JP2001293818A - Reflection preventing hard coat film - Google Patents

Reflection preventing hard coat film

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JP2001293818A
JP2001293818A JP2000108935A JP2000108935A JP2001293818A JP 2001293818 A JP2001293818 A JP 2001293818A JP 2000108935 A JP2000108935 A JP 2000108935A JP 2000108935 A JP2000108935 A JP 2000108935A JP 2001293818 A JP2001293818 A JP 2001293818A
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JP
Japan
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hard coat
refractive index
coating layer
thin film
film
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JP2000108935A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Suzuki
裕二 鈴木
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Oike and Co Ltd
Original Assignee
Oike and Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflection preventing hard coat film excellent in reflection preventing effect, scratch resistance, transparency, antistaining properties, weatherability or the like and capable of being manufactured at a low cost. SOLUTION: The reflection preventing hard coat film is constituted by successively forming a hard coat layer (b), a film coating layer (c) having a high refractive index and a film coating layer (d) having a low refractive index, which is mainly formed from at least one compound selected from Si(OR1)4, R24-n(OR1)n, Si(NCO)4, R1nSi(NCO)4-n and (R1O)nSi(NCO)4-n (wherein, R1 and R2 are each a 1-20C alkyl group; and n is an integer selected from 1, 2 and 3) and a Zr compound, on a plastic film (a).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ画面
等、反射防止性の要求される用途に使用されるところ
の、反射防止性でその表面が傷つき難く、汚れ難いなど
の特性を有する反射防止性ハードコートフイルムに関
し、特に前記性能を有してかつ耐候性(耐高温高湿性)
に優れた反射防止性ハードコートフイルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film which is used for applications requiring an antireflection property such as a display screen, and has characteristics such that the surface is hardly damaged by the antireflection property and is hardly stained. Hard coat film, especially having the above performance and weather resistance (high temperature and high humidity resistance)
The present invention relates to an antireflective hard coat film having excellent antireflection properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射防止性の要求される用途の代表的な
用途にディスプレイ画面がある。ディスプレイ画面とし
て代表的なテレビジョンやコンピューターのディスプレ
イ画面はほとんどが曲面形成されたものであり、そのデ
ィスプレイ画面における反射防止性の付与はコーテイン
グや噴射等の手段で行われていたが、近年フラットな面
を使用することが普及してきて、フラット面であるが故
にフイルムに反射防止性層を形成してその反射防止性フ
イルムを貼着することで、ディスプレイ画面における反
射防止性の付与が可能となり多くの反射防止性フイルム
が提案されている。これらの反射防止性フイルムの多く
は、蒸着やスパッタリングによって形成された多層の薄
膜層を反射防止層として形成したフイルム、又は反射防
止性において若干の性能の低さはあるものの低コストで
形成可能な塗布層で反射防止層を設けたフイルムがほと
んどである。
2. Description of the Related Art A display screen is a typical application requiring antireflection properties. Most display screens of televisions and computers as display screens are formed with a curved surface, and the application of antireflection properties on the display screen has been performed by means such as coating or jetting. The use of a surface has become widespread, and since it is a flat surface, by forming an anti-reflective layer on the film and attaching the anti-reflective film, it is possible to provide anti-reflective properties on the display screen, and Has been proposed. Many of these antireflective films can be formed at low cost, although some films have low performance in antireflective properties, or films formed as multilayer antireflective layers by vapor deposition or sputtering. Most films have an antireflection layer as a coating layer.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】これらの従来の反射防
止性フイルムにおいては、蒸着やスパッタリングによっ
て形成された多層の薄膜層を形成したフイルムの場合高
コストとなり品質上でも一定水準を保持することが困難
であり、低コストで形成可能な塗布層で反射防止層を設
けたフイルムの場合低コストで比較的品質を一定水準に
保持することも容易であるが、反射防止性が不十分なこ
とが多くまた表面の傷つきや汚れに対する性能も不足が
ちとなる。従って本発明の課題は、反射防止効果、耐ス
クラッチ性、透明性、防汚性等に優れ、低コストで製造
可能な、かつ耐候性(耐高温高湿性)に優れた反射防止
性ハードコートフイルム反射防止性を提供することにあ
る。
In these conventional antireflection films, a film having a multi-layered thin film layer formed by vapor deposition or sputtering is expensive and can maintain a certain level in quality. In the case of a film provided with an anti-reflection layer using a coating layer that can be formed at low cost, it is easy to maintain the quality at a relatively low level at a low cost, but the anti-reflection property is insufficient. In many cases, the performance against scratches and dirt on the surface tends to be insufficient. Accordingly, an object of the present invention is to provide an anti-reflection hard coat film which is excellent in anti-reflection effect, scratch resistance, transparency, stain resistance, etc., can be manufactured at low cost, and has excellent weather resistance (high temperature and humidity resistance). It is to provide anti-reflection properties.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、プラ
スチックフィルム(a)上の少なくとも一面に、ハード
コート層(b)、高屈折率薄膜塗布層(c)、低屈折率
薄膜塗布層(d)を順次形成した反射防止性ハードコー
トフイルムにおいて、低屈折率薄膜塗布層(d)が、S
i(OR14、R2 4-nSi(OR1n、Si(NCO)
4、R1 nSi(NCO)4-n、(R1O)nSi(NCO)
4-n(前記式中でR1,R2は、炭素数1から20のアル
キル基を表し、nは1、2、3から選ばれる数を表
す。)から選ばれる一種以上とZr化合物から主として
形成されたものであることを特徴とする反射防止性ハー
ドコートフイルムであり、またハードコート層(b)が
金属酸化物微粒子を含有する電離放射線硬化型樹脂から
形成されたものである前記の反射防止性ハードコートフ
イルムであり、また高屈折率薄膜塗布層(c)が金属ア
ルコキシド、金属キレートから選ばれた一種以上から主
として形成されたものである前記の反射防止性ハードコ
ートフイルムであり、さらにまた低屈折率薄膜塗布層
(d)における、Zr含量がSiとZrとの合計に対し
て0.5〜20at.%である請求項1記載の反射防止
性ハードコートフイルムである。
That is, the present invention provides a hard coat layer (b), a high refractive index thin film coating layer (c), and a low refractive index thin film coating layer (d) on at least one surface of a plastic film (a). In the anti-reflective hard coat film on which the low refractive index thin film coating layer (d) is sequentially formed,
i (OR 1) 4, R 2 4-n Si (OR 1) n, Si (NCO)
4 , R 1 n Si (NCO) 4-n , (R 1 O) n Si (NCO)
4-n (wherein R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents a number selected from 1, 2, and 3) and a Zr compound. An antireflection hard coat film characterized by being mainly formed, and wherein the hard coat layer (b) is formed from an ionizing radiation-curable resin containing metal oxide fine particles. An anti-reflective hard coat film, wherein the high-refractive-index thin-film coating layer (c) is mainly formed of at least one selected from metal alkoxides and metal chelates; Furthermore, in the low refractive index thin film coating layer (d), the Zr content is 0.5 to 20 at. %. The anti-reflective hard coat film according to claim 1,

