JP2001284806A - Multilayer wiring board - Google Patents

Multilayer wiring board

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JP2001284806A
JP2001284806A JP2000095689A JP2000095689A JP2001284806A JP 2001284806 A JP2001284806 A JP 2001284806A JP 2000095689 A JP2000095689 A JP 2000095689A JP 2000095689 A JP2000095689 A JP 2000095689A JP 2001284806 A JP2001284806 A JP 2001284806A
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JP
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metal core
wiring board
thickness
layers
multilayer wiring
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Application number
JP2000095689A
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Japanese (ja)
Inventor
Toku Nagasawa
徳 長沢
Masakazu Sugimoto
正和 杉本
Yasushi Inoue
泰史 井上
Takuji Okeyui
卓司 桶結
Kei Nakamura
圭 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer wiring board having both rigidity and tenacity. SOLUTION: This multilayer wiring board is provided with insulating layers 16-20 composed of organic polymer resin, circuit layers 21-25 and metal core members 6-10 of (n) layers (n is an integer of at least 3). As to the metal core members 6-10 of the (n) layers, thickness is increased in the outer layers of the metal core members 6, 7, 9, 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品等を実装
するために用いられる剛性に優れた多層配線基板に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer wiring board having excellent rigidity used for mounting electronic parts and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の電子機器の小型化,高性能化に伴
い、電子機器を構成する半導体装置およびこれを実装す
るプリント配線基板は、小型薄型化,高性能化,高信頼
性が要求されている。これらの要求を受けて、実装形態
もDIP等のピン挿入型パッケージからSOP等の表面
実装型パッケージへ、さらにCSP,MCM等のエリア
アレイ型外部端子による実装形態へと進みつつある。こ
れらエリアアレイ型の実装形態の多くでは、周知の通
り、まず半導体チップとインターポーザーあるいはMC
M基板等とが電気的に接続され封止工程を経る、いわゆ
る一次実装工程でパッケージされる。そののち、通常、
このパッケージの裏面に、エリアアレイ状に半田ボール
が取り付けられ、半田ボールとマザーボード電極パッド
との金属接合をIRリフローや熱風リフローにより行う
ことで二次実装が終了する。こうして得られる実装済み
の基板の歩留りは、各部品の良品率,個別の工程の歩留
りに左右されるため、適宜検査工程を組み入れ、その都
度不良部をリペアーしていくことが行われる。
2. Description of the Related Art With the recent miniaturization and high performance of electronic devices, semiconductor devices constituting the electronic devices and printed wiring boards on which the semiconductor devices are mounted are required to be small, thin, high performance and high reliability. ing. In response to these demands, the mounting form has been progressing from a pin insertion type package such as DIP to a surface mount type package such as SOP, and further to an area array type external terminal such as CSP and MCM. In many of these area array type mounting forms, as is well known, a semiconductor chip and an interposer or MC
The package is formed in a so-called primary mounting process in which an M substrate and the like are electrically connected and undergo a sealing process. After that, usually
Solder balls are attached to the back surface of this package in an area array, and the secondary mounting is completed by performing metal bonding between the solder balls and the mother board electrode pads by IR reflow or hot air reflow. Since the yield of the mounted board obtained in this way depends on the yield of each component and the yield of individual steps, an inspection step is appropriately incorporated and a defective portion is repaired each time.

【0003】前述のCSP,MCMにおいては、より小
型化するという設計上の目的から、チップと一次実装基
板との接続はワイヤーボンド法ではなく、導電性ペース
トや金属バンプを接合材料とするフリップチップボンデ
ィング法で行うことが好ましい。
In the above-mentioned CSP and MCM, the connection between the chip and the primary mounting substrate is not a wire bonding method but a flip chip using a conductive paste or a metal bump as a bonding material, for the purpose of design for further miniaturization. Preferably, the bonding is performed.

