JP2001302677A - シロキシシクロヘキサン誘導体及びその製造法 - Google Patents
シロキシシクロヘキサン誘導体及びその製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 活性型ビタミンD3誘導体の製造の際の
重要な中間体である、光学活性α,β−不飽和エステル
化合物を製造するための重要な鍵中間体となる、光学活
性ジシロキシシクロヘキサン誘導体及び該化合物を用い
た光学活性α,β−不飽和エステル化合物の製造法に関
する。 【解決手段】 下記式 【化1】 〔式中、R1は、C1-6アルキル基を表す。R2は、水素原子
又はC2-5アルカノイル基を表す。X及びYは、それぞれ独
立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学活性ジ
シロキシシクロヘキサノン化合物、光学活性ジシロキシ
メチレンシクロヘキサン化合物の提供及びこれら化合物
の製造法並びに該化合物を用いた光学活性α,β−不飽
和エステル化合物の製造法の提供。
重要な中間体である、光学活性α,β−不飽和エステル
化合物を製造するための重要な鍵中間体となる、光学活
性ジシロキシシクロヘキサン誘導体及び該化合物を用い
た光学活性α,β−不飽和エステル化合物の製造法に関
する。 【解決手段】 下記式 【化1】 〔式中、R1は、C1-6アルキル基を表す。R2は、水素原子
又はC2-5アルカノイル基を表す。X及びYは、それぞれ独
立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学活性ジ
シロキシシクロヘキサノン化合物、光学活性ジシロキシ
メチレンシクロヘキサン化合物の提供及びこれら化合物
の製造法並びに該化合物を用いた光学活性α,β−不飽
和エステル化合物の製造法の提供。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、活性型ビタミンD
3誘導体の製造の際の重要な中間体である、光学活性
α,β−不飽和エステル化合物を製造するための重要な
鍵中間体となる、光学活性ジシロキシシクロヘキサン誘
導体、及び該誘導体の製造法、並びに光学活性ジシロキ
シシクロヘキサン誘導体からの光学活性α,β−不飽和
エステル化合物の製造法に関する。
3誘導体の製造の際の重要な中間体である、光学活性
α,β−不飽和エステル化合物を製造するための重要な
鍵中間体となる、光学活性ジシロキシシクロヘキサン誘
導体、及び該誘導体の製造法、並びに光学活性ジシロキ
シシクロヘキサン誘導体からの光学活性α,β−不飽和
エステル化合物の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】活性型ビタミンD3(1,25−ジヒド
ロキシコレカルシフェロール)は、小腸におけるカルシ
ウム輸送能、骨塩動員能などの生理活性が強く、そのた
め人の生理機能に重要な役割を果たすことが知られてい
る。本発明の式(IV)及び式(VIII)で示される光学活
性α,β−不飽和エステル化合物は、活性型ビタミンD
3を製造する際の最も重要な中間体の一つであるA環部
分前駆体としてよく知られている。
ロキシコレカルシフェロール)は、小腸におけるカルシ
ウム輸送能、骨塩動員能などの生理活性が強く、そのた
め人の生理機能に重要な役割を果たすことが知られてい
る。本発明の式(IV)及び式(VIII)で示される光学活
性α,β−不飽和エステル化合物は、活性型ビタミンD
3を製造する際の最も重要な中間体の一つであるA環部
分前駆体としてよく知られている。
【化9】 〔式中、R1及びR4は、C1-6アルキル基を意味し、X及びY
は、それぞれ独立して置換シリル基を表す。〕
は、それぞれ独立して置換シリル基を表す。〕
【0003】従来、このA環部分前駆体の製造法として
は、例えば、スキーム1に示すように、1)Tetrahedro
n Letters, 31, 1577 (1990)には、シクロヘキセンジカ
ルボン酸モノエステルから16工程でA環部分前駆体の
Z体の製造法が、2)J. Org. Chem., 55, 3967 (1990)
には、バイサイクリックラクトンから9工程でA環部分
前駆体のZ体とE体の混合物の製造法が、3)J. Org.
Chem., 58, 2523 (1993)には、ブロムアクロレインから
11工程でA環部分前駆体のZ体の製造法が、4)Tetr
ahedron Letters, 38, 4713 (1997)には、(S)−カル
ボンから10工程でA環部分前駆体のE体の製造法がそ
れぞれ記載してある。
は、例えば、スキーム1に示すように、1)Tetrahedro
n Letters, 31, 1577 (1990)には、シクロヘキセンジカ
ルボン酸モノエステルから16工程でA環部分前駆体の
Z体の製造法が、2)J. Org. Chem., 55, 3967 (1990)
には、バイサイクリックラクトンから9工程でA環部分
前駆体のZ体とE体の混合物の製造法が、3)J. Org.
Chem., 58, 2523 (1993)には、ブロムアクロレインから
11工程でA環部分前駆体のZ体の製造法が、4)Tetr
ahedron Letters, 38, 4713 (1997)には、(S)−カル
ボンから10工程でA環部分前駆体のE体の製造法がそ
れぞれ記載してある。
【0004】
【化10】 (式中、Tsはp−トルエンスルホニル基、Phはフェニル
基、TBSはt-ブチルジメチルシリル基を表す)
基、TBSはt-ブチルジメチルシリル基を表す)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、活性型ビタ
ミンD3を製造する際の重要な中間体である、A環部分
前駆体の有用な製造法を提供することを目的とする。上
記の、1)−4)等に記載されている製造法は、いずれ
も出発物質からの工程数が長く、より実用的な製造法が
望まれている。更に現在も、A環部分前駆体の効率的な
製造法を目指して研究が盛んに行なわれているのが現状
である。
ミンD3を製造する際の重要な中間体である、A環部分
前駆体の有用な製造法を提供することを目的とする。上
記の、1)−4)等に記載されている製造法は、いずれ
も出発物質からの工程数が長く、より実用的な製造法が
望まれている。更に現在も、A環部分前駆体の効率的な
製造法を目指して研究が盛んに行なわれているのが現状
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するため、鋭意検討を重ねた結果、式(I)で示さ
れる光学活性ジシロキシシクロヘキサノン化合物、及び
式(III)で示される光学活性ジシロキシメチレンシク
ロヘキサン化合物が、活性型ビタミンD3製造の際のA
環部分前駆体の重要な鍵中間体となることを見出し、本
発明を完成するに至った。
達成するため、鋭意検討を重ねた結果、式(I)で示さ
れる光学活性ジシロキシシクロヘキサノン化合物、及び
式(III)で示される光学活性ジシロキシメチレンシク
ロヘキサン化合物が、活性型ビタミンD3製造の際のA
環部分前駆体の重要な鍵中間体となることを見出し、本
発明を完成するに至った。
【0007】即ち、本発明は、式(I)
【化11】 〔式中、R1は、C1-6アルキル基を表す。X及びYは、それ
ぞれ独立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学
活性ジシロキシシクロヘキサノン化合物に関する。
ぞれ独立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学
活性ジシロキシシクロヘキサノン化合物に関する。
【0008】又、本発明は、式(II)
【化12】 〔式中、R1は、C1-6アルキル基を表す。X及びYは、それ
ぞれ独立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学
活性ジシロキシジオール体を酸化することを特徴とす
る、式(I)で示される光学活性ジシロキシシクロヘキ
サノン化合物の製造法に関する。
ぞれ独立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学
活性ジシロキシジオール体を酸化することを特徴とす
る、式(I)で示される光学活性ジシロキシシクロヘキ
サノン化合物の製造法に関する。
【0009】さらに、本発明は、式(III)
【化13】 〔式中、R1は、C1-6アルキル基を表す。R2は、水素原
子、C2-5アルカノイル基を表す。X及びYは、それぞれ独
立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学活性ジ
シロキシメチレンシクロヘキサン化合物に関する。
子、C2-5アルカノイル基を表す。X及びYは、それぞれ独
立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学活性ジ
シロキシメチレンシクロヘキサン化合物に関する。
【0010】又、式(I)で示される光学活性シロキシ
シクロヘキサノン化合物を、ケトンのメチレン化、次い
で、ヒドロキシル基のアルカノイル化することを特徴と
する、式(III)で示される光学活性ジシロキシメチレ
ンシクロヘキサン化合物の製造法に関する。
シクロヘキサノン化合物を、ケトンのメチレン化、次い
で、ヒドロキシル基のアルカノイル化することを特徴と
する、式(III)で示される光学活性ジシロキシメチレ
ンシクロヘキサン化合物の製造法に関する。
【0011】又、式(III)で示される光学活性ジシロ
キシシメチレンクロヘキサン化合物を、塩基で処理する
ことを特徴とする、式(IV)
キシシメチレンクロヘキサン化合物を、塩基で処理する
ことを特徴とする、式(IV)
【化14】 〔式中、R1、X及びYは前記に同じ。〕で表わされる光学
活性α,β−不飽和エステル化合物(E体)の製造法に
関する。
活性α,β−不飽和エステル化合物(E体)の製造法に
関する。
【0012】又、式(I)で示される光学活性ジシロキ
シシクロヘキサノン化合物を、アルカノイル化して、式
(V)
シシクロヘキサノン化合物を、アルカノイル化して、式
(V)
【化15】 〔式中、R3は、C2-5アルカノイル基を表す。X及びYは前
記に同じ。〕で表わされるラクトン体とし、次いでアル
カリで処理して、式(VI)
記に同じ。〕で表わされるラクトン体とし、次いでアル
カリで処理して、式(VI)
【化16】 〔式中、R3、X及びYは前記に同じ。〕で表わされるα,
β−不飽和ラクトン体とし、更に加水分解及びエステル
化して、式(VII)
β−不飽和ラクトン体とし、更に加水分解及びエステル
化して、式(VII)
【化17】 〔式中、R4は、C1-6アルキル基を表す。X及びYは前記に
同じ。〕で表わされるケトエステル体とし、ケトンをメ
チレン化することを特徴とする、式(VIII)
同じ。〕で表わされるケトエステル体とし、ケトンをメ
チレン化することを特徴とする、式(VIII)
【化18】 〔式中、R4、X及びYは前記に同じ。〕で表わされる光学
活性α,β−不飽和エステル化合物(Z体)の製造法に
関するものである。
活性α,β−不飽和エステル化合物(Z体)の製造法に
関するものである。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、更に詳細に本発明を説明す
る。本明細書における各語句について説明する。
る。本明細書における各語句について説明する。
【0014】置換基R1及びR4は、C1-6アルキル基を表
