JP2002301877A - Substrate for lithographic printing plate and original plate of lithographic printing plate - Google Patents

Substrate for lithographic printing plate and original plate of lithographic printing plate

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JP2002301877A
JP2002301877A JP2001106223A JP2001106223A JP2002301877A JP 2002301877 A JP2002301877 A JP 2002301877A JP 2001106223 A JP2001106223 A JP 2001106223A JP 2001106223 A JP2001106223 A JP 2001106223A JP 2002301877 A JP2002301877 A JP 2002301877A
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JP
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lithographic printing
printing plate
layer
aluminum
hydrophilic layer
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JP2001106223A
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Japanese (ja)
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Tadafumi Tomita
忠文 冨田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for lithographic printing plate, constituted of a hydrophilic layer provided on an aluminum substrate and having a sufficient heat insulating property as well as hydrophilic property while excellent in adhesive property to the substrate and capable of forming an image without any contamination with a high sensitivity while being capable of forming a lithographic printing plate excellent in resistance to printing, and an original plate of the lithographic printing plate, provided on the substrate with a heat sensitive ink acceptive layer and high in a sensitivity while excellent in resistance to printing as well as contamination preventing property. SOLUTION: The original plate for lithographic printing plate is provided, on the aluminum substrate, with a hydrophilic layer containing (A) an amorphous oxide containing silicon and alkaline metal, (B) the crystalline oxide of at least an element selected from a group consisting of aluminum, silicon, titanium, tin, indium, zirconium and iron in the amount so that the solid constituent weight ratio [(A)/(B) is within 1-10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感熱性平版印刷版
用の支持体及びそれを用いた平版印刷版原版に関する。
より詳しくは、デジタル信号に基づいた赤外線レーザビ
ーム走査露光による画像記録が可能であり、画像記録し
たものを現像処理することなく印刷機に装着して印刷す
ることが可能な平版印刷版用の支持体及びそれを用いた
耐刷性、汚れ性、感度のいずれにも優れ、機上現像可能
な平版印刷版原版に関する。
The present invention relates to a support for a heat-sensitive lithographic printing plate and a lithographic printing plate precursor using the same.
More specifically, it is possible to record an image by infrared laser beam scanning exposure based on a digital signal, and to support a lithographic printing plate that can be mounted on a printing press and printed without developing the image recorded. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a lithographic printing plate precursor which is excellent in printing durability, stain resistance and sensitivity and which can be developed on a machine using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】印刷版の画像形成方式として、版面をイ
ンク受容性の親油性領域と親水性領域とにわけて版を作
成する感熱型平版印刷版用原版については、種々の画像
形成方法に関する技術が提案されている。有望な方法の
一つは、半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤
外線レーザで露光し、露光部分を光を熱に変換する光熱
変換剤で発熱させ、分解蒸発を起こさせるアブレーショ
ンを利用した方法である。すなわち、親水性基板上に親
油性のインキ受容層を設け、インキ受容層を加熱により
アブレーション除去し、親水性基板表面を露出させて、
露光部を親水性領域として記録する方法である。WO9
8/40212号(EK)では、アルミ基板に隣接した
層に光熱変換層を設け、その上に、金属酸化物を含む親
水性層、その上にインキ受容層を設けた記録材料が記載
されている。この構成によれば、基板側に光熱変換層を
設ける事で、発生した熱が基板に拡散してアブレーショ
ンに使われる熱の割合を減少させ、記録感度を改良する
ことを目的とする。しかし、この方法は、各種有機金属
化合物を主成分とる親水性皮膜を用いており、皮膜中に
有機成分の残存が多い為に、親水性がやや低くなり、非
画像部に汚れが発生しやすく、また、光熱変換層が酸化
物粒子単独からなり、下層のニトロセルロースとの密着
性が低く、印刷枚数が多いと表面親水性に劣る光熱変換
層が露出して、耐刷が悪化するという問題があった。
2. Description of the Related Art As an image forming method for a printing plate, a heat-sensitive lithographic printing plate precursor in which a plate surface is divided into an ink-receptive lipophilic region and a hydrophilic region to form a plate, relates to various image forming methods. Technology has been proposed. One of the promising methods is a method using ablation in which a solid-state high-power infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser is used for exposure, and the exposed portion is heated with a photothermal conversion agent that converts light into heat, thereby causing decomposition and evaporation. It is. That is, a lipophilic ink-receiving layer is provided on a hydrophilic substrate, the ink-receiving layer is removed by ablation by heating, and the hydrophilic substrate surface is exposed.
This is a method of recording an exposed portion as a hydrophilic region. WO9
No. 8/40212 (EK) describes a recording material in which a photothermal conversion layer is provided in a layer adjacent to an aluminum substrate, a hydrophilic layer containing a metal oxide is provided thereon, and an ink receiving layer is provided thereon. I have. According to this configuration, by providing the light-to-heat conversion layer on the substrate side, the generated heat is diffused to the substrate to reduce the proportion of heat used for ablation, and to improve recording sensitivity. However, this method uses a hydrophilic film containing various organometallic compounds as a main component, and since there are many residual organic components in the film, the hydrophilicity is slightly lowered, and stains are easily generated in a non-image portion. In addition, the light-to-heat conversion layer is composed of oxide particles alone, has low adhesion to the lower layer of nitrocellulose, and when the number of printed sheets is large, the light-to-heat conversion layer having poor surface hydrophilicity is exposed, resulting in poor printing durability. was there.

【0003】このような親水性層として、例えば、特開
2000−221666号公報には、水分散性フィラや
珪酸ソーダとコロイダルシリカを含むものが、特開20
00−229485号公報の実施例には、多孔質無機粒
子、コロイダルシリカと珪酸ソーダとを含むものが、特
表2000−500708号公報には、珪酸ソーダに各
種酸化物粒子を混合したものが、それぞれ記載されてい
るが、これらはいずれも珪酸ソーダの含有量が低く親水
性、皮膜形成性が充分でないため汚れ防止性、耐刷性に
劣るという問題があった。また、WO99/19143
号公報(EK)には、インキ受容層だけでなく、金属酸
化物を含むコロイドによって形成した親水層(+光熱変
換剤)が開示されている。実施例の親水性層は金属酸化
物のコロイドを樹脂やゾルゲル等に混合したり、樹脂に
分散させる等して層を形成しているが、ここでは珪酸ソ
ーダを主体として使用するといった思想は開示されてい
ない。
As such a hydrophilic layer, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-221666 discloses a layer containing a water-dispersible filler or sodium silicate and colloidal silica.
In the examples of JP-A-00-229485, those containing porous inorganic particles, colloidal silica and sodium silicate, and JP-T-2000-500708, those in which various oxide particles are mixed with sodium silicate, Although each of them is described, all of them have a problem that the content of sodium silicate is low and the hydrophilicity and the film-forming property are not sufficient, so that the stain prevention property and the printing durability are inferior. In addition, WO 99/19143
Japanese Patent Application Publication (EK) discloses not only an ink receiving layer but also a hydrophilic layer (+ photothermal conversion agent) formed by a colloid containing a metal oxide. The hydrophilic layer of the embodiment forms a layer by mixing a metal oxide colloid into a resin, sol-gel, or the like, or dispersing it in a resin, but here, the idea of using sodium silicate as a main component is disclosed. It has not been.

【0004】平版印刷版に用いられる支持体は、アルミ
ニウムに陽極酸化処理やその他上記のような表面処理を
施したものが多く、その他に、PETなどの合成樹脂板
が用いられることもある。合成樹脂板製の支持体は印刷
中に寸法が変化し、画像がずれたり、キズが付きやす
く、耐刷性が劣る等の問題がある。アルミニウムに表面
処理を施した支持体は先に述べたように製造が煩雑で、
コストが高いばかりでなく、特にレーザー光を光熱変換
材料によって熱に変え、その発生した熱によって記録層
の材料物性を変化させ、画像部と非画像部を形成するい
わゆる感熱記録層を有する平版印刷版では、発生した熱
が支持体に拡散し、支持体近傍でのは熱エネルギーが画
像形成に有効に働かず、樹脂などの熱伝導率が低い材料
に比べて実質的に感度が低下してしまう問題があった。
[0004] The support used for the lithographic printing plate is often obtained by subjecting aluminum to anodic oxidation treatment or other surface treatment as described above. In addition, a synthetic resin plate such as PET may be used. A support made of a synthetic resin plate has problems such as a change in dimensions during printing, an image being shifted, being easily scratched, and poor printing durability. The support which has been subjected to surface treatment on aluminum is complicated to manufacture as described above,
Lithographic printing not only is expensive, but also has a so-called heat-sensitive recording layer that changes the laser light into heat using a light-to-heat conversion material, changes the material properties of the recording layer by the generated heat, and forms an image portion and a non-image portion. In the plate, the generated heat diffuses to the support, and the heat energy near the support does not work effectively for image formation, and the sensitivity is substantially lower than that of materials having low thermal conductivity such as resin. There was a problem.

【0005】アルミニウムの支持体に形成される陽極酸
化皮膜は熱拡散を抑制するという観点から有用であり、
Applied Optics /Vol.32、No
1/1 January(1993)によれば、結晶性
が低く、空隙を有するため、結晶性の良いセラミックの
アルミナに比べ、1/20〜1/30の熱伝導率である
事が知られている。寸法安定性に優れたアルミニウム板
を支持体に用いる場合には、この陽極酸化皮膜は有用で
あるが、熱拡散を防止する手段として、陽極酸化皮膜を
必要十分な5μm程度の厚みに形成するのは、電力コス
トや、生産効率低下となるといった問題があった。ま
た、上記各公報の技術による親水化層は、コストメリッ
トはあるものの、耐刷性、汚れ性、感度を満足する平版
印刷用の支持体の親水化層として総合的に見ると、陽極
酸化皮膜に比較し、なお不十分であった。このため、陽
極酸化処理を行わずに形成可能であり、支持体に適し、
且つ、実用上問題のない特性を有する親水性層を形成す
る技術は未だ見出されていないのが現状である。
The anodic oxide film formed on the aluminum support is useful from the viewpoint of suppressing thermal diffusion.
Applied Optics / Vol. 32, No
According to 1/1 January (1993), it is known that the thermal conductivity is 1/20 to 1/30 as compared with ceramic alumina having good crystallinity because of low crystallinity and voids. . When an aluminum plate having excellent dimensional stability is used for the support, this anodic oxide film is useful, but as a means for preventing thermal diffusion, it is necessary to form the anodic oxide film to a necessary and sufficient thickness of about 5 μm. However, there is a problem that power cost and production efficiency are reduced. In addition, although the hydrophilized layer according to the technology of each of the above publications has a cost advantage, when viewed comprehensively as a hydrophilized layer of a support for lithographic printing that satisfies printing durability, stainability, and sensitivity, an anodic oxide film is used. Was still insufficient. Therefore, it can be formed without performing anodizing treatment, and is suitable for a support,
At the present time, a technique for forming a hydrophilic layer having characteristics that have no practical problem has not been found yet.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、アルミニウム基板上に陽極酸化皮膜を形成すること
なく、又は、陽極酸化皮膜の厚みを極めて薄くしても、
充分な断熱性と親水性とを有し、また、支持体基板との
密着性に優れた親水性層を形成してなる、高感度で、汚
れのない画像を形成することができ、耐刷性に優れた平
版印刷版を形成しうる平版印刷版用支持体を提供するこ
とにある。本発明の更なる目的は、前記支持体上に感熱
性のインク受容層からなる記録層を設けてなる、高感度
で画像形成が可能であり、耐刷性及び非画像部の汚れ防
止性に優れた平版印刷版原版を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for forming an anodic oxide film on an aluminum substrate without forming the anodic oxide film or making the anodic oxide film extremely thin.
Having a heat-insulating property and hydrophilic property, and forming a hydrophilic layer with excellent adhesion to the support substrate, it is possible to form a high-sensitivity, stain-free image, An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate support capable of forming a lithographic printing plate having excellent properties. A further object of the present invention is to provide a recording layer comprising a heat-sensitive ink-receiving layer on the support, to form an image with high sensitivity, to improve printing durability and to prevent contamination of non-image areas. It is to provide an excellent lithographic printing plate precursor.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、アルミニウム基板上に、水ガラスを主体として、
金属酸化物を適量混合した親水層を設けることで、皮膜
の強度が高く、親水性、断熱性に優れた支持体を形成し
得ることを見出し、本発明を完成した。シ縄知、本発明
の平版印刷版用支持体は、アルミニウム基板上に、
(A)珪素とアルカリ金属とを含む非結晶性酸化物と、
(B)アルミウム、珪素、チタン、スズ、インジウム、
ジルコニウム、鉄からなる群より選択される少なくとも
一つの元素の結晶性酸化物とを、両者の固形分重量比率
〔(A)/(B)〕が1〜10の範囲となる量で含有す
る親水層を有することを特徴とする。また、本発明の請
求項2に係る平版印刷版原版は、アルミニウム基板上
に、(A)珪素とアルカリ金属とを含む非結晶性酸化物
と、(B)アルミウム、珪素、チタン、スズ、インジウ
ム、ジルコニウム、鉄からなる群より選択される少なく
とも一つの元素の結晶性酸化物とを、両者の固形分重量
比率〔(A)/(B)〕が1〜10の範囲となる量で含
有する親水層を有する平版印刷版用支持体に、インキ受
容層を設けてなり、該インク受容層および親水層のう
ち、少なくとも一つの層が光熱変換剤を含有することを
特徴とする。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventor has made water glass mainly on an aluminum substrate.
It has been found that by providing a hydrophilic layer in which an appropriate amount of a metal oxide is mixed, a support having high film strength, excellent hydrophilicity and excellent heat insulating properties can be formed, and the present invention has been completed. Shichirochi, the lithographic printing plate support of the present invention, on an aluminum substrate,
(A) an amorphous oxide containing silicon and an alkali metal;
(B) aluminum, silicon, titanium, tin, indium,
A hydrophilic oxide containing a crystalline oxide of at least one element selected from the group consisting of zirconium and iron in such an amount that the solid content weight ratio of both ((A) / (B)) is in the range of 1 to 10; It is characterized by having a layer. Further, the lithographic printing plate precursor according to claim 2 of the present invention comprises, on an aluminum substrate, (A) a non-crystalline oxide containing silicon and an alkali metal, and (B) aluminum, silicon, titanium, tin, indium. , Zirconium, and a crystalline oxide of at least one element selected from the group consisting of iron in an amount such that the solid content weight ratio of both ((A) / (B)) is in the range of 1 to 10. A lithographic printing plate support having a hydrophilic layer is provided with an ink receiving layer, and at least one of the ink receiving layer and the hydrophilic layer contains a photothermal conversion agent.