【0005】[0005]

【発明の実施態様】本発明に用いるプラスチックフィル
ム(a)としては、特に制限はないが、加工適性など用
途的に考えれば、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
エステル系樹脂からのフイルムや、三酢酸セルロースの
フイルム、ポリカーボネートフィルムを使用することが
望ましい。その厚みは20μm〜250μmのものが好
適に用いられる。本発明のハードコート層(b)を形成
するハードコート樹脂としては、熱硬化型樹脂、若しく
は電離放射線型樹脂が好ましく適用される。中でも作業
環境性、生産性の点で電離放射線型樹脂を使用すること
が好ましく、電離放射線硬化型樹脂は、少なくとも電子
線、紫外線照射により硬化される樹脂であり、これらの
樹脂を含有する塗料から本発明のハードコート層(b)
が形成される。具体的には、光重合性プレポリマー、光
重合性モノマー、光重合開始剤を含有し、更に必要に応
じて増感剤、非反応性樹脂、レベリング剤等の添加剤、
溶剤を含有する塗料である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The plastic film (a) used in the present invention is not particularly limited. However, from the viewpoint of application such as processability, a film made of a polyester resin such as polyethylene terephthalate or a film made of cellulose triacetate. It is desirable to use a polycarbonate film. Those having a thickness of 20 μm to 250 μm are preferably used. As the hard coat resin for forming the hard coat layer (b) of the present invention, a thermosetting resin or an ionizing radiation type resin is preferably applied. Above all, it is preferable to use an ionizing radiation type resin in terms of work environment and productivity, and the ionizing radiation curable resin is a resin that is cured by irradiation of at least electron beam and ultraviolet rays, and a coating containing these resins is used. Hard coat layer (b) of the present invention
Is formed. Specifically, it contains a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator, and further includes a sensitizer, a non-reactive resin, an additive such as a leveling agent, if necessary,
It is a paint containing a solvent.

