JP2001283724A - Blast mask ink and rib formaton method for plasma display panel therewith - Google Patents

Blast mask ink and rib formaton method for plasma display panel therewith

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JP2001283724A
JP2001283724A JP2000100581A JP2000100581A JP2001283724A JP 2001283724 A JP2001283724 A JP 2001283724A JP 2000100581 A JP2000100581 A JP 2000100581A JP 2000100581 A JP2000100581 A JP 2000100581A JP 2001283724 A JP2001283724 A JP 2001283724A
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JP
Japan
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rib
blast
blast mask
material layer
mask ink
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Application number
JP2000100581A
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Japanese (ja)
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Naoki Goto
直樹 後藤
Sukeyuki Nishimura
祐行 西村
Yozo Kosaka
陽三 小坂
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for making a rib of a desired form when making the rib for a plasma display panel in a sand blast method using a permeation type blast mask. SOLUTION: After patterning on a rib material layer 12 formed on a substratell, a blast mask ink that permeates into the rib material layer 12 and its blast rate of permeated portion 13 is designed to be around 0-0.8 times the rib material layer is applied. By permeating into the lower layer of rib material layer 12, a permeated portion is scraped gradually, but is maintained to have the said blast rate. When making the rib for the plasma display panel through the sand blast process, the permeation type blast mask can be formed. The permeated portion is scraped off to some extent for making a differentiated step.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、気体放電を用いた
自発光形式のフラットディスプレイとしてのプラズマデ
ィスプレイパネル(以下、PDPと記す)の技術分野に
属し、詳しくはPDPを構成するリブの形成技術に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of a plasma display panel (hereinafter, referred to as a PDP) as a self-luminous type flat display using gas discharge, and more specifically, a technique for forming ribs constituting a PDP. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、PDPは、2枚の対向するガラ
ス基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、
その間にNe,Xe等を主体とする希ガスを封入した構
造になっている。そしてこれらの電極間に電圧を印加
し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることに
より各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報を表示するためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間に露
出している直流型(DC型)と絶縁層に覆われている交
流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方式の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式に分類される。
2. Description of the Related Art In general, a PDP is provided with a pair of electrodes arranged regularly on two opposing glass substrates, respectively.
In the meantime, a rare gas mainly composed of Ne, Xe, or the like is sealed. Then, a voltage is applied between these electrodes, and a discharge is generated in minute cells around the electrodes to cause each cell to emit light and display is performed. In order to display information, cells arranged regularly are selectively discharged and emitted. There are two types of PDPs, a direct current type (DC type) in which the electrodes are exposed to the discharge space, and an alternating current type (AC type) in which the electrodes are covered with an insulating layer. And a refresh driving method and a memory driving method.

【0003】図1にAC型PDPの一構成例を示す。こ
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図
示のように2枚のガラス基板1,2が互いに平行に且つ
対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基
板2上に互いに平行に設けられたリブ3により一定の間
隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス
基板1の背面側には透明電極である維持電極4と金属電
極であるバス電極5とで構成される複合電極が互いに平
行に形成され、これを覆って誘電体層6が形成されてお
り、さらにその上に保護層7(MgO層)が形成されて
いる。また、背面板となるガラス基板2の前面側には前
記複合電極と直交するようにリブ3の間に位置してアド
レス電極8が互いに平行に形成されており、これを覆っ
て誘電体層9が形成され、さらにリブ3の壁面とセル底
面を覆うようにして蛍光体10が設けられている。そし
て、カラー表示を行うため、各リブ3の間にはRGB各
色で発光する蛍光体材料の一つが充填され、背面板はそ
のRGB各色のストライプ状の蛍光面が3つからなる組
を多数配列した構造となる。
FIG. 1 shows a configuration example of an AC type PDP. This figure shows the front plate and the back plate separated from each other. As shown in the figure, two glass substrates 1 and 2 are arranged in parallel and opposed to each other, and both become the back plate. The ribs 3 provided on the glass substrate 2 in parallel with each other are held at regular intervals. On the back side of the glass substrate 1 serving as a front plate, composite electrodes composed of a sustain electrode 4 which is a transparent electrode and a bus electrode 5 which is a metal electrode are formed in parallel with each other, and a dielectric layer 6 is covered thereover. The protective layer 7 (MgO layer) is further formed thereon. On the front side of the glass substrate 2 serving as the back plate, address electrodes 8 are formed between the ribs 3 so as to be orthogonal to the composite electrodes and are formed in parallel with each other. Are formed, and a phosphor 10 is provided so as to cover the wall surface of the rib 3 and the cell bottom surface. In order to perform color display, one of the phosphor materials that emits light in each of the RGB colors is filled between the ribs 3, and the back plate has a large number of sets of three striped phosphor screens of each of the RGB colors. Structure.

【0004】このAC型PDPは面放電型であって、ア
ドレス電極8により書き込みを行った後、前面板上の複
合電極に交流電圧を印加し、空間に生成した電界により
放電させる構造である。この場合、交流をかけているた
めに電界の向きは周波数に対応して変化する。そしてこ
の放電により生じる紫外線により蛍光体10を発光さ
せ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっ
ている。
The AC type PDP is of a surface discharge type, and has a structure in which, after writing is performed by an address electrode 8, an AC voltage is applied to a composite electrode on the front panel to discharge by an electric field generated in a space. In this case, since the alternating current is applied, the direction of the electric field changes according to the frequency. Then, the phosphor 10 emits light by the ultraviolet light generated by the discharge, so that an observer can visually recognize the light transmitted through the front plate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】一般にPDPにおいて
は、蛍光面を発光させた時の輝度を高めることが重要な
課題の一つになっている。そして、輝度を高めるために
各種の方法が提案されているが、決定的な解決策はな
く、複数の方法の積み重ねにより少しずつ輝度が高めら
れている。その一つとして、蛍光面の発光面積を広くす
ることは、その蛍光面に紫外線が効率よく作用する等に
より発光効率が改善され、輝度が高くなることにつなが
る点で有効である。ところが、上記したような構造のA
C型PDPでは、蛍光体10は両側にあるリブ3の壁面
とセル底面を覆うようにして設けられており、蛍光面は
3面にだけ跨がって形成されているので発光面積が制約
されている。
Generally, in PDPs, it is one of the important issues to increase the luminance when the phosphor screen emits light. Various methods have been proposed to increase the brightness, but there is no definitive solution, and the brightness is gradually increased by stacking a plurality of methods. As one of them, increasing the light emitting area of the phosphor screen is effective in that the luminous efficiency is improved due to the efficient operation of ultraviolet light on the phosphor screen and the luminance is increased. However, A of the above structure
In the C-type PDP, the phosphor 10 is provided so as to cover the wall surfaces of the ribs 3 on both sides and the cell bottom surface, and the phosphor surface is formed so as to extend over only three surfaces, so that the light emitting area is restricted. ing.

【0006】そこで、蛍光面を発光させた場合の輝度を
高めることが可能なPDPのリブ形状に関する発明がな
されている。例えば、特開平10−321148号公報
には、縦方向のリブに直交する横方向のリブ(補助隔
壁)を設けることにより、表示セル部の四方が囲まれる
ようにし、発光面積を増やすようにしたものが提案され
ている。しかし、上記の公報には、リブの形成方法につ
いては限定的な記載にとどまり、必ずしも良い選択肢が
与えられていない。
Therefore, there has been proposed an invention relating to a rib shape of a PDP capable of increasing luminance when a fluorescent screen is made to emit light. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-32148, a horizontal rib (auxiliary partition) perpendicular to a vertical rib is provided so that four sides of a display cell portion are surrounded, and a light emitting area is increased. Things have been suggested. However, in the above publication, the method of forming the ribs is limited and is not necessarily given a good option.

【0007】一方、上述の公報に記載された形状のリブ
を含め、蛍光面を発光させた場合の輝度を高めることが
できる複雑な形状のリブを形成する方法として、浸透型
ブラストマスクを利用したサンドブラスト法が新たに考
えられている。
On the other hand, a penetrating blast mask is used as a method for forming a rib having a complicated shape capable of increasing the luminance when the fluorescent screen is illuminated, including the rib having the shape described in the above-mentioned publication. The sandblasting method has been newly considered.