【0008】本発明によれば、アルミニウム基板上に、
水ガラスの如き、(A)珪素とアルカリ金属とを含む非
結晶性酸化物を含む親水層を設けるが、この材料は非結
晶であるので、熱を伝え難く、陽極酸化皮膜同等の感度
が達成でき、親水性も高い。また、これに(B)アルミ
ウム、珪素、チタン、スズ、インジウム、ジルコニウ
ム、鉄からなる群より選択される少なくとも一つの元素
の結晶性酸化物を特定の比率で併用することで、皮膜強
度、皮膜形成性、耐水性の向上が達成できる。従って、
本発明によれば、陽極酸化皮膜を形成せず、この親水層
を設けることにより、同じ厚みの陽極酸化皮膜を形成し
た場合に匹敵する汚れ防止性、耐刷性、感度向上効果を
達成することができるが、通常の0.5μm(2g/m
2)程度の厚みの陽極酸化皮膜を形成し、その上にさら
に本発明の親水層を形成した場合、さらなる耐刷性、感
度の向上が実現できる。また、前記の構成による断熱
性、皮膜形成性に優れた親水層を設けた支持体上に、レ
ーザー露光の熱によってアブレーションする感熱型イン
キ受容層を設けることにより、この断熱性、親水性を生
かした、高感度で記録可能であり、非画像部の汚れ防止
性や耐刷性に優れた平版印刷版原版を提供することが可
能になった。
According to the present invention, on an aluminum substrate,
(A) A hydrophilic layer containing an amorphous oxide containing silicon and an alkali metal, such as water glass, is provided. However, since this material is amorphous, it is difficult to conduct heat, and a sensitivity equivalent to that of an anodic oxide film is achieved. Yes, it is highly hydrophilic. Further, by using (B) a crystalline oxide of at least one element selected from the group consisting of aluminum, silicon, titanium, tin, indium, zirconium, and iron at a specific ratio, the film strength and film strength can be improved. Improved formability and water resistance can be achieved. Therefore,
According to the present invention, by providing this hydrophilic layer without forming an anodic oxide film, it is possible to achieve a stain prevention property, a printing durability, and a sensitivity improvement effect comparable to the case of forming an anodic oxide film having the same thickness. Can be formed, but the usual 0.5 μm (2 g / m
2 ) When an anodic oxide film of about the thickness is formed and the hydrophilic layer of the present invention is further formed thereon, further improvement in printing durability and sensitivity can be realized. Further, by providing a heat-sensitive ink-receiving layer that is ablated by the heat of laser exposure, on a support provided with a hydrophilic layer having excellent heat insulating properties and a film forming property according to the above-described configuration, the heat insulating properties and hydrophilic properties are utilized. In addition, it has become possible to provide a lithographic printing plate precursor that is recordable with high sensitivity and has excellent non-image portion stain prevention properties and excellent printing durability.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。まず、平版印刷版用支持体の構成に
ついて述べる。本発明の平版印刷版用支持体は、アルミ
ニウム基板上に、酸化珪素と酸化ナトリウムとを含む非
結晶性酸化物と、結晶性酸化物微粒子とを特定の比率で
含む親水層を備えてなる。以下、本発明の支持体の構成
について、順次説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. First, the configuration of the lithographic printing plate support will be described. The lithographic printing plate support of the present invention is provided with a hydrophilic layer containing a non-crystalline oxide containing silicon oxide and sodium oxide and crystalline oxide fine particles at a specific ratio on an aluminum substrate. Hereinafter, the configuration of the support of the present invention will be sequentially described.

【0010】[親水層]本発明の平版印刷版用支持体
は、前記アルミニウム基板上に、(A)珪素とアルカリ
金属とを含む非結晶性酸化物と、(B)アルミウム、珪
素、チタン、スズ、インジウム、ジルコニウム、鉄から
なる群より選択される少なくとも一つの元素の結晶性酸
化物とを、両者の固形分重量比率〔(A)/(B)〕が
1〜10の範囲となる量で含有する親水層を有する。こ
の親水層は、(A)珪素とアルカリ金属とを含む非結晶
性酸化物、具体的には、水ガラスを主成分として含有す
る。水ガラスは市販の各種水ガラスを使用することがで
きる。例えば、JIS−K1408に定められた、3号
珪酸ナトリウム(大阪珪酸ソーダ(株)製SiO2含有
量28〜30重量%、Na2O含有量9〜10重量%、
日本化学工業(株)製SiO2含有量28〜30重量
%、Na2O含有量9〜10重量%)をはじめ、リチウ
ムシリケートや珪酸カリウム等の水ガラスも同様に使用
できる。
[Hydrophilic layer] The lithographic printing plate support of the present invention comprises, on the aluminum substrate, (A) a non-crystalline oxide containing silicon and an alkali metal, (B) aluminum, silicon, titanium, A crystalline oxide of at least one element selected from the group consisting of tin, indium, zirconium and iron, in an amount such that the solid content weight ratio of both ((A) / (B)) is in the range of 1 to 10; Having a hydrophilic layer. This hydrophilic layer contains (A) a non-crystalline oxide containing silicon and an alkali metal, specifically, water glass as a main component. As the water glass, various commercially available water glasses can be used. For example, the sodium silicate No. 3 specified by JIS-K1408 (Osaka Sodium Silicate Co., Ltd.'s SiO 2 content: 28 to 30% by weight, Na 2 O content: 9 to 10% by weight,
Water glass such as lithium silicate and potassium silicate can be used in the same manner as Nippon Chemical Industry Co., Ltd. (SiO 2 content: 28 to 30% by weight, Na 2 O content: 9 to 10% by weight).

【0011】また、(A)成分として、例えば、特開平
9−236911号公報に記載の有機シリコーン化合物
を用いた付加反応基、親水性基を有する、いわゆるゾル
ゲル法で得られた皮膜も非結晶酸化物であり、本発明の
親水層に適用することができる。しかしながら、ゾルゲ
ル法で得られた皮膜には有機成分が残存しやすく、この
ため、親水性がやや低くなり、本発明の(A)成分とし
ては前記水ガラスがより好ましい。この(A)珪素とア
ルカリ金属とを含む非結晶性酸化物は、後述する(B)
アルミウム、珪素、チタン、スズ、インジウム、ジルコ
ニウム、鉄からなる群より選択される少なくとも一つの
元素の結晶性酸化物微粒子を含有し、これが親水層のマ
トリックスとしての機能を果たすため、(B)金属等の
酸化物微粒子の固形分重量で、1〜10倍の量を添加す
る。
As the component (A), for example, a film obtained by a so-called sol-gel method having an addition reactive group and a hydrophilic group using an organic silicone compound described in JP-A-9-236911 is also non-crystalline. It is an oxide and can be applied to the hydrophilic layer of the present invention. However, the organic component tends to remain in the film obtained by the sol-gel method, and therefore the hydrophilicity is slightly lowered. As the component (A) of the present invention, the water glass is more preferable. This (A) amorphous oxide containing silicon and an alkali metal is described later in (B)
It contains crystalline oxide fine particles of at least one element selected from the group consisting of aluminum, silicon, titanium, tin, indium, zirconium, and iron, and functions as a matrix of a hydrophilic layer. 1 to 10 times the solid content weight of the oxide fine particles.

【0012】なお、本発明において結晶性とは、X線回
折装置若しくは電子線回折装置で明瞭なピークが見られ
る化合物を意味し、非結晶性とは、それらの装置で明瞭
なピークが観察されない物質を意味する。一般に、結晶
性が高い金属酸化物ほど硬度が高く、後述する(B)成
分として望ましいといえる。(B)アルミウム、珪素、
チタン、スズ、インジウム、ジルコニウム、鉄からなる
群より選択される少なくとも一つの元素の結晶性酸化物
とは、具体的には、アルミニウム、珪素、チタン、ス
ズ、インジウム、ジルコニウム、鉄から選択される少な
くとも一つの元素の結晶性酸化物を指し、添加する場合
の形状としては、微粒子状であることが好ましい。微粒
子の大きさは、0.01μm〜3μmの範囲であること
が好ましく、0.05μm〜2μmの範囲であることが
さらに好ましく、0.1μm〜1μmの範囲であること
が最も好ましい。このような金属酸化物微粒子の具体例
としては、市販の試薬が使用可能であり、例えば、添川
理化学(株)製試薬〔酸化アルミニウム(粒子径0.0
6μm)、酸化インジウム(粒子径1μm)、二酸化珪
素(粒子径0.8μm)、酸化ジルコニウム(粒子径1
μm)、酸化鉄(粒子径1μm)、二酸化チタン(粒子
径1〜2μm)、酸化第二錫(粒子径1μm)〕等が挙
げられる。また、CVD法や蒸着法などによって作成し
た微粒子を使用する事も可能である。
In the present invention, the term "crystalline" means a compound which shows a clear peak in an X-ray diffractometer or an electron beam diffractometer, and the term "non-crystalline" means that a clear peak is not observed in those devices. Means substance. Generally, a metal oxide having higher crystallinity has a higher hardness, and it can be said that it is desirable as the component (B) described later. (B) aluminum, silicon,
Titanium, tin, indium, zirconium, crystalline oxide of at least one element selected from the group consisting of iron, specifically, aluminum, silicon, titanium, tin, indium, zirconium, selected from iron It refers to a crystalline oxide of at least one element, and when added, is preferably in the form of fine particles. The size of the fine particles is preferably in the range of 0.01 μm to 3 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 2 μm, and most preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. As a specific example of such a metal oxide fine particle, a commercially available reagent can be used. For example, a reagent [aluminum oxide (particle diameter 0.0
6 μm), indium oxide (particle diameter 1 μm), silicon dioxide (particle diameter 0.8 μm), zirconium oxide (particle diameter 1
μm), iron oxide (particle diameter 1 μm), titanium dioxide (particle diameter 1-2 μm), stannic oxide (particle diameter 1 μm)], and the like. Further, fine particles formed by a CVD method, a vapor deposition method, or the like can be used.

【0013】本発明においては、親水層に、前記(A)
非結晶性酸化物と、(B)金属酸化物微粒子とを、両者
の固形分重量比率〔(A)/(B)〕が1〜10の範囲
となる量で含有することが必要である。即ち、親水層を
形成する場合、これらの重量比に従い、配合量を決定す
ればよい。なお、既に形成された親水性層中のこれら成
分の固形分比率の計測は以下の方法で行うことができ
る。本発明で用いられる水ガラスなどの(A)非結晶性
酸化物は、一般に、SiO 2、K2O、Na2O、Li
2、等の非結晶性酸化物からなり、例えば3号珪酸ソ
ーダの場合にはSiO2とNa2Oの比率は、ほぼ3:1
である。これらの酸化物は非結晶性なので、X線回折分
析装置(XRD)によって定量分析不可能であるが、蛍
光X線分析装置(XRF)によって定量分析可能であ
る。一方、(B)金属酸化物微粒子は、結晶性があるの
で、X線回折分析装置(XRD)および、蛍光X線分析
装置(XRF)によって定量分析可能である。この性質
を利用して(A)水ガラス等の非結晶性酸化物由来の酸
化物と金属酸化物微粒子を区別する事ができる。
In the present invention, the above-mentioned (A) is added to the hydrophilic layer.
The non-crystalline oxide and (B) metal oxide fine particles
Weight ratio [(A) / (B)] in the range of 1 to 10
Must be contained in such an amount that: That is, the hydrophilic layer
When forming, determine the blending amount according to these weight ratios.
Just do it. These components in the already formed hydrophilic layer
The measurement of the solids ratio of the minute can be performed by the following method.
You. (A) Non-crystalline such as water glass used in the present invention
The oxide is generally SiO 2 Two, KTwoO, NaTwoO, Li
OTwoConsisting of non-crystalline oxides such as No. 3 silicate
In the case ofTwoAnd NaTwoThe ratio of O is approximately 3: 1
It is. Since these oxides are non-crystalline, X-ray diffraction
Quantitative analysis is not possible with an XRD
Quantitative analysis is possible with an optical X-ray analyzer (XRF)
You. On the other hand, (B) the metal oxide fine particles have crystallinity.
X-ray diffraction analyzer (XRD) and X-ray fluorescence analysis
Quantitative analysis is possible with an apparatus (XRF). This property
(A) Acid derived from an amorphous oxide such as water glass
And fine metal oxide particles.

【0014】なお、オーバーコート層がある場合は、水
等によって剥離後、計測を行えばよい。全元素の定性分
析は蛍光X線分析装置(XRF)を使用し、NaとSi
が検出された場合に、3号珪酸ソーダの場合には、S
i:Na=3:2となるが、さらに、結晶性珪酸微粒子
がある場合には、Siの比率が多くなる。また、各種酸
化物金属酸化物の存在も確認可能である。各種金属酸化
物微粒子の定性分析、定量分析は、X線回折分析装置
(XRD)によっておこなう。例えば、3号珪酸ソーダ
と珪酸微粒子から構成される親水性層はX線回折分析装
置(XRD)および、蛍光X線分析装置(XRF)によ
って定量分析可能である。
In the case where an overcoat layer is present, measurement may be performed after stripping with water or the like. For qualitative analysis of all elements, X-ray fluorescence spectroscopy (XRF) was used, and Na and Si
Is detected, in the case of No. 3 sodium silicate, S
i: Na = 3: 2, and when there are crystalline silica fine particles, the ratio of Si increases. Further, the presence of various oxide metal oxides can be confirmed. Qualitative analysis and quantitative analysis of various metal oxide fine particles are performed by an X-ray diffraction analyzer (XRD). For example, the hydrophilic layer composed of No. 3 sodium silicate and silicate fine particles can be quantitatively analyzed by an X-ray diffraction analyzer (XRD) and an X-ray fluorescence analyzer (XRF).

【0015】水ガラス皮膜は結晶性がほとんど無く、X
線回折分析装置(XRD)によって定量分析不能である
が、結晶性珪酸微粒子は結晶性があるので、X線回折に
よって定量分析可能である。また全シリカ量は蛍光X線
分析装置(XRF)によって定量分析可能である。従っ
て下記式によって(A)成分である水ガラス由来のシリ
カの固形分量と(B)金属酸化物微粒子の量とは、以下
に示す2つの式によって算出可能である。
The water glass film has almost no crystallinity,
Although quantitative analysis cannot be performed by a X-ray diffraction analyzer (XRD), since the crystalline silica fine particles have crystallinity, quantitative analysis can be performed by X-ray diffraction. The total amount of silica can be quantitatively analyzed by an X-ray fluorescence analyzer (XRF). Therefore, the solid content of silica derived from water glass as the component (A) and the amount of the metal oxide fine particles (B) can be calculated by the following two formulas according to the following formula.

