JP2001298174A - 撮像装置 - Google Patents

撮像装置

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JP2001298174A
JP2001298174A JP2000110718A JP2000110718A JP2001298174A JP 2001298174 A JP2001298174 A JP 2001298174A JP 2000110718 A JP2000110718 A JP 2000110718A JP 2000110718 A JP2000110718 A JP 2000110718A JP 2001298174 A JP2001298174 A JP 2001298174A
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imaging
image pickup
diode
static electricity
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JP2000110718A
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Shigeru Morikawa
茂 森川
Makoto Sasaki
誠 佐々木
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Casio Computer Co Ltd
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Casio Computer Co Ltd
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  • Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 撮像対象物の静電気を除去すると共に、撮像
対象物が所定の撮像位置に配置されたことを検出する。 【解決手段】 撮像装置は、光源11と、フォトセンサ
デバイス12と、導電層13と、検出回路14と、から
構成されている。フォトセンサデバイス12は、光源1
1から出射し撮像対象物によって反射された反射光を用
いて撮像対象物を撮像する。導電層13は、フォトセン
サデバイス12上に形成され、1本のスリット13cに
より離間される2枚の電極13a,13bから構成され
ている。検出回路14は、電極13a,13bの一方を
接地することにより撮像対象物の静電気を除去し、他方
に所定の電気信号を供給することにより、撮像対象物が
導電層13に接触したことを検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、撮像装置に関し、
特に、撮像対象物の静電気を除去する機能を備える撮像
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】撮像装置を構成するフォトセンサデバイ
スは、静電気により破壊されやすい。このため、撮像対
象物として指紋等を撮像する撮像装置は、指(人体)に
蓄えられた静電気を除去するための導電層を備えてい
る。具体的には、上記撮像装置は、図11に示すよう
に、光源101と、フォトセンサデバイス102と、か
ら構成されている。
【0003】光源101は、指紋等を撮像するための光
を発光する。フォトセンサデバイス102は、光源10
1上に設けられ、複数のフォトセンサ素子から構成され
ている。フォトセンサデバイス102は、光源101か
ら出射して指等によって反射された光を各フォトセンサ
素子により検出し、その検出光量の違いから指紋等を撮
像する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】指がフォトセンサデバ
イス102に接触することにより、指に帯電した静電気
がフォトセンサデバイス102を破壊する恐れがある
が、これを防止するものとして指とフォトセンサデバイ
ス102との間に、図12に示すように、互いに離間し
た櫛歯状の複雑で細かいパターンの導電層103、10
3が設けられるものがある。導電層103は、指に光源
101からの照射光を伝搬し且つ指からの反射光をフォ
トセンサデバイス102に伝搬する必要があるためIT
Oのような透明導電材料を適用するが、このような材料