【0006】光重合性プレポリマーは、その構造、分子
量が、電離放射線型硬化型塗料の硬化に関係し、硬度、
屈折率、耐クラック性等の特性を定めるものである。光
重合性プレポリマーは骨格中に導入されたアクリロイル
基が電離放射線照射されることにより、ラジカル重合す
るタイプが一般的である。ラジカル重合により硬化する
ものは硬化速度が速く、樹脂設計の自由度も大きいた
め、特に好ましい。光重合性プレポリマーとしては、ア
クリロイル基を有するアクリル系プレポリマーが、特に
好ましく、1分子中に2個以上のアクリロイル基を有
し、3次元網目構造となるものである。アクリル系プレ
ポリマーとしては、ウレタンアクリレート、エポキシア
クリレート、メラミンアクリレート、ポリエステルアク
リレート等が使用できる。光重合性モノマーは、塗膜強
度を付与するためや、光重合性プレポリマーの粘度を低
下させるのに使用されるが、光重合性モノマーを主体と
してハードコート塗料を調整してもよい。
The structure and molecular weight of the photopolymerizable prepolymer are related to the curing of the ionizing radiation curable paint, and the hardness,
It determines properties such as the refractive index and crack resistance. The photopolymerizable prepolymer is generally of a type which undergoes radical polymerization by irradiating an acryloyl group introduced into a skeleton with ionizing radiation. Those cured by radical polymerization are particularly preferred because they have a high curing rate and a high degree of freedom in resin design. As the photopolymerizable prepolymer, an acrylic prepolymer having an acryloyl group is particularly preferable, and an acrylic prepolymer having two or more acryloyl groups in one molecule and having a three-dimensional network structure is preferable. As the acrylic prepolymer, urethane acrylate, epoxy acrylate, melamine acrylate, polyester acrylate and the like can be used. The photopolymerizable monomer is used for imparting the strength of the coating film or for lowering the viscosity of the photopolymerizable prepolymer, but the hard coat paint may be prepared mainly from the photopolymerizable monomer.

【0007】本発明の反射防止性ハードコートフイルム
主用途の一であるディスプレイ画面への適用において、
最終的なディスプレイ画面の要求される硬度は高いもの
であり、本発明における反射防止性ハードコートフイル
ムの低屈折率薄膜塗布層(d)側の鉛筆硬度は2H以上
である。ハードコート塗布液中に無機酸化物微粒子、例
えば酸化珪素、酸化アンチモン、酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化亜鉛、アルミナ、チタニア、ジルコニア、等を
含有させハードコート層を形成すると、高屈折率薄膜塗
布層(c)との密着が良く、高屈折率薄膜塗布層
(c)、低屈折率薄膜塗布層(d)形成後の硬度も良く
なるので好ましい。 ハードコート塗布液に添加される
無機酸化物粒子は1〜200nmものが好適に用いられ
る。平均粒子径が200nmを越えると、透過性を損な
う傾向があり、2種類以上の無機酸化物粒子を併用して
使用することも何ら問題ないが、これらの中でも酸化錫
のような導電性のある粒子を使用すると反射防止性ハー
ドコートフイルムの制電性においても優れたものが得ら
れ好ましい。
In the application of the present invention to a display screen which is one of the main applications of the antireflection hard coat film,
The required hardness of the final display screen is high, and the pencil hardness on the low refractive index thin film coating layer (d) side of the antireflective hard coat film of the present invention is 2H or more. When the hard coat coating liquid contains inorganic oxide fine particles, for example, silicon oxide, antimony oxide, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, alumina, titania, zirconia, etc. to form a hard coat layer, a high refractive index thin film coating layer This is preferable because it has good adhesion to (c) and the hardness after forming the high-refractive-index thin-film coating layer (c) and the low-refractive-index thin-film coating layer (d) is improved. The inorganic oxide particles to be added to the hard coat coating solution preferably have a particle size of 1 to 200 nm. When the average particle size exceeds 200 nm, the transmittance tends to be impaired, and there is no problem in using two or more types of inorganic oxide particles in combination, but among these, there is a conductive property such as tin oxide. The use of particles is preferable because an antireflective hard coat film having excellent antistatic properties can be obtained.