【0016】 固形分比率=〔SiO2量(XRF)+Na2O量(XRF)−SiO2量(XR D)−Na2O量(XRD)〕/SiO2量(XRD) (式1) Na2O(XRD)の量はNa2Oが水ガラス由来である
ので、ほとんど検出しないので、式2と等価である。 固形分比率=(SiO2量(XRF)+Na2O量(XRF)−SiO2量(XR D))/SiO2量(XRD) (式2) 定量分析の定量方法は、水ガラスとコロイド酸化物もし
くは水酸化物を一定量滴下乾燥させて、検量線用標準試
料を作成し、検量線法によって定量する。オーバーコー
ト層がある場合は、水等によって剥離後、計測をおこな
う。
Solid content ratio = [SiO 2 amount (XRF) + Na 2 O amount (XRF) −SiO 2 amount (XRD) −Na 2 O amount (XRD)] / SiO 2 amount (XRD) (Formula 1) Na Since the amount of 2 O (XRD) is hardly detected since Na 2 O is derived from water glass, it is equivalent to the expression (2). Solid content = (SiO 2 amount (XRF) + Na 2 O amount (XRF) -SiO 2 amount (XR D)) / SiO 2 weight (XRD) method of quantifying (Equation 2) Quantitative analysis of water glass and colloidal oxide A predetermined amount of the substance or hydroxide is dropped and dried to prepare a standard sample for a calibration curve, and quantified by the calibration curve method. When there is an overcoat layer, measurement is performed after peeling with water or the like.

【0017】本発明に係る親水層には、前記の必須成分
の他、目的に応じて種々の添加剤を併用することができ
る。例えば、親水層には、皮膜強度及び皮膜の耐水性、
さらには、画質を向上させる目的で、芳香族水酸基を有
する樹脂を用いることができる。芳香族水酸基を有する
樹脂としては、メタノールに25℃で5重量%以上溶解
するものが好ましく、例えば、ノボラック樹脂、レゾー
ル樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、ケトンピロガロー
ル樹脂等のアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。好ましい
ノボラック樹脂としては、フェノール、o−クレゾー
ル、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレ
ノール、および3,5−キシレノール、レゾルシンから
選ばれる少なくとも1種の水酸基含有芳香族化合物を、
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアル
デヒドなどのアルデヒドの中から選ばれる少なくとも1
種と酸性触媒下で付加縮合したノボラック樹脂が挙げら
れる。ホルムアルデヒドおよびアセトアルデヒドの代わ
りに、それぞれパラホルムアルデヒドおよびパラアルデ
ヒドを使用してもよい。
In the hydrophilic layer according to the present invention, in addition to the above essential components, various additives can be used in combination depending on the purpose. For example, for the hydrophilic layer, film strength and water resistance of the film,
Further, a resin having an aromatic hydroxyl group can be used for the purpose of improving image quality. As the resin having an aromatic hydroxyl group, a resin that dissolves in methanol in an amount of 5% by weight or more at 25 ° C. is preferable, and examples thereof include an alkali-soluble resin such as a novolak resin, a resol resin, a polyvinylphenol resin, and a ketone pyrogallol resin. Preferred novolak resins include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, and at least one hydroxyl-containing aromatic compound selected from 3,5-xylenol and resorcinol,
At least one selected from aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde and propionaldehyde
Novolak resins that have been addition-condensed with a species under an acidic catalyst are mentioned. Instead of formaldehyde and acetaldehyde, paraformaldehyde and paraaldehyde, respectively, may be used.

【0018】その中でも、m−クレゾール:p−クレゾ
ール:2,5−キシレノール:3,5−キシレノール:
レゾルシンの混合割合がモル比で40〜100:0〜5
0:0〜20:0〜20:0〜20の混合物、または、
フェノール:m−クレゾール:p−クレゾールの混合割
合がモル比で1〜100:0〜70:0〜60の混合物
とアルデヒドとの付加縮合物であるノボラック樹脂が好
ましい。アルデヒドの中でも、特にホルムアルデヒドが
好ましい。ノボラック樹脂のゲル浸透クロマトグラフィ
ー(以下、GPCと略す)測定によるポリスチレン換算
重量平均分子量(以下、重量平均分子量と略す)は、好
ましくは1,000〜15,000、さらに好ましくは
1,500〜10,000のものが用いられる。
Among them, m-cresol: p-cresol: 2,5-xylenol: 3,5-xylenol:
The mixing ratio of resorcinol is 40 to 100: 0 to 5 in molar ratio.
A mixture of 0: 0 to 20: 0 to 20: 0 to 20, or
A novolak resin which is an addition condensation product of a mixture of phenol: m-cresol: p-cresol at a molar ratio of 1 to 100: 0 to 70: 0 to 60 and an aldehyde is preferred. Of the aldehydes, formaldehyde is particularly preferred. The polystyrene-equivalent weight average molecular weight (hereinafter abbreviated as weight average molecular weight) of the novolak resin measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC) is preferably 1,000 to 15,000, and more preferably 1,500 to 10 , 000 are used.

【0019】好ましいレゾール樹脂としては、フェノー
ル、m−クレゾール、o−クレゾール、p−クレゾー
ル、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、レ
ソルシノール、ピロガロール、ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)メタン、ビスフェノール−A、o−エチルフ
ェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノー
ル、プロピルフェノール、n−ブチルフェノール、t−
ブチルフェノール、1−ナフトール、2−ナフトール等
の水酸基含有芳香族炭化水素類やその他の2個以上の水
酸基を有する多核芳香族炭化水素類の少なくとも1種
を、アルカリ性触媒下、ホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フ
ルフラール等のアルデヒド、およびアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトンから
選ばれた少なくとも1種のアルデヒドまたはケトンと付
加縮合させたものが挙げられる。ホルムアルデヒドおよ
びアセトアルデヒドの代わりに、それぞれパラホルムア
ルデヒドおよびパラアルデヒドを使用してもよい。レゾ
ール樹脂の重量平均分子量は、好ましくは500〜1
0,000、特に好ましくは1,000〜5,000で
ある。
Preferred resole resins include phenol, m-cresol, o-cresol, p-cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, resorcinol, pyrogallol, bis- (4-hydroxyphenyl) methane, bisphenol -A, o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol, propylphenol, n-butylphenol, t-
Hydroxy group-containing aromatic hydrocarbons such as butylphenol, 1-naphthol, and 2-naphthol, and at least one other polynuclear aromatic hydrocarbon having two or more hydroxyl groups are subjected to formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde under an alkaline catalyst. And aldehydes such as benzaldehyde and furfural, and addition-condensation with at least one aldehyde or ketone selected from ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. Instead of formaldehyde and acetaldehyde, paraformaldehyde and paraaldehyde, respectively, may be used. The weight average molecular weight of the resole resin is preferably 500 to 1
It is particularly preferably from 1,000 to 5,000.

【0020】好ましいポリビニルフェノール樹脂として
は、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフ
ェニル)プロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)
プロピレン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレ
ンなどのヒドロキシスチレン類の単独または2種以上の
共重合体が挙げられる。ヒドロキシスチレン類は、芳香
環に塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンまたは炭
素数1〜4個のアルキル基等の置換基を有していてもよ
く、従って、ポリビニルフェノール類としては、芳香環
にハロゲンまたは炭素数1〜4個のアルキル基を有して
いても良いポリビニルフェノールが挙げられる。このほ
かに、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、2−(o−ヒドロキシフ
ェニル)プロピレン、2−(m−ヒドロキシフェニル)
プロピレン、2−(p−ヒドロキシフェニル)プロピレ
ンなどのヒドロキシスチレン類に、メタクリル酸、アク
リル酸、メタクリル酸アルキルエステルやアクリル酸ア
ルキルエステルを共重合したものも有用である。
Preferred polyvinyl phenol resins include o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (o-hydroxyphenyl) propylene and 2- (m-hydroxyphenyl)
Examples thereof include homopolymers of hydroxystyrenes such as propylene and 2- (p-hydroxyphenyl) propylene, or copolymers of two or more thereof. Hydroxystyrenes may have a substituent such as a halogen such as chlorine, bromine, iodine or fluorine or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms on the aromatic ring. And a polyvinyl phenol which may have a halogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. In addition, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (o-hydroxyphenyl) propylene, 2- (m-hydroxyphenyl)
Those obtained by copolymerizing hydroxystyrenes such as propylene and 2- (p-hydroxyphenyl) propylene with methacrylic acid, acrylic acid, alkyl methacrylate or alkyl acrylate are also useful.

【0021】ポリビニルフェノール樹脂は、通常、置換
基を有していてもよいヒドロキシスチレンを、単独でま
たは2種以上を、ラジカル重合開始剤またはカチオン重
合開始剤の存在下で重合することにより得られる。かか
るポリビニルフェノール樹脂は、一部水素添加を行なっ
たものでもよい。また、t−ブトキシカルボニル基、ピ
ラニル基、フラニル基などで、ポリビニルフェノール樹
脂の一部の水酸基を保護した樹脂でもよい。ポリビニル
フェノール樹脂の重量平均分子量は、好ましくは1,0
00〜100,000、特に好ましくは1,500〜5
0,000である。ケトンピロガロール樹脂としては、
アセトンピロガロール樹脂が特に有用である。これらの
芳香族水酸基を有する樹脂の添加割合は、親水層固形分
の1〜5重量%であり、好ましくは1〜3重量%であ
る。
The polyvinyl phenol resin is usually obtained by polymerizing hydroxystyrene, which may have a substituent, alone or in combination of two or more in the presence of a radical polymerization initiator or a cationic polymerization initiator. . Such a polyvinyl phenol resin may be partially hydrogenated. Further, a resin in which some hydroxyl groups of the polyvinyl phenol resin are protected by a t-butoxycarbonyl group, a pyranyl group, a furanyl group, or the like may be used. The weight average molecular weight of the polyvinyl phenol resin is preferably 1,0.
00 to 100,000, particularly preferably 1,500 to 5
000. As ketone pyrogallol resin,
Acetone pyrogallol resins are particularly useful. The proportion of the resin having an aromatic hydroxyl group to be added is 1 to 5% by weight, preferably 1 to 3% by weight based on the solid content of the hydrophilic layer.

【0022】また、親水性層の皮膜性を向上させる目的
で、親水性樹脂を添加しても良い。親水性樹脂として
は、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、ヒドロキ
シエチル基、ヒドロキシプロピル基、アミノ基、アミノ
エチル基、アミノプロピル基、カルボキシメチル基など
の親水基を有するものが好ましい。具体的な親水性樹脂
として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導
体、カルボキシメチルセルロースおよびそれらのナトリ
ウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウ
ム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー、スチレン−マ
レイン酸コポリマー、ポリアクリル酸およびそれらの
塩、ポリメタクリル酸およびそれらの塩、ヒドロキシエ
チルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、
ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコ
ポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポ
リマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレ
ートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチ
ルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒ
ドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポ
リマー、ポリエチレングリコール、ポリプロピレンオキ
シド、ポリビニルアルコール、ならびに加水分解度が少
なくとも60重量%、好ましくは少なくとも80重量%
の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ア
クリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタク
リルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロ
ールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー等
を挙げることができる。
Further, a hydrophilic resin may be added for the purpose of improving the film properties of the hydrophilic layer. As the hydrophilic resin, those having a hydrophilic group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, an amino group, an aminoethyl group, an aminopropyl group, a carboxymethyl group are preferable. Specific hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethyl cellulose and their sodium salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyacrylic acid and , Polymethacrylic acid and salts thereof, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate,
Homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycol, polypropylene oxide , Polyvinyl alcohol, and a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight
Polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers, methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylol acrylamide homopolymers and copolymers, and the like.

【0023】特に好ましい親水性樹脂は、水酸基含有ポ
リマーで、具体的には、ポリビニルアルコール、シリカ
変性ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルメタクリ
レートのホモポリマーおよびコポリマーとヒドロキシエ
チルアクリレートのコポリマーである。
Particularly preferred hydrophilic resins are hydroxyl group-containing polymers, specifically, polyvinyl alcohol, silica-modified polyvinyl alcohol, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate and copolymers of hydroxyethyl acrylate.

【0024】これらの親水性樹脂の添加割合は、親水性
樹脂が水溶性の場合、親水層固形分の10重量%以下が
好ましい。それ以上では、皮膜の耐水性や面質は向上す
るが、水ガラスの良好な親水性が損なわれるので、好ま
しくない。また、含有量が0.1重量%未満では、皮膜
形成性がやや悪化し、乾燥後、皮膜にひび割れが発生し
やすくなり、耐刷性の低下につながる虞がある。含有量
は0.1〜3重量%の範囲であることがさらに好まし
い。
When the hydrophilic resin is water-soluble, the proportion of the hydrophilic resin is preferably 10% by weight or less based on the solid content of the hydrophilic layer. Above that, the water resistance and surface quality of the coating are improved, but the good hydrophilicity of the water glass is impaired, which is not preferred. On the other hand, if the content is less than 0.1% by weight, the film-forming property is slightly deteriorated, and after drying, the film is apt to crack, which may lead to a reduction in printing durability. More preferably, the content is in the range of 0.1 to 3% by weight.

【0025】本発明の親水層には、コロイド状酸化物ま
たは水酸化物の架橋を促進する架橋剤を添加しても良
い。そのような架橋剤としては、テトラアルコキシシラ
ンの初期加水分解縮合物、トリアルコキシシリルプロピ
ル−N,N,N−トリアルキルアンモニウムハライド、
または、アミノプロピルトリアルコキシシランが好まし
い。その添加割合は、親水層固形分の5重量%以下が好
ましい。
The hydrophilic layer of the present invention may contain a crosslinking agent for promoting the crosslinking of the colloidal oxide or hydroxide. Examples of such a crosslinking agent include an initial hydrolysis condensate of tetraalkoxysilane, trialkoxysilylpropyl-N, N, N-trialkylammonium halide,
Alternatively, aminopropyl trialkoxysilane is preferred. The addition ratio is preferably 5% by weight or less of the solid content of the hydrophilic layer.

【0026】また、印刷時の耐刷力を増加させる目的
で、上記の親水性樹脂あるいは芳香族水酸基を有する樹
脂の架橋剤を添加してもよい。このような架橋剤として
は、ホルムアルデヒド、グリオキザール、ポリイソシア
ネート、テトラアルコキシシランの初期加水分解・縮合
物、ジメチロール尿素およびヘキサメチロールメラミン
を挙げることができる。さらに、本発明の親水層には、
塗布の面状を良化させるため、良く知られたフッ素系界
面活性剤、シリコン系界面活性剤、ポリオキシエチレン
系界面活性剤などを添加しても良い。
Further, for the purpose of increasing the printing durability during printing, a crosslinking agent for the above-mentioned hydrophilic resin or resin having an aromatic hydroxyl group may be added. Examples of such a crosslinking agent include formaldehyde, glyoxal, polyisocyanate, an initial hydrolysis / condensation product of tetraalkoxysilane, dimethylol urea, and hexamethylol melamine. Further, in the hydrophilic layer of the present invention,
In order to improve the surface condition of the coating, a well-known fluorine-based surfactant, silicon-based surfactant, or polyoxyethylene-based surfactant may be added.