は一般に比抵抗が高い。このため、導電層103のシー
ト抵抗を低くするため導電層103を厚く成膜すると光
源101からの光の透過率が低減してしまうため、その
厚さを制限しなければならなかった。したがって櫛歯形
状のような導電層103のシート抵抗値は大きくなって
しまい、結果として、指(人体)に蓄えられている静電
気を効率よく除去することができず、フォトセンサデバ
イスが静電気によって破壊されてしまう場合がある。こ
のような撮像装置の動作信頼性は低い。
【0005】従って、本発明の第1の観点は、撮像対象
物に蓄積された静電気を効率よく除去して動作信頼性を
向上すると共に、撮像対象物が所定の撮像位置に配置さ
れたことを検出する機能を有する撮像装置を提供するこ
とを目的とする。また、本発明の第2の観点は、動作信
頼性の高い撮像装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第1の観点にかかる撮像装置は、撮像対象
物を撮像する撮像手段と、前記撮像手段上に形成され、
1本のスリットにより離間される2枚の電極から構成さ
れ、撮像対象物が載置される導電層と、撮像対象物に蓄
えられている静電気を前記導電層を介して除去する静電
気除去手段と、を有する撮像部と、前記導電層に所定の
電気信号を供給することにより、撮像対象物が前記撮像
部に接触したことを検出する検出手段と、から構成さ
れ、前記2枚の前記電極の面内における前記スリットの
長手方向に垂直な方向では、2枚の前記電極が互いに離
間している箇所は1箇所のみであることを特徴とする。
【0007】この発明によれば、2枚の前記電極の面内
におけるスリットの長手方向に垂直な方向では、2枚の
前記電極が互いに離間している箇所は1箇所のみであ
り、言い換えると、導電層は単純な幾何学形状を有す
る。これにより、導電層のシート抵抗値を小さく設定す
ることができ、撮像対象物に蓄積された静電気を効率よ
く除去することができる。また、撮像対象物が導電層に
接触したこと、即ち、撮像対象物が所定の撮像位置に配
置されたことを検出することができる。
【0008】前記静電気除去手段は、逆並列に接続され
た1対のダイオードから構成されたダイオード回路を備
え、該ダイオード回路及び前記導電層を介して静電気を
除去してもよい。
【0009】前記静電気除去手段は、複数のダイオード
が直列に接続された第1ダイオード列と該第1ダイオー
ド列と同一数のダイオードが直列に接続された第2ダイ
オード列とが逆並列に接続されたダイオード回路を備
え、該ダイオード回路及び前記導電層を介して静電気を
除去すると共に、直列に接続された複数の前記ダイオー
ドと接地点との接続を切り替えることにより、前記導電
層と接地点との間に存在するダイオードの数を、前記第
1ダイオード列と前記第2ダイオード列とで同一となる
ように変化させてもよい。
【0010】本発明の第1の観点にかかる他の撮像装置
は、撮像対象物を撮像する撮像手段と、前記撮像手段上
に形成され、撮像対象物を撮像するセンサエリアを覆う
導電層と、撮像対象物に蓄えられている静電気を前記導
電層を介して除去する静電気除去手段と、を有する撮像
部と、前記導電層に所定の電気信号を供給することによ
り、撮像対象物が前記撮像部に接触したことを検出する
検出手段と、から構成されていることを特徴とする。
【0011】前記導電層は、前記センサエリアに設けら
れた第1電極と、撮像対象物が前記撮像部に載置された
際、撮像対象物が覆う位置に、該第1電極から所定間隔
を隔てて配置された第2電極と、から構成されていても
よい。
【0012】前記導電層は、前記センサエリアを覆う1
枚の電極から構成され、前記検出手段は、前記導電層に
所定の電気信号を供給して、撮像対象物が前記撮像部に
接触することにより生じるインピーダンス変化を検出し
てもよい。
【0013】前記静電気除去手段は、逆並列に接続され
た1対のダイオードから構成されたダイオード回路を備
え、撮像対象物に蓄えられている静電気を前記導電層及
び該ダイオード回路を介して除去してもよい
【0014】前記静電気除去手段は、複数のダイオード
が直列に接続された第1ダイオード列と該第1ダイオー
ド列と同一数のダイオードが直列に接続された第2ダイ
オード列とが逆並列に接続されたダイオード回路を備
え、該ダイオード回路及び前記導電層を介して静電気を
除去すると共に、直列に接続された複数の前記ダイオー
ドと接地点との接続を切り替えることにより、前記導電