す。C1-6アルキル基としては、直鎖、分枝又は環状であ
ってよく、例えばメチル、エチル、n-プロピル、i-プロ
ピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-
ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル、2-メチル-c-
プロピル、n-ペンチル、1-メチル-n-ブチル、2-メチル-
n-ブチル、3-メチル-n-ブチル、1,1-ジメチル-n-プロピ
ル、1,2-ジメチル-n-プロピル、2,2-ジメチル-n-プロピ
ル、1-エチル-n-プロピル、c-ペンチル、1-メチル-c-ブ
チル、2-メチル-c-ブチル、3-メチル-c-ブチル、1,2-ジ
メチル-c-プロピル、2,3-ジメチル-c-プロピル、1-エチ
ル-c-プロピル、2-エチル-c-プロピル、n-ヘキシル、1-
メチル-n-ペンチル、2-メチル-n-ペンチル、3-メチル-n
-ペンチル、4-メチル-n-ペンチル、1,1-ジメチル-n-ブ
チル、1,2-ジメチル-n-ブチル、1,3-ジメチル-n-ブチ
ル、2,2-ジメチル-n-ブチル、2,3-ジメチル-n-ブチル、
3,3-ジメチル-n-ブチル、1-エチル-n-ブチル、2-エチル
-n-ブチル、1,1,2-トリメチル-n-プロピル、1,2,2-トリ
メチル-n-プロピル、1-エチル-1-メチル-n-プロピル、1
-エチル-2-メチル-n-プロピル、c-ヘキシル、1-メチル-
c-ペンチル、2-メチル-c-ペンチル、3-メチル-c-ペンチ
ル、1-エチル-c-ブチル、2-エチル-c-ブチル、3-エチル
-c-ブチル、1,2-ジメチル-c-ブチル、1,3-ジメチル-c-
ブチル、2,2-ジメチル-c-ブチル、2,3-ジメチル-c-ブチ
ル、2,4-ジメチル-c-ブチル、3,3-ジメチル-c-ブチル、
1-n-プロピル-c-プロピル、2-n-プロピル-c-プロピル、
1-i-プロピル-c-プロピル、2-i-プロピル-c-プロピル、
1,2,2-トリメチル-c-プロピル、1,2,3-トリメチル-c-プ
ロピル、2,2,3-トリメチル-c-プロピル、1-エチル-2-メ
チル-c-プロピル、2-エチル-1-メチル-c-プロピル、2-
エチル-2-メチル-c-プロピル及び2-エチル-3-メチル-c-
プロピル等が挙げられる。好ましくは、メチル、エチル
及びt-ブチル等が挙げられる。
す。C1-6アルキル基としては、直鎖、分枝又は環状であ
ってよく、例えばメチル、エチル、n-プロピル、i-プロ
ピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-
ブチル、c-ブチル、1-メチル-c-プロピル、2-メチル-c-
プロピル、n-ペンチル、1-メチル-n-ブチル、2-メチル-
n-ブチル、3-メチル-n-ブチル、1,1-ジメチル-n-プロピ
ル、1,2-ジメチル-n-プロピル、2,2-ジメチル-n-プロピ
ル、1-エチル-n-プロピル、c-ペンチル、1-メチル-c-ブ
チル、2-メチル-c-ブチル、3-メチル-c-ブチル、1,2-ジ
メチル-c-プロピル、2,3-ジメチル-c-プロピル、1-エチ
ル-c-プロピル、2-エチル-c-プロピル、n-ヘキシル、1-
メチル-n-ペンチル、2-メチル-n-ペンチル、3-メチル-n
-ペンチル、4-メチル-n-ペンチル、1,1-ジメチル-n-ブ
チル、1,2-ジメチル-n-ブチル、1,3-ジメチル-n-ブチ
ル、2,2-ジメチル-n-ブチル、2,3-ジメチル-n-ブチル、
3,3-ジメチル-n-ブチル、1-エチル-n-ブチル、2-エチル
-n-ブチル、1,1,2-トリメチル-n-プロピル、1,2,2-トリ
メチル-n-プロピル、1-エチル-1-メチル-n-プロピル、1
-エチル-2-メチル-n-プロピル、c-ヘキシル、1-メチル-
c-ペンチル、2-メチル-c-ペンチル、3-メチル-c-ペンチ
ル、1-エチル-c-ブチル、2-エチル-c-ブチル、3-エチル
-c-ブチル、1,2-ジメチル-c-ブチル、1,3-ジメチル-c-
ブチル、2,2-ジメチル-c-ブチル、2,3-ジメチル-c-ブチ
ル、2,4-ジメチル-c-ブチル、3,3-ジメチル-c-ブチル、
1-n-プロピル-c-プロピル、2-n-プロピル-c-プロピル、
1-i-プロピル-c-プロピル、2-i-プロピル-c-プロピル、
1,2,2-トリメチル-c-プロピル、1,2,3-トリメチル-c-プ
ロピル、2,2,3-トリメチル-c-プロピル、1-エチル-2-メ
チル-c-プロピル、2-エチル-1-メチル-c-プロピル、2-
エチル-2-メチル-c-プロピル及び2-エチル-3-メチル-c-
プロピル等が挙げられる。好ましくは、メチル、エチル
及びt-ブチル等が挙げられる。
【0015】置換基R2は、水素原子又はC2-5アルカノイ
ル基を表す。置換基R3は、C2-5アルカノイル基を表す。
ル基を表す。置換基R3は、C2-5アルカノイル基を表す。
【0016】C2-5アルカノイル基としては、例えばアセ
チル、プロピオニル、2-メチルプロピオニル、ブチリ
ル、バレリル、2,2-ジメチルプロピオニル等が挙げられ
る。
チル、プロピオニル、2-メチルプロピオニル、ブチリ
ル、バレリル、2,2-ジメチルプロピオニル等が挙げられ
る。
【0017】置換基X及びYは、それぞれ独立して置換シ
リル基を表す。
リル基を表す。
【0018】置換シリル基として、t−ブチルジメチル
シリル基、トリメチルシリル基及びジフェニル−t−ブ
チルシリル基等が挙げられる。
シリル基、トリメチルシリル基及びジフェニル−t−ブ
チルシリル基等が挙げられる。
【0019】本発明に係る化合物の製造に用いられる反
応溶媒としては、当該反応条件下において安定であり、
かつ不活性で反応を妨げないものが望ましい。かかる溶
媒としては、水、アルコール類(例えばメタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノールやオクタノール
等)、セロソルブ類(例えばメトキシエタノールやエト
キシエタノール等)、非プロトン性極性有機溶媒類(例
えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルアセトアミド、テトラメチルウレア、スルホラ
ン、N−メチルピロリドンやN,N-ジメチルイミダゾリジ
ノン等)、エーテル類(例えばジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、テト
ラヒドロフランやジオキサン等)、脂肪族炭化水素類
(例えばペンタン、ヘキサン、c−ヘキサン、オクタ
ン、デカン、デカリンや石油エーテル等)、芳香族炭化
水素類(ベンゼン、クロロベンゼン、o−ジクロロベン
ゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレ
ンやテトラリン等)、ハロゲン化炭化水素類(例えばク
ロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンや四塩化
炭素等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、
メチルブチルケトンやメチルイソブチルケトン等)、低
級脂肪族酸エステル(例えば酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチルやプロピオン酸メチル等)、アルコキシアル
カン類(例えばジメトキシエタンやジエトキシエタン
等)及びニトリル類(例えばアセトニトリル、プロピオ
ニトリルやブチロニトリル等)等の溶媒が挙げられる。
これらの溶媒は反応の起こりやすさに従って適宜選択さ
れ、単一又は混合して用いられる。また場合によっては
適当な脱水剤や乾燥剤を用いて非水溶媒として用いられ
る。以上述べた溶媒は本発明を実施する際の一例であっ
て、本発明はこれらの条件に限定されるものではない。
応溶媒としては、当該反応条件下において安定であり、
かつ不活性で反応を妨げないものが望ましい。かかる溶
媒としては、水、アルコール類(例えばメタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノールやオクタノール
等)、セロソルブ類(例えばメトキシエタノールやエト
キシエタノール等)、非プロトン性極性有機溶媒類(例
えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルアセトアミド、テトラメチルウレア、スルホラ
ン、N−メチルピロリドンやN,N-ジメチルイミダゾリジ
ノン等)、エーテル類(例えばジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、テト
ラヒドロフランやジオキサン等)、脂肪族炭化水素類
(例えばペンタン、ヘキサン、c−ヘキサン、オクタ
ン、デカン、デカリンや石油エーテル等)、芳香族炭化
水素類(ベンゼン、クロロベンゼン、o−ジクロロベン
ゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレ
ンやテトラリン等)、ハロゲン化炭化水素類(例えばク
ロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンや四塩化
炭素等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、
メチルブチルケトンやメチルイソブチルケトン等)、低
級脂肪族酸エステル(例えば酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチルやプロピオン酸メチル等)、アルコキシアル
カン類(例えばジメトキシエタンやジエトキシエタン
等)及びニトリル類(例えばアセトニトリル、プロピオ
ニトリルやブチロニトリル等)等の溶媒が挙げられる。
これらの溶媒は反応の起こりやすさに従って適宜選択さ
れ、単一又は混合して用いられる。また場合によっては
適当な脱水剤や乾燥剤を用いて非水溶媒として用いられ
る。以上述べた溶媒は本発明を実施する際の一例であっ
て、本発明はこれらの条件に限定されるものではない。
【0020】まず、式(I)の光学活性ジシロキシシク
ロヘキサノン化合物の合成法について説明する。原料の
式(II)で示される光学活性ジシロキシジオール体
(4)(例えば、R1=t−ブチル基、X=Y=t−ブチル
ジメチルシリル基)は、スキーム2に示す方法により合
成することができる。
ロヘキサノン化合物の合成法について説明する。原料の
式(II)で示される光学活性ジシロキシジオール体
(4)(例えば、R1=t−ブチル基、X=Y=t−ブチル
ジメチルシリル基)は、スキーム2に示す方法により合
成することができる。
【0021】
【化19】
【0022】即ち、光学活性シロキシシクロヘキセノン
(1)をジヒドロキシル化して、ジオール体(2)と
し、これにリフォマツキー反応により酢酸エステル基を
導入して、トリオール体(3)とし、更に位置選択的に
水酸基をシリル化することにより、合成することができ
る。また、光学活性シロキシシクロヘキセノン(1)
は、例えば、J. Am. Chem. Soc., 121, 3640 (1999)に
記載の方法にしたがって合成することができる。式(I
I)の光学活性ジシロキシジオール体(4)の水酸基を
酸化することにより、式(I)の光学活性ジシロキシシ
クロヘキサノン化合物を合成することができる。
(1)をジヒドロキシル化して、ジオール体(2)と
