JP2001293970A - Original plate for heat sensitive lithographic printing - Google Patents

Original plate for heat sensitive lithographic printing

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JP2001293970A
JP2001293970A JP2000112285A JP2000112285A JP2001293970A JP 2001293970 A JP2001293970 A JP 2001293970A JP 2000112285 A JP2000112285 A JP 2000112285A JP 2000112285 A JP2000112285 A JP 2000112285A JP 2001293970 A JP2001293970 A JP 2001293970A
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JP
Japan
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heat
layer
lithographic printing
hydrophilic layer
aluminum
Prior art date
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Application number
JP2000112285A
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Japanese (ja)
Inventor
Hisashi Hotta
久 堀田
Nobuyuki Kita
信行 喜多
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate for heat sensitive lithographic printing, which is capable of printing directly through a printer without processing after exposure and provided with the substrate of an aluminum film improved in a sensitivity. SOLUTION: The original plate for heat sensitive lithographic printing is provided on the aluminum substrate with an ink receptor layer as well as a hydrophilic layer containing a colloidal granular oxide or the hydrogenate of at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metal while at least one layer of the ink receptor layer and the hydrophilic layer contains a light/heat converting agent. In this case, the aluminum substrate is characterized by having an anodized film of 2 g/m2 or more and receiving the application of bore widening treatment as well as the sealing treatment of more than 50% of sealing rate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要な感熱性
平版印刷用原板に関する。より詳しくは、デジタル信号
に基づいた赤外線レーザビーム走査露光による画像記録
が可能であり、画像記録したものを従来のような現像工
程を経ることなしに、そのまま印刷機に装着し印刷する
ことが可能な平版印刷用原板であって、感度を向上させ
た平版印刷用原板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat-sensitive lithographic printing plate not requiring development. More specifically, image recording by infrared laser beam scanning exposure based on digital signals is possible, and the recorded image can be mounted on a printing machine and printed without going through the conventional development process The present invention relates to a lithographic printing plate having improved sensitivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】露光後、処理をしないでそのまま印刷機
に装着して印刷することができる平版印刷版用原板につ
いては、種々の方法が提案されている。有望な方法の一
つは、半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外
線レーザで露光し、露光部分を光を熱に変換する光熱変
換剤で発熱させ、分解蒸発を起こさせるアブレーション
を利用した方法である。すなわち、親油性でインキ受容
性表面または親油性のインキ受容層を有する基板上に親
水層を設け、親水層をアブレーション除去する方法であ
る。
2. Description of the Related Art Various methods have been proposed for a lithographic printing plate precursor that can be mounted on a printing machine without any processing after exposure and printing can be performed. One of the promising methods is a method using ablation in which a solid-state high-power infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser is used for exposure, and the exposed portion is heated with a photothermal conversion agent that converts light into heat, thereby causing decomposition and evaporation. It is. That is, a hydrophilic layer is provided on a substrate having a lipophilic ink-receiving surface or a lipophilic ink-receiving layer, and the hydrophilic layer is ablated and removed.

【0003】例えば、WO98/40212号公報に
は、基板上に、光を熱に変換する光熱変換剤を含有する
インキ受容層、その上に珪素などのコロイド粒子状酸化
物または水酸化物を含んだ親水層を有する感熱性平版印
刷用原板が開示されている。
[0003] For example, WO98 / 40212 discloses an ink receiving layer containing a photothermal converting agent for converting light into heat on a substrate, and a colloidal particulate oxide or hydroxide such as silicon on the ink receiving layer. A heat-sensitive lithographic printing plate having a hydrophilic layer is disclosed.

【0004】WO99/19143号公報には、インキ
受容層だけでなく、親水層にも光熱変換剤を添加するこ
とが開示されている。また、WO99/19144号公
報には、支持体と親水層との間に熱可塑性ポリマーなど
からなる断熱層を設けることが開示されている。これら
の公報の目的は、上記WO98/40212号の場合、
光熱変換剤が基板に隣接した層に含まれているため、発
生した熱が基板に拡散してアブレーションに使われる熱
の割合を減少させ、結果として感熱性平版印刷用原板の
感度が低くなる問題の改良であった。
[0004] WO 99/19143 discloses that a photothermal conversion agent is added not only to the ink receiving layer but also to the hydrophilic layer. WO 99/19144 discloses that a heat insulating layer made of a thermoplastic polymer or the like is provided between a support and a hydrophilic layer. The purpose of these publications is, in the case of WO 98/40212,
Since the light-to-heat conversion agent is contained in the layer adjacent to the substrate, the generated heat diffuses to the substrate and reduces the proportion of heat used for ablation, resulting in lower sensitivity of the heat-sensitive lithographic printing plate. It was an improvement.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報の技術によっても、特にアルミニウム板のごとき高熱
伝導率の材料を支持体とする場合、支持体への熱の拡散
の影響は大きく、感熱性平版印刷用原板の感度は、まだ
不十分だった。
However, according to the technique disclosed in the above publication, even when a material having a high thermal conductivity such as an aluminum plate is used as a support, the effect of diffusion of heat to the support is large, and a heat-sensitive lithographic plate is used. The sensitivity of the printing plate was still insufficient.

【0006】従って、本発明の目的は、上記の問題を解
決することである。すなわち、本発明の目的は、露光
後、処理を行うことなく直接印刷機に装着して印刷する
ことが可能であり、感度の改良された、アルミニウム板
を支持体とする感熱性平版印刷用原板を提供することに
ある。
Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems. That is, an object of the present invention is to provide a heat-sensitive lithographic printing plate precursor having an aluminum plate as a support, which can be directly mounted on a printing machine and printed without any processing after exposure, and has improved sensitivity. Is to provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、アルミニウム板を支持体とする場合、その陽極酸
化皮膜のマイクロポアを溶解、拡大し、さらに封孔処理
することにより、高感度が得られることを見出し、本発
明に至った。すなわち、本発明は、以下の通りである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventor has found that when an aluminum plate is used as a support, the micropores of the anodic oxide film are dissolved and enlarged, and furthermore, a sealing treatment is carried out. The inventors have found that sensitivity can be obtained, and have reached the present invention. That is, the present invention is as follows.

【0008】1.アルミニウム支持体上に、a)インキ
受容層、およびb)ベリリウム、マグネシウム、アルミ
ニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジ
ルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金
属から選択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子
状酸化物または水酸化物を含有する親水層を有し、イン
キ受容層および親水層のうちの少なくとも一つの層が光
熱変換剤を含有する感熱性平版印刷用原板であって、ア
ルミニウム支持体が、2g/m2以上の陽極酸化皮膜を
有し、ポアワイドニング処理、および封孔率50%以上
の封孔処理を施されていることを特徴とする感熱性平版
印刷用原板。
[0008] 1. On an aluminum support, a) an ink-receiving layer, and b) at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metals. A heat-sensitive lithographic printing plate having a hydrophilic layer containing a colloidal particulate oxide or hydroxide, wherein at least one of the ink-receiving layer and the hydrophilic layer contains a light-to-heat conversion agent; A heat-sensitive lithographic printing plate, wherein the body has an anodic oxide film of 2 g / m 2 or more, and has been subjected to a pore widening treatment and a sealing treatment with a sealing ratio of 50% or more.

【0009】2.アルミニウム支持体上に、a)インキ
受容層、b)請求項1記載の親水層、およびc)水溶性
オーバーコート層を有し、インキ受容層、親水層および
水溶性オーバーコート層のうちの少なくとも一つの層が
光熱変換剤を含有する感熱性平版印刷用原板であって、
アルミニウム支持体が、2g/m2以上の陽極酸化皮膜
を有し、ポアワイドニング処理、および封孔率50%以
上の封孔処理を施されていることを特徴とする感熱性平
版印刷用原板。
[0009] 2. A) an ink-receiving layer, b) the hydrophilic layer according to claim 1 and c) a water-soluble overcoat layer on an aluminum support, wherein at least one of the ink-receiving layer, the hydrophilic layer and the water-soluble overcoat layer is provided. One layer is a heat-sensitive lithographic printing plate containing a photothermal conversion agent,
A heat-sensitive lithographic printing plate, wherein the aluminum support has an anodic oxide film of 2 g / m 2 or more, and has been subjected to pore widening treatment and sealing treatment with a sealing ratio of 50% or more. .

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明に用いるアルミニウム支持体
は、2.0g/m2以上の陽極酸化皮膜を有し、ポアワ
イドニング処理、および封孔率50%以上の封孔処理を
施されたアルミニウム板である。本発明のアルミニウム
支持体に用いられる原料アルミニウム板は、従来より公
知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することが
できる。すなわち、原料アルミニウム板は、純アルミニ
ウム板、あるいはアルミニウムを主成分とし、微量の異
元素を含む合金板である。アルミニウム合金に含まれる
異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどが
ある。合金中の異元素の含有量は10重量%以下であ
る。また、DC鋳造法を用いたアルミニウム鋳塊からの
アルミニウム板でも、連続鋳造法による鋳塊からのアル
ミニウム板であっても良い。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. The aluminum support used in the present invention is an aluminum plate having an anodized film of 2.0 g / m 2 or more, and having been subjected to a pore widening treatment and a sealing treatment with a sealing ratio of 50% or more. As the raw aluminum plate used for the aluminum support of the present invention, an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. That is, the raw aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by weight or less. Further, an aluminum plate from an aluminum ingot using the DC casting method or an aluminum plate from an ingot using the continuous casting method may be used.

【0011】本発明に用いられる上記アルミニウム基板
の厚みは0.05〜0.6mm、好ましくは0.1〜
0.4mm、特に好ましくは0.15〜0.3mmであ
る。
The thickness of the aluminum substrate used in the present invention is 0.05 to 0.6 mm, preferably 0.1 to 0.6 mm.
It is 0.4 mm, particularly preferably 0.15 to 0.3 mm.

【0012】アルミニウム板を陽極酸化処理するに先立
ち、表面を粗面化することが好ましい。粗面化により表
面積を増大させ、上層との接着性を向上できる。アルミ
ニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われ
るが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に
表面を溶解粗面化する方法、化学的に表面を選択溶解さ
せる方法、あるいはこれらの方法のうち2種以上の組み
合わせによって行われる。機械的方法としては、ボール
研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法な
どの公知の方法を用いることができる。化学的方法とし
ては、特開昭54−31187号公報に記載されている
ような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方
法が適している。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸または硝酸などの酸を含む電解液中で交流または直
流により行う方法がある。また、特開昭54−6390
2号に記載されているように混合酸を用いた電解粗面化
方法も利用することができる。上記の如き方法による粗
面化は、アルミニウム板表面の中心線平均粗さ(Ha)
が0.3〜1.0μmの範囲で施されることが好まし
い。
Prior to anodizing the aluminum plate, it is preferable to roughen the surface. Roughening can increase the surface area and improve the adhesion to the upper layer. The surface roughening treatment of the aluminum plate surface is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by a method or a combination of two or more of these methods. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. As a chemical method, a method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in JP-A-54-31187 is suitable. As an electrochemical surface roughening method, there is a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-6390
An electrolytic surface roughening method using a mixed acid as described in No. 2 can also be used. The surface roughening by the above-mentioned method is performed by using the center line average roughness (Ha) of the aluminum plate surface.
Is preferably applied in the range of 0.3 to 1.0 μm.

【0013】粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じて水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液に
よるアルカリエッチング処理をされ、さらに中和処理さ
れた後、陽極酸化処理を施される。
The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment with an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide, if necessary, further neutralized, and then anodized.

【0014】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には、硫酸、リン酸、蓚
酸、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、
あるいは、それらの混酸が用いられる。これらの電解質
の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸
化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一
概に特定し得ないが、一般的には、電解質の濃度が1〜
80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60
A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜50分
の範囲であれば適当である。これらの陽極酸化処理の中
でも、特に、英国特許1,412,768号公報に記載
されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法およ
び米国特許3,511,661号公報に記載されている
リン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, sulfamic acid, Benzenesulfonic acid,
Alternatively, their mixed acids are used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally.
80% by weight solution, liquid temperature 5 to 70 ° C, current density 5 to 60
A / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 50 minutes are appropriate. Among these anodizing treatments, in particular, a method of anodizing with high current density in sulfuric acid described in British Patent No. 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661 are described. A method of performing anodic oxidation using phosphoric acid as an electrolytic bath is preferable.