【0027】本発明の親水層の塗布厚み(乾燥後)は1
〜10μmであることが好ましい。より好ましくは3〜
5μmである。この範囲内で、親水層の断熱性、耐久性
を確保し、印刷時の良好な耐刷性が得られる。 (親水性層の膜厚の計測方法)なお、親水性層の膜厚は
超高分解能型SEM(日立S−900)を使用して測定
することができる。本発明においては、12Vという比
較的低加速電圧で、親水性層付きのアルミ支持体を折り
曲げて、導電性を付与する蒸着処理等を施した後、折り
曲げた際に発生したひび割れ部分の側面(通称破断面)
を超高分解能型SEM(日立S−900)を使用し、観
察した値を用いている。この破断面を1万〜5万倍の適
当な倍率で観察し、厚みを10ヵ所無作為抽出して計測
し、その平均値を使用した。標準偏差誤差は±10%以
下であった。
The coating thickness (after drying) of the hydrophilic layer of the present invention is 1
It is preferably from 10 to 10 μm. More preferably 3 to
5 μm. Within this range, the heat insulating property and durability of the hydrophilic layer are secured, and good printing durability during printing is obtained. (Method of Measuring Film Thickness of Hydrophilic Layer) The film thickness of the hydrophilic layer can be measured using an ultra-high resolution SEM (Hitachi S-900). In the present invention, the aluminum support with the hydrophilic layer is bent at a relatively low accelerating voltage of 12 V and subjected to a vapor deposition treatment or the like for imparting conductivity, and then the side surface of a crack generated when the bending is performed ( (Commonly known as fracture surface)
Are measured using an ultra-high resolution SEM (Hitachi S-900). The fractured surface was observed at an appropriate magnification of 10,000 to 50,000 times, and the thickness was randomly extracted and measured at ten places, and the average value was used. The standard deviation error was less than ± 10%.

【0028】[オーバーコート層]本発明の感熱性平版
印刷版用支持体においては、親水層上に水溶性オーバー
コート層を有することができる。オーバーコート層によ
って、支持体の保管や取り扱いの時の親油性物質による
親水層の汚染や親水層の傷つきを防止できる。また、オ
ーバーコート層に光熱変換剤を含有させることにより、
高感度化することが可能となる。このようにオーバーコ
ート層に光熱変換剤を添加する高感度化の方法は、親水
層に光熱変換剤を多量添加する高感度化方法に比べて、
親水層の親水性や膜質を劣化させてしまう可能性が少な
く、同等の効果を期待できるため、好ましい態様といえ
る。
[Overcoat layer] The support for the heat-sensitive lithographic printing plate of the present invention may have a water-soluble overcoat layer on the hydrophilic layer. The overcoat layer can prevent the lipophilic substance from contaminating the hydrophilic layer and damaging the hydrophilic layer during storage and handling of the support. Also, by including a photothermal conversion agent in the overcoat layer,
It is possible to increase the sensitivity. Thus, the method of increasing the sensitivity of adding the photothermal conversion agent to the overcoat layer is higher than the method of increasing the sensitivity of adding a large amount of the photothermal converter to the hydrophilic layer,
This is a preferable embodiment because there is little possibility of deteriorating the hydrophilicity and film quality of the hydrophilic layer and the same effect can be expected.

【0029】本発明に使用できる水溶性オーバーコート
層は、印刷時に容易に除去できることが好ましく、この
ため、水溶性の高分子化合物から選ばれた樹脂を含有す
る。ここで用いる水溶性の高分子化合物としては、塗布
乾燥によってできた皮膜がフィルム形成能を有するもの
で、具体的には、ポリ酢酸ビニル(但し、加水分解率6
5%以上のもの)、ポリアクリル酸およびそのアルカリ
金属塩またはアミン塩、アクリル酸共重合体およびその
アルカリ金属塩またはアミン塩、ポリメタクリル酸およ
びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、メタクリル酸共
重合体およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、アク
リルアミド単独重合体および共重合体、ポリヒドロキシ
エチルアクリレート、ビニルピロリドン単独重合体およ
び共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチル
エーテル/無水マレイン酸共重合体、ポリ−2−アクリ
ルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸および
そのアルカリ金属塩またはアミン塩、2−アクリルアミ
ド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸共重合体およ
びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、アラビアガム、
繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロース、
カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)お
よびその変性体、ホワイトデキストリン、プルラン、酵
素分解エーテル化デキストリン等を挙げることができ
る。また、目的に応じて、これらの樹脂を二種以上混合
して用いることもできる。
The water-soluble overcoat layer that can be used in the present invention is preferably easily removable at the time of printing, and therefore contains a resin selected from water-soluble high molecular compounds. As the water-soluble polymer compound used here, a film formed by coating and drying has a film-forming ability, and specifically, polyvinyl acetate (provided that the hydrolysis rate is 6%).
5% or more), polyacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, acrylic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, polymethacrylic acid and its alkali metal salt or amine salt, methacrylic acid copolymer And alkali metal salts or amine salts thereof, acrylamide homopolymers and copolymers, polyhydroxyethyl acrylate, vinylpyrrolidone homopolymers and copolymers, polyvinyl methyl ether, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, poly- 2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid and its alkali metal salt or amine salt, 2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid copolymer and its alkali metal salt or amine salt, gum arabic,
Fibrin derivatives (eg, carboxymethylcellulose,
Carboxyethylcellulose, methylcellulose and the like) and modified products thereof, white dextrin, pullulan, enzymatically decomposed etherified dextrin and the like. Further, according to the purpose, two or more of these resins can be used in combination.

【0030】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には、主に非イ
オン系界面活性剤を添加することができる。このような
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非
イオン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占
める割合は、0.05〜5重量%が好ましく、より好ま
しくは1〜3重量%である。
In addition, a nonionic surfactant can be mainly added to the overcoat layer in the case of aqueous solution application for the purpose of ensuring uniformity of application. Specific examples of such a nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearate, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyoxyethylene dodecyl ether, and the like. . The proportion of the nonionic surfactant in the total solid content of the overcoat layer is preferably 0.05 to 5% by weight, and more preferably 1 to 3% by weight.

【0031】本発明のオーバーコート層の厚みは、0.
01〜0.5μmが好ましく、さらに好ましくは0.1
〜0.3μmである。この範囲内において、印刷時オー
バーコート層の除去に時間がかかるとか、多量に溶けだ
した水溶性樹脂が湿し水に影響を与え、印刷時ローラス
トリップを発生させたり、インキが画像部に着肉しない
等の悪影響を与えることなく、また皮膜性を損うことな
く、良好な、アブレーションカスの飛散防止や親油性物
質汚染の防止などが得られる。
The thickness of the overcoat layer according to the present invention is set to 0.1.
It is preferably from 0.1 to 0.5 μm, more preferably from 0.1 to 0.5 μm.
0.30.3 μm. Within this range, it takes time to remove the overcoat layer during printing, or a large amount of dissolved water-soluble resin affects the dampening solution, causing roller strips during printing, and ink depositing on the image area. Good prevention of scattering of ablation scum and prevention of lipophilic substance contamination can be obtained without giving any adverse effects such as no abrasion and without impairing the film properties.

【0032】[支持体基板]本発明のアルミニウム支持
体に用いられる原料アルミニウム基板は、従来より公知
の素材であるアルミニウム板を適宜利用することができ
る。本発明で言うアルミニウム基板は、純アルミニウム
板、あるいはアルミニウムを主成分とし、微量の異元素
を含む合金板を包含するものである。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ンなどがある。合金中の異元素の含有量は10重量%以
下であることが好ましい。また、DC鋳造法を用いてア
ルミニウム鋳塊から作成したアルミニウム板、及び、連
続鋳造法により鋳塊から作成したアルミニウム板のいず
れであっても本発明の支持体基板として使用しうる。
[Support Substrate] As the raw aluminum substrate used for the aluminum support of the present invention, an aluminum plate which is a conventionally known material can be appropriately used. The aluminum substrate referred to in the present invention includes a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is preferably 10% by weight or less. In addition, any one of an aluminum plate made from an ingot by the DC casting method and an aluminum plate made from the ingot by the continuous casting method can be used as the support substrate of the present invention.

【0033】本発明に用いられる上記アルミニウム基板
の厚みは0.05〜0.6mm、好ましくは0.1〜
0.4mm、特に好ましくは0.15〜0.3mmであ
る。
The thickness of the aluminum substrate used in the present invention is 0.05 to 0.6 mm, preferably 0.1 to 0.6 mm.
It is 0.4 mm, particularly preferably 0.15 to 0.3 mm.

【0034】アルミニウム板を陽極酸化処理するに先立
ち、表面を粗面化することが好ましい。粗面化により表
面積を増大させ、上層との接着性を向上できる。アルミ
ニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われ
るが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に
表面を溶解粗面化する方法、化学的に表面を選択溶解さ
せる方法、あるいはこれらの方法のうち2種以上の組み
合わせによって行われる。機械的方法としては、ボール
研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法な
どの公知の方法を用いることができる。化学的方法とし
ては、特開昭54−31187号公報に記載されている
ような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方
法が適している。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸または硝酸などの酸を含む電解液中で交流または直
流により行う方法がある。また、特開昭54−6390
2号に記載されているように混合酸を用いた電解粗面化
方法も利用することができる。上記の如き方法による粗
面化は、アルミニウム板表面の中心線平均粗さ(Ha)
が0.3〜1.0μmの範囲で施されることが好まし
い。
Prior to anodizing the aluminum plate, it is preferable to roughen the surface. Roughening can increase the surface area and improve the adhesion to the upper layer. The surface roughening treatment of the aluminum plate surface is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by a method or a combination of two or more of these methods. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. As a chemical method, a method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in JP-A-54-31187 is suitable. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of carrying out an alternating current or a direct current in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-6390
An electrolytic surface roughening method using a mixed acid as described in No. 2 can also be used. The surface roughening by the above-mentioned method is performed by using the center line average roughness (Ha) of the aluminum plate surface.
Is preferably applied in the range of 0.3 to 1.0 μm.

【0035】粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じて水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液に
よるアルカリエッチング処理をされ、さらに中和処理さ
れた後、陽極酸化処理を施す事が望ましい。また、本発
明においては、後述する親水層の親水性、断熱性に優れ
ることから、以下に述べる陽極酸化処理を省略し、廉価
な版を提供することも可能である。
The roughened aluminum plate is preferably subjected to an alkali etching treatment with an aqueous solution of potassium hydroxide or sodium hydroxide, if necessary, further subjected to a neutralization treatment, and then to an anodic oxidation treatment. Moreover, in the present invention, since the hydrophilic layer described later has excellent hydrophilicity and heat insulating properties, it is possible to provide an inexpensive plate by omitting the anodic oxidation treatment described below.

【0036】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には、硫酸、リン酸、蓚
酸、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、
あるいは、それらの混酸が用いられる。これらの電解質
の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸
化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一
概に特定し得ないが、一般的には、電解質の濃度が1〜
80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60
A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜50
分の範囲であれば適当である。これらの陽極酸化処理の
中でも、特に、英国特許1,412,768号公報に記
載されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法お
よび米国特許3,511,661号公報に記載されてい
るリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, sulfamic acid, Benzenesulfonic acid,
Alternatively, their mixed acids are used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally.
80% by weight solution, liquid temperature 5 to 70 ° C, current density 5 to 60
A / dm 2 , voltage 1 to 100 V, electrolysis time 10 seconds to 50
A range of minutes is appropriate. Among these anodizing treatments, in particular, a method of anodizing with high current density in sulfuric acid described in British Patent No. 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661 are described. A method of performing anodic oxidation using phosphoric acid as an electrolytic bath is preferable.

【0037】本発明においてアルミニウム基板上に陽極
酸化皮膜を設ける場合には、その皮膜量は、2.0g/
2以上であることが好ましく、好ましくは2.0〜
6.0g/m2の範囲であり、より好ましくは2.0〜
5.0g/m2の範囲である。
In the present invention, when an anodic oxide film is provided on an aluminum substrate, the amount of the film is 2.0 g / g.
m 2 or more, preferably 2.0 to
6.0 g / m 2 , more preferably 2.0 to 2.0 g / m 2.
It is in the range of 5.0 g / m 2 .

【0038】本発明においては、陽極酸化条件を最適化
することによってマイクロポアの分布密度を調製した
後、マイクロポアのサイズを拡げる目的で酸またはアル
カリ水溶液によって処理(ポアワイドニング処理)する
ことが好ましい。この処理は、陽極酸化皮膜が形成され
たアルミニウム基板を酸またはアルカリ水溶液に浸漬
し、陽極酸化皮膜を、好ましくは0.05〜20g/m
2、より好ましくは0.1〜5g/m2、特に好ましくは
0.2〜4g/m2溶解する。
In the present invention, after the distribution density of the micropores is adjusted by optimizing the anodic oxidation conditions, treatment with an aqueous acid or alkali solution (pore widening treatment) for the purpose of expanding the size of the micropores may be performed. preferable. In this treatment, the aluminum substrate on which the anodic oxide film is formed is immersed in an aqueous acid or alkali solution, and the anodic oxide film is preferably treated at 0.05 to 20 g / m 2.
2 , more preferably 0.1 to 5 g / m 2 , particularly preferably 0.2 to 4 g / m 2 .

【0039】上記の皮膜溶解量を得るための処理条件と
して、以下の条件範囲が望ましい。具体的条件範囲とし
て、酸水溶液で処理する場合には、硫酸、リン酸などの
無機酸、またはこれらの混合物の水溶液を用いることが
好ましく、濃度としては、好ましくは10〜500g/
l、より好ましくは20〜100g/l、温度として
は、好ましくは10〜90℃、より好ましくは40〜7
0℃、浸漬処理時間としては、好ましくは10〜300
秒、より好ましくは30〜120秒である。一方アルカ
リ水溶液で処理する場合には、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、あるいはこれらの混合物
の水溶液を用いることが好ましく、その水溶液のpHと
しては、好ましくは9〜13、より好ましくは11.5
〜12.5であり、温度としては、好ましくは10〜9
0℃、より好ましくは30〜50℃、浸漬処理時間とし
ては、好ましくは1〜300秒、より好ましくは5〜3
0秒である。この範囲内で、溶解するまでの時間が著し
く長くなり作業効率が低下してしまったり、あるいは極
端な短時間で溶解してしまうため実用上制御ができなく
なってしまうことなく、良好なポアワイドニング処理が
できる。
The following conditions are desirable as processing conditions for obtaining the above-mentioned film dissolution amount. As a specific condition range, when treating with an aqueous acid solution, it is preferable to use an aqueous solution of an inorganic acid such as sulfuric acid or phosphoric acid or a mixture thereof, and the concentration is preferably 10 to 500 g /
l, more preferably 20 to 100 g / l, and the temperature is preferably 10 to 90 ° C, more preferably 40 to 7 ° C.
0 ° C., the immersion time is preferably 10 to 300
Seconds, more preferably 30 to 120 seconds. On the other hand, when treating with an alkaline aqueous solution, it is preferable to use an aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, or a mixture thereof, and the pH of the aqueous solution is preferably 9 to 13, more preferably 11.5
To 12.5, and the temperature is preferably 10 to 9
0 ° C, more preferably 30 to 50 ° C, and the immersion time is preferably 1 to 300 seconds, more preferably 5 to 3 seconds.
0 seconds. Within this range, good pore widening can be achieved without significantly shortening the time required to dissolve and reducing the working efficiency, or dissolving in an extremely short time and preventing practical control. Can be processed.

