曲線を求め、この第２の近似曲線に基づいて
任意の感光体回転周速に対する膜厚減少量を予測する。
また、各周速に対応する単位時間当たりの膜厚減少量の
値と各周速での累積回転時間との積和を求めて感光体の
トータルの膜厚減少量を算出する。
形成装置において、感光体の膜厚減少量を正確に予測す
ることによって感光体の感度補正や作像条件の正しい制
御を可能とする。 【解決手段】感光体の回転周速をパラメータとして感光
体の回転時間と膜厚減少量との関係をプロットして複数
の第１の近似曲線を求め、該複数の第１の近似曲線の各
々の変化率を単位回転時間当たりの膜圧減少量として、
この変化率と感光体の回転周速との関係をプロットして
第２の近似曲線を求め、この第２の近似曲線に基づいて
任意の感光体回転周速に対する膜厚減少量を予測する。
また、各周速に対応する単位時間当たりの膜厚減少量の
値と各周速での累積回転時間との積和を求めて感光体の
トータルの膜厚減少量を算出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ユーザが得よう
とする画像の種類や目的に応じて、画像形成速度を複数
段階に切り換えることが可能な画像形成装置において、
感光体の膜厚減少量を予測する方法およびその方法を利
用した画像形成方法に関する。
とする画像の種類や目的に応じて、画像形成速度を複数
段階に切り換えることが可能な画像形成装置において、
感光体の膜厚減少量を予測する方法およびその方法を利
用した画像形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】感光体は、使用されるにつれて、その感
光層表面が磁気ブラシ、転写紙、クリーニングブレード
または接触式の帯電装置などと接触して擦られることに
より、感光体表面に形成されている感光層の膜厚が減少
してくる。そこで、所望の感光体の表面電位を得るため
に、感光体の膜厚の減少に伴って感光体の帯電手段への
印加電圧を小さくしたり、感光体への像露光量を大きく
したりする画質保証や感度補正の制御が行われている。
光層表面が磁気ブラシ、転写紙、クリーニングブレード
または接触式の帯電装置などと接触して擦られることに
より、感光体表面に形成されている感光層の膜厚が減少
してくる。そこで、所望の感光体の表面電位を得るため
に、感光体の膜厚の減少に伴って感光体の帯電手段への
印加電圧を小さくしたり、感光体への像露光量を大きく
したりする画質保証や感度補正の制御が行われている。
【０００３】たとえば、特開昭６１−１３８２６７号公
報では、感光体の累積回転数を感光体の膜厚減少として
捉え、検出した累積回転数に応じて露光量を制御するこ
とによって感光体ドラムの感度変化を補正する方法が開
示されている。また、特開平５−２５７３５４号公報に
おいては、感光体帯電電位を一定に保ち、感光層膜厚減
少による画質の変化を防ぐために、帯電一定化機構、出
力画像枚数カウント機構を備え、且つ出力画像枚数の増
大に応じて現像バイアス電圧を上昇または露光量を増大
させる方法が開示されている。
報では、感光体の累積回転数を感光体の膜厚減少として
捉え、検出した累積回転数に応じて露光量を制御するこ
とによって感光体ドラムの感度変化を補正する方法が開
示されている。また、特開平５−２５７３５４号公報に
おいては、感光体帯電電位を一定に保ち、感光層膜厚減
少による画質の変化を防ぐために、帯電一定化機構、出
力画像枚数カウント機構を備え、且つ出力画像枚数の増
大に応じて現像バイアス電圧を上昇または露光量を増大
させる方法が開示されている。
【０００４】感光体表面電位の制御方式としては、特開
平５−３０７３１５号公報に記載されている方法があ
る。この方法は、帯電手段にある一定電圧をかけた時
に、帯電手段から感光体に流れる電流が感光層の膜厚が
小さくなるほど大きくなることを利用している。すなわ
ち、帯電手段にある一定電圧を印加した時に流れる電流
を近似し、その検知電流に応じて、感光体への像形成条
件、つまり、帯電手段への印加電圧および画像露光量を
制御するようにしている。
平５−３０７３１５号公報に記載されている方法があ
る。この方法は、帯電手段にある一定電圧をかけた時
に、帯電手段から感光体に流れる電流が感光層の膜厚が
小さくなるほど大きくなることを利用している。すなわ
ち、帯電手段にある一定電圧を印加した時に流れる電流
を近似し、その検知電流に応じて、感光体への像形成条
件、つまり、帯電手段への印加電圧および画像露光量を
制御するようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ユーザが得
ようとする画像の種類や目的に応じて、画像形成速度を
複数段階（少なくとも高低の２段階）に切り換えて画像
形成を行う装置が提案されている。このような画像形成
装置では、使用される画像形成速度によって感光体の膜
厚減少の程度が異なるために、単純に感光体の累積回転