し、これにリフォマツキー反応により酢酸エステル基を
導入して、トリオール体(3)とし、更に位置選択的に
水酸基をシリル化することにより、合成することができ
る。また、光学活性シロキシシクロヘキセノン(1)
は、例えば、J. Am. Chem. Soc., 121, 3640 (1999)に
記載の方法にしたがって合成することができる。式(I
I)の光学活性ジシロキシジオール体(4)の水酸基を
酸化することにより、式(I)の光学活性ジシロキシシ
クロヘキサノン化合物を合成することができる。
【0023】酸化剤としては、過酢酸、過安息香酸、m
−クロロ過安息香酸等の過酸類、二酸化マンガン、過マ
ンガン酸カリウム、クロム酸、クロム酸−ピリジン錯
体、オギザリルクロリド−DMSO(スワーン酸化)、
塩素、臭素、過塩素酸等が挙げられ、好ましくは、オギ
ザリルクロリド−DMSO(スワーン酸化)である。酸
化剤の使用量は、通常は基質に対して、0.8〜20モ
ル倍の範囲、好ましくは、1.0〜5.0モル倍の範囲
が望ましい。
−クロロ過安息香酸等の過酸類、二酸化マンガン、過マ
ンガン酸カリウム、クロム酸、クロム酸−ピリジン錯
体、オギザリルクロリド−DMSO(スワーン酸化)、
塩素、臭素、過塩素酸等が挙げられ、好ましくは、オギ
ザリルクロリド−DMSO(スワーン酸化)である。酸
化剤の使用量は、通常は基質に対して、0.8〜20モ
ル倍の範囲、好ましくは、1.0〜5.0モル倍の範囲
が望ましい。
【0024】反応溶媒としては、反応に関与しないもの
であれば特に制限はなく、上記した溶媒を用いることが
できる。
であれば特に制限はなく、上記した溶媒を用いることが
できる。
【0025】反応温度は、通常−100℃から使用する
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
【0026】反応時間は、通常0.1〜1000時間で
ある。
ある。
【0027】反応終了後は、適当な溶媒により目的物を
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性ジシロ
キシシクロヘキサノン化合物を単離することができる。
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性ジシロ
キシシクロヘキサノン化合物を単離することができる。
【0028】次に、式(III)の光学活性ジシロキシメ
チレンシクロヘキサン化合物の合成について説明する。
上記で得られた式(I)の光学活性ジシロキシシクロヘ
キサノン化合物を、ケトンのメチレン化、及び/又は、
ケトンのメチレン化、次いでヒドロキシル基のアルカノ
イル化により合成することができる。
チレンシクロヘキサン化合物の合成について説明する。
上記で得られた式(I)の光学活性ジシロキシシクロヘ
キサノン化合物を、ケトンのメチレン化、及び/又は、
ケトンのメチレン化、次いでヒドロキシル基のアルカノ
イル化により合成することができる。
【0029】まず、ケトンのメチレン化について説明す
る。メチレン化の試剤としては、Zn−CH2Br2−T
iCl4(野崎試薬)、μ−クロロ−μ−メチレン[ビ
ス(シクロペンタジエニル)チタニウム]ジメチルアル
ミニウム(Tebbe試薬)、メチレントリフェニルホ
スホラン、Mg−CH2I2−Et2AlCl、メチルト
リフェニルホスホニウムブロマイド等が挙げられ、好ま
しくは、野崎試薬、Tebbe試薬が挙げられる。
る。メチレン化の試剤としては、Zn−CH2Br2−T
iCl4(野崎試薬)、μ−クロロ−μ−メチレン[ビ
ス(シクロペンタジエニル)チタニウム]ジメチルアル
ミニウム(Tebbe試薬)、メチレントリフェニルホ
スホラン、Mg−CH2I2−Et2AlCl、メチルト
リフェニルホスホニウムブロマイド等が挙げられ、好ま
しくは、野崎試薬、Tebbe試薬が挙げられる。
【0030】メチレン化試剤の使用量は、通常は基質に
対して、0.8〜20モル倍の範囲、好ましくは、1.
0〜5.0モル倍の範囲が望ましい。
対して、0.8〜20モル倍の範囲、好ましくは、1.
0〜5.0モル倍の範囲が望ましい。
【0031】反応溶媒としては、反応に関与しないもの
であれば特に制限はなく、上記した溶媒のうち、ケトン
系溶媒以外の溶媒を用いることができる。
であれば特に制限はなく、上記した溶媒のうち、ケトン
系溶媒以外の溶媒を用いることができる。
【0032】反応温度は、通常−100℃から使用する
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
【0033】反応時間は、通常0.1〜1000時間で
ある。
ある。
【0034】反応終了後は、適当な溶媒により目的物を
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性ジシロ
キシメチレンシクロヘキサン化合物を単離することがで
きる。
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性ジシロ
キシメチレンシクロヘキサン化合物を単離することがで
きる。
【0035】次いでヒドロキシル基のアルカノイル化に
ついて説明する。アルカノイル化の試剤としては、アセ
チルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオニルク
ロライド、プロピオニルブロマイド等の酸ハライド類、
無水酢酸、無水プロピオン酸、等の酸無水物等が挙げら
れ、好ましくは、無水酢酸が挙げられる。アルカノイル
化試剤の使用量は、通常は基質に対して、0.8〜10
0モル倍の範囲、好ましくは、50〜100モル倍の範
囲が望ましい。
ついて説明する。アルカノイル化の試剤としては、アセ
チルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオニルク
ロライド、プロピオニルブロマイド等の酸ハライド類、
無水酢酸、無水プロピオン酸、等の酸無水物等が挙げら
れ、好ましくは、無水酢酸が挙げられる。アルカノイル
化試剤の使用量は、通常は基質に対して、0.8〜10
0モル倍の範囲、好ましくは、50〜100モル倍の範
囲が望ましい。
【0036】反応系に反応促進剤を共存させることもで
き、反応促進剤としては、トリエチルアミン、DBU、
N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリン等の
アミン類、ピリジン、メチルエチルピリジン、ルチジ
ン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン等のピリジン
類、スカンジウムトリフラート等が挙げられ、好ましく
は、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、スカンジウ
ムトリフラートが挙げられる。
き、反応促進剤としては、トリエチルアミン、DBU、
N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリン等の
アミン類、ピリジン、メチルエチルピリジン、ルチジ
ン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン等のピリジン
類、スカンジウムトリフラート等が挙げられ、好ましく
は、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、スカンジウ
ムトリフラートが挙げられる。
【0037】反応は無溶媒下、又は溶媒使用下のいずれ
でもよく、反応溶媒としては、反応に関与しないもので
あれば特に制限はなく、水、アルコール類及びセロソル
ブ類を除く上記した溶媒を用いることができる。
でもよく、反応溶媒としては、反応に関与しないもので
あれば特に制限はなく、水、アルコール類及びセロソル
ブ類を除く上記した溶媒を用いることができる。
【0038】反応温度は、通常−100℃から使用する
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
【0039】反応時間は、通常0.1〜1000時間で
ある。
ある。
【0040】反応終了後は、適当な溶媒により目的物を
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性ジシロ
キシメチレンシクロヘキサン化合物を単離することがで
きる。
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性ジシロ
キシメチレンシクロヘキサン化合物を単離することがで
きる。
【0041】次に、式(IV)の光学活性α,β−不飽和
エステル化合物(E体)の製造法について説明する。上
記で得られた式(III)の光学活性ジシロキシメチレン
シクロヘキサン化合物を、塩基で処理することにより、
式(IV)の光学活性α,β−不飽和エステル化合物(E
体)を合成することができる。
エステル化合物(E体)の製造法について説明する。上
記で得られた式(III)の光学活性ジシロキシメチレン
シクロヘキサン化合物を、塩基で処理することにより、
式(IV)の光学活性α,β−不飽和エステル化合物(E
体)を合成することができる。
【0042】塩基としては、ジエチルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、トリエチルアミン、DBU、N−メチル
モルホリン、N,N−ジメチルアニリン等のアミン類、
ピリジン、メチルエチルピリジン、ルチジン、4−N,
N−ジメチルアミノピリジン等のピリジン類、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブ
トキシド等のアルコキシド類等が挙げられ、好ましくは
ジエチルアミンが挙げられる。
ロピルアミン、トリエチルアミン、DBU、N−メチル
モルホリン、N,N−ジメチルアニリン等のアミン類、
ピリジン、メチルエチルピリジン、ルチジン、4−N,
N−ジメチルアミノピリジン等のピリジン類、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブ
トキシド等のアルコキシド類等が挙げられ、好ましくは
ジエチルアミンが挙げられる。
【0043】塩基の使用量は、基質である化合物(II
I)に対し、0.8〜20モル倍量の範囲、好ましく
は、1〜5モル倍量モル倍の範囲が望ましい。
I)に対し、0.8〜20モル倍量の範囲、好ましく
は、1〜5モル倍量モル倍の範囲が望ましい。
【0044】反応系に反応促進剤として、Pd触媒を共
存させることもでき、Pd触媒としては、テトラキスト
リフェニルホスフィンパラジウム及びジベンゾイルアセ
トンパラジウムが挙げられる。
存させることもでき、Pd触媒としては、テトラキスト
リフェニルホスフィンパラジウム及びジベンゾイルアセ
トンパラジウムが挙げられる。
【0045】反応溶媒としては、反応に関与しないもの
であれば特に制限はなく、上記した溶媒を用いることが
できる。
であれば特に制限はなく、上記した溶媒を用いることが
できる。
【0046】反応温度は、通常−100℃から使用する
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
【0047】反応時間は、通常0.1〜1000時間で
ある。
ある。
【0048】反応終了後は、適当な溶媒により目的物を
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性α,β
−不飽和エステル化合物(E体)を単離することができ