【0040】陽極酸化皮膜を有するアルミニウム基板
は、ポアワイドニング処理をおこなった場合には、後に
封孔処理をおこなう事ができる。適用される封孔処理と
しては、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、重クロム
酸塩処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム塩処理、電
着封孔処理などの公知の方法を用いて行うことができ
る。熱水処理、水蒸気処理、あるいは沸騰水処理方法と
しては、例えば、特開平4−176690号、同5−1
31773号など数多くの公知例がある。処理温度は9
5〜200℃程度、好ましくは100〜150℃程度が
よく、処理時間は、100℃では5〜150秒間程度、
150℃では1〜30秒間程度が好ましい。
When the aluminum substrate having the anodic oxide film has been subjected to the pore widening treatment, the aluminum substrate can be subjected to a sealing treatment later. The sealing treatment to be applied is performed using a known method such as hot water treatment, boiling water treatment, steam treatment, dichromate treatment, nitrite treatment, ammonium acetate treatment, and electrodeposition sealing treatment. Can be. As a method of hot water treatment, steam treatment or boiling water treatment, for example, JP-A-4-176690, 5-1.
There are many known examples such as 31773. Processing temperature is 9
About 5 to 200 ° C., preferably about 100 to 150 ° C., and the processing time is about 5 to 150 seconds at 100 ° C.
At 150 ° C., it is preferably about 1 to 30 seconds.

【0041】別の封孔処理として、特公昭36−220
63号などに記載されているようなフッ化ジルコン酸処
理を用いることもできる。あるいは、特開平9−244
227号に記載されているリン酸塩および無機フッ素化
合物を含む水溶液で処理する方法を用いることができ
る。また、特開平9−134002号に記載されている
糖を含む水溶液で処理する方法を用いることもできる。
そのほか、特願平10−252078号および同10−
253411号に記載されているチタンとフッ素を含む
水溶液で処理する方法を用いることができる。
As another sealing treatment, JP-B-36-220
No. 63 or the like can be used. Alternatively, JP-A-9-244
No. 227, a method of treating with an aqueous solution containing a phosphate and an inorganic fluorine compound can be used. Further, the method of treating with an aqueous solution containing a saccharide described in JP-A-9-134002 can also be used.
In addition, Japanese Patent Application Nos. 10-252078 and 10-
The method of treating with an aqueous solution containing titanium and fluorine described in No. 253411 can be used.

【0042】また、封孔処理として、アルカリ金属珪酸
塩を用いた処理を行ってもよく、その場合は、米国特許
3181461号などに記載されている方法を用いるこ
とができる。アルカリ金属珪酸塩処理では、液のゲル化
および陽極酸化皮膜の溶解を起こすことのない25℃で
のpHが10〜13であるアルカリ金属珪酸塩水溶液を
用いて、アルカリ金属珪酸塩濃度、処理温度、処理時間
などの処理条件を適宜選択して封孔処理を行うことがで
きる。好適なアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどを挙げることが
できる。また、アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHを高く
調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウムなどを配合することができる。
As the sealing treatment, a treatment using an alkali metal silicate may be performed. In such a case, a method described in US Pat. No. 3,181,461 can be used. In the alkali metal silicate treatment, an alkali metal silicate aqueous solution having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. which does not cause gelation of the solution and dissolution of the anodic oxide film is used. The sealing process can be performed by appropriately selecting processing conditions such as processing time. Suitable alkali metal silicates include sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like. Further, in order to adjust the pH of the alkali metal silicate aqueous solution to high, sodium hydroxide, potassium hydroxide,
Lithium hydroxide and the like can be blended.

【0043】さらに必要に応じて、アルカリ金属珪酸塩
水溶液にアルカリ土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を
配合してもよい。このアルカリ土類金属塩としては、硝
酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウ
ム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、これらのアルカリ
土類金属の硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、蓚酸
塩、硼酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金
属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チ
タンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨ
ウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウ
ム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなど
を挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは第
IVB族金属塩は、単独または2種以上組み合わせて使用
することができる。これらの金属塩の好ましい使用量範
囲は0.01〜10重量%であり、さらに好ましい範囲
は0.05〜5.0重量%である。
If necessary, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the aqueous alkali metal silicate solution. Examples of the alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates, and borates of these alkaline earth metals. And water-soluble salts such as salts. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, and the like. be able to. Alkaline earth metal salt or No.
Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred use amount range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight, and the more preferred range is 0.05 to 5.0% by weight.

【0044】このようにして得られた本発明の平版印刷
版用支持体は、親水性、断熱性に優れ、密着性や強度も
良好であるため、赤外線レーザ露光により画像形成を行
う平版印刷版原版の支持体として好適に用いることがで
きる。
The lithographic printing plate support of the present invention thus obtained is excellent in hydrophilicity and heat insulating properties, and has good adhesion and strength. It can be suitably used as a support for an original plate.

【0045】〔平版印刷版原版〕本発明の平版印刷版原
版は、前記平版印刷版用支持体に、インキ受容層を設け
てなるものであり、特に、該インク受容層、親水層、或
いは所望により設けられるオーバーコート層などの各層
構成において、少なくとも一つの層に光熱変換剤を含有
することが、記録感度の観点から好ましい。
[Lithographic printing plate precursor] The lithographic printing plate precursor according to the present invention is obtained by providing an ink receiving layer on the lithographic printing plate support. It is preferable from the viewpoint of recording sensitivity that at least one layer contains a photothermal conversion agent in each layer configuration such as an overcoat layer provided by the above.

【0046】[インキ受容層]本発明に用いられるイン
キ受容層は、有機高分子化合物を含有し、所望によりさ
らに光熱変換剤を含有する。有機高分子化合物として
は、溶媒に可溶で、親油性の皮膜を形成できるものであ
れば特に制限はない。なかでも、層の安定性の観点から
は、隣接して設けられる層である親水層或いはオーバー
コート層の塗布溶媒に不溶である化合物を選択すること
が望ましいが、場合によっては、ある程度隣接する層の
塗布溶媒に膨潤するものを選択してもよく、その場合に
は、親水層などの隣接する層との接着性向上が期待でき
るが、膨潤することは許容されるものの、塗布溶媒に容
易に溶解するものは、望ましくない。
[Ink Receiving Layer] The ink receiving layer used in the present invention contains an organic polymer compound and, if desired, further contains a photothermal conversion agent. The organic polymer compound is not particularly limited as long as it is soluble in a solvent and can form a lipophilic film. Among them, from the viewpoint of the stability of the layer, it is desirable to select a compound that is insoluble in the coating solvent of the hydrophilic layer or the overcoat layer, which is a layer provided adjacent to the layer. May be selected to swell in the coating solvent.In this case, it is expected that the adhesiveness with an adjacent layer such as a hydrophilic layer can be improved. What dissolves is undesirable.

【0047】有用な有機高分子化合物としては、ポリエ
ステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポリ
シロキサン、ポリカーボネート、フェノキシ樹脂、エポ
キシ樹脂、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、フェノール
化合物とアセトンとの縮合樹脂、ポリビニルアセテー
ト、アクリル樹脂及びその共重合体、ポリビニルフェノ
ール、ポリビニルハロゲン化フェノール、メタクリル樹
脂及びその共重合体、アクリルアミド共重合体、メタク
リルアミド共重合体、ポリビニルフォルマール、ポリア
ミド、ポリビニルブチラール、ポリスチレン、セルロー
スエステル樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン
等を挙げることができる。これらの中で、より好ましい
化合物として、側鎖にヒドロキシル基、カルボキシル
基、スルホンアミド基やトリアルコキシシリル基を有す
る樹脂が、基板や上層の親水層との接着性に優れ、場合
によって架橋剤で容易に硬化するので望ましい。その
他、アクリロニトリル共重合体、ポリウレタン、側鎖に
スルホンアミド基を有する共重合体や側鎖にヒドロキシ
ル基を有する共重合体をジアゾ樹脂によって光硬化させ
たものが好ましい。
Examples of useful organic polymer compounds include polyester, polyurethane, polyurea, polyimide, polysiloxane, polycarbonate, phenoxy resin, epoxy resin, novolak resin, resole resin, condensation resin of phenol compound and acetone, polyvinyl acetate, acrylic Resin and its copolymer, polyvinylphenol, polyvinylhalogenated phenol, methacrylic resin and its copolymer, acrylamide copolymer, methacrylamide copolymer, polyvinylformal, polyamide, polyvinylbutyral, polystyrene, cellulose ester resin, poly Examples thereof include vinyl chloride and polyvinylidene chloride. Among these, as a more preferable compound, a resin having a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonamide group or a trialkoxysilyl group in a side chain is excellent in adhesion to a substrate or an upper hydrophilic layer, and in some cases, a crosslinking agent. It is desirable because it cures easily. In addition, an acrylonitrile copolymer, polyurethane, a copolymer having a sulfonamide group in a side chain or a copolymer having a hydroxyl group in a side chain, which is photocured with a diazo resin, is preferable.

【0048】ノボラック樹脂およびレゾール樹脂として
は、フェノール、クレゾール(m−クレゾール、p−ク
レゾール、m/p混合クレゾール)、フェノール/クレ
ゾール(m−クレゾール、p−クレゾール、m/p混合
クレゾール)、フェノール変性キシレン、t−ブチルフ
ェノール、オクチルフェノール、レゾルシノール、ピロ
ガロール、カテコール、クロロフェノール(m−Cl、
p−Cl)、ブロモフェノール(m−Br、p−B
r)、サリチル酸、フロログルシノールなどと、アルデ
ヒド、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒ
ドなどとの付加縮合物を挙げることができる。
As the novolak resin and resol resin, phenol, cresol (m-cresol, p-cresol, m / p mixed cresol), phenol / cresol (m-cresol, p-cresol, m / p mixed cresol), phenol Modified xylene, t-butylphenol, octylphenol, resorcinol, pyrogallol, catechol, chlorophenol (m-Cl,
p-Cl), bromophenol (m-Br, p-B
r), addition condensation products of salicylic acid, phloroglucinol and the like with aldehydes such as formaldehyde and paraformaldehyde.

【0049】その他の好適な高分子化合物として以下
(1)〜(12)に示すモノマーをその構成単位とする
通常1〜20万の平均分子量を持つ共重合体を挙げるこ
とができる。 (1)芳香族ヒドロキシ基を有するアクリルアミド類、
メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばN
−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN
−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o
−、m−およびp−ヒドロキシスチレン、o−、m−お
よびp−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタク
リレート、(2)脂肪族ヒドロキシ基を有するアクリル
酸エステル類およびメタクリル酸エステル類、例えば、
2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、(3)アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸アミル、アクリル酸へキシル、アクリル
酸シクロへキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フ
ェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロ
エチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジル
アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレ
ートなどのアクリル酸エステル、
Other suitable high molecular compounds include copolymers having the average molecular weight of usually from 100,000 to 200,000, containing the monomers shown in the following (1) to (12) as constituent units. (1) acrylamides having an aromatic hydroxy group,
Methacrylamides, acrylates, methacrylates and hydroxystyrenes such as N
-(4-hydroxyphenyl) acrylamide or N
-(4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o
-, M- and p-hydroxystyrene, o-, m- and p-hydroxyphenyl acrylate or methacrylate, (2) acrylates and methacrylates having an aliphatic hydroxy group, for example,
2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, (3) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, Acrylates such as phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, glycidyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate,

【0050】(4)メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸へキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
2−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルメタクリレート、N,N−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレートなどのメタクリル酸エステル、
(5)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−エチルメタクリル
アミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−ヘキシルメ
タクリルアミド、N−シクロへキシルアクリルアミド、
N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドロキシ
エチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリル
アミド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ベ
ンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−ニトロフェニルメタクリルアミド、N−エ
チル−N−フェニルアクリルアミドおよびN−エチル−
N−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルアミドも
しくはメタクリルアミド、
(4) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate,
Amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid
Methacrylic acid esters such as 2-chloroethyl, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate;
(5) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-hexylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide,
N-cyclohexylmethacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N-benzylacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-nitrophenyl Methacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-
Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylmethacrylamide,

【0051】(6)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル、(7)ビニルアセテート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルな
どのビニルエステル、(8)スチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、(9)メ
チルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニ
ルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン、
(10)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレンなどのオレフィン、(11)N−ビニ
ルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピ
リジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど、
(6) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether; (7) vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; (8) styrenes such as styrene, methyl styrene and chloromethyl styrene; Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone;
(10) olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene; (11) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc.

【0052】(12)N−(o−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニル
フェニル)アクリルアミド、N−[1−(3−アミノス
ルホニル)ナフチル]アクリルアミド、N−(2−アミ
ノスルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルア
ミド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−[1−(3−アミノスルホ
ニル)ナフチル]メタクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)メタクリルアミドなどのスルホンア
ミド基含有アクリルアミドまたはメタクリルアミド類、
また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレート、m
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノ
スルホニルフェニルアクリレート、1−(3−アミノス
ルホニルフェニルナフチル)アクリレート、o−アミノ
スルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホ
ニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニルフ
ェニルナフチル)メタクリレートなどのスルホンアミド
基含有アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル
類。
(12) N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) Naphthyl] acrylamide, acrylamides such as N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonyl) Acrylamide or methacrylamides containing a sulfonamide group such as phenyl) methacrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] methacrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide;
Further, o-aminosulfonylphenyl acrylate, m
-Aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminosulfonylphenyl acrylate, 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) acrylate, o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, 1- (3 -Sulfonamide group-containing acrylates or methacrylates such as -aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate.

【0053】これらの有機高分子を適当な溶媒に溶解さ
せて、前記支持体上に塗布、乾燥させてインキ受容層を
設けることができる。この際、有機高分子化合物のみを
溶媒に溶解させて用いることもできるが、インク受容層
塗布液には、さらに、架橋剤、接着助剤、着色剤、無機
または有機の微粒子、塗布面状改良剤、可塑剤を必要に
応じて添加することができる。その他、露光後のプリン
トアウト画像を形成させるための加熱発色系あるいは消
色系添加剤が添加されてもよい。
These organic polymers can be dissolved in a suitable solvent, coated on the support and dried to form an ink receiving layer. At this time, only the organic polymer compound may be used by dissolving it in a solvent, but the ink receiving layer coating solution may further include a crosslinking agent, an adhesion auxiliary agent, a coloring agent, inorganic or organic fine particles, and a coating surface improvement. Agents and plasticizers can be added as needed. In addition, a heat coloring or decoloring additive for forming a printout image after exposure may be added.

