JP2001296530A - Electrooptical device and its manufacturing method - Google Patents

Electrooptical device and its manufacturing method

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JP2001296530A
JP2001296530A JP2000111213A JP2000111213A JP2001296530A JP 2001296530 A JP2001296530 A JP 2001296530A JP 2000111213 A JP2000111213 A JP 2000111213A JP 2000111213 A JP2000111213 A JP 2000111213A JP 2001296530 A JP2001296530 A JP 2001296530A
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JP
Japan
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substrate
region
electro
columnar spacers
substrates
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JP2000111213A
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Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Imai
秀一 今井
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an electrooptical device capable of forming plural cylindrical spacers having satisfactory mechanical strength in a simple stage and to provide the electrooptical device manufactured by the method. SOLUTION: The electrooptical device has an electrooptical material interposed between a pair of substrates opposed to each other and at least one substrate is provided with the plural cylindrical spacers which are formed integrally with the surface opposed to the other substrate and whose respective parts abut against the other substrate. The respective cylindrical spacers are difficult to be peeled from the substrate compared with the case that the cylindrical spacers are separately formed on the substrate by using a material different from the material of the substrate, since the plural cylindrical spacers are formed thus integrally with the surface opposed to the other substrate of at least one substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気光学装置およ
びその製造方法に関する。
The present invention relates to an electro-optical device and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より普及している電気光学装置(例
えば液晶装置)は、対向する一対の基板と、両基板間に
介在する枠状のシール材と、両基板とシール材とによっ
て囲まれた領域に封入された電気光学材料(例えば液
晶)とを有している。さらに、近年、この種の電気光学
装置として、一方の基板上に複数の柱状のスペーサ(以
下、「柱状スペーサ」という)を設け、対向する基板の
表面に各柱状スペーサの頂部を当接させることにより、
両基板の間隙を一定に保つようにしたものも提案される
に至っている。ここで、これらの柱状スペーサは、例え
ばガラスや石英等の基板上に樹脂等によって形成される
のが一般的である。具体的には、基板表面を覆う樹脂層
を、柱状スペーサが形成されるべき領域を残して除去す
ることによって、複数の柱状スペーサを基板上に形成す
ることができる。
2. Description of the Related Art Conventionally, an electro-optical device (for example, a liquid crystal device) which has been widely used is surrounded by a pair of substrates facing each other, a frame-shaped sealing material interposed between the two substrates, and both substrates and the sealing material. And an electro-optical material (for example, liquid crystal) sealed in the region. Furthermore, in recent years, as this type of electro-optical device, a plurality of columnar spacers (hereinafter, referred to as “columnar spacers”) are provided on one substrate, and the tops of the columnar spacers are brought into contact with the surface of the opposing substrate. By
A device in which the gap between both substrates is kept constant has been proposed. Here, these columnar spacers are generally formed of resin or the like on a substrate such as glass or quartz. Specifically, a plurality of columnar spacers can be formed on the substrate by removing the resin layer covering the surface of the substrate except for the region where the columnar spacers are to be formed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記柱
状スペーサは、基板の材質とは異なる樹脂等の高分子材
料で形成されるものであったため、基板への付着力が十
分でなく、基板から剥がれやすいという問題があった。
そして、このような柱状スペーサの欠損が生じた部位の
近傍においては両基板間の厚さが所期の厚さとならず、
この結果、所望の表示特性を得ることができないという
問題が生じ得る。
However, since the columnar spacer is formed of a polymer material such as a resin which is different from the material of the substrate, the columnar spacer has insufficient adhesion to the substrate and is separated from the substrate. There was a problem that it was easy.
In the vicinity of the portion where the columnar spacer has been lost, the thickness between the two substrates does not become the expected thickness,
As a result, a problem that desired display characteristics cannot be obtained may occur.

【0004】特に、電気光学材料として液晶を用いた液
晶装置においては、複数の柱状スペーサが形成された基
板を覆う有機薄膜にラビング処理が施されて配向膜が形
成されるが、このラビング処理の際にラビング布の毛先
が柱状スペーサに当たるため、上記のような柱状スペー
サの欠損が発生し易い。
Particularly, in a liquid crystal device using liquid crystal as an electro-optical material, an organic thin film covering a substrate on which a plurality of columnar spacers are formed is subjected to a rubbing process to form an alignment film. In this case, the tip of the rubbing cloth hits the columnar spacer, and thus the above-mentioned columnar spacer is likely to be lost.

【0005】本発明は、以上説明した事情に鑑みてなさ
れたものであり、十分な機械的強度を有する複数の柱状
スペーサを簡易な工程により作成可能な電気光学装置の
製造方法および該方法により製造される電気光学装置を
提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and has a method of manufacturing an electro-optical device capable of forming a plurality of columnar spacers having sufficient mechanical strength by a simple process, and a method of manufacturing the same by the method. It is an object of the present invention to provide an electro-optical device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、この発明は、対向する一対の基板の間に電気光学
材料を挟持してなる電気光学装置であって、少なくとも
一方の基板は、他方の基板に対向する面と一体に形成さ
れ、一部が前記他方の基板に当接する複数の柱状スペー
サを具備することを特徴とする電気光学装置を提供する
ものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is an electro-optical device having an electro-optical material sandwiched between a pair of opposing substrates, wherein at least one of the substrates has: It is an object of the present invention to provide an electro-optical device, comprising a plurality of columnar spacers formed integrally with a surface facing the other substrate and partially contacting the other substrate.

【0007】かかる電気光学装置によれば、一対の基板
の間隙を均一に保持するための複数の柱状スペーサが、
少なくとも一方の基板のうち他方の基板と対向する面と
一体に形成されているので、基板上に当該基板と異なる
材料によって別個に柱状スペーサを形成する場合と比較
して、柱状スペーサが基板から剥がれにくいという利点
がある。そして、この結果、柱状スペーサの欠損に起因
した表示特性の劣化を抑えることができるという効果が
得られる。
According to such an electro-optical device, a plurality of columnar spacers for uniformly maintaining a gap between a pair of substrates are provided.
Since at least one of the substrates is formed integrally with the surface facing the other substrate, the columnar spacers are peeled off from the substrate as compared with the case where the columnar spacers are formed separately on the substrate using a different material from the substrate. There is an advantage that it is difficult. As a result, the effect that the deterioration of the display characteristics due to the loss of the columnar spacer can be suppressed can be obtained.

【0008】上記発明において、前記他方の基板に対向
する面のうち複数の柱状スペーサが形成された領域とは
異なる領域に凹凸を形成するとともに、前記凹凸が形成
された領域の少なくとも一部に、反射膜を形成するよう
にしてもよい。こうすることにより、前記他方の基板か
らの入射光は、適度に散乱して当該他方の基板から出射
することとなるため、表示される画像に背景や照明等が
映り込んだりする事態を回避することができる。
In the above invention, unevenness is formed in a region of the surface facing the other substrate which is different from a region in which the plurality of columnar spacers are formed, and at least a part of the region in which the unevenness is formed, A reflective film may be formed. With this configuration, the incident light from the other substrate is appropriately scattered and emitted from the other substrate, so that a situation in which a background, illumination, or the like is reflected in a displayed image is avoided. be able to.

【0009】また、上記発明においては、前記他方の基
板に電極を設ける一方、前記反射膜を、前記他方の基板
の電極とともに前記電気光学材料に所定の電圧を印加す
るための電極としてもよい。すなわち、導電膜に、反射
膜と電極の両方の機能を担わせるようにしてもよい。こ
うすることにより、反射膜と電極を別個に設ける必要が
なくなるから、製造コストを低減することができるとい
う利点がある。もっとも、上記反射膜状に別途ITO等
の導電膜を有する導電膜を形成し、当該導電膜を電極と
して用いる構成としてもよいことはもちろんである。
In the above invention, the electrode may be provided on the other substrate, and the reflection film may be an electrode for applying a predetermined voltage to the electro-optical material together with the electrode on the other substrate. That is, the conductive film may have both functions of the reflection film and the electrode. By doing so, there is no need to provide a reflective film and an electrode separately, and there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced. Needless to say, a conductive film having a conductive film such as ITO may be separately formed on the reflective film, and the conductive film may be used as an electrode.

【0010】なお、本願発明者の実験の結果、前記柱状
スペーサにおいて、前記凹凸が形成された領域における
凸部の頂上部から他方の基板までの距離が、3μm以上
8μm以下である場合に最も良好な表示特性が得られる
ことが確認された。
As a result of an experiment conducted by the inventor of the present invention, the best results are obtained when the distance from the top of the projection in the region where the unevenness is formed to the other substrate is 3 μm or more and 8 μm or less in the columnar spacer. It was confirmed that excellent display characteristics were obtained.