る。
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性α,β
−不飽和エステル化合物(E体)を単離することができ
る。
【0049】次に、式(VIII)の光学活性α,β−不飽
和エステル化合物(Z体)の製造法について説明する。
上記で得られた式(I)の光学活性ジシロキシシクロヘ
キサノン化合物を、まずアルカノイル化して式(V)の
ラクトン体を合成する。
和エステル化合物(Z体)の製造法について説明する。
上記で得られた式(I)の光学活性ジシロキシシクロヘ
キサノン化合物を、まずアルカノイル化して式(V)の
ラクトン体を合成する。
【0050】アルカノイル化の試剤としては、アセチル
クロライド、アセチルブロマイド、等の酸ハライド類、
無水酢酸、無水プロピオン酸、等の酸無水物等が挙げら
れ、好ましくは、無水酢酸が挙げられる。アルカノイル
化試剤の使用量は、通常は基質に対して、0.8〜10
0モル倍の範囲、好ましくは、50〜100モル倍の範
囲が望ましい。
クロライド、アセチルブロマイド、等の酸ハライド類、
無水酢酸、無水プロピオン酸、等の酸無水物等が挙げら
れ、好ましくは、無水酢酸が挙げられる。アルカノイル
化試剤の使用量は、通常は基質に対して、0.8〜10
0モル倍の範囲、好ましくは、50〜100モル倍の範
囲が望ましい。
【0051】反応系に、反応促進剤を共存させることも
でき、反応促進剤としては、トリエチルアミン、DB
U、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリン
等のアミン類、ピリジン、メチルエチルピリジン、ルチ
ジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン等のピリジ
ン類、スカンジウムトリフラート等が挙げられるが、好
ましくは、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、スカ
ンジウムトリフラートが挙げられる。
でき、反応促進剤としては、トリエチルアミン、DB
U、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリン
等のアミン類、ピリジン、メチルエチルピリジン、ルチ
ジン、4−N,N−ジメチルアミノピリジン等のピリジ
ン類、スカンジウムトリフラート等が挙げられるが、好
ましくは、4−N,N−ジメチルアミノピリジン、スカ
ンジウムトリフラートが挙げられる。
【0052】反応は無溶媒下、又は溶媒使用下のいずれ
でもよく、反応溶媒としては、反応に関与しないもので
あれば特に制限はなく、水、アルコール類及びセロソル
ブ類を除く上記した溶媒を用いることができる。
でもよく、反応溶媒としては、反応に関与しないもので
あれば特に制限はなく、水、アルコール類及びセロソル
ブ類を除く上記した溶媒を用いることができる。
【0053】反応温度は、通常−100℃から使用する
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
【0054】反応時間は、通常0.1〜1000時間で
ある。
ある。
【0055】反応終了後は、適当な溶媒により目的物を
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋なラクトン体を単
離することができる。次に、式(V)のラクトン体を塩
基で処理して、式(VI)のα,β−不飽和ラクトン体を
合成する。
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋なラクトン体を単
離することができる。次に、式(V)のラクトン体を塩
基で処理して、式(VI)のα,β−不飽和ラクトン体を
合成する。
【0056】塩基としては、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチ
ルアミン、DBU、N−メチルモルホリン、N,N−ジ
メチルアニリン等のアミン類、ピリジン、メチルエチル
ピリジン、ルチジン、4−N,N−ジメチルアミノピリ
ジン等のピリジン類が挙げられ、好ましくは、DBUが
挙げられる。塩基の使用量は、通常は基質に対して、
0.8〜20モル倍の範囲、好ましくは、1.0〜5.
0モル倍の範囲が望ましい。
ルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチ
ルアミン、DBU、N−メチルモルホリン、N,N−ジ
メチルアニリン等のアミン類、ピリジン、メチルエチル
ピリジン、ルチジン、4−N,N−ジメチルアミノピリ
ジン等のピリジン類が挙げられ、好ましくは、DBUが
挙げられる。塩基の使用量は、通常は基質に対して、
0.8〜20モル倍の範囲、好ましくは、1.0〜5.
0モル倍の範囲が望ましい。
【0057】反応溶媒としては、反応に関与しないもの
であれば特に制限はなく、上記した溶媒を用いることが
できる。
であれば特に制限はなく、上記した溶媒を用いることが
できる。
【0058】反応温度は、通常−100℃から使用する
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
【0059】反応時間は、通常0.1〜1000時間で
ある。
ある。
【0060】反応終了後は、適当な溶媒により目的物を
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋なα,β−不飽和
ラクトン体を単離することができる。
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋なα,β−不飽和
ラクトン体を単離することができる。
【0061】次に、式(VI)のα,β−不飽和ラクトン
体を、加水分解及びエステル化することにより、式(VI
I)のケトエステル体を合成する。
体を、加水分解及びエステル化することにより、式(VI
I)のケトエステル体を合成する。
【0062】加水分解の試剤としては、アルカリが使用
され、アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化
カルシウム及び水酸化バリウム等のアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸リチウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ム及び炭酸バリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類
金属の炭酸塩等が挙げられ、好ましくは、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムが挙げられる。加水分解試剤の使用量
は、通常は基質に対して、等モル以上が使用され、加水
分解反応を短時間に完結させるためには、20モル倍程
度までの大過剰を使用することができる。
され、アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化
カルシウム及び水酸化バリウム等のアルカリ金属又はア
ルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸リチウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ム及び炭酸バリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土類
金属の炭酸塩等が挙げられ、好ましくは、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムが挙げられる。加水分解試剤の使用量
は、通常は基質に対して、等モル以上が使用され、加水
分解反応を短時間に完結させるためには、20モル倍程
度までの大過剰を使用することができる。
【0063】反応溶媒としては、反応に関与しないもの
であれば特に制限はなく、エステル類を除く上記した溶
媒を用いることができる。
であれば特に制限はなく、エステル類を除く上記した溶
媒を用いることができる。
【0064】反応温度は、通常−100℃から使用する
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
【0065】反応時間は、通常0.1〜1000時間で
ある。エステル化の試剤としては、塩化メチル、臭化メ
チル、沃化メチル、塩化エチル、臭化エチル、沃化エチ
ル等のハロゲン化アルキル類、硫酸ジメチル、硫酸ジエ
チル等の硫酸ジアルキルエステル類が挙げられ、好まし
くは、沃化エチルが挙げられる。
ある。エステル化の試剤としては、塩化メチル、臭化メ
チル、沃化メチル、塩化エチル、臭化エチル、沃化エチ
ル等のハロゲン化アルキル類、硫酸ジメチル、硫酸ジエ
チル等の硫酸ジアルキルエステル類が挙げられ、好まし
くは、沃化エチルが挙げられる。
【0066】エステル化試剤の使用量は、通常は基質に
対して、0.8〜20モル倍の範囲、好ましくは、1.
0〜5.0モル倍の範囲が望ましい。
対して、0.8〜20モル倍の範囲、好ましくは、1.
0〜5.0モル倍の範囲が望ましい。
【0067】反応溶媒としては、反応に関与しないもの
であれば特に制限はなく、上記した溶媒を用いることが
できる。
であれば特に制限はなく、上記した溶媒を用いることが
できる。
【0068】反応温度は、通常−100℃から使用する
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
【0069】反応時間は、通常0.1〜1000時間で
ある。
ある。
【0070】反応終了後は、適当な溶媒により目的物を
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋なケトエステル体
を単離することができる。
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋なケトエステル体
を単離することができる。
【0071】最後に、式(VII)のケトエステル体のケ
トンをメチレン化することにより、式(VIII)の光学活
性α,β−不飽和エステル化合物(Z体)を製造するこ
とができる。
トンをメチレン化することにより、式(VIII)の光学活
性α,β−不飽和エステル化合物(Z体)を製造するこ
とができる。
【0072】メチレン化の試剤としては、Zn−CH2
Br2−TiCl4(野崎試薬)、μ−クロロ−μ−メチ
レン[ビス(シクロペンタジエニル)チタニウム]ジメ
チルアルミニウム(Tebbe試薬)、メチレントリフ
ェニルホスホラン、Mg−CH2I2−Et2AlCl、
メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド等が挙げら
れ、好ましくは、野崎試薬、Tebbe試薬が挙げられ
る。
Br2−TiCl4(野崎試薬)、μ−クロロ−μ−メチ
レン[ビス(シクロペンタジエニル)チタニウム]ジメ
チルアルミニウム(Tebbe試薬)、メチレントリフ
ェニルホスホラン、Mg−CH2I2−Et2AlCl、
メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド等が挙げら
れ、好ましくは、野崎試薬、Tebbe試薬が挙げられ
る。
【0073】メチレン化試剤の使用量は、通常は基質に
対して、0.8〜20モル倍の範囲、好ましくは、1.
0〜5.0モル倍の範囲が望ましい。
対して、0.8〜20モル倍の範囲、好ましくは、1.
