JP2001287058A - レーザ加工方法およびレーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工方法およびレーザ加工装置

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JP2001287058A
JP2001287058A JP2000106510A JP2000106510A JP2001287058A JP 2001287058 A JP2001287058 A JP 2001287058A JP 2000106510 A JP2000106510 A JP 2000106510A JP 2000106510 A JP2000106510 A JP 2000106510A JP 2001287058 A JP2001287058 A JP 2001287058A
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laser
processing
laser beam
workpiece
processing position
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Koichi Yamagata
康一 山形
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 被加工体に設定されている離間した複数の加
工位置を、レーザ光を照射して、正確、かつ、迅速に加
工することができるレーザ加工方法とその装置を提供す
ること。 【解決手段】 レーザ光Lによる加工で、レーザ発振器
1、11からのレーザ光Lの照射を、加工位置で照射後
に停止し、その停止した状態で次の加工位置まで曲線軌
跡に沿って移動し、次の加工位置で照射する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ加工等に用
いるレーザ照射の加工方法、および、それを用いたレー
ザ加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、レーザ加工装置で被加工体上の
離間した複数の加工点に順次レーザ光を照射して加工を
施す場合、例えば、図6で示すように、被加工体40上
の6点の加工位置(加工点)を順次、8a→8b→8c
→8d→8e→8fの順に加工する場合、各加工位置に
照射ヘッド(不図示)からレーザ光を照射するに際し、
各加工位置まで最短距離(直線)で照射ヘッドを走査し
て位置決めを行い、走査が停止してから照射ヘッドから
レーザを照射して所定の加工を行っている。
【0003】なお、照射ヘッドと被加工体とは相対的な
位置関係であるので、照射ヘッドの移動の意味は、被加
工体を固定して照射ヘッドを移動させる場合はもちろ
ん、その逆に、照射ヘッドを固定して被加工体を例えば
X−Yテーブル上に載置して、X−Yテーブルの移動動
作により被加工体を移動させる場合も含まれる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように被加工体上の離間した複数の加工点毎に順次、加
工を施すに際に、次の加工点への照射ヘッドの移動を直
線による最短距離で行う場合には、加工点の位置毎にレ
ーザ加工を終了後、照射ヘッドからのレーザ光の照射を
停止し、その照射停止状態で照射ヘッド又は被加工体を
次の加工点まで移動させている。この場合、次の加工点
での加工には、照射ヘッド(又は被加工体)の位置決め
完了までの静定時聞が必要であるため、時間的にはそれ
に要する時間が不可欠であった。
【0005】また、別の方法として、照射ヘッド又は被
加工体を連続的に走査して、それぞれの加工点毎にタイ
ミングを合わせて、照射ヘッドからレーザ光を照射する
方式も考えられるが、実際には、照射ヘッド(又は被加
工体)の移動機構と、レーザ光を照射するタイミングと
のサーボ遅れが存在するため、被加工体の所定の加工位
置に正確に照射ヘッドからレーザ光を照射することは困
難である。
【0006】本発明は、上述の事情にもとづいてなされ
たもので、被加工体に設定されている離間した複数の加
工位置を、レーザ光を照射して、正確、かつ、迅速に加
工することができるレーザ加工方法とその装置を提供す
ることを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明による手
段によれば、被加工体の離間した複数の加工位置毎にレ
ーザ発振器から順次レーザ光を照射して加工するレーザ
加工方法において、前記レーザ発振器からのレーザ光の
照射が、前記加工位置で照射後に停止し、その停止した
状態で次の加工位置まで所定の曲線軌跡に沿って移動
し、次の加工位置で照射することを特徴とするレーザ加
工方法である。
【0008】また請求項2の発明による手段によれば、
前記次の加工位置までの前記曲線軌跡は、2つの円弧を