【0004】さらに、チップや一次実装工程での不良が
原因で一次実装品が不良となり、かつ、一次実装基板が
MCM基板のように高価であるために実装基板ごと廃棄
してしまうことが不経済となる場合には、チップのリペ
アーが必要になる。ワイヤーボンド法では、基板へのチ
ップの接着,固定がボンディング前に必要であるためリ
ペアーには適さない。一方、フリップチップボンディン
グ法では、アンダーフィルを注入する封止工程以前であ
れば、比較的容易にリペアーできる。このような理由か
ら、電気接点のみを金属バンプや、あるいはこれと導電
性ペーストとを組み合わせた方法で接合して検査し、不
良品はチップのリペアーが行われ良品とされたのちに、
封止される。
[0004] Furthermore, it is uneconomical to dispose of the entire mounting substrate because the primary mounting product is defective due to a defect in the chip or the primary mounting process, and the primary mounting substrate is expensive like an MCM substrate. In this case, the chip needs to be repaired. The wire bonding method is not suitable for repair because bonding and fixing of the chip to the substrate are required before bonding. On the other hand, in the flip chip bonding method, repair can be performed relatively easily before the sealing step of injecting the underfill. For this reason, only electrical contacts are bonded and inspected by a method combining metal bumps or this and conductive paste, and after defective products are repaired and judged as good products,
Sealed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、検査時点での電気接点の機械強度が低いため、
検査のための電極ピンを基板に押圧した際の基板の変形
により、電気接点が破断するという問題が生じる。その
ため、剛性に優れるセラミック基板が使用されることも
あるが、脆いために検査時の負荷で基板そのものが割れ
るという問題や、一方で高価であるという問題がある。
However, in this method, the mechanical strength of the electrical contacts at the time of inspection is low,
The deformation of the substrate when the electrode pins for inspection are pressed against the substrate causes a problem that the electrical contacts are broken. For this reason, a ceramic substrate having excellent rigidity may be used. However, there is a problem that the substrate itself is broken by a load at the time of inspection due to brittleness, and a problem that the substrate is expensive.

【0006】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、剛性と靱性とを兼ね備えた多層配線基板の提供
をその目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to provide a multilayer wiring board having both rigidity and toughness.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の多層配線基板は、有機高分子樹脂からなる
絶縁層、配線導体、およびn層(n≧3の整数)のメタ
ルコア層を有する多層配線基板であって、最外層のメタ
ルコア層の厚みd(両最外層のメタルコア層の厚みが異
なる場合には、薄い方のメタルコア層の厚みをdで表わ
す)が全メタルコア層の厚みの総和Dに対し、下記の式
(1)を満たしているという構成をとる。
In order to achieve the above object, a multilayer wiring board according to the present invention comprises an insulating layer made of an organic polymer resin, a wiring conductor, and an n-layer (n ≧ 3 integer) metal core layer. Wherein the thickness d of the outermost metal core layer (when the thicknesses of both outermost metal core layers are different, the thickness of the thinner metal core layer is represented by d) is the thickness of all metal core layers. , The following equation (1) is satisfied.

【0008】[0008]

【式2】d>D/n……(1)[Formula 2] d> D / n (1)

【0009】一般に、有機ポリマー基板は、セラミック
に対し靱性には富むが剛性に欠けるという欠点がある。
この欠点を補う一つの方法がメタルコア材を用いる方法
である。ところが、メタルコア材を用いることは基板自
体の厚み,重量を増加することとなり問題である。ま
た、MCM等の基板は配線密度の余裕を確保するために
多層化することが必須である。通常、良く知られている
メタルコア基板は、特開昭61−212096号公報の
ように、メタルコア材をベースに、その上に回路層を絶
縁層を介して積層した構造である。しかしながら、この
ようなメタルコア基板では、熱膨脹率の異なる材料が基
板の断面において全く非対称に積層された構造であるた
め、多層配線基板の反りが生じたり、メタルコア材の厚
みの割に剛性が充分得られなかったりしている。また、
特開平11−163522号公報のように、メタルコア
材の厚みを基板内で均等に配分した場合にも、剛性が充
分でない。
In general, an organic polymer substrate has a drawback that it is rich in toughness but lacks rigidity compared to ceramic.
One way to compensate for this drawback is to use a metal core material. However, the use of a metal core material is problematic because the thickness and weight of the substrate itself increase. Further, it is indispensable that the substrate such as the MCM is multilayered in order to secure a margin of the wiring density. Generally, a well-known metal core substrate has a structure in which a circuit layer is laminated on a metal core material via an insulating layer as described in JP-A-61-212096. However, such a metal core substrate has a structure in which materials having different coefficients of thermal expansion are laminated completely asymmetrically in the cross section of the substrate, so that a multilayer wiring board may be warped or rigidity may be sufficiently obtained for the thickness of the metal core material. Or not. Also,
Even when the thickness of the metal core material is evenly distributed in the substrate as in JP-A-11-163522, the rigidity is not sufficient.