【0054】有機高分子化合物を架橋させる架橋剤とし
ては、例えば、ジアゾ樹脂、芳香族アジド化合物、エポ
キシ樹脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネ
ート化合物、テトラアルコキシ珪素の初期加水分解縮合
物、グリオキザール、アルデヒド化合物やメチロール化
合物を挙げることができる。
Examples of the crosslinking agent for crosslinking the organic polymer compound include diazo resin, aromatic azide compound, epoxy resin, isocyanate compound, blocked isocyanate compound, initial hydrolysis condensate of tetraalkoxy silicon, glyoxal, aldehyde compound and the like. Methylol compounds can be mentioned.

【0055】接着助剤としては、上記ジアゾ樹脂が基板
および親水層との接着に優れるが、この他にシランカッ
プリング剤、イソシアネート化合物、チタン系カップリ
ング剤も有用である。
As the adhesion aid, the above diazo resin is excellent in adhesion to the substrate and the hydrophilic layer. In addition, a silane coupling agent, an isocyanate compound, and a titanium coupling agent are also useful.

【0056】着色剤としては、通常の染料や顔料が用い
られるが、特にローダミン6G塩化物、ローダミンB塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、キニザリン、2−(α−ナフチル)−5−フ
ェニルオキサゾールなどが挙げられる。他の染料として
具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー
#103、オイルピンク#312、オイルグリーンB
G、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイ
ルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラック
T−505(以上、オリエント化学工業(株)製)、ビ
クトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI
42555)、メチルバイオレット(CI4253
5)、エチルバイオレット、メチレンブルー(CI52
015)、パテントピュアブルー(住友三国化学社
製)、ブリリアントブルー、メチルグリーン、エリスリ
シンB、ベーシックフクシン、m−クレゾールパープ
ル、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルア
セトアニリドなどに代表されるトリフェニルメタン系、
ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イ
ミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアントラキノ
ン系の染料あるいは特開昭62−293247号公報、
特開平9−179290号公報に記載されている染料を
挙げることができる。上記色素は、インキ受容層中に添
加される場合は受容層の全固形分に対し、通常約0.0
2〜10重量%、より好ましくは約0.1〜5重量%の
割合ある。
As the coloring agent, ordinary dyes and pigments are used. In particular, rhodamine 6G chloride, rhodamine B chloride, crystal violet, malachite green oxalate, quinizarin, 2- (α-naphthyl) -5- Phenyloxazole and the like. Specific examples of other dyes include Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green B
G, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI
42555), methyl violet (CI4253)
5), ethyl violet, methylene blue (CI52
015), Patent Pure Blue (manufactured by Sumitomo Sangoku Chemical), brilliant blue, methyl green, erythricin B, basic fuchsin, m-cresol purple, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminaphthoquinone, cyano-p-diethylaminophenylacetanilide, etc. Triphenylmethane series represented by
Diphenylmethane, oxazine, xanthene, iminonaphthoquinone, azomethine or anthraquinone dyes or JP-A-62-293247,
Dyes described in JP-A-9-179290 can be exemplified. When the above dye is added to the ink receiving layer, it is usually used in an amount of about 0.0
The proportion is 2 to 10% by weight, more preferably about 0.1 to 5% by weight.

【0057】さらに、塗布面状改良剤としてよく知られ
た化合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活
性剤も用いることができる。具体的にはパーフルオロア
ルキル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が
塗布面上を整えることで有用である。
Further, fluorine-based surfactants and silicon-based surfactants, which are well-known compounds as coating surface condition improvers, can also be used. Specifically, a surfactant having a perfluoroalkyl group or a dimethylsiloxane group is useful for preparing the coated surface.

【0058】本発明のインキ受容層には、記録感度を向
上させるため、光を熱に変換させる機能を有する光熱変
換剤を添加することもできる。また、この光熱変換剤
は、平版印刷版原版の層構成中、例えば、前記親水層や
オーバーコート層などに添加してもよく、或いは光熱変
換機能を目的とする光熱変換層を設け、そこに添加する
こともできる。本発明に用い得る光熱変換剤としては、
700〜1200nmの範囲の少なくとも一部に吸収帯
を有する光を吸収し、熱を発生する物質であれば特に制
限はなく、種々の赤外線吸収性の顔料あるいは染料を用
いることができる。顔料としては、市販の顔料およびカ
ラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」
(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応
用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ
技術」(CMC出版、1984年刊)に記載されている
赤外線吸収性の顔料が利用できる。これら顔料は、添加
される層に対する分散性を向上させるため、必要に応じ
て公知の表面処理を施して用いることができる。表面処
理の方法には、親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートす
る方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例
えば、シリカゾル、アルミナゾル、シランカップリング
剤やエポキシ化合物、イソシアネート化合物等)を顔料
表面に結合させる方法等が考えられる。光熱変換剤を親
水層などの親水性のマトリックスを有する層に添加する
場合、用いる顔料は、特に水溶性の樹脂と分散しやす
く、かつ親水性を損わないように、親水性樹脂やシリカ
ゾルで表面がコートされたものが望ましい。顔料の粒径
は0.01μm〜1μmの範囲にあることが好ましく、
0.01μm〜0.5μmの範囲にあることが更に好ま
しい。顔料を分散する方法としては、インク製造やトナ
ー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。顔
料の中で、特に好ましい顔料としては、カーボンブラッ
クを挙げることができる。
In order to improve the recording sensitivity, a light-to-heat converting agent having a function of converting light into heat can be added to the ink receiving layer of the present invention. The light-to-heat conversion agent may be added to the layer structure of the lithographic printing plate precursor, for example, to the hydrophilic layer or the overcoat layer, or a light-to-heat conversion layer for the purpose of a light-to-heat conversion function may be provided. It can also be added. As the photothermal conversion agent that can be used in the present invention,
There is no particular limitation as long as it is a substance that absorbs light having an absorption band in at least a part of the range of 700 to 1200 nm and generates heat, and various infrared absorbing pigments or dyes can be used. As pigments, commercially available pigments and Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook”
Infrared absorbing pigments described in “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986) and “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) can be used. . These pigments can be used after being subjected to a known surface treatment, if necessary, in order to improve the dispersibility in the layer to which the pigment is added. Examples of the surface treatment include a method of surface-coating a hydrophilic resin or a lipophilic resin, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (eg, a silica sol, an alumina sol, a silane coupling agent, an epoxy compound, an isocyanate compound, and the like). Can be conceived on the surface of the pigment. When a light-to-heat conversion agent is added to a layer having a hydrophilic matrix such as a hydrophilic layer, the pigment to be used is, in particular, a hydrophilic resin or a silica sol so that it is easily dispersed with a water-soluble resin and does not impair the hydrophilicity. It is desirable that the surface is coated. The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 1 μm,
More preferably, it is in the range of 0.01 μm to 0.5 μm. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Among the pigments, a particularly preferred pigment is carbon black.

【0059】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊、「化学工業」1986年5月号P.45〜51の
「近赤外吸収色素」、「90年代機能性色素の開発と市
場動向」第2章2.3項(1990年、シーエムシー)
あるいは特許に記載されている公知の染料が利用でき
る。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾ
ロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン
染料、シアニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。
さらに、例えば、特開昭58−125246号、特開昭
59−84356号、特開昭60−78787号等に記
載されているシアニン染料、特開昭58−173696
号、特開昭58−181690号、特開昭58−194
595号等の公報に記載されているメチン染料、特開昭
58−112793号、特開昭58−224793号、
特開昭59−48187号、特開昭59−73996
号、特開昭60−52940号、特開昭60−6374
4号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58
−112792号等に記載されているスクワリリウム染
料、英国特許434,875号記載のシアニン染料や米
国特許第4,756,993号記載の染料、米国特許第
4,973,572号記載のシアニン染料、特開平10
−268512号に記載の染料を挙げることができる。
Examples of the dye include commercially available dyes and literatures (for example, "Near-Infrared Absorbing Dyes" in "Chemical Industry", May, 1986, p. , "Development of functional dyes and market trends in the 1990s", Chapter 2, section 2.3 (CMC, 1990)
Alternatively, known dyes described in patents can be used. Specifically, infrared absorbing dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, polymethine dyes, and cyanine dyes are preferred.
Further, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, and JP-A-58-173696.
JP-A-58-181690, JP-A-58-194
No. 595, etc., methine dyes described in JP-A-58-112793, JP-A-58-224793,
JP-A-59-48187, JP-A-59-73996
JP-A-60-52940, JP-A-60-6374
No. 4, No. 4, etc.
Squarylium dyes described in JP-A-112792, cyanine dyes described in British Patent No. 434,875, dyes described in U.S. Pat. No. 4,756,993, cyanine dyes described in U.S. Pat. No. 4,973,572, JP Hei 10
And dyes described in JP-A-268512.

【0060】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン染料、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号に記載されて
いるピリリウム化合物などが挙げられ、市販品として
は、エポリン社製エポライトIII−178、エポライトI
II−130、エポライトIII−125等も好ましく用い
られる。これらの中で、オーバーコート層および親水層
に添加するのに特に好ましい染料は水溶性染料で、以下
に具体例を構造式で列挙する。
As a dye, US Pat. No. 5,156,
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and Japanese Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702, and the like. Epolite I
II-130, Epolite III-125 and the like are also preferably used. Among these, a particularly preferred dye to be added to the overcoat layer and the hydrophilic layer is a water-soluble dye, and specific examples thereof are listed below by structural formulas.

【0061】[0061]

【化1】 Embedded image

【0062】[0062]

【化2】 Embedded image

【0063】[0063]

【化3】 Embedded image

【0064】本発明に係るインキ受容層に添加する場合
に用いる染料としては、前記した赤外線吸収染料であっ
ても良いが、より親油性の染料が均一性の観点から好ま
しい。好ましい染料として、以下に例示するシアニン染
料を挙げることができる。
The dye used when added to the ink receiving layer according to the present invention may be the above-mentioned infrared absorbing dye, but a more lipophilic dye is preferred from the viewpoint of uniformity. Preferred examples of the dye include the following cyanine dyes.

【0065】[0065]

【化4】 Embedded image

【0066】[0066]

【化5】 Embedded image

【0067】光熱変換剤の添加割合は、インキ受容層膜
厚、オーバーコート層の有無、親水性層の赤外線反射率
によって異なるが、インキ受容層への添加の場合は、概
ね、インキ受容層固形分の20重量%以下が好ましく、
3〜20重量%の範囲、さらに5〜15重量%の範囲が
より好ましい。この範囲内において、インキ受容層の耐
久性を損なうことなく、良好な感度向上効果を得ること
ができる。特に耐刷性が必要とされる版では、インキ受
容層の厚みを厚くするが、その場合、オーバーコート層
固形分の5重量%以下、好ましくはインク受容層におけ
る光熱変換剤添加量の1/10程度の光熱変換剤を添加
することで、感度向上が認められる場合がある。これを
超えてオーバーコート層に光熱変換剤を配合した場合、
オーバーコート層の光透過性が低下し、下層に十分な光
が到達しないため、かえって感度が低下する虞がある。
オーバーコート層に光熱変換剤を添加する場合は、その
添加量に応じて、インキ受容層の光熱変換剤の添加量を
減少させることができる。
The proportion of the photothermal conversion agent varies depending on the thickness of the ink receiving layer, the presence or absence of the overcoat layer, and the infrared reflectance of the hydrophilic layer. 20% by weight or less is preferred,
The range is preferably 3 to 20% by weight, more preferably 5 to 15% by weight. Within this range, a good sensitivity improving effect can be obtained without impairing the durability of the ink receiving layer. Particularly, in a plate requiring printing durability, the thickness of the ink receiving layer is increased. In this case, 5% by weight or less of the solid content of the overcoat layer, preferably 1 / l of the addition amount of the photothermal conversion agent in the ink receiving layer. Addition of about 10 light-to-heat conversion agents may improve sensitivity in some cases. If a light-to-heat conversion agent is added to the overcoat layer beyond this,
Since the light transmittance of the overcoat layer is reduced and sufficient light does not reach the lower layer, the sensitivity may be reduced instead.
When a light-to-heat conversion agent is added to the overcoat layer, the amount of the light-to-heat conversion agent in the ink receiving layer can be reduced according to the amount of the light-to-heat conversion agent.

【0068】本発明のインキ受容層には、無機微粒子を
添加することができる。用い得る無機微粒子としては、
10〜100nmまでのコロイダルシリカやコロイダル
アルミニウム、さらには、これらのコロイドより大きい
粒径の不活性粒子、例えば、シリカ粒子、表面疎水化し
たシリカ粒子、アルミナ粒子、二酸化チタン粒子、その
他重金属粒子、クレーやタルク等を挙げることができ
る。無機微粒子のうち、特に好ましいものは、アルミニ
ウム、珪素、チタン、錫、インジウム、鉄およびジルコ
ニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物で
ある。
Inorganic fine particles can be added to the ink receiving layer of the present invention. As inorganic fine particles that can be used,
Colloidal silica and colloidal aluminum up to 10 to 100 nm, and further, inert particles having a particle size larger than these colloids, for example, silica particles, surface-hydrophobized silica particles, alumina particles, titanium dioxide particles, other heavy metal particles, clay And talc. Among the inorganic fine particles, particularly preferred are oxides of at least one element selected from aluminum, silicon, titanium, tin, indium, iron and zirconium.

【0069】コロイダルシリカ等のコロイド粒子は、コ
ロイドの粒径として、シリカの場合5〜100nmの球
形のものが好適である。10〜50nmの球状粒子が、
50〜400nmの長さに連なったパールネックレス状
のコロイド粒子も用いることができる。アルミニウムの
酸化物のコロイド粒子のように、100nm×10nm
のような羽毛状のものも有効である。これらのコロイド
分散液は、日産化学工業(株)などの市販品を購入する
こともできるが、「微粒子ハンドブック」(朝倉書店)
p234〜235に記載されている様な機械的に粉砕し
て微粒子を形成したり、「微粒子ハンドブック」(朝倉
書店)p226〜320に記載されている様なCVD
法、蒸着法などの方法によって形成する事もできる。
The colloid particles of colloidal silica or the like are preferably spherical particles having a colloid particle diameter of 5 to 100 nm in the case of silica. 10-50 nm spherical particles,
Colloidal particles in the shape of a pearl necklace connected to a length of 50 to 400 nm can also be used. 100nm x 10nm like colloidal particles of aluminum oxide
Such a feather-like material is also effective. These colloidal dispersions can be purchased from Nissan Chemical Industries, Ltd., or other commercial products. However, "Particle Handbook" (Asakura Shoten)
Fine particles are formed by mechanical pulverization as described in pages 234 to 235, and CVD as described in "Particle Handbook" (Asakura Shoten) pages 226 to 320
It can also be formed by a method such as a vapor deposition method.