【0008】この新たなサンドブラスト法は、基本的に
は、ドライフィルムレジストなどの通常のレジストで形
成した被覆型ブラストマスクを縦リブ形成用に用いると
ともに、リブ材料層に浸透するインキ組成物で形成した
浸透型ブラストマスクを横リブ形成用として使用する方
法である。このような2種類のブラストマスクを形成し
たリブ材料層にサンドブラスト処理を行うと、インキ組
成物が浸透した部分はある程度削られるので、一回のブ
ラスト工程で縦リブと横リブに段差の形成が可能であ
る。また、通常の被覆型レジストマスクに加え、2種以
上の異なるインキ組成物で形成した浸透型ブラストマス
クを組み合わせることで、より少ない工程で(例えば一
回のブラスト工程)で、高さの異なるそれぞれパターニ
ングされたリブの形成が可能となる。そして、このよう
なサンドブラスト法においては、浸透型ブラストマスク
を形成するインキ組成物の選択がリブ形成の良否を決定
することになる。
This new sandblasting method basically uses a coating type blast mask formed of a normal resist such as a dry film resist for forming vertical ribs and an ink composition penetrating a rib material layer. This is a method of using the immersion type blast mask for forming horizontal ribs. When sand blasting is performed on the rib material layer on which such two types of blast masks are formed, a portion where the ink composition has penetrated is cut to some extent, so that a step is formed between the vertical ribs and the horizontal ribs in one blasting process. It is possible. In addition, by combining a penetration type blast mask formed of two or more different ink compositions in addition to a normal coating type resist mask, each of the different heights can be achieved in a smaller number of steps (for example, one blast step). It becomes possible to form patterned ribs. And in such a sandblasting method, the selection of the ink composition which forms the penetration type blast mask determines the quality of the rib formation.

【0009】本発明は、上記のような背景に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、浸透型ブラ
ストマスクを利用したサンドブラスト法でPDPのリブ
を形成するに際し、所望形状のリブを形成することので
きるブラストマスクインキを提供し、併せてそれを使用
したPDPのリブ形成方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above background, and an object of the present invention is to form a rib of a desired shape when forming a rib of a PDP by a sandblast method using a permeation type blast mask. An object of the present invention is to provide a blast mask ink capable of forming a PDP and a method for forming a rib of a PDP using the blast mask ink.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のブラストマスクインキは、PDPのリブを
サンドブラスト法により形成する際に使用されるブラス
トマスクインキであって、基板上に形成したリブ材料層
の上にパターニングした後、リブ材料層に浸透し、その
浸透部分のブラストレートがリブ材料層の0〜0.8倍
の範囲となることを特徴とするものである。そして、横
リブの高さを制御するためには、ブラストレートがリブ
材料層の0〜0.5倍の範囲にあることが好ましい。
In order to achieve the above object, a blast mask ink of the present invention is a blast mask ink used when forming a rib of a PDP by a sand blast method, and is formed on a substrate. After patterning on the formed rib material layer, the rib material layer penetrates the rib material layer, and the blast rate of the permeated portion is in the range of 0 to 0.8 times the rib material layer. In order to control the height of the horizontal rib, the blast rate is preferably in the range of 0 to 0.5 times the rib material layer.

【0011】そして、下層のリブ材料層に浸透すること
で、浸透部分は少しずつ削れながらも、前記のブラスト
レートを維持できる。
Then, by penetrating into the lower rib material layer, the above-mentioned blast rate can be maintained while the penetrated portion is being scraped little by little.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明のブラストマスクインキ
は、基板上に形成したリブ材料層に対する浸透性を有す
る。また、ブラストマスクインキは、リブ材料層に浸透
した後では、サンドブラスト処理に対する適度な難研削
性を有し、低いリブを形成することができる。また、焼
成工程において焼失する焼失性も有している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The blast mask ink of the present invention has permeability to a rib material layer formed on a substrate. Also, after the blast mask ink has penetrated into the rib material layer, the blast mask ink has appropriate grinding resistance to sand blasting and can form low ribs. In addition, it also has a burning property of burning out in the firing step.

【0013】ここでブラストマスクインキの浸透性と
は、リブ材料層の表面から浸透して所定の深さに達し、
ブラストマスクを形成する浸透性のことである。この浸
透性は、ブラストマスクインキの流動性、乾燥性、リブ
材料層との親和性等によって決まる。すなわち、ブラス
トマスクインキの組成や調整方法によっ所望の浸透性が
得られる。
[0013] Here, the permeability of the blast mask ink means that it penetrates from the surface of the rib material layer to reach a predetermined depth,
Permeability to form a blast mask. This permeability depends on the fluidity, drying property, affinity with the rib material layer, etc. of the blast mask ink. That is, a desired permeability can be obtained depending on the composition and the adjustment method of the blast mask ink.

【0014】また、ここで適度な難研削性とは、そのブ
ラストマスクインキを使用して形成したブラストマスク
の適度な難研削性である。すなわち、適度な難研削性と
はサンドブラスト処理において所定の深さまで研削さ
れ、その深さ以上には研削され難いブラストマスクが得
られるブラストマスクインキの特性のことである。
[0014] The term "appropriate grindability" as used herein refers to an appropriate grindability of a blast mask formed using the blast mask ink. That is, the moderately difficult grindability refers to the characteristic of the blast mask ink that is ground to a predetermined depth in the sand blasting process, and a blast mask that is hard to grind beyond the depth is obtained.

【0015】また、ここで焼失性とは、そのブラストマ
スクインキを使用して形成したブラストマスクの焼失性
である。すなわち、焼失性とは、焼成工程においてリブ
及び基板における残留分が問題とならない量まで減少
し、かつ焼成工程においてリブ中に気泡などの物理的・
化学的問題を発生させないブラストマスクインキの特性
のことである。
[0015] Here, the term "burnout property" refers to the burnout property of a blast mask formed using the blast mask ink. That is, the burning property means that the residual amount in the ribs and the substrate in the firing step is reduced to an amount that does not cause a problem, and the physical property such as bubbles in the ribs in the firing step is reduced.
A property of blast mask ink that does not cause chemical problems.

【0016】本発明のブラストマスクインキは、有機成
分100重量部に対して無機成分5〜60重量部である
インキ組成物からなることが好ましい。なぜなら、無機
成分が60重量部を越えると耐ブラスト性が悪くなり、
また縦リブとの交点部分に無機成分が多く残って形が変
形するようになり、逆に無機成分が5重量部に満たない
と印刷適性が悪くなるからである。
The blast mask ink of the present invention preferably comprises an ink composition containing 5 to 60 parts by weight of an inorganic component with respect to 100 parts by weight of an organic component. Because, when the inorganic component exceeds 60 parts by weight, the blast resistance deteriorates,
Also, a large amount of the inorganic component remains at the intersection with the vertical rib and the shape is deformed. Conversely, if the amount of the inorganic component is less than 5 parts by weight, the printability deteriorates.

【0017】そして、インキ組成物を構成する無機成分
がガラスフリットからなることが好ましい。すなわち、
縦リブとの交点に残った無機成分がガラスフリットの場
合、焼成するとリブと一体化するので疑似欠陥が少なく
なる。さらに、強度および密着性が向上する。アルミナ
などのフィラー単独の場合、粉状に残ってリブの形状が
不均一となる。例えば、アルミナが残った場合、リブの
欠陥検査で疑似欠陥が多く検出される。
It is preferable that the inorganic component constituting the ink composition comprises a glass frit. That is,
When the inorganic component remaining at the intersection with the vertical rib is a glass frit, it is integrated with the rib when fired, so that pseudo defects are reduced. Further, strength and adhesion are improved. In the case of a filler such as alumina alone, the rib remains in a powder form and the shape of the rib becomes uneven. For example, when alumina remains, many false defects are detected in the defect inspection of the rib.

【0018】また、インキ組成物を構成する無機成分が
ガラスフリット、無機フィラー、着色顔料からなること
が好ましい。このように、無機成分がリブと類似する成
分の場合、疑似欠陥がさらに少なくなる。
It is preferable that the inorganic component constituting the ink composition comprises a glass frit, an inorganic filler, and a coloring pigment. As described above, when the inorganic component is a component similar to the rib, pseudo defects are further reduced.

【0019】また、インキ組成物を構成する無機成分の
軟化点が下層リブの軟化点の±20℃の範囲内にあるの
が好ましい。すなわち、+20℃を越えると、焼結が甘
く強度が小さくなり、−20℃より低いと、だれるため
形状が悪くなる。
The softening point of the inorganic component constituting the ink composition is preferably within a range of ± 20 ° C. of the softening point of the lower rib. That is, when the temperature exceeds + 20 ° C., the sintering becomes sweet and the strength is reduced, and when the temperature is lower than −20 ° C., the shape is deteriorated due to sagging.

【0020】また、インキ組成物を構成する無機成分の
平均粒径が0.01〜5μmであることが好ましい。平
均粒径が5μmを越えると、リブ材料層に浸透した後、
その上に大きなフィラーが残るため、ドライフィルムラ
ミネートまたは縦リブ用ブラストマスク印刷に支障をき
たす。
The average particle size of the inorganic component constituting the ink composition is preferably from 0.01 to 5 μm. If the average particle size exceeds 5 μm, after penetrating the rib material layer,
Since a large filler remains on it, it hinders dry film lamination or blast mask printing for vertical ribs.