0〜5.0モル倍の範囲が望ましい。
【0074】反応溶媒としては、反応に関与しないもの
であれば特に制限はなく、ケトン系溶媒を除く上記した
溶媒を用いることができる。
であれば特に制限はなく、ケトン系溶媒を除く上記した
溶媒を用いることができる。
【0075】反応温度は、通常−100℃から使用する
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−50℃から
50℃の範囲で行うのがよい。
【0076】反応時間は、通常0.1〜1000時間で
ある。
ある。
【0077】反応終了後は、適当な溶媒により目的物を
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性α,β
−不飽和エステル化合物(Z体)を単離することができ
る。
抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法に
よる精製を行なうことでことで、純粋な光学活性α,β
−不飽和エステル化合物(Z体)を単離することができ
る。
【0078】
【実施例】以下、実施例を挙げて更に詳しく説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 参考例1.光学活性シロキシシクロヘキセノン(5)の
ジヒドロキシル化
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 参考例1.光学活性シロキシシクロヘキセノン(5)の
ジヒドロキシル化
【化20】 室温下、光学活性シロキシシクロヘキセノン(5)
(2.26g、10mmol)のアセトン(300m
L)溶液に、N−メチルモルホリン N−オキシド(5
0%水溶液、2.9mL、25mmol)と四酸化オス
ミウム(0.08M水溶液、6.25mL、0.5mm
ol)を加えた後、反応液を室温下12時間激しく撹拌
した。反応液に亜硫酸水素ナトリウムを加えて、室温下
更に1時間撹拌した。反応液をそのまま減圧下濃縮し、
残渣を水で希釈して、酢酸エチルで抽出した。有機層を
硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、無色の油状物としてジオール体(6)を得た。
(2.08g、80%) [α]D 26=+22.95 (c 0.99, CHCl3)1 H NMR δ4.36-4.24 (m,2H), 4.14(dd, J=3.9 and 1.5H
z,1H), 3.82(br s, 1H), 2.80(ddd, J=13.5, 5.1 and
2.7 Hz, 1H), 2.60(br s, 1H), 2.46(ddd, J=13.5, 10.
5 and 1.2Hz, 1H), 2.39(dddd,J=14.0, 4.2, 4.2 and
2.7Hz, 1H), 1.85(ddd, J=14.1, 10.8 and 2.4 Hz, 1
H), 0.87(s, 9H), 0.07(s, 3H), 0.05(s,3 H)13 C NMR δ207.6, 77.0, 69.3, 66.9, 48.8, 38.5, 25.
5, 17.8, -5.1 IR(neat) 3431, 2954, 2929, 2856, 1724, 1254, 1101,
862, 837, 777 cm-1
(2.26g、10mmol)のアセトン(300m
L)溶液に、N−メチルモルホリン N−オキシド(5
0%水溶液、2.9mL、25mmol)と四酸化オス
ミウム(0.08M水溶液、6.25mL、0.5mm
ol)を加えた後、反応液を室温下12時間激しく撹拌
した。反応液に亜硫酸水素ナトリウムを加えて、室温下
更に1時間撹拌した。反応液をそのまま減圧下濃縮し、
残渣を水で希釈して、酢酸エチルで抽出した。有機層を
硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、無色の油状物としてジオール体(6)を得た。
(2.08g、80%) [α]D 26=+22.95 (c 0.99, CHCl3)1 H NMR δ4.36-4.24 (m,2H), 4.14(dd, J=3.9 and 1.5H
z,1H), 3.82(br s, 1H), 2.80(ddd, J=13.5, 5.1 and
2.7 Hz, 1H), 2.60(br s, 1H), 2.46(ddd, J=13.5, 10.
5 and 1.2Hz, 1H), 2.39(dddd,J=14.0, 4.2, 4.2 and
2.7Hz, 1H), 1.85(ddd, J=14.1, 10.8 and 2.4 Hz, 1
H), 0.87(s, 9H), 0.07(s, 3H), 0.05(s,3 H)13 C NMR δ207.6, 77.0, 69.3, 66.9, 48.8, 38.5, 25.
5, 17.8, -5.1 IR(neat) 3431, 2954, 2929, 2856, 1724, 1254, 1101,
862, 837, 777 cm-1
【0079】参考例2.トリオール体(7)の合成
【化21】 室温下、活性化亜鉛(1.31g、20mmol)のT
HF(7.5mL)懸濁液に、ジオール体(6)(1.
04g、4.0mmol)とトリメトキシボラン(7.
5mL)を加えた。混合液を室温下激しく撹拌しなが
ら、ブロモ酢酸t−ブチルエステル(2.35mL、1
6mmol)を加えた。反応液を室温下30分間撹拌し
た後、激しく反応が始まるまで加熱を続けた。20分間
撹拌した後、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え反応を終了させた。酢酸エチルで抽出後、有機層を硫
酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
無色の油状物としてトリオール体(7)を得た。(1.
37g、91%)1 H NMR δ4.92(s,1H), 4.30-4.18(m,1H), 4.04-3.95(m,
1H), 3.40(br d,J=10.2Hz,1H), 3.33(dd,J=8.7and3.3H
z,1H), 3.04(br d,J=8.7Hz,1H), 2.75(d,J=15.9Hz,1H),
2.31(d,J=15.6Hz,1H), 2.24-2.13(m,1H), 2.04(ddd,J=
13.5,4.2and2.4Hz,1H), 1.54(ddd,J=13.5,10.2and3.3H
z,1H), 1.47(s,9H), 1.46-1.41(m,1H), 0.88(s,9H), 0.
07(s,3H), 0.06(s,3H)13 C NMR δ172.6, 82.1, 75.5, 73.3, 71.0, 63.6, 43.
8, 43.1, 40.3, 28.0,25.9, 18.1, -4.6, -4.7
HF(7.5mL)懸濁液に、ジオール体(6)(1.
04g、4.0mmol)とトリメトキシボラン(7.
5mL)を加えた。混合液を室温下激しく撹拌しなが
ら、ブロモ酢酸t−ブチルエステル(2.35mL、1
6mmol)を加えた。反応液を室温下30分間撹拌し
た後、激しく反応が始まるまで加熱を続けた。20分間
撹拌した後、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え反応を終了させた。酢酸エチルで抽出後、有機層を硫
酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、
無色の油状物としてトリオール体(7)を得た。(1.
37g、91%)1 H NMR δ4.92(s,1H), 4.30-4.18(m,1H), 4.04-3.95(m,
1H), 3.40(br d,J=10.2Hz,1H), 3.33(dd,J=8.7and3.3H
z,1H), 3.04(br d,J=8.7Hz,1H), 2.75(d,J=15.9Hz,1H),
2.31(d,J=15.6Hz,1H), 2.24-2.13(m,1H), 2.04(ddd,J=
13.5,4.2and2.4Hz,1H), 1.54(ddd,J=13.5,10.2and3.3H
z,1H), 1.47(s,9H), 1.46-1.41(m,1H), 0.88(s,9H), 0.
07(s,3H), 0.06(s,3H)13 C NMR δ172.6, 82.1, 75.5, 73.3, 71.0, 63.6, 43.
8, 43.1, 40.3, 28.0,25.9, 18.1, -4.6, -4.7
【0080】参考例3.ジシロキシ体(8)の合成
【化22】 氷冷下、トリオール体(7)(1.37g、3.64m
mol)とイミダゾール(473mg、7.3mmo
l)のDMF(7.0mL)溶液に、t−ブチルジメチ
ルシリルクロライド(658mg、4.4mmol)を
数回に分けて加えた。反応液を室温に戻し12時間撹拌
した後、水を加えて反応を終了させた。エーテルで抽出
後、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、無色の油状物としてジシロキシ体(8)
を得た。(1.75g、100%) [α]D 28=+2.76 (c 0.77, CHCl3)1 H NMR δ4.28-4.13(m,2H), 4.10(s,1H), 3.56(dd,J=8.
4and3.0Hz), 2.75(d,J=8.4Hz,1H), 2.57(d,J=14.7Hz,1
H), 2.48(d,J=15.0Hz,1H), 2.11(ddd,J=13.5,4.5and2.4
Hz,1H), 2.07-1.97(m,1H), 1.63(dd,J=13.5and9.6Hz,1
H), 1.51(ddd,J=13.5,9.9and2.7Hz,1H), 1.45(s,9H),
0.90(s,9H), 0.87(s,9H), 0.12(s,3H), 0.11(s,3H), 0.
05(s,6H)13 C NMR δ170.7, 80.7, 74.5, 72.4(br), 72.2, 63.7,
44.2, 43.7(br), 39.8(br), 27.8, 25.57, 25.47, 17.
7, 17.6, -5.0, -5.1, -5.29, -5.32 IR(neat) 3475, 2930, 2857, 1726, 1472, 1368, 1255,
1115, 836, 777 cm-1
mol)とイミダゾール(473mg、7.3mmo
l)のDMF(7.0mL)溶液に、t−ブチルジメチ
ルシリルクロライド(658mg、4.4mmol)を
数回に分けて加えた。反応液を室温に戻し12時間撹拌
した後、水を加えて反応を終了させた。エーテルで抽出
後、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、無色の油状物としてジシロキシ体(8)
を得た。(1.75g、100%) [α]D 28=+2.76 (c 0.77, CHCl3)1 H NMR δ4.28-4.13(m,2H), 4.10(s,1H), 3.56(dd,J=8.
4and3.0Hz), 2.75(d,J=8.4Hz,1H), 2.57(d,J=14.7Hz,1
H), 2.48(d,J=15.0Hz,1H), 2.11(ddd,J=13.5,4.5and2.4
Hz,1H), 2.07-1.97(m,1H), 1.63(dd,J=13.5and9.6Hz,1
H), 1.51(ddd,J=13.5,9.9and2.7Hz,1H), 1.45(s,9H),
0.90(s,9H), 0.87(s,9H), 0.12(s,3H), 0.11(s,3H), 0.
05(s,6H)13 C NMR δ170.7, 80.7, 74.5, 72.4(br), 72.2, 63.7,
44.2, 43.7(br), 39.8(br), 27.8, 25.57, 25.47, 17.