【0010】そこで、本発明者らは、剛性と靱性とを兼
ね備えた多層配線基板を得るため鋭意検討した結果、多
層配線基板を構成するメタルコア層を3層以上に分散
し、これら3層以上のメタルコア層の、最外層のメタル
コア層の厚みd(両最外層のメタルコア層の厚みが異な
る場合には、薄い方のメタルコア層の厚みをdで表わ
す)が全メタルコア層の厚みの総和Dに対し、上記の式
(1)を満たしていると、剛性がアップし、これによ
り、厚み増加と重量増加とを低く抑えることができ、し
かも、剛性と靱性とを兼ね備えた多層配線基板が得られ
ることを見出し本発明に到達した。なお、本発明では、
両最外層のメタルコア層の厚みdは同じであることが好
ましいが、これに限定するものではない。また、本発明
において、絶縁層とは、接着機能の有無にかかわらず、
有機高分子樹脂からなるものを意味する。
The present inventors have conducted intensive studies to obtain a multilayer wiring board having both rigidity and toughness. As a result, the metal core layers constituting the multilayer wiring board were dispersed into three or more layers, and the three or more metal core layers were formed. The thickness d of the outermost metal core layer of the metal core layer (when the thicknesses of both outermost metal core layers are different, the thickness of the thinner metal core layer is represented by d) is the total thickness D of all metal core layers. When the above expression (1) is satisfied, the rigidity is increased, whereby the increase in thickness and the increase in weight can be suppressed, and a multilayer wiring board having both rigidity and toughness can be obtained. And arrived at the present invention. In the present invention,
The thickness d of the outermost metal core layers is preferably the same, but is not limited thereto. Further, in the present invention, the insulating layer, regardless of the presence or absence of an adhesive function,
It means one composed of an organic polymer resin.

【0011】本発明において、両最外層のメタルコア層
の厚みが他のどの層のメタルコア層よりも厚く形成され
ている場合には、両最外層のメタルコア層により、多層
配線基板の剛性が、多層配線基板の中央部分より外側部
分で強くなり、剛性と靱性とに優れた多層配線基板を得
ることができる。
In the present invention, when the outermost metal core layers are formed thicker than any other metal core layers, the rigidity of the multilayer wiring board is reduced by the outermost metal core layers. A multilayer wiring board having excellent rigidity and toughness can be obtained because the strength is higher at the outer part than at the center of the wiring board.

【0012】また、本発明において、外側層のメタルコ
ア層ほど厚みが厚く形成されている場合には、多層配線
基板の剛性を、多層配線基板の中央部分から外側部分に
向かって徐々にアップさせることができるため、同様の
効果が得られる。なお、本発明において、「外側層のメ
タルコア層ほど厚みを厚く形成する」とは、中央層のメ
タルコア層(中央層のメタルコア層とは、メタルコア層
が奇数層ある場合には、中央にある1つのメタルコア層
を指し、メタルコア層が偶数層ある場合には、中央にあ
る2つのメタルコア層を指す)の上部もしくは下部にお
いて、内側にあるメタルコア層より外側にあるメタルコ
ア層の方が厚みが厚い場合を含む意味である。
In the present invention, when the outer metal core layer is formed so as to be thicker, the rigidity of the multilayer wiring board is gradually increased from the central portion to the outer portion of the multilayer wiring board. Therefore, a similar effect can be obtained. In the present invention, “the outer core metal core layer is formed so as to be thicker” means that the metal core layer of the central layer (the metal core layer of the central layer is the central metal core layer when there are an odd number of metal core layers). (In the case of an even number of metal core layers, it indicates the two metal core layers in the center.) In the upper or lower part, the outer metal core layer is thicker than the inner metal core layer. It is a meaning including.