【0011】また、本発明は、一対の基板を、少なくと
も一方の基板が有する複数の柱状スペーサを介して対向
させ、両基板の間に電気光学材料を挟持してなる電気光
学装置の製造方法であって、前記少なくとも一方の基板
のうち他方の基板に対向する面に、前記複数の柱状スペ
ーサを一体に形成するスペーサ形成工程と、少なくとも
一方の基板が有する複数の柱状スペーサの一部が他方の
基板に当接するように、前記一対の基板を接合する接合
工程とを有することを特徴とする電気光学装置の製造方
法を提供するものである。
The present invention also relates to a method of manufacturing an electro-optical device in which a pair of substrates are opposed to each other via a plurality of columnar spacers of at least one of the substrates, and an electro-optical material is sandwiched between the two substrates. A spacer forming step of integrally forming the plurality of columnar spacers on a surface of the at least one substrate facing the other substrate; and a part of the plurality of columnar spacers included in at least one of the substrates is the other. And a bonding step of bonding the pair of substrates so as to contact the substrates.

【0012】かかる電気光学装置の製造方法によって得
られる電気光学装置においては、一対の基板の間隙を均
一に保つための複数の柱状スペーサが、少なくとも一方
の基板のうち他方の基板と対向する面と一体に形成され
るので、基板上に当該基板と異なる材料によって別個に
柱状スペーサを形成する場合と比較して、柱状スペーサ
が基板から剥がれにくいという利点がある。
In the electro-optical device obtained by such a method of manufacturing an electro-optical device, a plurality of columnar spacers for maintaining a uniform gap between a pair of substrates are provided on at least one of the substrates facing the other substrate. Since they are integrally formed, there is an advantage that the columnar spacers are less likely to be peeled off from the substrate than when the columnar spacers are separately formed on the substrate using a material different from that of the substrate.

【0013】なお、上記発明におけるスペーサ形成工程
においては、一方の基板において他方の基板に対向する
面のうち、前記複数の柱状スペーサを形成すべき領域以
外の領域を所定の厚さだけ除去することにより、前記複
数の柱状スペーサを形成することが望ましい。こうした
場合には、柱状スペーサとなる層を板状部材上に設ける
必要がなく、製造工程を簡素化することができるという
利点が得られる。なお、上記スペーサ形成工程において
は、ケミカルエッチング法を用いて、一方の基板におい
て他方の基板に対向する面のうちの一部を除去すること
が考えられる。
In the spacer forming step of the present invention, a predetermined thickness of a region other than a region where the plurality of columnar spacers is to be formed on one surface of the substrate facing the other substrate is removed. Therefore, it is desirable to form the plurality of columnar spacers. In such a case, there is no need to provide a layer serving as a columnar spacer on the plate-shaped member, and there is an advantage that the manufacturing process can be simplified. In the spacer forming step, it is conceivable to remove a part of a surface of one substrate facing the other substrate by using a chemical etching method.

【0014】また、前記スペーサ形成工程においては、
一方の基板において他方の基板に対向する面のうち、前
記複数の柱状スペーサを形成すべき領域以外の領域を所
定の厚さだけ除去するとともに、除去された部分の表面
に凹凸を形成する一方、前記凹凸が形成された領域のう
ちの少なくとも一部に、反射膜を形成する反射膜形成工
程を実行するようにしてもよい。さらに、一方の基板に
おいて他方の基板に対向する面のうち複数の柱状スペー
サが形成される領域とは異なる領域に凹凸を形成する凹
凸形成工程と、前記凹凸が形成された領域のうちの少な
くとも一部に、反射膜を形成する反射膜形成工程とを実
行するようにしてもよい。こうすることにより、当該方
法により製造される電気光学装置への入射光を適度に散
乱させて反射させることができるので、背景の写りこみ
等を回避することができる。なお、前記反射膜形成工程
においては、スパッタ法、イオンプレーティング法また
は蒸着法を用いて前記導電膜を形成することが考えられ
る。
In the spacer forming step,
On a surface of one substrate facing the other substrate, a region other than a region where the plurality of columnar spacers are to be formed is removed by a predetermined thickness, and irregularities are formed on the surface of the removed portion. A reflection film forming step of forming a reflection film on at least a part of the region where the unevenness is formed may be performed. Further, an unevenness forming step of forming unevenness in a region of the one substrate facing the other substrate which is different from a region in which the plurality of columnar spacers are formed, and at least one of the region in which the unevenness is formed. And a reflection film forming step of forming a reflection film on the portion. By doing so, light incident on the electro-optical device manufactured by the method can be appropriately scattered and reflected, so that reflection of the background and the like can be avoided. In the reflection film forming step, the conductive film may be formed by using a sputtering method, an ion plating method, or an evaporation method.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施形態について説明する。かかる実施の形態は、本発
明の一態様を示すものであり、この発明を限定するもの
ではなく、本発明の範囲内で任意に変更可能である。な
お、以下では、本発明に係る電気光学装置の一例とし
て、電気光学材料として液晶を用いた液晶装置について
説明を進める。また、以下に示す各実施形態では、本発
明をいわゆる反射型の液晶装置に適用した場合を例示す
るが、本発明の適用範囲をこれに限定する趣旨ではな
い。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Such an embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the present invention. Hereinafter, a liquid crystal device using liquid crystal as an electro-optical material will be described as an example of the electro-optical device according to the invention. In each of the embodiments described below, a case where the present invention is applied to a so-called reflective liquid crystal device will be described as an example. However, the scope of the present invention is not limited thereto.

【0016】A:第1実施形態 A−1;第1実施形態の構成 まず、本発明をパッシブマトリクス型の反射型液晶装置
に適用した第1実施形態について説明する。図1は、こ
の液晶装置100の構成を表す平面図であり、図2は、
図1におけるA−A’線視断面図である。なお、この図
1および2、ならびに以下に示す各図においては、各層
や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするた
め、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。図1お
よび2に示すように、この液晶装置100は、枠状のシ
ール材4を介して対向する前面基板1および背面基板2
と、両基板とシール材4とで囲まれた領域に封入された
液晶3とを有している。
A: First Embodiment A-1; Configuration of First Embodiment First, a first embodiment in which the present invention is applied to a passive matrix type reflection type liquid crystal device will be described. FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the liquid crystal device 100, and FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along line AA ′ in FIG. 1. In FIGS. 1 and 2 and each of the drawings shown below, the scale of each layer and each member is different so that each layer and each member have a size that can be recognized in the drawings. As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal device 100 includes a front substrate 1 and a rear substrate 2 which face each other with a frame-shaped sealing material 4 interposed therebetween.
And a liquid crystal 3 sealed in a region surrounded by both substrates and the sealing material 4.

【0017】前面基板1は、図2に示すように、ガラス
や石英等の板状部材である基板11と、複数の透明電極
12と、配向膜13とを有している。各透明電極12
は、図1中に破線で示すように、一定の方向に延在して
形成された帯状の電極であり、透明導電材料、例えばI
TO(Indium Tin Oxide)等によって形成される。配向
膜13は、これらの透明電極12が形成された基板11
の表面を覆うポリイミド等の有機薄膜であり、電圧が印
加されていないときの液晶3の配向方向を規定するため
のラビング処理が施されている。なお、前面基板1の外
側(液晶3とは反対側)には、入射光を偏光させるため
の偏光板が貼着されるが、本発明とは直接関係がないた
め、その説明および図示を省略する。
As shown in FIG. 2, the front substrate 1 includes a substrate 11 which is a plate-shaped member such as glass or quartz, a plurality of transparent electrodes 12, and an alignment film 13. Each transparent electrode 12
Is a strip-shaped electrode formed to extend in a certain direction, as shown by a broken line in FIG.
It is formed by TO (Indium Tin Oxide) or the like. The alignment film 13 is formed on the substrate 11 on which these transparent electrodes 12 are formed.
And a rubbing process for defining the alignment direction of the liquid crystal 3 when no voltage is applied. Note that a polarizing plate for polarizing incident light is attached to the outside of the front substrate 1 (the side opposite to the liquid crystal 3), but since it is not directly related to the present invention, its description and illustration are omitted. I do.