【0070】これらのコロイド粒子の分散媒としては、
水のほかに、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、メチルエチルケトンなどの有
機溶媒も有用である。これらの無機微粉末をインキ受容
層中に添加することによって、上層の親水層との接着性
を改良し、印刷における耐刷力を増加させる効果があ
る。インキ受容層におけるこれらの微粉末の添加割合
は、好ましくはインキ受容層固形分の0〜80重量%、
より好ましくは1〜40重量%の範囲である。
As a dispersion medium of these colloidal particles,
In addition to water, organic solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, and methyl ethyl ketone are also useful. The addition of these inorganic fine powders to the ink receiving layer has the effect of improving the adhesion to the upper hydrophilic layer and increasing the printing durability in printing. The addition ratio of these fine powders in the ink receiving layer is preferably 0 to 80% by weight of the solid content of the ink receiving layer,
More preferably, it is in the range of 1 to 40% by weight.

【0071】さらに、本発明のインキ受容層には必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the ink receiving layer of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And a polymer.

【0072】さらに、本発明のインキ受容層に添加でき
る発色または消色系の添加剤としては、例えば、ジアゾ
化合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸発生剤
とロイコ染料(ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリ
スタルバイオレット、クリスタルバイオレットのラクト
ン体等)やPH変色染料(例えば、エチルバイオレッ
ト、ビクトリアピュアーブルーBOH等の染料)が組み
合わせて用いられる。その他、EP897134号明細
書に記載されているような、酸発色染料と酸性バインダ
ーの組合わせも有効である。この場合、加熱によって染
料を形成している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が
形成して有色から無色に変化する。これらの添加剤の添
加割合は、好ましくはインキ受容層固形分に対し0〜1
0重量%、より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で
ある。
Further, as a color-forming or decoloring-type additive that can be added to the ink receiving layer of the present invention, for example, a thermal acid generator such as a diazo compound or a diphenyliodonium salt and a leuco dye (leucomalachite green, leuco crystal) Violet, a lactone of crystal violet, etc.) and a PH discoloration dye (for example, a dye such as ethyl violet or Victoria Pure Blue BOH) are used in combination. In addition, a combination of an acid coloring dye and an acidic binder as described in EP 897134 is also effective. In this case, the bond in the associated state forming the dye is broken by heating, and a lactone is formed to change from colored to colorless. The additive ratio of these additives is preferably 0 to 1 with respect to the solid content of the ink receiving layer.
0% by weight, more preferably in the range of 0.01 to 5% by weight.

【0073】上記インキ受容層を塗布する溶媒として
は、アルコール類(メタノール、エタノール、プロピル
アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル等)、エーテル類(テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレン
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン
等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、アセ
チルアセトン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテ
ート、ガンマーブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル等)、アミド類(ホルムアミド、N−メチルホルムア
ミド、ピロリドン、N−メチルピロリドン等)等を用い
ることができる。これらの溶媒は、単独あるいは混合し
て使用される。塗布液中の上記インキ受容層成分(添加
剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量
%である。その他、上記のような有機溶媒からの塗布ば
かりでなく、水性エマルジョンからも皮膜を形成させる
ことができる。この場合の濃度は5重量%から50重量
%が好ましい。
As the solvent for coating the ink receiving layer, alcohols (methanol, ethanol, propyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol,
Ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, etc.), ethers (tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, tetrahydropyran, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone, etc.), esters ( Methyl acetate, ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether monoacetate, gamma-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate, and the like, amides (formamide, N-methylformamide, pyrrolidone, N-methylpyrrolidone, and the like) can be used. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the ink receiving layer component (total solid content including additives) in the coating liquid is preferably 1 to 50% by weight. In addition, a film can be formed not only from the above-mentioned application from an organic solvent but also from an aqueous emulsion. In this case, the concentration is preferably 5% by weight to 50% by weight.

【0074】本発明のインキ受容層の塗布乾燥後の厚み
は、0.5μm〜1.5μm、が好ましい。薄すぎると
耐摩耗性が低下して耐刷力を確保できなくなる。厚すぎ
ると、露光現像工程で、画像形成が困難になる。
The thickness of the ink receiving layer of the present invention after coating and drying is preferably 0.5 μm to 1.5 μm. If it is too thin, the abrasion resistance is reduced, and the printing durability cannot be secured. If the thickness is too large, it becomes difficult to form an image in the exposure and development process.

【0075】本発明の感熱性平版印刷版原版は、熱によ
り画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による
直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノ
ン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露
光などが用いられるが、波長700〜1200nmの赤
外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高
出力赤外線レーザによる露光が好適である。画像露光さ
れた本発明の印刷用原版は、露光後、現像処理なしに印
刷機に装着することができる。レーザー露光した箇所
の、インキ受容層と親水性層の界面が、アブレーション
的に剥離し、インキと湿し水を用いて印刷を開始する
と、レーザー露光して露出した親水性層部分にはインキ
が着肉せず、残存したインク受容層のみにインクが着肉
して、印刷が進行する。オーバーコート層は、湿し水と
の接触により速やかに溶解除去され、印刷にほとんど影
響しない。また、本発明の平版印刷版原版は、印刷機シ
リンダー上に取りつけた後に、印刷機に搭載されたレー
ザーにより露光し、その後に湿し水および/またはイン
クをつけて機上現像することも可能である。
The heat-sensitive lithographic printing plate precursor of the present invention forms an image by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head or the like, scanning exposure using an infrared laser, high-intensity flash exposure such as a xenon discharge lamp, or infrared lamp exposure is used. Semiconductors that emit infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm are used. Exposure with a solid-state high-output infrared laser such as a laser or a YAG laser is preferable. The printing plate precursor of the present invention, which has been image-exposed, can be mounted on a printing machine without development after exposure. When the interface between the ink-receiving layer and the hydrophilic layer at the laser-exposed area is peeled off by abrasion and printing is started using ink and dampening water, the ink is applied to the hydrophilic layer exposed by laser exposure. The ink is deposited only on the remaining ink receiving layer without being deposited, and printing proceeds. The overcoat layer is quickly dissolved and removed by contact with the dampening solution, and hardly affects printing. Further, the lithographic printing plate precursor of the present invention can be mounted on a printing press cylinder, exposed by a laser mounted on the printing press, and then developed on a printing press with dampening water and / or ink. It is.

【0076】[0076]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0077】(実施例1〜5、比較例1〜3) 〔アルミニウム基板の製造〕アルミニウム99.5重量
%、銅0.01重量%、鉄0.3重量%、チタン0.0
3重量%、およびケイ素0.1重量%を含有するJIS
A1050アルミニウム材の厚み0.24mm圧延板
を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)の20
重量%水性懸濁液と回転ナイロンブラシとを用いてその
表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを15
重量%水酸化ナトリウム水溶液(アルミニウム4.5重
量%含有)に浸漬してアルミニウムの溶解量が10g/
2になるようにエッチングした後、流水で水洗した。
更に、1重量%硝酸水溶液で中和し、次に0.7重量%
硝酸水溶液(アルミニウム0.5重量%含有)中で、陽
極時電圧10.5V、陰極時電圧9.3Vの矩形波交番
波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58−5796
号公報実施例に記載されている電流波形)を用いて23
0C/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行っ
た。水洗後、35℃の10重量%水酸化ナトリウム水溶
液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2にな
るようにエッチングした後、水洗した。次に、50℃、
30重量%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした
後、水洗し、基板〔A〕を得た。さらに、35℃の硫酸
20重量%水溶液(アルミニウム0.8重量%含有)中
で直流電流を用いて、陽極酸化処理を行った。すなわ
ち、電流密度13A/dm 2で電解を行い、電解時間の
調節により、陽極酸化皮膜重量2.0g/m2を形成し
た基板〔B〕を作製した。
(Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 3) [Production of aluminum substrate] 99.5 weight of aluminum
%, Copper 0.01% by weight, iron 0.3% by weight, titanium 0.0%
JIS containing 3% by weight and 0.1% by weight of silicon
 A1050 rolled 0.24mm thick aluminum plate
Of a 400 mesh pamistone (manufactured by Kyoritsu Ceramics)
Weight percent aqueous suspension using a rotating nylon brush
After graining the surface, it was thoroughly washed with water. This is 15
Wt% sodium hydroxide aqueous solution (aluminum 4.5
% Aluminum) and the amount of aluminum dissolved is 10 g /
mTwoAnd then washed with running water.
Further neutralize with 1% by weight nitric acid aqueous solution, then 0.7% by weight
In a nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum),
Square wave alternating voltage of extreme voltage 10.5V, cathode voltage 9.3V
Waveform voltage (current ratio r = 0.90, Japanese Patent Publication No. 58-5796)
Using the current waveform described in the embodiment of
0C / dmTwoElectrolytic surface roughening treatment with the amount of electricity at the anode
Was. After washing with water, 35% aqueous solution of 10% by weight sodium hydroxide
Immersed in liquid to dissolve aluminum at 1 g / mTwoNana
And then washed with water. Next, at 50 ° C,
Dipped and immersed in 30% by weight sulfuric acid aqueous solution
Thereafter, the substrate was washed with water to obtain a substrate [A]. In addition, sulfuric acid at 35 ° C
In a 20% by weight aqueous solution (containing 0.8% by weight of aluminum)
The anodic oxidation treatment was performed using a direct current. Sand
And a current density of 13 A / dm TwoAnd electrolysis time
By adjustment, anodic oxide film weight 2.0g / mTwoForm
A substrate [B] was produced.

【0078】〔親水層の形成〕上記基板〔A〕はそのま
まアルミニウム支持体とし、また基板〔B〕を、30℃
のpH13の水酸化ナトリウム水溶液に皮膜溶解量1g
/m2となるまで浸漬し、次いで水洗した。このポアワ
イドニング処理後、100℃、1気圧において飽和した
蒸気チャンバー中で12秒間封孔処理して、アルミニウ
ム支持体を作製した。アルミニウム支持体上に、下記の
親水層塗布液〔S1〕を塗布し、100℃、1分間乾燥
して、親水層乾燥塗布量2g/m2の平版印刷版用支持
体(S10)を得た。 (親水層塗布液〔S1〕) ポリビニルアルコールの粉末 0.5g シリカ微粒子((B)成分) 4g 乳酸メチル 3g 3号珪酸ソーダ((A)成分) Xg 水 92.5−Xg
[Formation of Hydrophilic Layer] The substrate [A] was used as an aluminum support as it was, and the substrate [B] was heated at 30 ° C.
1 g of film dissolved in aqueous sodium hydroxide solution at pH 13
/ M 2 and then washed with water. After the pore widening treatment, a sealing treatment was performed for 12 seconds in a steam chamber saturated at 100 ° C. and 1 atm to prepare an aluminum support. The following hydrophilic layer coating solution [S1] was coated on an aluminum support and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate support (S10) having a hydrophilic layer dry coating amount of 2 g / m 2 . . (Hydrophilic layer coating solution [S1]) Polyvinyl alcohol powder 0.5 g Silica fine particles ((B) component) 4 g Methyl lactate 3 g No. 3 sodium silicate ((A) component) Xg Water 92.5-Xg

【0079】ここで用いたシリカ微粒子は、添川理化学
(株)製試薬、粒径0.8μmのシリカであり、3号珪
酸ソーダは、日本化学工業製、SiO2含有量30重量
%、Na2O含有量10重量%のものを使用した。ポリ
ビニルアルコール樹脂は、重合度1750、けん化度9
8.6モル%の(クラレ(株)製粉末)を用いた。
The silica fine particles used here were silica having a particle size of 0.8 μm, a reagent manufactured by Soekawa Rikagaku Co., Ltd., and No. 3 sodium silicate was manufactured by Nippon Kagaku Kogyo, having a SiO 2 content of 30% by weight and Na 2 Those having an O content of 10% by weight were used. The polyvinyl alcohol resin has a polymerization degree of 1750 and a saponification degree of 9
8.6 mol% (Kuraray Co., Ltd. powder) was used.

【0080】前記親水層塗布液〔S1〕を塗布したアル
ミニウム支持体(基板〔A〕、〔B〕)及び親水層塗布
液〔S1〕におけるの3号珪酸ソーダ含有量(Xgとし
て表示)を下記表1に示すように変えて親水層塗布液
〔S10〕乃至〔S14〕を調整した。また、親水層塗
布液〔S1〕におけるシリカ、乳酸メチル、及び、3号
珪酸ソーダの含有量を表1に示すように変えて、親水層
塗布液〔S15〕及び〔S16〕を調整した。これらの
親水層塗布液を用いて支持体を作成した。なお、親水層
中の固形分含有量の比率〔(A)/(B)〕を表中に示
す。表1に明らかなように、親水層塗布液〔S12〕乃
至〔S15〕は本発明に係る親水層であり、親水層塗布
液〔S10〕、〔S11〕、及び〔S16〕は、本発明
の範囲外の親水層である。固形分比率は下記式(1)に
従って算出し、その結果を下記表1に記載した。 固形分比率=(3号珪酸ソーダ中のSiO2+Na2O)/結晶性SiO2 (式1)
The content of sodium silicate No. 3 (expressed as Xg) in the aluminum support (substrates [A] and [B]) coated with the hydrophilic layer coating solution [S1] and the hydrophilic layer coating solution [S1] is as follows. The hydrophilic layer coating solutions [S10] to [S14] were adjusted as shown in Table 1. The hydrophilic layer coating solutions [S15] and [S16] were prepared by changing the contents of silica, methyl lactate, and No. 3 sodium silicate in the hydrophilic layer coating solution [S1] as shown in Table 1. A support was prepared using these hydrophilic layer coating solutions. The ratio of the solid content in the hydrophilic layer [(A) / (B)] is shown in the table. As apparent from Table 1, the hydrophilic layer coating liquids [S12] to [S15] are the hydrophilic layers according to the present invention, and the hydrophilic layer coating liquids [S10], [S11], and [S16] are the same as those of the present invention. The hydrophilic layer is out of the range. The solid content ratio was calculated according to the following formula (1), and the results are shown in Table 1 below. Solid content ratio = (SiO 2 + Na 2 O in No. 3 sodium silicate) / crystalline SiO 2 (Formula 1)

【0081】〔インク受容層の形成〕前記各親水性層上
に、下記組成のインキ受容層塗布液I−1を、バーコー
ターで塗布した。その後、100℃、1分間加熱乾燥さ
せて、乾燥塗布量約1.2g/m2のインキ受容層を形
成した。 (インキ受容層塗布液I−1) エピコート1010 3 g 光熱変換剤(本明細書記載のIR−24) 0.3g メチルエチルケトン 32.7g プロピレングリコールモノメチルエーテル 30 g ここで、エピコート1010は、軟化点169℃のエポ
キシ樹脂(油化シェルエポキシ(株)製)である。
[Formation of Ink-Receiving Layer] On each of the hydrophilic layers, an ink-receiving layer coating solution I-1 having the following composition was applied using a bar coater. Thereafter, the ink was dried by heating at 100 ° C. for 1 minute to form an ink receiving layer having a dry coating amount of about 1.2 g / m 2 . (Ink receiving layer coating solution I-1) Epicoat 1010 3 g Photothermal conversion agent (IR-24 described in this specification) 0.3 g Methyl ethyl ketone 32.7 g Propylene glycol monomethyl ether 30 g Here, epicoat 1010 has a softening point of 169. C. epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.).