【0013】さらに、本発明において、上記複数層のメ
タルコア層が、その厚みにおいて上下対称となるように
配設されている場合には、多層配線基板に対し、上下い
ずれの方向から外力が作用しても、同等の剛性と靱性と
を発揮することができる。
Further, in the present invention, when the plurality of metal core layers are disposed so as to be vertically symmetrical in thickness, external force acts on the multilayer wiring board from either the upper or lower direction. However, equivalent rigidity and toughness can be exhibited.

【0014】つぎに、本発明を詳しく説明する。Next, the present invention will be described in detail.

【0015】まず第1に、メタルコア層を構成するメタ
ルコア材の材質であるが、比較的剛性および耐食性に優
れたものとして、36Alloy,42Alloy,ス
ーパーインバー等のFe/Ni合金,SUS系合金,T
i等が挙げられる。これらは工業的にも金属箔として比
較的安価に入手が可能であり、好適である。
First, the material of the metal core material constituting the metal core layer is made of Fe / Ni alloys such as 36 Alloy, 42 Alloy, Super Invar, SUS alloy, T
i and the like. These are commercially available as metal foils at relatively low cost and are suitable.

【0016】一方、本発明の多層配線基板を作製する場
合には、これがメタルコア層を含む点で一部制約を受け
る。すなわち、メタルコア層自体には接着機能がないた
め、その表裏両面に接着剤層が必要である。そこで、複
数の両面回路基板とメタルコア層を接着剤層を介して一
体化する方法、メタルコア層の表裏両面に接着剤層を介
して作製した両面回路基板をさらに接着剤層を介して一
体化する方法、ビルドアップ工法の途中に適宜メタルコ
ア層を接着剤層を介して貼り合わせる方法、およびこれ
らを適宜組み合わせる方法等が可能である。いずれの方
法においても、IVH,スルーホールがメタルコア層を
貫通する部位においては、予めメタルコア層に開口部を
設け、接着剤等で表面を絶縁した状態で導電性ペース
ト、半田金属等の導電物を充填したり、スルーホールめ
っきを施すことで上下回路層の導通を確保することがで
きる。
On the other hand, when fabricating the multilayer wiring board of the present invention, there is a partial restriction in that it includes a metal core layer. That is, since the metal core layer itself does not have an adhesive function, adhesive layers are required on both front and back surfaces. Therefore, a method of integrating a plurality of double-sided circuit boards and a metal core layer via an adhesive layer, and further integrating a double-sided circuit board prepared on both front and back surfaces of the metal core layer via an adhesive layer via an adhesive layer. Methods, a method of appropriately bonding a metal core layer via an adhesive layer during the build-up method, a method of appropriately combining these, and the like are possible. In any of the methods, at a portion where the IVH and the through hole penetrate the metal core layer, an opening is provided in the metal core layer in advance, and the surface is insulated with an adhesive or the like. By filling or plating through holes, conduction between the upper and lower circuit layers can be ensured.