【0018】一方、背面基板2は、ガラスや石英等によ
り形成される基板21と、複数の反射電極22と、複数
の反射電極22が形成された基板21の表面を覆う配向
膜23とを有している。図1に示すように、各反射電極
22は、前面基板1に形成された複数の透明電極12と
交差する方向に延在して形成された帯状の電極である。
前面基板1および背面基板2に挟まれた液晶3は、各反
射電極22と各透明電極12との間に電圧が印加される
ことによってその配向方向が変化する。すなわち、各反
射電極22と各透明電極12とが交差する領域が画素と
して機能することとなる。さらに、本実施形態における
反射電極22は、反射性を有する金属、例えばアルミニ
ウムを主成分とする金属によって形成されている。この
ため、前面基板1側からの入射光は、この反射電極22
の表面において反射して前面基板1側に出射する。具体
的には、太陽光や室内照明等の外光が前面基板1側から
入射し、偏光板(図示略)→基板11→透明電極12→
配向膜13→液晶3→配向膜23→反射電極22という
経路を辿って反射電極22によって反射され、上記経路
を逆に辿って前面基板1側から出射される。
On the other hand, the rear substrate 2 has a substrate 21 formed of glass, quartz, or the like, a plurality of reflective electrodes 22, and an alignment film 23 covering the surface of the substrate 21 on which the plurality of reflective electrodes 22 are formed. are doing. As shown in FIG. 1, each reflective electrode 22 is a strip-shaped electrode formed to extend in a direction intersecting the plurality of transparent electrodes 12 formed on the front substrate 1.
The alignment direction of the liquid crystal 3 sandwiched between the front substrate 1 and the rear substrate 2 changes when a voltage is applied between each reflective electrode 22 and each transparent electrode 12. That is, the region where each reflective electrode 22 and each transparent electrode 12 intersect functions as a pixel. Further, the reflective electrode 22 in the present embodiment is formed of a metal having reflectivity, for example, a metal containing aluminum as a main component. Therefore, the incident light from the front substrate 1 side is
And is emitted to the front substrate 1 side. Specifically, external light such as sunlight or indoor lighting enters from the front substrate 1 side, and a polarizing plate (not shown) → the substrate 11 → the transparent electrode 12 →
The light is reflected by the reflective electrode 22 along the route of the alignment film 13 → the liquid crystal 3 → the alignment film 23 → the reflective electrode 22, and is emitted from the front substrate 1 by following the above route in reverse.

【0019】また、図1および2に示すように、本実施
形態における基板21の一方の表面(前面基板1に対向
する面)には、複数の柱状スペーサ211が当該基板2
1と一体に形成されている。これらの各柱状スペーサ2
11は、図1に示すように、各反射電極22同士の間の
領域であって、前面基板1上の透明電極12と対向しな
い領域に形成されている。そして、各柱状スペーサ21
1の上面は、配向膜13によって覆われた前面基板1の
表面に当接するようになっており、これにより前面基板
1と背面基板2との間隙の厚さが各基板の全面にわたっ
て一定に保たれるようになっている。
As shown in FIGS. 1 and 2, a plurality of columnar spacers 211 are provided on one surface of the substrate 21 (the surface facing the front substrate 1) in the present embodiment.
1 and are formed integrally. Each of these columnar spacers 2
As shown in FIG. 1, a region 11 is formed between the reflective electrodes 22 in a region on the front substrate 1 which does not face the transparent electrode 12. Then, each columnar spacer 21
1 is in contact with the surface of the front substrate 1 covered by the alignment film 13, whereby the thickness of the gap between the front substrate 1 and the rear substrate 2 is kept constant over the entire surface of each substrate. It is designed to drip.

【0020】さらに、図2に示すように、前面基板1に
対向する基板21の表面であって各柱状スペーサ211
が形成された領域とは異なる領域には、複数の微細な凹
凸が形成されている。上記複数の反射電極22は、基板
21上の凹凸が形成された領域に薄膜状に形成されるた
め、各反射電極22の表面には、基板21上の凹凸を反
映した凹凸が形成されることとなる。この結果、前面基
板1側からの入射光は、この反射電極22の凹凸によっ
て適度に散乱された後に前面基板1側から出射するか
ら、ユーザによって視認される画像に背景が映り込んだ
り、室内照明からの光が反射するといった事態を回避す
ることができる。
Further, as shown in FIG. 2, each of the columnar spacers 211 on the surface of the substrate 21 facing the front substrate 1 is formed.
A plurality of fine irregularities are formed in an area different from the area in which is formed. Since the plurality of reflective electrodes 22 are formed in a thin film shape in the region where the unevenness is formed on the substrate 21, unevenness reflecting the unevenness on the substrate 21 is formed on the surface of each reflective electrode 22. Becomes As a result, since the incident light from the front substrate 1 side is appropriately scattered by the unevenness of the reflection electrode 22 and then emitted from the front substrate 1 side, the background is reflected in an image visually recognized by the user, and the indoor lighting It is possible to avoid a situation in which light from is reflected.

【0021】A−2;液晶装置100の製造方法 次に、図3乃至図6を参照して、上記液晶装置100の
製造方法を説明する。まず、図3(a)に示すように、
基板21となる板状部材21a(例えばガラス板)の表
面のうち、上述した複数の柱状スペーサ211が形成さ
れるべき領域にフォトレジスト200を形成する。この
フォトレジスト200は、例えばフレキソ印刷法等を用
いて形成することができる。なお、フォトレジスト20
0が形成された板状部材21aの表面は、図4に例示す
る構成となる。
A-2: Method of Manufacturing Liquid Crystal Device 100 Next, a method of manufacturing the liquid crystal device 100 will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG.
A photoresist 200 is formed on a surface of a plate-like member 21a (for example, a glass plate) serving as the substrate 21 in a region where the plurality of columnar spacers 211 are to be formed. The photoresist 200 can be formed using, for example, a flexographic printing method. The photoresist 20
The surface of the plate-shaped member 21a on which 0 is formed has a configuration illustrated in FIG.

【0022】続いて、フォトレジスト200が形成され
た板状部材21aの表面にエッチングを施し、フォトレ
ジスト200が形成されていない領域を所定の厚さだけ
除去する。さらに、本実施形態においては、このエッチ
ングに際して、板状部材21a表面の微小な部分ごとに
エッチング速度が異なるような処理液をエッチャントと
して用いる。この結果、エッチングによって除去された
領域の表面には、多数の微小な凹凸212と、当該凹凸
212が形成された板状部材の表面から突出する複数の
柱状スペーサとが形成される(図3(b)参照)。具体
的には、上記凹凸212および複数の柱状スペーサ21
1は、以下に例示する工程によって形成することができ
る。なお、以下に示す具体例においては、板状部材21
aとしてソーダライムガラス基板(ソーダ石灰ガラス基
板)を用いた場合を想定している。ここで、図5(a)
は、板状部材21aの断面構造を表す図である。同図に
示すように、この板状部材21aにおいては、網目形成
体である珪酸による網目状構造21a’の中に、網目修
飾体であるアルカリ金属やアルカリ土類金属などが入っ
ている部分(図中の斜線部分)21a’’が存在してい
る。
Subsequently, the surface of the plate member 21a on which the photoresist 200 is formed is etched to remove a region where the photoresist 200 is not formed by a predetermined thickness. Further, in the present embodiment, at the time of this etching, a treatment liquid having an etching rate different for each minute portion on the surface of the plate-like member 21a is used as an etchant. As a result, a large number of minute irregularities 212 and a plurality of columnar spacers protruding from the surface of the plate member on which the irregularities 212 are formed are formed on the surface of the region removed by the etching (FIG. 3 ( b)). Specifically, the unevenness 212 and the plurality of columnar spacers 21
1 can be formed by the steps exemplified below. In the specific example shown below, the plate-like member 21
It is assumed that a soda lime glass substrate (soda lime glass substrate) is used as a. Here, FIG.
FIG. 4 is a diagram illustrating a cross-sectional structure of a plate-like member 21a. As shown in the drawing, in the plate-like member 21a, a portion in which a network modifier, such as an alkali metal or an alkaline earth metal, is contained in a network-like structure 21a ′ made of silicic acid, which is a network former ( (A hatched portion in the figure) 21a '' is present.

【0023】まず、上記フォトレジスト200の形成に
先立ち、5wt%程度の弗化水素酸水溶液により、当該
板状部材を20℃にて5秒間、洗浄を兼ねてエッチング
を施す。続いて、上記工程により均一にエッチングが施
された板状部材21aの表面に、図3(a)に示したフ
ォトレジスト200を形成する。次に、当該板状部材2
1aを、弗化水素酸が30wt%、水素二弗化アンモニ
ウムが45wt%含まれる水溶液に、25℃にて15秒
間程度浸す。
First, prior to the formation of the photoresist 200, the plate-like member is etched with a hydrofluoric acid solution of about 5 wt% at 20 ° C. for 5 seconds while also washing. Subsequently, the photoresist 200 shown in FIG. 3A is formed on the surface of the plate-like member 21a that has been uniformly etched by the above-described process. Next, the plate member 2
1a is immersed in an aqueous solution containing 30% by weight of hydrofluoric acid and 45% by weight of ammonium hydrogen difluoride at 25 ° C. for about 15 seconds.