数や累積回転時間の検出のみで感光体の感度補正や作像
条件を制御するのは適切でない。つまり、実用的には累
積回転時間や累積回転数を用いてこれらの制御を行うと
好都合であるが、これに含まれるのは時間的な長短の要
素のみであって、感光体の周速（回転速度）の大小の要
素が欠落している。このため、画像形成速度を複数段階
に切り換えることのできる画像形成装置では、上記の従
来の制御方法では、正しい感度補正や作像条件を設定で
きないという不都合がある。
ようとする画像の種類や目的に応じて、画像形成速度を
複数段階（少なくとも高低の２段階）に切り換えて画像
形成を行う装置が提案されている。このような画像形成
装置では、使用される画像形成速度によって感光体の膜
厚減少の程度が異なるために、単純に感光体の累積回転
数や累積回転時間の検出のみで感光体の感度補正や作像
条件を制御するのは適切でない。つまり、実用的には累
積回転時間や累積回転数を用いてこれらの制御を行うと
好都合であるが、これに含まれるのは時間的な長短の要
素のみであって、感光体の周速（回転速度）の大小の要
素が欠落している。このため、画像形成速度を複数段階
に切り換えることのできる画像形成装置では、上記の従
来の制御方法では、正しい感度補正や作像条件を設定で
きないという不都合がある。
【０００６】また、画像形成枚数の増大に応じて感度補
正や作像条件を制御する方法では、転写紙サイズによっ
て感光体の走行距離が異なってくるために、これも正し
い感度補正や作像条件の設定を行うことができない。
正や作像条件を制御する方法では、転写紙サイズによっ
て感光体の走行距離が異なってくるために、これも正し
い感度補正や作像条件の設定を行うことができない。
【０００７】なお、感光層の膜厚が減少してきた場合、
感光体の帯電電位を一定に保つと感光層表面の電荷密度
が増加し、見かけ上感光体の光感度が低下したのと同じ
現象が生じ、得られる画質が悪化するという問題が発生
する。すなわち、正規現像方式では画像背景部へのトナ
ーのかぶりが生じ、反転現像方式ではトナー付着量の低
下（画像濃度低下）といった不具合を生じることにな
る。
感光体の帯電電位を一定に保つと感光層表面の電荷密度
が増加し、見かけ上感光体の光感度が低下したのと同じ
現象が生じ、得られる画質が悪化するという問題が発生
する。すなわち、正規現像方式では画像背景部へのトナ
ーのかぶりが生じ、反転現像方式ではトナー付着量の低
下（画像濃度低下）といった不具合を生じることにな
る。
【０００８】この発明の目的は、画像形成速度を複数段
階に切り換え可能な画像形成装置において、感光体の膜
厚減少量を正確に予測することによって感光体の感度補
正や作像条件の正しい制御を可能とする感光体の膜厚減
少量予測方法およびその方法を用いた画像形成方法を提
供することにある。
階に切り換え可能な画像形成装置において、感光体の膜
厚減少量を正確に予測することによって感光体の感度補
正や作像条件の正しい制御を可能とする感光体の膜厚減
少量予測方法およびその方法を用いた画像形成方法を提
供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するために以下の構成を備えている。
を解決するために以下の構成を備えている。
【００１０】（１）感光体の回転周速をパラメータとし
て感光体の回転時間と膜厚減少量との関係をプロットし
て、複数の第１の近似曲線を求め、該複数の第１の近似
曲線の各々の変化率を単位回転時間あたりの膜厚減少量
として、この変化率と感光体の回転周速との関係をプロ
ットして第２の近似曲線を求め、この第２の近似曲線に
基づいて任意の感光体回転周速に対する膜厚減少量を予
測することを特徴とする。
て感光体の回転時間と膜厚減少量との関係をプロットし
て、複数の第１の近似曲線を求め、該複数の第１の近似
曲線の各々の変化率を単位回転時間あたりの膜厚減少量
として、この変化率と感光体の回転周速との関係をプロ
ットして第２の近似曲線を求め、この第２の近似曲線に
基づいて任意の感光体回転周速に対する膜厚減少量を予
測することを特徴とする。
【００１１】感光体が特定されれば、あらかじめ複数種
類（少なくとも高低２種類）の回転周速を与え、この回
転周速をパラメータとして感光体の回転時間と膜厚減少
量との関係をプロットしてグラフ化する。そして、この
グラフから回転周速ごとの近似曲線を求める。近似曲線
は、たとえば、最小２乗法などによって求めることが可
能である。この近似曲線を第１の近似曲線とする。この
複数の第１の近似曲線の傾き（変化率）は単位回転時間
当たりの膜厚減少量である。次に、この変化率と感光体
の回転周速との関係をプロットして、このグラフ上でも
近似曲線を求める。この近似曲線を第２の近似曲線とす
る。実験によれば、上記第１の近似曲線から求めること
のできる膜厚減少の変化率は、回転周速を横軸にした時
に、略一直線上に分布することが観測された。このた