【0021】また、インキ組成物の溶剤が有機成分中5
0%以下であることが好ましい。すなわち、溶剤の浸透
が優先して浸透にムラがでやすいため、溶剤は入れない
方がよいが、入れる場合にも50%以下にする。
Further, the solvent of the ink composition contains 5% of the organic component.
It is preferably 0% or less. That is, it is preferable that the solvent is not introduced because the penetration of the solvent is prioritized and the penetration is likely to be uneven.

【0022】ブラストマスクインキに使用するインキ組
成物の粘度は回転粘度計によるシェアレート0.1S-1
にて10000〜200000cpsであることが好ま
しい。インキ組成物の粘度がこの範囲より高すぎると、
印刷適性が悪くなる。逆にインキ組成物の粘度がこの範
囲より低すぎると、印刷適性が悪くなり、浸透にムラが
出やすくなる。
The viscosity of the ink composition used for the blast mask ink is determined by a rotational viscometer with a shear rate of 0.1 S -1.
Is preferably 10,000 to 200,000 cps. If the viscosity of the ink composition is too high above this range,
Poor printability. Conversely, if the viscosity of the ink composition is too low, the printability will be poor, and uneven penetration will tend to occur.

【0023】また、ブラストマスクインキに使用するイ
ンキ組成物が電離放射線硬化型であっても構わない。
The ink composition used for the blast mask ink may be of an ionizing radiation curable type.

【0024】ブラストマスクインキを構成する有機成分
は、樹脂、可塑剤、モノマー、オリゴマーのうちの1種
類以上からなる。
The organic component constituting the blast mask ink comprises at least one of a resin, a plasticizer, a monomer and an oligomer.

【0025】ブラストマスクインキを構成する有機成分
の樹脂としては、ポリブテン、エステル樹脂、(メタ)
アクリル樹脂、(無水)マレイン酸樹脂、アルキッド樹
脂、(アリル)エーテル樹脂、ウレタン樹脂、シリコン
樹脂、シリコンオイル、ポリプロピレングリコール、ポ
リエチレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリ
ブタジエンなどが挙げられるが、これらに限定されるも
のではなく、これらのオリゴマーでもよい。形態として
は、液状または粘調液状樹脂が好ましく、また焼成工程
で焼失するものを使用する。
As the resin of the organic component constituting the blast mask ink, polybutene, ester resin, (meth)
Acrylic resin, (anhydrous) maleic acid resin, alkyd resin, (allyl) ether resin, urethane resin, silicone resin, silicone oil, polypropylene glycol, polyethylene glycol, polybutylene glycol, polybutadiene, and the like, but are not limited thereto. Instead, these oligomers may be used. As a form, a liquid or viscous liquid resin is preferable, and a resin that is burned off in the firing step is used.

【0026】ブラストマスクインキに使用するインキ組
成物は、上記した有機成分と無機成分の他に、分散剤、
増粘剤、チキソ剤、消泡剤、粘着剤、染料、重合開始
剤、増感剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。
The ink composition used for the blast mask ink includes, in addition to the organic and inorganic components described above, a dispersant,
Thickeners, thixotropic agents, defoamers, adhesives, dyes, polymerization initiators, sensitizers, ultraviolet absorbers, and the like may be added.

【0027】ブラストマスクインキのリブ材料層上への
パターニング方法としては、スクリーン印刷が好ましい
が、オフセット印刷、ディスペンス方式、グラビア印
刷、電界をかけたディスペンス方式など任意の方法を採
用しても構わない。また、リブ材料層の上にパターニン
グしたブラストマスクインキは、放置しておくと浸透す
る場合もあるが、リブ材料層に浸透しない場合や浸透が
遅い場合には加熱して浸透を促すようにしてもよい。
As a method of patterning the blast mask ink on the rib material layer, screen printing is preferable, but any method such as offset printing, dispensing method, gravure printing, and dispensing method using an electric field may be adopted. . Also, the blast mask ink patterned on the rib material layer may penetrate if left untreated, but if it does not penetrate into the rib material layer or if it penetrates slowly, heat it to promote penetration. Is also good.

【0028】上記したブラストマスクインキを用いたリ
ブ形成方法について図2を参照して説明する。この図2
において、左側の図はアドレス電極と平行方向の断面図
であり、右側の図はアドレス電極と直交する方向の断面
図である。
A method for forming a rib using the above blast mask ink will be described with reference to FIG. This figure 2
In the figure, the drawing on the left is a sectional view in a direction parallel to the address electrodes, and the drawing on the right is a sectional view in a direction perpendicular to the address electrodes.

【0029】まず、図2(a)に示すように、基板11
にリブペーストを塗工して全面ベタのリブ材料層12を
形成する。次に、図2(b)に示すように、リブ材料層
12に対する浸透性を有するブラストマスクインキをパ
ターン印刷し、リブ材料層12の表面から浸透させて浸
透型ブラストマスク13を形成する。なお、図2(b)
では、ブラストマスクインキの印刷方式として、スクリ
ーン印刷版MとスキージSを用いたスクリーン印刷方式
が示されている。
First, as shown in FIG.
To form a rib material layer 12 which is entirely solid. Next, as shown in FIG. 2B, a blast mask ink having permeability to the rib material layer 12 is pattern-printed, and the blast mask ink is permeated from the surface of the rib material layer 12 to form a permeation type blast mask 13. FIG. 2 (b)
Discloses a screen printing method using a screen printing plate M and a squeegee S as a printing method of blast mask ink.

【0030】次いで、図2(c)に示すように、浸透型
ブラストマスク13を形成済みのリブ材料層12の表面
に被覆型ブラストマスク14を形成する。続いて、図2
(d)に示すように、浸透型ブラストマスク13と被覆
型ブラストマスク14を介してリブ材料層12に対しサ
ンドブラスト処理を行う。このサンドブラスト処理によ
り、浸透型ブラストマスク13の部分は所定の深さまで
研削され、被覆型ブラストマスク14の部分は殆ど研削
されない。すなわち、浸透型ブラストマスク13は、表
面から浸透することにより、深い位置において実質的な
機能を果たすレジストである。一方、被覆型ブラストマ
スク14は、表面において機能する通常のレジストであ
る。次に、図2(e)に示すように、被覆型ブラストマ
スク14を剥離してから、リブ材料層を焼成する。これ
により、縦リブ15の間に補助リブとしての横リブ16
が設けられたリブ構造が得られる。
Next, as shown in FIG. 2C, a coating type blast mask 14 is formed on the surface of the rib material layer 12 on which the permeation type blast mask 13 has been formed. Subsequently, FIG.
As shown in (d), a sand blasting process is performed on the rib material layer 12 through the penetration type blast mask 13 and the covering type blast mask 14. By this sand blasting, the portion of the penetration type blast mask 13 is ground to a predetermined depth, and the portion of the coating type blast mask 14 is hardly ground. That is, the permeation type blast mask 13 is a resist that permeates from the surface and performs a substantial function at a deep position. On the other hand, the coating type blast mask 14 is a normal resist that functions on the surface. Next, as shown in FIG. 2E, the coating type blast mask 14 is peeled off, and the rib material layer is fired. Thereby, the horizontal ribs 16 as auxiliary ribs are provided between the vertical ribs 15.
Is obtained.

【0031】上述したリブ形成方法において、リブ材料
層の表面に、異なる複数種のブラストマスクインキをそ
れぞれパターン印刷して浸透させることでブラストレー
トの異なる複数の浸透型ブラストマスクを形成すれば、
一回のサンドブラスト処理により、2種以上の高さでパ
ターニングされたリブを形成することができる。
In the above-described rib forming method, if a plurality of different types of blast mask inks are respectively printed on the surface of the rib material layer by pattern printing and penetrated to form a plurality of blast masks having different blast rates,
By one sandblasting process, two or more types of patterned ribs can be formed.

【0032】被覆型ブラストマスク14は公知の方法で
形成することができる。例えば、リブ材料層12に対し
て被膜形成性を有する印刷ペーストを用いて印刷により
浸透型レジストマスクを形成済みのリブ材料層12の表
面に形成することができる。或いは、リブ材料層12の
表面にドライフィルムレジストを貼り付け、フォトマス
クを介してそのドライフィルムを露光し、それに続けて
現像を行ってドライフィルムレジストにおいてリブとな
る部分を残すことで形成できる。
The blast mask 14 can be formed by a known method. For example, a permeation type resist mask can be formed on the surface of the formed rib material layer 12 by printing using a printing paste having a film forming property with respect to the rib material layer 12. Alternatively, it can be formed by sticking a dry film resist on the surface of the rib material layer 12, exposing the dry film through a photomask, and performing subsequent development to leave a portion of the dry film resist to be a rib.