【0008】無機酸化物微粒子を単に混合、分散する場
合多量に混合すると、ハードコート樹脂自体の架橋密度
が低下し、硬度が低下する場合がある。そこで、無機酸
化物粒子の表面をアクリロキシ官能性シラン等で処理し
電離放射線で架橋するようにアクリレート化変性したも
のをハードコート樹脂に混合するほうが更に好ましい。
該表面アクリレート化した無機酸化物微粒子は、ハード
コート樹脂との架橋に参加するため、多量に配合しても
硬度の低下はなく、逆に硬度は向上する傾向にある。ま
たハードコート樹脂への分散工程も必要なく混合が容易
であり、混合後の透過性においても優れている。アクリ
レート化の表面処理をした無機酸化物微粒子とアクリレ
ート化の表面処理をしていない微粒子とを併用しても良
い。このようにして電離放射線硬化型樹脂を含む塗布液
を調整し塗工しフィルム上に形成する方法としては、通
常の塗工方法、例えばバー、ブレード、スピン、スプレ
ー、グラビア、等のコーティングで行うことができる。
ハードコート層(b)の厚さは特に限定されないが、1
〜10μmが好ましく、より好ましくは2〜7μmであ
り、このハードコート層(b)の屈折率としては限定さ
れるものではないが1.5付近1.4〜1.8程度から
選ばれて使用される。
When inorganic oxide fine particles are simply mixed and dispersed, if they are mixed in a large amount, the crosslinking density of the hard coat resin itself may decrease, and the hardness may decrease. Therefore, it is more preferable that the surface of the inorganic oxide particles is treated with an acryloxy-functional silane or the like and modified with acrylate so as to be crosslinked by ionizing radiation, and then mixed with the hard coat resin.
Since the surface acrylated inorganic oxide fine particles participate in the crosslinking with the hard coat resin, even if they are blended in a large amount, the hardness does not decrease and the hardness tends to increase. In addition, mixing is easy without the need for a step of dispersing in a hard coat resin, and excellent in permeability after mixing. Inorganic oxide fine particles subjected to acrylate surface treatment and fine particles not subjected to acrylate surface treatment may be used in combination. As a method of preparing a coating solution containing the ionizing radiation-curable resin by applying the coating solution containing the ionizing radiation-curable resin in this manner, a normal coating method, for example, coating with a bar, blade, spin, spray, gravure, or the like is performed. be able to.
The thickness of the hard coat layer (b) is not particularly limited.
The hard coat layer (b) has a refractive index of, but not limited to, about 1.5 to about 1.4 to 1.8, and preferably about 2 to 7 μm. Is done.

【0009】ハードコート層(b)上に形成される高屈
折率薄膜塗布層(c)は、金属アルコキシド等から調整
される塗料をコーティングすることにより形成される。
これらの高屈折率薄膜層を形成するものとしては、Zr
(OR34(R3は 炭素数1〜10のアルキル基を表
す。)で表されるZrテトラプロポキシド、Zrテトラ
ブトキシド等のZrアルコキシド、In(OR43(R
4は炭素数1〜10のアルキル基を表す)で表されるI
nトリプロポキシド、Inトリブトキシド等のInアル
コキシド、Sn(OR54( R5は炭素数1〜10の
アルキル基を表す)で表されるSnテトラプロポキシ
ド、Snテトラブトキシド等のSnアルコキシド、In
アルコキシドとSnアルコキシドを90:10程度の比
で混合したもの、Ti(OR64( R6は炭素数1〜
10のアルキル基を表す)で表されるTiテトラプロポ
キシド、Tiテトラブトキシド等のTiアルコキシド、
アルミニウムアルコキシド、等が好ましい。高屈折率薄
膜塗布層(c)の厚さは特に限定されないが、0.05
〜0.2μmが好ましく、より好ましくは、0.1〜
0.15μmであり、この高屈折率薄膜塗布層(c)の
屈折率は、特に限定されるものではないが1.5〜2.
7、より好ましくは1.8〜2.6である。
The high refractive index thin film coating layer (c) formed on the hard coat layer (b) is formed by coating a paint adjusted from a metal alkoxide or the like.
Those forming these high refractive index thin film layers include Zr
Zr alkoxides such as Zr tetrapropoxide and Zr tetrabutoxide represented by (OR 3 ) 4 (R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms); In (OR 4 ) 3 (R
4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms)
In alkoxides such as n-tripropoxide and In tributoxide; Sn alkoxides such as Sn (OR 5 ) 4 (R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) such as Sn tetrapropoxide and Sn tetrabutoxide , In
A mixture of alkoxide and Sn alkoxide at a ratio of about 90:10, Ti (OR 6 ) 4 (R 6
Ti alkoxides such as Ti tetrapropoxide, Ti tetrabutoxide represented by
Aluminum alkoxide and the like are preferable. The thickness of the high refractive index thin film coating layer (c) is not particularly limited.
To 0.2 μm, more preferably 0.1 to
The high refractive index thin film coating layer (c) has a refractive index of 1.5 to 2.
7, more preferably 1.8 to 2.6.