め、上記第２の近似曲線は誤差のないほぼ正確な特性曲
線として求めることができる。
類（少なくとも高低２種類）の回転周速を与え、この回
転周速をパラメータとして感光体の回転時間と膜厚減少
量との関係をプロットしてグラフ化する。そして、この
グラフから回転周速ごとの近似曲線を求める。近似曲線
は、たとえば、最小２乗法などによって求めることが可
能である。この近似曲線を第１の近似曲線とする。この
複数の第１の近似曲線の傾き（変化率）は単位回転時間
当たりの膜厚減少量である。次に、この変化率と感光体
の回転周速との関係をプロットして、このグラフ上でも
近似曲線を求める。この近似曲線を第２の近似曲線とす
る。実験によれば、上記第１の近似曲線から求めること
のできる膜厚減少の変化率は、回転周速を横軸にした時
に、略一直線上に分布することが観測された。このた
め、上記第２の近似曲線は誤差のないほぼ正確な特性曲
線として求めることができる。
【００１２】このようにして第２の近似曲線が作成され
ると、この曲線に基づいて任意の感光体回転周速に対す
る単位回転時間当たりの膜厚減少量を予測することがで
きる。この任意の感光体回転周速に対する単位回転時間
当たりの膜厚減少量がわかれば、結果としてトータルの
膜厚減少量の予測につながる。
ると、この曲線に基づいて任意の感光体回転周速に対す
る単位回転時間当たりの膜厚減少量を予測することがで
きる。この任意の感光体回転周速に対する単位回転時間
当たりの膜厚減少量がわかれば、結果としてトータルの
膜厚減少量の予測につながる。
【００１３】（２）前記第２の近似曲線に基づいて感光
体回転時の各回転周速に対応する前記変化率を求め、こ
の値と各回転周速での累積回転時間との積和を求めて感
光体のトータルの膜厚減少量を算出することを特徴とす
る。
体回転時の各回転周速に対応する前記変化率を求め、こ
の値と各回転周速での累積回転時間との積和を求めて感
光体のトータルの膜厚減少量を算出することを特徴とす
る。
【００１４】この方法は、上記（１）の構成において、
膜厚減少量を具体的に算出する方法である。すなわち、
第２の近似曲線に基づいて感光体回転時の各回転周速に
対応する膜厚減少量の変化率を求め、この値と各周速で
の累積回転時間との積和を求めると感光体のトータルの
膜厚減少量が算出される。したがって、各回転周速毎の
回転時間が判れば、回転周速にかかわらずトータルの膜
厚減少量を容易にしかも正確に算出することができる。
膜厚減少量を具体的に算出する方法である。すなわち、
第２の近似曲線に基づいて感光体回転時の各回転周速に
対応する膜厚減少量の変化率を求め、この値と各周速で
の累積回転時間との積和を求めると感光体のトータルの
膜厚減少量が算出される。したがって、各回転周速毎の
回転時間が判れば、回転周速にかかわらずトータルの膜
厚減少量を容易にしかも正確に算出することができる。
【００１５】（３）感光体の膜厚をパラメータとして感
光体の明部電位とその電位における画像濃度との関係を
プロットした特性曲線を求めておき、請求項２で算出し
た膜厚減少量から感光体の膜厚を求めて、この膜厚にお
ける所望の画像濃度を得るための前記明部電位を前記特
性曲線に基づいて求め、さらに、この明部電位を得るた
めの露光量を制御することを特徴とする。
光体の明部電位とその電位における画像濃度との関係を
プロットした特性曲線を求めておき、請求項２で算出し
た膜厚減少量から感光体の膜厚を求めて、この膜厚にお
ける所望の画像濃度を得るための前記明部電位を前記特
性曲線に基づいて求め、さらに、この明部電位を得るた
めの露光量を制御することを特徴とする。
【００１６】感光体の膜厚は感光体の性能を表すから、
あらかじめ、感光体の膜厚をパラメータとして感光体の
明部電位ＶＬとその電位ＶＬにおける画像濃度との関係
をプロットした特性曲線を求めることができる。そこ
で、この特性曲線に上記（２）で求めた感光体の膜厚と
所望の画像濃度を当てはめる。これにより、所望の画像
濃度を得るための明部電位ＶＬをこの特性曲線から求め
ることができる。また、明部電位ＶＬは露光量と相関す
ることから、この明部電位ＶＬを得るための露光量を制
御することができる。画像形成を行う場合には、得られ
た明部電位ＶＬに基づいて露光量補正を行うようにする
のが実際的である。
あらかじめ、感光体の膜厚をパラメータとして感光体の
明部電位ＶＬとその電位ＶＬにおける画像濃度との関係
をプロットした特性曲線を求めることができる。そこ
で、この特性曲線に上記（２）で求めた感光体の膜厚と
所望の画像濃度を当てはめる。これにより、所望の画像
濃度を得るための明部電位ＶＬをこの特性曲線から求め
ることができる。また、明部電位ＶＬは露光量と相関す
ることから、この明部電位ＶＬを得るための露光量を制
御することができる。画像形成を行う場合には、得られ
た明部電位ＶＬに基づいて露光量補正を行うようにする
のが実際的である。