層と接地点との間に存在するダイオードの数を、前記第
1ダイオード列と前記第2ダイオード列とで同一となる
ように変化させてもよい。
【0015】本発明の第2の観点にかかる撮像装置は、
所定の撮像位置に配置される撮像対象物を撮像する撮像
手段と、1以上のダイオードが直列に接続された第1ダ
イオード列と該第1ダイオード列と同一数のダイオード
が直列に接続された第2ダイオード列とが逆並列に接続
されることにより構成され、前記撮像対象物に蓄えられ
ている静電気を前記ダイオード回路を介して放出するダ
イオード回路と、から構成されることを特徴とする。
【0016】前記第1ダイオード列及び前記第2ダイオ
ード列は、直列に接続された複数のダイオードから構成
され、前記第1ダイオード列及び前記第2ダイオード列
のダイオードと接地点との接続を切り替えることによ
り、前記撮像対象物と接地点との間に存在するダイオー
ドの数を、前記第1ダイオード列と前記第2ダイオード
列とで同一となるように変化させるスイッチング手段を
さらに備えてもよい。
【0017】
【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)次に、本発
明の第1の実施の形態にかかる撮像装置について図面を
参照して説明する。図1〜図3は、第1の実施の形態に
かかる撮像装置の構成及び作用を示す図である。撮像装
置は、図1及び図3に示すように、光源11と、フォト
センサデバイス12と、導電層13と、ボトムゲートド
ライバ16と、トップゲートドライバ17と、ドレイン
ドライバ18と、からなる撮像部と、検出回路14と、
から構成され、指紋を撮像する。
【0018】光源11は、検出回路14から撮像開始信
号を供給されることにより、指紋を撮像するための光を
放出する。フォトセンサデバイス12は、指紋を撮像す
る領域(センサエリア)にマトリックス状に配置された
複数のフォトセンサ素子12aから構成され、光源11
上に設けられている。フォトセンサデバイス12は、検
出回路14から供給される撮像開始信号に応答して動作
し、指紋を撮像する。
【0019】図2及び図3に示すように、フォトセンサ
素子12aは、例えば、n行×m列のマトリクス状に配
列した薄膜トランジスタで構成され、行方向に配列した
各フォトセンサ素子12aのトップゲート電極31及び
ボトムゲート電極32は、それぞれトップゲートライン
41及びボトムゲートライン42に接続され、各トップ
ゲートライン41及び各ボトムゲートライン42はトッ
プゲートドライバ17及びボトムゲートドライバ16に
それぞれ接続され、列方向に配列された各フォトセンサ
素子12aのドレイン電極33はドレインライン43に
接続され、列方向に配列された各フォトセンサ素子12
aのソース電極34は接地されたソースライン44に接
続されている。
【0020】ダブルゲートトランジスタからなるフォト
センサ素子12aは、図3に示すように、可視光が入射
されると電子−正孔対が生成されるアモルファスシリコ
ン等の半導体層51と、半導体層51の両端にそれぞれ
設けられたnシリコン層52、53と、nシリコン
層52、53上に形成されたクロム、クロム合金、アル
ミ、アルミ合金等の可視光に対し不透明のソース電極3
4及びドレイン電極33と、半導体層51の上方(図面
上方)に配置されたブロック絶縁膜54及びトップゲー
ト絶縁膜55と、トップゲート絶縁膜55上に形成され
たITO(Indium-Tin-Oxide:インジウム−スズ酸化
物)からなる可視光に対し透過性を示すトップゲート電
極31と、半導体層51の下方に配置されたボトムゲー
ト絶縁膜56と、ボトムゲート絶縁膜56の下方に形成
されたクロム、クロム合金、アルミ、アルミ合金等の可
視光に対し不透明なボトムゲート電極32と、を有し、
基板35上に構成されている。
【0021】また、各フォトセンサ素子12aのトップ
ゲート電極31上及びトップゲート絶縁膜55上にわた
って窒化シリコンからなる層間絶縁膜57が形成され、
層間絶縁膜57上には、導電層13が形成されている。
なお、トップゲートライン41はトップゲート電極31
とともにITOで形成され、ボトムゲートライン42、
ドレインライン43並びにソースライン44はそれぞれ
ボトムゲート電極32、ドレイン電極33、ソース電極
34と同一の材料で且つ一体的に形成されている。
【0022】導電層13は、ITO(Indium Tin Oxid