【0033】図3は上記したリブ形成方法で得られるリ
ブを有する背面板の一部分を示す斜視図である。図3に
示した背面板のリブは、縦リブ15の間に補助リブとし
ての横リブ16を直交して設けており、しかも横リブ1
6が縦リブ15より低くなった段差マトリックス構造で
ある。同図では基板11上に設けられるアドレス電極及
び誘電体層を省略している。縦リブ15はアドレス電極
の間にかつアドレス電極と平行に形成される。横リブ1
6は前面板のバス電極と背面板のアドレス電極とにより
特定される放電空間としてのセル空間17を区画するよ
うに形成される。このような形状で縦リブ15と横リブ
16が形成された後、縦リブ15及び横リブ16の壁面
とセル底面を覆うようにして蛍光体が設けられることで
背面板が完成する。このタイプの背面板は、セル空間1
7が縦リブ15と横リブ16によって四方が囲まれた状
態になり、蛍光面の発光面積は横リブが存在しないスト
ライプ構造の場合に比べて大きくなる。したがって、放
電によりセル空間17内に生じる紫外線が四方の蛍光体
に作用するため高い輝度が得られる。また、横リブ16
によりアドレス電極方向に隣接するセル空間17に対し
て放電や、放電により発生する紫外線が漏洩することを
防止できる。すなわち、縦リブ15と横リブ16は、ア
ドレス電極とバス電極によって特定される放電空間を他
の空間から分離する。したがって、PDPの画質が向上
する。なお、横リブ16の上にある空間は、パネル化時
の排気を通す役目を果たす。
FIG. 3 is a perspective view showing a part of a back plate having ribs obtained by the above-described rib forming method. The ribs on the back plate shown in FIG. 3 are provided with horizontal ribs 16 as auxiliary ribs at right angles between the vertical ribs 15 and the horizontal ribs 1.
Reference numeral 6 denotes a step matrix structure lower than the vertical ribs 15. In FIG. 1, the address electrodes and the dielectric layers provided on the substrate 11 are omitted. The vertical ribs 15 are formed between the address electrodes and in parallel with the address electrodes. Side rib 1
Numeral 6 is formed so as to define a cell space 17 as a discharge space specified by the bus electrodes on the front panel and the address electrodes on the rear panel. After the vertical ribs 15 and the horizontal ribs 16 are formed in such a shape, the phosphor is provided so as to cover the wall surfaces of the vertical ribs 15 and the horizontal ribs 16 and the cell bottom surface, thereby completing the rear plate. This type of back plate has a cell space 1
7 is surrounded on all sides by the vertical ribs 15 and the horizontal ribs 16, and the light emitting area of the phosphor screen is larger than that in the case of a stripe structure having no horizontal ribs. Accordingly, since the ultraviolet rays generated in the cell space 17 due to the discharge act on the phosphors on all sides, high luminance can be obtained. Also, the horizontal rib 16
Accordingly, it is possible to prevent discharge or ultraviolet rays generated by the discharge from leaking to the cell space 17 adjacent in the address electrode direction. That is, the vertical ribs 15 and the horizontal ribs 16 separate the discharge space specified by the address electrode and the bus electrode from other spaces. Therefore, the image quality of the PDP is improved. Note that the space above the horizontal ribs 16 serves to pass exhaust gas when the panel is formed.

【0034】図3に示す形状のリブは、図2のリブ形成
方法において、浸透型ブラストマスク13を横リブだけ
のパターンとし、被覆型ブラストマスク14を縦リブの
パターンとすることにより形成することができる。その
場合において、横リブに対応する浸透型ブラストマスク
13のパターンは、縦リブを貫通する連続したストライ
プパターンとする。これにより、形状歪みがないか、あ
っても形状歪みの小さいリブを形成することができる。
The ribs having the shape shown in FIG. 3 are formed by forming the permeation type blast mask 13 into a pattern of only horizontal ribs and the covering type blast mask 14 into a pattern of vertical ribs in the rib forming method of FIG. Can be. In that case, the pattern of the penetration type blast mask 13 corresponding to the horizontal rib is a continuous stripe pattern penetrating the vertical rib. This makes it possible to form a rib having no or little shape distortion.

【0035】図4は上記したリブ形成方法で得られる別
の形状のリブを有する背面板の一部分を示す斜視図であ
る。図4に示した背面板のリブは、縦リブ15の間に補
助リブとしての横リブ16を直交して設けており、しか
も横リブ16が中程で縦リブ15より低くなった段差マ
トリックス構造である。すなわち、横リブ16は縦リブ
15の長手方向から見た側面形状が凹型になっている。
この凹型形状により前述と同様の作用を得ることができ
る。すなわち、蛍光面の発光面積が大きくなり紫外線が
効率よく蛍光面に作用するため輝度が高まる。また、横
リブ16によりアドレス電極方向に隣接するセル空間1
7に対して放電や、放電により発生する紫外線が漏洩す
ることを防止できる。すなわち、縦リブ15と横リブ1
6は、アドレス電極とバス電極によって特定される放電
空間を他の空間から分離するので、PDPの画質が向上
する。また、横リブ16の上にある空間は、パネル化時
の排気を通す役目を果たす。
FIG. 4 is a perspective view showing a part of a back plate having ribs of another shape obtained by the above-described rib forming method. The ribs on the back plate shown in FIG. 4 are provided with horizontal ribs 16 as auxiliary ribs at right angles between the vertical ribs 15, and the horizontal ribs 16 are intermediate and lower than the vertical ribs 15. It is. That is, the lateral rib 16 has a concave side shape when viewed from the longitudinal direction of the vertical rib 15.
With this concave shape, the same operation as described above can be obtained. That is, the light emitting area of the phosphor screen increases, and the ultraviolet light efficiently acts on the phosphor screen, so that the luminance increases. Further, the cell spaces 1 adjacent in the address electrode direction by the horizontal ribs 16 are formed.
7 can be prevented from leaking and ultraviolet rays generated by the discharge. That is, the vertical rib 15 and the horizontal rib 1
No. 6 separates the discharge space specified by the address electrode and the bus electrode from other spaces, so that the image quality of the PDP is improved. Further, the space above the horizontal ribs 16 serves to pass exhaust air when the panel is formed.

【0036】図4に示す形状のリブは、図2のリブ形成
方法において、浸透型ブラストマスク13を横リブだけ
のパターンとし、被覆型ブラストマスク14を縦リブの
全部と横リブの一部のパターンとすることにより形成す
ることができる。その場合において、横リブに対応する
浸透型ブラストマスク13のパターンは、縦リブを貫通
する連続したストライプパターンとする。これにより、
形状歪みがないか、あっても形状歪みの小さいリブを形
成することができる。
In the rib forming method shown in FIG. 4, in the rib forming method shown in FIG. 2, the penetration type blast mask 13 has a pattern of only horizontal ribs, and the coating type blast mask 14 has all the vertical ribs and a part of the horizontal ribs. It can be formed by forming a pattern. In that case, the pattern of the penetration type blast mask 13 corresponding to the horizontal rib is a continuous stripe pattern penetrating the vertical rib. This allows
It is possible to form a rib having no or little shape distortion.