つなぎ合わせたものであることを特徴とするレーザ加工
方法である。
【0009】また請求項3の発明による手段によれば、
前記複数の加工位置毎に順次形成される前記曲線軌跡
は、各々の前記曲線軌跡のベクトルが一致していること
を特徴とするレーザ加工方法である。
【0010】また請求項4の発明による手段によれば、
前記複数の加工位置毎に順次形成される前記曲線軌跡
は、少なくとも隣り合う各々の前記曲線軌跡のベクトル
が一致していることを特徴とするレーザ加工方法であ
る。
【0011】また請求項5の発明による手段によれば、
前記レーザ発振器からのレーザ光の照射は、前記加工位
置で照射後に停止し、その停止した状態で次の加工位置
まで前記所定の曲線軌跡に沿って移動する際の走査速度
は一定であることを特徴とするレーザ加工方法である。
【0012】また請求項6の発明による手段によれば、
被加工体の離間した複数の加工位置毎にレーザ発振器か
ら順次レーザ光を照射する光学系を有するレーザ加工装
置において、前記光学系は、前記レーザ発振器からのレ
ーザ光が、前記加工位置で照射後に停止し、その停止し
た状態で次の加工位置まで所定の曲線軌跡に沿って移動
し、次の加工位置で照射するように制御されていること
を特徴とするレーザ加工装置である。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例として、
レーザ光の走査により複数の位置に加工を行うレーザ加
工装置について図面を参照して説明する。
【0014】図1はレーザ光を照射して被加工体Wに加
工を行うレーザ加工装置の模式ブロック図である。すな
わち、レーザ加工装置はレーザ光Lを発生するレーザ発
振器部1の光軸上の前方に、順次、レーザ光Lを被加工
体Wの加工位置(加工点)までハンドリングする光学系
2と、被加工体Wにレーザ光を集光して照射する加工光
学部3と、レーザ光Lを被加工体Wに対し相対的に移動
させる光走査部4とが設けられている。
【0015】また、レーザ発振器と光走査部4は、レー
ザ光Lを被加工体Wに照射するタイミング等が、制御す
るためのコントローラ部5によって制御されている。
【0016】レーザ発振器部1は、内部に図示しないY
AGレーザロッド等のレーザ媒質と、このレーザ媒質を
挟んだ光軸上に光共振器を形成する一対のミラー(不図
示)を備えている。
【0017】また、光学系2は反射ミラーで形成され、
加工光学部3は集光レンズで形成されている。光走査部
4は被加工体Wを載置してXY方向に移動自在なXYス
テージ6で構成されている。
【0018】また、コントローラ部5は、レーザ発振器
部1に対してレーザ光Lを照射するタイミングを制御
し、また、光走査部4に対しては、光の走査の方向と、
XYステージ6の移動による被加工体Wに対する光の走
査速度を制御している。なお、被加工体Wに対する光の
走査速度とは、一筆書きのように被加工体Wに連続した
加工を行う場合は、文字通りレーザ光Lの走査速度を示
しているが、被加工体Wの離間した位置に、間歇的に加
工を行う場合には、加工位置以外は被加工体Wに対して
レーザ光Lの照射を行わない。このレーザ光Lの照射を
行わないで次の加工点まで、レーザ光Lを照射している
かのように仮想して移動する走査速度を意味している。
【0019】被加工体Wの離間した位置に間歇的に加工
を行う例としては、例えば、配線基板(不図示)に、複
数個のビアホール(不図示)等を孔明けする場合等であ
る。ビアホールは、通常、孔径がφ50μm〜100μ
m程度である。
【0020】次に、被加工体Wの離間した、隣り合う2
つの加工位置(点)を連結して走査し、順次加工位置で
加工する方法について説明する。基本的には、本発明で
は、円弧内挿手法等により、隣り合う2つの加工位置を
2つの円弧で接続した曲線を用いて、被加工体Wの離間
した加工位置を順次加工している。
【0021】図2は、本発明の2つの加工位置を結ぶよ
うに走査する原理の説明図である。
【0022】すなわち、被加工体上にある離間した加工
位置で、順次、孔明け加工等の所定の加工をおこなうに
際し、そのうちの隣り合う2つの加工位置8a(A)、
8b(B)について説明する。
【0023】まず、Aとその前の加工位置(図示してい
ない)を結ぶ線分と線分ABの成す角度を2等分する直
線をα、線分ABとBとその次の加工位置(図示してい
ない)を結ぶ線分の成す角度を2等分する直線をβとす
る。直線αと直線βの交点をP、直線α上でPからcの
距離にある点Qと、直線β上でPからcの距離にある点
をRとする。
【0024】この場合、直線α上でのPQ間の距離であ
るcは、距離APをa,距離BPをb、直線αと直線β
が成す角度を2θとしたとき次式で表される。
【0025】c=(b−a)/2(1−cosθ) ただしb>a このときQRを通る直線γ上にあり、Qからb−cの距
離(Rからはa+cの距離)にある点をSとすると、A