【0015】本発明のアルミニウム支持体の酸化皮膜量
は、好ましくは2.0g/m2以上、より好ましくは
2.0〜6.0g/m2で、特に好ましくは2.0〜
5.0g/m2である。2.0g/m2未満では、ポアワ
イドニング処理し、封孔した場合の高感度化の効果が不
十分である。
The amount of the oxide film on the aluminum support of the present invention is preferably 2.0 g / m 2 or more, more preferably 2.0 to 6.0 g / m 2 , and particularly preferably 2.0 to 6.0 g / m 2.
It is 5.0 g / m 2 . If it is less than 2.0 g / m 2 , the effect of increasing sensitivity when pore widening treatment is performed and sealing is insufficient.

【0016】本発明においては、陽極酸化条件を最適化
することによってマイクロポアの分布密度を調製した
後、マイクロポアのサイズを拡げる目的で酸またはアル
カリ水溶液によって処理(ポアワイドニング処理)する
ことを特徴とする。この処理は、陽極酸化皮膜が形成さ
れたアルミニウム基板を酸またはアルカリ水溶液に浸漬
し、陽極酸化皮膜を、好ましくは0.05〜20g/m
2、より好ましくは0.1〜5g/m2、特に好ましくは
0.2〜4g/m2溶解する。
In the present invention, after the distribution density of the micropores is adjusted by optimizing the anodic oxidation conditions, treatment with an acid or alkali aqueous solution (pore widening treatment) for the purpose of expanding the size of the micropores is considered. Features. In this treatment, the aluminum substrate on which the anodic oxide film is formed is immersed in an aqueous acid or alkali solution, and the anodic oxide film is preferably treated at 0.05 to 20 g / m 2.
2 , more preferably 0.1 to 5 g / m 2 , particularly preferably 0.2 to 4 g / m 2 .

【0017】上記の皮膜溶解量を得るための処理条件と
して、以下の条件範囲が望ましい。具体的条件範囲とし
て、酸水溶液で処理する場合には、硫酸、リン酸などの
無機酸、またはこれらの混合物の水溶液を用いることが
好ましく、濃度としては、好ましくは10〜500g/
l、より好ましくは20〜100g/l、温度として
は、好ましくは10〜90℃、より好ましくは40〜7
0℃、浸漬処理時間としては、好ましくは10〜300
秒、より好ましくは30〜120秒である。一方アルカ
リ水溶液で処理する場合には、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、あるいはこれらの混合物
の水溶液を用いることが好ましく、その水溶液のpHと
しては、好ましくは9〜13、より好ましくは11.5
〜12.5であり、温度としては、好ましくは10〜9
0℃、より好ましくは30〜50℃、浸漬処理時間とし
ては、好ましくは1〜300秒、より好ましくは5〜3
0秒である。この範囲内で、溶解するまでの時間が著し
く長くなり作業効率が低下してしまったり、あるいは極
端な短時間で溶解してしまうため実用上制御ができなく
なってしまうことなく、良好なポアワイドニング処理が
できる。
The following conditions are desirable as processing conditions for obtaining the above-mentioned film dissolving amount. As a specific condition range, when treating with an aqueous acid solution, it is preferable to use an aqueous solution of an inorganic acid such as sulfuric acid or phosphoric acid or a mixture thereof, and the concentration is preferably 10 to 500 g /
l, more preferably 20 to 100 g / l, and the temperature is preferably 10 to 90 ° C, more preferably 40 to 7 ° C.
0 ° C., the immersion time is preferably 10 to 300
Seconds, more preferably 30 to 120 seconds. On the other hand, when treating with an alkaline aqueous solution, it is preferable to use an aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, or a mixture thereof, and the pH of the aqueous solution is preferably 9 to 13, more preferably 11.5
To 12.5, and the temperature is preferably 10 to 9
0 ° C, more preferably 30 to 50 ° C, and the immersion time is preferably 1 to 300 seconds, more preferably 5 to 3 seconds.
0 seconds. Within this range, good pore widening can be achieved without significantly shortening the time required to dissolve and reducing the working efficiency, or dissolving in an extremely short time and preventing practical control. Can be processed.

【0018】本発明の陽極酸化皮膜を有するアルミニウ
ム基板は、ポアワイドニング処理後に封孔処理をされ
る。封孔率は、好ましくは50%以上、より好ましくは
90%以上である。ここで、封孔率(%)は下記の式で
定義される。 封孔率=100×(未封孔の表面積−封孔後の表面積)
÷(未封孔の表面積) 上記表面積は、簡易BET方式であるQUANTASORB(カンタ
ソーブ、湯浅アイオニクス(株)製)を使って測定した
値である。
The aluminum substrate having the anodic oxide film of the present invention is subjected to a pore sealing treatment after the pore widening treatment. The sealing rate is preferably 50% or more, more preferably 90% or more. Here, the sealing rate (%) is defined by the following equation. Sealing rate = 100 × (surface area of unsealed area−surface area after sealed area)
÷ (Surface Area of Unsealed Hole) The above surface area is a value measured using QUANTASORB (Cantasorb, manufactured by Yuasa Ionics Co., Ltd.) which is a simple BET method.

【0019】適用される封孔処理としては、熱水処理、
沸騰水処理、水蒸気処理、重クロム酸塩処理、亜硝酸塩
処理、酢酸アンモニウム塩処理、電着封孔処理などの公
知の方法を用いて行うことができる。熱水処理、水蒸気
処理、あるいは沸騰水処理方法としては、例えば、特開
平4−176690号、同5−131773号など数多
くの公知例がある。処理温度は95〜200℃程度、好
ましくは100〜150℃程度がよく、処理時間は、1
00℃では5〜150秒間程度、150℃では1〜30
秒間程度が好ましい。
As the sealing treatment to be applied, hot water treatment,
It can be carried out using a known method such as boiling water treatment, steam treatment, dichromate treatment, nitrite treatment, ammonium acetate treatment, and electrodeposition sealing treatment. As the hot water treatment, steam treatment, or boiling water treatment method, there are many known examples such as JP-A Nos. 4-176690 and 5-131773. The processing temperature is about 95 to 200 ° C., preferably about 100 to 150 ° C.
About 5 to 150 seconds at 00 ° C, 1 to 30 at 150 ° C
About a second is preferable.

【0020】別の封孔処理として、特公昭36−220
63号などに記載されているようなフッ化ジルコン酸処
理を用いることもできる。あるいは、特開平9−244
227号に記載されているリン酸塩および無機フッ素化
合物を含む水溶液で処理する方法を用いることができ
る。また、特開平9−134002号に記載されている
糖を含む水溶液で処理する方法を用いることもできる。
そのほか、特願平10−252078号および同10−
253411号に記載されているチタンとフッ素を含む
水溶液で処理する方法を用いることができる。また、ア
ルカリ金属珪酸塩を用いた処理を行ってもよく、その場
合は、米国特許3181461号などに記載されている
方法を用いることができる。
As another sealing treatment, JP-B-36-220
No. 63 or the like can be used. Alternatively, JP-A-9-244
No. 227, a method of treating with an aqueous solution containing a phosphate and an inorganic fluorine compound can be used. Further, the method of treating with an aqueous solution containing a saccharide described in JP-A-9-134002 can also be used.
In addition, Japanese Patent Application Nos. 10-252078 and 10-
The method of treating with an aqueous solution containing titanium and fluorine described in No. 253411 can be used. Further, a treatment using an alkali metal silicate may be performed. In that case, a method described in US Pat. No. 3,181,461 can be used.

【0021】アルカリ金属珪酸塩処理では、液のゲル化
および陽極酸化皮膜の溶解を起こすことのない25℃で
のpHが10〜13であるアルカリ金属珪酸酸塩水溶液
を用いて、アルカリ金属珪酸塩濃度、処理温度、処理時
間などの処理条件を適宜選択して封孔処理を行うことが
できる。好適なアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどを挙げること
ができる。また、アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHを高
く調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウムなどを配合することができる。
In the alkali metal silicate treatment, an alkali metal silicate aqueous solution having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. which does not cause gelation of the solution and dissolution of the anodic oxide film is used. The sealing process can be performed by appropriately selecting processing conditions such as concentration, processing temperature, and processing time. Suitable alkali metal silicates include sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like. In order to adjust the pH of the alkali metal silicate aqueous solution to a high value, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, or the like can be added.

【0022】さらに必要に応じて、アルカリ金属珪酸塩
水溶液にアルカリ土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を
配合してもよい。このアルカリ土類金属塩としては、硝
酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウ
ム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、これらのアルカリ
土類金属の硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、蓚酸
塩、硼酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金
属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チ
タンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨ
ウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウ
ム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなど
を挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは第
IVB族金属塩は、単独または2種以上組み合わせて使用
することができる。これらの金属塩の好ましい使用量範
囲は0.01〜10重量%であり、さらに好ましい範囲
は0.05〜5.0重量%である。
If necessary, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the aqueous alkali metal silicate solution. Examples of the alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates, and borates of these alkaline earth metals. And water-soluble salts such as salts. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, and the like. be able to. Alkaline earth metal salt or No.
Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred use amount range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight, and the more preferred range is 0.05 to 5.0% by weight.

【0023】本発明に用いられるインキ受容層は、有機
高分子を含有する。有機高分子としては、溶媒に可溶
で、親油性の被膜を形成できるものである。さらには、
上層である親水層の塗布溶媒に不溶であることが望まし
いが、場合によっては一部上層の塗布溶媒に膨潤するも
のが、親水層との接着性に優れ、望ましい場合がある。
その他、親水層の塗布溶媒に可溶な有機高分子を用いる
場合には、架橋剤を添加する等の工夫をして、インキ受
容層を硬化させておくことが望ましい。
The ink receiving layer used in the present invention contains an organic polymer. The organic polymer is soluble in a solvent and can form a lipophilic film. Moreover,
It is desirable that the solvent is insoluble in the coating solvent of the upper hydrophilic layer. However, in some cases, a material which swells in the upper layer coating solvent has excellent adhesiveness to the hydrophilic layer, and may be desirable.
In addition, when an organic polymer that is soluble in the coating solvent for the hydrophilic layer is used, it is desirable to cure the ink receiving layer by devising, for example, adding a crosslinking agent.

【0024】有用な有機高分子としては、ポリエステ
ル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロ
キサン、ポリカーボネート、フェノキシ樹脂、エポキシ
樹脂、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、フェノール化合
物とアセトンとの縮合樹脂、ポリビニルアセテート、ア
クリル樹脂及びその共重合体、ポリビニルフェノール、
ポリビニルハロゲン化フェノール、メタクリル樹脂及び
その共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルア
ミド共重合体、ポリビニルフォルマール、ポリアミド、
ポリビニルブチラール、ポリスチレン、セルロースエス
テル樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン等を挙
げることができる。これらの中で、より好ましい化合物
として、側鎖にヒドロキシル基、カルボキシル基、スル
ホンアミド基やトリアルコキシシリル基を有する樹脂
が、基板や上層の親水層との接着性に優れ、場合によっ
て架橋剤で容易に硬化するので望ましい。その他、アク
リロニトリル共重合体、ポリウレタン、側鎖にスルホン
アミド基を有する共重合体や側鎖にヒドロキシル基を有
する共重合体をジアゾ樹脂によって光硬化させたものが
好ましい。
Examples of useful organic polymers include polyesters, polyurethanes, polyureas, polyimides, polysiloxanes, polycarbonates, phenoxy resins, epoxy resins, novolak resins, resole resins, condensation resins of phenol compounds and acetone, polyvinyl acetate, and acrylic resins. And its copolymer, polyvinylphenol,
Polyvinylhalogenated phenol, methacrylic resin and its copolymer, acrylamide copolymer, methacrylamide copolymer, polyvinylformal, polyamide,
Examples thereof include polyvinyl butyral, polystyrene, cellulose ester resin, polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride. Among these, as a more preferable compound, a resin having a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonamide group or a trialkoxysilyl group in a side chain is excellent in adhesion to a substrate or an upper hydrophilic layer, and in some cases, a crosslinking agent. It is desirable because it cures easily. In addition, an acrylonitrile copolymer, polyurethane, a copolymer having a sulfonamide group in a side chain or a copolymer having a hydroxyl group in a side chain, which is photocured with a diazo resin, is preferable.