【0010】本発明で用いる低屈折率薄膜塗布層(d)
は、Si(OR14、R2 4-nSi(OR1n、Si(N
CO)4、R1 n(NCO)4-n、(R1O)nSi(NC
O)4-n(前記式中でR1,R2は、炭素数1から20の
アルキル基を表し、nは1、2、3から選ばれる数を表
す。)から選ばれる一種以上とZr化合物とから主とし
て形成されたものが使用される。具体的には、例えば、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメ
チルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テ
トライソシアネートシラン、メチルシリルトリイソシア
ネート、ジメチルシリルジイソシアネート等から選ばれ
る一種以上とZr(OR34(R3は 炭素数1〜10の
アルキル基を表す。)で表されるZrテトラプロポキシ
ド、Zrテトラブトキシド等のZrアルコキシドやジル
コニウムアセチルアセテート等のZr金属化合物の一種
以上とから形成されるものである。本発明で用いる上記
低屈折率薄膜塗布層(d)においては、Zr含量がSi
とZrとの合計に対して0.5〜20at.%であるも
のが好ましく、さらに好ましくは1〜15at.%であ
り、Zr含量がSiとZrとの合計に対して0.5a
t.%に満たないときは耐候性において満足な向上が見
られず、またZr含量がSiとZrとの合計に対して2
0at.%を超えるときは塗布安定性が得難くかつ透明
性等に悪影響を及ぼしがちとなる。
The low refractive index thin film coating layer (d) used in the present invention.
Are Si (OR 1 ) 4 , R 2 4-n Si (OR 1 ) n , Si (N
CO) 4 , R 1 n (NCO) 4-n , (R 1 O) n Si (NC
O) 4-n (wherein R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents a number selected from 1, 2, and 3) and Zr Those mainly formed from compounds are used. Specifically, for example,
At least one selected from tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, tetraisocyanatesilane, methylsilyltriisocyanate, dimethylsilyldiisocyanate, and Zr (OR 3 ) 4 (R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.) Zr alkoxide such as Zr tetrapropoxide and Zr tetrabutoxide, and at least one Zr metal compound such as zirconium acetyl acetate. Things. In the low refractive index thin film coating layer (d) used in the present invention, the Zr content is Si.
0.5 to 20 at. %, More preferably 1 to 15 at. % And the Zr content is 0.5a with respect to the sum of Si and Zr.
t. %, No satisfactory improvement in weather resistance is observed, and the Zr content is 2% with respect to the sum of Si and Zr.
0 at. %, It is difficult to obtain coating stability and tends to adversely affect transparency and the like.

【0011】本発明においては、必要に応じて、該反射
防止性ハードコートフイルムに防汚性を付与するため
に、フッ素系樹脂を上記珪素アルコキシド等に混合する
と良い。フッソ系系樹脂については特に制限はないが、
撥水性に優れる、RfCH2CH2Si(OR23-nn
(Rfは炭素数1〜100のパーフルオロアルキル基で
あり、R2は炭素数1〜10のアルキル基、Xはアルキ
ル基、塩素等である。nは0、1、2から選ばれた数を
表す。)で表される高度にフッ素化された置換基を持つ
フッ素系珪素アルコキシド用いることが好ましい。フッ
素系珪素アルコキシドは、上記珪素アルコキシドと同じ
反応機構でメタロキサン結合により膜中に強固に固定さ
れるので防汚性能が持続し好ましい。フッ素系アルコキ
シドの配合の割合は特には限定されないが、該塗布層中
に固形分比で0.1〜30重量%含有されることが好ま
しい。低屈折率薄膜塗布層(d)の厚さは特に限定され
ないが、好ましくは0.05〜0.2μmより好ましく
は0.07〜0.12μmであり、その屈折率は特に限
定はされないが、1.5以下好ましくは1.4以下のも
のである。上記例示の金属アルコキシド等を適当な溶
媒、例えばイソプロピルアルコール、エタノール、メタ
ノール、水、等に溶解させ、必要であれば適当な触媒、
例えば塩酸、硫酸、酢酸、硝酸等の酸性若しくは、アン
モニア等のアルカリ性の化合物を添加し加水分解等を行
い薄膜塗布層用塗料を作製する。また、この塗料には、
硬化剤等、他の成分を添加してもかまわない。この塗料
を塗布、乾燥、電離線照射、熱処理、エキシマレーザー
やEB照射等の活性化エネルギー照射等を適宜選択実施
して形成する。本発明により、反射防止効果、耐スクラ
ッチ性、透明性、防汚性等に優れ、かつ低コストで製造
可能な反射防止性ハードコートフイルムが得られる。以
下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。
In the present invention, if necessary, a fluorine resin may be mixed with the silicon alkoxide or the like in order to impart antifouling properties to the antireflection hard coat film. There is no particular limitation on the fluorine-based resin,
Excellent water repellency, RfCH 2 CH 2 Si (OR 2) 3-n X n
(Rf is a perfluoroalkyl group having 1 to 100 carbon atoms, R 2 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, X is an alkyl group, chlorine and the like. N is a number selected from 0, 1, and 2) It is preferable to use a fluorine-based silicon alkoxide having a highly fluorinated substituent represented by the following formula: The fluorine-based silicon alkoxide is preferably fixed in the film by a metalloxane bond by the same reaction mechanism as the silicon alkoxide, so that the antifouling performance is maintained. The mixing ratio of the fluorine-based alkoxide is not particularly limited, but it is preferable that the coating layer contains 0.1 to 30% by weight of solid content. The thickness of the low-refractive-index thin film coating layer (d) is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 0.2 μm, more preferably 0.07 to 0.12 μm, and the refractive index is not particularly limited. It is 1.5 or less, preferably 1.4 or less. The metal alkoxides and the like exemplified above are dissolved in a suitable solvent, for example, isopropyl alcohol, ethanol, methanol, water, etc., and if necessary, a suitable catalyst,
For example, an acidic compound such as hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, or nitric acid, or an alkaline compound such as ammonia is added and hydrolysis is performed to prepare a paint for a thin film coating layer. In addition, this paint
Other components such as a curing agent may be added. This coating is formed by appropriately selecting and applying coating, drying, irradiation with ionizing radiation, heat treatment, irradiation with activation energy such as excimer laser or EB irradiation, and the like. According to the present invention, an antireflection hard coat film having excellent antireflection effect, scratch resistance, transparency, antifouling property and the like, and which can be manufactured at low cost can be obtained. Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples.