【0017】ここで、接着剤層あるいは絶縁層を構成す
る材料としては、従来からよく知られている材料が適宜
使用可能である。すなわち、熱硬化あるいは熱可塑のフ
ェノール,エポキシ,ポリエステル,ポリサルフォン,
ポリエーテルイミド,ポリエーテルケトン,およびポリ
イミド系樹脂等が使用できる。また、適宜必要に応じて
紙,ガラス布,ガラスマット,ガラス不織布,ケプラー
繊維等を組み合わせて使用できる。
Here, as a material for forming the adhesive layer or the insulating layer, a conventionally well-known material can be appropriately used. That is, thermoset or thermoplastic phenol, epoxy, polyester, polysulfone,
Polyetherimide, polyetherketone, polyimide resin and the like can be used. Further, paper, glass cloth, glass mat, glass nonwoven fabric, Kepler fiber and the like can be used in combination as needed.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を図
面にもとづいて説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0019】図1は本発明の多層配線基板の一実施の形
態を示している。図において、1〜5は両面回路基板で
あり、これら各両面回路基板1〜5が接着剤層26〜2
9を介して積層されて10層配線基板が構成されてい
る。上記各両面回路基板1〜5は、それぞれ、メタルコ
ア材(メタルコア層)6〜10と、上記各メタルコア材
6〜10の表裏両面に接着剤層11〜15を介して接着
される絶縁層16〜20と、上記各絶縁層16〜20の
表面に設けられる回路層(配線導体)21〜25とから
なる(図2参照。この図2には、両面回路基板3が示さ
れている)。すなわち、図1に示す10層配線基板で
は、5層の絶縁層16〜20にそれぞれメタルコア材6
〜10が含まれている。そして、上記各メタルコア材6
〜10の厚みは、中央に配設された両面回路基板3のメ
タルコア材8の厚みが一番薄く形成されており、この両
面回路基板3の上下に配設された両面回路基板2,4の
メタルコア材7,9の厚みは同じで、かつ、中央に配設
された両面回路基板3のメタルコア材8の厚みより厚く
形成されている。また、上下両最外層の両面回路基板
1,5のメタルコア材6,10の厚みは同じで、かつ、
その内側の両面回路基板2,4のメタルコア材7,9の
厚みより厚く形成されている。このため、上下両最外層
のメタルコア材6,10の厚みが5層のメタルコア材6
〜10の総厚みの平均値より大きくなっている。なお、
図1では、各回路層21〜25を電気的に接続する電気
接続部(すなわち、各両面回路基板1〜5同士の層間接
続部および各両面回路基板1〜5の層内接続部)は図示
せず。
FIG. 1 shows an embodiment of the multilayer wiring board of the present invention. In the figure, reference numerals 1 to 5 denote double-sided circuit boards.
The 10-layer wiring board is formed by laminating through 9. Each of the double-sided circuit boards 1 to 5 has a metal core material (metal core layer) 6 to 10 and an insulating layer 16 to 6 bonded to both front and back surfaces of the metal core material 6 to 10 via adhesive layers 11 to 15, respectively. 20 and circuit layers (wiring conductors) 21 to 25 provided on the surfaces of the insulating layers 16 to 20 (see FIG. 2, which shows the double-sided circuit board 3). That is, in the 10-layer wiring board shown in FIG.
10 to 10 are included. Then, each of the metal core materials 6
The thickness of the metal core material 8 of the double-sided circuit board 3 provided at the center is formed to be the thinnest, and the thickness of the double-sided circuit boards 2 and 4 provided above and below the double-sided circuit board 3 The metal core members 7 and 9 have the same thickness and are formed to be thicker than the metal core material 8 of the double-sided circuit board 3 disposed at the center. The thickness of the metal core members 6, 10 of the upper and lower outermost double-sided circuit boards 1, 5 is the same, and
It is formed thicker than the metal core members 7, 9 of the double-sided circuit boards 2, 4 inside thereof. For this reason, the metal core materials 6 and 10 having the upper and lower outermost layers have a thickness of 5 layers.
It is larger than the average value of the total thickness of 10 to 10. In addition,
In FIG. 1, electrical connection portions for electrically connecting the circuit layers 21 to 25 (that is, interlayer connection portions between the double-sided circuit boards 1 to 5 and connection portions within the layers of the double-sided circuit boards 1 to 5) are illustrated. Not shown.