Sを結ぶ円弧9aとSBを結ぶ円弧9bは滑らかに接続
する。
【0026】なお、上述の場合は2つの加工位置8a
(A)と加工位置8b(B)の場合は、直線αと直線β
の交点をPが、加工進行方向に関して加工位置を結ぶ線
分A−Bの右側に存在したが、加工位置の配置によって
は、必ずしも、直線αと直線βの交点Pが線分A−Bの
右側に形成されるとは限らない。
【0027】例えば、図3に示すような場合、すなわ
ち、加工位置をA→A→B→C →D→E
順で加工する場合。加工位置Aと加工位置Bでは、
上述の場合と同様に直線αと直線βとの交点P
が、加工進行方向に関し線分A−Bの右側に形成
されるが、加工位置Bと加工位置Cとの場合は、直
線β と直線δとの交点Pが、加工進行方向に関し
線分B−Cの左側に形成される。また、加工位置C
と加工位置Dとの場合は、直線δと直線ζとの
交点Pも、加工進行方向に関し線分C−Dの左側
に形成される。
【0028】したがって、これらのような場合、上述の
方法で加工位置がAとBの場合は、直線αと直線
βとの交点Pを元に作図した直線γ上の点S
求めて、AからSとSからBとをそれぞれ円弧
9cと円弧9dで結ぶと、両円弧9c、9dは滑らかに
接続する。
【0029】加工位置がBとCの場合も、直線β
と直線δとの交点Pを元に作図した直線ε上の点
を求めて、BからSとSからCとをそれぞ
れ円弧9eと円弧9fで結ぶと、両円弧9e、9fは滑
らかに接続する。
【0030】同様に、加工位置がCとDの場合も、
直線δと直線ζとの交点Pを元に作図した直線η
上の点Sを求めて、CからSとSからD
をそれぞれ円弧9gと円弧9hで結ぶと、両円弧9g、
9hは滑らかに接続する。
【0031】なお、上記のように、順次、加工位置をA
→B→C→Dと連続して、それぞれの間を円弧
の接続で滑らかに結んだ際には、加工位置の配置によっ
て、A→BとB→Cとでは、それぞれの加工位
置間を結んだ直線に対して、加工の進行方向に関して接
続した円弧の位置が左右逆方向になり、Bの位置で円
弧の方向が切り替わり、ベクトルが一致しないことが生
じる場合も発生する。全体の加工位置数との関係で、こ
のような円弧の方向が切り替わる位置が一箇所程度の場
合は、そのままの状態でもそれほど問題はないが、円弧
の方向が切り替わる位置が多数存在するのはあまり好ま
しくない。
【0032】それらを回避する方法としては、加工順序
を変更する方法について図4を参照して説明する。すな
わち、上述のように、加工順序A→A→B→C
→D →Eの場合には、Bの位置で円弧の方向が切
り替わり、ベクトルが一致しないことが生じる場合も発
生する。
【0033】これに対して、加工順序を変更して、A
→E→A→D→B→Cとした場合には、それ
ぞれの加工位置を結ぶ円弧の接続は擬似渦巻状を形成
し、円弧の作図方向が一致して走査軌跡のベクトルが一
致する。
【0034】したがって、この方法を用いて、コントロ
ーラで、順次、加工位置の間の走査軌跡を円弧で接続し
ていくことにより、全ての加工位置において、その前後
の光の走査方向ベクトルを一致させることができる。
【0035】また、走査軌跡に円弧を用いるため加工位
置間の走査距離を容易に計算することができる。そのた
め、加工位置での合成走査速度を一定に保つことで走査
距離に比例したタイミングで所定の位置にレーザ光を照
射して加工を行うことができる。
【0036】なお、上述の場合は、2つの加工位置間の
接続は、上述のような円弧内挿法により接続したが、そ
の他にもCAD/CAM等で用いられているBezie
r曲線により2つの加工位置間の接続をおこなうことも
できる。
【0037】次に、本発明の第2の実施の形態を説明す
る。
【0038】図5はレーザ光を照射して被加工体Wに加
工を行うレーザ加工装置の模式ブロック図である。すな
わち、レーザ加工装置はレーザ光Laを発生するレーザ
発振器部11の光軸上の前方に、順次、レーザ光Laを
被加工体Waの加工位置までハンドリングする光学系1
2と、被加工体Waにレーザ光Laを集光して照射する
加工光学部13と、レーザ光Lを被加工体Waに対し、
相対的に移動させる光走査部14とが設けられている。
【0039】また、レーザ発振器部11と光走査部14
は、レーザ光Laを被加工体Waに照射するタイミング
等が、制御するためのコントローラ部15によって制御
されている。
【0040】レーザ発振器部11は、内部に図示しない
YAGレーザロッド等のレーザ媒質と光共振器を形成す
る一対のミラーを備えているまた、光学系12は反射ミ
ラーで形成され、光走査部14は一対のガルバノスキャ
ナ16、17で形成されている。各ガルバノスキャナ1
6、17を構成しているガルバノミラー16a、17a
はモータ18、19によって駆動されている。
【0041】また、コントローラ部15は、レーザ発振
器部11に対してレーザ光Laを照射するタイミングを
制御し、また、光走査部14に対しては、光の走査の方