【0024】ここで、前掲図5(a)に断面構造を示し
た板状部材21aを上記の処理液に浸した場合、珪酸に
よる網目状構造21a’の部分よりも、アルカリ金属や
アルカリ土類金属などが入っている部分21a’’の溶
出速度の方が速いため、図5(b)に示すような凹凸が
形成される。一方、フォトレジスト200が形成された
領域は上記エッチングによって除去されないから、この
領域が柱状スペーサ211として残ることとなる。な
お、ここでは板状部材21aとしてソーダライムガラス
基板を用いた場合を例示したが、例えばホウ珪酸ガラス
基板やアルミノ珪酸ガラス基板などを用いた場合におい
ても、上記処理液の調合比を変更することで対応するこ
とができる。
Here, when the plate-like member 21a whose cross-sectional structure is shown in FIG. 5 (a) is immersed in the above-mentioned treatment liquid, the alkali metal or alkaline-earth element is removed more than the network-like structure 21a 'made of silicic acid. Since the elution rate of the portion 21a ″ containing metal or the like is faster, unevenness as shown in FIG. 5B is formed. On the other hand, since the region where the photoresist 200 is formed is not removed by the above-described etching, this region remains as the columnar spacer 211. Although the case where a soda lime glass substrate is used as the plate-like member 21a is illustrated here, for example, even when a borosilicate glass substrate, an aluminosilicate glass substrate, or the like is used, the mixing ratio of the treatment liquid may be changed. Can be addressed.

【0025】かかる処理が完了した後、フォトレジスト
200を除去することにより、図3(b)に示すよう
に、一方の面に複数の柱状スペーサ211および凹凸2
12が一体に形成された基板21が完成する。
After the above process is completed, the photoresist 200 is removed, thereby forming a plurality of columnar spacers 211 and unevenness 2 on one surface as shown in FIG.
The substrate 21 integrally formed with 12 is completed.

【0026】次に、複数の柱状スペーサ211および凹
凸212が形成された基板21の表面に、アルミニウム
を主成分とする金属膜22aを形成する(図3
(c))。この金属膜は、例えばスパッタリング法、電
子ビーム蒸着法またはイオンプレーティング法等を用い
て形成することができる。さらに、こうして形成された
金属膜22aに対してエッチングを施し、当該金属膜2
2aを複数の反射電極22の形状(帯状の形状)にパタ
ーニングする(図3(d))。図6は、こうして複数の
反射電極22が形成された基板21を、当該反射電極2
2および柱状スペーサ211等が形成された面から見た
場合の平面図である。上述したように、こうして形成さ
れた反射電極22の表面には、基板21上に形成された
凹凸212を反映した凹凸が形成される。
Next, a metal film 22a containing aluminum as a main component is formed on the surface of the substrate 21 on which the plurality of columnar spacers 211 and the irregularities 212 are formed (FIG. 3).
(C)). This metal film can be formed by using, for example, a sputtering method, an electron beam evaporation method, an ion plating method, or the like. Further, etching is performed on the metal film 22a thus formed, and the metal film 2a is etched.
2a is patterned into the shape (band-like shape) of the plurality of reflective electrodes 22 (FIG. 3D). FIG. 6 shows a substrate 21 on which a plurality of reflective electrodes 22 are formed as described above,
FIG. 4 is a plan view when viewed from a surface on which a second spacer 2 and a columnar spacer 211 are formed. As described above, irregularities reflecting the irregularities 212 formed on the substrate 21 are formed on the surface of the reflective electrode 22 thus formed.

【0027】続いて、複数の柱状スペーサ211および
凹凸212ならびに反射電極22が形成された基板21
の表面に高分子有機材料(例えばポリイミド)等の薄膜
を塗布・焼成する。そして、この薄膜に対して、用いる
液晶のツイスト角に応じた一軸配向処理(例えばラビン
グ処理)を施して配向膜23を形成し、背面基板2が完
成する(図3(e))。
Subsequently, the substrate 21 on which the plurality of columnar spacers 211 and the unevenness 212 and the reflection electrode 22 are formed
A thin film of a high-molecular organic material (for example, polyimide) or the like is applied to the surface of the substrate and baked. Then, the thin film is subjected to a uniaxial alignment process (for example, a rubbing process) according to the twist angle of the liquid crystal to be used to form an alignment film 23, and the rear substrate 2 is completed (FIG. 3E).

【0028】一方、前面基板1は以下の工程により形成
される。すなわち、まず、ガラス板等の基板11の表面
にITO等の薄膜を形成する。そして、この薄膜に対し
てエッチングやフォトリソグラフィ等を施すことによ
り、図1に破線で示した帯状の形状にパターニングして
複数の透明電極12が形成される。続いて、これらの透
明電極12が形成された基板11の表面を覆う配向膜1
3を形成する。この配向膜13は、上記背面基板2の配
向膜23と同様の工程により形成することができる。
On the other hand, the front substrate 1 is formed by the following steps. That is, first, a thin film such as ITO is formed on the surface of the substrate 11 such as a glass plate. Then, the thin film is subjected to etching, photolithography, and the like, so as to be patterned into a band shape shown by a broken line in FIG. 1 to form a plurality of transparent electrodes 12. Subsequently, the alignment film 1 covering the surface of the substrate 11 on which these transparent electrodes 12 are formed
Form 3 This alignment film 13 can be formed by the same process as the alignment film 23 of the back substrate 2.

【0029】次に、上述した工程によって作成された背
面基板2上に、当該背面基板2の縁部を囲む形状のシー
ル材4を印刷する(図3(f))。なお、このシール材
4には、後に液晶3を封入するための封入口(図示略)
が設けられている。そして、この背面基板2と上記前面
基板1とを、電極が形成された面が対向するように、シ
ール材4を介して接合する。この際に、背面基板2上の
各柱状スペーサ211の頂部が、前面基板1の表面に当
接するように、両基板が接合される。この後、シール材
4に設けられた液晶封入口から液晶3が封入された後、
当該液晶封入口が封止材(接着剤等)によって封止され
て液晶装置100が完成する(図3(g))。以上が本
実施形態に係る液晶装置の製造方法である。
Next, a sealing material 4 having a shape surrounding the edge of the rear substrate 2 is printed on the rear substrate 2 formed by the above-described steps (FIG. 3F). The sealing material 4 has an opening (not shown) for enclosing the liquid crystal 3 later.
Is provided. Then, the rear substrate 2 and the front substrate 1 are joined via the sealing material 4 such that the surfaces on which the electrodes are formed face each other. At this time, the two substrates are joined such that the top of each columnar spacer 211 on the rear substrate 2 comes into contact with the surface of the front substrate 1. Then, after the liquid crystal 3 is sealed from the liquid crystal sealing opening provided in the sealing material 4,
The liquid crystal filling port is sealed with a sealing material (adhesive or the like) to complete the liquid crystal device 100 (FIG. 3G). The above is the method for manufacturing the liquid crystal device according to the present embodiment.

【0030】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、基板21と複数の柱状スペーサ211とが一体に形
成されるので、基板21上に複数の柱状スペーサを別個
に形成する従来の方法と比較して、柱状スペーサ211
が基板21から剥がれにくいという利点がある。従っ
て、柱状スペーサの欠損に起因する表示特性の劣化を抑
えることができる。さらに、従来の技術にあっては複数
の柱状スペーサとなる樹脂層を基板上に形成する工程が
必要であったが、本実施形態においてはガラス基板にエ
ッチングを施すことにより柱状スペーサが形成されるよ
うになっているため、上記樹脂層の形成工程が不要であ
る。従って、上記従来の技術と比較して製造工程を簡素
化することができる。
As described above, according to the present embodiment, since the substrate 21 and the plurality of columnar spacers 211 are integrally formed, the conventional method of separately forming the plurality of columnar spacers on the substrate 21 is different from the conventional method. In comparison, the columnar spacer 211
Has the advantage that it is difficult to separate from the substrate 21. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the display characteristics due to the loss of the columnar spacer. Further, in the related art, a step of forming a resin layer to be a plurality of columnar spacers on the substrate is required. In the present embodiment, the columnar spacer is formed by etching the glass substrate. Therefore, the step of forming the resin layer is unnecessary. Therefore, the manufacturing process can be simplified as compared with the above-described conventional technology.

【0031】さらに、本実施形態によれば、凹凸が形成
された基板の面上に柱状スペーサを形成する場合であっ
ても、この凹凸に起因してセルギャップが不均一になる
のを回避することができるという利点がある。詳述する
と、以下の通りである。
Further, according to the present embodiment, even when the columnar spacer is formed on the surface of the substrate having the unevenness, it is possible to prevent the cell gap from becoming uneven due to the unevenness. There is an advantage that can be. The details are as follows.