【００１７】（４）前記露光量の制御は、レーザ出力
値、レーザＰＷＭ値、レーザ照射時間及びレーザビーム
照射径のうちの少なくとも一つを制御することで行うこ
とを特徴とする。
値、レーザＰＷＭ値、レーザ照射時間及びレーザビーム
照射径のうちの少なくとも一つを制御することで行うこ
とを特徴とする。
【００１８】この方法は、露光手段としてレーザ照射装
置を使用する場合の具体的な露光量制御方法を示すもの
である。画像形成装置に使用するレーザ照射装置は、一
般に、レーザ出力とレーザ照射時間との積に比例する露
光量、またはレーザスポット径を最適な値に設定する制
御を行う。このため、露光量補正は、レーザ出力値の増
減、レーザＰＷＭ値（レーザパルス幅）の増減、レーザ
照射時間の長短およびレーザビーム照射計の大小のうち
の少なくとも１つを制御することで行うことができる。
置を使用する場合の具体的な露光量制御方法を示すもの
である。画像形成装置に使用するレーザ照射装置は、一
般に、レーザ出力とレーザ照射時間との積に比例する露
光量、またはレーザスポット径を最適な値に設定する制
御を行う。このため、露光量補正は、レーザ出力値の増
減、レーザＰＷＭ値（レーザパルス幅）の増減、レーザ
照射時間の長短およびレーザビーム照射計の大小のうち
の少なくとも１つを制御することで行うことができる。
【００１９】（５）感光体の膜厚をパラメータとして感
光体の明部電位とその電位における画像濃度との関係を
プロットした特性曲線を求めておき、請求項２で算出し
た膜厚減少量から感光体の膜厚を求めて、この膜厚にお
ける所望の画像濃度を得るための前記明部電位を前記特
性曲線に基づいて求め、該明部電位と現像バイアス電位
との差分値を所定値に維持するよう現像バイアス電位を
制御することを特徴とする。
光体の明部電位とその電位における画像濃度との関係を
プロットした特性曲線を求めておき、請求項２で算出し
た膜厚減少量から感光体の膜厚を求めて、この膜厚にお
ける所望の画像濃度を得るための前記明部電位を前記特
性曲線に基づいて求め、該明部電位と現像バイアス電位
との差分値を所定値に維持するよう現像バイアス電位を
制御することを特徴とする。
【００２０】上記（２）の方法によってトータルの膜厚
減少量を算出でき、また、上記（３）においてその膜厚
における所望の画像濃度を得るための明部電位ＶＬを求
めることが可能である。この（３）の方法では、求めた
明部電位ＶＬを得るための露光量を制御する方法である
が、画像濃度は、現像バイアス電圧と明部電位ＶＬとの
差分（正確には差分の絶対値）で決定されるために、露
光量を制御せずに現像バイアス電圧を制御することでも
所望の画像濃度を得ることが可能である。そこで、この
発明では、明部電位ＶＬを求めた後、この明部電位ＶＬ
と現像バイアス電圧との差分を所定値に維持することに
よって画像濃度制御を行う。
減少量を算出でき、また、上記（３）においてその膜厚
における所望の画像濃度を得るための明部電位ＶＬを求
めることが可能である。この（３）の方法では、求めた
明部電位ＶＬを得るための露光量を制御する方法である
が、画像濃度は、現像バイアス電圧と明部電位ＶＬとの
差分（正確には差分の絶対値）で決定されるために、露
光量を制御せずに現像バイアス電圧を制御することでも
所望の画像濃度を得ることが可能である。そこで、この
発明では、明部電位ＶＬを求めた後、この明部電位ＶＬ
と現像バイアス電圧との差分を所定値に維持することに
よって画像濃度制御を行う。
【００２１】
【発明の実施の形態】図１は、ある感光体の回転周期を
パラメータとして感光体の回転時間と膜厚減少量との関
係をプロットして４つの近似曲線を求めたグラフを示し
ている。回転周速は、ここでは、４４ｍｍ／ｓ、６１ｍ
ｍ／ｓ、８８ｍｍ／ｓ、１２２ｍｍ／ｓとしている。近
似曲線は、この例では、最小２乗法によって求めてい
る。このようにして求めた近似曲線を、第１の近似曲線
とする。この４つの第１の近似曲線の各々の変化率はそ
れぞれ、０．０４５１、０．０６７７、０．０９４５、
０．１２７５となる。この変化率は単位回転時間当たり
の膜厚減少量である。
パラメータとして感光体の回転時間と膜厚減少量との関
係をプロットして４つの近似曲線を求めたグラフを示し
ている。回転周速は、ここでは、４４ｍｍ／ｓ、６１ｍ
ｍ／ｓ、８８ｍｍ／ｓ、１２２ｍｍ／ｓとしている。近
似曲線は、この例では、最小２乗法によって求めてい
る。このようにして求めた近似曲線を、第１の近似曲線
とする。この４つの第１の近似曲線の各々の変化率はそ
れぞれ、０．０４５１、０．０６７７、０．０９４５、
０．１２７５となる。この変化率は単位回転時間当たり
の膜厚減少量である。
【００２２】次に、この変化率と感光体の回転周速との
関係をプロットすると図２のようになる。この図２にお
いてプロットした値の近似曲線を求める。なお、実験に
よれば、各プロットの値は、図２に示すように求めた近