e)等から形成された光学的に透明な電極であり、指
(人体)の静電気を除去するためにフォトセンサデバイ
ス12上に形成されている。具体的には、導電層13
は、図1に示すように、センサエリアの中央付近を通る
スリット13cによって離間された、長方形の2枚の電
極(電極13a及び電極13b)から構成されている。
なお、スリット13cは、図1に示すように、フォトセ
ンサ素子12a間を通るように配置され、その幅は電極
13aと電極13bとの間にコンタミネーション等によ
るリーク電流が流れないように設定されている。これに
より、全てのフォトセンサ素子12aは電極13a又は
電極13bによって覆われ、斑のない均一な像を得るこ
とができる。また、2枚の電極13a、13bの面内に
おけるスリット13cの長手方向に垂直な方向では、2
枚の電極13a、13bが互いに離間している箇所は1
箇所のみであるので、導電層13は櫛歯状に比べて非常
に単純な幾何学形状を有するため、導電層13のシート
抵抗値を低く設定することができる。これにより、静電
気を効率よく除去することができ、フォトセンサデバイ
ス12が静電気によって破壊されてしまうことを防止で
きる。
【0023】検出回路14は、導電層13に接続され、
指の静電気を放出すると共に、指が導電層13に接触し
たこと、即ち、指が所定の撮像位置に配置されたことを
検出する。具体的には、検出回路14は、配線L1によ
り電極13aに接続され、配線L2により電極13bに
接続される。検出回路14は、配線L2を接地すること
により電極13bを接地し、上記静電気を電極13b及
び配線L2を介してグランドに放出する。また、検出回
路14は、指が導電層13に接触したことを検出するた
めの検出用信号を、配線L1を介して電極13aに供給
する。指が図1に示すように配置されると、電極13a
と電極13bとが指を介して電気的に接続され、電極1
3aと電極13bとの間の抵抗値や容量値等が変化す
る。検出回路14は、電極13aと電極13bとの間に
増大した人体特有の抵抗値又は容量値等によるインピー
ダンスの変化を、配線L1及び配線L2から検出し、人
の指が導電層13に接触したことを検出する。検出回路
14は、指が所定の撮像位置に配置されたことを検出し
た後、指紋の撮像開始を指示する撮像開始信号を光源1
1及びフォトセンサデバイス12に出力する。
【0024】以上のように構成された撮像装置を用いて
指紋を撮像する場合、検出回路14は、配線L1に上記
検出用交流信号を供給する。そして、指が、図1及び図
3に示すように、スリット13cを跨ぐように導電層1
3上に載置される。指が導電層13に接触すると、電極
13aと電極13bとが指を介して電気的に接続され
る。この際、指に静電気が蓄えられていると、その静電
気は電極13b及び配線L2を介してグランドに放出さ
れる。そして、検出回路14が供給する検出用信号は、
電極13aから指を介して人体により変位され電極13
bに流れ、配線L2へと流れる。
【0025】検出回路14は、電極13aと電極13b
との間の指を含む人体による抵抗値変化又は容量値に応
じたインピーダンス変化を、例えば配線L1から配線L
2に流れる上記検出用信号のレベル変化等から検出し、
指が導電層13に接触したことを検出する。そして、検
出回路14は、上記撮像開始信号を光源11及びフォト
センサデバイス12に出力する。光源11は、検出回路
14から撮像開始信号を供給されることにより、光を放
出する。また、フォトセンサデバイス12は、検出回路
14からの撮像開始信号に応答して、図3に示すように
指紋を定義づける指の凹凸のうち導電層13に接触する
凸では、導電層13との界面近傍で光源11からの光が
乱反射し、この反射された光を各フォトセンサ素子12
aにより検出し、その検出光量の違いから指紋を撮像す
る。
【0026】以上のように、導電層13を単純な幾何学
形状を有し、かつセンサ領域全体に拡がる電極13a,
13bから構成することにより、導電層13の抵抗値を
小さく設定することができる。これにより、フォトセン
サデバイス12を指(人体)の静電気から十分保護する
ことができるため、上記撮像装置は高い動作信頼性を有
する。また、スリット13cによって離間された2枚の
電極13a,13bから構成された導電層13を用いる
ことにより、指が所定の撮像位置に配置されたことを検
出することができる。
【0027】(第2の実施の形態)次に、第2の実施の