【0020】上記のように、この実施の形態では、上下
両最外層のメタルコア材6,10の厚みが5層のメタル
コア材6〜10の総厚みの平均値より大きい。しかも、
5層のメタルコア材6〜10は、その厚みが上下対称
で、かつ、外側層ほど厚く形成されており、剛性および
靱性に非常に優れている。
As described above, in this embodiment, the thickness of the upper and lower outermost metal core materials 6, 10 is larger than the average of the total thickness of the five metal core materials 6 to 10. Moreover,
The five-layer metal core materials 6 to 10 are vertically symmetrical in thickness, and are formed to be thicker toward the outer layer, and are extremely excellent in rigidity and toughness.

【0021】図3は本発明の多層配線基板の他の実施の
形態を示している。この実施の形態では、図1に示す多
層配線基板において、各両面回路基板1〜5のメタルコ
ア材6〜10の厚みがそれぞれ異なっている(ただし、
上下両最外層のメタルコア材6,10の厚みが5層のメ
タルコア材6〜10の総厚みの平均値より大きく形成さ
れている)。それ以外の部分は上記実施の形態と同様で
あり、同様の部分には同じ符号を付している。この実施
の形態でも、上下両最外層のメタルコア材6,10の厚
みが5層のメタルコア材6〜10の総厚みの平均値より
大きいため、剛性および靱性に優れている。
FIG. 3 shows another embodiment of the multilayer wiring board of the present invention. In this embodiment, in the multilayer wiring board shown in FIG. 1, the thicknesses of the metal core members 6 to 10 of the double-sided circuit boards 1 to 5 are different from each other (however,
The thickness of the upper and lower outermost metal core materials 6 and 10 is formed larger than the average value of the total thickness of the five metal core materials 6 to 10). Other parts are the same as those of the above-described embodiment, and the same parts are denoted by the same reference numerals. Also in this embodiment, since the thickness of the metal core members 6 and 10 of the upper and lower outermost layers is larger than the average value of the total thickness of the metal core members 6 to 10 of the five layers, the rigidity and the toughness are excellent.

【0022】つぎに、実施例を比較例と併せて説明す
る。
Next, examples will be described together with comparative examples.

【0023】[0023]

【実施例および比較例】絶縁層31である厚み13μm
のポリイミドと厚み18μmの圧延銅箔32とからなる
二層基材33、メタルコア材34として所定の厚みの3
6Alloy、およびこれらを接着一体化するための厚
み35μmのポリイミド系熱可塑性接着剤35をプレス
により熱圧着し(図4参照)、10層の評価用モデル基
板を作製した(図5参照)。そして、この評価用モデル
基板において、メタルコア材34の厚みを下記の表1,
表2に示す値に設定することにより、9枚の評価用モデ
ル基板(実施例1〜5品,比較例1〜4品)を作製し
た。
EXAMPLES AND COMPARATIVE EXAMPLES The thickness of the insulating layer 31 is 13 μm.
A two-layer substrate 33 composed of a polyimide and a rolled copper foil 32 having a thickness of 18 μm;
6Alloy and a 35 μm-thick polyimide-based thermoplastic adhesive 35 for bonding and integrating them were thermocompression-bonded by a press (see FIG. 4) to produce a 10-layer model substrate for evaluation (see FIG. 5). Then, in this evaluation model substrate, the thickness of the metal core material 34 was set as shown in Table 1 below.
By setting the values shown in Table 2, nine evaluation model substrates (Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4) were produced.