似曲線上にほぼ乗り、大きくばらつかないことが判っ
た。このため、この近似曲線は周速と単位時間当たりの
膜厚減り量の関係をほぼ正しく示した特性図ということ
ができる。この近似曲線を第２の近似曲線とする。この
第２の近似曲線を用いると、感光体回転周速がさまざま
な値をとっても、単位時間当たりの膜厚減少量を正しく
予測できるようになる。
関係をプロットすると図２のようになる。この図２にお
いてプロットした値の近似曲線を求める。なお、実験に
よれば、各プロットの値は、図２に示すように求めた近
似曲線上にほぼ乗り、大きくばらつかないことが判っ
た。このため、この近似曲線は周速と単位時間当たりの
膜厚減り量の関係をほぼ正しく示した特性図ということ
ができる。この近似曲線を第２の近似曲線とする。この
第２の近似曲線を用いると、感光体回転周速がさまざま
な値をとっても、単位時間当たりの膜厚減少量を正しく
予測できるようになる。
【００２３】このように、図１および図２の特性を利用
することによって、任意の感光体回転周速に対する膜厚
減少量を予測できるから、この膜厚減少量を積算してい
くことによって任意の時点でのトータルの膜厚減少量を
予測することが可能となる。
することによって、任意の感光体回転周速に対する膜厚
減少量を予測できるから、この膜厚減少量を積算してい
くことによって任意の時点でのトータルの膜厚減少量を
予測することが可能となる。
【００２４】具体的に感光体のトータルの膜厚減少量を
算出する方法は以下の通りである。
算出する方法は以下の通りである。
【００２５】すなわち、感光体の回転周速が複数段階に
切り換えて使用された場合、各回転周速での回転時間が
判っていれば、単位時間当たりの膜厚減少量と回転時間
との積和を求めることによって、トータルの膜厚減少量
を算出できる。
切り換えて使用された場合、各回転周速での回転時間が
判っていれば、単位時間当たりの膜厚減少量と回転時間
との積和を求めることによって、トータルの膜厚減少量
を算出できる。
【００２６】すなわち、次の式によってトータルの膜厚
減少量が算出可能である。
減少量が算出可能である。
【００２７】 Ｙ（μｍ）＝０．０４５１（μｍ／ｈ）ａ（ｈ）＋０．
０６７７（μｍ／ｈ）ｂ（ｈ＋０．０９４５（μｍ／
ｈ）ｃ（ｈ）＋０．１２７５（μｍ／ｈ）ｄ（ｈ） ａ：周速４４ｍｍ／ｓでの回転時間（ｈ） ｂ：周速６１ｍｍ／ｓでの回転時間（ｈ） ｃ：周速８８ｍｍ／ｓでの回転時間（ｈ） ｄ：周速１２２ｍｍ／ｓでの回転時間（ｈ） 感光体の膜厚は、このようして求めたトータルの膜厚減
少量を元の膜厚から減じることによって簡単に算出され
る。
０６７７（μｍ／ｈ）ｂ（ｈ＋０．０９４５（μｍ／
ｈ）ｃ（ｈ）＋０．１２７５（μｍ／ｈ）ｄ（ｈ） ａ：周速４４ｍｍ／ｓでの回転時間（ｈ） ｂ：周速６１ｍｍ／ｓでの回転時間（ｈ） ｃ：周速８８ｍｍ／ｓでの回転時間（ｈ） ｄ：周速１２２ｍｍ／ｓでの回転時間（ｈ） 感光体の膜厚は、このようして求めたトータルの膜厚減
少量を元の膜厚から減じることによって簡単に算出され
る。
【００２８】感光体の膜厚は感光体の性能を表すため
に、この膜厚をパラメータとして、濃度と明部電位ＶＬ
との関係を実験的に求めることが可能である。図３は、
この関係を示すグラフである。図３が得られると、上記
の計算式を用いて求めた感光体の膜厚と所望の画像濃度
をこの図３に当てはめる。すると、その画像濃度を得る
ための明部電位ＶＬを求めることができる。また、明部
電位ＶＬと露光量との関係は相関しているから、この関
係をあらかじめ求めておくことによって、図３において
求めた明部電位ＶＬに対応する露光量を容易に求めるこ
とが可能である。図４は、露光手段としてレーザ照射装
置を使用した場合のレーザ出力と明部電位ＶＬとの関係
を示すグラフである。なお、実際には、図３または図４
の関係をルックアップテーブル（ＬＵＴ）化しておき、
上記のトータル膜厚減少量から各時点での感光体膜厚を
求め、次いで、この膜厚をＬＵＴに当てはめて明部電位
ＶＬまたはレーザ出力ＬＰ（露光量）を抽出できるよう
にするのがよい。また、図３の画像濃度、図４のレーザ
出力ともに明部電位ＶＬの関数で表すことができるか
ら、制御を行う各時点での正確な感光体膜厚さえ算出で
きれば、直ちに図５に示すようなグラフをＬＵＴ化した
ものを使用して制御を行うことも可能である。なお、こ
の図５は、感光体膜厚をパラメータとして、横軸をレー
ザ出力、縦軸を画像濃度とするグラフである。
に、この膜厚をパラメータとして、濃度と明部電位ＶＬ
との関係を実験的に求めることが可能である。図３は、
この関係を示すグラフである。図３が得られると、上記
の計算式を用いて求めた感光体の膜厚と所望の画像濃度
をこの図３に当てはめる。すると、その画像濃度を得る
ための明部電位ＶＬを求めることができる。また、明部
電位ＶＬと露光量との関係は相関しているから、この関
係をあらかじめ求めておくことによって、図３において