形態にかかる撮像装置について図面を参照して説明す
る。第2の実施の形態にかかる撮像装置は、光源11
と、フォトセンサデバイス12と、導電層13と、検出
回路14と、ダイオード回路15と、ボトムゲートドラ
イバ16と、トップゲートドライバ17と、ドレインド
ライバ18と、から構成されている。光源11、フォト
センサデバイス12、導電層13、検出回路14、ボト
ムゲートドライバ16、トップゲートドライバ17、及
び、ドレインドライバ18は、第1の実施の形態と実質
的に同一である。
【0028】ダイオード回路15は、図4に示すよう
に、2つ設けられ、逆並列に接続された1対のダイオー
ドから構成されている。また、ダイオード回路15の一
端は配線L1又は配線L2に接続され、他端は接地され
ている。以上のように構成されたダイオード回路15
は、図5に示すような特性を有する。具体的には、ダイ
オード回路15は、その両端に印加される電圧Vaの大
きさがしきい値電圧Vc(約0.6(V))よりも小さ
い場合、ほとんど電流を流さない。即ち、電圧Vaがし
きい値電圧Vcよりも小さい場合、ダイオード回路15
の抵抗値は大きい。一方、電圧Vaの大きさがしきい値
電圧Vcよりも大きい場合、ダイオード回路15は電流
を流す。即ち、電圧Vaがしきい値電圧Vcよりも大き
い場合、ダイオード回路15の抵抗値は小さい。
【0029】例えば、静電気を蓄えた指が導電層13に
接触した場合、ダイオード回路15の両端には高い電圧
(最大約10(kV))が印加される。この際、上記ダ
イオード回路15の特性により、静電気は検出回路14
へは流れずダイオード回路15を介してグランドに放出
される。これにより、静電気が検出回路14に流れ込
み、検出回路14が静電気によって破壊されてしまうこ
とを防止することができる。一方、指に静電気が蓄えら
れていない場合、又は、静電気が放出されてしまった場
合、ダイオード回路15の両端に印加される電圧は小さ
く、ダイオード回路15にはほとんど電流が流れない。
これにより、検出回路14は、第1の実施の形態と同様
にして、インピーダンス変化を読み取って指が導電層1
3に接触したことを検出することができる。
【0030】以上のように構成された撮像装置を用いて
指紋を撮像する場合、第1の実施の形態と同様に、検出
回路14は、配線L1に検出用信号を供給する。指が導
電層13に接触すると、電極13aと電極13bとが指
を介して電気的に接続される。この際、指に静電気が蓄
えられていると、その静電気は導電層13、配線L1,
L2、及び、ダイオード回路15を介してグランドに放
出される。そして、検出回路14が配線L1に供給する
検出用信号は、電極13aから指を介して電極13bに
流れ、配線L2へと流れる。
【0031】検出回路14は、第1の実施の形態と同様
に、電極13aと電極13bとの間の抵抗値変化又は容
量値変化に応じたインピーダンス変化を、例えば配線L
1から配線L2に流れた上記検出用信号のレベル変化等
から検出し、指が導電層13に接触したことを検出す
る。そして、検出回路14は、上記撮像開始信号を光源
11及びフォトセンサデバイス12に出力する。光源1
1は、検出回路14から撮像開始信号を供給されること
により、光を放出する。また、フォトセンサデバイス1
2は、検出回路14からの撮像開始信号に応答して、指
によって反射された光を各フォトセンサ素子により検出
し、その検出光量の違いから指紋を撮像する。
【0032】以上のように、導電層13と検出回路14
との間にダイオード回路15を設けることにより、静電
気が検出回路14に流れ込むことを防止できるため、検
出回路14が静電気によって破壊されてしまうことを防
止できる。これにより、上記撮像装置は、第1の実施の
形態で示した撮像装置よりも高い動作信頼性を有する。
また、第1の実施の形態と同様に、導電層13を単純な
幾何学形状を有する電極13a,13bから構成するこ
とにより、導電層13の抵抗値を小さく設定することが
できる。これにより、フォトセンサデバイス12を指
(人体)の静電気から保護することができるため、上記
撮像装置は高い動作信頼性を有する。また、スリット1
3cによって離間された2枚の電極13a,13bから
構成された導電層13を用いることにより、指が所定の
撮像位置に配置されたことを検出することができる。
【0033】(第3の実施の形態)次に、本発明の第3
の実施の形態にかかる撮像装置について図面を参照して