【0024】そして、各評価用モデル基板を幅30mm
に切り出し、支点間距離20mm,ヘッドスピード5m
m/minとした曲げ弾性をJIS−K6911に準じ
て測定した。ただし、曲げ弾性は、S−Sカーブの初期
弾性であり、荷重値(N)そのものを変位量(mm)で
除した値で表わしている。なお、下記表1,表2におい
て、第1層とは最下側層のメタルコア材34で、第2層
〜第4層とは、下側から2番目,3番目,4番目にある
メタルコア材34で、第5層とは最上側層のメタルコア
材34であり、各メタルコア材34の厚みが下記表1,
表2に示されている。また、下記表1,表2において、
「−」で示した欄は、メタルコア材34を設けていない
ことを示している。ただし、上記比較例1,2品は実施
例1〜4品に対する比較例であり、比較例3,4品は実
施例5品に対する比較例である。
Each model board for evaluation is 30 mm wide.
Cut into pieces, distance between fulcrums 20mm, head speed 5m
The bending elasticity at m / min was measured according to JIS-K6911. However, the bending elasticity is the initial elasticity of the SS curve, and is represented by a value obtained by dividing the load value (N) itself by the displacement amount (mm). In Tables 1 and 2 below, the first layer is the lowermost metal core material 34, and the second to fourth layers are the second, third, and fourth metal core materials from the lower side. In FIG. 34, the fifth layer is the uppermost metal core material 34, and the thickness of each metal core material 34 is as shown in Table 1 below.
It is shown in Table 2. In Tables 1 and 2 below,
The column indicated by "-" indicates that the metal core material 34 is not provided. However, the comparative examples 1 and 2 are comparative examples with respect to the products of Examples 1 to 4, and the comparative examples 3 and 4 are comparative examples with respect to the product of Example 5.

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【0026】[0026]

【表2】 [Table 2]

【0027】上記の表1,表2から明らかなように、上
記実施例1〜5品は、初期弾性において、比較例1〜4
品より優れており、剛性に優れている。
As is clear from Tables 1 and 2, the products of Examples 1 to 5 are different from Comparative Examples 1 to 4 in initial elasticity.
It is superior to the product and has excellent rigidity.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上のように、本発明の多層配線基板に
よれば、多層配線基板を構成するメタルコア層を3層以
上に分散し、これら3層以上のメタルコア層の、最外層
のメタルコア層の厚みd(両最外層のメタルコア層の厚
みが異なる場合には、薄い方のメタルコア層の厚みをd
で表わす)が全メタルコア層の厚みの総和Dに対し、上
記の式(1)を満たしているため、剛性がアップし、こ
れにより、厚み増加と重量増加とを低く抑えることがで
き、しかも、剛性と靱性とを兼ね備えた多層配線基板を
得ることができる。
As described above, according to the multilayer wiring board of the present invention, the metal core layers constituting the multilayer wiring board are dispersed into three or more layers, and the outermost metal core layer of the three or more metal core layers is dispersed. (If the thicknesses of the outermost metal core layers are different, the thickness of the thinner metal core layer is d
) Satisfies the above expression (1) with respect to the total sum D of the thicknesses of all the metal core layers, so that the rigidity is increased, whereby the thickness increase and the weight increase can be suppressed low. A multilayer wiring board having both rigidity and toughness can be obtained.

【0029】本発明において、両最外層のメタルコア層
の厚みが他のどの層のメタルコア材よりも厚く形成され
ている場合には、両最外層のメタルコア層により、多層
配線基板の剛性が、多層配線基板の中央部分より外側部
分で強くなり、剛性と靱性とに優れた多層配線基板を得
ることができる。
In the present invention, when the outermost metal core layers are formed thicker than any other metal core material, the rigidity of the multilayer wiring board is reduced by the outermost metal core layers. A multilayer wiring board having excellent rigidity and toughness can be obtained because the strength is higher at the outer part than at the center of the wiring board.

【0030】また、本発明において、外側層のメタルコ
ア層ほど厚みが厚く形成されている場合には、多層配線
基板の剛性を、多層配線基板の中央部分から外側部分に
向かって徐々にアップさせることができるため、同様の
効果が得られる。なお、本発明において、「外側層のメ
タルコア層ほど厚みを厚く形成する」とは、中央層のメ
タルコア層(中央層のメタルコア層とは、メタルコア層
が奇数層ある場合には、中央にある1つのメタルコア層
を指し、メタルコア層が偶数層ある場合には、中央にあ
る2つのメタルコア層を指す)の上部もしくは下部にお
いて、内側にあるメタルコア層より外側にあるメタルコ
ア層の方が厚みが厚い場合を含む意味である。
In the present invention, when the outer metal core layer is formed so as to be thicker, the rigidity of the multilayer wiring board is gradually increased from the central portion to the outer portion of the multilayer wiring board. Therefore, a similar effect can be obtained. In the present invention, “the outer core metal core layer is formed so as to be thicker” means that the metal core layer of the central layer (the metal core layer of the central layer is the central metal core layer when there are an odd number of metal core layers). (In the case of an even number of metal core layers, it indicates the two metal core layers in the center.) In the upper or lower part, the outer metal core layer is thicker than the inner metal core layer. It is a meaning including.