【0037】図5は上記したリブ形成方法で得られるさ
らに別の形状のリブを有する背面板の一部分を示す斜視
図である。図5に示した背面板のリブは、縦リブ15の
間に補助リブとしての横リブ16を直交して設けてお
り、しかも横リブ16が縦リブ15より低く、また体積
が小さくなるように上面に凹部16aが設けられた段差
マトリックス構造である。すなわち、横リブ16は縦リ
ブ15と直交する方向から見た側面形状が凹型になって
いる。このタイプの背面板は、図3に示したのと同様、
蛍光面の発光面積が大きくなり紫外線が効率よく蛍光面
に作用するため輝度が高まる。また、横リブ16により
アドレス電極方向に隣接するセル空間17に対して放電
や、放電により発生する紫外線が漏洩することを防止で
きる。すなわち、縦リブ15と横リブ16は、アドレス
電極とバス電極によって特定される放電空間を他の空間
から分離するので、PDPの画質が向上する。また、横
リブ16の上にある空間は、パネル化時の排気を通す役
目を果たす。そして、横リブ16の表面に凹部16aを
設けているので、凹部16aを設けない場合に比べる
と、リブ全体の静電容量が減少し、無効電流が少なくな
る。。したがって、横リブ16の凹部16aはできるだ
け低くし、リブ全体の体積を小さくするのが望ましい。
FIG. 5 is a perspective view showing a part of a back plate having ribs of still another shape obtained by the above-described rib forming method. The ribs on the back plate shown in FIG. 5 are provided with horizontal ribs 16 as auxiliary ribs intersecting at right angles between the vertical ribs 15, and the horizontal ribs 16 are lower than the vertical ribs 15 and the volume is reduced. This is a step matrix structure in which a concave portion 16a is provided on the upper surface. That is, the lateral rib 16 has a concave side shape when viewed from a direction orthogonal to the vertical rib 15. This type of back plate is similar to that shown in FIG.
The light emission area of the phosphor screen is increased, and ultraviolet light efficiently acts on the phosphor screen, so that the luminance is increased. In addition, the lateral ribs 16 can prevent discharge and ultraviolet rays generated by the discharge from leaking to the cell space 17 adjacent in the address electrode direction. In other words, the vertical ribs 15 and the horizontal ribs 16 separate the discharge space specified by the address electrode and the bus electrode from other spaces, so that the image quality of the PDP is improved. Further, the space above the horizontal ribs 16 serves to pass exhaust air when the panel is formed. Since the concave portion 16a is provided on the surface of the lateral rib 16, the capacitance of the entire rib is reduced and the reactive current is reduced as compared with the case where the concave portion 16a is not provided. . Therefore, it is desirable to make the concave portion 16a of the lateral rib 16 as low as possible and to reduce the volume of the entire rib.

【0038】図5に示す形状のリブは、図2のリブ形成
方法において、浸透型ブラストマスク13を横リブの凹
部となる部分を除いて両サイドの部分だけに形成すると
ともに、被覆型ブラストマスク14を縦リブのパターン
とすることにより形成することができる。その場合にお
いて、横リブの両サイドに対応する浸透型ブラストマス
ク13のパターンは、縦リブを貫通する連続したストラ
イプパターンとする。そして、サンドブラスト処理を行
うと、セル空間が形成されるとともに、縦リブ15と横
リブ16に段差が形成され、しかも横リブ16の中程に
凹部16aが形成されることになる。この場合、セル空
間17のところは広いので深く研削されるが、横リブ1
6の凹部16aのところは狭いので、セル空間17の研
削時間ではそれほど深くは研削されない。
The ribs having the shape shown in FIG. 5 are formed by forming the permeation type blast mask 13 only on both sides of the rib forming method shown in FIG. 14 can be formed by forming a vertical rib pattern. In that case, the pattern of the penetration type blast mask 13 corresponding to both sides of the horizontal rib is a continuous stripe pattern penetrating the vertical rib. When the sand blasting is performed, a cell space is formed, a step is formed between the vertical ribs 15 and the horizontal ribs 16, and a concave portion 16a is formed in the middle of the horizontal ribs 16. In this case, since the cell space 17 is wide, it is deeply ground.
Since the recess 16a of No. 6 is narrow, the grinding is not so deep in the grinding time of the cell space 17.

【0039】なお、本発明のリブ形成方法によれば、図
3や図4に示した以外の構造をもったリブを形成するこ
とも可能である。
According to the rib forming method of the present invention, a rib having a structure other than those shown in FIGS. 3 and 4 can be formed.

【0040】リブ材料層を形成するリブペーストは、少
なくともガラスフリットを有する無機成分と焼成により
除去される樹脂成分とからなる。
The rib paste forming the rib material layer comprises at least an inorganic component having a glass frit and a resin component removed by firing.

【0041】リブペーストを構成するガラスフリットと
しては、その軟化点が400〜600℃であり、熱膨張
係数(α300 )が60〜95×10-7/℃のものを使用
する。軟化点が600℃を越えるガラスフリットを使用
すると焼成温度を高くする必要があり、その積層対象に
よっては熱変形したりするので好ましくなく、また軟化
点が400℃より低いガラスフリットを使用すると樹脂
等が分解、揮発する前にガラスフリットが融着し、層中
に空隙等の発生が生じるので好ましくない。また、熱膨
張係数が上記の範囲外であると、ガラス基板の熱膨張係
数との差が大きく、歪等を生じるので好ましくない。ガ
ラス転移温度は350〜500℃のものを使用する。
As the glass frit constituting the rib paste, one having a softening point of 400 to 600 ° C. and a thermal expansion coefficient (α 300 ) of 60 to 95 × 10 −7 / ° C. is used. If a glass frit having a softening point exceeding 600 ° C. is used, it is necessary to raise the sintering temperature, and it is not preferable because a glass frit having a softening point lower than 400 ° C. Glass frit is fused before it is decomposed and volatilized, and voids and the like are generated in the layer, which is not preferable. On the other hand, if the coefficient of thermal expansion is out of the above range, the difference from the coefficient of thermal expansion of the glass substrate is large, and distortion or the like occurs, which is not preferable. A glass transition temperature of 350 to 500 ° C is used.

【0042】リブペーストを構成するガラスフリットの
具体的なものとしては、PbO−SiO2 −B2
3 系、Bi2 3 −SiO2 −B2 3 系、ZnO−B
2 3 −SiO2 −アルカリ(土類)金属酸化物系、B
2 3 −ZnO−B2 3 系が挙げられる。これらの
ガラスフリットで、平均粒径が0.1〜10μm、好ま
しくは0.5〜5μmのものが使用される。
Specific examples of the glass frit constituting the rib paste include PbO—SiO 2 —B 2 O
3 system, Bi 2 O 3 -SiO 2 -B 2 O 3 system, ZnO-B
2 O 3 —SiO 2 —Alkaline (earth) metal oxide, B
i 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 systems. Among these glass frit, those having an average particle size of 0.1 to 10 μm, preferably 0.5 to 5 μm are used.

【0043】また、リブペーストには、無機成分とし
て、上記のガラスフリットの他に無機フィラーを加え
る。さらに無機顔料を加えてもよい。
In addition, an inorganic filler is added to the rib paste as an inorganic component in addition to the above-mentioned glass frit. Further, an inorganic pigment may be added.

【0044】リブペーストの無機成分としての無機フィ
ラーは、焼成に際しての流延防止、緻密性向上を目的と
するもので、ガラスフリットより軟化点が高いものであ
り、本発明では、例えば、チタニア、アルミナ、ジルコ
ニア、シリカ、シリケート、ステアタイト、ジルコン、
フォルステライト、ベリリア、酸化スズ、ITO、Zn
O、RuO等が挙げられ、またアンチモンドープ酸化ス
ズなどの不純物をドープした上記酸化物が用いられる。
これらのうち平均粒径が0.01〜5μmで、形状とし
ては球状、不定形、塊状、針状、棒状のものが使用され
る。無機フィラーの使用割合は、ガラスフリット100
重量部に対して無機フィラー5〜50重量部とするとよ
い。
The inorganic filler as an inorganic component of the rib paste is intended to prevent casting at the time of firing and to improve compactness, and has a softening point higher than that of glass frit. In the present invention, for example, titania, Alumina, zirconia, silica, silicate, steatite, zircon,
Forsterite, beryllia, tin oxide, ITO, Zn
O, RuO and the like are mentioned, and the above oxide doped with impurities such as antimony-doped tin oxide is used.
Among them, those having an average particle diameter of 0.01 to 5 μm and a shape of a sphere, an irregular shape, a block, a needle, or a bar are used. The proportion of the inorganic filler used is 100 glass frit.
The amount of the inorganic filler is preferably 5 to 50 parts by weight with respect to parts by weight.

【0045】リブペーストの無機成分としての無機顔料
は、外光反射を低減し、実用上のコントラストを向上さ
せるために必要に応じて添加されるものであり、暗色に
する場合には、耐火性の黒色顔料として、Co−Cr−
Fe、Co−Mn−Fe、Co−Fe−Mn−Al、C
o−Ni−Cr−Fe、Co−Ni−Mn−Cr−F
e、Co−Ni−Al−Cr−Fe、Co−Mn−Al
−Cr−Fe−Si等の複合酸化物が挙げられる。ま
た、耐火性の白色顔料としては、酸化チタン、酸化アル
ミニウム、シリカ、炭酸カルシウム等が挙げられる。使
用する無機顔料の平均粒径は0.01〜5μmが好まし
い。
An inorganic pigment as an inorganic component of the rib paste is added as necessary to reduce external light reflection and improve practical contrast. Co-Cr-
Fe, Co-Mn-Fe, Co-Fe-Mn-Al, C
o-Ni-Cr-Fe, Co-Ni-Mn-Cr-F
e, Co-Ni-Al-Cr-Fe, Co-Mn-Al
And complex oxides such as -Cr-Fe-Si. Examples of the fire-resistant white pigment include titanium oxide, aluminum oxide, silica, and calcium carbonate. The average particle size of the inorganic pigment used is preferably 0.01 to 5 μm.