説明する。第3の実施の形態にかかる撮像装置は、光源
11と、フォトセンサデバイス12と、導電層13と、
検出回路14と、ダイオード回路15と、ボトムゲート
ドライバ16と、トップゲートドライバ17と、ドレイ
ンドライバ18と、から構成されている。光源11、フ
ォトセンサデバイス12、ダイオード回路15、ボトム
ゲートドライバ16、トップゲートドライバ17、及
び、ドレインドライバ18は、第2の実施の形態と実質
的に同一である。
【0034】導電層13は、ITO等から形成され、図
6に示すように、センサエリアの全面を覆うようにフォ
トセンサデバイス12上に形成された1枚の透明電極で
あるので導電層13を厚く成膜しなくても櫛歯形状に比
べ低いシート抵抗に設定することが可能である。検出回
路14は、図6に示すように、配線L3によって導電層
13に接続され、指が導電層13に接触したこと、即
ち、指が所定の撮像位置に配置されたことを検出する。
ダイオード回路15の一端は配線L3に接続され、他端
は接地されているため、第2の実施の形態と同様に、検
出回路14が静電気によって破壊されてしまうことを防
止することができる。
【0035】第3の実施の形態では、検出回路14は、
指が導電層13に接触したことを検出するために、所定
周波数、0.6(V)以下の交流信号を配線L3を介し
て導電層13に印加する。指が導電層13に接触してい
ない状態の上記撮像装置は、図7(a)に示す等価回路
で表され、検出回路14に対する導電層13の入力イン
ピーダンスは大きい。一方、指が導電層13に接触して
いる状態の上記撮像装置は、図7(b)に示す等価回路
で表され、人体が有する容量及び抵抗により、検出回路
14に対する導電層13の入力インピーダンスは小さく
なる。なお、図7(b)中の抵抗rは、指と導電層13
との接触抵抗を示している。
【0036】以上のことを利用して、検出回路14は、
例えば印加する交流信号のレベルと配線L3に流れる電
流との位相差等から上記入力インピーダンスの変化を検
出し、指が導電層13に接触したことを検出する。人体
の抵抗値は、周りの環境、体質、体調等によって変化す
るが、入力インピーダンスの変化はこれらの影響を受け
にくいため、第1及び第2の実施の形態よりも確実に安
定して指が導電層13に接触したことを検出できる。以
上のように構成された撮像装置を用いて指紋を撮像する
場合、検出回路14は、配線L3に上記交流信号を供給
する。
【0037】そして、指が導電層13上に載置される。
この際、指に静電気が蓄えられていると、第2の実施の
形態と同様に、静電気はダイオード回路15を介してグ
ランドに放出される。指が導電層13に接触すると、上
記したように、検出回路14に対する導電層13の入力
インピーダンスが小さくなる。検出回路14は、この入
力インピーダンス変化を、例えば印加する交流信号のレ
ベルと配線L3に流れる電流との位相差等から検出し、
指が所定の撮像位置に配置されたことを検出する。そし
て、検出回路14は、撮像開始信号を光源11及びフォ
トセンサデバイス12に出力する。
【0038】光源11は、検出回路14から撮像開始信
号を供給されることにより、光を放出する。また、フォ
トセンサデバイス12は、検出回路14からの撮像開始
信号に応答して、指によって反射された光を各フォトセ
ンサ素子により検出し、その検出光量の違いから指紋を
撮像する。以上のように、入力インピーダンスの変化を
利用することにより、指が導電層13に接触したことを
確実に安定して検出することができる。また、導電層1
3をセンサエリア全面を覆う1枚の電極から構成するこ
とにより、導電層13の抵抗値を第1及び第2の実施の
形態よりも小さく設定することができる。これにより、
フォトセンサデバイス12を人体の静電気から確実に保
護することができる。
【0039】なお、第1乃至第3の実施の形態で示した
導電層13の形状は上記したものに限らず、導電層13
の抵抗値を小さく設定でき、導電層13に接触する指の
検出に使用できるのであれば、例えば、円、楕円、三角
形等でもよい。また、第1及び第2の実施の形態におい
て、図8(a)に示すように、スリット13cがカーブ
していてもよい。又は、図8(b)に示すように、電極
13aをセンサエリアの全面を覆うように形成し、電極
13bを指がフォトセンサデバイス12上に載置された
際に必ず触れる位置に形成してもよい。そして、検出回