求めた明部電位ＶＬに対応する露光量を容易に求めるこ
とが可能である。図４は、露光手段としてレーザ照射装
置を使用した場合のレーザ出力と明部電位ＶＬとの関係
を示すグラフである。なお、実際には、図３または図４
の関係をルックアップテーブル（ＬＵＴ）化しておき、
上記のトータル膜厚減少量から各時点での感光体膜厚を
求め、次いで、この膜厚をＬＵＴに当てはめて明部電位
ＶＬまたはレーザ出力ＬＰ（露光量）を抽出できるよう
にするのがよい。また、図３の画像濃度、図４のレーザ
出力ともに明部電位ＶＬの関数で表すことができるか
ら、制御を行う各時点での正確な感光体膜厚さえ算出で
きれば、直ちに図５に示すようなグラフをＬＵＴ化した
ものを使用して制御を行うことも可能である。なお、こ
の図５は、感光体膜厚をパラメータとして、横軸をレー
ザ出力、縦軸を画像濃度とするグラフである。
【００２９】画像形成装置では、レーザ出力とレーザ照
射時間との積に比例する露光量、またはレーザスポット
径を最適な値に設定するので、露光量の補正はレーザ出
力の増減、レーザＰＷＭ（レーザ出力幅値）の増減、レ
ーザ照射時間の長短およびレーザビーム照射径の大小の
うち少なくとも１つを制御して行う。そして、画像濃度
を増加させる場合には上記各要素を増加方向へ制御し、
画像濃度を減少させる場合には、上記の各要素を減少方
向へ制御する。具体的には、図３および図４において、
明部電位ＶＬの値が規定値よりも高側範囲（図３および
図４の左側領域）と予測される場合であれば、画像濃度
不足を防止するために、レーザ出力を増大方向へシフト
することよって適切な画像濃度を維持する。明部電位Ｖ
Ｌの値が規定値よりも低側範囲（図３および図４の右側
領域）と予測される場合であれば、感光体の光疲労を防
止するために、レーザ出力を減少することによって感光
体寿命の延命を図る。
射時間との積に比例する露光量、またはレーザスポット
径を最適な値に設定するので、露光量の補正はレーザ出
力の増減、レーザＰＷＭ（レーザ出力幅値）の増減、レ
ーザ照射時間の長短およびレーザビーム照射径の大小の
うち少なくとも１つを制御して行う。そして、画像濃度
を増加させる場合には上記各要素を増加方向へ制御し、
画像濃度を減少させる場合には、上記の各要素を減少方
向へ制御する。具体的には、図３および図４において、
明部電位ＶＬの値が規定値よりも高側範囲（図３および
図４の左側領域）と予測される場合であれば、画像濃度
不足を防止するために、レーザ出力を増大方向へシフト
することよって適切な画像濃度を維持する。明部電位Ｖ
Ｌの値が規定値よりも低側範囲（図３および図４の右側
領域）と予測される場合であれば、感光体の光疲労を防
止するために、レーザ出力を減少することによって感光
体寿命の延命を図る。
【００３０】以上の方法によって求めたトータルの膜厚
減少量を用いることで、感光体回転周速がさまざまに変
化しても、現時点での膜厚を予測できるようになるとと
もに、その膜厚に基づいて明部電位ＶＬを予測し、且つ
それによって適正な画像濃度を得るべく露光量の補正を
行うことができる。
減少量を用いることで、感光体回転周速がさまざまに変
化しても、現時点での膜厚を予測できるようになるとと
もに、その膜厚に基づいて明部電位ＶＬを予測し、且つ
それによって適正な画像濃度を得るべく露光量の補正を
行うことができる。
【００３１】画像濃度は、現像バイアス電圧と明部電位
ＶＬとの差分（正確には差分の絶対値）で決定されるた
めに、この差分を所定値に維持するよう制御することに
よっても適正な画像濃度を得ることができる。通常は、
この差分の値を３５０Ｖ程度に設定するのがよい（通常
は、現像バイアス電圧ＶＢ＝４００Ｖ、明部電位ＶＬ＝
５０Ｖ程度の設定である）。すなわち、明部電位ＶＬを
補正する方法に代えて、明部電位ＶＬを求めた後、この
明部電位ＶＬとの差が３５０Ｖ程度となるよう現像バイ
アス電圧を変化させることで適正な画像濃度を得るよう
に制御する。このような制御によっても、上述の制御方
法と同様に現在の膜厚に応じた適正な制御が可能とな
る。
ＶＬとの差分（正確には差分の絶対値）で決定されるた
めに、この差分を所定値に維持するよう制御することに
よっても適正な画像濃度を得ることができる。通常は、
この差分の値を３５０Ｖ程度に設定するのがよい（通常
は、現像バイアス電圧ＶＢ＝４００Ｖ、明部電位ＶＬ＝
５０Ｖ程度の設定である）。すなわち、明部電位ＶＬを
補正する方法に代えて、明部電位ＶＬを求めた後、この
明部電位ＶＬとの差が３５０Ｖ程度となるよう現像バイ
アス電圧を変化させることで適正な画像濃度を得るよう
に制御する。このような制御によっても、上述の制御方
法と同様に現在の膜厚に応じた適正な制御が可能とな
る。
【００３２】
【発明の効果】この発明によれば、第２の近似曲線に基
づいて任意の感光体回転周速に対する単位回転時間当た
りの膜厚減少量を予測することができるから、画像形成
速度を複数段階に切り換えて画像形成を行う画像形成装