7, 17.6, -5.0, -5.1, -5.29, -5.32 IR(neat) 3475, 2930, 2857, 1726, 1472, 1368, 1255,
1115, 836, 777 cm-1
【0081】実施例1. 光学活性ジシロキシシクロヘ
キサノン(9)の合成
キサノン(9)の合成
【化23】 (COCl)2(0.35mL、4.0mmol)のジ
クロロメタン(15mL)溶液に、−55℃でDMSO
(0.57mL、8.0mmol)を加え、そのまま−
55℃で10分間撹拌した後、ジシロキシ体(8)
(1.75g、3.64mmol)のジクロロメタン
(5.0mL)溶液を加えた。反応液をそのままの温度
で20分間撹拌した後、トリエチルアミン(2.33m
L、16.4mmol)を加えた。冷却バスを外して、
10分間で0℃に暖めた。反応液に、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加えて終了させ、有機層を分液した後、更
に水層からエーテルで抽出した。有機層を合わせ、硫酸
マグネシウム上で乾燥した後、有機層を減圧下濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、無色の油状物として光学活性ジシロキシシクロ
ヘキサノン(9)を得た。(1.64g、94%) [α]D 25=-3.74 (c 0.99, CHCl3)1 H NMR δ4.95(dd,J=12.0and6.0Hz,1H), 4.40(s,1H),
4.15(dddd,J=3.0,3.0,3.0and3.0,1H), 3.36(d,J=16.2H
z,1H), 2.71(d,J=16.2Hz,1H), 2.36(ddd,J=14.0,3.3and
3.3Hz,1H), 2.34-2.22(m,1H), 1.89(ddd,J=13.2,13.2an
d2.7Hz,1H), 1.73(dd,J=14.4and3.3Hz,1H), 1.40(s,9
H), 0.92(s,9H), 0.90(s,9H), 0.13(s,3H),0.10(s,6H),
0.05(s,3H)13 C NMR δ209.7, 169.1, 81.2, 76.9, 70.3, 65.2, 4
8.0, 46.6, 46.0, 28.1, 25.84, 25.80, 18.4, 18.0, -
4.5, -4.9, -5.0, -5.3 IR(neat) 3474, 2953, 2930, 2858, 1736, 1368, 1256,
1149, 1045, 898, 836, 778 cm-1
クロロメタン(15mL)溶液に、−55℃でDMSO
(0.57mL、8.0mmol)を加え、そのまま−
55℃で10分間撹拌した後、ジシロキシ体(8)
(1.75g、3.64mmol)のジクロロメタン
(5.0mL)溶液を加えた。反応液をそのままの温度
で20分間撹拌した後、トリエチルアミン(2.33m
L、16.4mmol)を加えた。冷却バスを外して、
10分間で0℃に暖めた。反応液に、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加えて終了させ、有機層を分液した後、更
に水層からエーテルで抽出した。有機層を合わせ、硫酸
マグネシウム上で乾燥した後、有機層を減圧下濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、無色の油状物として光学活性ジシロキシシクロ
ヘキサノン(9)を得た。(1.64g、94%) [α]D 25=-3.74 (c 0.99, CHCl3)1 H NMR δ4.95(dd,J=12.0and6.0Hz,1H), 4.40(s,1H),
4.15(dddd,J=3.0,3.0,3.0and3.0,1H), 3.36(d,J=16.2H
z,1H), 2.71(d,J=16.2Hz,1H), 2.36(ddd,J=14.0,3.3and
3.3Hz,1H), 2.34-2.22(m,1H), 1.89(ddd,J=13.2,13.2an
d2.7Hz,1H), 1.73(dd,J=14.4and3.3Hz,1H), 1.40(s,9
H), 0.92(s,9H), 0.90(s,9H), 0.13(s,3H),0.10(s,6H),
0.05(s,3H)13 C NMR δ209.7, 169.1, 81.2, 76.9, 70.3, 65.2, 4
8.0, 46.6, 46.0, 28.1, 25.84, 25.80, 18.4, 18.0, -
4.5, -4.9, -5.0, -5.3 IR(neat) 3474, 2953, 2930, 2858, 1736, 1368, 1256,
1149, 1045, 898, 836, 778 cm-1
【0082】実施例2. 光学活性ジシロキシメチレン
シクロヘキサン(10)の合成
シクロヘキサン(10)の合成
【化24】 室温下、光学活性ジシロキシシクロヘキサノン(9)
(244mg、0.5mmol)のTHF(40mL)
溶液を激しく撹拌してる中に、野崎試薬(0.4M T
HF液、5.0mL、2.0mmol)を一度に加え
た。反応液を室温下2時間撹拌した後、飽和重曹水:水
(2:1)とエーテルの混合液の中に落した。更に、室
温下30分間撹拌して、エーテルで抽出後、セライトで
濾過した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、
減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、無色の油状物として光学活性ジシ
ロキシメチレンシクロヘキサン(10)を得た。(90
mg、37%)1 H NMR δ5.22(dd,J=1.8and1.8Hz,1H), 5.17(dd,J=1.8a
nd1.8Hz,1H), 4.86(s,1H), 4.50(br dd,J=11.1and4.2H
z,1H), 4.23-4.16(m,1H), 3.00(d,J=15.6Hz,1H), 2.61
(d,J=15.6Hz,1H), 2.01-1.90(m,2H), 1.67(dd,J=14.1an
d3.6Hz,1H), 1.55(ddd,J=11.1,11.1and3.0Hz,1H), 1.41
(s,9H), 0.92(s,9H), 0.90(s,9H), 0.13(s,3H), 0.10
(s,6H), 0.05(s,3H)13 C NMR δ172.3, 153.4, 106.0, 81.5, 73.5, 67.8, 6
6.2, 46.1, 45.6, 44.8, 27.9, 25.8, 25.7, 18.1, 17.
8, -5.0, -5.1, -5.2, -5.3 IR(neat) 3480, 2929, 2857, 1707, 1368, 1255, 1155,
836, 776 cm-1
(244mg、0.5mmol)のTHF(40mL)
溶液を激しく撹拌してる中に、野崎試薬(0.4M T
HF液、5.0mL、2.0mmol)を一度に加え
た。反応液を室温下2時間撹拌した後、飽和重曹水:水
(2:1)とエーテルの混合液の中に落した。更に、室
温下30分間撹拌して、エーテルで抽出後、セライトで
濾過した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、
減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、無色の油状物として光学活性ジシ
ロキシメチレンシクロヘキサン(10)を得た。(90
mg、37%)1 H NMR δ5.22(dd,J=1.8and1.8Hz,1H), 5.17(dd,J=1.8a
nd1.8Hz,1H), 4.86(s,1H), 4.50(br dd,J=11.1and4.2H
z,1H), 4.23-4.16(m,1H), 3.00(d,J=15.6Hz,1H), 2.61
(d,J=15.6Hz,1H), 2.01-1.90(m,2H), 1.67(dd,J=14.1an
d3.6Hz,1H), 1.55(ddd,J=11.1,11.1and3.0Hz,1H), 1.41
(s,9H), 0.92(s,9H), 0.90(s,9H), 0.13(s,3H), 0.10
(s,6H), 0.05(s,3H)13 C NMR δ172.3, 153.4, 106.0, 81.5, 73.5, 67.8, 6
6.2, 46.1, 45.6, 44.8, 27.9, 25.8, 25.7, 18.1, 17.