【0032】ここで、上述した従来の技術を用いて、凹
凸が形成された基板上に柱状スペーサを別個に作成する
場合を想定する。この場合、基板上の凹凸上に各柱状ス
ペーサが形成されるため、その位置によって各柱状スペ
ーサの高さが異なってしまう。従って、基板の全面にわ
たってセルギャップを均一に保つのが困難であるという
問題がある。また、凹凸が形成された基板を覆う平坦化
膜を形成し、この平坦化膜上に柱状スペーサを形成する
ことも考えられるが、この場合には、各柱状スペーサが
平坦化膜にめり込んでしまうこともあり得るため、同様
にセルギャップを所望の厚さに保つのは困難である。
Here, it is assumed that the columnar spacers are separately formed on the substrate on which the irregularities are formed by using the above-described conventional technique. In this case, since each columnar spacer is formed on the unevenness on the substrate, the height of each columnar spacer varies depending on the position. Therefore, there is a problem that it is difficult to keep the cell gap uniform over the entire surface of the substrate. It is also conceivable to form a flattening film covering the substrate on which the irregularities are formed, and form columnar spacers on the flattening film. In this case, however, each columnar spacer sinks into the flattening film. Similarly, it is difficult to keep the cell gap at a desired thickness.

【0033】これに対し、本実施形態によれば、基板上
の凹凸の上面に柱状スペーサを形成するのではく、柱状
スペーサが形成された領域以外の領域に凹凸が形成され
ることとなるから、上述したような問題を伴うことな
く、確実にセルギャップの均一化を実現することができ
る柱状スペーサを作成可能である。
On the other hand, according to the present embodiment, the columnar spacer is not formed on the upper surface of the unevenness on the substrate, but the unevenness is formed in a region other than the region where the columnar spacer is formed. Further, it is possible to produce a columnar spacer capable of surely realizing a uniform cell gap without the above-described problems.

【0034】B;第2実施形態 B−1;第2実施形態の構成 次に、本発明をアクティブマトリクス型の液晶装置に適
用した第2実施形態について説明する。図7は、本実施
形態に係る液晶装置101の断面の一部を表す図であ
る。同図に示すように、この液晶装置は、シール材4を
介して対向する素子基板5および対向基板6と、両基板
に挟まれた液晶3とを含んで構成される。
B: Second Embodiment B-1: Configuration of Second Embodiment Next, a second embodiment in which the present invention is applied to an active matrix type liquid crystal device will be described. FIG. 7 is a diagram illustrating a part of a cross section of the liquid crystal device 101 according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the liquid crystal device includes an element substrate 5 and an opposing substrate 6 which face each other with a sealant 4 interposed therebetween, and a liquid crystal 3 sandwiched between the substrates.

【0035】素子基板5は、ガラス基板等の基板51上
に、複数の走査線(図示略)と、走査線と直交する方向
に延在する複数のデータ線(図示略)と、走査線とデー
タ線との各交差に対応して設けられたスイッチング素子
52および画素電極53とが形成されてなるものであ
る。さらに、これらの各部が形成された基板51の表面
は配向膜54によって覆われている。ここで、各スイッ
チング素子52は、画素電極53に印加される電圧をス
イッチング制御するための手段であり、例えば薄膜トラ
ンジスタ(TFT;Thin Film Transistor)等である。
また、各画素電極53は、ITO等の透明材料によって
形成される。
The element substrate 5 includes a plurality of scanning lines (not shown), a plurality of data lines (not shown) extending in a direction orthogonal to the scanning lines, and a plurality of scanning lines on a substrate 51 such as a glass substrate. The switching element 52 and the pixel electrode 53 provided corresponding to each intersection with the data line are formed. Further, the surface of the substrate 51 on which these portions are formed is covered with an alignment film 54. Here, each switching element 52 is a means for performing switching control of the voltage applied to the pixel electrode 53, and is, for example, a thin film transistor (TFT).
Each pixel electrode 53 is formed of a transparent material such as ITO.

【0036】一方、対向基板6は、基板61と、基板6
1上に形成された対向電極62と、対向電極62が形成
された基板61の表面を覆う配向膜63とを有してい
る。ここで、基板61の一方の面上には、上記第1実施
形態における基板21と同様に、複数の柱状スペーサ6
11が当該基板61と一体に形成されている。ただし、
本実施形態における各柱状スペーサ611は、素子基板
5上の画素電極53と対向する領域とは異なる領域に形
成される。そして、各柱状スペーサ611の一部(上
面)は、配向膜54によって覆われた素子基板5の表面
に当接するようになっている。
On the other hand, the opposing substrate 6 comprises a substrate 61 and a substrate 6
1 and an alignment film 63 covering the surface of the substrate 61 on which the counter electrode 62 is formed. Here, a plurality of columnar spacers 6 are provided on one surface of the substrate 61, similarly to the substrate 21 in the first embodiment.
11 is formed integrally with the substrate 61. However,
Each columnar spacer 611 in the present embodiment is formed in a region on the element substrate 5 which is different from a region facing the pixel electrode 53. A part (upper surface) of each columnar spacer 611 comes into contact with the surface of the element substrate 5 covered by the alignment film 54.

【0037】また、基板61表面の柱状スペーサ611
が形成されていない領域には、複数の凹凸612が形成
されている。そして、この凹凸612が形成された領域
(すなわち、柱状スペーサ611が形成された領域とは
異なる領域)には、反射性を有する金属の薄膜である対
向電極62が形成される。この対向電極62の表面に
は、上記第1実施形態における反射電極22と同様に、
基板61上の凹凸612を反映した凹凸が形成され、素
子基板5側からの入射光を乱反射させるようになってい
る。
The columnar spacer 611 on the surface of the substrate 61
In a region where is not formed, a plurality of irregularities 612 are formed. The counter electrode 62, which is a reflective metal thin film, is formed in a region where the irregularities 612 are formed (that is, a region different from the region where the columnar spacers 611 are formed). On the surface of the counter electrode 62, like the reflective electrode 22 in the first embodiment,
Irregularities reflecting the irregularities 612 on the substrate 61 are formed, and the incident light from the element substrate 5 side is irregularly reflected.

【0038】B−2;液晶装置101の製造方法 次に、図8を参照して、本実施形態に係る液晶装置10
1の製造方法を説明する。まず、上記第1実施形態と同
様にして、複数の柱状スペーサ611が一体に形成され
た基板61を作成する。すなわち、柱状スペーサ611
が形成されるべき領域をフォトレジスト200で覆った
板状部材61a(図8(a))に対して、上記第1実施
形態に示したのと同様のエッチングを施すことにより、
複数の柱状スペーサ611および凹凸612が一体に形
成された基板61を作成することができる(図8
(b))。ただし、上記第1実施形態と異なり、この段
階では、各柱状スペーサ611の上面に形成されたフォ
トレジスト200を除去しない。
B-2: Method for Manufacturing Liquid Crystal Device 101 Next, referring to FIG. 8, the liquid crystal device 10 according to the present embodiment will be described.
1 will be described. First, as in the first embodiment, the substrate 61 on which the plurality of columnar spacers 611 are integrally formed is prepared. That is, the columnar spacer 611
By etching the plate-like member 61a (FIG. 8A) in which the region in which is to be formed is covered with the photoresist 200, the etching is performed in the same manner as in the first embodiment.
The substrate 61 on which the plurality of columnar spacers 611 and the irregularities 612 are integrally formed can be formed (FIG. 8).
(B)). However, unlike the first embodiment, at this stage, the photoresist 200 formed on the upper surface of each columnar spacer 611 is not removed.

【0039】次に、スパッタリング、電子ビーム蒸着法
またはイオンプレーティング法等を用い、複数の柱状ス
ペーサ611等が形成された基板61の全面に、アルミ
ニウムを主成分とする金属膜62aを形成する。この際
に、フォトレジスト200によって覆われた各柱状スペ
ーサ611の上面にも金属膜62aが形成されることと
なる(図8(c))。続いて、各柱状スペーサ611の
上面に形成されたフォトレジスト200を除去する。こ
の工程において、各柱状スペーサ611の上面にフォト
レジスト200を挟んで形成された金属膜62aは、フ
ォトレジスト200とともに除去され、上述した対向電
極62が形成される(図8(d))。次に、こうして対
向電極62が形成された基板61の上面を覆う配向膜6
3を、上記第1実施形態と同様の工程により形成し、対
向基板6が完成する(図8(e))。
Next, a metal film 62a containing aluminum as a main component is formed on the entire surface of the substrate 61 on which the plurality of columnar spacers 611 and the like are formed by using sputtering, electron beam evaporation, ion plating, or the like. At this time, the metal film 62a is also formed on the upper surface of each columnar spacer 611 covered by the photoresist 200 (FIG. 8C). Subsequently, the photoresist 200 formed on the upper surface of each columnar spacer 611 is removed. In this step, the metal film 62a formed on the upper surface of each columnar spacer 611 with the photoresist 200 interposed therebetween is removed together with the photoresist 200, and the above-described counter electrode 62 is formed (FIG. 8D). Next, the alignment film 6 covering the upper surface of the substrate 61 on which the counter electrode 62 is thus formed.
3 are formed by the same steps as in the first embodiment, and the opposing substrate 6 is completed (FIG. 8E).