【0046】リブペーストを構成する樹脂成分として
は、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、メチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロー
ス誘導体、ポリアクリルエステル、アルキッド樹脂等の
ポリエステル系樹脂、アクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、ビニル酢
酸、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、プロピルアクリレート、n−ブチルメタク
リレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキ
シルメタクリレート、2−ヘキシルアクリレート、ラウ
リルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリ
ルメタクリレート、ステアリルアクリレート、ドデシル
メタクリレート、ドデシルアクリレート、ヘキシルメタ
クリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルメタクリ
レート、オクチルアクリレート、セチルメタクリレー
ト、セチルアクリレート、ノニルメタクリレート、ノニ
ルアクリレート、デシルメタクリレート、デシルアクリ
レート、シクロシキシルメタクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチル
アミノエチルメタクリレート、2−メトキシアクリレー
ト、2(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ダイアセトンア
クリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリ
ルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、イソプロ
ピルアクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート、t−ブチルメタクリレート、N,N−ジメチルア
クリルアミド、α−メチルスチレン、スチレン、ビニル
トルエン、N−ビニル−2−ピロリドン等のモノマーか
らなるホモポリマーおよび上記モノマーから選択された
2種以上のモノマーからなる共重合体、エチレン−アク
リル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン系樹
脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等が
例示される。
The resin components constituting the rib paste include cellulose derivatives such as ethylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylcellulose and nitrocellulose, polyester resins such as polyacrylester and alkyd resin, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid and maleic acid. Acid, fumaric acid, crotonic acid, vinyl acetic acid, methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, propyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-hexyl acrylate, lauryl methacrylate, Lauryl acrylate, stearyl methacrylate, stearyl acrylate, dodecyl methacrylate, dode Acrylate, hexyl methacrylate, hexyl acrylate, octyl methacrylate, octyl acrylate, cetyl methacrylate, cetyl acrylate, nonyl methacrylate, nonyl acrylate, decyl methacrylate, decyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, glycidyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, 2 -Methoxy acrylate, 2 (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate,
2-hydroxyethyl methacrylate, diacetone acrylamide, N, N-dimethylaminopropylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, isopropylacrylamide, diethylaminoethyl methacrylate, t-butyl methacrylate, N, N-dimethylacrylamide, α-methylstyrene, Homopolymers composed of monomers such as styrene, vinyltoluene and N-vinyl-2-pyrrolidone, and copolymers composed of two or more monomers selected from the above monomers, ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-methacrylic acid copolymers Examples thereof include polymers, polyolefin-based resins such as ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, and the like.

【0047】リブペーストの溶剤としては、α−、β
−、γ−テルピネオールのようなテルペン類、エチレン
グリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコー
ルジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノア
ルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエ
ーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルア
セテート類、エチレングリコールジアルキルエーテルア
セテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテ
ルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエー
テルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキル
エーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル
類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテ
ート類、プロピレングリコールジアルキルエーテルアセ
テート類、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、2−エチルヘキサノール、1−ブトキシ−2−プロ
パノール等のアルコール類等が例示され、これらを単独
または2種類以上を混合して使用してもよい。
As the solvent for the rib paste, α-, β
-, Terpenes such as γ-terpineol, ethylene glycol monoalkyl ethers, ethylene glycol dialkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ethers, diethylene glycol dialkyl ethers, ethylene glycol monoalkyl ether acetates, ethylene glycol dialkyl ether acetates, Diethylene glycol monoalkyl ether acetates, diethylene glycol dialkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol dialkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol dialkyl ether acetates, methanol, ethanol, isopropanol, 2-ethylhexyl Nord, 1-butoxy-2-propanol alcohols such like are exemplary, and may be mixed and used singly or two or more kinds.

【0048】さらに、リブペーストには、可塑剤、沈降
防止剤、分散剤、消泡剤、染料、シランカップリング
剤、モノマー開始剤、増感剤、紫外線吸収剤等を必要に
応じて適宜使用することができる。
Further, a plasticizer, an anti-settling agent, a dispersant, an antifoaming agent, a dye, a silane coupling agent, a monomer initiator, a sensitizer, an ultraviolet absorber and the like are appropriately used in the rib paste as required. can do.

【0049】[0049]

【実施例】次に、実施例を示して本発明を詳細に説明す
る。ここでは、図2に示した段差マトリックス構造のリ
ブを持つ背面板を作製し、またそれを用いてパネル化を
行った。
Next, the present invention will be described in detail with reference to examples. Here, a back plate having ribs having a step matrix structure shown in FIG. 2 was prepared, and a panel was formed using the back plate.

【0050】(実施例1)まず、ガラス基板の上にアド
レス電極とそれを覆って誘電体層を形成し、さらにその
上に下記組成のリブペーストをダイコーターで一括コー
ティングし、180℃で30分間乾燥して、膜厚170
μmのリブ材料層を形成した。なお、下記組成における
ガラスフリットは、ZnO、B2 3 、SiO2 、アル
カリ土類金属酸化物、アルカリ金属酸化物を含むもの
で、ガラス転移点:460℃、軟化点:556℃、熱膨
張係数:80×10-7/℃であり、リブペーストは下記
の各成分を3本ロールで混練することで作製した。
Example 1 First, an address electrode and a dielectric layer were formed on the address electrode on a glass substrate, and a rib paste having the following composition was coated on the address electrode by a die coater. Dried for 170 minutes
A μm rib material layer was formed. The glass frit having the following composition contains ZnO, B 2 O 3 , SiO 2 , an alkaline earth metal oxide and an alkali metal oxide, and has a glass transition point of 460 ° C., a softening point of 556 ° C., and a thermal expansion. The coefficient was 80 × 10 −7 / ° C., and the rib paste was prepared by kneading the following components with three rolls.

【0051】 <リブペーストの組成> ・ガラスフリット 100重量部 ・アルミナ(大明化学工業製「タイミクロンTM−DAR」)15重量部 ・エチルセルロース 3重量部 ・ターピネオール 15重量部 ・ブチルカルビトールアセテート 15重量部<Rib paste composition> 100 parts by weight of glass frit 15 parts by weight of alumina ("Taimicron TM-DAR" manufactured by Daimei Chemical Co., Ltd.) 3 parts by weight of ethyl cellulose 15 parts by weight of terpineol 15 parts by weight of butyl carbitol acetate Department

【0052】次に、リブ形成材料層の上に下記組成のブ
ラストマスクインキAを用いてスクリーン印刷によりパ
ターニングした。ここでは、幅:470μm、ピッチ:
1.08mmの横方向のラインパターンを有するスクリ
ーン版を使用し、基板とスクリーン版とのギャップ:
2.5mm、スクレーパー速度:40mm/sec、ス
キージ速度:50mm/secの条件で印刷した。そし
て、印刷後、1日放置してブラストマスクインキをリブ
材料層に浸透させた。なお、下記組成におけるリブフリ
ットは、Pb系ガラスとBi系ガラスの混合物70部と
アルミナ30部からなるガラスフリットで、軟化点:5
70℃、ガラス転移点:485℃、熱膨張係数
(α300 ):80×10-7/℃であり、ブラストマスク
インキは下記の各成分を混合、攪拌、分散することで作
製した。得られたインキ組成物の粘度は、回転粘度計に
よるシェアレート0.1S-1にて70000cpsであ
った。
Next, patterning was performed on the rib forming material layer by screen printing using blast mask ink A having the following composition. Here, width: 470 μm, pitch:
Using a screen plate with a horizontal line pattern of 1.08 mm, the gap between the substrate and the screen plate:
Printing was performed under the conditions of 2.5 mm, a scraper speed of 40 mm / sec, and a squeegee speed of 50 mm / sec. Then, after printing, the blast mask ink was allowed to permeate the rib material layer by being left for one day. The rib frit having the following composition is a glass frit composed of 70 parts of a mixture of Pb-based glass and Bi-based glass and 30 parts of alumina, and has a softening point of 5:
70 ° C., glass transition point: 485 ° C., coefficient of thermal expansion (α 300 ): 80 × 10 −7 / ° C. A blast mask ink was prepared by mixing, stirring, and dispersing the following components. The viscosity of the obtained ink composition was 70,000 cps at a shear rate of 0.1 S −1 by a rotational viscometer.