8, -5.0, -5.1, -5.2, -5.3 IR(neat) 3480, 2929, 2857, 1707, 1368, 1255, 1155,
836, 776 cm-1
【0083】実施例3. 光学活性ジシロキシメチレン
シクロヘキサン(11)の合成
シクロヘキサン(11)の合成
【化25】 室温下、光学活性ジシロキシメチレンシクロヘキサン
(10)(60mg、0.12mmol)の無水酢酸
(1.0mL)溶液に、スカンジウムトリフラート
(0.25M/アセトニトリル溶液、48μL、12μ
mol)を加えた後、反応液をそのまま12時間撹拌し
た。反応液に飽和重曹水を加えて、エーテルで抽出し
た。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、無色の油状物として光学活性ジシロキシ
メチレンシクロヘキサン(11)を得た。(58mg、
90%) [α]D 28=+10.07 (c 0.61, CHCl3)1 H NMR δ5.28(dd,J=1.8and1.8Hz,1H), 5.19(dd,J=1.5a
nd1.5Hz,1H), 4.57(brdd,J=10.5and4.2Hz,1H), 4.21(dd
dd,J=3.6,3.6,3.6and3.6Hz,1H), 3.40(d,J=14.4Hz,1H),
3.15(d,J=14.4Hz,1H), 2.67(ddd,J=13.8,3.9and1.8Hz,
1H), 2.05(s,3H), 1.94(dddd,J=12.9,4.5,4.5and1.8Hz,
1H), 1.83(dd,J=13.5and3.6Hz,1H), 1.65-1.55(m,1H),
1.39(s,9H), 0.92(s,9H), 0.90(s,9H), 0.09(s,6H),0.0
7(s,6H)13 C NMR δ169.5, 168.9, 148.9, 107.9, 82.2, 90.0,
67.7, 65.8, 44.7, 43.9, 42.8, 28.1, 26.0, 25.9, 2
2.5, 18.3, 18.1, -4.7, -4.8, -4.89, -4.95 IR(neat) 2929, 2857, 1731, 1367, 1254, 1119, 1048,
837, 777 cm-1
(10)(60mg、0.12mmol)の無水酢酸
(1.0mL)溶液に、スカンジウムトリフラート
(0.25M/アセトニトリル溶液、48μL、12μ
mol)を加えた後、反応液をそのまま12時間撹拌し
た。反応液に飽和重曹水を加えて、エーテルで抽出し
た。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により精製し、無色の油状物として光学活性ジシロキシ
メチレンシクロヘキサン(11)を得た。(58mg、
90%) [α]D 28=+10.07 (c 0.61, CHCl3)1 H NMR δ5.28(dd,J=1.8and1.8Hz,1H), 5.19(dd,J=1.5a
nd1.5Hz,1H), 4.57(brdd,J=10.5and4.2Hz,1H), 4.21(dd
dd,J=3.6,3.6,3.6and3.6Hz,1H), 3.40(d,J=14.4Hz,1H),
3.15(d,J=14.4Hz,1H), 2.67(ddd,J=13.8,3.9and1.8Hz,
1H), 2.05(s,3H), 1.94(dddd,J=12.9,4.5,4.5and1.8Hz,
1H), 1.83(dd,J=13.5and3.6Hz,1H), 1.65-1.55(m,1H),
1.39(s,9H), 0.92(s,9H), 0.90(s,9H), 0.09(s,6H),0.0
7(s,6H)13 C NMR δ169.5, 168.9, 148.9, 107.9, 82.2, 90.0,
67.7, 65.8, 44.7, 43.9, 42.8, 28.1, 26.0, 25.9, 2
2.5, 18.3, 18.1, -4.7, -4.8, -4.89, -4.95 IR(neat) 2929, 2857, 1731, 1367, 1254, 1119, 1048,
837, 777 cm-1
【0084】実施例4. 光学活性α,β−不飽和エス
テル(E体)(12)の合成
テル(E体)(12)の合成
【化26】 室温下、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
(10mg、15mol%)とジエチルアミン(30μ
L、0.28mmol)のTHF(1.5mL)溶液
に、光学活性ジシロキシメチレンシクロヘキサン(1
1)(30mg、57μmol)を加えた。反応液をそ
のまま12時間撹拌した後、反応液に水を加えて、エー
テルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥し
た後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、無色の油状物として光学活
性α,β−不飽和エステル(E体)(12)を得た。
(24mg、90%) [α]D 23=-25.32 (c 0.34, CHCl3)1 H NMR δ5.84(d,J=1.8Hz,1H), 5.07(s,1H), 5.06(s,1
H), 4.64-4.52(m,1H),4.29-4.21(m,1H), 3.52(br dd,J=
15.0and4.2Hz,1H), 2.46(ddd,J=14.7,2.5and2.5Hz,1H),
1.99(dddd,J=12.6,4.8,4.8and1.8Hz,1H), 1.72(ddd,J=
12.6,9.9and2.4Hz,1H), 1.47(s,9H), 0.90(s,9H), 0.86
(s,9H), 0.06(s,6H), 0.05(s,6H)13 C NMR δ165.9, 155.7, 152.2, 118.2, 109.2, 79.8,
69.7, 67.2, 43.7, 37.1, 28.3, 25.9, 25.8, 18.4, 1
8.1, -4.76, -4.88, -4.90, -4.94 IR(neat) 2929, 2857, 1712, 1366, 1254, 1146, 1088,
901, 836, 776 cm-1
(10mg、15mol%)とジエチルアミン(30μ
L、0.28mmol)のTHF(1.5mL)溶液
に、光学活性ジシロキシメチレンシクロヘキサン(1
1)(30mg、57μmol)を加えた。反応液をそ
のまま12時間撹拌した後、反応液に水を加えて、エー
テルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥し
た後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、無色の油状物として光学活
性α,β−不飽和エステル(E体)(12)を得た。
(24mg、90%) [α]D 23=-25.32 (c 0.34, CHCl3)1 H NMR δ5.84(d,J=1.8Hz,1H), 5.07(s,1H), 5.06(s,1
H), 4.64-4.52(m,1H),4.29-4.21(m,1H), 3.52(br dd,J=
15.0and4.2Hz,1H), 2.46(ddd,J=14.7,2.5and2.5Hz,1H),
1.99(dddd,J=12.6,4.8,4.8and1.8Hz,1H), 1.72(ddd,J=
12.6,9.9and2.4Hz,1H), 1.47(s,9H), 0.90(s,9H), 0.86
(s,9H), 0.06(s,6H), 0.05(s,6H)13 C NMR δ165.9, 155.7, 152.2, 118.2, 109.2, 79.8,
69.7, 67.2, 43.7, 37.1, 28.3, 25.9, 25.8, 18.4, 1
8.1, -4.76, -4.88, -4.90, -4.94 IR(neat) 2929, 2857, 1712, 1366, 1254, 1146, 1088,
901, 836, 776 cm-1
【0085】実施例5. ラクトン体(13)の合成
【化27】 室温下、光学活性ジシロキシシクロヘキサノン(9)
(289mg、0.6mmol)の無水酢酸(3.0m
L)溶液に、スカンジウムトリフラート(0.25M/
アセトニトリル、50μL、12μmol)を加えた
後、反応液をそのまま12時間撹拌した。反応液に飽和
重曹水を加えて、エーテルで抽出した。有機層を硫酸マ
グネシウム上で乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、無色
の油状物としてラクトン体(13)を得た。(201m
g、65%) [α]D 27=+9.62 (c 0.676, CHCl3)1 H NMR δ4.89(dd,J=3.0and3.0Hz,1H), 4.26-4.15(m,1
H), 3.24(d,J=17.4Hz,1H), 3.11(d,J=17.4Hz,1H), 2.63
(br dd,J=14.4and3.6Hz,1H), 2.08(s,3H), 2.04(s,3H),
2.08-1.99(m,1H), 1.87(dd,J=14.7and9.0Hz,1H), 1.77
(ddd,J=14.4,8.1and3.0Hz,1H), 0.92(s,9H), 0.85(s,9
H), 0.11(s,3H), 0.07(s,3H), 0.03(s,6H)13C NMR δ17
1.6, 169.5, 168.4, 104.5, 81.1, 68.2, 61.7, 42.2,
40.1, 38.4, 25.6, 25.4, 21.8, 21.3, 17.9, 17.8, -
4.4, -4.9, -5.0, -5.5 IR(neat) 2954, 2857, 1821, 1747, 1369, 1248, 1115,
1087, 1024, 837, 777, 477 cm-1
(289mg、0.6mmol)の無水酢酸(3.0m
L)溶液に、スカンジウムトリフラート(0.25M/
アセトニトリル、50μL、12μmol)を加えた
後、反応液をそのまま12時間撹拌した。反応液に飽和
重曹水を加えて、エーテルで抽出した。有機層を硫酸マ
グネシウム上で乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、無色
の油状物としてラクトン体(13)を得た。(201m
g、65%) [α]D 27=+9.62 (c 0.676, CHCl3)1 H NMR δ4.89(dd,J=3.0and3.0Hz,1H), 4.26-4.15(m,1
H), 3.24(d,J=17.4Hz,1H), 3.11(d,J=17.4Hz,1H), 2.63
(br dd,J=14.4and3.6Hz,1H), 2.08(s,3H), 2.04(s,3H),
2.08-1.99(m,1H), 1.87(dd,J=14.7and9.0Hz,1H), 1.77
(ddd,J=14.4,8.1and3.0Hz,1H), 0.92(s,9H), 0.85(s,9
H), 0.11(s,3H), 0.07(s,3H), 0.03(s,6H)13C NMR δ17
1.6, 169.5, 168.4, 104.5, 81.1, 68.2, 61.7, 42.2,
40.1, 38.4, 25.6, 25.4, 21.8, 21.3, 17.9, 17.8, -
4.4, -4.9, -5.0, -5.5 IR(neat) 2954, 2857, 1821, 1747, 1369, 1248, 1115,
1087, 1024, 837, 777, 477 cm-1
【0086】実施例6. α,β−不飽和ラクトン体
(14)の合成
(14)の合成
【化28】 室温下、ラクトン体(13)(201mg、0.39m
mol)のジクロロメタン(4.0mL)溶液に、DB
U(82μL、0.58mmol)を加えた後、反応液
をそのまま30分間撹拌した。反応液に水を加えて、エ
ーテルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥
した後、減圧下濃縮し、油状物としてα,β−不飽ラク
トン体(14)を得た。(14)はそのまま次の反応に
使用した。1 H NMR δ5.92(d,J=2.1Hz,1H), 4.27(dddd,J=2.7,2.7,
2.7and2.7Hz,1H), 3.91(dd,J=9.0and7.2Hz,1H), 2.71(b
r d,J=13.8Hz,1H), 2.32(ddd,J=13.8,3.6and2.1Hz,1H),
2.09(s,3H), 1.90-1.84(m,2H), 0.91(s,9H), 0.84(s,9
H), 0.13(s,3H),0.07(s,3H), 0.05(s,3H), 0.06(s,3H)13 C NMR δ169.6, 168.6, 163.0, 119.0, 105.0, 73.3,
66.1, 39.1, 34.9, 25.8, 25.6, 21.6, 18.3, 18.0, -
4.6, -4.8, -4.9, -4.95
mol)のジクロロメタン(4.0mL)溶液に、DB
U(82μL、0.58mmol)を加えた後、反応液
をそのまま30分間撹拌した。反応液に水を加えて、エ
ーテルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥
した後、減圧下濃縮し、油状物としてα,β−不飽ラク
トン体(14)を得た。(14)はそのまま次の反応に
使用した。1 H NMR δ5.92(d,J=2.1Hz,1H), 4.27(dddd,J=2.7,2.7,
2.7and2.7Hz,1H), 3.91(dd,J=9.0and7.2Hz,1H), 2.71(b
r d,J=13.8Hz,1H), 2.32(ddd,J=13.8,3.6and2.1Hz,1H),
2.09(s,3H), 1.90-1.84(m,2H), 0.91(s,9H), 0.84(s,9
H), 0.13(s,3H),0.07(s,3H), 0.05(s,3H), 0.06(s,3H)13 C NMR δ169.6, 168.6, 163.0, 119.0, 105.0, 73.3,
66.1, 39.1, 34.9, 25.8, 25.6, 21.6, 18.3, 18.0, -
4.6, -4.8, -4.9, -4.95
【0087】実施例7. ケトエステル体(15)の合
成
成
【化29】 室温下、実施例6で得られたα,β−不飽ラクトン体
(14)の粗物をメタノール(4.0mL)に溶解し、
炭酸カリウム(269mg、1.95mmol)を加え
た。反応液をそのまま90分間撹拌した後、反応液に水
を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネ
シウム上で乾燥した後、減圧下濃縮し、その粗物をその
ままDMF(4.0mL)に溶解し、室温下、ヨウ化エ
チル(94μL、1.17mmol)と炭酸カリウム
(269mg、1.95mmol)を加えた。反応液を
そのまま3時間撹拌した後、反応液に水を加えて、エー
テルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥し
た後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、無色の油状物としてケトエ
ステル体(15)を得た。(151mg、87%:ラク
トン体からの収率) [α]D 28=-61.45 (c 1.1, CHCl3)1 H NMR δ5.67(d,J=1.5Hz,1H), 4.82(dd,J=11.1and5.7H
z,1H), 4.28(dddd,J=3.0,3.0,3.0and3.0Hz,1H), 4.21-
4.10(m,2H), 2.62(ddd,J=13.8,2.7and2.7Hz,1H), 2.54
(ddd,J=13.8,2.7and2.7Hz,1H), 2.34-2.24(m,1H), 1.95
(ddd,J=13.5,11.1and2.4Hz,1H), 1.23(t,J=7.2Hz,3H),
0.91(s,9H), 0.87(s,9H), 0.16(s,3H), 0.10(s,3H), 0.