【0012】[0012]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
する、以下特にことわらない限り部は重量部を表す。以
下の各例で得られたフイルムの評価は下記によって実施
した。 (1)鉛筆硬度 低屈折率層側を、JIS K5400に準じて測定し
た。 (2)透過率 分光光度計UV−3100PC(島津製作所)を用い5
50nmの光線透過率で低屈折率層側から測定した。単
位は%である。 (3)反射率 分光光度計UV−3100PC(島津製作所)を用い5
50nmの光線反射率を低屈折率層側で測定した。単位
は%である。 (4)密着性 低屈折率層側をカーターナイフで縦11本、横11本の
傷を付け、そこにセロテープ(登録商標)を密着させた
後、そのテープを90度方向に剥離させ、残存する升目
により評価する。 (5)耐候性 耐湿試験機(タバイエスペック社製 PR−1ST)に
て、60℃、95%RHで1500時間処理したときの
処理後の鉛筆硬度と密着性の評価をした。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. Hereinafter, parts are by weight unless otherwise specified. The films obtained in the following examples were evaluated as follows. (1) Pencil hardness The low refractive index layer side was measured according to JIS K5400. (2) transmittance 5 using a spectrophotometer UV-3100PC (Shimadzu Corporation)
It was measured from the low refractive index layer side at a light transmittance of 50 nm. The unit is%. (3) Reflectance 5 using spectrophotometer UV-3100PC (Shimadzu Corporation)
The light reflectance at 50 nm was measured on the low refractive index layer side. The unit is%. (4) Adhesion The low refractive index layer side is scratched 11 times vertically and 11 times horizontally with a carter knife, and after adhering Cellotape (registered trademark) to the scratches, the tape is peeled in the direction of 90 degrees, and remains. Evaluate by square (5) Weather Resistance The pencil hardness and adhesion after the treatment at 1500C for 15 hours at 60 ° C and 95% RH were evaluated with a moisture resistance tester (PR-1ST manufactured by Tabai Espec).