向と、各ガルバノスキャナ16、17の動作による被加
工体Waに対する光の走査速度を制御している。
【0042】これらの構成により、レーザ発振器部12
でQスイッチ(不図示)により、パルス光を発生する。
このパルス光は光学系12の反射ミラーで反射して光走
査部14に導かれる。光走査部14ではコントローラ部
15によって、ガルバノスキャナ16、17が受光する
光が2つの加工位置間に関して、上述の第1の実施の形
態で説明したのと同様の軌跡で移動するように制御され
る。
【0043】また、同時にQスイッチレーザの出力もコ
ントローラ部15により制御されているので、所望の任
意のタイミングで被加工体Waの加工位置についてレー
ザ光Laの照射が行え、例えば、被加工体Waの所定位
置に高速で孔明け加工をおこなうことができる。
【0044】以上に述べたように、本発明によれば、レ
ーザ加工において、加工位置の間の走査に、円弧で補間
した軌跡を用いることで、すべての加工位置に対して、
その前後の光の走査方向べクトルが一致し、かつ、走査
速度が一定となり、各所定の位置に走査を停止させるこ
となく、容易にレーザ照射のタイミングを設定できる。
【0045】また、被加工体Wの全ての加工位置に対し
て、その前後の光の走査方向ベクトルを一致させること
で、加工位置での合成走査速度を常に一定に保つことが
できる。それにより、走査加工位置の間の走査距離を計
算し、走査距離に比例したタイミングで所定の位置にレ
ーザ光を照射して加工を行うので、加工位置毎に正確に
所定の加工をおこなうことができる。
【0046】
【発明の効果】本発明では、レーザ加工において、レー
ザ光の走査を停止させることなく、タイミングを合わせ
て所定の加工位置に正確にレーザ光を照射することが容
易にできる。
【0047】それにより、被加工体に設定された離間し
た複数の加工位置において、迅速かつ正確に加工するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】レーザ加工装置の模式ブロック図。
【図2】本発明の2つの加工位置を連結して走査する原
理の説明図。
【図3】本発明の2つの加工位置を連結して走査する原
理の変形例の説明図。
【図4】本発明の2つの加工位置を連結して走査する原
理の変形例の説明図。
【図5】別のレーザ加工装置の模式ブロック図。
【図6】従来の加工位置の順序の説明図。
【符号の説明】
1…レーザ発振器部、2、12…光学系、4、14…光
走査部、5、15…コントローラ部

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被加工体の離間した複数の加工位置毎に
    レーザ発振器から順次レーザ光を照射して加工するレー
    ザ加工方法において、 前記レーザ発振器からのレーザ光の照射が、前記加工位
    置で照射後に停止し、その停止した状態で次の加工位置
    まで所定の曲線軌跡に沿って移動し、次の加工位置で照
    射することを特徴とするレーザ加工方法。
  2. 【請求項2】 前記次の加工位置までの前記曲線軌跡
    は、2つの円弧をつなぎ合わせたものであることを特徴
    とする請求項1記載のレーザ加工方法。
  3. 【請求項3】 前記複数の加工位置毎に順次形成される
    前記曲線軌跡は、各々の前記曲線軌跡のベクトルが一致
    していることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工方
    法。
  4. 【請求項4】 前記複数の加工位置毎に順次形成される
    前記曲線軌跡は、少なくとも隣り合う各々の前記曲線軌
    跡のベクトルが一致していることを特徴とする請求項1
    記載のレーザ加工方法。
  5. 【請求項5】 前記レーザ発振器からのレーザ光の照射
    は、前記加工位置で照射後に停止し、その停止した状態
    で次の加工位置まで前記所定の曲線軌跡に沿って移動す
    る際の走査速度は一定であることを特徴とする請求項1
    記載のレーザ加工方法。
  6. 【請求項6】 被加工体の離間した複数の加工位置毎に
    レーザ発振器から順次レーザ光を照射する光学系を有す
    るレーザ加工装置において、 前記光学系は、前記レーザ発振器からのレーザ光が、前
    記加工位置で照射後に停止し、その停止した状態で次の
    加工位置まで所定の曲線軌跡に沿って移動し、次の加工
    位置で照射するように制御されていることを特徴とする
    レーザ加工装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100696395B1 (ko) 2005-03-03 2007-03-19 주식회사 이오테크닉스 레이저 가공장치의 레이저빔 제어방법

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