【0025】ノボラック樹脂およびレゾール樹脂として
は、フェノール、クレゾール(m−クレゾール、p−ク
レゾール、m/p混合クレゾール)、フェノール/クレ
ゾール(m−クレゾール、p−クレゾール、m/p混合
クレゾール)、フェノール変性キシレン、t−ブチルフ
ェノール、オクチルフェノール、レゾルシノール、ピロ
ガロール、カテコール、クロロフェノール(m−Cl、
p−Cl)、ブロモフェノール(m−Br、p−B
r)、サリチル酸、フロログルシノールなどと、アルデ
ヒド、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒ
ドなどとの付加縮合物を挙げることができる。
The novolak resin and the resol resin include phenol, cresol (m-cresol, p-cresol, m / p mixed cresol), phenol / cresol (m-cresol, p-cresol, m / p mixed cresol), phenol Modified xylene, t-butylphenol, octylphenol, resorcinol, pyrogallol, catechol, chlorophenol (m-Cl,
p-Cl), bromophenol (m-Br, p-B
r), addition condensation products of salicylic acid, phloroglucinol and the like with aldehydes such as formaldehyde and paraformaldehyde.

【0026】その他の好適な高分子化合物として以下
(1)〜(12)に示すモノマーをその構成単位とする
通常1〜20万の平均分子量を持つ共重合体を挙げるこ
とができる。 (1)芳香族ヒドロキシ基を有するアクリルアミド類、
メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばN
−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN
−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o
−、m−およびp−ヒドロキシスチレン、o−、m−お
よびp−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタク
リレート、(2)脂肪族ヒドロキシ基を有するアクリル
酸エステル類およびメタクリル酸エステル類、例えば、
2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、(3)アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル
酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フ
ェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロ
エチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジル
アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレ
ートなどのアクリル酸エステル、
As other suitable high molecular compounds, there can be mentioned copolymers having the average molecular weight of usually from 100,000 to 200,000, using the monomers shown in the following (1) to (12) as constituent units. (1) acrylamides having an aromatic hydroxy group,
Methacrylamides, acrylates, methacrylates and hydroxystyrenes such as N
-(4-hydroxyphenyl) acrylamide or N
-(4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o
-, M- and p-hydroxystyrene, o-, m- and p-hydroxyphenyl acrylate or methacrylate, (2) acrylates and methacrylates having an aliphatic hydroxy group, for example,
2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, (3) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate Acrylates such as benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, glycidyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate,

【0027】(4)メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
2−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルメタクリレート、N,N−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレートなどのメタクリル酸エステル、
(5)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−エチルメタクリル
アミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−ヘキシルメ
タクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、
N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドロキシ
エチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリル
アミド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ベ
ンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−ニトロフェニルメタクリルアミド、N−エ
チル−N−フェニルアクリルアミドおよびN−エチル−
N−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルアミドも
しくはメタクリルアミド、
(4) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate,
Amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid
Methacrylic acid esters such as 2-chloroethyl, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate;
(5) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-hexylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide,
N-cyclohexylmethacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N-benzylacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-nitrophenyl Methacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-
Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylmethacrylamide,

【0028】(6)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル、(7)ビニルアセテート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルな
どのビニルエステル、(8)スチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、(9)メ
チルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニ
ルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン、
(10)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレンなどのオレフィン、(11)N−ビニ
ルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピ
リジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど、
(6) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether; (7) vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; (8) styrenes such as styrene, methyl styrene and chloromethyl styrene; Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone;
(10) olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene; (11) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc.

【0029】(12)N−(o−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニル
フェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノス
ルホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミ
ノスルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルア
ミド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホ
ニル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)メタクリルアミドなどのスルホンア
ミド基含有アクリルアミドまたはメタクリルアミド類、
また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレート、m
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノ
スルホニルフェニルアクリレート、1−(3−アミノス
ルホニルフェニルナフチル)アクリレート、o−アミノ
スルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホ
ニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニルフ
ェニルナフチル)メタクリレートなどのスルホンアミド
基含有アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル
類。
(12) N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) Naphthyl] acrylamide, acrylamides such as N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonyl) Acrylamide or methacrylamides containing a sulfonamide group such as phenyl) methacrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] methacrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide;
Further, o-aminosulfonylphenyl acrylate, m
-Aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminosulfonylphenyl acrylate, 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) acrylate, o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, 1- (3 -Sulfonamide group-containing acrylates or methacrylates such as -aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate.

【0030】これらの有機高分子を適当な溶媒に溶解さ
せて、基板上に塗布乾燥させインキ受容層を基板上に設
けることができる。有機高分子のみを溶媒に溶解させて
用いることもできるが、架橋剤、接着助剤、着色剤、無
機または有機の微粒子、塗布面状改良剤、可塑剤を必要
に応じて添加することができる。その他、露光後のプリ
ントアウト画像を形成させるための加熱発色系あるいは
消色系添加剤が添加されてもよい。
These organic polymers can be dissolved in an appropriate solvent, applied to a substrate and dried to form an ink receiving layer on the substrate. Although it is possible to use only an organic polymer dissolved in a solvent, a crosslinking agent, an adhesion aid, a coloring agent, inorganic or organic fine particles, a coating surface condition improving agent, and a plasticizer can be added as necessary. . In addition, a heat coloring or decoloring additive for forming a printout image after exposure may be added.

【0031】有機高分子を架橋させる架橋剤としては、
例えば、ジアゾ樹脂、芳香族アジド化合物、エポキシ樹
脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化
合物、テトラアルコキシ珪素の初期加水分解縮合物、グ
リオキザール、アルデヒド化合物やメチロール化合物を
挙げることができる。
As a crosslinking agent for crosslinking an organic polymer,
For example, a diazo resin, an aromatic azide compound, an epoxy resin, an isocyanate compound, a blocked isocyanate compound, an initial hydrolysis condensate of tetraalkoxy silicon, glyoxal, an aldehyde compound and a methylol compound can be exemplified.

【0032】接着助剤としては、上記ジアゾ樹脂が基板
および親水層との接着に優れるが、この他にシランカッ
プリング剤、イソシアネート化合物、チタン系カップリ
ング剤も有用である。
As the adhesion aid, the above diazo resin is excellent in adhesion to a substrate and a hydrophilic layer. In addition, a silane coupling agent, an isocyanate compound and a titanium coupling agent are also useful.

【0033】着色剤としては、通常の染料や顔料が用い
られるが、特にローダミン6G塩化物、ローダミンB塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、キニザリン、2−(α−ナフチル)−5−フ
ェニルオキサゾールなどが挙げられる。他の染料として
具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー
#103、オイルピンク#312、オイルグリーンB
G、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイ
ルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラック
T−505(以上、オリエント化学工業(株)製)、ビ
クトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI
42555)、メチルバイオレット(CI4253
5)、エチルバイオレット、メチレンブルー(CI52
015)、パテントピュアブルー(住友三国化学社
製)、ブリリアントブルー、メチルグリーン、エリスリ
シンB、ベーシックフクシン、m−クレゾールパープ
ル、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルア
セトアニリドなどに代表されるトリフェニルメタン系、
ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イ
ミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアントラキノ
ン系の染料あるいは特開昭62−293247号公報、
特開平9−179290号公報に記載されている染料を
挙げることができる。上記色素は、インキ受容層中に添
加される場合は受容層の全固形分に対し、通常約0.0
2〜10重量%、より好ましくは約0.1〜5重量%の
割合ある。
As the coloring agent, ordinary dyes and pigments are used. In particular, rhodamine 6G chloride, rhodamine B chloride, crystal violet, malachite green oxalate, quinizarin, 2- (α-naphthyl) -5- Phenyloxazole and the like. Specific examples of other dyes include Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green B
G, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI
42555), methyl violet (CI4253)
5), ethyl violet, methylene blue (CI52
015), Patent Pure Blue (manufactured by Sumitomo Sangoku Chemical), brilliant blue, methyl green, erythricin B, basic fuchsin, m-cresol purple, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminaphthoquinone, cyano-p-diethylaminophenylacetanilide, etc. Triphenylmethane series represented by
Diphenylmethane, oxazine, xanthene, iminonaphthoquinone, azomethine or anthraquinone dyes or JP-A-62-293247,
Dyes described in JP-A-9-179290 can be exemplified. When the above dye is added to the ink receiving layer, it is usually used in an amount of about 0.0
The proportion is 2 to 10% by weight, more preferably about 0.1 to 5% by weight.

【0034】さらに、塗布面状改良剤としてよく知られ
た化合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活
性剤も用いることができる。具体的にはパーフルオロア
ルキル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が
塗布面上を整えることで有用である。
Further, fluorine-based surfactants and silicon-based surfactants, which are well-known compounds as coating surface condition improvers, can also be used. Specifically, a surfactant having a perfluoroalkyl group or a dimethylsiloxane group is useful for preparing the coated surface.

【0035】本発明で用いることができる無機または有
機の微粉末としては10〜100nmまでのコロイダル
シリカやコロイダルアルミニウム、さらには、これらの
コロイドより大きい粒径の不活性粒子、例えば、シリカ
粒子、表面疎水化したシリカ粒子、アルミナ粒子、二酸
化チタン粒子、その他重金属粒子、クレーやタルク等を
挙げることができる。これらの無機または有機の微粉末
をインキ受容層中に添加することによって、上層の親水
層との接着性を改良し、印刷における耐刷力を増加させ
る効果がある。インキ受容層におけるこれらの微粉末の
添加割合は、好ましくはインキ受容層固形分の80重量
%以下、より好ましくは40重量%以下である。
The inorganic or organic fine powder which can be used in the present invention includes colloidal silica and colloidal aluminum having a diameter of from 10 to 100 nm, and inert particles having a particle size larger than these colloids, for example, silica particles and surface particles. Hydrophobized silica particles, alumina particles, titanium dioxide particles, other heavy metal particles, clay, talc and the like can be mentioned. The addition of these inorganic or organic fine powders to the ink receiving layer has the effect of improving the adhesion to the upper hydrophilic layer and increasing the printing durability in printing. The proportion of these fine powders added to the ink receiving layer is preferably not more than 80% by weight, more preferably not more than 40% by weight of the solid content of the ink receiving layer.

【0036】さらに、本発明のインキ受容層には必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フクル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the ink receiving layer of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And a polymer.

【0037】さらに、本発明のインキ受容層に添加でき
る発色または消色系の添加剤としては、例えば、ジアゾ
化合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸発生剤
とロイコ染料(ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリ
スタルバイオレット、クリスタルバイオレットのラクト
ン体等)やPH変色染料(例えば、エチルバイオレッ
ト、ビクトリアピュアーブルーBOH等の染料)が組み
合わせて用いられる。その他、EP897134号明細
書に記載されているような、酸発色染料と酸性バインダ
ーの組合わせも有効である。この場合、加熱によって染
料を形成している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が
形成して有色から無色に変化する。これらの添加剤の添
加割合は、好ましくはインキ受容層固形分に対し10重
量%以下、より好ましくは5重量%以下である。
Further, the color-forming or decoloring-type additives which can be added to the ink receiving layer of the present invention include, for example, thermal acid generators such as diazo compounds and diphenyliodonium salts and leuco dyes (leucomalachite green, leuco crystal). Violet, a lactone of crystal violet, etc.) and a PH discoloration dye (for example, a dye such as ethyl violet or Victoria Pure Blue BOH) are used in combination. In addition, a combination of an acid coloring dye and an acidic binder as described in EP 897134 is also effective. In this case, the bond in the associated state forming the dye is broken by heating, and a lactone is formed to change from colored to colorless. The proportion of these additives is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, based on the solid content of the ink receiving layer.