路14は電極13aを接地し、電極13bに検出用信号
を供給する。このようにすると、電極13aの抵抗値を
第1及び第2の実施の形態で示した導電層13よりも小
さく設定することができ、指(人体)の静電気をより効
率よく除去することができる。また、図8(b)に示す
ようにすると、電極13aと電極13bとの間から露出
されるフォトセンサデバイス12の面積を第1及び第2
の実施の形態よりも小さくできるので、フォトセンサデ
バイス12に与えられる静電気の影響を第1及び第2の
実施の形態よりも小さく抑えることができる。
【0040】また、第2及び第3の実施の形態で示した
ダイオード回路15を、例えば図9に示すように、複数
のダイオードが直列に接続された2つのダイオード列
を、逆並列に接続して構成してもよい。さらに、直列に
接続されるダイオードの数を変化させるスイッチング回
路等を設けて、導電層13(配線L1,L2,L3)と
接地点との間に存在するダイオードの数を変化させても
よい。但し、図9に示すように、導電層13と接地点と
の間に存在するダイオードの数が2つのダイオード列で
同一となるように変化させる。ダイオード1個が有する
上記しきい値電圧Vcを約0.6(V)とすると、n個
のダイオードを直列に接続するとしきい値電圧は、約
0.6×n(V)となる。これを利用すると、直列に接
続するダイオードの数を変化させることにより、検出回
路14に電流を供給するか否かの基準となる上記しきい
値電圧の大きさを変化させることができる。
【0041】また、第1及び第2の実施の形態で示した
撮像装置は、人体のように導電性を有し、表面の形状や
模様等によって光の反射率が異なる物体であれば、何に
でも適用することができる。ところで上記各実施形態で
は、指を直接導電層13上に載置して撮像したが、図1
0のように撮像部において、導電層13上に窒化シリコ
ンからなる絶縁膜58を設け、指を絶縁膜58に接触し
て撮像してもよい。この場合、図7(a)、(b)に示
した導電層13と指との間に絶縁膜58の抵抗と容量が
存在する。上記各実施形態では、フォトセンサ素子12
aがダブルゲート構造の薄膜トランジスタであったが、
これに限らず、その他のCCDを用いてもよい。この場
合、光源はそのCCDに応じて配置されればよい。
【0042】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によって、動作信頼性の高い撮像装置を提供することが
できる。また、本発明により、撮像対象物に蓄積された
静電気を効率よく除去すると共に、撮像対象物が所定の
撮像位置に配置されたことを検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態にかかる撮像装置の構成図で
ある。
【図2】第1の実施の形態にかかる撮像装置の回路図で
ある。
【図3】第1の実施の形態にかかる撮像装置の作用を示
す断面図である。
【図4】第2の実施の形態にかかる撮像装置の構成図で
ある。
【図5】図4に示した撮像装置を構成するダイオード回
路の電圧−電流特性図である。
【図6】第3の実施の形態にかかる撮像装置の構成図で
ある。
【図7】図6に示した撮像装置の等価回路を示す図であ
る。
【図8】図1及び図4に示した電極の他の形状を示す図
である。
【図9】第2及び第3の実施の形態にかかる撮像装置を
構成するダイオード回路の他の構成図である。
【図10】第1〜第3の実施の形態にかかる撮像装置の
変形例を示す断面図である。
【図11】従来の撮像装置の構成図である。
【図12】従来の静電対策のための導電層を有する撮像
装置の平面図である。
【符号の説明】
11・・・光源、12・・・フォトセンサデバイス、13・・・
導電層、13a・・・電極、13b・・・電極、14・・・検出
回路、15・・・ダイオード回路、16・・・ボトムゲートド
ライバ、17・・・トップゲートドライバ、18・・・ドレイ
ンドライバ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 5/335 H01L 27/14 C A61B 5/10 322 Fターム(参考) 4C038 FF01 FF06 FG01 4M118 AA08 AA10 AB01 BA05 BA10 CA11 CB06 DA11 FB03 FB09 FB13 FB23 FB30 GA03 GA08 GB05 GB11 HA40 5B047 AA25 BB04 BC01 CB11 5C024 AX02 BX00 CX00 EX23 GX04 GX24 GY31 GZ02