【0082】〔オーバーコート層〕このようにして設け
たインキ受容層の上に下記組成のオーバーコート層塗布
液OC−1を塗布し、100℃、90秒間乾燥して、乾
燥塗布重量0.25g/m 2のオーバーコート層を有す
る感熱性平版印刷版原版〔S10〕〜〔S16〕を作製
した。 (オーバーコート層塗布液OC−1) アラビアガム5%水溶液 10 g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.02g 水 14 g
[Overcoat layer] Provided in this manner
Overcoat layer of the following composition on the ink receiving layer
Apply liquid OC-1 and dry at 100 ° C. for 90 seconds.
Dry coating weight 0.25g / m TwoHas an overcoat layer of
Heat-sensitive lithographic printing plate precursors [S10] to [S16]
did. (Overcoat layer coating liquid OC-1) 5% aqueous solution of gum arabic 10 g Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.02 g Water 14 g

【0083】〔平版印刷版原版の評価〕上記のようにし
て得た感熱性平版印刷版原版を、クレオ社製トレンドセ
ッター(40Wの830nm半導体レーザーを搭載した
プレートセッター)にて露光した。露光した原版をそれ
以上の処理をしないで、そのまま小森コーポレーション
製印刷機リスロンに取付け、プレートエッチ液EU−3
(富士写真フイルム(株)製)/水/イソプロピルアル
コール(容量比1/99/10)からなる混し水と、ジ
オスG墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)を用
いて印刷した。その結果から適正な露光エネルギー量
(感度)を求め、また、この適正露光エネルギー量で露
光した場合のクリア感度、印刷可能枚数(耐刷枚数)と
印刷汚れの観察結果を、表1に示した。また、汚れ性は
以下の基準により評価した。 汚れ性 ○:汚れの発生が目視でまったく観察されな
い。 △:汚れの発生が目視でわずかに観察される。 ×:汚れの発生が著しい。
[Evaluation of Lithographic Printing Plate Precursor] The heat-sensitive lithographic printing plate precursor obtained as described above was exposed with a trend setter (a plate setter equipped with a 40 W 830 nm semiconductor laser) manufactured by Creo Corporation. The exposed original plate was attached to Komori Corporation's Lithrone printing machine without further processing, and the plate etchant EU-3 was used.
Printed using mixed water consisting of (Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol (1/99/10 volume ratio) and Geos G Ink Ink (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.). . From the results, an appropriate exposure energy amount (sensitivity) was obtained, and the clear sensitivity, the number of printable sheets (printable number of sheets), and the observation result of the print stain when exposed with this appropriate exposure energy amount are shown in Table 1. . The stainability was evaluated according to the following criteria. Stainability :: No occurrence of stain is visually observed. Δ: Stain is slightly observed visually. X: The generation of dirt is remarkable.

【0084】[0084]

【表1】 [Table 1]

【0085】表1に明らかなように、本発明の平版印刷
版原版は、いずれも高感度で記録可能であり、非画像部
に汚れのない印刷物が多数枚得られ、汚れ防止性、耐刷
性に優れていることが確認された。実施例5は陽極酸化
皮膜を形成しない態様であるが、皮膜硬さや断熱性がや
や低下し、このため、実施例1〜4に比較し感度、耐刷
性がやや低いものの、実用上、問題のない評価レベルで
あることがわかる。一方、(A)非結晶性酸化物を含ま
ない親水層を設けた比較例1の平版印刷版は、感度、汚
れ防止性ともに低く、耐刷性も不充分であった。また、
(A)非結晶性酸化物と(B)金属酸化物微粒子とを含
有した親水層であっても、両者の配合比率が本発明の範
囲外である比較例においては、3号珪酸ソーダ((A)
成分)比率が低い比較例2では、汚れ性も不充分であ
り、また、親水層皮膜に亀裂が発生し耐刷性に劣ってお
た。また、シリカ((B)成分)比率が低くすぎる比較
例3においても、親水層の膜性が低下し、耐刷性が不充
分であった。
As is clear from Table 1, the lithographic printing plate precursors of the present invention can be recorded with high sensitivity, and a large number of prints without stain on the non-image area can be obtained. It was confirmed that the film had excellent properties. Example 5 is an embodiment in which an anodic oxide film is not formed, but the film hardness and heat insulating properties are slightly reduced, and therefore, although sensitivity and printing durability are slightly lower than those of Examples 1 to 4, there is a problem in practical use. It can be seen that the evaluation level has no evaluation. On the other hand, (A) the lithographic printing plate of Comparative Example 1 provided with a hydrophilic layer containing no non-crystalline oxide was low in both sensitivity and antifouling property and insufficient in printing durability. Also,
Even in the case of a hydrophilic layer containing (A) an amorphous oxide and (B) metal oxide fine particles, in a comparative example in which the blending ratio of both is outside the range of the present invention, sodium silicate No. 3 (( A)
In Comparative Example 2 having a low (component) ratio, the stain resistance was insufficient and the hydrophilic layer film was cracked, resulting in poor printing durability. Also in Comparative Example 3 in which the ratio of silica ((B) component) was too low, the film properties of the hydrophilic layer were reduced, and the printing durability was insufficient.

【0086】(実施例6、7)実施例1で用いたアルミ
ニウム基板に、前記実施例1で用いた親水層塗布液〔S
12〕における3号珪酸ソーダ10gを2K珪酸カリ
(SiO2 20重量%、K2O 10重量%含有、日本
化学工業社製)27gに変え、水の量を82.5gから
65.5gに変えた親水層塗布液〔S17〕を用いた他
は、同様にして実施例6の平版印刷版原版を得た。ま
た、前記実施例1で用いた親水層塗布液〔S12〕にお
ける3号珪酸ソーダ10gをリチウムシリケート75
(SiO220重量%、Li2O 2.2重量%含有、日
産化学工業社製)36gに変え、水の量を82.5gか
ら56.5gに変えた親水層塗布液〔S18〕を用いた
他は、同様にして実施例7の平版印刷版原版を得た。こ
れらについて、実施例1と同様の評価を行い、その結果
を前記表1に併記した。また、この親水層中の、非結晶
性酸化物と金属酸化物微粒子の含有量固形分比率を実施
例1と同様に測定した結果も表1に示す。表1に明らか
なように、水ガラスとしてナトリウムに変え、カリウ
ム、リチウムなどのアルカリ金属酸化物を用いた場合に
おいても、高感度で記録可能であり、汚れ防止性、耐刷
性に優れていることが確認された。
(Examples 6 and 7) On the aluminum substrate used in Example 1, the hydrophilic layer coating solution [S
12] was changed to 27 g of 2K potassium silicate (containing 20% by weight of SiO 2 and 10% by weight of K 2 O, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.), and the amount of water was changed from 82.5 g to 65.5 g. A lithographic printing plate precursor of Example 6 was obtained in the same manner except that the hydrophilic layer coating solution [S17] was used. Further, 10 g of sodium silicate No. 3 in the hydrophilic layer coating solution [S12] used in Example 1 was mixed with lithium silicate 75
(20% by weight of SiO 2, 2.2% by weight of Li 2 O, Nissan Chemical Industries, Ltd.) Changed to 36 g, and used a hydrophilic layer coating solution [S18] in which the amount of water was changed from 82.5 g to 56.5 g. Except for the above, a lithographic printing plate precursor of Example 7 was obtained in the same manner. These were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1 above. Table 1 also shows the results of measuring the solid content ratio of the amorphous oxide and the metal oxide fine particles in the hydrophilic layer in the same manner as in Example 1. As is clear from Table 1, even when an alkali metal oxide such as potassium or lithium is used instead of sodium as the water glass, recording is possible with high sensitivity, and stain resistance and printing durability are excellent. It was confirmed that.

【0087】(実施例8〜14)実施例1で用いたアル
ミニウム基板に、下記組成の親水層塗布液〔S4〕を用
いて、用いる金属酸化物微粒子を表2に示すものを用い
て親水層〔S41〕乃至〔S47〕を形成した。 (親水層塗布液S4) ポリビニルアルコール樹脂の粉末 0.5g 金属酸化物微粒子(表2に示す) 4g 乳酸メチル 3g 3号珪酸ソーダ 30g 水 62.5g なお、ここで用いたポリビニルアルコール樹脂は、重合
度1750、けん化度98.6モル%の(クラレ(株)
製)である。また、表2中、ITOと記載したものは、
錫含有酸化インジウム(添川理化学(株)製試薬)であ
る。この親水層中の、非結晶性酸化物と金属酸化物微粒
子の含有量固形分比率を実施例1と同様に測定した結果
を下記表2に示す。
(Examples 8 to 14) On the aluminum substrate used in Example 1, a hydrophilic layer coating solution [S4] having the following composition was used. [S41] to [S47] were formed. (Hydrophilic layer coating liquid S4) Polyvinyl alcohol resin powder 0.5 g Metal oxide fine particles (shown in Table 2) 4 g Methyl lactate 3 g No. 3 sodium silicate 30 g Water 62.5 g The polyvinyl alcohol resin used here was polymerized Degree 1750, saponification degree 98.6 mol% (Kuraray Co., Ltd.)
Made). In Table 2, those described as ITO are:
It is a tin-containing indium oxide (a reagent manufactured by Soegawa Rikagaku KK). The results of measuring the solid content ratio of the amorphous oxide and the metal oxide fine particles in the hydrophilic layer in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2 below.

【0088】[0088]

【表2】 [Table 2]

【0089】得られた各支持体に実施例1と同様にして
インク受容層、オーバーコート層を形成して平版印刷版
原版を得た。得られた各平版印刷版原版を実施例1と同
様にして評価した結果を前記表2に併記する。表2に明
らかなように、本発明の平版印刷版原版は、用いた金属
微粒子の種類に係わらず、いずれも高感度で記録可能で
あり、非画像部に汚れのない印刷物が多数枚得られ、汚
れ防止性、耐刷性に優れていることが確認された。
An ink receiving layer and an overcoat layer were formed on each of the obtained supports in the same manner as in Example 1 to obtain a lithographic printing plate precursor. The results of evaluating each of the resulting lithographic printing plate precursors in the same manner as in Example 1 are also shown in Table 2 above. As is clear from Table 2, the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be recorded with high sensitivity regardless of the type of metal fine particles used, and a large number of prints without stains in the non-image area can be obtained. It was confirmed that the ink had excellent stain resistance and printing durability.

【0090】[0090]

【発明の効果】本発明の平版印刷版用支持体によれば、
高熱伝導率のアルミニウム板を基板と入て用いた場合で
も、高断熱性、高親水性で、且つ、耐久性に優れた親水
層を有するため、高感度の記録が可能で、耐刷性に優れ
る平版印刷版を提供し得る。さらに、該支持体を用いた
本発明の平版印刷版原版は、露光後の現像処理を必要と
せず、高感度で記録可能であり、汚れ防止性、耐刷性に
優れるという効果を奏する。
According to the lithographic printing plate support of the present invention,
Even when an aluminum plate with high thermal conductivity is used as a substrate, it has high heat insulation, high hydrophilicity, and a durable hydrophilic layer, enabling high-sensitivity recording and printing durability. An excellent lithographic printing plate can be provided. Further, the lithographic printing plate precursor of the present invention using the support does not require a development treatment after exposure, has a high sensitivity and can be recorded, and has an effect of being excellent in stain prevention and printing durability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA12 AA14 AB03 AC01 AC08 BH03 DA18 DA20 DA36 2H096 AA06 CA03 EA04 EA23 GA45 2H114 AA04 AA14 AA21 AA22 BA01 BA10 DA03 DA04 DA08 DA15 DA34 DA52 DA53 DA55 DA56 DA57 DA60 DA61 DA64 EA01 EA03 EA05 EA08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA01 AA12 AA14 AB03 AC01 AC08 BH03 DA18 DA20 DA36 2H096 AA06 CA03 EA04 EA23 GA45 2H114 AA04 AA14 AA21 AA22 BA01 BA10 DA03 DA04 DA08 DA15 DA34 DA52 DA53 DA55 DA56 DA57 DA60 EA03 EA05 EA08

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム基板上に、(A)珪素とア
ルカリ金属とを含む非結晶性酸化物と、(B)アルミウ
ム、珪素、チタン、スズ、インジウム、ジルコニウム、
鉄からなる群より選択される少なくとも一つの元素の結
晶性酸化物とを、両者の固形分重量比率〔(A)/
(B)〕が1〜10の範囲となる量で含有する親水層を
有することを特徴とする平版印刷版用支持体。
1. An aluminum substrate comprising: (A) an amorphous oxide containing silicon and an alkali metal; and (B) aluminum, silicon, titanium, tin, indium, zirconium,
A crystalline oxide of at least one element selected from the group consisting of iron and a solid content weight ratio of both ([A) /
(B)], which has a hydrophilic layer in an amount of 1 to 10.
【請求項2】 アルミニウム基板上に、(A)珪素とア
ルカリ金属とを含む非結晶性酸化物と、(B)アルミウ
ム、珪素、チタン、スズ、インジウム、ジルコニウム、
鉄からなる群より選択される少なくとも一つの元素の結
晶性酸化物とを、両者の固形分重量比率〔(A)/
(B)〕が1〜10の範囲となる量で含有する親水層を
有する平版印刷版用支持体に、インキ受容層を設けてな
る平版印刷版原版であって、 該平版印刷版原版を構成する各層のうち、少なくとも一
つの層が光熱変換剤を含有することを特徴とする平版印
刷版原版。
2. An aluminum substrate comprising: (A) an amorphous oxide containing silicon and an alkali metal; and (B) aluminum, silicon, titanium, tin, indium, zirconium,
A crystalline oxide of at least one element selected from the group consisting of iron and a solid content weight ratio of both ([(A) /
(B)] is a lithographic printing plate precursor comprising an ink receiving layer provided on a lithographic printing plate support having a hydrophilic layer in an amount of 1 to 10; A lithographic printing plate precursor, wherein at least one of the layers contains a light-to-heat conversion agent.
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