【0038】上記インキ受容層を塗布する溶媒として
は、アルコール類(メタノール、エタノール、プロピル
アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル等)、エーテル類(テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレン
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン
等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、アセ
チルアセトン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテ
ート、ガンマーブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル等)、アミド類(ホルムアミド、N−メチルホルムア
ミド、ピロリドン、N−メチルピロリドン等)等を用い
ることができる。これらの溶媒は、単独あるいは混合し
て使用される。塗布液中の上記インキ受容層成分(添加
剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量
%である。その他、上記のような有機溶媒からの塗布ば
かりでなく、水性エマルジョンからも被膜を形成させる
ことができる。この場合の濃度は5重量%から50重量
%が好ましい。
As the solvent for coating the ink receiving layer, alcohols (methanol, ethanol, propyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol,
Ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, etc.), ethers (tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, tetrahydropyran, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone, etc.), esters ( Methyl acetate, ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether monoacetate, gamma-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate, and the like, amides (formamide, N-methylformamide, pyrrolidone, N-methylpyrrolidone, and the like) can be used. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the ink receiving layer component (total solid content including additives) in the coating liquid is preferably 1 to 50% by weight. In addition, a film can be formed not only from the above-mentioned application from an organic solvent but also from an aqueous emulsion. In this case, the concentration is preferably 5% by weight to 50% by weight.

【0039】本発明のインキ受容層の塗布乾燥後の厚み
は、0.1μm以上で、断熱層としての役目を加えると
0.5μm以上が好ましい。インキ受容層が薄すぎると
発熱した熱がアルミニウム基板の方に拡散し、感度が低
下する。また、薄すぎると耐摩耗性が低下して耐刷力を
確保できなくなる。
The thickness of the ink receiving layer of the present invention after coating and drying is 0.1 μm or more, and preferably 0.5 μm or more when added as a heat insulating layer. If the ink receiving layer is too thin, the heat generated will diffuse toward the aluminum substrate, resulting in reduced sensitivity. On the other hand, if it is too thin, the abrasion resistance is reduced, and the printing durability cannot be secured.

【0040】本発明の親水層は、ベリリウム、マグネシ
ウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウ
ム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモン
および遷移金属から選択された少なくとも一つの元素の
コロイド粒子状酸化物または水酸化物を含有する。
The hydrophilic layer of the present invention comprises a colloidal particulate oxide of at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metals. Or contains a hydroxide.

【0041】これらの元素のコロイド粒子状酸化物また
は水酸化物は、上記元素のハロゲン化物やアルコキシ化
合物の加水分解、あるいは、水酸化物の縮合など種々の
公知の方法によってコロイド分散液の分散相、すなわ
ち、コロイド粒子として作られる。親水層を設けるため
の親水層塗布液に添加する場合は、コロイド分散液の状
態で添加できる。
The colloidal particulate oxides or hydroxides of these elements can be dispersed in a colloidal dispersion by various known methods such as hydrolysis of halides or alkoxy compounds of the above elements or condensation of hydroxides. Ie, made as colloidal particles. When it is added to a hydrophilic layer coating solution for forming a hydrophilic layer, it can be added in the form of a colloidal dispersion.

【0042】これらの元素の酸化物または水酸化物のう
ち、特に好ましいものは、アルミニウム、珪素、チタン
およびジルコニウムから選択された少なくとも一つの元
素の酸化物または水酸化物である。
Among the oxides or hydroxides of these elements, particularly preferred are oxides or hydroxides of at least one element selected from aluminum, silicon, titanium and zirconium.

【0043】これらの元素の酸化物または水酸化物のコ
ロイド粒子は、コロイドの粒径として、シリカの場合5
〜100nmの球形のものが好適である。10〜50n
mの球状粒子が、50〜400nmの長さに連なったパ
ールネックレス状のコロイド粒子も用いることができ
る。アルミニウムの酸化物または水酸化物のコロイド粒
子のように100nm×10nmのような羽毛状のもの
も有効である。これらのコロイド分散液は、日産化学工
業(株)などの市販品を購入することもできる。
The colloidal particles of oxides or hydroxides of these elements have a colloidal particle size of 5% in the case of silica.
Spherical ones of 〜100 nm are preferred. 10-50n
Colloidal particles in the form of pearl necklaces in which m spherical particles are connected in a length of 50 to 400 nm can also be used. Feathers such as 100 nm × 10 nm, such as colloidal particles of aluminum oxide or hydroxide, are also effective. These colloidal dispersions can be purchased from commercial products such as Nissan Chemical Industries, Ltd.

【0044】これらのコロイド粒子の分散媒としては、
水のほかに、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、メチルエチルケトンなどの有
機溶媒も有用である。
As a dispersion medium of these colloidal particles,
In addition to water, organic solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, and methyl ethyl ketone are also useful.

【0045】本発明の親水層には、上記コロイド粒子と
共に、親水性樹脂を用いることができる。親水性樹脂を
用いることにより親水層の皮膜性を強化し、耐刷性を向
上できる。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、
カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキ
シメチルなどの親水基を有するものが好ましい。具体的
な親水性樹脂として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチ
ン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそ
れらのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン
酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー、ス
チレン−マレイン酸コポリマー、ポリアクリル酸および
それらの塩、ポリメタクリル酸およびそれらの塩、ヒド
ロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポ
リマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー
およびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレート
のホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピル
アクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロ
キシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーお
よびコポリマー、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レンオキシド、ポリビニルアルコール、ならびに加水分
解度が少なくとも60重量%、好ましくは少なくとも8
0重量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニル
ホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリ
ドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマ
ー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、
N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコ
ポリマー等を挙げることができる。
In the hydrophilic layer of the present invention, a hydrophilic resin can be used together with the above colloid particles. By using a hydrophilic resin, the film properties of the hydrophilic layer can be enhanced, and the printing durability can be improved. Examples of the hydrophilic resin include hydroxyl,
Those having a hydrophilic group such as carboxyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, amino, aminoethyl, aminopropyl and carboxymethyl are preferred. Specific hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethyl cellulose and their sodium salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyacrylic acid and , Polymethacrylic acid and salts thereof, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl methacrylate And copolymers of hydroxybutyl acrylate Chromatography, polyethylene glycol, polypropylene oxide, polyvinyl alcohol, and hydrolysis degree of at least 60 wt%, preferably at least 8
0% by weight of hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and polymers of methacrylamide,
Examples thereof include homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide.

【0046】特に好ましい親水性樹脂は、水溶性でない
水酸基含有ポリマーで、具体的には、ヒドロキシエチル
メタクリレートのホモポリマーおよびコポリマーとヒド
ロキシエチルアクリレートのコポリマーである。
Particularly preferred hydrophilic resins are non-water-soluble polymers containing hydroxyl groups, specifically, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate and copolymers of hydroxyethyl acrylate.

【0047】これらの親水性樹脂の添加割合は、親水性
樹脂が水溶性の場合、親水層固形分の40重量%以下が
好ましく、水溶性でない親水性樹脂の場合は固形分の2
0重量%以下が好ましい。
The proportion of these hydrophilic resins is preferably 40% by weight or less based on the solid content of the hydrophilic layer when the hydrophilic resin is water-soluble, and 2% by weight or less when the hydrophilic resin is not water-soluble.
It is preferably 0% by weight or less.

【0048】本発明の親水層には、芳香族水酸基を有す
る樹脂を用いることができる。芳香族水酸基を有する樹
脂を用いることにより、親水層の皮膜性の向上と同時
に、刷り出しの着肉性を改良することができる。芳香族
水酸基を有する樹脂としては、メタノールに25℃で5
重量%以上溶解するものが好ましく、例えば、ノボラッ
ク樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、ケ
トンピロガロール樹脂等のアルカリ可溶性樹脂が挙げら
れる。
For the hydrophilic layer of the present invention, a resin having an aromatic hydroxyl group can be used. By using a resin having an aromatic hydroxyl group, it is possible to improve the coatability of the hydrophilic layer and, at the same time, improve the inking property of printing. As the resin having an aromatic hydroxyl group, methanol is added at 25 ° C for 5 hours.
It is preferable that the resin dissolves in an amount of at least% by weight, and examples thereof include alkali-soluble resins such as novolak resins, resole resins, polyvinylphenol resins, and ketone pyrogallol resins.

【0049】好ましいノボラック樹脂としては、フェノ
ール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾー
ル、2,5−キシレノール、および3,5−キシレノー
ル、レゾルシンから選ばれる少なくとも1種の水酸基含
有芳香族化合物を、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒドなどのアルデヒドの中から選
ばれる少なくとも1種と酸性触媒下で付加縮合したノボ
ラック樹脂が挙げられる。ホルムアルデヒドおよびアセ
トアルデヒドの代わりに、それぞれパラホルムアルデヒ
ドおよびパラアルデヒドを使用してもよい。その中で
も、m−クレゾール:p−クレゾール:2,5−キシレ
ノール:3,5−キシレノール:レゾルシンの混合割合
がモル比で40〜100:0〜50:0〜20:0〜2
0:0〜20の混合物、または、フェノール:m−クレ
ゾール:p−クレゾールの混合割合がモル比で1〜10
0:0〜70:0〜60の混合物とアルデヒドとの付加
縮合物であるノボラック樹脂が好ましい。アルデヒドの
中でも、特にホルムアルデヒドが好ましい。ノボラック
樹脂のゲル浸透クロマトグラフィー(以下、GPCと略
す)測定によるポリスチレン換算重量平均分子量(以
下、重量平均分子量と略す)は、好ましくは1,000
〜15,000、さらに好ましくは1,500〜10,
000のものが用いられる。
Preferred novolak resins include at least one hydroxyl-containing aromatic compound selected from phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol and resorcinol. And a novolak resin which is addition-condensed with at least one selected from aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde and propionaldehyde in the presence of an acidic catalyst. Instead of formaldehyde and acetaldehyde, paraformaldehyde and paraaldehyde, respectively, may be used. Among them, the mixing ratio of m-cresol: p-cresol: 2,5-xylenol: 3,5-xylenol: resorcinol is 40 to 100: 0 to 50: 0 to 20: 0 to 2 in a molar ratio.
A mixture of 0: 0 to 20 or a mixing ratio of phenol: m-cresol: p-cresol is 1 to 10 in molar ratio.
A novolak resin which is an addition condensation product of a mixture of 0: 0 to 70: 0 to 60 and an aldehyde is preferred. Of the aldehydes, formaldehyde is particularly preferred. The polystyrene-equivalent weight average molecular weight (hereinafter abbreviated as weight average molecular weight) of the novolak resin measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC) is preferably 1,000.
~ 15,000, more preferably from 1,500 to 10,
000 are used.

【0050】好ましいレゾール樹脂としては、フェノー
ル、m−クレゾール、o−クレゾール、p−クレゾー
ル、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、レ
ソルシノール、ピロガロール、ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)メタン、ビスフェノール−A、o−エチルフ
ェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノー
ル、プロピルフェノール、n−ブチルフェノール、t−
ブチルフェノール、1−ナフトール、2−ナフトール等
の水酸基含有芳香族炭化水素類やその他の2個以上の水
酸基を有する多核芳香族炭化水素類の少なくとも1種
を、アルカリ性触媒下、ホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フ
ルフラール等のアルデヒド、およびアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトンから
選ばれた少なくとも1種のアルデヒドまたはケトンと付
加縮合させたものが挙げられる。ホルムアルデヒドおよ
びアセトアルデヒドの代わりに、それぞれパラホルムア
ルデヒドおよびパラアルデヒドを使用してもよい。レゾ
ール樹脂の重量平均分子量は、好ましくは500〜1
0,000、特に好ましくは1,000〜5,000で
ある。
Preferred resole resins include phenol, m-cresol, o-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, resorcinol, pyrogallol, bis- (4-hydroxyphenyl) methane, bisphenol -A, o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol, propylphenol, n-butylphenol, t-
Hydroxy group-containing aromatic hydrocarbons such as butylphenol, 1-naphthol, and 2-naphthol, and at least one other polynuclear aromatic hydrocarbon having two or more hydroxyl groups are subjected to formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde under an alkaline catalyst. And aldehydes such as benzaldehyde and furfural, and addition-condensation with at least one aldehyde or ketone selected from ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. Instead of formaldehyde and acetaldehyde, paraformaldehyde and paraaldehyde, respectively, may be used. The weight average molecular weight of the resole resin is preferably 500 to 1
It is particularly preferably from 1,000 to 5,000.