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】撮像対象物を撮像する撮像手段と、前記撮
    像手段上に形成され、1本のスリットにより離間される
    2枚の電極から構成され、撮像対象物が載置される導電
    層と、撮像対象物に蓄えられている静電気を前記導電層
    を介して除去する静電気除去手段と、を有する撮像部
    と、 前記導電層に所定の電気信号を供給することにより、撮
    像対象物が前記撮像部に接触したことを検出する検出手
    段と、から構成され、 前記2枚の前記電極の面内における前記スリットの長手
    方向に垂直な方向では、2枚の前記電極が互いに離間し
    ている箇所は1箇所のみである、 ことを特徴とする撮像装置。
  2. 【請求項2】撮像対象物を撮像する撮像手段と、前記撮
    像手段上に形成され、撮像対象物を撮像するセンサエリ
    アを覆う導電層と、撮像対象物に蓄えられている静電気
    を前記導電層を介して除去する静電気除去手段と、を有
    する撮像部と、 前記導電層に所定の電気信号を供給することにより、撮
    像対象物が前記撮像部に接触したことを検出する検出手
    段と、 から構成されていることを特徴とする撮像装置。
  3. 【請求項3】前記導電層は、 前記センサエリアに設けられた第1電極と、 撮像対象物が前記撮像部に載置された際、撮像対象物が
    覆う位置に、該第1電極から所定間隔を隔てて配置され
    た第2電極と、 から構成されていることを特徴とする請求項2に記載の
    撮像装置。
  4. 【請求項4】前記導電層は、前記センサエリアを覆う1
    枚の電極から構成され、 前記検出手段は、前記導電層に所定の電気信号を供給し
    て、撮像対象物が前記撮像部に接触することにより生じ
    るインピーダンス変化を検出する、 ことを特徴とする請求項2に記載の撮像装置。
  5. 【請求項5】前記静電気除去手段は、逆並列に接続され
    た1対のダイオードから構成されたダイオード回路を備
    え、撮像対象物に蓄えられている静電気を前記導電層及
    び該ダイオード回路を介して除去する、ことを特徴とす
    る請求項1乃至4の何れか1項に記載の撮像装置。
  6. 【請求項6】前記静電気除去手段は、 複数のダイオードが直列に接続された第1ダイオード列
    と該第1ダイオード列と同一数のダイオードが直列に接
    続された第2ダイオード列とが逆並列に接続されたダイ
    オード回路を備え、該ダイオード回路及び前記導電層を
    介して静電気を除去すると共に、 直列に接続された複数の前記ダイオードと接地点との接
    続を切り替えることにより、前記導電層と接地点との間
    に存在するダイオードの数を、前記第1ダイオード列と
    前記第2ダイオード列とで同一となるように変化させ
    る、 ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の
    撮像装置。
  7. 【請求項7】所定の撮像位置に配置される撮像対象物を
    撮像する撮像手段と、 1以上のダイオードが直列に接続された第1ダイオード
    列と該第1ダイオード列と同一数のダイオードが直列に
    接続された第2ダイオード列とが逆並列に接続されるこ
    とにより構成され、前記撮像対象物に蓄えられている静
    電気を前記ダイオード回路を介して放出するダイオード
    回路と、 から構成されることを特徴とする撮像装置。
  8. 【請求項8】前記第1ダイオード列及び前記第2ダイオ
    ード列は、直列に接続された複数のダイオードから構成
    され、 前記第1ダイオード列及び前記第2ダイオード列のダイ
    オードと接地点との接続を切り替えることにより、前記
    撮像対象物と接地点との間に存在するダイオードの数
    を、前記第1ダイオード列と前記第2ダイオード列とで
    同一となるように変化させるスイッチング手段をさらに
    備える、 ことを特徴とする請求項7に記載の撮像装置。
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