置において、任意の時点でのトータルの膜厚減少量を正
確に予測することができる。また、感光体の膜厚をパラ
メータとして感光体の明部電位とその電位における画像
濃度との関係をプロットした特性曲線に、上記の膜厚減
少量から得られる現時点の膜厚を当てはめると所望の画
像濃度を得るための正確な明部電位を求めることができ
る。現時点で所望の濃度を得るための明部電位の値を知
ることができることにより、その明部電位を得るための
露光量も求めることができる。また、明部電位と現像バ
イアス電位との差分値を所定値に維持するよう現像バイ
アス電位を制御することによっても、所望の濃度を得る
ことができる。
づいて任意の感光体回転周速に対する単位回転時間当た
りの膜厚減少量を予測することができるから、画像形成
速度を複数段階に切り換えて画像形成を行う画像形成装
置において、任意の時点でのトータルの膜厚減少量を正
確に予測することができる。また、感光体の膜厚をパラ
メータとして感光体の明部電位とその電位における画像
濃度との関係をプロットした特性曲線に、上記の膜厚減
少量から得られる現時点の膜厚を当てはめると所望の画
像濃度を得るための正確な明部電位を求めることができ
る。現時点で所望の濃度を得るための明部電位の値を知
ることができることにより、その明部電位を得るための
露光量も求めることができる。また、明部電位と現像バ
イアス電位との差分値を所定値に維持するよう現像バイ
アス電位を制御することによっても、所望の濃度を得る
ことができる。
【図１】感光体の回転時間と膜厚減少量との関係を示す
グラフ
グラフ
【図２】感光体の回転周速と単位時間当たりの膜厚減少
量との関係を示すグラフ
量との関係を示すグラフ
【図３】明部電位ＶＬと画像濃度との関係を示すグラフ
【図４】明部電位とレーザ出力との関係を示すグラフ
【図５】レーザ出力と画像濃度との関係を示すグラフ
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F069 AA24 AA46 BB40 CC05 GG00 GG31 GG56 GG59 NN06 NN16 2H027 DA02 DA04 DA07 DA10 DA17 DA38 DA44 DA45 DD09 DE01 DE07 DE09 EA02 EA05 EA07 EC06 EC09 EC15 ED02 ED06 ED09 EE03 2H073 AA02 BA01 BA23 BA28 BA35 2H076 AB02 AB09 AB21 DA21 DA37 DA42 9A001 BB02 BB06 GG01 HH35 JJ35 KK42 LL09
Claims (5)
- 【請求項１】 感光体の回転周速をパラメータとして感
光体の回転時間と膜厚減少量との関係をプロットして、
複数の第１の近似曲線を求め、該複数の第１の近似曲線
の各々の変化率を単位回転時間あたりの膜厚減少量とし
て、この変化率と感光体の回転周速との関係をプロット
して第２の近似曲線を求め、この第２の近似曲線に基づ
いて任意の感光体回転周速に対する膜厚減少量を予測す
ることを特徴とする、感光体の膜厚減少量予測方法。 - 【請求項２】 前記第２の近似曲線に基づいて感光体回
転時の各回転周速に対応する前記変化率を求め、この値
と各回転周速での累積回転時間との積和を求めて感光体
のトータルの膜厚減少量を算出することを特徴とする、
請求項１記載の感光体の膜厚減少量予測方法。 - 【請求項３】 感光体の膜厚をパラメータとして感光体
の明部電位とその電位における画像濃度との関係をプロ
ットした特性曲線を求めておき、請求項２で算出した膜
厚減少量から感光体の膜厚を求めて、この膜厚における
所望の画像濃度を得るための前記明部電位を前記特性曲
線に基づいて求め、さらに、この明部電位を得るための
露光量を制御することを特徴とする、画像形成方法。 - 【請求項４】 前記露光量の制御は、レーザ出力値、レ
ーザＰＷＭ値、レーザ照射時間及びレーザビーム照射径
のうちの少なくとも一つを制御することで行うことを特
徴とする、請求項３記載の画像形成方法。 - 【請求項５】 感光体の膜厚をパラメータとして感光体
の明部電位とその電位における画像濃度との関係をプロ
ットした特性曲線を求めておき、請求項２で算出した膜
厚減少量から感光体の膜厚を求めて、この膜厚における
所望の画像濃度を得るための前記明部電位を前記特性曲
線に基づいて求め、該明部電位と現像バイアス電位との
差分値を所定値に維持するよう現像バイアス電位を制御