08(s,3H), 0.07(s,3H)13 C NMR δ203.0, 164.6, 151.7, 121.6, 74.5, 66.1,
60.6, 45.2, 44.5, 25.7, 25.5, 18.3, 17.8, 13.9, -
4.8, -5.0, -5.1, -5.8 IR(neat) 2953, 2857, 1723, 1654, 1255, 1146, 1084,
835, 777 cm-1
(14)の粗物をメタノール(4.0mL)に溶解し、
炭酸カリウム(269mg、1.95mmol)を加え
た。反応液をそのまま90分間撹拌した後、反応液に水
を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネ
シウム上で乾燥した後、減圧下濃縮し、その粗物をその
ままDMF(4.0mL)に溶解し、室温下、ヨウ化エ
チル(94μL、1.17mmol)と炭酸カリウム
(269mg、1.95mmol)を加えた。反応液を
そのまま3時間撹拌した後、反応液に水を加えて、エー
テルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥し
た後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製し、無色の油状物としてケトエ
ステル体(15)を得た。(151mg、87%:ラク
トン体からの収率) [α]D 28=-61.45 (c 1.1, CHCl3)1 H NMR δ5.67(d,J=1.5Hz,1H), 4.82(dd,J=11.1and5.7H
z,1H), 4.28(dddd,J=3.0,3.0,3.0and3.0Hz,1H), 4.21-
4.10(m,2H), 2.62(ddd,J=13.8,2.7and2.7Hz,1H), 2.54
(ddd,J=13.8,2.7and2.7Hz,1H), 2.34-2.24(m,1H), 1.95
(ddd,J=13.5,11.1and2.4Hz,1H), 1.23(t,J=7.2Hz,3H),
0.91(s,9H), 0.87(s,9H), 0.16(s,3H), 0.10(s,3H), 0.
08(s,3H), 0.07(s,3H)13 C NMR δ203.0, 164.6, 151.7, 121.6, 74.5, 66.1,
60.6, 45.2, 44.5, 25.7, 25.5, 18.3, 17.8, 13.9, -
4.8, -5.0, -5.1, -5.8 IR(neat) 2953, 2857, 1723, 1654, 1255, 1146, 1084,
835, 777 cm-1
【0088】実施例8. 光学活性α,β−不飽和エス
テル(E体)(16)の合成
テル(E体)(16)の合成
【化30】 ケトエステル体(15)(88mg、0.2mmol)
とピリジン(1.0μL)のTHF(1.0mL)溶液
に、0℃でTebbe試薬(0.5M/トルエン、0.
48mL、0.24mmol)を10分間かけて滴下し
た。反応液を室温下15分間撹拌した後、反応液に0.
5M水酸化ナトリウム水溶液(1.0mL)を加えて、
更に室温下1時間撹拌した。反応懸濁液をセライトで濾
過した後、酢酸エチルで洗った。濾液を減圧下濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
して、無色の油状物として光学活性α,β−不飽和エス
テル(Z体)(16)を得た。(42mg、48%) [α]D 24=-35.9 (c 0.14, C2H5OH)1 H NMR δ5.62(br s,1H), 5.19(br s,1H), 5.01(br s,1
H), 4.53(dd,J=8.4and4.5Hz,1H), 4.23(dddd,J=6.0,6.
0,3.0and3.0Hz,1H), 4.17-4.05(m,2H), 2.41(brd,J=12.
6Hz,1H), 2.25(dd,J=13.2and5.4Hz,1H), 1.98-1.88(m,1
H), 1.81-1.70(m,1H), 1.23(t,J=7.2Hz,3H), 0.90(s,9
H), 0.87(s,9H), 0.08(s,6H), 0.05(s,6H)13 C NMR δ166.2, 153.1, 147.5, 117.7, 110.7, 70.9,
67.4, 59.7, 46.1, 44.6, 25.7, 25.6, 18.1, 17.9, 1
4.0, -4.9, -5.0, -5.4 IR(neat) 2926, 2855, 1731, 1638, 1463, 1255, 1095,
835, 776 cm-1
とピリジン(1.0μL)のTHF(1.0mL)溶液
に、0℃でTebbe試薬(0.5M/トルエン、0.
48mL、0.24mmol)を10分間かけて滴下し
た。反応液を室温下15分間撹拌した後、反応液に0.
5M水酸化ナトリウム水溶液(1.0mL)を加えて、
更に室温下1時間撹拌した。反応懸濁液をセライトで濾
過した後、酢酸エチルで洗った。濾液を減圧下濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
して、無色の油状物として光学活性α,β−不飽和エス
テル(Z体)(16)を得た。(42mg、48%) [α]D 24=-35.9 (c 0.14, C2H5OH)1 H NMR δ5.62(br s,1H), 5.19(br s,1H), 5.01(br s,1
H), 4.53(dd,J=8.4and4.5Hz,1H), 4.23(dddd,J=6.0,6.
0,3.0and3.0Hz,1H), 4.17-4.05(m,2H), 2.41(brd,J=12.
6Hz,1H), 2.25(dd,J=13.2and5.4Hz,1H), 1.98-1.88(m,1
H), 1.81-1.70(m,1H), 1.23(t,J=7.2Hz,3H), 0.90(s,9
H), 0.87(s,9H), 0.08(s,6H), 0.05(s,6H)13 C NMR δ166.2, 153.1, 147.5, 117.7, 110.7, 70.9,
67.4, 59.7, 46.1, 44.6, 25.7, 25.6, 18.1, 17.9, 1
4.0, -4.9, -5.0, -5.4 IR(neat) 2926, 2855, 1731, 1638, 1463, 1255, 1095,
835, 776 cm-1
Claims (7)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 〔式中、R1は、C1-6アルキル基を表す。X及びYは、それ
ぞれ独立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学
活性ジシロキシシクロヘキサノン化合物。 - 【請求項2】 式(II) 【化2】 〔式中、R1は、C1-6アルキル基を表す。X及びYは、それ
ぞれ独立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学
活性ジシロキシジオール体を酸化することを特徴とす
る、式(I)で示される光学活性ジシロキシシクロヘキ
サノン化合物の製造法。 - 【請求項3】 式(III) 【化3】 〔式中、R1は、C1-6アルキル基を表す。R2は、水素原
子、C2-5アルカノイル基を表す。X及びYは、それぞれ独
立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学活性ジ
シロキシメチレンシクロヘキサン化合物。 - 【請求項4】 式(I)で示される光学活性ジシロキシ
シクロヘキサノン化合物を、ケトンのメチレン化するこ
とを特徴とする、式(III)で示される光学活性ジシロ
キシメチレンシクロヘキサン化合物の製造法。 - 【請求項5】 式(I)で示される光学活性ジシロキシ
シクロヘキサノン化合物を、ケトンのメチレン化、次い
で、ヒドロキシル基のアルカノイル化することを特徴と
する、式(III)で示される光学活性ジシロキシメチレ
ンシクロヘキサン化合物の製造法。 - 【請求項6】 式(III)で示される光学活性ジシロキ
シシメチレンクロヘキサン化合物を、塩基で処理するこ
とを特徴とする、式(IV) 【化4】 〔式中、R1は、C1-6アルキル基を表す。X及びYは、それ
ぞれ独立して置換シリル基を表す。〕で表わされる光学
活性α,β−不飽和エステル化合物(E体)の製造法。 - 【請求項7】 式(I)で示される光学活性ジシロキシ
シクロヘキサノン化合物を、アルカノイル化して、式
(V) 【化5】 〔式中、R3は、C2-5アルカノイル基を表す。X及びYは、
それぞれ独立して置換シリル基を表す。〕で表わされる
ラクトン体とし、次いで塩基で処理して、式(VI) 【化6】 〔式中、R3、X及びYは前記に同じ。〕で表わされる
α,β−不飽和ラクトン体とし、更に加水分解及びエス
テル化して、式(VII) 【化7】 〔式中、R4は、C1-6アルキル基を表す。X及びYは前記に
同じ。〕で表わされるケトエステル体とし、ケトンをメ
チレン化することを特徴とする、式(VIII) 【化8】 〔式中、R4、X及びYは前記に同じ。〕で表わされる光学
活性α,β−不飽和エステル化合物(Z体)の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000123603A JP2001302677A (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | シロキシシクロヘキサン誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000123603A JP2001302677A (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | シロキシシクロヘキサン誘導体及びその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001302677A true JP2001302677A (ja) | 2001-10-31 |
Family
ID=18633880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000123603A Pending JP2001302677A (ja) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | シロキシシクロヘキサン誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001302677A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113620913A (zh) * | 2021-07-26 | 2021-11-09 | 安徽华业香料股份有限公司 | 一种γ-壬烯内酯的合成方法 |
-
2000
- 2000-04-25 JP JP2000123603A patent/JP2001302677A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113620913A (zh) * | 2021-07-26 | 2021-11-09 | 安徽华业香料股份有限公司 | 一种γ-壬烯内酯的合成方法 |
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