【0051】好ましいポリビニルフェノール樹脂として
は、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフ
ェニル)プロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)
プロピレン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレ
ンなどのヒドロキシスチレン類の単独または2種以上の
共重合体が挙げられる。ヒドロキシスチレン類は、芳香
環に塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンまたは炭
素数1〜4個のアルキル基等の置換基を有していてもよ
く、従って、ポリビニルフェノール類としては、芳香環
にハロゲンまたは炭素数1〜4個のアルキル基を有して
いても良いポリビニルフェノールが挙げられる。このほ
かに、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフ
ェニル)プロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)
プロピレン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレ
ンなどのヒドロキシスチレン類に、メタクリル酸、アク
リル酸、メタクリル酸アルキルエステルやアクリル酸ア
ルキルエステルを共重合したものも有用である。ポリビ
ニルフェノール樹脂は、通常、置換基を有していてもよ
いヒドロキシスチレンを、単独でまたは2種以上を、ラ
ジカル重合開始剤またはカチオン重合開始剤の存在下で
重合することにより得られる。かかるポリビニルフェノ
ール樹脂は、一部水素添加を行なったものでもよい。ま
た、t−ブトキシカルボニル基、ピラニル基、フラニル
基などで、ポリビニルフェノール樹脂の一部の水酸基を
保護した樹脂でもよい。ポリビニルフェノール樹脂の重
量平均分子量は、好ましくは1,000〜100,00
0、特に好ましくは1,500〜50,000である。
ケトンピロガロール樹脂としては、アセトンピロガロー
ル樹脂が特に有用である。
Preferred polyvinyl phenol resins include o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (o-hydroxyphenyl) propylene and 2- (m-hydroxyphenyl)
Examples thereof include homopolymers of hydroxystyrenes such as propylene and 2- (p-hydroxyphenyl) propylene, or copolymers of two or more thereof. Hydroxystyrenes may have a substituent such as chlorine such as chlorine, bromine, iodine and fluorine or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms on an aromatic ring. And a polyvinyl phenol which may have a halogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. In addition, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (o-hydroxyphenyl) propylene, 2- (m-hydroxyphenyl)
Those obtained by copolymerizing hydroxystyrenes such as propylene and 2- (p-hydroxyphenyl) propylene with methacrylic acid, acrylic acid, alkyl methacrylate or alkyl acrylate are also useful. The polyvinylphenol resin is usually obtained by polymerizing hydroxystyrene which may have a substituent, alone or in combination of two or more in the presence of a radical polymerization initiator or a cationic polymerization initiator. Such a polyvinyl phenol resin may be partially hydrogenated. Further, a resin in which some hydroxyl groups of the polyvinyl phenol resin are protected by a t-butoxycarbonyl group, a pyranyl group, a furanyl group, or the like may be used. The weight average molecular weight of the polyvinyl phenol resin is preferably 1,000 to 100,000.
0, particularly preferably 1,500 to 50,000.
As the ketone pyrogallol resin, an acetone pyrogallol resin is particularly useful.

【0052】これらの芳香族水酸基を有する樹脂の添加
割合は、親水層固形分の1〜20重量%であり、好まし
くは3〜12重量%である。
The proportion of the resin having an aromatic hydroxyl group is from 1 to 20% by weight, preferably from 3 to 12% by weight, based on the solid content of the hydrophilic layer.

【0053】本発明の親水層には、上記の元素のコロイ
ド状酸化物または水酸化物および芳香族水酸基を有する
樹脂の他に、コロイド状酸化物または水酸化物の架橋を
促進する架橋剤を添加しても良い。そのような架橋剤と
しては、テトラアルコキシシランの初期加水分解縮合
物、トリアルコキシシリルプロピル−N,N,N−トリ
アルキルアンモニウムハライド、または、アミノプロピ
ルトリアルコキシシランが好ましい。その添加割合は、
親水層固形分の5重量%以下が好ましい。
In the hydrophilic layer of the present invention, in addition to the colloidal oxide or hydroxide of the above-mentioned element and a resin having an aromatic hydroxyl group, a crosslinking agent for accelerating the crosslinking of the colloidal oxide or hydroxide is used. It may be added. As such a crosslinking agent, an initial hydrolysis condensate of tetraalkoxysilane, trialkoxysilylpropyl-N, N, N-trialkylammonium halide, or aminopropyltrialkoxysilane is preferable. The addition ratio is
It is preferably 5% by weight or less of the solid content of the hydrophilic layer.

【0054】さらに、本発明の親水層には、印刷時の耐
刷力を増加させる目的で、上記の親水性樹脂あるいは芳
香族水酸基を有する樹脂の架橋剤を添加してもよい。こ
の様な架橋剤としては、ホルムアルデヒド、グリオキザ
ール、ポリイソシアネート、テトラアルコキシシランの
初期加水分解・縮合物、ジメチロール尿素およびヘキサ
メチロールメラミンを挙げることができる。
Further, to the hydrophilic layer of the present invention, a crosslinking agent for the above-mentioned hydrophilic resin or resin having an aromatic hydroxyl group may be added for the purpose of increasing the printing durability during printing. Examples of such a crosslinking agent include formaldehyde, glyoxal, polyisocyanate, an initial hydrolysis / condensate of tetraalkoxysilane, dimethylol urea and hexamethylol melamine.

【0055】さらに、本発明の親水層には、塗布の面状
を良化させるため、良く知られたフッ素系界面活性剤、
シリコン系界面活性剤、ポリオキシエチレン系界面活性
剤などを添加しても良い。
Further, in order to improve the surface condition of the coating, the well-known fluorine-containing surfactant is added to the hydrophilic layer of the present invention.
A silicon-based surfactant, a polyoxyethylene-based surfactant, or the like may be added.

【0056】本発明の親水層の塗布厚みは0.1〜3μ
mであることが好ましい。より好ましくは0.5〜2μ
mである。この範囲内で、親水層の耐久性を確保し、印
刷時の良好な耐刷性が得られる。厚すぎると、親水層を
アブレーション的にインキ受容層から剥離させるのに、
多大なエネルギーを要し、レーザーで露光する場合長時
間を要し、刷版を製造する生産性を低下させる。
The coating thickness of the hydrophilic layer of the present invention is 0.1 to 3 μm.
m is preferable. More preferably 0.5 to 2μ
m. Within this range, the durability of the hydrophilic layer is ensured, and good printing durability during printing is obtained. If it is too thick, the hydrophilic layer will be ablated to separate from the ink receiving layer,
Expensive energy is required, and when exposing with a laser, it takes a long time to reduce the productivity of printing plates.

【0057】本発明の感熱性平版印刷用原板は、親水層
上に水溶性オーバーコート層を有することができる。オ
ーバーコート層によって、印刷用原板の保管や取り扱い
の時の親油性物質による親水層の汚染や親水層の傷つき
を防止できる。また、オーバーコート層に光熱変換剤を
含有させることにより、親水層に光熱変換剤を多量添加
して親水層の親水性や膜質を劣化させてしまうことな
く、高感度化することが可能となる。
The heat-sensitive lithographic printing plate of the present invention may have a water-soluble overcoat layer on the hydrophilic layer. The overcoat layer can prevent the lipophilic substance from contaminating the hydrophilic layer and damaging the hydrophilic layer during storage and handling of the original printing plate. In addition, by including a photothermal conversion agent in the overcoat layer, it is possible to increase the sensitivity without adding a large amount of the photothermal conversion agent to the hydrophilic layer and deteriorating the hydrophilicity and film quality of the hydrophilic layer. .

【0058】本発明に使用できる水溶性オーバーコート
層は、印刷時に容易に除去できるものであり、水溶性の
高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。ここで用い
る水溶性の高分子化合物としては、塗布乾燥によってで
きた被膜がフィルム形成能を有するもので、具体的に
は、ポリ酢酸ビニル(但し、加水分解率65%以上のも
の)、ポリアクリル酸およびそのアルカリ金属塩または
アミン塩、アクリル酸共重合体およびそのアルカリ金属
塩またはアミン塩、ポリメタクリル酸およびそのアルカ
リ金属塩またはアミン塩、メタクリル酸共重合体および
そのアルカリ金属塩またはアミン塩、アクリルアミド単
独重合体および共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリ
レート、ビニルピロリドン単独重合体および共重合体、
ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチルエーテル/無
水マレイン酸共重合体、ポリ−2−アクリルアミド−2
−メチル−1−プロパンスルホン酸およびそのアルカリ
金属塩またはアミン塩、2−アクリルアミド−2−メチ
ル−1−プロパンスルホン酸共重合体およびそのアルカ
リ金属塩またはアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体
(例えば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエ
チルセルローズ、メチルセルローズ等)およびその変性
体 、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エー
テル化デキストリン等を挙げることができる。また、目
的に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いるこ
ともできる。
The water-soluble overcoat layer that can be used in the present invention can be easily removed at the time of printing and contains a resin selected from water-soluble polymer compounds. As the water-soluble polymer compound used herein, a film formed by coating and drying has a film forming ability, and specifically, polyvinyl acetate (provided that the hydrolysis rate is 65% or more), polyacrylic Acid and its alkali metal salt or amine salt, acrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, methacrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, Acrylamide homopolymer and copolymer, polyhydroxyethyl acrylate, vinylpyrrolidone homopolymer and copolymer,
Polyvinyl methyl ether, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, poly-2-acrylamide-2
-Methyl-1-propanesulfonic acid and its alkali metal salt or amine salt, 2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, gum arabic, cellulose derivatives (for example, , Carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, white dextrin, pullulan, enzymatically decomposed etherified dextrin and the like. Further, according to the purpose, two or more of these resins can be used in combination.

【0059】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には、主に非イ
オン系界面活性剤を添加することができる。このような
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非
イオン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占
める割合は、0.05〜5重量%が好ましく、より好ま
しくは1〜3重量%である。
In addition, in the case of aqueous solution application, a nonionic surfactant can be mainly added to the overcoat layer in order to ensure uniformity of application. Specific examples of such a nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearate, polyoxyethylene nonylphenyl ether, and polyoxyethylene dodecyl ether. . The proportion of the nonionic surfactant in the total solid content of the overcoat layer is preferably 0.05 to 5% by weight, and more preferably 1 to 3% by weight.

【0060】本発明のオーバーコート層の厚みは、0.
05〜4.0μmが好ましく、さらに好ましくは0.1
〜1.0μmである。この範囲内において、印刷時オー
バーコート層の除去に時間がかかるとか、多量に溶けだ
した水溶性樹脂が湿し水に影響を与え、印刷時ローラス
トリップを発生させたり、インキが画像部に着肉しない
等の悪影響を与えることなく、また皮膜性を損うことな
く、良好な、アブレーションカスの飛散防止や親油性物
質汚染の防止などが得られる。
The thickness of the overcoat layer according to the present invention is set to 0.1.
It is preferably from 0.5 to 4.0 μm, more preferably from 0.1 to 4.0 μm.
1.01.0 μm. Within this range, it takes time to remove the overcoat layer during printing, or a large amount of dissolved water-soluble resin affects the dampening solution, causing roller strips during printing, and ink depositing on the image area. Good prevention of scattering of ablation scum and prevention of lipophilic substance contamination can be obtained without giving any adverse effects such as no abrasion and without impairing the film properties.

【0061】本発明のインキ受容層、親水層およびオー
バーコート層の少なくとも一つの層には、感度を高める
ため、光を熱に変換させる機能の光熱変換剤が含有され
る。かかる光熱変換剤としては、700〜1200nm
の範囲の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質で
あればよく、種々の顔料あるいは染料を用いることがで
きる。
At least one of the ink receiving layer, hydrophilic layer and overcoat layer of the present invention contains a light-to-heat converting agent having a function of converting light into heat in order to increase sensitivity. As such a light-to-heat conversion agent, 700 to 1200 nm
Any pigment or dye may be used as long as it is a light absorbing substance having an absorption band in at least a part of the range.