【0040】なお、素子基板5は、従来の液晶装置の素
子基板と同様の工程によって作成することができるた
め、その説明を省略する。
Since the element substrate 5 can be formed by the same process as that of the element substrate of the conventional liquid crystal device, the description is omitted.

【0041】こうして形成された対向基板6と素子基板
5とを、電極形成面が対向するようにシール材4によっ
て接合する。この際に、対向基板5の各柱状スペーサ6
11の頂部が素子基板5の表面に当接するように、両基
板が接合される。この後、各基板の間隙に液晶3が封入
されて液晶装置101が完成する(図8(f))。
The opposing substrate 6 and the element substrate 5 thus formed are joined by the sealing material 4 so that the electrode forming surfaces face each other. At this time, each columnar spacer 6 of the counter substrate 5 is
The two substrates are joined such that the top of 11 comes into contact with the surface of the element substrate 5. Thereafter, the liquid crystal 3 is sealed in the gap between the substrates, and the liquid crystal device 101 is completed (FIG. 8F).

【0042】本実施形態においても、上記第1実施形態
と同様の効果が得られる。さらに、本実施形態において
は、各柱状スペーサ611の上面にフォトレジスト20
0を挟んで形成された金属層62aを、当該フォトレジ
スト200の除去工程において同時に除去するようにな
っている。従って、フォトレジスト200を除去するた
めの工程と柱状スペーサ611上の金属膜62aを除去
するための工程とを別個に行う場合と比較して、製造工
程を簡素化することができる。
In this embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained. Further, in the present embodiment, the photoresist 20 is formed on the upper surface of each columnar spacer 611.
The metal layer 62a formed so as to sandwich 0 is simultaneously removed in the step of removing the photoresist 200. Therefore, the manufacturing process can be simplified as compared with the case where the process for removing the photoresist 200 and the process for removing the metal film 62a on the columnar spacer 611 are separately performed.

【0043】C:変形例 以上この発明の一実施形態について説明したが、上記実
施形態はあくまでも例示であり、上記実施形態に対して
は、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加
えることができる。変形例としては、例えば以下のよう
なものが考えられる。
C: Modifications Although one embodiment of the present invention has been described above, the above embodiment is merely an example, and various modifications may be made to the above embodiment without departing from the spirit of the present invention. be able to. For example, the following modifications can be considered.

【0044】<変形例1>上記実施形態においては、ガ
ラス基板等の基板21(61)と複数の柱状スペーサ2
11(611)とが一体に形成されるようにしたが、以
下のようにしてもよい。図9は、本変形例に係る液晶装
置の基板71(上記各実施形態における基板21または
61に相当する)の構成を示す断面図である。同図に示
すように、各柱状スペーサ721を、ガラス基板等の基
板71と一体に形成するのではなく、当該基板71を覆
う樹脂層72と一体に形成するのである。かかる柱状ス
ペーサ721は、具体的には、基板71の表面を覆う樹
脂層のうち、複数の柱状スペーサ721が形成されるべ
き領域以外の領域を所定の厚さだけエッチング等によっ
て除去することにより作成することができる。
<Modification 1> In the above embodiment, the substrate 21 (61) such as a glass substrate and the plurality of columnar spacers 2
11 (611) are formed integrally, but the following may be adopted. FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a substrate 71 (corresponding to the substrate 21 or 61 in each of the above embodiments) of the liquid crystal device according to the present modification. As shown in the figure, each columnar spacer 721 is not formed integrally with a substrate 71 such as a glass substrate, but is formed integrally with a resin layer 72 covering the substrate 71. Specifically, the columnar spacer 721 is formed by removing a region other than the region where the plurality of columnar spacers 721 are to be formed from the resin layer covering the surface of the substrate 71 by a predetermined thickness by etching or the like. can do.

【0045】このように、本発明においては、基板が有
する平面状の部材のうちの他方の基板に対向する面に、
複数の柱状スペーサが当該部材と一体に形成されるよう
にすればよいのである。
As described above, in the present invention, the surface of the planar member of the substrate facing the other substrate is
It is sufficient that a plurality of columnar spacers are formed integrally with the member.

【0046】また、各柱状スペーサが形成される位置
や、各柱状スペーサの形状も上記各実施形態に示した位
置・形状に限られない。例えば、角柱状の柱状スペーサ
を、上記各実施形態において示した位置とは異なる位置
に設けるようにしてもよい。さらに、上記第2実施形態
においては、対向基板6に複数の柱状スペーサ611が
形成される場合を例示したが、素子基板5の基板51上
に複数の柱状スペーサを一体に形成するようにしてもよ
い。また、液晶装置が有する複数の柱状スペーサのうち
の一部を一方の基板に設けるとともに、他の一部を他方
の基板に設けるようにしてもよい。つまり、複数の柱状
スペーサは、少なくとも一方の基板が有していればよい
のである。
The positions at which the columnar spacers are formed and the shapes of the columnar spacers are not limited to the positions and shapes shown in the above embodiments. For example, prismatic columnar spacers may be provided at positions different from the positions shown in the above embodiments. Further, in the second embodiment, the case where the plurality of columnar spacers 611 are formed on the counter substrate 6 has been described as an example. However, the plurality of columnar spacers may be integrally formed on the substrate 51 of the element substrate 5. Good. Further, a part of the plurality of columnar spacers included in the liquid crystal device may be provided on one substrate, and the other part may be provided on the other substrate. That is, it is only necessary that at least one substrate has a plurality of columnar spacers.

【0047】さらに、本発明の発明者による実験の結
果、基板21(または61)表面の凹凸のうちの凸部の
頂部からの各柱状スペーサの高さ(図3(b)または図
8(b)においてhで示す高さ)が、3μm乃至8μm
である場合に、特に良好な表示特性が得られることが確
認された。従って、凸部の頂部を基準とした各柱状スペ
ーサの高さが、3μm乃至8μmとなるように、板状部
材21aまたは61aに施すエッチングの条件(エッチ
ング時間等)を選定するのが好ましい。
Further, as a result of an experiment conducted by the inventor of the present invention, the height of each columnar spacer from the top of the protrusion (FIG. 3B or FIG. ) Is 3 μm to 8 μm
In particular, it was confirmed that good display characteristics were obtained. Therefore, it is preferable to select the etching conditions (etching time and the like) to be applied to the plate member 21a or 61a so that the height of each columnar spacer with respect to the top of the convex portion is 3 μm to 8 μm.

【0048】<変形例2>上記各実施形態においては、
アルミニウムを主成分とする金属によって反射電極22
または対向電極62を形成したが、これ以外の金属、例
えば、アルミニウムや銀等の単体金属、もしくは銀を主
成分とする合金等によって形成するようにしてもよい。
また、上記各実施形態においては、板状部材21a(6
1a)のエッチングの際のマスク材としてフォトレジス
トを用いたが、その他エポキシ樹脂等の樹脂系接着剤や
樹脂系の塗料を用いることもできる。
<Modification 2> In each of the above embodiments,
The reflection electrode 22 is made of a metal mainly composed of aluminum.
Alternatively, the counter electrode 62 is formed. However, the counter electrode 62 may be formed of another metal, for example, a single metal such as aluminum or silver, or an alloy containing silver as a main component.
In each of the above embodiments, the plate member 21a (6
Although a photoresist is used as a mask material in the etching of 1a), a resin-based adhesive such as an epoxy resin or a resin-based paint can also be used.