【0013】**実施例1 厚さ188μmのポリエステルフィルム上に、6官能ア
クリレートモノマー50部、平均粒径50nmの酸化錫
微粒子50部、光重合開始剤5部、メチルエチルケトン
100部を混合し、バーコーターにて乾燥後膜厚5μm
になるように塗工し、溶剤乾燥後、高圧水銀灯により紫
外線を800mJ/cm2照射しハードコート層を形成
した。次に、チタニウムテトラnブトキシド10部、イ
ソプロパノール(IPA)30部、nブタノール30部
を混合しバーコーターにて乾燥後膜厚0.12μmにな
るように塗工し、140℃で1分間乾燥し高屈折率薄膜
塗布層を形成した。次いで、テトラエトキシシランSi
(OC25424部、エタノール50部、水20部、
ジルコニウムテトラnブトキシド2部、塩酸4部を加水
分解を行い塗料を作成し、この塗料を乾燥後膜厚0.0
9μmになるようにバーコーターにて塗工し、140℃
で1分間乾燥を行い低屈折率薄膜塗布層を形成した。そ
の後100℃、24時間熱処理し反射防止性ハードコー
トフィルムを作製した。得られた反射防止性ハードコー
トフィルムの鉛筆硬度は3H、透過率は91%、反射率
は0.5%、密着性は100/100であった。耐候性
は、処理後の鉛筆硬度が3Hであり、密着性は100/
100であった。
** Example 1 A polyester film having a thickness of 188 μm was mixed with 50 parts of a hexafunctional acrylate monomer, 50 parts of tin oxide fine particles having an average particle diameter of 50 nm, 5 parts of a photopolymerization initiator, and 100 parts of methyl ethyl ketone. 5μm thickness after drying with coater
And dried with a solvent, and then irradiated with ultraviolet light at 800 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp to form a hard coat layer. Next, 10 parts of titanium tetra n-butoxide, 30 parts of isopropanol (IPA) and 30 parts of n-butanol were mixed, dried with a bar coater, coated to a thickness of 0.12 μm, and dried at 140 ° C. for 1 minute. A high refractive index thin film coating layer was formed. Then, tetraethoxysilane Si
(OC 2 H 5 ) 4 24 parts, ethanol 50 parts, water 20 parts,
2 parts of zirconium tetra-n-butoxide and 4 parts of hydrochloric acid are hydrolyzed to prepare a paint, and the paint is dried to a thickness of 0.0
Apply with a bar coater to 9μm, 140 ℃
For 1 minute to form a low refractive index thin film coating layer. Thereafter, heat treatment was performed at 100 ° C. for 24 hours to prepare an antireflection hard coat film. The pencil hardness of the obtained antireflection hard coat film was 3H, the transmittance was 91%, the reflectance was 0.5%, and the adhesion was 100/100. As for the weather resistance, the pencil hardness after the treatment was 3H, and the adhesion was 100 /.
It was 100.

【0014】**比較例1 厚さ188μmのポリエステルフィルム上に、6官能ア
クリレートモノマー50部、平均粒径50nmの酸化錫
微粒子50部、光重合開始剤5部、メチルエチルケトン
100部を混合し、バーコーターにて乾燥後膜厚5μm
になるように塗工し、溶剤乾燥後、高圧水銀灯により紫
外線を800mJ/cm2照射しハードコート層を形成
した。次に、チタニウムテトラnブトキシド10部、イ
ソプロパノール(IPA)30部、nブタノール30部
を混合しバーコーターにて乾燥後膜厚0.12μmにな
るように塗工し、140℃で1分間乾燥し高屈折率薄膜
塗布層を形成した。次いで、テトラエトキシシランSi
(OC25424部、エタノール50部、水20部、
ジルコニウムテトラnブトキシド0部、塩酸4部を加水
分解を行い塗料を作成し、この塗料を乾燥後膜厚0.0
9μmになるようにバーコーターにて塗工し、140℃
で1分間乾燥を行い低屈折率薄膜塗布層を形成した。そ
の後100℃、24時間熱処理し反射防止性ハードコー
トフィルムを作製した。得られた反射防止性ハードコー
トフィルムの鉛筆硬度は3H、透過率は92%、反射率
は0.5%、密着性は100/100であった。耐候性
は、処理後の鉛筆硬度がHであり、密着性は0/100
であった。
** Comparative Example 1 A polyester film having a thickness of 188 μm was mixed with 50 parts of a hexafunctional acrylate monomer, 50 parts of tin oxide fine particles having an average particle diameter of 50 nm, 5 parts of a photopolymerization initiator, and 100 parts of methyl ethyl ketone. 5μm thickness after drying with coater
And dried with a solvent, and then irradiated with ultraviolet light at 800 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp to form a hard coat layer. Next, 10 parts of titanium tetra n-butoxide, 30 parts of isopropanol (IPA) and 30 parts of n-butanol were mixed, dried with a bar coater, coated to a thickness of 0.12 μm, and dried at 140 ° C. for 1 minute. A high refractive index thin film coating layer was formed. Then, tetraethoxysilane Si
(OC 2 H 5 ) 4 24 parts, ethanol 50 parts, water 20 parts,
A coating is prepared by hydrolyzing 0 parts of zirconium tetra-n-butoxide and 4 parts of hydrochloric acid.
Apply with a bar coater to 9μm, 140 ℃
For 1 minute to form a low refractive index thin film coating layer. Thereafter, heat treatment was performed at 100 ° C. for 24 hours to prepare an antireflection hard coat film. The pencil hardness of the obtained antireflection hard coat film was 3H, the transmittance was 92%, the reflectance was 0.5%, and the adhesion was 100/100. As for the weather resistance, the pencil hardness after the treatment was H, and the adhesion was 0/100.
Met.