【0062】顔料としては、市販の顔料およびカラーイ
ンデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本
顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)に記載されている赤
外線吸収性の顔料が利用できる。
As pigments, commercially available pigment and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986) And "printing ink technology" (CMC Publishing, 1984) can be used.

【0063】これら顔料は、添加される層に対する分散
性を向上させるため、必要に応じて公知の表面処理を施
して用いることができる。表面処理の方法には、親水性
樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質(例えば、シリカゾル、ア
ルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、
イソシアネート化合物等)を顔料表面に結合させる方法
等が考えられる。親水性の層に添加する顔料は、特に水
溶性の樹脂と分散しやすく、かつ親水性を損わないよう
に、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされたもの
が望ましい。顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲
にあることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。顔料の中で、特に好ましい顔料と
しては、カーボンブラックを挙げることができる。
These pigments can be used after being subjected to a known surface treatment, if necessary, in order to improve the dispersibility in the layer to which the pigment is added. Surface treatment methods include a method of surface-coating a hydrophilic resin or a lipophilic resin, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, silica sol, alumina sol, a silane coupling agent or an epoxy compound,
A method of bonding an isocyanate compound) to the surface of the pigment. The pigment to be added to the hydrophilic layer is preferably a pigment whose surface is coated with a hydrophilic resin or silica sol so as to be easily dispersed in a water-soluble resin and not to impair the hydrophilicity. The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm, and more preferably in the range of 0.01 μm to 0.5 μm. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Among the pigments, a particularly preferred pigment is carbon black.

【0064】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊、「化学工業」1986年5月号P.45〜51の
「近赤外吸収色素」、「90年代機能性色素の開発と市
場動向」第2章2.3項(1990年、シーエムシー)
あるいは特許に記載されている公知の染料が利用でき
る。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾ
ロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン
染料、シアニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。
Examples of the dye include commercially available dyes and literatures (eg, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, 1975, “Chemical Industry”, May 1986, pp. 45-51, “Near-infrared absorbing dyes”). , "Development of functional dyes and market trends in the 1990s", Chapter 2, section 2.3 (CMC, 1990)
Alternatively, known dyes described in patents can be used. Specifically, infrared absorbing dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, polymethine dyes, and cyanine dyes are preferred.

【0065】さらに、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭60−787
87号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−
173696号、特開昭58−181690号、特開昭
58−194595号等の公報に記載されているメチン
染料、特開昭58−112793号、特開昭58−22
4793号、特開昭59−48187号、特開昭59−
73996号、特開昭60−52940号、特開昭60
−63744号等に記載されているナフトキノン染料、
特開昭58−112792号等に記載されているスク
ワリリウム染料、英国特許434,875号記載のシア
ニン染料や米国特許第4,756,993号記載の染
料、米国特許第4,973,572号記載のシアニン染
料、特開平10−268512号に記載の染料を挙げる
ことができる。
Further, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-12524
No. 6, JP-A-59-84356, JP-A-60-787
No. 87, etc .;
Methine dyes described in JP-A-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, and the like; JP-A-58-112793, JP-A-58-22
No. 4793, JP-A-59-48187, JP-A-59-48187.
73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-52940
Naphthoquinone dyes described in US Pat.
Squarylium dyes described in JP-A-58-112792, cyanine dyes described in British Patent 434,875, dyes described in U.S. Pat. No. 4,756,993, and U.S. Pat. No. 4,973,572. And the dyes described in JP-A-10-268512.

【0066】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン染料、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号に記載されて
いるピリリウム化合物、エポリン社製エポライトIII−
178、エポライトIII−130、エポライトIII−12
5等も好ましく用いられる。これらの中で、オーバーコ
ート層および親水層に添加するのに特に好ましい染料は
水溶性染料で、以下に具体例を構造式で列挙する。
As a dye, US Pat.
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and pyrilium compounds described in Japanese Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702;
178, Epolite III-130, Epolite III-12
5 and the like are also preferably used. Among these, a particularly preferred dye to be added to the overcoat layer and the hydrophilic layer is a water-soluble dye, and specific examples thereof are listed below by structural formulas.

【0067】[0067]

【化1】 Embedded image

【0068】[0068]

【化2】 Embedded image

【0069】本発明のインキ受容層に用いる染料は、前
記の赤外線吸収染料であっても良いが、好ましくはより
親油性の染料が良い。より好ましい染料として、以下に
例示するシアニン染料を挙げることができる。
The dye used in the ink receiving layer of the present invention may be the above-mentioned infrared absorbing dye, but is preferably a more lipophilic dye. More preferred dyes include cyanine dyes exemplified below.

【0070】[0070]

【化3】 Embedded image

【0071】光熱変換剤の添加割合は、インキ受容層へ
の添加の場合は、インキ受容層固形分の20重量%以下
が好ましく、15重量%以下がより好ましい。この範囲
内において、インキ受容層の耐久性を損なうことなく、
良好な感度が得られる。
When the photothermal conversion agent is added to the ink receiving layer, it is preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less of the solid content of the ink receiving layer. Within this range, without impairing the durability of the ink receiving layer,
Good sensitivity is obtained.

【0072】光熱変換剤を親水層に添加する場合の添加
割合は、親水層固形分の1〜40重量%、好ましくは2
〜20重量%である。この範囲内において、親水性や耐
久性を損なうことなく、良好な感度が得られる。
When the light-to-heat converting agent is added to the hydrophilic layer, it is added in an amount of 1 to 40% by weight, preferably 2% by weight, based on the solid content of the hydrophilic layer.
-20% by weight. Within this range, good sensitivity can be obtained without impairing hydrophilicity or durability.

【0073】光熱変換剤をオーバーコート層に添加する
場合の添加割合は、オーバーコート層固形分の1〜70
重量%、好ましくは2〜50重量%、光熱変換剤が染料
の場合、特に好ましくは2〜30重量%、光熱変換剤が
顔料の場合、特に好ましくは20〜50重量%の割合で
ある。この範囲内で、オーバーコート層の均一性や膜強
度を損なうことなく、良好な感度が得られる。オーバー
コート層に光熱変換剤を添加する場合は、その添加量に
応じて、インキ受容層および親水層の光熱変換剤の添加
量を減少するか、あるいは、無添加にすることができ
る。
When the light-to-heat converting agent is added to the overcoat layer, the ratio of addition is from 1 to 70% of the solid content of the overcoat layer.
%, Preferably 2 to 50% by weight, more preferably 2 to 30% by weight when the light-to-heat conversion agent is a dye, and particularly preferably 20 to 50% by weight when the light-to-heat conversion agent is a pigment. Within this range, good sensitivity can be obtained without impairing the uniformity and film strength of the overcoat layer. When a light-to-heat conversion agent is added to the overcoat layer, the addition amount of the light-to-heat conversion agent in the ink receiving layer and the hydrophilic layer can be reduced or not added depending on the addition amount.

【0074】本発明の感熱性平版印刷用原板は、熱によ
り画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による
直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノ
ン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露
光などが用いられるが、波長700〜1200nmの赤
外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高
出力赤外線レーザによる露光が好適である。画像露光さ
れた本発明の印刷用原板は、それ以上の処理なしに印刷
機に装着することができる。インキと湿し水を用いて印
刷を開始すると、親水層が除去されて露出したインキ受
容層部分にインキが着肉して、印刷が進行する。オーバ
ーコート層は、湿し水との接触により速やかに溶解除去
され、印刷にほとんど影響しない。また、本発明の平版
印刷用原板は、印刷機シリンダー上に取りつけた後に、
印刷機に搭載されたレーザーにより露光し、その後に湿
し水および/またはインクをつけて機上現像することも
可能である。
The heat-sensitive lithographic printing plate of the present invention forms an image by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head or the like, scanning exposure using an infrared laser, high-intensity flash exposure such as a xenon discharge lamp, or infrared lamp exposure is used. Semiconductors that emit infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm are used. Exposure with a solid-state high-output infrared laser such as a laser or a YAG laser is preferable. The image-exposed printing plate of the present invention can be mounted on a printing press without further processing. When printing is started using the ink and the fountain solution, the ink is deposited on the exposed portion of the ink receiving layer where the hydrophilic layer has been removed, and printing proceeds. The overcoat layer is quickly dissolved and removed by contact with the dampening solution, and hardly affects printing. Also, the lithographic printing plate of the present invention, after being mounted on a printing press cylinder,
It is also possible to expose by a laser mounted on a printing press, and then apply on a fountain solution and / or ink for on-press development.

【0075】[0075]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0076】アルミニウム基板の製造例 アルミニウム99.5重量%、銅0.01重量%、鉄
0.3重量%、チタン0.03重量%、およびケイ素
0.1重量%を含有するJISA1050アルミニウム
材の厚み0.24mm圧延板を、400メッシュのパミ
ストン(共立窯業製)の20重量%水性懸濁液と回転ナ
イロンブラシとを用いてその表面を砂目立てした後、よ
く水で洗浄した。これを15重量%水酸化ナトリウム水
溶液(アルミニウム4.5重量%含有)に浸漬してアル
ミニウムの溶解量が10g/m2になるようにエッチン
グした後、流水で水洗した。更に、1重量%硝酸水溶液
で中和し、次に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウム
0.5重量%含有)中で、陽極時電圧10.5V、陰極
時電圧9.3Vの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.
90、特公昭58−5796号公報実施例に記載されて
いる電流波形)を用いて230C/dm2の陽極時電気
量で電解粗面化処理を行った。水洗後、35℃の10重
量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミニウ
ム溶解量が1g/m2になるようにエッチングした後、
水洗した。次に、50℃、30重量%の硫酸水溶液中に
浸漬し、デスマットした後、水洗した。さらに、35℃
の硫酸20重量%水溶液(アルミニウム0.8重量%含
有)中で直流電流を用いて、陽極酸化処理を行った。す
なわち、電流密度13A/dm2で電解を行い、電解時
間の調節により、陽極酸化皮膜重量2.0g/m2の基
板(A)、3.0g/m2の基板(B)、4.0g/m2
の基板(C)および5.0g/m2の基板(D)を作製
した。
Production Example of Aluminum Substrate A JISA1050 aluminum material containing 99.5% by weight of aluminum, 0.01% by weight of copper, 0.3% by weight of iron, 0.03% by weight of titanium, and 0.1% by weight of silicon was used. The surface of the 0.24 mm-thick rolled plate was grained using a 400-mesh 20% by weight aqueous suspension of pamistone (manufactured by Kyoritsu Ceramics) and a rotating nylon brush, and then thoroughly washed with water. This was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 4.5% by weight of aluminum), etched so that the amount of aluminum dissolved was 10 g / m 2 , and washed with running water. Further, the mixture was neutralized with a 1% by weight nitric acid aqueous solution, and then, in a 0.7% by weight nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum), a rectangular wave alternating voltage of 10.5 V at the time of anode and 9.3 V at the time of cathode was used. Waveform voltage (current ratio r = 0.
90, using an electric current waveform described in Examples of JP-B-58-5796), and an electrolytic surface-roughening treatment was carried out at 230 C / dm 2 of electricity at the time of anode. After washing with water, it was immersed in a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 35 ° C., and etched so that the amount of aluminum dissolved was 1 g / m 2 .
Washed with water. Next, it was immersed in a 30% by weight aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C., desmutted, and washed with water. In addition, 35 ° C
Anodizing treatment was performed in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) using a direct current. That performs electrolysis at a current density of 13A / dm 2, by adjusting the electrolysis time, a substrate of anodized film weight 2.0g / m 2 (A), the substrate of 3.0g / m 2 (B), 4.0g / M 2
And a substrate (D) of 5.0 g / m 2 .