【0049】<変形例3>上記第1実施形態において
は、基板21上の凹凸212が形成された領域の一部
に、反射板としての機能と電極としての機能を兼ね備え
る反射電極23を形成するようにしたが、かかる構成と
した場合には、異なる材質の電極(前面基板1に形成さ
れたITO等の透明電極13と、背面基板2に形成され
たアルミニウム等の反射電極23)によって液晶が挟ま
れることとなるため、極性分極が発生することも考えら
れる。かかる観点から、上記第1実施形態における背面
基板2の構成を、図10に例示する構成としてもよい。
同図に示すように、本変形例に係る背面基板2’は、複
数の柱状スペーサ211および凹凸212が一体に形成
された基板21と、当該基板21表面の凹凸212が形
成された領域を覆う反射膜25と、反射膜25および柱
状スペーサ211等が形成された基板21の表面を覆う
絶縁膜26と、絶縁膜26表面にITO等の透明導電材
料によって形成される透明電極27とを有している。か
かる構成とすれば、前面基板1が有する透明電極13
と、背面基板2が有する電極とを同一の材料によって形
成することができるから、上記のような問題を回避する
ことができる。なお、この場合の反射膜25は、反射性
を有する材料によって形成されればよく、必ずしも導電
性を有する必要はない。また、図10においてはパッシ
ブマトリクス型の液晶装置を例示しているが、アクティ
ブマトリクス型の液晶装置についても同様の構成とする
ことができる。
<Modification 3> In the first embodiment, a reflection electrode 23 having both a function as a reflection plate and a function as an electrode is formed in a part of the area on the substrate 21 where the unevenness 212 is formed. However, in such a configuration, the liquid crystal is formed by electrodes of different materials (the transparent electrode 13 such as ITO formed on the front substrate 1 and the reflective electrode 23 such as aluminum formed on the back substrate 2). Since it is sandwiched, polar polarization may occur. From such a viewpoint, the configuration of the back substrate 2 in the first embodiment may be the configuration illustrated in FIG.
As shown in the figure, the back substrate 2 ′ according to the present modification covers the substrate 21 on which the plurality of columnar spacers 211 and the irregularities 212 are integrally formed, and the region on the surface of the substrate 21 on which the irregularities 212 are formed. It has a reflective film 25, an insulating film 26 covering the surface of the substrate 21 on which the reflective film 25 and the columnar spacers 211 are formed, and a transparent electrode 27 formed on the surface of the insulating film 26 by a transparent conductive material such as ITO. ing. With this configuration, the transparent electrode 13 included in the front substrate 1 is formed.
And the electrodes of the rear substrate 2 can be formed of the same material, so that the above problem can be avoided. In this case, the reflection film 25 may be formed of a material having reflectivity, and does not necessarily have to have conductivity. Although a passive matrix liquid crystal device is illustrated in FIG. 10, a similar structure can be applied to an active matrix liquid crystal device.

【0050】<変形例4>上記第2実施形態において
は、各柱状スペーサの上面にフォトレジストを挟んで形
成された金属膜を、当該フォトレジストとともに除去す
るようにしたが、この金属膜の除去に際しては他にも各
種の手法を用いることができる。例えば、金属膜によっ
て覆われた基板の表面に、スペーサの上面以外の領域を
覆うフォトマスクを形成してエッチングを施すようにし
てもよい。なお、この場合には、金属膜の形成前にフォ
トレジストを除去しておくようにしてもよい。
<Modification 4> In the second embodiment described above, the metal film formed on the upper surface of each columnar spacer with the photoresist interposed therebetween is removed together with the photoresist. At this time, various other methods can be used. For example, a photomask may be formed on the surface of the substrate covered with the metal film so as to cover a region other than the upper surface of the spacer, and etching may be performed. In this case, the photoresist may be removed before forming the metal film.

【0051】<変形例5>上記各実施形態においては、
本発明を反射型の液晶装置に適用した場合を例示したた
め、基板21上の複数の柱状スペーサが形成された領域
とは異なる領域に凹凸212を形成するようにした。し
かしながら、本発明は、例えば、透過型の液晶装置や、
一方の基板の外側(液晶とは反対側)に反射板を有する
反射型液晶装置にも適用可能である。ただし、かかる液
晶装置においては、基板の内側(液晶側)に凹凸を形成
する必要はない。従って、この場合には、板状部材21
a(第2実施形態にあっては板状部材61a)のエッチ
ングに際して、板状部材21aの表面を均等な速度で除
去し得る処理液をエッチャントとして用いればよい。
<Modification 5> In each of the above embodiments,
Since the present invention is applied to a reflection type liquid crystal device, the unevenness 212 is formed in a region on the substrate 21 which is different from a region where a plurality of columnar spacers are formed. However, the present invention, for example, a transmissive liquid crystal device,
The present invention is also applicable to a reflection type liquid crystal device having a reflection plate outside one of the substrates (the side opposite to the liquid crystal). However, in such a liquid crystal device, it is not necessary to form irregularities inside the substrate (liquid crystal side). Therefore, in this case, the plate-like member 21
When etching a (the plate member 61a in the second embodiment), a treatment liquid capable of removing the surface of the plate member 21a at a uniform speed may be used as an etchant.

【0052】<変形例6>基板上に凹凸を形成する方法
は、上記各実施形態に示した方法に限られるものではな
く、公知の各種の散乱面形成方法を利用することができ
る。一例を挙げれば以下の通りである。すなわち、ま
ず、板状部材の表面(凹凸が形成されるべき面)を研磨
剤によって粗面化した後、図3(a)または図8(a)
に示したフォトレジスト200を形成する。そして、こ
の研磨面に対してウェットエッチングを施すのである。
この結果、エッチングによって除去された領域には、上
記研磨面に形成された凹凸を反映した凹凸が形成される
とともに、エッチングによって除去されることなく残っ
た部分が複数の柱状スペーサとなる。
<Modification 6> The method of forming the irregularities on the substrate is not limited to the method described in each of the above embodiments, and various known methods for forming a scattering surface can be used. An example is as follows. That is, first, after the surface of the plate-shaped member (the surface on which the unevenness is to be formed) is roughened with an abrasive, FIG. 3A or FIG.
Is formed. Then, wet etching is performed on the polished surface.
As a result, irregularities reflecting the irregularities formed on the polished surface are formed in the regions removed by the etching, and the remaining portions without being removed by the etching become a plurality of columnar spacers.

【0053】また、上記各実施形態においては、柱状ス
ペーサを形成する工程において同時に凹凸を形成するよ
うにしたが、これに限らず、柱状スペーサを形成する工
程(すなわち、板状部材のうち柱状スペーサを形成すべ
き領域以外の領域を除去する工程)と、当該工程により
複数の柱状スペーサが形成された領域とは異なる領域に
凹凸を形成する工程とを別個に実行するようにしてもよ
い。例えば、図3(a)に示したフォトレジスト200
が形成された板状部材21aの表面に、当該板状部材を
均等な速度で除去し得る処理液をエッチャントとして用
いたエッチングを施して、柱状スペーサが形成されるべ
き領域以外の領域を所定の厚さだけ除去し、この後、除
去された領域を覆うポリイミド等の薄膜を形成するとと
もに、当該薄膜に対してフォトリソグラフィまたはエッ
チング等を施すことによって凹凸を形成するようにして
もよい。
Further, in each of the above embodiments, the unevenness is formed simultaneously in the step of forming the columnar spacer. However, the present invention is not limited to this, and the step of forming the columnar spacer (that is, the columnar spacer of the plate member) is not limited to this. (A step of removing a region other than a region where a plurality of columnar spacers are to be formed) and a step of forming unevenness in a region different from the region where a plurality of columnar spacers are formed in this step. For example, the photoresist 200 shown in FIG.
The surface of the plate-like member 21a on which is formed is subjected to etching using a treatment liquid capable of removing the plate-like member at an even speed as an etchant, and a region other than a region where a columnar spacer is to be formed is subjected to a predetermined process. After removing only the thickness, a thin film of polyimide or the like covering the removed region may be formed, and the thin film may be subjected to photolithography, etching, or the like to form irregularities.

【0054】<変形例7>上記各実施形態および上記各
変形例においては、電気光学材料として液晶を用いた液
晶装置に本発明を適用した場合を例示したが、本発明を
適用できるのはかかる装置に限られるものではなく、電
気光学材料としてエレクトロルミネッセンス素子(E
L)などを用い、その電気光学効果により表示を行う各
種の装置に適用可能である。
<Modification 7> In each of the above embodiments and the above modifications, the case where the present invention is applied to a liquid crystal device using a liquid crystal as an electro-optical material is exemplified. However, the present invention can be applied. The device is not limited to an electroluminescent device (E)
L) and the like, and can be applied to various devices that perform display by the electro-optical effect.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る液晶
装置においては、複数の柱状スペーサが、各々が形成さ
れる面を含む部材と一体に形成されているので、各柱状
スペーサは十分な機械的強度を有し、基板から剥がれに
くいという効果が得られる。
As described above, in the liquid crystal device according to the present invention, a plurality of columnar spacers are formed integrally with a member including a surface on which each of them is formed. The effect of having mechanical strength and being hard to peel off from a substrate is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1実施形態に係る液晶装置の構成
を模式的に表す平面図である。
FIG. 1 is a plan view schematically illustrating a configuration of a liquid crystal device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1におけるA−A’線視断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line A-A 'in FIG.