【0015】[0015]

【発明の効果】プラスチックフィルム(a)上の一面
に、ハードコート層(b)、高屈折率薄膜塗布層(c)
を形成し、さらにこの高屈折率薄膜塗布層(c)の上に
低屈折率薄膜塗布層(d)を形成することによって、反
射防止効果、耐スクラッチ性、透明性、防汚性等に優
れ、さらに耐候性に優れた、かつ低コストで製造可能な
反射防止性ハードコートフイルムが得られた。
According to the present invention, a hard coat layer (b) and a high refractive index thin film coating layer (c) are formed on one surface of a plastic film (a).
Is formed, and the low-refractive-index thin-film coating layer (d) is formed on the high-refractive-index thin-film coating layer (c), whereby the antireflection effect, scratch resistance, transparency, antifouling property, etc. are excellent. Thus, an antireflection hard coat film having excellent weather resistance and being producible at low cost was obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 2/46 C08F 2/46 G02B 1/11 G02B 1/10 A 1/10 Z Fターム(参考) 2K009 AA05 AA15 BB24 BB28 CC02 CC03 CC09 CC14 CC42 DD02 DD05 4F100 AA17B AA17H AH02C AH08C AK01A AK01B AK25B AK41A AK51D AK51J AK52D AK52J AK79C AK79D AK80C AK80D AL06D AR00B AR00C AR00D BA04 BA07 BA10A BA10D BA13 CC00C CC00D DE01B DE01H GB41 JA20D JB14B JK12B JK14 JL06 JL09 JM02C JM02D JN01 JN06 JN18C JN18D YY00D 4J011 PA04 PA07 PA13 PB22 PC02 PC08 QB11 QB14 QB19 QB24 UA01 UA03 VA01 WA02 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08F 2/46 C08F 2/46 G02B 1/11 G02B 1/10 A 1/10 Z F term (Reference) 2K009 AA05 AA15 BB24 BB28 CC02 CC03 CC09 CC14 CC42 DD02 DD05 4F100 AA17B AA17H AH02C AH08C AK01A AK01B AK25B AK41A AK51D AK51J AK52D AK52J AK79C AK79D AK80C AK80D AL06D AR00B AR00C AR00D BA04 BA07 BA10A BA10D BA13 CC00C CC00D DE01B DE01H GB41 JA20D JB14B JK12B JK14 JL06 JL09 JM02C JM02D JN01 JN06 JN18C JN18D YY00D 4J011 PA04 PA07 PA13 PB22 PC02 PC08 QB11 QB14 QB19 QB24 UA01 UA03 VA01 WA02

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチックフィルム(a)上の少なく
とも一面に、ハードコート層(b)、高屈折率薄膜塗布
層(c)、低屈折率薄膜塗布層(d)を順次形成した反
射防止性ハードコートフイルムにおいて、低屈折率薄膜
塗布層(d)が、Si(OR14、R2 4-nSi(O
1n、Si(NCO)4、R1 nSi(NCO)4-n
(R1O)nSi(NCO)4-n(前記式中でR1,R
2は、炭素数1から20のアルキル基を表し、nは1、
2、3から選ばれる数を表す。)から選ばれる一種以上
とZr化合物から主として形成されたものであることを
特徴とする反射防止性ハードコートフイルム。
1. An anti-reflective hard coating comprising a hard coat layer (b), a high refractive index thin film coating layer (c), and a low refractive index thin film coating layer (d) sequentially formed on at least one surface of a plastic film (a). in coating film, a low refractive index thin film coating layer (d) is, Si (OR 1) 4, R 2 4-n Si (O
R 1 ) n , Si (NCO) 4 , R 1 n Si (NCO) 4-n ,
(R 1 O) n Si (NCO) 4-n (where R 1 , R
2 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, n is 1,
Represents a number selected from 2, 3. (1) An antireflective hard coat film characterized by being mainly formed from at least one compound selected from the group consisting of: and a Zr compound.
【請求項2】 ハードコート層(b)が金属酸化物微粒
子を含有する電離放射線硬化型樹脂から形成されたもの
である請求項1記載の反射防止性ハードコートフイル
ム。
2. The antireflection hard coat film according to claim 1, wherein the hard coat layer (b) is formed from an ionizing radiation curable resin containing fine metal oxide particles.
【請求項3】 高屈折率薄膜塗布層(c)が金属アルコ
キシド、金属キレートから選ばれた一種以上から主とし
て形成されたものである請求項1記載の反射防止性ハー
ドコートフイルム。
3. The antireflection hard coat film according to claim 1, wherein the high refractive index thin film coating layer (c) is mainly formed from at least one selected from metal alkoxides and metal chelates.
【請求項4】 低屈折率薄膜塗布層(d)における、Z
r含量がSiとZrとの合計に対して0.5〜20a
t.%である請求項1記載の反射防止性ハードコートフ
イルム。
4. Z in the low refractive index thin film coating layer (d)
r content is 0.5 to 20 a with respect to the sum of Si and Zr.
t. %. The antireflective hard coat film according to claim 1.
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