【0077】平版印刷用原板の製造例1 基板(B)を、30℃のpH13の水酸化ナトリウム水
溶液に皮膜溶解量1g/m2となるまで浸漬し、次いで
水洗した。このポアワイドニング処理後、100℃、1
気圧において飽和した蒸気チャンバー中で12秒間封孔
処理して、アルミニウム支持体を作製した。この支持体
上に、下記組成のインキ受容層塗布液I―1を、塗布液
量が12ml/m2になるようバーコーターで塗布し
た。その後、100℃、1分間加熱乾燥させて、乾燥塗
布量約0.5g/m2のインキ受容層を得た。
Production Example 1 of Lithographic Printing Raw Material The substrate (B) was immersed in an aqueous solution of sodium hydroxide at 30 ° C. and pH 13 until the film dissolution amount was 1 g / m 2, and then washed with water. After this pore widening treatment, 100 ° C, 1
The aluminum support was made by sealing for 12 seconds in a steam chamber saturated at atmospheric pressure. An ink receiving layer coating solution I-1 having the following composition was coated on this support with a bar coater so that the coating solution amount was 12 ml / m 2 . Thereafter, it was dried by heating at 100 ° C. for 1 minute to obtain an ink receiving layer having a dry coating amount of about 0.5 g / m 2 .

【0078】 (インキ受容層塗布液I−1) エピコート1010 3g 光熱変換剤(本明細書記載のIR−24) 0.3g メチルエチルケトン 32.7g プロピレングリコールモノメチルエーテル 30g(Ink receiving layer coating liquid I-1) Epicoat 1010 3 g Photothermal conversion agent (IR-24 described in this specification) 0.3 g Methyl ethyl ketone 32.7 g Propylene glycol monomethyl ether 30 g

【0079】ここで、エピコート1010は、軟化点1
69℃のエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株)製)
である。
Here, the epicoat 1010 has a softening point of 1
69 ° C epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Epoxy)
It is.

【0080】このようにして設けたインキ受容層の上
に、下記の親水層塗布液S−1を塗布し、100℃、1
分間乾燥して、親水層乾燥塗布量0.6g/m2の感熱
性平版印刷用原板を得た。
The following hydrophilic layer coating solution S-1 was coated on the ink receiving layer thus provided,
After drying for 1 minute, a heat-sensitive planographic printing plate having a hydrophilic layer dry coating amount of 0.6 g / m 2 was obtained.

【0081】 (親水層塗布液S−1) ノボラック樹脂(N1)の10重量%メタノール溶液 0.5g メタノールシリカ 3.17g 乳酸メチル 0.5g メタノール 15.83g(Hydrophilic Layer Coating Solution S-1) 10% by weight methanol solution of novolak resin (N1) 0.5 g methanol silica 3.17 g methyl lactate 0.5 g methanol 15.83 g

【0082】ここで用いたノボラック樹脂(N1)は、
m−クレゾールとp−クレゾールの重量比6/4の混合
物とパラホルムアルデヒドとの付加縮合物で、重量平均
分子量3,500である。メタノールシリカは、日産化
学工業製、粒径10〜20nmのシリカを30重量%含
有したメタノール溶液からなるコロイドである。
The novolak resin (N1) used here was
It is an addition condensate of a mixture of m-cresol and p-cresol at a weight ratio of 6/4 and paraformaldehyde, and has a weight average molecular weight of 3,500. Methanol silica is a colloid composed of a methanol solution containing 30% by weight of silica having a particle size of 10 to 20 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries.

【0083】上記親水層上に、下記組成のオーバーコー
ト層塗布液OC−1を塗布し、100℃、90秒間乾燥
して、乾燥塗布重量0.25g/m2のオーバーコート
層を有する感熱性平版印刷用原板−1を作製した。
On the hydrophilic layer, an overcoat layer coating solution OC-1 having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 90 seconds to form a thermosensitive layer having an overcoat layer having a dry coating weight of 0.25 g / m 2 . A lithographic printing original plate-1 was produced.

【0084】 (オーバーコート層塗布液OC−1) アラビアガム5%水溶液 10g 光熱変換剤(本明細書記載の染料IR−10) 0.2g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール 0.02g 水 14g(Overcoat Layer Coating Solution OC-1) 5% aqueous solution of gum arabic 10 g Photothermal conversion agent (dye IR-10 described in this specification) 0.2 g Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.02 g Water 14 g

【0085】平版印刷用原板の製造例2 支持体製造時の封孔処理時間を12秒間から50秒間に
変更したこと以外は、上記平版印刷用原板の製造例1と
同様にして感熱性平版印刷用原板−2を作製した。
Preparation Example 2 of Lithographic Printing Plate Heat-sensitive lithographic printing was performed in the same manner as in Preparation Example 1 of the lithographic printing plate except that the sealing treatment time during the production of the support was changed from 12 seconds to 50 seconds. A master plate-2 was prepared.

【0086】平版印刷用原板の製造例3 基板Bの代わりに基板Dを用い、封孔処理時間を12秒
間から15秒間に変更した以外は上記平版印刷用原板の
製造例1と同様にして感熱性平版印刷用原板−3を作製
した。
Production Example 3 of Lithographic Printing Plate The same heat-sensitive method as that of Production Example 1 of the planographic printing plate except that the substrate D was used in place of the substrate B and the sealing time was changed from 12 seconds to 15 seconds. A lithographic printing original plate-3 was produced.

【0087】平版印刷用原板の製造例4 基板Bの代わりに基板Dを用いた以外は上記平版印刷版
用原板の製造例2と同様にして感熱性平版印刷用原板−
4を作製した。
Preparation Example 4 of Lithographic Printing Plate Except that Substrate D was used in place of Substrate B, the same process was performed as in Preparation Example 2 of the lithographic printing plate precursor.
4 was produced.

【0088】比較用平版印刷用原板の製造例イ 基板(B)の代わりに基板(A)を用い、水酸化ナトリ
ウム水溶液によるポアワイドニング処理を行わなかった
以外は上記平版印刷版用原板の製造例1と同様にして、
比較用平版印刷用原板−イを作製した。
Production example of a lithographic printing plate precursor for comparison A production of the lithographic printing plate precursor described above except that the substrate (A) was used instead of the substrate (B) and the pore widening treatment with an aqueous sodium hydroxide solution was not performed. As in Example 1,
A lithographic printing plate-A for comparison was prepared.

【0089】比較用平版印刷用原板の製造例ロ 基板(D)の代わりに基板(C)を用い、水酸化ナトリ
ウム水溶液によるポアワイドニング処理を行わなかった
以外は平版印刷版用原板の製造例3と同様にして、比較
用平版印刷用原板−ロを作製した。
Production example of a lithographic printing plate precursor for comparison B Production example of a lithographic printing plate precursor except that the substrate (C) was used in place of the substrate (D) and the pore widening treatment with an aqueous sodium hydroxide solution was not performed. In the same manner as in Example 3, a lithographic printing original plate-B for comparison was prepared.

【0090】比較用平版印刷用原板の製造例ハ 封孔処理を行わなかった以外は上記平版印刷版用原板の
製造例1と同様にして、比較用平版印刷用原板−ハを作
製した。
Production Example of Comparative Lithographic Printing Plate C A comparative lithographic printing substrate was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 of the lithographic printing plate except that the sealing treatment was not performed.

【0091】比較用平版印刷用原板の製造例ニ 封孔処理を行わなかった以外は上記平版印刷版用原板の
製造例3と同様にして、比較用平版印刷用原板−ニを作
製した。
Production Example of Comparative Lithographic Printing Raw Material (d) A comparative lithographic printing original plate- (d) was prepared in the same manner as in Production Example 3 of the lithographic printing original plate except that the sealing treatment was not performed.

【0092】実施例1〜4および比較例1〜4 上記のようにして得た感熱性平版印刷用原板を、クレオ
社製トレンドセッター(40Wの830nm半導体レー
ザーを搭載したプレートセッター)にて露光した。露光
した原板をそれ以上の処理をしないで、そのまま小森コ
ーポレーション製印刷機リスロンに取付け、プレートエ
ッチ液EU−3(富士写真フイルム(株)製)/水/イ
ソプロピルアルコール(容量比1/99/10)からな
る湿し水と、ジオスG墨インキ(大日本インキ化学工業
(株)製)を用いて印刷した。その結果から適正な露光
エネルギー量(感度)を求め、表1に示した。また、こ
の適正露光エネルギー量で露光した場合の印刷可能枚数
(耐刷枚数)と印刷汚れの観察結果を、陽極酸化量、ポ
アワイド処理の有無、封孔処理時間、封孔率と共に、表
1に示した。
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 The heat-sensitive lithographic printing original plates obtained as described above were exposed with a trend setter (a plate setter equipped with a 40 W 830 nm semiconductor laser) manufactured by Creo Corporation. . The exposed original plate was attached without further processing to a printing machine Lithrone manufactured by Komori Corporation, and a plate etch solution EU-3 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol (volume ratio 1/99/10) ) And Geos G ink (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.). From the results, an appropriate amount of exposure energy (sensitivity) was determined and is shown in Table 1. Table 1 shows the number of printable sheets (the number of printable sheets) and the observation results of print stains when exposed with this proper exposure energy amount, along with the amount of anodic oxidation, the presence or absence of pore wide processing, the sealing processing time, and the sealing ratio. Indicated.

【0093】[0093]

【表1】 [Table 1]

【0094】実施例5および比較例5 陽極酸化皮膜量2.0/m2の基板(A)を用い、平版
印刷用原板の製造例1と同じポアワイドニング処理およ
び水洗をした後、100℃、1気圧において飽和した蒸
気チャンバーの中で50秒間封孔処理して、封孔率10
0%のアルミニウム支持体を作製した。この支持体上に
上記製造例1と同じインキ受容層を設けた。さらにその
上に下記の親水層塗布液S−2を塗布して、乾燥塗布量
0.6g/m2の親水層を設けた。
Example 5 and Comparative Example 5 A substrate (A) having an anodic oxide film amount of 2.0 / m 2 was subjected to the same pore widening treatment and water washing as in Production Example 1 of a lithographic printing plate precursor, and then 100 ° C. A sealing treatment was performed for 50 seconds in a steam chamber saturated at 1 atm.
A 0% aluminum support was made. The same ink receiving layer as in Production Example 1 was provided on this support. Further, the following hydrophilic layer coating solution S-2 was applied thereon to provide a hydrophilic layer having a dry coating amount of 0.6 g / m 2 .

【0095】 (親水層塗布液S−2) メタノールシリカ(実施例1と同じもの) 3.33g 乳酸メチル 0.5g メタノール 16.17g(Hydrophilic Layer Coating Solution S-2) Methanol silica (same as in Example 1) 3.33 g Methyl lactate 0.5 g Methanol 16.17 g

【0096】この親水層上に、下記組成のオーバーコー
ト層塗布液OC−2を塗布し、100℃、90秒間乾燥
して、乾燥塗布重量0.25g/m2のオーバーコート
層を有する感熱性平版印刷用原板−5を作製した。
On the hydrophilic layer, an overcoat layer coating solution OC-2 having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 90 seconds to obtain a heat-sensitive layer having an overcoat layer having a dry coating weight of 0.25 g / m 2 . A lithographic printing original plate-5 was produced.

【0097】 (オーバーコート層塗布液OC−2) ポリアクリル酸(重量平均分子量50,000) 0.5g 光熱変換剤(本明細書記載の染料IR−11) 0.2g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール 0.04g 水 19g(Overcoat Layer Coating Solution OC-2) Polyacrylic acid (weight average molecular weight 50,000) 0.5 g Light-to-heat converting agent (dye IR-11 described in this specification) 0.2 g Polyoxyethylene nonyl phenylate Tail 0.04g Water 19g

【0098】この感熱性平版印刷用原板―5を、実施例
1と同様に露光し、印刷した。最適露光エネルギーは1
70mJ/m2で、1万枚の良好な印刷物が得られた。
ポアワイド処理なしとした以外は、実施例5と同様にし
て作製した比較用感熱性平版印刷用原板−ホ(比較例
5)の最適露光エネルギーは250mJ/m2であり、
耐刷枚数は1万枚だった。
This heat-sensitive lithographic printing original plate-5 was exposed and printed in the same manner as in Example 1. The optimal exposure energy is 1
At 70 mJ / m 2 , 10,000 good printed matters were obtained.
The optimum exposure energy of the comparative heat-sensitive lithographic printing plate-e (Comparative Example 5) produced in the same manner as in Example 5 except that the pore wide treatment was not performed was 250 mJ / m 2 ,
The number of printings was 10,000.