【0053】 <ブラストマスクインキAの組成> ・ポリブテン(日本油脂製「30N」) 73.5重量部 ・リブフリット 20重量部 ・消泡剤(ジメチルポリシロキサン) 0.5重量部 ・シリカ(中心粒径:0.05μm) 2重量部 ・可塑剤(ジオクチルフタレート、ジオクチルアジペート) 5重量部 ・ポリプロピレングリコール 3重量部<Composition of Blast Mask Ink A> 73.5 parts by weight of polybutene ("30N" manufactured by NOF Corporation) 20 parts by weight of rib frit 0.5 part by weight of defoamer (dimethylpolysiloxane) 0.5 parts by weight of silica (central particles) Diameter: 0.05 μm) 2 parts by weight ・ Plasticizer (dioctyl phthalate, dioctyl adipate) 5 parts by weight ・ Polypropylene glycol 3 parts by weight

【0054】次いで、基板を80℃に加熱し、リブ材料
層の上にドライフィルムレジスト(東京応化工業製「O
SBRフィルムBF703」)をラミネートした。そし
て、露光及びそれに続く現像を行い、リブ材料層上にブ
ラストマスクとしてパターン状のレジスト層を形成し
た。露光には高圧水銀灯を光源とする平行光プリンター
を使用し、線幅100μm、ピッチ0.36mmの縦方
向のストライプパターンマスクを介して露光を行った。
露光条件は、365μmで測定した時に強度200μW
/cm2 、照射量80mJ/cm2 であった。また、現
像には、炭酸ナトリウム0.2%水溶液を使用し、液温
35℃でスプレー現像を行った。
Next, the substrate was heated to 80 ° C., and a dry film resist (“O” manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was formed on the rib material layer.
SBR film BF703 ") was laminated. Exposure and subsequent development were performed to form a patterned resist layer as a blast mask on the rib material layer. A parallel light printer using a high-pressure mercury lamp as a light source was used for exposure, and exposure was performed through a vertical stripe pattern mask having a line width of 100 μm and a pitch of 0.36 mm.
Exposure conditions are 200 μW intensity when measured at 365 μm.
/ Cm 2 and the irradiation amount was 80 mJ / cm 2 . For development, a 0.2% aqueous solution of sodium carbonate was used, and spray development was performed at a liquid temperature of 35 ° C.

【0055】続いて、サンドブラスト加工を行うため、
基板を多数のローラ上を移動させてブラスト加工室内に
搬入した。そして、基板におけるサンドブラストマスク
側に向けて噴射ノズルから研削材を噴射した。本実施例
では、溶融アルミナ(フジミインコーポレーテッド製
「溶融アルミナA−#800」)を研削材として、噴射
圧1kg/cm2 でサンドブラスト加工を行った。
Subsequently, in order to perform sandblasting,
The substrate was moved over a number of rollers and carried into the blasting chamber. Then, the abrasive was sprayed from the spray nozzle toward the sandblast mask side of the substrate. In this example, sandblasting was performed at an injection pressure of 1 kg / cm 2 using fused alumina (“Fused Alumina A- # 800” manufactured by Fujimi Incorporated) as an abrasive.

【0056】サンドブラスト加工後、水酸化ナトリウム
0.7%水溶液を用い、液温30℃にてドライフィルム
レジストを剥離し、乾燥させた。この時点において、縦
リブと横リブとで30μmの段差が形成された。
After sandblasting, the dry film resist was peeled off at a liquid temperature of 30 ° C. using a 0.7% aqueous solution of sodium hydroxide, and dried. At this point, a step of 30 μm was formed between the vertical ribs and the horizontal ribs.

【0057】そして、ピーク温度575℃、保持時間2
0分、全焼成時間3時間で焼成を行ったところ、段差マ
トリックス構造のリブが形成された。そのリブは、縦リ
ブの頂部幅が60μm、底部幅が105μm、高さが1
20μmであり、横リブは頂部幅が400μm、底部幅
が500μm、高さが95μmであった。
Then, a peak temperature of 575 ° C. and a holding time of 2
When firing was performed for 0 minutes for a total firing time of 3 hours, ribs having a step matrix structure were formed. The rib has a vertical rib having a top width of 60 μm, a bottom width of 105 μm, and a height of 1 μm.
The horizontal rib had a top width of 400 μm, a bottom width of 500 μm, and a height of 95 μm.

【0058】このリブまでを形成した後、スクリーン印
刷機によりセル空間への蛍光体ペーストの充填を行っ
た。具体的には、緑色の発光色の蛍光体を含むペースト
(蛍光体:化成オプトニクス社製「P1−G1S」35
wt%、樹脂固形分6.8wt%、溶剤58.2wt
%)を所定のセル空間に充填し、120℃で30分間乾
燥させた。同様に青色の発光色の蛍光体を含むペースト
(蛍光体:化成オプトニクス社製「KX−501A」2
7wt%、樹脂固形分7.8wt%、溶剤65.2wt
%)、赤色の発光色の蛍光体を含むペースト(蛍光体:
化成オプトニクス社製「KX−504A」35wt%、
樹脂固形分4.1wt%、溶剤57.9wt%)を、そ
れぞれ所定のリブ空間に充填し、同様に乾燥させた。こ
のようにして蛍光体ペーストの充填工程を行った後、最
後に焼成工程を経てセル空間に蛍光面を形成した。
After the ribs were formed, the cell space was filled with the phosphor paste using a screen printer. Specifically, a paste containing a phosphor of green emission color (phosphor: “P1-G1S” 35 manufactured by Kasei Optonics, Inc.)
wt%, resin solid content 6.8wt%, solvent 58.2wt
%) Into a predetermined cell space and dried at 120 ° C. for 30 minutes. Similarly, a paste containing a phosphor of blue emission color (phosphor: “KX-501A” 2 manufactured by Kasei Optonics, Inc.)
7wt%, resin solid content 7.8wt%, solvent 65.2wt
%), A paste containing a phosphor of red emission color (phosphor:
35% by weight of “KX-504A” manufactured by Kasei Optonics,
Resin solids content 4.1 wt%, solvent 57.9 wt%) were each filled in predetermined rib spaces and dried similarly. After the phosphor paste filling step was performed in this manner, a firing step was finally performed to form a phosphor screen in the cell space.

【0059】上記の如くセル空間に蛍光面を形成した背
面板に対し、別途作製した前面板を貼り合わせることに
より、RGBの3原色が視認される面放電型のAC型カ
ラーPDPを作製した。
By attaching a separately prepared front plate to the rear plate having the fluorescent screen formed in the cell space as described above, a surface discharge type AC color PDP in which three primary colors of RGB were visually recognized was prepared.

【0060】(実施例2)下記組成のブラストマスクイ
ンキBを用いた以外は実施例1と同様にして背面板を作
製し、またその背面板に対し別途作製した前面板を貼り
合わせてパネル化を行った。下記組成で用いたリブフリ
ットはブラストマスクインキAのものと同じものであ
る。また、下記の各成分を混合、攪拌、分散することで
作製したインキ組成物の粘度は、回転粘度計によるシェ
アレート0.1S-1にて65000cpsであった。
Example 2 A back plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that a blast mask ink B having the following composition was used, and a separately prepared front plate was attached to the back plate to form a panel. Was done. The rib frit used in the following composition is the same as that of the blast mask ink A. The viscosity of the ink composition prepared by mixing, stirring, and dispersing the following components was 65,000 cps at a shear rate of 0.1 S −1 measured by a rotational viscometer.

【0061】 <ブラストマスクインキBの組成> ・マリアリム(日本油脂製「AKM−0531」) 73.5重量部 ・リブフリット 20重量部 ・消泡剤(ジメチルポリシロキサン) 0.5重量部 ・シリカ(中心粒径:0.05μm) 10重量部 ・可塑剤(ジオクチルフタレート、ジオクチルアジペート) 5重量部<Composition of Blast Mask Ink B> ・ Mariarim (“AKM-0531” manufactured by NOF Corporation) 73.5 parts by weight ・ Rib frit 20 parts by weight ・ Defoaming agent (dimethylpolysiloxane) 0.5 part by weight ・ Silica ( (Central particle size: 0.05 μm) 10 parts by weight Plasticizer (dioctyl phthalate, dioctyl adipate) 5 parts by weight

【0062】この実施例2では、サンドブラスト処理後
の時点において、縦リブと横リブとで15μmの段差が
形成された。そして、焼成後に形成された段差マトリッ
クス構造のリブは、縦リブの頂部幅が60μm、底部幅
が105μm、高さが120μmであり、横リブの頂部
幅が450μm、底部幅が550μm、高さが105μ
mであった。
In Example 2, a step of 15 μm was formed between the vertical ribs and the horizontal ribs after the sandblasting. The ribs of the step matrix structure formed after firing have a vertical rib having a top width of 60 μm, a bottom width of 105 μm, and a height of 120 μm, and a horizontal rib having a top width of 450 μm, a bottom width of 550 μm, and a height of 550 μm. 105μ
m.