【図3】 同液晶装置の製造工程を表す図である。FIG. 3 is a view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal device.

【図4】 同液晶装置の製造工程を表す図である。FIG. 4 is a view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal device.

【図5】 板状部材の詳細な構造を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a detailed structure of a plate-like member.

【図6】 同液晶装置の製造工程を表す図である。FIG. 6 is a view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal device.

【図7】 本発明の第2実施形態に係る液晶装置の構成
を模式的に表す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a liquid crystal device according to a second embodiment of the invention.

【図8】 同液晶装置の製造工程を表す図である。FIG. 8 is a view illustrating a manufacturing process of the liquid crystal device.

【図9】 本発明の変形例に係る液晶装置の基板を例示
する断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a substrate of a liquid crystal device according to a modified example of the invention.

【図10】 本発明の変形例に係る液晶装置の背面基板
を例示する断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a rear substrate of a liquid crystal device according to a modified example of the invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……前面基板 11……基板 12……透明電極 13……配向膜 2,2’……背面基板 21……基板 211……柱状スペーサ 212……凹凸 21a……板状部材 22……反射電極 22a……金属膜 23……配向膜 3……液晶(電気光学材料) 4……シール材 5……素子基板 51……基板 52……スイッチング素子 53……画素電極 6……対向基板 61……基板 611……柱状スペーサ 612……凹凸 62……対向電極 62a……金属膜 63……配向膜 101……液晶装置(電気光学装置) 200……フォトレジスト DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Front substrate 11 ... Substrate 12 ... Transparent electrode 13 ... Alignment film 2, 2 '... Back substrate 21 ... Substrate 211 ... Columnar spacer 212 ... Unevenness 21a ... Plate member 22 ... Reflection Electrode 22a Metal film 23 Alignment film 3 Liquid crystal (electro-optical material) 4 Sealing material 5 Element substrate 51 Substrate 52 Switching element 53 Pixel electrode 6 Counter substrate 61 ...... substrate 611 ... columnar spacer 612 ... irregularities 62 ... counter electrode 62a ... metal film 63 ... alignment film 101 ... liquid crystal device (electro-optical device) 200 ... photoresist

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 343 G09F 9/30 343Z Fターム(参考) 2H089 LA04 LA09 LA16 NA14 NA24 PA06 QA02 QA14 TA01 TA02 TA09 TA17 2H090 JA03 JB02 JC03 LA01 LA02 LA20 2H091 FA16Y FB08 FC02 FC26 FD04 GA02 GA08 LA02 5C094 AA36 AA42 AA43 AA48 AA55 BA03 BA27 BA43 CA19 DA12 EA06 EC03 ED11 ED13 FA01 FA02 GB10 JA08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/30 343 G09F 9/30 343Z F term (Reference) 2H089 LA04 LA09 LA16 NA14 NA24 PA06 QA02 QA14 TA01 TA02 TA09 TA17 2H090 JA03 JB02 JC03 LA01 LA02 LA20 2H091 FA16Y FB08 FC02 FC26 FD04 GA02 GA08 LA02 5C094 AA36 AA42 AA43 AA48 AA55 BA03 BA27 BA43 CA19 DA12 EA06 EC03 ED11 ED13 FA01 FA02 GB10 JA08

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向する一対の基板の間に電気光学材料
を挟持してなる電気光学装置であって、 前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板は、 他方の基板に対向する面と一体に形成され、一部が前記
他方の基板に当接する複数の柱状スペーサを具備するこ
とを特徴とする電気光学装置。
1. An electro-optical device in which an electro-optical material is sandwiched between a pair of opposed substrates, wherein at least one of the pair of substrates is integrally formed with a surface facing the other substrate. An electro-optical device comprising a plurality of columnar spacers formed and partially abutting the other substrate.
【請求項2】 前記他方の基板に対向する面のうち複数
の柱状スペーサが形成された領域とは異なる領域には凹
凸が形成され、前記凹凸が形成された領域の少なくとも
一部には、反射膜が形成されていることを特徴とする請
求項1に記載の電気光学装置。
2. An uneven surface is formed in a region of the surface facing the other substrate which is different from a region in which a plurality of columnar spacers are formed, and at least a part of the region in which the uneven surface is formed has reflection. The electro-optical device according to claim 1, wherein a film is formed.
【請求項3】 前記他方の基板は電極を有し、 前記反射膜は、前記他方の基板の電極とともに前記電気
光学材料に所定の電圧を印加するための電極であること
を特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。
3. The method according to claim 2, wherein the other substrate has an electrode, and the reflection film is an electrode for applying a predetermined voltage to the electro-optical material together with the electrode of the other substrate. 3. The electro-optical device according to 2.
【請求項4】 前記柱状スペーサにおいて、前記凹凸が
形成された領域における凸部の頂上部から他方の基板ま
での距離は、3μm以上8μm以下であることを特徴と
する請求項2または3に記載の電気光学装置。
4. The columnar spacer according to claim 2, wherein the distance from the top of the projection to the other substrate in the region where the unevenness is formed is 3 μm or more and 8 μm or less. Electro-optical device.
【請求項5】 一対の基板を、少なくとも一方の基板が
有する複数の柱状スペーサを介して対向させ、両基板の
間に電気光学材料を挟持してなる電気光学装置の製造方
法であって、 前記少なくとも一方の基板のうち他方の基板に対向する
面に、前記複数の柱状スペーサを一体に形成するスペー
サ形成工程と、 少なくとも一方の基板が有する複数の柱状スペーサの一
部が他方の基板に当接するように、前記一対の基板を接
合する接合工程とを有することを特徴とする電気光学装
置の製造方法。
5. A method for manufacturing an electro-optical device, comprising: a pair of substrates opposed to each other via a plurality of columnar spacers of at least one substrate, and an electro-optical material sandwiched between the two substrates. A spacer forming step of integrally forming the plurality of columnar spacers on a surface of at least one of the substrates facing the other substrate; and a part of the plurality of columnar spacers of at least one of the substrates comes into contact with the other substrate And a bonding step of bonding the pair of substrates as described above.
【請求項6】 前記スペーサ形成工程においては、一方
の基板において他方の基板に対向する面のうち、前記複
数の柱状スペーサを形成すべき領域以外の領域を所定の
厚さだけ除去することにより、前記複数の柱状スペーサ
を形成することを特徴とする請求項5に記載の電気光学
装置の製造方法。
6. In the spacer forming step, a region other than a region where the plurality of columnar spacers is to be formed on a surface of one substrate facing the other substrate is removed by a predetermined thickness. The method according to claim 5, wherein the plurality of columnar spacers are formed.
【請求項7】 前記スペーサ形成工程においては、ケミ
カルエッチング法を用いて、一方の基板において他方の
基板に対向する面のうちの一部を除去することを特徴と
する請求項6に記載の電気光学装置の製造方法。
7. The electric device according to claim 6, wherein in the spacer forming step, a part of a surface of the one substrate facing the other substrate is removed by using a chemical etching method. A method for manufacturing an optical device.
【請求項8】 前記スペーサ形成工程においては、一方
の基板において他方の基板に対向する面のうち、前記複
数の柱状スペーサを形成すべき領域以外の領域を所定の
厚さだけ除去するとともに、除去された部分の表面に凹
凸を形成し、 前記凹凸が形成された領域のうちの少なくとも一部に、
反射膜を形成する導電膜形成工程を有することを特徴と
する請求項6または7に記載の電気光学装置の製造方
法。
8. In the spacer forming step, a region other than a region where the plurality of columnar spacers is to be formed on a surface of one substrate facing the other substrate is removed by a predetermined thickness, and the spacer is removed. Forming irregularities on the surface of the portion where the irregularities are formed, at least a part of the region where the irregularities are formed,
The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 6, further comprising a conductive film forming step of forming a reflective film.
【請求項9】 一方の基板において他方の基板に対向す
る面のうち複数の柱状スペーサが形成される領域とは異
なる領域に凹凸を形成する凹凸形成工程と、 前記凹凸が形成された領域のうちの少なくとも一部に、
反射膜を形成する反射膜形成工程とを有することを特徴
とする請求項6または7に記載の電気光学装置の製造方
法。
9. An unevenness forming step of forming unevenness in a region of one substrate facing the other substrate which is different from a region where a plurality of columnar spacers are formed; At least in part,
8. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 6, further comprising a step of forming a reflective film.
【請求項10】 前記導電膜形成工程においては、スパ
ッタ法、イオンプレーティング法または蒸着法を用いて
前記導電膜を形成することを特徴とする請求項8または
9に記載の電気光学装置の製造方法。
10. The method according to claim 8, wherein in the conductive film forming step, the conductive film is formed by using a sputtering method, an ion plating method, or an evaporation method. Method.
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