【0099】実施例6 実施例5で作製したのと同じインキ受容層を有するアル
ミニウム基板上に、下記の親水層塗布液S−3を用い、
乾燥塗布量0.6g/m2の親水層を設けた。
Example 6 On the aluminum substrate having the same ink receiving layer as prepared in Example 5, the following hydrophilic layer coating solution S-3 was used.
A hydrophilic layer having a dry coating amount of 0.6 g / m 2 was provided.

【0100】 (親水層塗布液S−3) アルミナゾル100 1g メタノールシリカ 2.83g ポリ−2−ヒドロキシエチルメタクリレート 0.5g 乳酸メチル 0.5g メタノール 15.17g(Hydrophilic Layer Coating Solution S-3) Alumina Sol 100 1 g Methanol Silica 2.83 g Poly-2-hydroxyethyl methacrylate 0.5 g Methyl lactate 0.5 g Methanol 15.17 g

【0101】ここでアルミナゾル100は、日産化学製
10x100nm羽毛状アルミナ粒子を10重量%含有
する水分散コロイドであり、ポリ−2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレートは、重量平均分子量30万で、10重
量%メタノール溶液である。
Here, the alumina sol 100 is a water-dispersed colloid containing 10% by weight of 10 × 100 nm feathered alumina particles manufactured by Nissan Chemical Co., and poly-2-hydroxyethyl methacrylate has a weight average molecular weight of 300,000 and a 10% by weight methanol solution. It is.

【0102】上記親水層の上に、実施例5で用いたオー
バーコート層を実施例5と同様にして設けて、感熱性平
版印刷用原板−6を作製した。この感熱性平版印刷用原
板の最適露光エネルギーは150mJ/m2で、1万枚
の良好な印刷物が得られた。
The overcoat layer used in Example 5 was provided on the hydrophilic layer in the same manner as in Example 5 to produce a heat-sensitive lithographic printing original plate-6. The optimum exposure energy of this heat-sensitive lithographic printing plate was 150 mJ / m 2 , and 10,000 good printed matters were obtained.

【0103】実施例7 実施例6の親水層塗布液S−3に代えて、下記の親水層
塗布液S−4を用いた。それ以外は実施例6と同様にし
て、光熱変換剤を含有するオーバーコートをもつ感熱性
平版印刷用原板−7を作製した。
Example 7 The following hydrophilic layer coating solution S-4 was used in place of the hydrophilic layer coating solution S-3 of Example 6. Otherwise in the same manner as in Example 6, a heat-sensitive lithographic printing original plate-7 having an overcoat containing a photothermal conversion agent was produced.

【0104】 (親水層塗布液S−4) ポリ−2−ヒドロキシエチルメタクリレート 0.5g アルミナゾル520 4.75g 乳酸メチル 0.5g メタノール 14.25g(Hydrophilic Layer Coating Solution S-4) Poly-2-hydroxyethyl methacrylate 0.5 g Alumina Sol 520 4.75 g Methyl lactate 0.5 g Methanol 14.25 g

【0105】ここでポリ−2−ヒドロキシエチルメタク
リレートは、実施例6と同じ10重量%メタノール溶液
であり、アルミナゾル520は、粒径10〜20nmの
アルミナ粒子20重量%含有の水分散コロイド溶液(日
産化学製)である。この感熱性平版印刷用原板−7を、
実施例1と同様に露光し、印刷した。最適露光エネルギ
ーは150mJ/m2で、1万枚の良好な印刷物が得ら
れた。
Here, poly-2-hydroxyethyl methacrylate is the same 10% by weight methanol solution as in Example 6, and alumina sol 520 is a water-dispersed colloidal solution containing 20% by weight of alumina particles having a particle diameter of 10 to 20 nm (Nissan). Chemical). This heat-sensitive planographic printing plate-7 is
Exposure and printing were performed in the same manner as in Example 1. The optimum exposure energy was 150 mJ / m 2 , and 10,000 good prints were obtained.

【0106】実施例8 実施例5と同じ陽極酸化皮膜量2.0g/m2、ポアワ
イド処理あり、封孔率100%のアルミニウム支持体上
に、下記の光熱変換剤を含有するインキ受容層塗布液I
−2を用いて、乾燥塗布量0.5g/m2のインキ受容
層を設けた。
Example 8 Coating of an ink-receiving layer containing the following photothermal conversion agent on an aluminum support having the same anodic oxide film amount of 2.0 g / m 2 , pore-wide treatment and 100% sealing rate as in Example 5 Liquid I
-2, an ink receiving layer having a dry coating amount of 0.5 g / m 2 was provided.

【0107】 (インキ受容層塗布液I−2) フェノトートYP−50(東都化学製フェノキシ樹脂) 3.0g 光熱変換剤(本明細書記載の染料IR−24) 0.3g メチルエチルケトン 32.7g プロピレングリコールモノメチルエーテル 30g(Ink receiving layer coating liquid I-2) Phenothote YP-50 (Phenoxy resin manufactured by Toto Chemical Co.) 3.0 g Light-to-heat converting agent (Dye IR-24 described in this specification) 0.3 g Methyl ethyl ketone 32.7 g Propylene Glycol monomethyl ether 30g

【0108】このインキ受容層上に、下記の親水層塗布
液S−5を用いて、乾燥塗布量0.6g/m2の親水層
を設けた。さらにその上に、オーバーコート層を下記塗
布液OC−3を用いて、乾燥塗布重量0.25g/m2
となるように設けて感熱性平版印刷用原板−8を作製し
た。
A hydrophilic layer having a dry coating amount of 0.6 g / m 2 was provided on the ink receiving layer using the following hydrophilic layer coating solution S-5. Further, an overcoat layer was further formed thereon by using the following coating solution OC-3, and a dry coating weight of 0.25 g / m 2.
To prepare a heat-sensitive lithographic printing original plate-8.

【0109】 (親水層塗布液S−5) メタノールシリカ 3.33g 光熱変換剤(本明細書記載の染料IR−10) 0.1g 乳酸メチル 0.5g メタノール 16.07g(Hydrophilic Layer Coating Solution S-5) Methanol Silica 3.33 g Photothermal Conversion Agent (Dye IR-10 described in this specification) 0.1 g Methyl lactate 0.5 g Methanol 16.07 g

【0110】 (オーバーコート層塗布液OC−3) アラビアガム5%水溶液 10g ホワイトデキストリン5%水溶液 10g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール 0.04g 光熱変換剤(本明細書記載の染料IR−11) 0.2g 水 4g(Overcoat Layer Coating Solution OC-3) Gum Arabic 5% aqueous solution 10 g White dextrin 5% aqueous solution 10 g Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.04 g Light-to-heat converting agent (dye IR-11 described in this specification) 0 .2g water 4g

【0111】この感熱性平版印刷用原板−8を、実施例
1と同様に露光し、印刷した。最適露光エネルギーは1
20mJ/m2で、1万枚の良好な印刷物が得られた。
This heat-sensitive lithographic printing original plate-8 was exposed and printed in the same manner as in Example 1. The optimal exposure energy is 1
At 20 mJ / m 2 , 10,000 good printed matters were obtained.

【0112】実施例9 平版印刷用原板製造例2と同様にして得たインキ受容層
上に、下記親水層塗布液S−6を用い、乾燥塗布量0.
6g/m2の親水層を有する感熱性平版印刷用原板−9
を作製した。
Example 9 On the ink receiving layer obtained in the same manner as in Preparation Example 2 of a lithographic printing plate precursor, the following hydrophilic layer coating solution S-6 was used, and the dry coating amount was 0.1%.
Heat-sensitive lithographic printing plate having a hydrophilic layer of 6 g / m 2 -9
Was prepared.

【0113】 (親水層塗布液S−6) ポリ−2−ヒドロキシエチルメタクリレート (10重量%メタノール溶液) 0.5g アルミナゾル520 4.75g 光熱変換剤(本明細書記載の染料IR−11) 0.09g 乳酸メチル 0.5g メタノール 14.25g(Hydrophilic Layer Coating Solution S-6) Poly-2-hydroxyethyl methacrylate (10 wt% methanol solution) 0.5 g Alumina sol 520 4.75 g Photothermal conversion agent (Dye IR-11 described in this specification) 09g methyl lactate 0.5g methanol 14.25g

【0114】この平版印刷用原板−9を、実施例1と同
様に露光し、印刷した。最適露光エネルギーは100m
J/m2で、1万枚の良好な印刷物が得られた。
This lithographic printing original plate-9 was exposed and printed in the same manner as in Example 1. Optimal exposure energy is 100m
At J / m 2 , 10,000 good printed matters were obtained.

【0115】[0115]

【発明の効果】本発明によれば、露光後、処理を行うこ
となく直接印刷機に装着して印刷することが可能であ
り、感度の改良された、アルミニウム板を支持体とする
感熱性平版印刷用原板が得られる。
According to the present invention, a heat-sensitive lithographic plate having an aluminum plate as a support can be directly mounted on a printing machine for printing after exposure without any processing, and has improved sensitivity. An original plate for printing is obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AB03 AC08 AD01 AD03 CC20 DA18 DA20 DA36 EA01 FA03 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 CA03 CA05 CA20 LA16 2H114 AA22 AA24 BA01 DA04 DA15 DA25 DA26 DA46 DA52 DA55 DA73 DA78 EA02 FA16 GA03 GA05 GA08 GA09 GA34 GA38 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA01 AB03 AC08 AD01 AD03 CC20 DA18 DA20 DA36 EA01 FA03 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 CA03 CA05 CA20 LA16 2H114 AA22 AA24 BA01 DA04 DA15 DA25 DA26 DA46 DA52 DA55 DA73 DA03 EA02 FA16 GA08 GA09 GA34 GA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム支持体上に、a)インキ受
容層、およびb)ベリリウム、マグネシウム、アルミニ
ウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジル
コニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属
から選択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子状
酸化物または水酸化物を含有する親水層を有し、インキ
受容層および親水層のうちの少なくとも一つの層が光熱
変換剤を含有する感熱性平版印刷用原板であって、アル
ミニウム支持体が、2g/m2以上の陽極酸化皮膜を有
し、ポアワイドニング処理、および封孔率50%以上の
封孔処理を施されていることを特徴とする感熱性平版印
刷用原板。
1. On an aluminum support a) an ink receiving layer and b) selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony and transition metals. A heat-sensitive lithographic printing plate precursor having a hydrophilic layer containing a colloidal particulate oxide or hydroxide of at least one element, wherein at least one of the ink-receiving layer and the hydrophilic layer contains a light-to-heat conversion agent. A heat-sensitive lithographic plate, wherein the aluminum support has an anodized film of 2 g / m 2 or more, and has been subjected to a pore widening treatment and a sealing treatment with a sealing ratio of 50% or more. Original plate for printing.
【請求項2】 アルミニウム支持体上に、a)インキ受
容層、b)請求項1記載の親水層、およびc)水溶性オ
ーバーコート層を有し、インキ受容層、親水層および水
溶性オーバーコート層のうちの少なくとも一つの層が光
熱変換剤を含有する感熱性平版印刷用原板であって、ア
ルミニウム支持体が、2g/m2以上の陽極酸化皮膜を
有し、ポアワイドニング処理、および封孔率50%以上
の封孔処理を施されていることを特徴とする感熱性平版
印刷用原板。
2. An ink-receiving layer, a hydrophilic layer and a water-soluble overcoat having, on an aluminum support, a) an ink-receiving layer, b) a hydrophilic layer according to claim 1, and c) a water-soluble overcoat layer. At least one of the layers is a heat-sensitive planographic printing plate containing a photothermal conversion agent, wherein the aluminum support has an anodized film of 2 g / m 2 or more, a pore widening treatment, and a sealing. A heat-sensitive lithographic printing plate, which has been subjected to a sealing treatment with a porosity of 50% or more.
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