【0031】さらに、本発明において、上記複数層のメ
タルコア層が、その厚みにおいて上下対称となるように
配設されている場合には、多層配線基板に対し、上下い
ずれの方向から外力が作用しても、同等の剛性と靱性と
を発揮することができる。
Further, in the present invention, when the plurality of metal core layers are arranged so as to be vertically symmetrical in the thickness, external force acts on the multilayer wiring board from either the upper or lower direction. However, equivalent rigidity and toughness can be exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の多層配線基板の一実施の形態を示す断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a multilayer wiring board of the present invention.

【図2】両面回路基板を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a double-sided circuit board.

【図3】本発明の多層配線基板の他の実施の形態を示す
断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.

【図4】評価用モデル基板の製法を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing a method of manufacturing a model board for evaluation.

【図5】上記評価用モデル基板を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing the evaluation model substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

6〜10 メタルコア材 16〜20 絶縁層 21〜25 回路層 6-10 Metal core material 16-20 Insulation layer 21-25 Circuit layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 泰史 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 桶結 卓司 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 中村 圭 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 Fターム(参考) 5E346 AA03 AA06 AA32 CC10 EE12 FF45 GG28 HH11  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yasushi Inoue 1-2-1, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nitto Denko Corporation (72) Inventor Takuji Okei 1-1-2 Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka No. Nitto Denko Corporation (72) Inventor Kei Nakamura 1-1-2 Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nitto Denko Corporation F-term (reference) 5E346 AA03 AA06 AA32 CC10 EE12 FF45 GG28 HH11

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機高分子樹脂からなる絶縁層、配線導
体、およびn層(n≧3の整数)のメタルコア層を有す
る多層配線基板であって、最外層のメタルコア層の厚み
d(両最外層のメタルコア層の厚みが異なる場合には、
薄い方のメタルコア層の厚みをdで表わす)が全メタル
コア層の厚みの総和Dに対し、下記の式(1)を満たし
ていることを特徴とする多層配線基板。 【式1】d>D/n……(1)
1. A multilayer wiring board having an insulating layer made of an organic polymer resin, a wiring conductor, and an n-layer (n.gtoreq.3) metal core layer, wherein the outermost metal core layer has a thickness d (both outermost metal core layers). If the thickness of the outer metal core layer is different,
Wherein the thickness of the thinner metal core layer is represented by d) with respect to the total thickness D of all metal core layers, and satisfies the following expression (1). Formula 1 d> D / n (1)
【請求項2】 両最外層のメタルコア層の厚みが他のど
の層のメタルコア層よりも厚く形成されている請求項1
記載の多層配線基板。
2. The two outermost metal core layers are formed to be thicker than any other metal core layer.
The multilayer wiring board as described in the above.
【請求項3】 外側層のメタルコア層ほど厚みが厚く形
成されている請求項1または2記載の多層配線基板。
3. The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the outer metal core layer is formed to have a larger thickness.
【請求項4】 メタルコア層が、その厚みにおいて上下
対称となるように配設されている請求項1〜3のいずれ
か一項に記載の多層配線基板。
4. The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the metal core layer is disposed so as to be vertically symmetrical in its thickness.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2012124421A1 (en) * 2011-03-14 2012-09-20 株式会社村田製作所 Flexible multilayer substrate
JP5715237B2 (en) * 2011-03-14 2015-05-07 株式会社村田製作所 Flexible multilayer board

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