【0063】以上のように、2種類のブラストマスクイ
ンキA,Bを用いて作製した2種類の背面板を用いてそ
れぞれパネル化した2つのPDPを点灯したところ、特
に異常放電もなく品質は良好であった。
As described above, when two PDPs each made into a panel were turned on by using two types of back plates prepared using two types of blast mask inks A and B, the quality was particularly good without abnormal discharge. Met.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明のブラストマスクインキは、サン
ドブラスト法でPDPのリブを形成するに際し、浸透型
ブラストマスクを形成することができる。そして、浸透
した部分はブラストである程度削られることから、段差
の形成が可能である。
The blast mask ink of the present invention can form a permeation type blast mask when forming a rib of a PDP by a sand blast method. Then, since the permeated portion is cut to some extent by blasting, a step can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】プラズマディスプレイパネルの一例をその前面
板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a plasma display panel in which a front plate and a back plate are separated from each other.

【図2】本発明のブラストマスクインキを用いたリブ形
成方法の工程図である。
FIG. 2 is a process chart of a rib forming method using blast mask ink of the present invention.

【図3】本発明のリブ形成方法で得られるリブを有する
背面板の一部分を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a part of a back plate having ribs obtained by the rib forming method of the present invention.

【図4】本発明のリブ形成方法で得られる別の形状のリ
ブを有する背面板の一部分を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a part of a back plate having ribs of another shape obtained by the rib forming method of the present invention.

【図5】本発明のリブ形成方法で得られるさらに別の形
状のリブを有する背面板の一部分を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a part of a back plate having ribs of still another shape obtained by the rib forming method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 ガラス基板 3 障壁 4 維持電極 5 バス電極 6 誘電体槽 7 保護槽 8 アドレス電極 9 誘電体槽 10 蛍光体 11 基板 12 リブ材料層 13 浸透型ブラストマスク 14 被覆型ブラストマスク 15 縦リブ 16 横リブ 16a 凹部 17 セル空間 1, glass substrate 3 barrier 4 sustaining electrode 5 bus electrode 6 dielectric tank 7 protective tank 8 address electrode 9 dielectric tank 10 phosphor 11 substrate 12 rib material layer 13 penetration blast mask 14 covering blast mask 15 vertical rib 16 Horizontal rib 16a Recess 17 Cell space

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B24C 11/00 B24C 11/00 B Z H01J 11/02 H01J 11/02 B (72)発明者 小坂 陽三 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA09 5C040 FA01 FA04 GA03 GF02 GF03 GF12 GF19 GG05 JA17 KA09 MA03 MA26 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B24C 11/00 B24C 11/00 B Z H01J 11/02 H01J 11/02 B (72) Inventor Yozo Kosaka Tokyo 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term (reference) in Dai Nippon Printing Co., Ltd. 5C027 AA09 5C040 FA01 FA04 GA03 GF02 GF03 GF12 GF19 GG05 JA17 KA09 MA03 MA26

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラズマディスプレイパネルのリブをサ
ンドブラスト法により形成する際に使用されるブラスト
マスクインキであって、基板上に形成したリブ材料層の
上にパターニングした後、リブ材料層に浸透し、その浸
透部分のブラストレートがリブ材料層の0〜0.8倍の
範囲となることを特徴とするブラストマスクインキ。
1. A blast mask ink used for forming a rib of a plasma display panel by a sand blast method, wherein the blast mask ink is patterned on a rib material layer formed on a substrate, and then permeates the rib material layer. A blast mask ink characterized in that the blast rate of the penetrated portion is in the range of 0 to 0.8 times the rib material layer.
【請求項2】 下層のリブ材料層の中に浸透することを
特徴とする請求項1に記載のブラストマスクインキ。
2. The blast mask ink according to claim 1, wherein the blast mask ink penetrates into a lower rib material layer.
【請求項3】 有機成分100重量部に対して無機成分
5〜60重量部であるインキ組成物からなる請求項1又
は2に記載のブラストマスクインキ。
3. The blast mask ink according to claim 1, comprising an ink composition comprising 5 to 60 parts by weight of an inorganic component per 100 parts by weight of an organic component.
【請求項4】 無機成分がガラスフリットからなる請求
項3に記載のブラストマスクインキ。
4. The blast mask ink according to claim 3, wherein the inorganic component comprises a glass frit.
【請求項5】 無機成分がガラスフリット、無機フィラ
ー、着色顔料からなる請求項3に記載のブラストマスク
インキ。
5. The blast mask ink according to claim 3, wherein the inorganic component comprises a glass frit, an inorganic filler, and a coloring pigment.
【請求項6】 無機成分の軟化点が下層リブの軟化点の
±20℃の範囲内にある請求項3〜5のいずれかに記載
のブラストマスクインキ。
6. The blast mask ink according to claim 3, wherein the softening point of the inorganic component is within ± 20 ° C. of the softening point of the lower rib.
【請求項7】 無機成分の平均粒径が0.01〜5μm
である請求項3〜6のいずれかに記載のブラストマスク
インキ。
7. The inorganic component has an average particle size of 0.01 to 5 μm.
The blast mask ink according to any one of claims 3 to 6, wherein
【請求項8】 インキ組成物の溶剤が有機成分中50%
以下である請求項3〜7のいずれかに記載のブラストマ
スクインキ。
8. The ink composition according to claim 1, wherein the solvent is 50% of the organic component.
The blast mask ink according to any one of claims 3 to 7, which is as follows.
【請求項9】 インキ組成物の粘度が回転粘度計による
シェアレート0.1S-1にて10000〜200000
cpsである請求項3〜8のいずれかに記載のブラスト
マスクインキ。
9. The viscosity of the ink composition is from 10,000 to 200,000 at a shear rate of 0.1 S −1 measured by a rotational viscometer.
The blast mask ink according to any one of claims 3 to 8, which is cps.
【請求項10】 インキ組成物が電離放射線硬化型であ
る請求項3〜9のいずれかに記載のブラストマスクイン
キ。
10. The blast mask ink according to claim 3, wherein the ink composition is of an ionizing radiation-curable type.
【請求項11】 請求項1〜10のいずれかに記載のブ
ラストマスクインキを用いたプラズマディスプレイパネ
ルのリブ形成方法であって、基板にリブペーストを塗工
して全面ベタのリブ材料層を形成した後、そのリブ材料
層の上に前記ブラストマスクインキをパターン印刷して
浸透させることで浸透型ブラストマスクを形成し、次い
で、印刷法又はフォトリソグラフィー法により被覆型ブ
ラストマスクを形成した後、両方のブラストマスクを介
してリブ材料層に対するサンドブラスト処理を行い、焼
成工程を経てリブを形成することを特徴とするリブ形成
方法。
11. A method for forming a rib of a plasma display panel using the blast mask ink according to claim 1, wherein a rib paste is applied to a substrate to form a solid rib material layer over the entire surface. After that, the blast mask ink is patterned and printed on the rib material layer to form a permeation type blast mask by infiltration, and then, after forming a coating type blast mask by a printing method or a photolithography method, both are formed. A sand blasting process on the rib material layer through the blast mask, and forming the ribs through a firing step.
【請求項12】 請求項1〜10のいずれかに記載のブ
ラストマスクインキを用いたプラズマディスプレイパネ
ルのリブ形成方法であって、基板にリブペーストを塗工
して全面ベタのリブ材料層を形成した後、異なる複数種
の前記ブラストマスクインキをそれぞれパターン印刷し
て浸透させることでブラストレートの異なる複数の浸透
型ブラストマスクを形成し、次いで、印刷法又はフォト
リソグラフィー法により被覆型ブラストマスクを形成し
た後、全てのブラストマスクを介してリブ材料層に対す
るサンドブラスト処理を行い、焼成工程を経てリブを形
成することを特徴とするリブ形成方法。
12. A method of forming a rib of a plasma display panel using the blast mask ink according to claim 1, wherein a rib paste is applied to a substrate to form a solid rib material layer on the entire surface. After that, a plurality of different types of the blast mask inks are respectively printed and permeated to form a plurality of permeation type blast masks having different blast rates, and then a coating type blast mask is formed by a printing method or a photolithography method. After that, a sand blasting process is performed on the rib material layer through all blast masks, and a rib is formed through a firing process.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007165315A (en) * 2005-12-12 2007-06-28 Lg Electronics Inc Plasma display device
JP2008277240A (en) * 2007-03-30 2008-11-13 Toray Ind Inc Plasma display panel, and its manufacturing method

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