することを特徴とする、画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000124756A JP2001304849A (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | 感光体の膜厚減少量予測方法および画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000124756A JP2001304849A (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | 感光体の膜厚減少量予測方法および画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001304849A true JP2001304849A (ja) | 2001-10-31 |
Family
ID=18634843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000124756A Pending JP2001304849A (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | 感光体の膜厚減少量予測方法および画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001304849A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007171470A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP2007219374A (ja) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
| CN110243331A (zh) * | 2019-07-17 | 2019-09-17 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 非晶碳膜的膜厚监测方法 |
| CN110442930A (zh) * | 2019-07-19 | 2019-11-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 虚拟量测方法和虚拟量测装置 |
| US10606202B2 (en) | 2017-11-13 | 2020-03-31 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus to calculate film thicknesses of a photoconductor film of a photoconductor, image forming method, and non-transitory recording medium storing image forming program |
-
2000
- 2000-04-25 JP JP2000124756A patent/JP2001304849A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007171470A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP2007219374A (ja) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
| US10606202B2 (en) | 2017-11-13 | 2020-03-31 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus to calculate film thicknesses of a photoconductor film of a photoconductor, image forming method, and non-transitory recording medium storing image forming program |
| CN110243331A (zh) * | 2019-07-17 | 2019-09-17 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 非晶碳膜的膜厚监测方法 |
| CN110243331B (zh) * | 2019-07-17 | 2022-02-01 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 非晶碳膜的膜厚监测方法 |
| CN110442930A (zh) * | 2019-07-19 | 2019-11-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 虚拟量测方法和虚拟量测装置 |
| CN110442930B (zh) * | 2019-07-19 | 2023-12-15 | Tcl华星光电技术有限公司 | 虚拟量测方法和虚拟量测装置 |
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